JPH1087646A - ホモアリルアミンの製造法 - Google Patents
ホモアリルアミンの製造法Info
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- JPH1087646A JPH1087646A JP26514196A JP26514196A JPH1087646A JP H1087646 A JPH1087646 A JP H1087646A JP 26514196 A JP26514196 A JP 26514196A JP 26514196 A JP26514196 A JP 26514196A JP H1087646 A JPH1087646 A JP H1087646A
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- ether
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Abstract
(57)【要約】
【課題】生理活性化合物合成へと応用可能なホモアリル
アミンの製造法を提供すること。 【解決手段】光学活性N−スリフィニルイミンへアリル
試薬の付加反応により、対応するホモアリルアミンの両
ジアステレオマーを高収率および最高98%de以上の
選択性で合成できた。
アミンの製造法を提供すること。 【解決手段】光学活性N−スリフィニルイミンへアリル
試薬の付加反応により、対応するホモアリルアミンの両
ジアステレオマーを高収率および最高98%de以上の
選択性で合成できた。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、4−(2−フリ
ル)−4−(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−
1−ブテン(ホモアリルアミンと言うこともある。)の
製造法に関する。この化合物は、アルカロイド合成にお
いて有用な合成中間体である。
ル)−4−(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−
1−ブテン(ホモアリルアミンと言うこともある。)の
製造法に関する。この化合物は、アルカロイド合成にお
いて有用な合成中間体である。
【0002】
【従来の技術】光学活性N−スルフィニルイミンを用い
る不斉アリル化反応において対応する両ジアステレオマ
ーを任意に合成している例はなく、また、イミノ基のα
位にフェニル基などの芳香環を有するため、後の官能基
変換に制限がある。本発明者らはイミノ基のα位の置換
基を有効に利用できる光学活性N−スルフィニルイミン
へのエステルエノラートの付加反応においてエノラート
の金属種を適切に選択することにより、β−アミノエス
テル3位の立体化学を任意に制御できることを見出して
いる。
る不斉アリル化反応において対応する両ジアステレオマ
ーを任意に合成している例はなく、また、イミノ基のα
位にフェニル基などの芳香環を有するため、後の官能基
変換に制限がある。本発明者らはイミノ基のα位の置換
基を有効に利用できる光学活性N−スルフィニルイミン
へのエステルエノラートの付加反応においてエノラート
の金属種を適切に選択することにより、β−アミノエス
テル3位の立体化学を任意に制御できることを見出して
いる。
【0003】
【化3】
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、生理活性化
合物合成において有用な合成中間体であるβ−アミノエ
ステルの製造法を提供することである。
合物合成において有用な合成中間体であるβ−アミノエ
ステルの製造法を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は式
(1)
(1)
【0006】
【化4】
【0007】の化合物に、アリルGrignard試
薬、または三フッ化ホウ素エーテル錯体もしくは塩化セ
リウムとアリルGrignard試薬を反応させること
を特徴とする式(2)
薬、または三フッ化ホウ素エーテル錯体もしくは塩化セ
リウムとアリルGrignard試薬を反応させること
を特徴とする式(2)
【0008】
【化5】
【0009】化合物の製造法である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明において、アリルGrig
nard試薬は、次の式で示されるものである。
nard試薬は、次の式で示されるものである。
【0011】
【化6】
【0012】ここで、Xは塩素、臭素が例示される。三
フッ化ホウ素エーテル錯体、塩化セリウムなどを用いた
場合、反応系内で、トリアリルホウ素、トリアリルセリ
ウムなどを形成しているものと思われる。反応溶媒とし
ては、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。反応温度は
−78℃から室温で行われる。いずれの場合も反応終了
後は通常の後処理を行うことにより目的物を得ることが
できる。化合物の構造は、IR,NMR等から決定し
た。
フッ化ホウ素エーテル錯体、塩化セリウムなどを用いた
場合、反応系内で、トリアリルホウ素、トリアリルセリ
ウムなどを形成しているものと思われる。反応溶媒とし
ては、ジエチルエーテルなどのエーテル類、塩化メチレ
ンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。反応温度は
−78℃から室温で行われる。いずれの場合も反応終了
後は通常の後処理を行うことにより目的物を得ることが
できる。化合物の構造は、IR,NMR等から決定し
た。
【0013】
【実施例】次に実施例、参考例を挙げ、本発明を更に詳
しく説明するが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のでない。
しく説明するが、本発明はこれにより何ら限定されるも
のでない。
【0014】参考例1 (S)−(+)−2−N−p−トルエンスルフィニルイ
ミノメチルフランの合成
ミノメチルフランの合成
【0015】
【化7】
【0016】よく乾燥した100ml二口ナス型フラス
コにアルゴン雰囲気下、THF5mlを入れ、0℃に冷
却した。ヘキサメチルジシラザン3.23ml(15.3m
mol)を加え、5分間攪拌した後、1.44N、n−ブ
チルリチウムヘキサン溶液10.6ml(15.3mmo
l)をゆっくりと滴下した。室温で30分攪拌した後、
(S)−(−)−メンチルスルフィナート3g(10.2
mmol)THF溶液15mlをゆっくりと滴下した。
0℃まで徐々に昇温しながら反応を行い、氷浴を除去
し、室温で2時間攪拌した。0℃に冷却後、直前に蒸留
したフルフラール1.27ml(15.3mmol)を加
え、続いてフッ化セシウムを素早く加えた。室温まで徐
々に昇温した後、5時間攪拌した。氷浴で冷却し、リン
酸緩衝溶液で反応を停止後、酢酸エチルで抽出した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーター
で濃縮し、粗生成物を得た。5%トリエチルアミンヘキ
サン溶液でコンディショニングしたシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=
1:1)により、精製を行い、黄白色の結晶の(S)−
(+)−2−N−p−トルエンスルフィニルイミノメチ
ルフランを得た。 収量 1.99g(8.5mmol),収率 84% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.40(s,3
H),6.47(dd,1H,J=2.0,2.0Hz),6.98(d,1H,J=4.0Hz),7.23
(d,2H,J=8.2Hz),7.57(d,1H,J=2.0Hz),7.58(d,2H,J=8.2H
z) IR(neat) 1610, 1540, 1470, 1170, 790, 550cm -1 [α]D 23 +82.0(c 0.93,CHCl3)
コにアルゴン雰囲気下、THF5mlを入れ、0℃に冷
却した。ヘキサメチルジシラザン3.23ml(15.3m
mol)を加え、5分間攪拌した後、1.44N、n−ブ
チルリチウムヘキサン溶液10.6ml(15.3mmo
l)をゆっくりと滴下した。室温で30分攪拌した後、
(S)−(−)−メンチルスルフィナート3g(10.2
mmol)THF溶液15mlをゆっくりと滴下した。
0℃まで徐々に昇温しながら反応を行い、氷浴を除去
し、室温で2時間攪拌した。0℃に冷却後、直前に蒸留
したフルフラール1.27ml(15.3mmol)を加
え、続いてフッ化セシウムを素早く加えた。室温まで徐
々に昇温した後、5時間攪拌した。氷浴で冷却し、リン
酸緩衝溶液で反応を停止後、酢酸エチルで抽出した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーター
で濃縮し、粗生成物を得た。5%トリエチルアミンヘキ
サン溶液でコンディショニングしたシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=
1:1)により、精製を行い、黄白色の結晶の(S)−
(+)−2−N−p−トルエンスルフィニルイミノメチ
ルフランを得た。 収量 1.99g(8.5mmol),収率 84% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.40(s,3
H),6.47(dd,1H,J=2.0,2.0Hz),6.98(d,1H,J=4.0Hz),7.23
(d,2H,J=8.2Hz),7.57(d,1H,J=2.0Hz),7.58(d,2H,J=8.2H
z) IR(neat) 1610, 1540, 1470, 1170, 790, 550cm -1 [α]D 23 +82.0(c 0.93,CHCl3)
【0017】実施例1 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0018】
【化8】
【0019】よく乾燥した30mlナス型フラスコに、
(S)−(+)−2−N−p−トルエンスルフィニルイ
ミノメチルフラン(以下、N−スルフィニルイミンとも
言う)35mg(0.15mmol)のエーテル溶液5m
lを入れ、−78℃に冷却した。0.52規定臭化アリル
マグネシウムエーテル溶液0.81ml(0.42mmo
l)をゆっくりと滴下し、室温まで徐々に昇温しながら
12時間攪拌した。0℃に冷却し飽和塩化アンモニウム
水溶液10mlを加え、反応を停止した。酢酸エチルで
抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバ
ポレーターで濃縮後粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で
前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶
媒、ヘキサン:エーテル=1:1、3回上げ)により単
離精製を行い、4−(2−フリル)−4−(N−p−ト
ルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテンを得た。選択
比の決定はHibarカラムを用いHPLC分析により
おこなった。 収量 38.8mg(0.14mmol), 収率 94% S:R=15:85 保持時間27.1(3S),29.1(3R)分 (HPLC,Hibar,ヘキサン:イソプロパノール
=100:1) Rf 0.3(ヘキサン:エーテル=1:2) R体1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.40(s,3
H),2.55-2.60(m,2H),4.34(d,1H,J=5.9Hz),4.59(q,1H.J=
6.5Hz),5.04-5.19(m,2H),5.50-5.64(m,1H),6.33(m,2H),
7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.40(m,1H),7,59(d,2H,J=8.1Hz) IR(neat) 3200, 1190, 1160, 920, 810, 740cm -1 S体1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.39(s,3
H),2.63-2.80(m,2H),4.42(d,1H,J=6.9Hz),4.53(q,1H,J=
6.6Hz),5.05-5.20(m,2H),5.63-5.78(m,1H),6.12(m,1H),
7.26(m,3H),7.63(d,2H,J=8.3Hz)
(S)−(+)−2−N−p−トルエンスルフィニルイ
ミノメチルフラン(以下、N−スルフィニルイミンとも
言う)35mg(0.15mmol)のエーテル溶液5m
lを入れ、−78℃に冷却した。0.52規定臭化アリル
マグネシウムエーテル溶液0.81ml(0.42mmo
l)をゆっくりと滴下し、室温まで徐々に昇温しながら
12時間攪拌した。0℃に冷却し飽和塩化アンモニウム
水溶液10mlを加え、反応を停止した。酢酸エチルで
抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ロータリーエバ
ポレーターで濃縮後粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で
前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶
媒、ヘキサン:エーテル=1:1、3回上げ)により単
離精製を行い、4−(2−フリル)−4−(N−p−ト
ルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテンを得た。選択
比の決定はHibarカラムを用いHPLC分析により
おこなった。 収量 38.8mg(0.14mmol), 収率 94% S:R=15:85 保持時間27.1(3S),29.1(3R)分 (HPLC,Hibar,ヘキサン:イソプロパノール
=100:1) Rf 0.3(ヘキサン:エーテル=1:2) R体1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.40(s,3
H),2.55-2.60(m,2H),4.34(d,1H,J=5.9Hz),4.59(q,1H.J=
6.5Hz),5.04-5.19(m,2H),5.50-5.64(m,1H),6.33(m,2H),
7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.40(m,1H),7,59(d,2H,J=8.1Hz) IR(neat) 3200, 1190, 1160, 920, 810, 740cm -1 S体1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 2.39(s,3
H),2.63-2.80(m,2H),4.42(d,1H,J=6.9Hz),4.53(q,1H,J=
6.6Hz),5.05-5.20(m,2H),5.63-5.78(m,1H),6.12(m,1H),
7.26(m,3H),7.63(d,2H,J=8.3Hz)
【0020】実施例2 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0021】
【化9】
【0022】N−スルフィニルイミン35mg(0.15
mmol)、エーテル5ml、0.44規定塩化アリルマ
グネシウムエーテル溶液0.68ml(0.3mmol)を
用いて実施例1と同様の操作により反応を行った。0℃
まで昇温しながら5時間攪拌した。0℃で飽和塩化アン
モニウム水溶液10mlを加え、反応を停止した。以下
実施例1と同様の手法により処理、精製を行い、4−
(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィニル
アミノ)−1−ブテンを得た。 収量 41.1mg(0.15mmol),収率 99% S:R=14:86 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
mmol)、エーテル5ml、0.44規定塩化アリルマ
グネシウムエーテル溶液0.68ml(0.3mmol)を
用いて実施例1と同様の操作により反応を行った。0℃
まで昇温しながら5時間攪拌した。0℃で飽和塩化アン
モニウム水溶液10mlを加え、反応を停止した。以下
実施例1と同様の手法により処理、精製を行い、4−
(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィニル
アミノ)−1−ブテンを得た。 収量 41.1mg(0.15mmol),収率 99% S:R=14:86 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
【0023】実施例3 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0024】
【化10】
【0025】よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコ
に真空ポンプで減圧下140℃で乾燥した無水塩化セリ
ウム73.9mg(0.30mmol)を入れ、エーテル2
mlを加え、−78℃に冷却した。0.52規定臭化アリ
ルマグネシウムエーテル溶液0.58ml(0.30mmo
l)をゆっくりと滴下し攪拌した。−78℃で懸濁溶液
にN−スルフィニルイミン35mg(0.15mmol)
のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、0℃まで徐々に昇
温しながら6時間攪拌した。以下、実施例1と同様の手
法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
を得た。 収量 38.8mg(0.14mmol),収率 94% S:R=13:87 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
に真空ポンプで減圧下140℃で乾燥した無水塩化セリ
ウム73.9mg(0.30mmol)を入れ、エーテル2
mlを加え、−78℃に冷却した。0.52規定臭化アリ
ルマグネシウムエーテル溶液0.58ml(0.30mmo
l)をゆっくりと滴下し攪拌した。−78℃で懸濁溶液
にN−スルフィニルイミン35mg(0.15mmol)
のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、0℃まで徐々に昇
温しながら6時間攪拌した。以下、実施例1と同様の手
法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
を得た。 収量 38.8mg(0.14mmol),収率 94% S:R=13:87 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
【0026】実施例4 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0027】
【化11】
【0028】よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコ
に真空ポンプで減圧下140℃で乾燥した無水塩化セリ
ウム73.9mg(0.30mmol)を入れ、エーテル2
mlを加え、−78℃に冷却した。0.44規定塩化アリ
ルマグネシウムエーテル溶液0.68ml(0.30mmo
l)をゆっくりと滴下し1時間攪拌した。−78℃で懸
濁溶液にN−スルフィニルイミン35mg(0.15mm
ol)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、0℃まで徐
々に昇温しながら5時間攪拌した。以下、実施例1と同
様の手法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)
−4−(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−
ブテンを得た。 収量 35.5mg(0.13mmol),収率 86% S:R=17:83 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
に真空ポンプで減圧下140℃で乾燥した無水塩化セリ
ウム73.9mg(0.30mmol)を入れ、エーテル2
mlを加え、−78℃に冷却した。0.44規定塩化アリ
ルマグネシウムエーテル溶液0.68ml(0.30mmo
l)をゆっくりと滴下し1時間攪拌した。−78℃で懸
濁溶液にN−スルフィニルイミン35mg(0.15mm
ol)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、0℃まで徐
々に昇温しながら5時間攪拌した。以下、実施例1と同
様の手法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)
−4−(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−
ブテンを得た。 収量 35.5mg(0.13mmol),収率 86% S:R=17:83 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
【0029】実施例5 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0030】
【化12】
【0031】ジムロート冷却器を取り付けた30mlナ
ス型フラスコにアルゴン雰囲気下、0℃でエーテル3m
l、三フッ化ホウ素エーテル錯体0.037ml(0.30
mmol)を入れ、0.52規定臭化アリルマグネシウム
エーテル溶液1.73ml(0.90mmol)をゆっくり
と滴下した。1時間加熱還流した後、−78℃に冷却
し、N−スルフィニルアミン35mg(0.15mmo
l)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、−78℃で5
分間攪拌し後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停
止し、以下、実施例1と同様の手法により処理、精製を
行い、4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンス
ルフィニルアミノ)−1−ブテンを得た。 収量 12.6mg(0.046mmol),収率 31% S:R=92:8 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
ス型フラスコにアルゴン雰囲気下、0℃でエーテル3m
l、三フッ化ホウ素エーテル錯体0.037ml(0.30
mmol)を入れ、0.52規定臭化アリルマグネシウム
エーテル溶液1.73ml(0.90mmol)をゆっくり
と滴下した。1時間加熱還流した後、−78℃に冷却
し、N−スルフィニルアミン35mg(0.15mmo
l)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、−78℃で5
分間攪拌し後、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停
止し、以下、実施例1と同様の手法により処理、精製を
行い、4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンス
ルフィニルアミノ)−1−ブテンを得た。 収量 12.6mg(0.046mmol),収率 31% S:R=92:8 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
【0032】実施例6 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルフィ
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
ニルアミノ)−1−ブテンの合成
【0033】
【化13】
【0034】ジムロート冷却器を取り付けた30mlナ
ス型フラスコにアルゴン雰囲気下、0℃でエーテル3m
l、三フッ化ホウ素エーテル錯体0.037ml(0.30
mmol)を入れ、0.44規定塩化アリルマグネシウム
エーテル溶液2.04ml(0.90mmol)をゆっくり
と滴下した。1時間加熱還流した後、−78℃に冷却
し、N−スルフィニルアミン35mg(0.15mmo
l)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、−40℃まで
徐々に昇温しながら2時間攪拌した。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液で反応を停止し、以下、実施例1と同様の手
法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
を得た。 収量 34.4mg(0.12mmol),収率 83% S:R=>99:1 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
ス型フラスコにアルゴン雰囲気下、0℃でエーテル3m
l、三フッ化ホウ素エーテル錯体0.037ml(0.30
mmol)を入れ、0.44規定塩化アリルマグネシウム
エーテル溶液2.04ml(0.90mmol)をゆっくり
と滴下した。1時間加熱還流した後、−78℃に冷却
し、N−スルフィニルアミン35mg(0.15mmo
l)のエーテル溶液をゆっくりと滴下し、−40℃まで
徐々に昇温しながら2時間攪拌した。飽和塩化アンモニ
ウム水溶液で反応を停止し、以下、実施例1と同様の手
法により処理、精製を行い、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
を得た。 収量 34.4mg(0.12mmol),収率 83% S:R=>99:1 Rf, 1H−NMR,IRは実施例1に同じ。
【0035】次に、上記実施例を含めて、他の例も表1
に示す。
に示す。
【0036】
【表1】
【0037】次に参考例2〜11に関連するインドリチ
ジン(Indrizidine)223ABの反応工程
を示す。
ジン(Indrizidine)223ABの反応工程
を示す。
【0038】
【化14】
【0039】参考例2 4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスルホニ
ル)アミノ−1−ブテンの合成 30ml二口ナス型フラスコに80%m−クロロ過安息
香酸(以下、mCPBAと略す)99mg(0.57mm
ol)を入れ、アルゴン置換した。塩化メチレン5ml
を加え、−30℃に冷却し、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
(>98%de、S)123mg(0.44mmol)の
塩化メチレン溶液5mlをゆっくりと滴下した。0℃ま
でゆっくりと昇温し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用
いて反応を停止し、水層を分離した後、油層を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、
粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エー
テル=3:2、3回上げ)を用いて精製し、4−(2−
フリル)−4−(N−p−トルエンスルホニル)アミノ
−1−ブテンを得た。 収量 112.7mg(0.39mmol),収率 88% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(60MHz,CCl4 )δ 2.38(s,3H),
2.57(d,2H,J=6.2Hz),4.45(q,1H,J=7.1Hz),4.80-6.16(m,
6H),7.03-7.28(m,3H),7.67(d,2H,J=8.0Hz) IR(CHCl3) 3250, 1500, 1450, 1320, 1160, 9
20, 660cm -1 [α]D 23−74.8(C 0.78, CHCl3)
ル)アミノ−1−ブテンの合成 30ml二口ナス型フラスコに80%m−クロロ過安息
香酸(以下、mCPBAと略す)99mg(0.57mm
ol)を入れ、アルゴン置換した。塩化メチレン5ml
を加え、−30℃に冷却し、4−(2−フリル)−4−
(N−p−トルエンスルフィニルアミノ)−1−ブテン
(>98%de、S)123mg(0.44mmol)の
塩化メチレン溶液5mlをゆっくりと滴下した。0℃ま
でゆっくりと昇温し飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用
いて反応を停止し、水層を分離した後、油層を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、
粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エー
テル=3:2、3回上げ)を用いて精製し、4−(2−
フリル)−4−(N−p−トルエンスルホニル)アミノ
−1−ブテンを得た。 収量 112.7mg(0.39mmol),収率 88% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(60MHz,CCl4 )δ 2.38(s,3H),
2.57(d,2H,J=6.2Hz),4.45(q,1H,J=7.1Hz),4.80-6.16(m,
6H),7.03-7.28(m,3H),7.67(d,2H,J=8.0Hz) IR(CHCl3) 3250, 1500, 1450, 1320, 1160, 9
20, 660cm -1 [α]D 23−74.8(C 0.78, CHCl3)
【0040】参考例3 1−(2−フリル)−1−(N−p−トルエンスルホニ
ル)アミノブタンの合成 発煙硝酸で前処理した30ml二口ナス型フラスコに1
0%パラジウム/炭素を3.6mg入れ、アルゴン置換し
た。4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスル
ホニル)アミノ−1−ブテン140mg(0.48mmo
l)のエタノール溶液3mlを加え、水素置換した。室
温で6時間攪拌した後セライト濾過し、ロータリーエバ
ポレーターを用いて濃縮し、粗生成物を得た。リン酸緩
衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー
(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=3:2、3回上げ)
を用いて精製し、1−(2−フリル)−1−(N−p−
トルエンスルホニル)アミノブタンを得た。 収量 141mg(0.48mmol),収率 99% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.84(t,3
H,J=7.3Hz),1.06-1.37(m,2H),1.74(q,2H,J=7.6Hz),2.36
(s,3H),4.40(q,1H,J=7.8Hz),5.44(d,1H,J=8.6Hz),5.89
(d,1H,J=3.3Hz),6.07(dd,1H,J=1.8,3.1Hz),7.10-7.18
(m,3H),7.62(d,2H,J=8.6Hz) IR(CHCl3) 2850, 1590, 1460, 1340, 1320, 9
80cm -1 [α]D 23−57.5(C 2.8,EtOH)
ル)アミノブタンの合成 発煙硝酸で前処理した30ml二口ナス型フラスコに1
0%パラジウム/炭素を3.6mg入れ、アルゴン置換し
た。4−(2−フリル)−4−(N−p−トルエンスル
ホニル)アミノ−1−ブテン140mg(0.48mmo
l)のエタノール溶液3mlを加え、水素置換した。室
温で6時間攪拌した後セライト濾過し、ロータリーエバ
ポレーターを用いて濃縮し、粗生成物を得た。リン酸緩
衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー
(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=3:2、3回上げ)
を用いて精製し、1−(2−フリル)−1−(N−p−
トルエンスルホニル)アミノブタンを得た。 収量 141mg(0.48mmol),収率 99% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.84(t,3
H,J=7.3Hz),1.06-1.37(m,2H),1.74(q,2H,J=7.6Hz),2.36
(s,3H),4.40(q,1H,J=7.8Hz),5.44(d,1H,J=8.6Hz),5.89
(d,1H,J=3.3Hz),6.07(dd,1H,J=1.8,3.1Hz),7.10-7.18
(m,3H),7.62(d,2H,J=8.6Hz) IR(CHCl3) 2850, 1590, 1460, 1340, 1320, 9
80cm -1 [α]D 23−57.5(C 2.8,EtOH)
【0041】参考例4 5,6−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−プロピル−N
−トシルピリジン−3−(2H)−オンの合成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコに、1−(2
−フリル)−1−(N−p−トルエンスルホニル)アミ
ノブタン15mg(0.15mmol)を入れ、アルゴン
置換した。塩化メチレン2mlを加え、0℃に冷却し、
mCPBA39.6mg(0.18mmol)の塩化メチレ
ン溶液3mlをゆっくりと滴下した。室温まで徐々に昇
温しながら3時間攪拌した。0℃に冷却し飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で反応を停止し、以下、参考例2と同
様の処理、精製を行い、5,6−ジヒドロ−6−ヒドロ
キシ−2−プロピル−N−トシルピリジン−3−(2
H)−オンを得た。 収量 34.3mg(0.11mmol)、収率 74% Rf 0.1(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.92(t,3
H,J=7.3Hz),1.29-2.04(m,4H),2.39(s,3H),4.31(dd,1H,J
=6.8,8.4Hz),5.84-5.92(m,2H),6,77(dd,1H,J=4.5,10.4H
z),7.26(d,2H,J=8.3Hz),7.60(d,2H,J=8.3Hz) IR(CHCl3 ) 2650, 1730, 1580, 1360, 1000, 90
0cm -1 [α]D 23 +116.6(c 0.69,EtOH)
−トシルピリジン−3−(2H)−オンの合成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコに、1−(2
−フリル)−1−(N−p−トルエンスルホニル)アミ
ノブタン15mg(0.15mmol)を入れ、アルゴン
置換した。塩化メチレン2mlを加え、0℃に冷却し、
mCPBA39.6mg(0.18mmol)の塩化メチレ
ン溶液3mlをゆっくりと滴下した。室温まで徐々に昇
温しながら3時間攪拌した。0℃に冷却し飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液で反応を停止し、以下、参考例2と同
様の処理、精製を行い、5,6−ジヒドロ−6−ヒドロ
キシ−2−プロピル−N−トシルピリジン−3−(2
H)−オンを得た。 収量 34.3mg(0.11mmol)、収率 74% Rf 0.1(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.92(t,3
H,J=7.3Hz),1.29-2.04(m,4H),2.39(s,3H),4.31(dd,1H,J
=6.8,8.4Hz),5.84-5.92(m,2H),6,77(dd,1H,J=4.5,10.4H
z),7.26(d,2H,J=8.3Hz),7.60(d,2H,J=8.3Hz) IR(CHCl3 ) 2650, 1730, 1580, 1360, 1000, 90
0cm -1 [α]D 23 +116.6(c 0.69,EtOH)
【0042】参考例5 6−エトキシ−5、6−ジヒドロ−2−プロピル−N−
トシルピリジン−3−(2H)−オンの合成 50ml二口ナス型フラスコに、モレキュラーシーブス
4Å5gを入れ、真空ポンプで減圧下乾燥し、アルゴン
置換した。5,6−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−プ
ロピル−N−トシルピリジン−3−(2H)−オン41
7.5mg(1.35mmol)のエ−テル溶液25ml、
オルトギ酸トリエチル1.1g(7.46mmol)を加
え、0℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル錯体を触
媒量(7滴)加え、室温まで徐々に昇温しながら攪拌し
た。室温で3時間攪拌した後、0℃に冷却し、三フッ化
ホウ素エーテル錯体に対し過剰量のトリエチルアミンを
加えることで反応を停止した。セライトを用いてモレキ
ュラーシーブスを濾過し、酢酸エチルで洗浄した。飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、酢酸エチルで抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレ
ーターを用いて濃縮し、粗生成物を得た。リン酸緩衝溶
液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展
開溶媒、ヘキサン:エーテル=3:2、3回上げ)用い
て精製し、6−エトキシ−5、6−ジヒドロ−2−プロ
ピル−N−トシルピリジン−3−(2H)−オンを得
た。 収量 455mg(1.34mmol),収率 99% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.96(t,3
H,J=7.3Hz),1.26(t,3H,J=6.9Hz),1.45-2.04(m.3H),2.38
(s,3H),3.66-3.78(m,1H),4.01-4.12(m,1H),4.25(dd,1H,
J=4.8,10.1Hz),5.59-5.75(m,1H),6.69(dd,1H,J=4.5,10.
4Hz),7.23(d,2H,J=8.1Hz),7.54(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1680, 1340, 1170, 1020, 58
0cm -1
トシルピリジン−3−(2H)−オンの合成 50ml二口ナス型フラスコに、モレキュラーシーブス
4Å5gを入れ、真空ポンプで減圧下乾燥し、アルゴン
置換した。5,6−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−プ
ロピル−N−トシルピリジン−3−(2H)−オン41
7.5mg(1.35mmol)のエ−テル溶液25ml、
オルトギ酸トリエチル1.1g(7.46mmol)を加
え、0℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル錯体を触
媒量(7滴)加え、室温まで徐々に昇温しながら攪拌し
た。室温で3時間攪拌した後、0℃に冷却し、三フッ化
ホウ素エーテル錯体に対し過剰量のトリエチルアミンを
加えることで反応を停止した。セライトを用いてモレキ
ュラーシーブスを濾過し、酢酸エチルで洗浄した。飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、酢酸エチルで抽出し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレ
ーターを用いて濃縮し、粗生成物を得た。リン酸緩衝溶
液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展
開溶媒、ヘキサン:エーテル=3:2、3回上げ)用い
て精製し、6−エトキシ−5、6−ジヒドロ−2−プロ
ピル−N−トシルピリジン−3−(2H)−オンを得
た。 収量 455mg(1.34mmol),収率 99% Rf 0.4(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.96(t,3
H,J=7.3Hz),1.26(t,3H,J=6.9Hz),1.45-2.04(m.3H),2.38
(s,3H),3.66-3.78(m,1H),4.01-4.12(m,1H),4.25(dd,1H,
J=4.8,10.1Hz),5.59-5.75(m,1H),6.69(dd,1H,J=4.5,10.
4Hz),7.23(d,2H,J=8.1Hz),7.54(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1680, 1340, 1170, 1020, 58
0cm -1
【0043】参考例6 6ーエトキシ−2−プロピル−N−トシルピペリジン−
3−オールの合成 よく乾燥した50mlナス型フラスコにアルゴン雰囲気
下6−エトキシ−5、6−ジヒドロ−2−プロピル−N
−トシルピリジン−3−(2H)−オン610mg(1.
8mmol)のメタノール25mlを入れ、−60℃に
冷却した。シリカゲル薄層クロマトグラフィーにより反
応を追跡しながら、水素化ホウ素ナトリウムをエノンが
確認できなくなるまで、少しずつ−30℃以下で加え
た。低温のままアセトン12.2mlを加え、過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを処理し反応を停止した。ロータリ
ーエバポレーターを用いて濃縮後、酢酸エチルを加え、
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮
し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=1:1)を用いて
精製し、飽和アルコール、不飽和アルコールの混合物を
得た(収量570mg)。発煙硝酸で前処理した100
ml二口ナス型フラスコに10%パラジウム/炭素を7
3mg入れ、アルゴン置換した。飽和アルコール、不飽
和アルコールの混合物570mgのエタノール溶液30
mlを加え水素置換した。室温で27時間攪拌した後、
セライト濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濃
縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=1:1)を用い
て精製し、6ーエトキシ−2−プロピル−N−トシルピ
ペリジン−3−オールを得た。 収量 564.7mg(1.65mmol),収率 92%
(二工程) Rf 0.3(ヘキサン:エ−テル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.95(t,3
H,J=7.1Hz),1.19(t,3H,J=7.4Hz),1.23-1.90(m,9H),2.42
(s,3H),3.25(brs,1H),3.49-3.92(m,3H),5.12(d,1H,J=7.
4Hz),7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.67(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 3500, 2950, 2860, 1340, 1160, 1
000cm -1
3−オールの合成 よく乾燥した50mlナス型フラスコにアルゴン雰囲気
下6−エトキシ−5、6−ジヒドロ−2−プロピル−N
−トシルピリジン−3−(2H)−オン610mg(1.
8mmol)のメタノール25mlを入れ、−60℃に
冷却した。シリカゲル薄層クロマトグラフィーにより反
応を追跡しながら、水素化ホウ素ナトリウムをエノンが
確認できなくなるまで、少しずつ−30℃以下で加え
た。低温のままアセトン12.2mlを加え、過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを処理し反応を停止した。ロータリ
ーエバポレーターを用いて濃縮後、酢酸エチルを加え、
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃縮
し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=1:1)を用いて
精製し、飽和アルコール、不飽和アルコールの混合物を
得た(収量570mg)。発煙硝酸で前処理した100
ml二口ナス型フラスコに10%パラジウム/炭素を7
3mg入れ、アルゴン置換した。飽和アルコール、不飽
和アルコールの混合物570mgのエタノール溶液30
mlを加え水素置換した。室温で27時間攪拌した後、
セライト濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濃
縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=1:1)を用い
て精製し、6ーエトキシ−2−プロピル−N−トシルピ
ペリジン−3−オールを得た。 収量 564.7mg(1.65mmol),収率 92%
(二工程) Rf 0.3(ヘキサン:エ−テル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.95(t,3
H,J=7.1Hz),1.19(t,3H,J=7.4Hz),1.23-1.90(m,9H),2.42
(s,3H),3.25(brs,1H),3.49-3.92(m,3H),5.12(d,1H,J=7.
4Hz),7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.67(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 3500, 2950, 2860, 1340, 1160, 1
000cm -1
【0044】参考例7 S−メチル−O−(6−エトキシ−2−プロピル−N−
トシルピペリジン−3−イル)ジチオカーボネートの合
成 よく乾燥した100ml二口ナス型フラスコにアルゴン
雰囲気下、70%水素化ナトリウム337mg(9.84
mmol)を入れた。無水のヘキサンを用い、水素化ナ
トリウムを洗浄した。アルゴン置換した後、6ーエトキ
シ−2−プロピル−N−トシルピペリジン−3−オール
560mg(1.64mmol)のTHF溶液40ml、
イミダゾール34mg(0.5mmol)を加えた。油浴
を用いて、1.5時間加熱還流後、0℃に冷却し、二硫化
炭素0.49(8.2mmol)をゆっくりと滴下した。3
0分加熱還流後、0℃に冷却し、ヨウ化メチル0.53m
l(8.5mmol)をゆっくりと滴下した。30分加熱
還流後0℃に冷却し、飽和塩化ナトリウム水溶液をゆっ
くりと加え、反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーター
を用いて濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=4:
1)を用いて精製し、S−メチル−O−(6−エトキシ
−2−プロピル−N−トシルピペリジン−3−イル)ジ
チオカーボネートを得た。 収量 691mg(1.6mmol),収率 98% Rf 0.6(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.95(t,3
H,J=5.8Hz),1.20(t,3H,J=7.1Hz),1.34-2.19(m,8H),2.42
(s,3H),2.54(s,3H),3.54-3.60(m,1H),3.83-3.89(m,1H),
4.38-4.42(m,1H),5.02-5.11(m,1H),5.15(d,1H,J=3.3H
z),7.31(d,2H,J=8.3Hz),7.76(d,2H,J=8.3Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1340, 1200, 1160, 1060, 9
60, 750cm -1
トシルピペリジン−3−イル)ジチオカーボネートの合
成 よく乾燥した100ml二口ナス型フラスコにアルゴン
雰囲気下、70%水素化ナトリウム337mg(9.84
mmol)を入れた。無水のヘキサンを用い、水素化ナ
トリウムを洗浄した。アルゴン置換した後、6ーエトキ
シ−2−プロピル−N−トシルピペリジン−3−オール
560mg(1.64mmol)のTHF溶液40ml、
イミダゾール34mg(0.5mmol)を加えた。油浴
を用いて、1.5時間加熱還流後、0℃に冷却し、二硫化
炭素0.49(8.2mmol)をゆっくりと滴下した。3
0分加熱還流後、0℃に冷却し、ヨウ化メチル0.53m
l(8.5mmol)をゆっくりと滴下した。30分加熱
還流後0℃に冷却し、飽和塩化ナトリウム水溶液をゆっ
くりと加え、反応を停止した。酢酸エチルで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータリーエバポレーター
を用いて濃縮し粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=4:
1)を用いて精製し、S−メチル−O−(6−エトキシ
−2−プロピル−N−トシルピペリジン−3−イル)ジ
チオカーボネートを得た。 収量 691mg(1.6mmol),収率 98% Rf 0.6(ヘキサン:エーテル=1:2)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.95(t,3
H,J=5.8Hz),1.20(t,3H,J=7.1Hz),1.34-2.19(m,8H),2.42
(s,3H),2.54(s,3H),3.54-3.60(m,1H),3.83-3.89(m,1H),
4.38-4.42(m,1H),5.02-5.11(m,1H),5.15(d,1H,J=3.3H
z),7.31(d,2H,J=8.3Hz),7.76(d,2H,J=8.3Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1340, 1200, 1160, 1060, 9
60, 750cm -1
【0045】参考例8 6−エトキシ−2−プロピル−N−トシルピペリジンの
合成 よく乾燥した100mlナス型フラスコに、アルゴン雰
囲気下、トルエン10ml、水素化トリブチルスズ0.7
5ml(2.8mmol)、触媒量のアゾビスイソブチロ
ニトリル、S−メチル−O−(6−エトキシ−2−プロ
ピル−N−トシルピペリジン−3−イル)ジチオカーボ
ネート550mg(1.27mmol)のトルエン溶液2
0mlを入れ、5時間加熱還流した。0℃に冷却し、飽
和塩化ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。酢酸
エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータ
リーエバポレーターを用いて濃縮し粗生成物を得た。リ
ン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=12:1、多
重展開)を用いて精製し、6−エトキシ−2−プロピル
−N−トシルピペリジンを得た。 収量 252.3mg(0.28mmol), 収率 61
% Rf 0.5(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.92(t,3
H,J=7.3Hz),1.20(t,3H,J=7.1Hz),1.24-1.92(m,10H),2.4
2(s,3H),3.47-3.59(m,1H),3.71-3.87(m,2H),5.23(d,2H,
J=2.3Hz),7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.70(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1340, 1160, 920, 750, 660
cm -1
合成 よく乾燥した100mlナス型フラスコに、アルゴン雰
囲気下、トルエン10ml、水素化トリブチルスズ0.7
5ml(2.8mmol)、触媒量のアゾビスイソブチロ
ニトリル、S−メチル−O−(6−エトキシ−2−プロ
ピル−N−トシルピペリジン−3−イル)ジチオカーボ
ネート550mg(1.27mmol)のトルエン溶液2
0mlを入れ、5時間加熱還流した。0℃に冷却し、飽
和塩化ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。酢酸
エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ロータ
リーエバポレーターを用いて濃縮し粗生成物を得た。リ
ン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマトグラ
フィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=12:1、多
重展開)を用いて精製し、6−エトキシ−2−プロピル
−N−トシルピペリジンを得た。 収量 252.3mg(0.28mmol), 収率 61
% Rf 0.5(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.92(t,3
H,J=7.3Hz),1.20(t,3H,J=7.1Hz),1.24-1.92(m,10H),2.4
2(s,3H),3.47-3.59(m,1H),3.71-3.87(m,2H),5.23(d,2H,
J=2.3Hz),7.29(d,2H,J=8.1Hz),7.70(d,2H,J=8.1Hz) IR(CHCl3 ) 2950, 1340, 1160, 920, 750, 660
cm -1
【0046】参考例9 6−アリル−2−プロピル−N−トシルピペリジンの合
成 よく乾燥した100mlナス型フラスコに、アルゴン雰
囲気下、6−エトキシ−2−プロピル−N−トシルピペ
リジン250mg(0.76mmol)の塩化メチレン溶
液20ml、アリルトリメチルシラン183mg(1.6
1mmol)の塩化メチレン溶液15mlを入れ、−7
8℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル錯体229m
g(1.61mmol)の塩化メチレン溶液12.5mlを
ゆっくりと滴下し、−20℃まで徐々に昇温しながら3.
5時間攪拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液で反応停止
後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
ロータリーエバポレーターを用いて濃縮し粗生成物を得
た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=4:
1、5回上げ)を用いて精製し、6−アリル−2−プロ
ピル−N−トシルピペリジンを得た。 収量 211.9mg(6.6mmol)、収率 87% Rf 0.5(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.93(t,3
H,J=7.3Hz),1.10-1.77(m,10H),2.33-2.54(m,2H),2.42
(s,3H),3.93-4.02(m,2H),5.03-5.09(m,2H),5.72-5.85
(m,1H),7.27(d,2H,J=8.1Hz),7.71(d,2H,J=8.1Hz) IR(neat) 2950, 2870, 1640, 1600, 1450, 1330, 1
160, 660cm -1 [α]D 23 −7.5(c 0.16,AcOEt)
成 よく乾燥した100mlナス型フラスコに、アルゴン雰
囲気下、6−エトキシ−2−プロピル−N−トシルピペ
リジン250mg(0.76mmol)の塩化メチレン溶
液20ml、アリルトリメチルシラン183mg(1.6
1mmol)の塩化メチレン溶液15mlを入れ、−7
8℃に冷却した。三フッ化ホウ素エーテル錯体229m
g(1.61mmol)の塩化メチレン溶液12.5mlを
ゆっくりと滴下し、−20℃まで徐々に昇温しながら3.
5時間攪拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液で反応停止
後、エーテルで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
ロータリーエバポレーターを用いて濃縮し粗生成物を得
た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリカゲル薄層クロマ
トグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:エーテル=4:
1、5回上げ)を用いて精製し、6−アリル−2−プロ
ピル−N−トシルピペリジンを得た。 収量 211.9mg(6.6mmol)、収率 87% Rf 0.5(ヘキサン:エーテル=1:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.93(t,3
H,J=7.3Hz),1.10-1.77(m,10H),2.33-2.54(m,2H),2.42
(s,3H),3.93-4.02(m,2H),5.03-5.09(m,2H),5.72-5.85
(m,1H),7.27(d,2H,J=8.1Hz),7.71(d,2H,J=8.1Hz) IR(neat) 2950, 2870, 1640, 1600, 1450, 1330, 1
160, 660cm -1 [α]D 23 −7.5(c 0.16,AcOEt)
【0047】参考例10 6−(2−ヘプテニル)−2−プロピル−N−トシルピ
ペリジンの合成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコに、6−アリ
ル−2−プロピル−N−トシルピペリジン80mg(0.
249mmol)、塩化メチレン5mlを入れ。−78
℃に冷却した。シリカゲル薄層クロマトグラフィーを用
いて反応を追跡しながら、原料のオレフィンが確認でき
なくなるまで、低温のままオゾンガスを吹き込んだ。ジ
メチルスルフィド0.092ml(1.26mmol)を用
いて反応を停止し、室温まで昇温した後、ロータリーエ
バポレーターおよび真空ポンプを用いて溶媒、過剰のジ
メチルスルフィドを留去し、6−ホルミルメチル−2−
プロピル−N−トシルピペリジンの粗生成物を得た(収
量95.7mg)。よく乾燥した30ml二口ナス型フラ
スコに、アルゴン雰囲気下、臭化ペンチルトリフェニル
ホスホニウム359.6mg(0.87mmol)を入れエ
ーテル5mlを加えた。1.31規定フェニルリチウムエ
ーテル溶液0.66ml(0.87mmol)をゆっくりと
滴下し、2時間加熱還流することでペンチルトリフェニ
ルホスホランを調製した。0℃に冷却し、6−ホルミル
メチル−2−プロピル−N−トシルピペリジンの粗生成
物95.7mgのエーテル溶液5mlをゆっくりと滴下し
た。4時間加熱還流した後、0℃に冷却し、蒸留水を用
いて反応を停止し、エーテルで抽出した。無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃
縮し粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:
エーテル=10:1、2回上げ)を用いて精製し、6−
(2−ヘプテニル)−2−プロピル−N−トシルピペリ
ジンを得た。 収量 55.9mg(0.148mmol)、収率 59%
(二工程) Rf 0.3(ヘキサン:エーテル=9:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.86-0.9
6(m,6H),1.05-1.73(m,14H),1.98-2.05(m,2H),2.36-2.49
(m,2H),2.41(s,3H),3.86-3.99(m,2H),5.31-5.48(m,2H),
7.26(d,2H,J=8.3Hz),7.71(d,2H,J=8.3Hz) IR(neat) 2920, 1720, 1450, 1340, 1160, 750, 66
0cm -1 [α]D 23 −20.1(c 0.37,CHCl3 )
ペリジンの合成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコに、6−アリ
ル−2−プロピル−N−トシルピペリジン80mg(0.
249mmol)、塩化メチレン5mlを入れ。−78
℃に冷却した。シリカゲル薄層クロマトグラフィーを用
いて反応を追跡しながら、原料のオレフィンが確認でき
なくなるまで、低温のままオゾンガスを吹き込んだ。ジ
メチルスルフィド0.092ml(1.26mmol)を用
いて反応を停止し、室温まで昇温した後、ロータリーエ
バポレーターおよび真空ポンプを用いて溶媒、過剰のジ
メチルスルフィドを留去し、6−ホルミルメチル−2−
プロピル−N−トシルピペリジンの粗生成物を得た(収
量95.7mg)。よく乾燥した30ml二口ナス型フラ
スコに、アルゴン雰囲気下、臭化ペンチルトリフェニル
ホスホニウム359.6mg(0.87mmol)を入れエ
ーテル5mlを加えた。1.31規定フェニルリチウムエ
ーテル溶液0.66ml(0.87mmol)をゆっくりと
滴下し、2時間加熱還流することでペンチルトリフェニ
ルホスホランを調製した。0℃に冷却し、6−ホルミル
メチル−2−プロピル−N−トシルピペリジンの粗生成
物95.7mgのエーテル溶液5mlをゆっくりと滴下し
た。4時間加熱還流した後、0℃に冷却し、蒸留水を用
いて反応を停止し、エーテルで抽出した。無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、ロータリーエバポレーターを用いて濃
縮し粗生成物を得た。リン酸緩衝溶液で前処理したシリ
カゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、ヘキサン:
エーテル=10:1、2回上げ)を用いて精製し、6−
(2−ヘプテニル)−2−プロピル−N−トシルピペリ
ジンを得た。 収量 55.9mg(0.148mmol)、収率 59%
(二工程) Rf 0.3(ヘキサン:エーテル=9:1)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.86-0.9
6(m,6H),1.05-1.73(m,14H),1.98-2.05(m,2H),2.36-2.49
(m,2H),2.41(s,3H),3.86-3.99(m,2H),5.31-5.48(m,2H),
7.26(d,2H,J=8.3Hz),7.71(d,2H,J=8.3Hz) IR(neat) 2920, 1720, 1450, 1340, 1160, 750, 66
0cm -1 [α]D 23 −20.1(c 0.37,CHCl3 )
【0048】参考例11 6−(2−ヘプテニル)−2−プロピルピペリジンの合
成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコにアルゴン雰
囲気下、6−(2−ヘプテニル)−2−プロピル−N−
トシルピペリジン55.0mg(0.145mmol)、ジ
メトキシエタン6mlを入れ、−55℃に冷却した。ア
ルゴン雰囲気下、ナトリウム40.0mg(1.74mmo
l)、ナフタレン215mg(2.03mmol)とから
調製した(室温2時間攪拌)ナトリウムナフタレニドジ
メトキシエタン溶液9mlを、シリカゲル薄層クロマト
グラフィーにより反応を追跡しながら、原料が確認でき
なくなるまでゆっくりと滴下した。低温のまま15分間
攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液0.9mlを
加え、反応を停止した。炭酸カリウム620mgを加
え、室温で24時間攪拌した。セライトを用いて塩を除
去し、エーテルで洗浄した。ロータリーエバポレーター
を用いて濃縮し粗生成物を得、リン酸緩衝溶液で前処理
したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、メ
タノール:塩化メチレン=1:10)を用いて精製し、
6−(2−ヘプテニル)−2−プロピルピペリジンを得
た。 収量 26.1mg(0.117mmol)、収率 81% Rf 0.4(メタノール:塩化メチレン=1:10)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.67-0.9
8(m,6H),0.99-1.11(m,2H),1.23-1.40(m,9H),1.61-1.75
(m,2H),1.80-1.81(m,2H),1.93-2.17(m,4H),2.41-2.53
(m,2H),5.28-5.39(m,1H),5.44-5.57(m,1H) IR(neat) 2920, 1450, 1370, 1330, 1120, 970cm
-1 [α]D 23 −12.1(c 0.12,CHCl3 )
成 よく乾燥した30ml二口ナス型フラスコにアルゴン雰
囲気下、6−(2−ヘプテニル)−2−プロピル−N−
トシルピペリジン55.0mg(0.145mmol)、ジ
メトキシエタン6mlを入れ、−55℃に冷却した。ア
ルゴン雰囲気下、ナトリウム40.0mg(1.74mmo
l)、ナフタレン215mg(2.03mmol)とから
調製した(室温2時間攪拌)ナトリウムナフタレニドジ
メトキシエタン溶液9mlを、シリカゲル薄層クロマト
グラフィーにより反応を追跡しながら、原料が確認でき
なくなるまでゆっくりと滴下した。低温のまま15分間
攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液0.9mlを
加え、反応を停止した。炭酸カリウム620mgを加
え、室温で24時間攪拌した。セライトを用いて塩を除
去し、エーテルで洗浄した。ロータリーエバポレーター
を用いて濃縮し粗生成物を得、リン酸緩衝溶液で前処理
したシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開溶媒、メ
タノール:塩化メチレン=1:10)を用いて精製し、
6−(2−ヘプテニル)−2−プロピルピペリジンを得
た。 収量 26.1mg(0.117mmol)、収率 81% Rf 0.4(メタノール:塩化メチレン=1:10)1 H−NMR(270MHz,CDCl3 )δ 0.67-0.9
8(m,6H),0.99-1.11(m,2H),1.23-1.40(m,9H),1.61-1.75
(m,2H),1.80-1.81(m,2H),1.93-2.17(m,4H),2.41-2.53
(m,2H),5.28-5.39(m,1H),5.44-5.57(m,1H) IR(neat) 2920, 1450, 1370, 1330, 1120, 970cm
-1 [α]D 23 −12.1(c 0.12,CHCl3 )
【0049】これから先は既に知られた手法によりイン
ドリチジン223ABへと誘導できる。
ドリチジン223ABへと誘導できる。
【0050】
【発明の効果】後の官能基変換に有効に利用できるフラ
ン環を有するN−スルフィニルイミンへの種々のアリル
化試薬の付加反応により、アリル化試薬の金属種および
反応溶媒を適切に選択することによって、対応するホモ
アリルアミンの両ジアステレオマーをそれぞれ高収率お
よび最高98%de以上の選択性で任意合成することが
できた。インドリチジンアルカロイド合成へと応用でき
る。なお、このインドリチジン223ABは熱帯に生息
する矢毒ガエルの毒液成分から単離され、近年ニコチン
受容体チャンネルの拮抗物質として活性があるとして注
目されている、窒素を含む五・六員環構造のアルカロイ
ドの1種である。
ン環を有するN−スルフィニルイミンへの種々のアリル
化試薬の付加反応により、アリル化試薬の金属種および
反応溶媒を適切に選択することによって、対応するホモ
アリルアミンの両ジアステレオマーをそれぞれ高収率お
よび最高98%de以上の選択性で任意合成することが
できた。インドリチジンアルカロイド合成へと応用でき
る。なお、このインドリチジン223ABは熱帯に生息
する矢毒ガエルの毒液成分から単離され、近年ニコチン
受容体チャンネルの拮抗物質として活性があるとして注
目されている、窒素を含む五・六員環構造のアルカロイ
ドの1種である。
Claims (1)
- 【請求項1】式(1) 【化1】 の化合物に、アリルGrignard試薬、または三フ
ッ化ホウ素エーテル錯体もしくは塩化セリウムとアリル
Grignard試薬を反応させることを特徴とする式
(2) 【化2】 の化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26514196A JPH1087646A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | ホモアリルアミンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26514196A JPH1087646A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | ホモアリルアミンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087646A true JPH1087646A (ja) | 1998-04-07 |
Family
ID=17413205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26514196A Withdrawn JPH1087646A (ja) | 1996-09-13 | 1996-09-13 | ホモアリルアミンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1087646A (ja) |
-
1996
- 1996-09-13 JP JP26514196A patent/JPH1087646A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031202 |