JPH1083696A - 半導体メモリ試験装置 - Google Patents
半導体メモリ試験装置Info
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- JPH1083696A JPH1083696A JP8237849A JP23784996A JPH1083696A JP H1083696 A JPH1083696 A JP H1083696A JP 8237849 A JP8237849 A JP 8237849A JP 23784996 A JP23784996 A JP 23784996A JP H1083696 A JPH1083696 A JP H1083696A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 31
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims abstract description 172
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不良解析メモリに要するメモリ容量及びメモ
リ数を減らして部品コストを低減させた半導体メモリ試
験装置を提供する。 【解決手段】 被試験メモリのフェイルデータを格納す
る不良解析メモリを備えた半導体メモリ試験装置におい
て、不良解析メモリに、シリアルデータ形式のフェイル
データをパラレルデータに変換するシフトレジスタと、
シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一斉に
読み込み一時的に保持する第1のホールドレジスタと、
被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデータを各
メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、第1のホ
ールドレジスタに保持されたパラレルデータをメモリ部
に転送するためのイネーブル信号を出力するCS信号発
生部と、メモリ部にフェイルデータを転送する間フェイ
ルデータに対応するアドレスデータを保持する第2のホ
ールドレジスタとを有する構成とする。
リ数を減らして部品コストを低減させた半導体メモリ試
験装置を提供する。 【解決手段】 被試験メモリのフェイルデータを格納す
る不良解析メモリを備えた半導体メモリ試験装置におい
て、不良解析メモリに、シリアルデータ形式のフェイル
データをパラレルデータに変換するシフトレジスタと、
シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一斉に
読み込み一時的に保持する第1のホールドレジスタと、
被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデータを各
メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、第1のホ
ールドレジスタに保持されたパラレルデータをメモリ部
に転送するためのイネーブル信号を出力するCS信号発
生部と、メモリ部にフェイルデータを転送する間フェイ
ルデータに対応するアドレスデータを保持する第2のホ
ールドレジスタとを有する構成とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリの試験
を行う半導体メモリ試験装置に関し、特に半導体メモリ
試験装置に使用される不良解析メモリに関するものであ
る。
を行う半導体メモリ試験装置に関し、特に半導体メモリ
試験装置に使用される不良解析メモリに関するものであ
る。
【0002】
(半導体メモリ試験装置)図6に半導体メモリ試験装置
全体の基本構成を示す。図6は半導体メモリ試験装置の
構成を示すブロック図である。
全体の基本構成を示す。図6は半導体メモリ試験装置の
構成を示すブロック図である。
【0003】図6において、半導体メモリ試験装置はタ
イミング発生器10、パターン発生器20、波形整形器
30、論理比較器40、及び不良解析メモリ50によっ
て構成され、波形整形器30の出力に被試験メモリ60
が接続されて試験が行われる。
イミング発生器10、パターン発生器20、波形整形器
30、論理比較器40、及び不良解析メモリ50によっ
て構成され、波形整形器30の出力に被試験メモリ60
が接続されて試験が行われる。
【0004】タイミング発生器10はメモリ試験の試験
パターンを生成するための基準クロックを発生する回路
である。パターン発生器20はタイミング発生器10で
生成された基準クロックに従って被試験メモリ60に与
えるアドレス信号、試験データ、及びコントロール信号
を出力する。これらの信号は波形整形器30に出力され
波形整形器30でメモリ試験に必要な所定の波形に整形
されて被試験メモリ60に印加される。
パターンを生成するための基準クロックを発生する回路
である。パターン発生器20はタイミング発生器10で
生成された基準クロックに従って被試験メモリ60に与
えるアドレス信号、試験データ、及びコントロール信号
を出力する。これらの信号は波形整形器30に出力され
波形整形器30でメモリ試験に必要な所定の波形に整形
されて被試験メモリ60に印加される。
【0005】被試験メモリ60では上記コントロール信
号のタイミングでデータの書き込みと読み出しとが行わ
れる。被試験メモリ60から読み出された出力データは
論理比較器40に出力される。論理比較器40は、パタ
ーン発生器10から出力された期待値(メモリの正常時
のデータ)と被試験メモリ60から読み出された出力デ
ータとを比較し、その一致、不一致によって被試験メモ
リ60の良否判定を行う。
号のタイミングでデータの書き込みと読み出しとが行わ
れる。被試験メモリ60から読み出された出力データは
論理比較器40に出力される。論理比較器40は、パタ
ーン発生器10から出力された期待値(メモリの正常時
のデータ)と被試験メモリ60から読み出された出力デ
ータとを比較し、その一致、不一致によって被試験メモ
リ60の良否判定を行う。
【0006】期待値と読み出された出力データとが不一
致のときは、以下に記載する不良解析メモリ50にフェ
イルデータとしてその内容が格納される。
致のときは、以下に記載する不良解析メモリ50にフェ
イルデータとしてその内容が格納される。
【0007】(不良解析メモリ)図7は図6に示した不
良解析メモリの構成を示すブロック図である。
良解析メモリの構成を示すブロック図である。
【0008】図7において、不良解析メモリ50は、パ
ターン発生器20で発生したアドレス信号のうち所定の
ビットを選択して出力するアドレス選択部51と、被試
験メモリ60のフェイルデータ(不良情報)が格納され
るメモリ部53と、フェイルデータが格納されるメモリ
部53のメモリセルを指定するメモリコントロール部5
2とによって構成されている。
ターン発生器20で発生したアドレス信号のうち所定の
ビットを選択して出力するアドレス選択部51と、被試
験メモリ60のフェイルデータ(不良情報)が格納され
るメモリ部53と、フェイルデータが格納されるメモリ
部53のメモリセルを指定するメモリコントロール部5
2とによって構成されている。
【0009】アドレス選択部51はパターン発生器20
からのアドレス信号を受けて上位アドレスをメモリコン
トロール部52へ、また下位アドレスをメモリ部53へ
それぞれ出力する。メモリコントロール部52では、ア
ドレス選択部51からの出力信号と論理比較器40から
送られたフェイルデータとによってメモリ部53のメモ
リセルを指定し、指定されたメモリ部53のメモリセル
に被試験メモリ60のフェイルデータが格納される。
からのアドレス信号を受けて上位アドレスをメモリコン
トロール部52へ、また下位アドレスをメモリ部53へ
それぞれ出力する。メモリコントロール部52では、ア
ドレス選択部51からの出力信号と論理比較器40から
送られたフェイルデータとによってメモリ部53のメモ
リセルを指定し、指定されたメモリ部53のメモリセル
に被試験メモリ60のフェイルデータが格納される。
【0010】メモリ試験が終了した後、この不良解析メ
モリ50の内容を調べることにより被試験メモリ60の
解析が行われる。
モリ50の内容を調べることにより被試験メモリ60の
解析が行われる。
【0011】(RAMBUS DRAM)次に、被試験
メモリ60の例として高速にデータの書き込み及び読み
出しが可能なRAMBUS DRAM(以下RDRA
M)について説明する。
メモリ60の例として高速にデータの書き込み及び読み
出しが可能なRAMBUS DRAM(以下RDRA
M)について説明する。
【0012】RDRAMは基準クロックに同期してパケ
ット式のデータを高速に転送することが可能なDRAM
で、最大500MB/Sまたは533MB/Sのデータ
転送レートを有している。
ット式のデータを高速に転送することが可能なDRAM
で、最大500MB/Sまたは533MB/Sのデータ
転送レートを有している。
【0013】図8はRDRAMの構成を示すブロック図
である。図8において、RDRAM70は、記憶素子で
あるDRAM部72と、バス及び制御ラインとのインタ
フェース部となるスレーブロジック部71とによって構
成される。
である。図8において、RDRAM70は、記憶素子で
あるDRAM部72と、バス及び制御ラインとのインタ
フェース部となるスレーブロジック部71とによって構
成される。
【0014】DRAM部72は従来のDRAMセルと同
様の構造を有している。スレーブロジック部71を介し
て出力されるカラムアドレス及びロウアドレスは、カラ
ムデコーダ721及びロウデコーダ722によってデコ
ードされ、カラムアドレス及びローアドレスによって指
定されたDRAMセルアレイ723にそれぞれデータが
格納される。カラムデコーダ721には信号を増幅する
ためのセンスアンプが内蔵され、このセンスアンプにラ
ッチ機能を有することが従来のDRAMセルと異なって
いる。RDRAM70はセンスアンプをキャッシュメモ
リとして使用することにより高速なデータ転送を可能に
している。
様の構造を有している。スレーブロジック部71を介し
て出力されるカラムアドレス及びロウアドレスは、カラ
ムデコーダ721及びロウデコーダ722によってデコ
ードされ、カラムアドレス及びローアドレスによって指
定されたDRAMセルアレイ723にそれぞれデータが
格納される。カラムデコーダ721には信号を増幅する
ためのセンスアンプが内蔵され、このセンスアンプにラ
ッチ機能を有することが従来のDRAMセルと異なって
いる。RDRAM70はセンスアンプをキャッシュメモ
リとして使用することにより高速なデータ転送を可能に
している。
【0015】RDRAM70はバーストメモリと呼ばれ
るメモリの一種であり、書き込み及び読み出し時のデー
タをバースト状に転送する。RDRAM70のデータ転
送は8ワード単位で行われ、256ワードまでバースト
長が可変できる。また、外部からは転送単位である8ワ
ードに相当する3ビット分のアドレスを指定する必要が
ないため、これらのアドレスについても入力する必要が
ない。なお、データのバースト開始アドレスは、リード
命令、ライト命令、及びその他の複数の命令からなるリ
クエストパケットに格納される。
るメモリの一種であり、書き込み及び読み出し時のデー
タをバースト状に転送する。RDRAM70のデータ転
送は8ワード単位で行われ、256ワードまでバースト
長が可変できる。また、外部からは転送単位である8ワ
ードに相当する3ビット分のアドレスを指定する必要が
ないため、これらのアドレスについても入力する必要が
ない。なお、データのバースト開始アドレスは、リード
命令、ライト命令、及びその他の複数の命令からなるリ
クエストパケットに格納される。
【0016】スレーブロジック部71は、これらリクエ
ストパケット中の複数の命令によって、ライトデータま
たはリードデータのバースト長の指定、あるいはビット
マスク及びバイトマスク等の制御を行う。
ストパケット中の複数の命令によって、ライトデータま
たはリードデータのバースト長の指定、あるいはビット
マスク及びバイトマスク等の制御を行う。
【0017】ところで、複数のRDRAM70を直列に
接続して(図9に示すようにSInを前段のRDRAM
のSOutに接続し、SOutを次段のRDRAMのS
Inに接続する)1つのメモリ空間を構成するときも、
このスレーブロジック部71によって各RDRAM70
の制御が行われる。
接続して(図9に示すようにSInを前段のRDRAM
のSOutに接続し、SOutを次段のRDRAMのS
Inに接続する)1つのメモリ空間を構成するときも、
このスレーブロジック部71によって各RDRAM70
の制御が行われる。
【0018】図9は複数のRDRAMを接続して使用す
る場合を示す回路図である。図9に示すようにスレーブ
となる複数のRDRAM0〜RDRAMnはマスター
(Master)となるマスタデバイスに直列に接続さ
れ、マスタデバイスからBusData[8:0]を介
して転送されたリクエストパケットによって各RDRA
M0〜RDRAMnの動作が制御される。
る場合を示す回路図である。図9に示すようにスレーブ
となる複数のRDRAM0〜RDRAMnはマスター
(Master)となるマスタデバイスに直列に接続さ
れ、マスタデバイスからBusData[8:0]を介
して転送されたリクエストパケットによって各RDRA
M0〜RDRAMnの動作が制御される。
【0019】なお、RDRAMへの書き込み、あるいは
RDRAMからの読み出し時にはリクエストパケットの
他に、図10に示すようなライトデータパケット、リー
ドデータパケットがBusData[8:0]上に載せ
られる。また、図10に示した”Okay”信号はリク
エストパケットをRDRAMが受け取ったことを示すも
のである。
RDRAMからの読み出し時にはリクエストパケットの
他に、図10に示すようなライトデータパケット、リー
ドデータパケットがBusData[8:0]上に載せ
られる。また、図10に示した”Okay”信号はリク
エストパケットをRDRAMが受け取ったことを示すも
のである。
【0020】また、図9に示した接続では、書き込み時
のクロックにRxCLK、読み込み時のクロックにTx
CLKを使用し、マスタデバイスとRDRAM0〜RD
RAMn間のデータスキュー及びクロックスキューを抑
制している。このことによって高速データ転送を可能に
している。
のクロックにRxCLK、読み込み時のクロックにTx
CLKを使用し、マスタデバイスとRDRAM0〜RD
RAMn間のデータスキュー及びクロックスキューを抑
制している。このことによって高速データ転送を可能に
している。
【0021】(不良解析メモリのフェイルデータ取り込
み方法)次に、RDRAMのようなバーストメモリを試
験する場合を例にして、不良解析メモリにフェイルデー
タを取込む従来の方法について説明する。
み方法)次に、RDRAMのようなバーストメモリを試
験する場合を例にして、不良解析メモリにフェイルデー
タを取込む従来の方法について説明する。
【0022】図11は従来の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取り込み方法を示す図で
あり、同図(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマ
ットを示す図である。なお、図11では4ビット幅の被
試験メモリ(MUT)を例示している。
良解析メモリのフェイルデータ取り込み方法を示す図で
あり、同図(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマ
ットを示す図である。なお、図11では4ビット幅の被
試験メモリ(MUT)を例示している。
【0023】図11(a)に示すように、従来の不良解
析メモリでは、メモリ部として被試験メモリ(MUT)
のビット幅に対応した1ビット幅のSRAM(以下x1
SRAM)を被試験メモリのビット幅分用意している
(図11(a)では4個)。このような状態で任意のビ
ットで不良が発生した場合、EXNOR回路からなる論
理比較器の出力によって各ビットに対応したx1SRA
Mの/CS端子がイネーブル”L”に設定される。この
時、各x1SRAMの入力データは常に”H”に設定さ
れているため、被試験メモリと同じアドレスに不良を示
す”1”が書き込まれる。
析メモリでは、メモリ部として被試験メモリ(MUT)
のビット幅に対応した1ビット幅のSRAM(以下x1
SRAM)を被試験メモリのビット幅分用意している
(図11(a)では4個)。このような状態で任意のビ
ットで不良が発生した場合、EXNOR回路からなる論
理比較器の出力によって各ビットに対応したx1SRA
Mの/CS端子がイネーブル”L”に設定される。この
時、各x1SRAMの入力データは常に”H”に設定さ
れているため、被試験メモリと同じアドレスに不良を示
す”1”が書き込まれる。
【0024】ところで、図11(a)に示したメモリ部
には高速なSRAMを使用しているが、被試験メモリが
不良解析メモリのSRAMよりも高速に動作する場合は
図12に示すようなインターリーブ方式を用いてフェイ
ルデータの取込みを行う。
には高速なSRAMを使用しているが、被試験メモリが
不良解析メモリのSRAMよりも高速に動作する場合は
図12に示すようなインターリーブ方式を用いてフェイ
ルデータの取込みを行う。
【0025】図12はインターリーブ方式の不良解析メ
モリの構成を説明する図である。インタリーブとはメモ
リを交互に配置して切り替えながらデータを読み書きす
ることであり、例えばアクセスタイム100nsの複数
のメモリを、それぞれ50nsずつずらしてデータを読
み出せば実質的に50nsのアクセスタイムでデータを
得ることができる。図12では8つのメモリによるイン
ターリーブ動作(8ウェイと呼ぶ。なお、各々のメモリ
はバンクと呼ばれる。)を示しており、データD1〜D
8、D9〜D16、…がそれぞれバンク#1〜#8に格
納される。
モリの構成を説明する図である。インタリーブとはメモ
リを交互に配置して切り替えながらデータを読み書きす
ることであり、例えばアクセスタイム100nsの複数
のメモリを、それぞれ50nsずつずらしてデータを読
み出せば実質的に50nsのアクセスタイムでデータを
得ることができる。図12では8つのメモリによるイン
ターリーブ動作(8ウェイと呼ぶ。なお、各々のメモリ
はバンクと呼ばれる。)を示しており、データD1〜D
8、D9〜D16、…がそれぞれバンク#1〜#8に格
納される。
【0026】ここで、図11(a)、(b)に示した不
良解析メモリの場合、インターリーブ動作で使用するメ
モリ(図11(a)のFD0〜FD3が1バンクに相当
する)は全てアクセスタイムを高速化するために使用さ
れるため、フェイルデータの取込みを行うメモリ容量は
バンク1つ分の容量である。
良解析メモリの場合、インターリーブ動作で使用するメ
モリ(図11(a)のFD0〜FD3が1バンクに相当
する)は全てアクセスタイムを高速化するために使用さ
れるため、フェイルデータの取込みを行うメモリ容量は
バンク1つ分の容量である。
【0027】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
ような従来の半導体メモリ試験装置は、高速動作するR
DRAM等のバーストメモリのフェイルデータを不良解
析メモリに取り込もうとする場合に、メモリ部に高速な
SRAMを使用しても、RDRAMはSRAMに比較し
て非常に高速に動作するため、多数のSRAMを使用し
てインターリーブ動作させなければならなかった。
ような従来の半導体メモリ試験装置は、高速動作するR
DRAM等のバーストメモリのフェイルデータを不良解
析メモリに取り込もうとする場合に、メモリ部に高速な
SRAMを使用しても、RDRAMはSRAMに比較し
て非常に高速に動作するため、多数のSRAMを使用し
てインターリーブ動作させなければならなかった。
【0028】インターリーブ動作させると多数のSRA
Mを使用してもそれに比例した記憶容量を得ることがで
きないため、大容量のRDRAMのフェイルデータを取
り込む場合は高価なSRAMを多数使用しなければなら
なかった。したがって、不良解析メモリの部品コストが
高くなり、不良解析メモリの実装面積も大きくなってし
まう問題があった。
Mを使用してもそれに比例した記憶容量を得ることがで
きないため、大容量のRDRAMのフェイルデータを取
り込む場合は高価なSRAMを多数使用しなければなら
なかった。したがって、不良解析メモリの部品コストが
高くなり、不良解析メモリの実装面積も大きくなってし
まう問題があった。
【0029】本発明は上記したような従来の技術が有す
る問題点を解決するためになされたものであり、高速動
作を維持しつつ、不良解析メモリに要するメモリ容量及
びメモリ数を減らして部品コストを低減させた半導体メ
モリ試験装置を提供することを目的とする。
る問題点を解決するためになされたものであり、高速動
作を維持しつつ、不良解析メモリに要するメモリ容量及
びメモリ数を減らして部品コストを低減させた半導体メ
モリ試験装置を提供することを目的とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の半導体メモリ試験装置は、被試験メモリの良否
判定を行うために、前記被試験メモリの試験結果のうち
不良情報であるフェイルデータを格納する不良解析メモ
リを備えた半導体メモリ試験装置において、前記不良解
析メモリに、前記被試験メモリのアドレス順に出力され
るシリアルデータ形式の前記フェイルデータを逐次格納
し、パラレルデータとして出力するシフトレジスタと、
前記シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一
斉に読み込み、一時的に保持する第1のホールドレジス
タと、前記被試験メモリのアドレスに対応するフェイル
データを、各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部
と、前記第1のホールドレジスタに保持されたパラレル
データを前記メモリ部に転送するためのイネーブル信号
を出力するCS信号発生部と、前記メモリ部に前記フェ
イルデータを転送する間、前記フェイルデータに対応す
る前記アドレスデータを保持する第2のホールドレジス
タとを有することを特徴とする。
本発明の半導体メモリ試験装置は、被試験メモリの良否
判定を行うために、前記被試験メモリの試験結果のうち
不良情報であるフェイルデータを格納する不良解析メモ
リを備えた半導体メモリ試験装置において、前記不良解
析メモリに、前記被試験メモリのアドレス順に出力され
るシリアルデータ形式の前記フェイルデータを逐次格納
し、パラレルデータとして出力するシフトレジスタと、
前記シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一
斉に読み込み、一時的に保持する第1のホールドレジス
タと、前記被試験メモリのアドレスに対応するフェイル
データを、各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部
と、前記第1のホールドレジスタに保持されたパラレル
データを前記メモリ部に転送するためのイネーブル信号
を出力するCS信号発生部と、前記メモリ部に前記フェ
イルデータを転送する間、前記フェイルデータに対応す
る前記アドレスデータを保持する第2のホールドレジス
タとを有することを特徴とする。
【0031】上記のように構成された半導体メモリ試験
装置は、シリアルデータ形式のフェイルデータがシフト
レジスタによってパラレルデータに変換され、第1のホ
ールドレジスタを介してメモリ部に所定のビット数で一
斉に転送される。したがって、フェイルデータを被試験
メモリの各ビットに対応して1ビットずつメモリ部に転
送する従来の方法に比べて高速にフェイルデータをメモ
リ部に転送することができる。
装置は、シリアルデータ形式のフェイルデータがシフト
レジスタによってパラレルデータに変換され、第1のホ
ールドレジスタを介してメモリ部に所定のビット数で一
斉に転送される。したがって、フェイルデータを被試験
メモリの各ビットに対応して1ビットずつメモリ部に転
送する従来の方法に比べて高速にフェイルデータをメモ
リ部に転送することができる。
【0032】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【0033】本発明の半導体メモリ試験装置は不良解析
メモリのフェイルデータの取込みフォーマット及びフェ
イルデータの取込み方法が従来の半導体メモリ試験装置
と異なっている。その他の構成は従来と同様であるた
め、その説明は省略する。
メモリのフェイルデータの取込みフォーマット及びフェ
イルデータの取込み方法が従来の半導体メモリ試験装置
と異なっている。その他の構成は従来と同様であるた
め、その説明は省略する。
【0034】なお、以下ではバーストメモリであるRD
RAMの試験を行う場合を例にして説明する。
RAMの試験を行う場合を例にして説明する。
【0035】まず、本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットにつ
いて説明する。図1は本発明の半導体メモリ試験装置の
不良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットを
示す図である。
良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットにつ
いて説明する。図1は本発明の半導体メモリ試験装置の
不良解析メモリのフェイルデータ取込みフォーマットを
示す図である。
【0036】従来のフェイルデータ取込みフォーマット
は図11(b)に示したように被試験メモリの各ビット
に不良解析メモリの各ビットがそれぞれ対応して配置さ
れていた。本発明の半導体メモリ試験装置では、任意の
ビット数で構成される不良解析メモリを1ビットメモリ
のように使用して(図1では16ビットの不良解析メモ
リを1ビットメモリのように使用している)、例えば1
6個のメモリFD0〜FD15をアドレス#0〜#Fに
割り付ける。そして、これらのメモリFD0〜FD15
を被試験メモリのビット数(BusData0〜8)分
用意した構成にする。なお、上述したようにRDRAM
は8ワード単位でバースト転送を行うため、読み出し時
のフェイルデータは8ワード単位で不良解析メモリに出
力される。
は図11(b)に示したように被試験メモリの各ビット
に不良解析メモリの各ビットがそれぞれ対応して配置さ
れていた。本発明の半導体メモリ試験装置では、任意の
ビット数で構成される不良解析メモリを1ビットメモリ
のように使用して(図1では16ビットの不良解析メモ
リを1ビットメモリのように使用している)、例えば1
6個のメモリFD0〜FD15をアドレス#0〜#Fに
割り付ける。そして、これらのメモリFD0〜FD15
を被試験メモリのビット数(BusData0〜8)分
用意した構成にする。なお、上述したようにRDRAM
は8ワード単位でバースト転送を行うため、読み出し時
のフェイルデータは8ワード単位で不良解析メモリに出
力される。
【0037】次に、本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込み方法について説明
する。図2は本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析
メモリへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路
図である。また、図3は図2に示した第1の/CS発生
部の構成を示す回路図である。なお、図2は被試験メモ
リの1ビット分(BusData0)の回路を示してい
る。BusData1〜BusData8についてはB
usData0と同様な回路構成であるため、その説明
は省略する。
良解析メモリのフェイルデータ取込み方法について説明
する。図2は本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析
メモリへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路
図である。また、図3は図2に示した第1の/CS発生
部の構成を示す回路図である。なお、図2は被試験メモ
リの1ビット分(BusData0)の回路を示してい
る。BusData1〜BusData8についてはB
usData0と同様な回路構成であるため、その説明
は省略する。
【0038】図2において、メモリ部1は複数(16ビ
ット分)のメモリFD0〜FD15によって構成され、
例えばフェイルデータを保持するためのSRAMであ
る。シフトレジスタ2は複数のフィリップフロップFL
0〜FL15によって構成され、シリアル信号として送
られたフェイルデータをパラレル信号に変換する。
ット分)のメモリFD0〜FD15によって構成され、
例えばフェイルデータを保持するためのSRAMであ
る。シフトレジスタ2は複数のフィリップフロップFL
0〜FL15によって構成され、シリアル信号として送
られたフェイルデータをパラレル信号に変換する。
【0039】パラレル信号に変換されたフェイルデータ
は、後述するバーストアドレス#7または#Fに同期し
て出力される第1の格納信号または第2の格納信号によ
って第1のホールドレジスタ3に転送される。
は、後述するバーストアドレス#7または#Fに同期し
て出力される第1の格納信号または第2の格納信号によ
って第1のホールドレジスタ3に転送される。
【0040】第1のホールドレジスタ3は複数のフィリ
ップフロップFF0〜FF15によって構成され、アド
レス#0〜#Fに対応するフェイルデータを一時的に保
持する。第1のホールドレジスタ3に保持されたフェイ
ルデータは第1の/CS発生部4及び第2の/CS発生
部5から出力されるイネーブル信号によって、その内容
がメモリ部1の各メモリFD0〜FD15に転送され
る。
ップフロップFF0〜FF15によって構成され、アド
レス#0〜#Fに対応するフェイルデータを一時的に保
持する。第1のホールドレジスタ3に保持されたフェイ
ルデータは第1の/CS発生部4及び第2の/CS発生
部5から出力されるイネーブル信号によって、その内容
がメモリ部1の各メモリFD0〜FD15に転送され
る。
【0041】第2のホールドレジスタは2つのレジスタ
FFAD1、FFAD2から構成され、フェイルデータ
に対応するアドレスを一時的に保持する回路である。
FFAD1、FFAD2から構成され、フェイルデータ
に対応するアドレスを一時的に保持する回路である。
【0042】パターン発生器(図6参照)によってバー
スト開始アドレスとバーストアドレスとが生成される
と、不良解析メモリにはこれら2つのアドレスを加算し
た信号が印加される。バーストアドレスはパターン発生
器から出力されるアドレス信号の下位4ビットからなる
下位アドレス#0〜#Fを示し、アドレス選択部(図6
参照)によって供給される。したがって図2に示すアド
レスとは、パターン発生器のアドレス信号から下位4ビ
ットを切り取った上位アドレスを示している。
スト開始アドレスとバーストアドレスとが生成される
と、不良解析メモリにはこれら2つのアドレスを加算し
た信号が印加される。バーストアドレスはパターン発生
器から出力されるアドレス信号の下位4ビットからなる
下位アドレス#0〜#Fを示し、アドレス選択部(図6
参照)によって供給される。したがって図2に示すアド
レスとは、パターン発生器のアドレス信号から下位4ビ
ットを切り取った上位アドレスを示している。
【0043】図3において、第1の/CS発生部4は、
シフトレジスタとして動作する複数のフィリップフロッ
プとフェイルデータ及びバーストアドレスの上位(#8
〜#F)または下位(#0〜#7)を表す信号FA0の
論理積をとることで検出したフェイルフラグを保持する
JKフィリップフロップとによって構成され、バースト
アドレスが#7になった次のクロック(基準クロック)
で第1の/CSイネーブル信号を発生する。そして第1
の/CSイネーブル信号発生直後にフェイルフラグをリ
セットする。なお、第2の/CS発生部5の構成及び動
作については第1の/CS発生部4と同様であるため、
その説明は省略する。
シフトレジスタとして動作する複数のフィリップフロッ
プとフェイルデータ及びバーストアドレスの上位(#8
〜#F)または下位(#0〜#7)を表す信号FA0の
論理積をとることで検出したフェイルフラグを保持する
JKフィリップフロップとによって構成され、バースト
アドレスが#7になった次のクロック(基準クロック)
で第1の/CSイネーブル信号を発生する。そして第1
の/CSイネーブル信号発生直後にフェイルフラグをリ
セットする。なお、第2の/CS発生部5の構成及び動
作については第1の/CS発生部4と同様であるため、
その説明は省略する。
【0044】このような構成において、被試験メモリで
あるRDRAMからバースト状のデータを読み出す場合
の動作について説明する。
あるRDRAMからバースト状のデータを読み出す場合
の動作について説明する。
【0045】まず、バースト長が8ワードの場合、バー
ストアドレス#0〜#7が送られてくると、シリアル信
号であるフェイルデータはシフトレジスタ2のフィリッ
プフロップFL0〜FL7にそれぞれ1ビットずつ格納
される。そして、バーストアドレスが#7の時、アドレ
ス選択部(図6参照)から第1の格納信号が出力され、
フィリップフロップFL0〜FL7に格納されているフ
ェイルデータが第1のホールドレジスタ3の各フィリッ
プフロップFF0〜FF7にそれぞれ転送される。
ストアドレス#0〜#7が送られてくると、シリアル信
号であるフェイルデータはシフトレジスタ2のフィリッ
プフロップFL0〜FL7にそれぞれ1ビットずつ格納
される。そして、バーストアドレスが#7の時、アドレ
ス選択部(図6参照)から第1の格納信号が出力され、
フィリップフロップFL0〜FL7に格納されているフ
ェイルデータが第1のホールドレジスタ3の各フィリッ
プフロップFF0〜FF7にそれぞれ転送される。
【0046】ここで、バーストアドレス#0〜#7のい
ずれかで不良が発生した場合、第1の格納信号に同期し
て第1の/CS発生部4から第1の/CSイネーブル信
号が出力される。このとき、第1のホールドレジスタ3
では、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフ
ロップFL0〜FL7のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、そのフィリップフロップの出力につながるメ
モリFD0〜FD7のいずれかの/CS端子が”L”に
なる。メモリ部1の各メモリFD0〜FD7のデータD
端子には常に”H”が印加されているため、不良が発生
したアドレスに対応するメモリに”1”が格納され、フ
ェイルデータとしてメモリ部1に取り込まれる。
ずれかで不良が発生した場合、第1の格納信号に同期し
て第1の/CS発生部4から第1の/CSイネーブル信
号が出力される。このとき、第1のホールドレジスタ3
では、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフ
ロップFL0〜FL7のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、そのフィリップフロップの出力につながるメ
モリFD0〜FD7のいずれかの/CS端子が”L”に
なる。メモリ部1の各メモリFD0〜FD7のデータD
端子には常に”H”が印加されているため、不良が発生
したアドレスに対応するメモリに”1”が格納され、フ
ェイルデータとしてメモリ部1に取り込まれる。
【0047】一方、バースト長が16ワードの場合、す
なわちバーストアドレスが#0〜#Fまで出力される場
合、まずバーストアドレス#0〜#7までのフェイルデ
ータ取込み動作が上記8ワードの場合と同様に行われ
る。
なわちバーストアドレスが#0〜#Fまで出力される場
合、まずバーストアドレス#0〜#7までのフェイルデ
ータ取込み動作が上記8ワードの場合と同様に行われ
る。
【0048】次に、バーストアドレス#8〜#Fが送ら
れてくると、バーストアドレス#0〜#7と同様にフェ
イルデータがシフトレジスタ2のフィリップフロップF
L8〜FL15にそれぞれ格納される。そしてバースト
アドレス#Fの時、第2の格納信号が出力され、シフト
レジスタ2に格納されているフェイルデータが第1のホ
ールドレジスタのフィリプフロップFF8〜FF15に
転送される。
れてくると、バーストアドレス#0〜#7と同様にフェ
イルデータがシフトレジスタ2のフィリップフロップF
L8〜FL15にそれぞれ格納される。そしてバースト
アドレス#Fの時、第2の格納信号が出力され、シフト
レジスタ2に格納されているフェイルデータが第1のホ
ールドレジスタのフィリプフロップFF8〜FF15に
転送される。
【0049】ここで、バーストアドレス#8〜#Fのい
ずれかで不良が発生した場合、第2の格納信号に同期し
て第2の/CS発生部5から第2の/CSイネーブル信
号が発生する。このとき、第1のホールドレジスタ3で
は、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフロ
ップFF8〜FF15のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、フィリップフロップFF8〜FF15の出力
につながるメモリFD8〜FD15のいずれかの/CS
端子が”L”になる、メモリ部1の各メモリFD8〜F
D15のデータD端子には常に”H”が印加されている
ため、不良が発生したアドレスに対応するメモリに”
1”が格納され、フェイルデータとしてメモリ部1に取
り込まれる。
ずれかで不良が発生した場合、第2の格納信号に同期し
て第2の/CS発生部5から第2の/CSイネーブル信
号が発生する。このとき、第1のホールドレジスタ3で
は、不良が発生したアドレスに対応するフィリップフロ
ップFF8〜FF15のいずれかに不良を表す”1”が
格納され、フィリップフロップFF8〜FF15の出力
につながるメモリFD8〜FD15のいずれかの/CS
端子が”L”になる、メモリ部1の各メモリFD8〜F
D15のデータD端子には常に”H”が印加されている
ため、不良が発生したアドレスに対応するメモリに”
1”が格納され、フェイルデータとしてメモリ部1に取
り込まれる。
【0050】また、パターン発生器から出力されるアド
レスは、フェイルデータの格納開始時に第2のホールド
レジスタ6のレジスタFFAD1またはレジスタFFA
D2に取り込まれ、上記フェイルデータの取込み動作中
はそのアドレスのデータを保持している。
レスは、フェイルデータの格納開始時に第2のホールド
レジスタ6のレジスタFFAD1またはレジスタFFA
D2に取り込まれ、上記フェイルデータの取込み動作中
はそのアドレスのデータを保持している。
【0051】以上の動作はバースト長が変わっても同様
に繰り返され、より長いバースト長を有するフェイルデ
ータが転送される場合にも対応することができる。
に繰り返され、より長いバースト長を有するフェイルデ
ータが転送される場合にも対応することができる。
【0052】図4は本発明の半導体メモリ試験装置の不
良解析メモリのフェイルデータ取込み動作を示すタイミ
ングチャートである。
良解析メモリのフェイルデータ取込み動作を示すタイミ
ングチャートである。
【0053】従来のフェイルデータ取込み方法では、不
良解析メモリに対するフェイルデータ格納周期がx1S
RAMに対するフェイルデータ格納周期と同一であっ
た。このため、高速なバーストメモリのフェイルデータ
を格納する際には、格納周期を短くするために複数のメ
モリをインターリーブ動作させ、同時にバンク数(メモ
リの数)を増やして対応していた。
良解析メモリに対するフェイルデータ格納周期がx1S
RAMに対するフェイルデータ格納周期と同一であっ
た。このため、高速なバーストメモリのフェイルデータ
を格納する際には、格納周期を短くするために複数のメ
モリをインターリーブ動作させ、同時にバンク数(メモ
リの数)を増やして対応していた。
【0054】しかしながら本発明では不良解析メモリに
対するフェイルデータ格納周期とx1SRAMに対する
フェイルデータ格納周期が異なっている。すなわち、個
々のx1SRAMに対するフェイルデータの格納周期は
従来と同じであるが、不良解析メモリに対するフェイル
データ格納周期が従来のフェイルデータ格納周期の16
倍になる。
対するフェイルデータ格納周期とx1SRAMに対する
フェイルデータ格納周期が異なっている。すなわち、個
々のx1SRAMに対するフェイルデータの格納周期は
従来と同じであるが、不良解析メモリに対するフェイル
データ格納周期が従来のフェイルデータ格納周期の16
倍になる。
【0055】したがって、従来よりも高速にフェイルデ
ータを取込むことが可能になりインターリーブ動作させ
る必要がなくなるためメモリ容量が少なくて済む。
ータを取込むことが可能になりインターリーブ動作させ
る必要がなくなるためメモリ容量が少なくて済む。
【0056】よって、大容量のRDRAM等のバースト
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため不良解析メモリ
を製造するための部品コストが低減され不良解析メモリ
の実装面積も低減される。
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため不良解析メモリ
を製造するための部品コストが低減され不良解析メモリ
の実装面積も低減される。
【0057】ところで、図5は本発明の不良解析メモリ
のフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果があるか
を示している。図5では18M(2M×9)ビットRD
RAMのフェイルデータを取込む場合を示し、RDAM
のフェイルデータの取込みに必要な格納周期は2ns、
またx1SRAMのデータ取込み周期は32nsとす
る。
のフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果があるか
を示している。図5では18M(2M×9)ビットRD
RAMのフェイルデータを取込む場合を示し、RDAM
のフェイルデータの取込みに必要な格納周期は2ns、
またx1SRAMのデータ取込み周期は32nsとす
る。
【0058】図5に示すように、従来のフェイルデータ
取込み方法では、アクセスタイム32nsのx1SRA
Mで2ns毎にデータを取り込むために16ウェイ(3
2ns/2ns=16)のインターリーブを行ってい
る。ここで、18Mビットのフェイルデータを格納する
ために必要なメモリ数は、1Mビットのx1SRAMで
18個となる。これを16ウェイ分用意するため不良解
析メモリとして必要なx1SRAMの数は全部で18×
16=288個となる。
取込み方法では、アクセスタイム32nsのx1SRA
Mで2ns毎にデータを取り込むために16ウェイ(3
2ns/2ns=16)のインターリーブを行ってい
る。ここで、18Mビットのフェイルデータを格納する
ために必要なメモリ数は、1Mビットのx1SRAMで
18個となる。これを16ウェイ分用意するため不良解
析メモリとして必要なx1SRAMの数は全部で18×
16=288個となる。
【0059】一方、本発明のフェイルデータ取込み方法
では、フェイルデータ取込み周期が32ns/16=2
nsとなるためインターリーブを行う必要がない。また
1ビット分の容量は2Mとなるため256kwx1(実
際の深さは128kwまでしか必要ない)のメモリを1
6個使用すればよい。これを被試験メモリのビット数分
用意するため不良解析メモリとして必要なx1SRAM
の数は全部で16×9=144個となる。
では、フェイルデータ取込み周期が32ns/16=2
nsとなるためインターリーブを行う必要がない。また
1ビット分の容量は2Mとなるため256kwx1(実
際の深さは128kwまでしか必要ない)のメモリを1
6個使用すればよい。これを被試験メモリのビット数分
用意するため不良解析メモリとして必要なx1SRAM
の数は全部で16×9=144個となる。
【0060】したがって、本発明の半導体メモリ試験装
置の不良解析メモリは、使用メモリ容量が従来の1/8
で済み、メモリ数も半分になった。
置の不良解析メモリは、使用メモリ容量が従来の1/8
で済み、メモリ数も半分になった。
【0061】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、以下に記載する効果を奏する。
いるので、以下に記載する効果を奏する。
【0062】不良解析メモリに、被試験メモリのアドレ
ス順に出力されるシリアルデータ形式のフェイルデータ
を逐次格納しパラレルデータとして出力するシフトレジ
スタと、シフトレジスタから出力されるパラレルデータ
を一斉に読み込み一時的に保持する第1のホールドレジ
スタと、被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデ
ータを各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、
第1のホールドレジスタに保持されたパラレルデータを
メモリ部に転送するためのイネーブル信号を出力するC
S信号発生部と、メモリ部にフェイルデータを転送する
間フェイルデータに対応するアドレスデータを保持する
第2のホールドレジスタとを有することで、フェイルデ
ータを被試験メモリの各ビットに対応して1ビットずつ
メモリ部に転送する従来の方法に比べて高速にフェイル
データをメモリ部に転送することが可能になり、インタ
ーリーブ動作させる必要がなくなるためメモリ容量が少
なくて済む。
ス順に出力されるシリアルデータ形式のフェイルデータ
を逐次格納しパラレルデータとして出力するシフトレジ
スタと、シフトレジスタから出力されるパラレルデータ
を一斉に読み込み一時的に保持する第1のホールドレジ
スタと、被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデ
ータを各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、
第1のホールドレジスタに保持されたパラレルデータを
メモリ部に転送するためのイネーブル信号を出力するC
S信号発生部と、メモリ部にフェイルデータを転送する
間フェイルデータに対応するアドレスデータを保持する
第2のホールドレジスタとを有することで、フェイルデ
ータを被試験メモリの各ビットに対応して1ビットずつ
メモリ部に転送する従来の方法に比べて高速にフェイル
データをメモリ部に転送することが可能になり、インタ
ーリーブ動作させる必要がなくなるためメモリ容量が少
なくて済む。
【0063】よって、大容量のRDRAM等のバースト
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため、不良解析メモ
リを製造するための部品コストが低減され、不良解析メ
モリの実装面積が大きくなることがない。
メモリのフェイルデータを取り込むときでも高価な高速
SRAMを多数使用しなくても済むため、不良解析メモ
リを製造するための部品コストが低減され、不良解析メ
モリの実装面積が大きくなることがない。
【図1】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込みフォーマットを示す図であ
る。
リのフェイルデータ取込みフォーマットを示す図であ
る。
【図2】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路図で
ある。
リへのフェイルデータ書き込み方法を説明する回路図で
ある。
【図3】図2に示した第1の/CS発生部の構成を示す
回路図である。
回路図である。
【図4】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込み動作を示すタイミングチャー
トである。
リのフェイルデータ取込み動作を示すタイミングチャー
トである。
【図5】本発明の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果がある
かを示す図である。
リのフェイルデータ取込み方法がどの程度の効果がある
かを示す図である。
【図6】半導体メモリ試験装置の構成を示すブロック図
である。
である。
【図7】図6に示した不良解析メモリの構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
【図8】RDRAMの構成を示すブロック図である。
【図9】複数のRDRAMを接続して使用する場合を示
す回路図である。
す回路図である。
【図10】RDRAMの転送データの構成を示すフォー
マット図である。
マット図である。
【図11】従来の半導体メモリ試験装置の不良解析メモ
リのフェイルデータ取り込み方法を示す図であり、同図
(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマットを示す
図である。
リのフェイルデータ取り込み方法を示す図であり、同図
(a)は回路図、同図(b)は格納フォーマットを示す
図である。
【図12】インターリーブ方式の不良解析メモリの構成
を説明する図である。
を説明する図である。
1 メモリ部 2 シフトレジスタ 3 第1のホールドレジスタ 4 第1の/CS発生部 5 第2の/CS発生部 6 第2のホールドレジスタ
Claims (1)
- 【請求項1】 被試験メモリの良否判定を行うために、
前記被試験メモリの試験結果のうち不良情報であるフェ
イルデータを格納する不良解析メモリを備えた半導体メ
モリ試験装置において、 前記不良解析メモリに、 前記被試験メモリのアドレス順に出力されるシリアルデ
ータ形式の前記フェイルデータを逐次格納し、パラレル
データとして出力するシフトレジスタと、 前記シフトレジスタから出力されるパラレルデータを一
斉に読み込み、一時的に保持する第1のホールドレジス
タと、 前記被試験メモリのアドレスに対応するフェイルデータ
を、各メモリビットでそれぞれ保持するメモリ部と、 前記第1のホールドレジスタに保持されたパラレルデー
タを前記メモリ部に転送するためのイネーブル信号を出
力するCS信号発生部と、 前記メモリ部に前記フェイルデータを転送する間、前記
フェイルデータに対応する前記アドレスデータを保持す
る第2のホールドレジスタと、を有することを特徴とす
る半導体メモリ試験装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8237849A JPH1083696A (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 半導体メモリ試験装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8237849A JPH1083696A (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 半導体メモリ試験装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1083696A true JPH1083696A (ja) | 1998-03-31 |
Family
ID=17021329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8237849A Pending JPH1083696A (ja) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | 半導体メモリ試験装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1083696A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010006832A (ko) * | 1999-06-16 | 2001-01-26 | 아끼구사 나오유끼 | 반도체 집적 회로 |
| JP2003513391A (ja) * | 1999-10-26 | 2003-04-08 | テラダイン・インコーポレーテッド | 自動テスト機器用高速故障捕捉装置および方法 |
| WO2004092755A1 (ja) * | 2003-04-16 | 2004-10-28 | Advantest Corporation | 試験装置 |
| WO2006062067A1 (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Advantest Corporation | 試験装置 |
| US10311965B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-06-04 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor circuit |
-
1996
- 1996-09-09 JP JP8237849A patent/JPH1083696A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010006832A (ko) * | 1999-06-16 | 2001-01-26 | 아끼구사 나오유끼 | 반도체 집적 회로 |
| JP2003513391A (ja) * | 1999-10-26 | 2003-04-08 | テラダイン・インコーポレーテッド | 自動テスト機器用高速故障捕捉装置および方法 |
| JP2011249005A (ja) * | 1999-10-26 | 2011-12-08 | Teradyne Inc | 自動テスト機器用高速故障捕捉装置および方法 |
| WO2004092755A1 (ja) * | 2003-04-16 | 2004-10-28 | Advantest Corporation | 試験装置 |
| US7337381B2 (en) | 2003-04-16 | 2008-02-26 | Advantest Corporation | Memory tester having defect analysis memory with two storage sections |
| KR100840814B1 (ko) | 2003-04-16 | 2008-06-23 | 주식회사 아도반테스토 | 시험 장치 |
| WO2006062067A1 (ja) * | 2004-12-07 | 2006-06-15 | Advantest Corporation | 試験装置 |
| JPWO2006062067A1 (ja) * | 2004-12-07 | 2008-06-12 | 株式会社アドバンテスト | 試験装置 |
| US10311965B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-06-04 | Toshiba Memory Corporation | Semiconductor circuit |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040414 |