JPH1088129A - 安定剤混合物 - Google Patents
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- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
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- C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L23/10—Homopolymers or copolymers of propene
- C08L23/12—Polypropene
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ａ）立体障害アミン化合物、Ｂ）マグネシウ
ム化合物または亜鉛化合物およびＣ）ＵＶ吸収剤および
／または顔料を含有する新規安定剤混合物を提供する。 【解決手段】 Ａ）立体障害性アミン化合物として例え
ば次式 【化１】 で表される少なくとも一つの化合物、 Ｂ）マグネシウム化合物または亜鉛化合物として例えば
マグネシウムステアレート、および Ｃ）ＵＶ吸収剤および／または顔料として次式 【化２】 で表される化合物を含有する新規安定剤混合物の製造方
法。
ム化合物または亜鉛化合物およびＣ）ＵＶ吸収剤および
／または顔料を含有する新規安定剤混合物を提供する。 【解決手段】 Ａ）立体障害性アミン化合物として例え
ば次式 【化１】 で表される少なくとも一つの化合物、 Ｂ）マグネシウム化合物または亜鉛化合物として例えば
マグネシウムステアレート、および Ｃ）ＵＶ吸収剤および／または顔料として次式 【化２】 で表される化合物を含有する新規安定剤混合物の製造方
法。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ａ）ある立体障害
アミン化合物、Ｂ）マグネシウム化合物または亜鉛化合
物およびＣ）ＵＶ吸収剤および／または顔料を含有する
安定剤混合物、光誘発される崩壊に対してポリオレフィ
ンを安定化するための該安定剤混合物の使用およびこう
して安定化されたポリオレフィンに関する。
アミン化合物、Ｂ）マグネシウム化合物または亜鉛化合
物およびＣ）ＵＶ吸収剤および／または顔料を含有する
安定剤混合物、光誘発される崩壊に対してポリオレフィ
ンを安定化するための該安定剤混合物の使用およびこう
して安定化されたポリオレフィンに関する。
【０００２】
【従来の技術】いくつかの安定剤混合物は既に従来の技
術、例えばＵＳ−Ａ−４９２９６５２、ＵＳ−Ａ−５０
３７８７０、ＥＰ−Ａ−２９０３８８、ＥＰ−Ａ−４６
８９２３およびＥＰ−Ａ−６９００９４において記載さ
れている。
術、例えばＵＳ−Ａ−４９２９６５２、ＵＳ−Ａ−５０
３７８７０、ＥＰ−Ａ−２９０３８８、ＥＰ−Ａ−４６
８９２３およびＥＰ−Ａ−６９００９４において記載さ
れている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】数多くの安定剤系が既
に存在するにもかかわらず、ポリオレフィンの光安定性
をさらに改良する必要性がいまだある。
に存在するにもかかわらず、ポリオレフィンの光安定性
をさらに改良する必要性がいまだある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、 Ａ）（Ａ１）次式（Ｉ）
【化２０】 ［式中、基Ｒ1 は、互いに独立して、水素原子、炭素原
子数１ないし８のアルキル基、−Ｏ・ 、−ＣＨ2 ＣＮ、
炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基、フェニル基について炭素
原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原
子数１ないし８のアシル基を表す。］で表される少なく
とも一つの化合物、または
子数１ないし８のアルキル基、−Ｏ・ 、−ＣＨ2 ＣＮ、
炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基、フェニル基について炭素
原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原
子数１ないし８のアシル基を表す。］で表される少なく
とも一つの化合物、または
【０００５】（Ａ２）次式（ＩＩ）
【化２１】 ［式中、基Ｒ2 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ3 は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキレン基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ
（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェ
ニレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４の
アルキレン）基を表す。］で表される少なくとも一つの
化合物、または
られた定義の一つを有し、またＲ3 は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキレン基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ
（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェ
ニレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４の
アルキレン）基を表す。］で表される少なくとも一つの
化合物、または
【０００６】（Ａ３）次式（ＩＩＩ）
【化２２】 ［式中、基Ｒ4 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ5 は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数１ない
し１２のアルコキシ基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
られた定義の一つを有し、またＲ5 は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数１ない
し１２のアルコキシ基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
【０００７】（Ａ４）次式（ＩＶ）
【化２３】 ［式中、基Ｒ6 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、基Ｒ7 は、互いに独立して、
水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
表し、またＲ8 およびＲ9 は、互いに独立して、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表す。］で表される少
なくとも一つの化合物、または
られた定義の一つを有し、基Ｒ7 は、互いに独立して、
水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
表し、またＲ8 およびＲ9 は、互いに独立して、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表す。］で表される少
なくとも一つの化合物、または
【０００８】（Ａ５）次式（Ｖ）
【化２４】 ［式中、基Ｒ10は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ11は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
られた定義の一つを有し、またＲ11は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
【０００９】（Ａ６）次式（ＶＩ）
【化２５】 ［式中、Ｒ12は次式（ＶＩＩ）
【化２６】 （式中、Ｒ13は炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま
たは炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表
し、Ｒ14は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表
し、またＲ15はＲ1 について与えられた意味の一つを有
する。）で表される基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
たは炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表
し、Ｒ14は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表
し、またＲ15はＲ1 について与えられた意味の一つを有
する。）で表される基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または
【００１０】（Ａ７）次式（ＶＩＩＩ）
【化２７】 ［式中、Ｒ16は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を
表し、またＲ17はＲ1 について与えられた定義の一つを
有する。］で表される少なくとも一つの化合物のいずれ
か一つ、および
表し、またＲ17はＲ1 について与えられた定義の一つを
有する。］で表される少なくとも一つの化合物のいずれ
か一つ、および
【００１１】Ｂ）酸化マグネシウム、水酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛または亜鉛もしくはマグネシ
ウムの有機塩、またはハイドロタルサイト、および Ｃ）（Ｃ１）ＵＶ吸収剤または（Ｃ２）顔料または（Ｃ
３）ＵＶ吸収剤および顔料のいずれか一つを含有する安
定剤混合物に関する。
ム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛または亜鉛もしくはマグネシ
ウムの有機塩、またはハイドロタルサイト、および Ｃ）（Ｃ１）ＵＶ吸収剤または（Ｃ２）顔料または（Ｃ
３）ＵＶ吸収剤および顔料のいずれか一つを含有する安
定剤混合物に関する。
【００１２】成分Ｂ）は好ましくは酸化マグネシウム、
水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛または亜鉛
もしくはマグネシウムの有機塩である。成分Ａ）が式
（Ｉ）または（ＩＶ）で表される少なくとも一つの化合
物である場合、成分Ｂ）は好ましくは酸化マグネシウ
ム、水酸化マグネシウムまたは亜鉛もしくはマグネシウ
ムの有機塩、特に亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩で
ある。
水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛または亜鉛
もしくはマグネシウムの有機塩である。成分Ａ）が式
（Ｉ）または（ＩＶ）で表される少なくとも一つの化合
物である場合、成分Ｂ）は好ましくは酸化マグネシウ
ム、水酸化マグネシウムまたは亜鉛もしくはマグネシウ
ムの有機塩、特に亜鉛もしくはマグネシウムの有機塩で
ある。
【００１３】２４個以下の炭素原子を有するアルキル基
の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三
ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソ
ペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチル
ブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テト
ラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチル
ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−
テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，
１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基
およびドコシル基である。
の例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三
ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソ
ペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチル
ブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ
−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テト
ラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチル
ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−
テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデ
シル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，
１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシ
ル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基
およびドコシル基である。
【００１４】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ10、Ｒ15およ
びＲ17の好ましい態様は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、特にメチル基である。Ｒ5 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 お
よびＲ13の好ましい意味の一つは、特に炭素原子数１な
いし４のアルキル基、例えばメチル基である。Ｒ16は好
ましくは炭素原子数１ないし１４のアルキル基、特に炭
素原子数８ないし１４のアルキル基、例えばドデシル基
を表す。
びＲ17の好ましい態様は炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基、特にメチル基である。Ｒ5 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 お
よびＲ13の好ましい意味の一つは、特に炭素原子数１な
いし４のアルキル基、例えばメチル基である。Ｒ16は好
ましくは炭素原子数１ないし１４のアルキル基、特に炭
素原子数８ないし１４のアルキル基、例えばドデシル基
を表す。
【００１５】炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基の
例はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ
基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、
オクトキシ基、デシルオキシ基およびドデシルオキシ基
である。Ｒ5 の好ましい意味の一つは、特に炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、例えばメトキシ基である。
例はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ペントキシ
基、イソペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、
オクトキシ基、デシルオキシ基およびドデシルオキシ基
である。Ｒ5 の好ましい意味の一つは、特に炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、例えばメトキシ基である。
【００１６】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基の例はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基およびシクロドデシル基
である。炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、特
にシクロヘキシル基、が好まれる。
基の例はシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
ヘプチル基、シクロオクチル基およびシクロドデシル基
である。炭素原子数５ないし７のシクロアルキル基、特
にシクロヘキシル基、が好まれる。
【００１７】炭素原子数３ないし６のアルケニル基の例
はアリル基、２−メタアリル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基およびヘキセニル基である。アリル基が好まれる。
１位における炭素原子は好ましくは飽和されている。
はアリル基、２−メタアリル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基およびヘキセニル基である。アリル基が好まれる。
１位における炭素原子は好ましくは飽和されている。
【００１８】未置換またはフェニル基について炭素原子
数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基または第三ブチルベ
ンジル基である。ベンジル基が好まれる。
数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えば、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、メチルベンジル基、ジメチル
ベンジル基、トリメチルベンジル基または第三ブチルベ
ンジル基である。ベンジル基が好まれる。
【００１９】炭素原子数１ないし８のアシル基は好まし
くは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子
数３ないし８のアルケノイル基またはベンゾイル基であ
る。例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノ
イル基、ベンゾイル基、アクリリル基およびクロトニル
基である。アセチル基が好まれる。
くは炭素原子数１ないし８のアルカノイル基、炭素原子
数３ないし８のアルケノイル基またはベンゾイル基であ
る。例はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノ
イル基、ベンゾイル基、アクリリル基およびクロトニル
基である。アセチル基が好まれる。
【００２０】２２個以下の炭素原子を有するアルキレン
基の例はエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、
テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチ
ルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキ
サメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウ
ンデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ヘキサデカ
メチレン基およびオクタデカメチレン基である。炭素原
子数２ないし１０のアルキレン基、特に炭素原子数２な
いし６のアルキレン基、例えばジメチレン基およびヘキ
サメチレン基が好まれる。
基の例はエチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、
テトラメチレン基、ペンタメチレン基、２，２−ジメチ
ルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、トリメチルヘキ
サメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基、ウ
ンデカメチレン基、テトラデカメチレン基、ヘキサデカ
メチレン基およびオクタデカメチレン基である。炭素原
子数２ないし１０のアルキレン基、特に炭素原子数２な
いし６のアルキレン基、例えばジメチレン基およびヘキ
サメチレン基が好まれる。
【００２１】Ｒ3 は好ましくはヘキサメチレン基を表
し、またＲ11およびＲ14は好ましくはジメチレン基を表
す。炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は
シクロヘキシレン基である。炭素原子数１ないし４のア
ルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレ
ン）基の例は次式
し、またＲ11およびＲ14は好ましくはジメチレン基を表
す。炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン基の例は
シクロヘキシレン基である。炭素原子数１ないし４のア
ルキレンジ（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレ
ン）基の例は次式
【化２８】 で表される基である。
【００２２】フェニレンジ（炭素原子数１ないし４のア
ルキレン）基の例はフェニレンジメチレン基である。式
（ＩＩＩ）における基Ｒ5 は好ましくはパラ位において
存在する。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ10、Ｒ15および
Ｒ17は、互いに独立して、好ましくは水素原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基ま
たはアセチル基、特に水素原子またはメチル基を表す。
ルキレン）基の例はフェニレンジメチレン基である。式
（ＩＩＩ）における基Ｒ5 は好ましくはパラ位において
存在する。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ10、Ｒ15および
Ｒ17は、互いに独立して、好ましくは水素原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基ま
たはアセチル基、特に水素原子またはメチル基を表す。
【００２３】成分Ａ）として記載される化合物は基本的
には既知であり（いくつかの場合には商業的に入手する
ことができ）、また例えばＵＳ−Ａ−４７６９４５７、
ＵＳ−Ａ−４９７６８８９、ＧＢ−Ａ−２２６９８１
９、ＥＰ−Ａ−１７２４１３、ＵＳ−Ａ−４１９０５７
１、ＵＳ−Ａ−５０７１９８１およびＵＳ−Ａ−４３５
６３０７において記載される既知の方法によって製造す
ることができる。
には既知であり（いくつかの場合には商業的に入手する
ことができ）、また例えばＵＳ−Ａ−４７６９４５７、
ＵＳ−Ａ−４９７６８８９、ＧＢ−Ａ−２２６９８１
９、ＥＰ−Ａ−１７２４１３、ＵＳ−Ａ−４１９０５７
１、ＵＳ−Ａ−５０７１９８１およびＵＳ−Ａ−４３５
６３０７において記載される既知の方法によって製造す
ることができる。
【００２４】成分Ａ）は好ましくは RＵＶＩＮＵＬ ４
０４９、 RＵＶＩＮＵＬ ４０５０Ｈ、 RＳＡＮＤＵＶ
ＯＲ ＰＲ−３１、 RＳＵＭＩＳＯＲＢ ＴＭ ６１、
RＧＯＯＤＲＩＴＥ ＵＶ ３０３４、 RＧＯＯＤＲＩ
ＴＥ ＵＶ ３１５０、 RＧＯＯＤＲＩＴＥ ＵＶ ３
１５９、 RＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３５８１またはRＳ
ＡＮＤＵＶＯＲ ３０５６である。本発明の好ましい態
様は成分Ａ）が式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）、（Ｖ
Ｉ）または（ＶＩＩＩ）で表される少なくとも一つの化
合物である安定剤混合物に関する。
０４９、 RＵＶＩＮＵＬ ４０５０Ｈ、 RＳＡＮＤＵＶ
ＯＲ ＰＲ−３１、 RＳＵＭＩＳＯＲＢ ＴＭ ６１、
RＧＯＯＤＲＩＴＥ ＵＶ ３０３４、 RＧＯＯＤＲＩ
ＴＥ ＵＶ ３１５０、 RＧＯＯＤＲＩＴＥ ＵＶ ３
１５９、 RＣＹＡＳＯＲＢ ＵＶ ３５８１またはRＳ
ＡＮＤＵＶＯＲ ３０５６である。本発明の好ましい態
様は成分Ａ）が式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（Ｖ）、（Ｖ
Ｉ）または（ＶＩＩＩ）で表される少なくとも一つの化
合物である安定剤混合物に関する。
【００２５】好ましい安定剤混合物は式中、Ｒ3 は炭素
原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン
基、（炭素原子数１ないし４のアルキレン）ジシクロヘ
キシレン基、フェニレン基またはフェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基を表し、Ｒ5 は水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基を表し、基Ｒ7 は、互いに
独立して、水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表し、Ｒ8 およびＲ9 は、互いに独立して、炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ11は炭素原
子数２ないし１０のアルキレン基を表し、Ｒ13は炭素原
子数１ないし４のアルキル基またはシクロヘキシル基を
表し、Ｒ14は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を
表し、またＲ16は炭素原子数１ないし１４のアルキル基
を表すものである。
原子数２ないし１０のアルキレン基、シクロヘキシレン
基、（炭素原子数１ないし４のアルキレン）ジシクロヘ
キシレン基、フェニレン基またはフェニレンジ（炭素原
子数１ないし４のアルキレン）基を表し、Ｒ5 は水素原
子、炭素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基を表し、基Ｒ7 は、互いに
独立して、水素原子または炭素原子数１ないし４のアル
キル基を表し、Ｒ8 およびＲ9 は、互いに独立して、炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ11は炭素原
子数２ないし１０のアルキレン基を表し、Ｒ13は炭素原
子数１ないし４のアルキル基またはシクロヘキシル基を
表し、Ｒ14は炭素原子数２ないし１０のアルキレン基を
表し、またＲ16は炭素原子数１ないし１４のアルキル基
を表すものである。
【００２６】特に好ましい安定剤混合物は成分Ａ）が次
式
式
【化２９】
【化３０】
【化３１】
【化３２】
【化３３】
【化３４】
【化３５】
【化３６】 または
【化３７】 で表されるものである。
【００２７】成分Ｂ）において定義される亜鉛またはマ
グネシウムの有機塩は好ましくは式ＭｅＬ2 で表される
化合物であり、ここでＭｅは亜鉛またはマグネシウムを
表し、またＬは有機酸のまたはエノールのアニオンを表
す。有機酸は、例えば、スルホン酸、スルフィン酸、ホ
スホン酸またはホスフィン酸であることができるが、し
かし好ましくはカルボン酸である。酸は脂肪族、芳香
族、アラリファティック（ａｒａｌｉｐｈａｔｉｃ）ま
たはシクロ脂肪族のものであることができ、直鎖または
枝分れであることができ、ヒドロキシル−またはアルコ
キシ基によって置換されることができ、飽和または不飽
和であることができおよび好ましくは１ないし２４個の
炭素原子を含有する。
グネシウムの有機塩は好ましくは式ＭｅＬ2 で表される
化合物であり、ここでＭｅは亜鉛またはマグネシウムを
表し、またＬは有機酸のまたはエノールのアニオンを表
す。有機酸は、例えば、スルホン酸、スルフィン酸、ホ
スホン酸またはホスフィン酸であることができるが、し
かし好ましくはカルボン酸である。酸は脂肪族、芳香
族、アラリファティック（ａｒａｌｉｐｈａｔｉｃ）ま
たはシクロ脂肪族のものであることができ、直鎖または
枝分れであることができ、ヒドロキシル−またはアルコ
キシ基によって置換されることができ、飽和または不飽
和であることができおよび好ましくは１ないし２４個の
炭素原子を含有する。
【００２８】この型のカルボン酸の例はギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリオン酸、２−エチ
ルカプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、
乳酸、リシノール酸、２−エトキシプロピオン酸、安息
香酸、サリチル酸、４−ブチル安息香酸、トルイル酸、
４−ドデシル安息香酸、フェニル酢酸、ナフチル酢酸、
シクロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘキサン
カルボン酸またはシクロヘキシル酢酸である。カルボン
酸は、例えば脂肪酸の工業混合物またはアルキル化され
た安息香酸の混合物のようなカルボン酸の工業混合物で
あることもまたできる。
ロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、カプリオン酸、２−エチ
ルカプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、
乳酸、リシノール酸、２−エトキシプロピオン酸、安息
香酸、サリチル酸、４−ブチル安息香酸、トルイル酸、
４−ドデシル安息香酸、フェニル酢酸、ナフチル酢酸、
シクロヘキサンカルボン酸、４−ブチルシクロヘキサン
カルボン酸またはシクロヘキシル酢酸である。カルボン
酸は、例えば脂肪酸の工業混合物またはアルキル化され
た安息香酸の混合物のようなカルボン酸の工業混合物で
あることもまたできる。
【００２９】イオウ原子またはリン原子を含有する有機
酸の例はメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、α，α
−ジメチルエタンスルホン酸、ｎ−ブタンスルホン酸、
ｎ−ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、４−ノニルベンゼンスルホン酸、４−ド
デシルベンゼンスルホン酸またはシクロヘキサンスルホ
ン酸、ドデカンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸ま
たはナフタレンスルフィン酸、ブチルホスホン酸、フェ
ニルホスホン酸、モノメチルもしくはモノエチルフェニ
ルホスホネート、モノブチルベンジルホスホネート、ジ
ブチルホスフィン酸またはジフェニルホスフィン酸であ
る。
酸の例はメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、α，α
−ジメチルエタンスルホン酸、ｎ−ブタンスルホン酸、
ｎ−ドデカンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエ
ンスルホン酸、４−ノニルベンゼンスルホン酸、４−ド
デシルベンゼンスルホン酸またはシクロヘキサンスルホ
ン酸、ドデカンスルフィン酸、ベンゼンスルフィン酸ま
たはナフタレンスルフィン酸、ブチルホスホン酸、フェ
ニルホスホン酸、モノメチルもしくはモノエチルフェニ
ルホスホネート、モノブチルベンジルホスホネート、ジ
ブチルホスフィン酸またはジフェニルホスフィン酸であ
る。
【００３０】Ｌがエノレートアニオンを表すとき、好ま
しくはβ−ジカルボニル化合物またはｏ−アシルフェノ
ールのアニオンを表す。β−ジカルボニル化合物の例は
アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイル
メタン、エチルアセトアセテート、ブチルアセトアセテ
ート、ラウリルアセトアセテートまたはα−アセチルシ
クロヘキサノンである。ｏ−アシルフェノールの例は２
−アセチルフェノール、２−ブチロイルフェノール、２
−アセチル−１−ナフトール、２−ベンゾイルフェノー
ルまたはサリチルアルデヒドである。エノレートは好ま
しくは５ないし２０個の炭素原子を有するβ−ジカルボ
ニル化合物のアニオンである。
しくはβ−ジカルボニル化合物またはｏ−アシルフェノ
ールのアニオンを表す。β−ジカルボニル化合物の例は
アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイル
メタン、エチルアセトアセテート、ブチルアセトアセテ
ート、ラウリルアセトアセテートまたはα−アセチルシ
クロヘキサノンである。ｏ−アシルフェノールの例は２
−アセチルフェノール、２−ブチロイルフェノール、２
−アセチル−１−ナフトール、２−ベンゾイルフェノー
ルまたはサリチルアルデヒドである。エノレートは好ま
しくは５ないし２０個の炭素原子を有するβ−ジカルボ
ニル化合物のアニオンである。
【００３１】成分Ｂ）の好ましい例はマグネシウムアセ
テート、ラウレート並びにステアレート、亜鉛ホルメー
ト、アセテート、オエナンテート、ラウレート並びにス
テアレートおよび亜鉛アセチルアセトネートおよびマグ
ネシウムアセチルアセトネートである。
テート、ラウレート並びにステアレート、亜鉛ホルメー
ト、アセテート、オエナンテート、ラウレート並びにス
テアレートおよび亜鉛アセチルアセトネートおよびマグ
ネシウムアセチルアセトネートである。
【００３２】本発明の好ましい態様において亜鉛または
マグネシウムの有機塩としての成分Ｂ）は好ましくはア
セチルアセトネートまたは、例えば、１ないし２４個の
炭素原子を有する脂肪族モノカルボキシレートである。
好ましいヒドロタルサイトはＭｇ4,5 Ａｌ2 （ＯＨ）13
・ＣＯ3 ・３．５Ｈ2Ｏ（ RＤＨＴ−４Ａ、 RＫｙｏｗ
ａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓＣｏ．
Ｌｔｄ．）である。
マグネシウムの有機塩としての成分Ｂ）は好ましくはア
セチルアセトネートまたは、例えば、１ないし２４個の
炭素原子を有する脂肪族モノカルボキシレートである。
好ましいヒドロタルサイトはＭｇ4,5 Ａｌ2 （ＯＨ）13
・ＣＯ3 ・３．５Ｈ2Ｏ（ RＤＨＴ−４Ａ、 RＫｙｏｗ
ａ Ｃｈｅｍｉｃａｌ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓＣｏ．
Ｌｔｄ．）である。
【００３３】成分Ｃ）におけるＵＶ吸収剤は好ましくは
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−ヒドロキシベンゾフェノン、置換されたもしく
は未置換の安息香酸のエステル、アクリレート、オキサ
ミド、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−
トリアジン、レゾルシノールのモノベンゾエートまたは
ホルムアミジンである。
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−ヒドロキシベンゾフェノン、置換されたもしく
は未置換の安息香酸のエステル、アクリレート、オキサ
ミド、２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−
トリアジン、レゾルシノールのモノベンゾエートまたは
ホルムアミジンである。
【００３４】２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾ
トリアゾールは例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチ
ル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オ
クチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ールの混合物、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−
２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカル
ボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−
２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシ
カルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，
２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェ
ノール］または２−［３’−第三ブチル−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニ
ル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコ
ール３００とのエステル交換生成物、 式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 ］2 −
［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−
５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を
表す。］で表されるものである。
トリアゾールは例えば２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−
ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブ
チル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，
５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−
５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５
−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチ
ル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オ
クチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ
ニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボ
ニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ールの混合物、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−
２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）
−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカル
ボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾト
リアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−
２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル
−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシ
カルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，
２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）−６−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェ
ノール］または２−［３’−第三ブチル−５’−（２−
メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニ
ル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールのポリエチレングリコ
ール３００とのエステル交換生成物、 式［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 ］2 −
［式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−
５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を
表す。］で表されるものである。
【００３５】２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’
−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ールおよび２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールが好まれる。
−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾ
ールおよび２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールが好まれる。
【００３６】２−ヒドロキシベンゾフェノンは例えば４
−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４
−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオ
キシ、４，２’，４’−トリヒドロキシまたは２’−ヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体である。２−ヒ
ドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンが好まれ
る。
−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４
−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオ
キシ、４，２’，４’−トリヒドロキシまたは２’−ヒ
ドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体である。２−ヒ
ドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノンが好まれ
る。
【００３７】置換されたまたは未置換の安息香酸のエス
テルは例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フ
ェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベ
ンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエートまたは２−メチル−４，６−ジ−第
三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエートである。２，４−ジ−第三ブチルフ
ェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエートおよびヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエートが好まれる。
テルは例えば４−第三ブチルフェニルサリチレート、フ
ェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベ
ンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノー
ル、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエートまたは２−メチル−４，６−ジ−第
三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンゾエートである。２，４−ジ−第三ブチルフ
ェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ゾエートおよびヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンゾエートが好まれる。
【００３８】アクリレートは例えば、エチル−α−シア
ノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル
−α−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シア
ノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル−
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメー
トまたはＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニ
ル）−２−メチルインドリンである。
ノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル
−α−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シア
ノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル−
α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、
メチル−α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメー
トまたはＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニ
ル）−２−メチルインドリンである。
【００３９】オキサミドは例えば、４，４’−ジオクチ
ルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニ
リド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第
三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，
５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−
エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルア
ミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブ
チル−２’−エトキサニリドまたはその２−エトキシ−
２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの
混合物またはｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物またはｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物である。
ルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニ
リド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第
三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，
５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−
エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルア
ミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブ
チル−２’−エトキサニリドまたはその２−エトキシ−
２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの
混合物またはｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物またはｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オ
キサニリドの混合物である。
【００４０】２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリアジンは例えば、２，４，６−トリス（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−
ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）
−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロ
キシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキ
シ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェ
ニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，
５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ
−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）
フェニル］−１，３，５−トリアジンまたは２−（２−
ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）
−６−フェニル−１，３，５−トリアジンである。
３，５−トリアジンは例えば、２，４，６−トリス（２
−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オク
チルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４
−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−
ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）
−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ
フェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロ
キシ−３−ブチルオキシ−プロポキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ
−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−
４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリ
アジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキ
シ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェ
ニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−
（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシ−プロポキシ）
フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル
−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４
−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，
５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ
−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシ−プロポキシ）
フェニル］−１，３，５−トリアジンまたは２−（２−
ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）
−６−フェニル−１，３，５−トリアジンである。
【００４１】２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキ
シフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジンおよび２−（２−ヒドロ
キシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェ
ニル−１，３，５−トリアジンが好まれる。レゾルシノ
ールのモノベンゾエートは例えば次式
シフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジンおよび２−（２−ヒドロ
キシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェ
ニル−１，３，５−トリアジンが好まれる。レゾルシノ
ールのモノベンゾエートは例えば次式
【化３８】 で表される化合物である。ホルムアミジンは例えば次式
【化３９】 で表される化合物である。
【００４２】成分Ｃ）におけるＵＶ吸収剤は特に２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−ヒドロキシベンゾフェノンまたは２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジンである。成分
Ｃ）は好ましくはＵＶ吸収剤である。成分Ｃ）における
顔料は無機または有機顔料であってよい。
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−ヒドロキシベンゾフェノンまたは２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジンである。成分
Ｃ）は好ましくはＵＶ吸収剤である。成分Ｃ）における
顔料は無機または有機顔料であってよい。
【００４３】無機顔料の例は二酸化チタン、酸化亜鉛、
カーボンブラック、カドミウムスルフィド、カドミウム
セレニド、酸化クロム、酸化鉄、酸化鉛等である。有機
顔料の例はアゾ顔料、アントラアキノン、フタロシアニ
ン、テトラクロロイソインドリノン、キナクリドン、イ
ソインドリン、ペリレン、ピロロピロール（顔料赤２５
４のような）等である。
カーボンブラック、カドミウムスルフィド、カドミウム
セレニド、酸化クロム、酸化鉄、酸化鉛等である。有機
顔料の例はアゾ顔料、アントラアキノン、フタロシアニ
ン、テトラクロロイソインドリノン、キナクリドン、イ
ソインドリン、ペリレン、ピロロピロール（顔料赤２５
４のような）等である。
【００４４】成分Ｃ）における顔料として、”Ｇａｃｈ
ｔｅｒ／Ｍｕｌｌｅｒ：Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉ
ｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，
Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ
Ｖｉｅｎｎａ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ”、頁６４７ないし６
５９、項目１１．２．１．１ないし１１．２．４．２に
おいて記載される全ての顔料が使用できる。好ましい顔
料は二酸化チタンである。
ｔｅｒ／Ｍｕｌｌｅｒ：Ｐｌａｓｔｉｃ Ａｄｄｉｔｉ
ｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ，３ｒｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ，
Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｍｕｎｉｃｈ
Ｖｉｅｎｎａ Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ”、頁６４７ないし６
５９、項目１１．２．１．１ないし１１．２．４．２に
おいて記載される全ての顔料が使用できる。好ましい顔
料は二酸化チタンである。
【００４５】さらなる本発明の好ましい態様は Ａ）式（Ｉ−Ａ）、（ＩＩ−Ａ）、（ＩＩＩ−Ａ）、
（ＩＶ−Ａ）、（Ｖ−Ａ）、（ＶＩ−Ａ）、（ＶＩ−
Ｂ）、（ＶＩＩＩ−Ａ）または（ＶＩＩＩ−Ｂ）で表さ
れる化合物 Ｂ）マグネシウムステアレートまたは亜鉛ステアレート
および Ｃ）次式
（ＩＶ−Ａ）、（Ｖ−Ａ）、（ＶＩ−Ａ）、（ＶＩ−
Ｂ）、（ＶＩＩＩ−Ａ）または（ＶＩＩＩ−Ｂ）で表さ
れる化合物 Ｂ）マグネシウムステアレートまたは亜鉛ステアレート
および Ｃ）次式
【化４０】
【化４１】 で表される化合物またはＴｉＯ2を含有する安定剤混合
物である。
物である。
【００４６】本発明に従う安定剤混合物はポリオレフィ
ンを安定化するために有用である。適したポリオレフィ
ンの例を以下に示す。
ンを安定化するために有用である。適したポリオレフィ
ンの例を以下に示す。
【００４７】１．モノオレフィンおよびジオレフィンの
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エ
ン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシク
ロオレフィン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネ
ンのポリマー、ポリエチレン（所望に架橋できる。）、
例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および
高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度お
よび超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、
中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）、分岐した低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エ
ン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシク
ロオレフィン、例えばシクロペンテンまたはノルボルネ
ンのポリマー、ポリエチレン（所望に架橋できる。）、
例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度および
高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度お
よび超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、
中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰ
Ｅ）、分岐した低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。
【００４８】前段落において例示されたモノオレフィン
のポリマーであるポリオレフィン、好ましくはポリエチ
レンおよびポリプロピレンは、異なった、および特に以
下の方法によって製造することができる。
のポリマーであるポリオレフィン、好ましくはポリエチ
レンおよびポリプロピレンは、異なった、および特に以
下の方法によって製造することができる。
【００４９】ａ）ラジカル重合（通常、高圧および高温
下）。 ｂ）触媒重合であって、通常、１種またはそれ以上の周
期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ群の金属原
子を含有する触媒を使用するもの。これらの金属原子は
通常、１個またはそれ以上の、代表的にはπ−またはσ
−配位できる酸化物、ハライド、アルコレート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／
またはアリールのようなリガンドを有する。これらの金
属錯体は自由状態または代表的には活性化された塩化マ
グネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸
化ケイ素のような基材上に固定されることができる。こ
れらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよ
い。触媒は重合においてそれ自身で使用することがで
き、または代表的には金属アルキル、金属ハライド、金
属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属ア
ルキルオキサンのようなさらなる活性化剤を使用するこ
とができ、前記金属原子は周期表のＩａ、ＩＩａおよび
／またはＩＩＩａ群の元素である。活性化剤を都合よく
さらなるエステル、エーテル、アミンまたはシリルエー
テル基を用いて変性してもよい。これらの触媒系は通
常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ
（Ｓｔａｎｄｅｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）、チグ
ラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセ
ンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ（ｓｉｎｇｌｅ
ｓｉｔｅｃａｔａｌｙｓｔ））と命名されている。
下）。 ｂ）触媒重合であって、通常、１種またはそれ以上の周
期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ群の金属原
子を含有する触媒を使用するもの。これらの金属原子は
通常、１個またはそれ以上の、代表的にはπ−またはσ
−配位できる酸化物、ハライド、アルコレート、エステ
ル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／
またはアリールのようなリガンドを有する。これらの金
属錯体は自由状態または代表的には活性化された塩化マ
グネシウム、塩化チタン（ＩＩＩ）、アルミナまたは酸
化ケイ素のような基材上に固定されることができる。こ
れらの触媒は重合媒体中に可溶または不溶であってよ
い。触媒は重合においてそれ自身で使用することがで
き、または代表的には金属アルキル、金属ハライド、金
属アルキルハライド、金属アルキル酸化物または金属ア
ルキルオキサンのようなさらなる活性化剤を使用するこ
とができ、前記金属原子は周期表のＩａ、ＩＩａおよび
／またはＩＩＩａ群の元素である。活性化剤を都合よく
さらなるエステル、エーテル、アミンまたはシリルエー
テル基を用いて変性してもよい。これらの触媒系は通
常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ
（Ｓｔａｎｄｅｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ）、チグ
ラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセ
ンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ（ｓｉｎｇｌｅ
ｓｉｔｅｃａｔａｌｙｓｔ））と命名されている。
【００５０】２．１）以下で述べたポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンのポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰ
Ｅ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる型のポリエチレンの
混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
例えばポリプロピレンのポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレン（例えばＰＰ／ＨＤＰ
Ｅ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる型のポリエチレンの
混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００５１】３．モノオレフィンおよびジオレフィンの
相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば
エチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチ
レン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらの低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エン
コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ
チレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセ
ンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、
エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコ
ポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマ
ーおよびそれらの一酸化炭素またはエチレン／アクリル
酸コポリマーとのコポリマーおよびそれらの塩（イオノ
マー）並びにエチレンのプロピレンおよびヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンのようなジエンとのターポリマー、および前記コポ
リマー相互および１）において上述されたポリマーとの
混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン
コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテートコ
ポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸
コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰ
Ｅ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／
一酸化炭素コポリマーおよびそれらの例えばポリアミド
のような他のポリマーとの混合物。
相互または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば
エチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチ
レン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらの低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エン
コポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エ
チレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセ
ンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、
エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコ
ポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブ
チレン／イソプレンコポリマー、エチレン／アルキルア
クリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレ
ートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマ
ーおよびそれらの一酸化炭素またはエチレン／アクリル
酸コポリマーとのコポリマーおよびそれらの塩（イオノ
マー）並びにエチレンのプロピレンおよびヘキサジエ
ン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボル
ネンのようなジエンとのターポリマー、および前記コポ
リマー相互および１）において上述されたポリマーとの
混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン
コポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテートコ
ポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸
コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰ
Ｅ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／
一酸化炭素コポリマーおよびそれらの例えばポリアミド
のような他のポリマーとの混合物。
【００５２】本発明は従ってさらにポリオレフィンおよ
び新規安定剤混合物を含有する組成物に関する。項目１
以下で列挙されたポリオレフィンが好まれる。ポリエチ
レンおよびポリプロピレン並びにポリエチレンまたはポ
リプロピレンのコポリマーが特に好まれる。
び新規安定剤混合物を含有する組成物に関する。項目１
以下で列挙されたポリオレフィンが好まれる。ポリエチ
レンおよびポリプロピレン並びにポリエチレンまたはポ
リプロピレンのコポリマーが特に好まれる。
【００５３】新規安定剤混合物の成分は個々にまたは互
いに混合されて安定化される材料に添加することができ
る。成分Ａ）は好ましくは０．０１ないし５％、特に
０．０５ないし１％の量で存在し、成分Ｂ）は好ましく
は０．００５ないし１％、特に０．０２５ないし０．２
％の量で存在し、成分（Ｃ１）は好ましくは０．０１な
いし１％の量で存在し、成分（Ｃ２）は好ましくは０．
０１ないし１０％の量で存在しまた成分（Ｃ３）は好ま
しくは０．０１ないし１０％の量で存在する。”％”は
安定化される材料に関しての重量％を表す。
いに混合されて安定化される材料に添加することができ
る。成分Ａ）は好ましくは０．０１ないし５％、特に
０．０５ないし１％の量で存在し、成分Ｂ）は好ましく
は０．００５ないし１％、特に０．０２５ないし０．２
％の量で存在し、成分（Ｃ１）は好ましくは０．０１な
いし１％の量で存在し、成分（Ｃ２）は好ましくは０．
０１ないし１０％の量で存在しまた成分（Ｃ３）は好ま
しくは０．０１ないし１０％の量で存在する。”％”は
安定化される材料に関しての重量％を表す。
【００５４】成分（Ｃ３）におけるＵＶ吸収剤の顔料へ
の比は好ましくは２：１ないし１：１０である。成分
Ａ）：Ｂ）の比は好ましくは３０：１ないし１：３０、
例えば２０：１ないし１：２０または２０：１ないし
１：１０である。成分Ａ）：（Ｃ１）の比は好ましくは
１：２０ないし３０：１、例えば１：１０ないし２０：
１または１：５ないし２０：１である。成分Ａ）：（Ｃ
２）の比は好ましくは１：３０ないし３０：１、例えば
１：２０ないし２０：１または１：１０ないし１０：１
である。成分Ａ）：（Ｃ３）の比は好ましくは１：３０
ないし３０：１、例えば１：２０ないし２０：１または
１：１０ないし１０：１である。
の比は好ましくは２：１ないし１：１０である。成分
Ａ）：Ｂ）の比は好ましくは３０：１ないし１：３０、
例えば２０：１ないし１：２０または２０：１ないし
１：１０である。成分Ａ）：（Ｃ１）の比は好ましくは
１：２０ないし３０：１、例えば１：１０ないし２０：
１または１：５ないし２０：１である。成分Ａ）：（Ｃ
２）の比は好ましくは１：３０ないし３０：１、例えば
１：２０ないし２０：１または１：１０ないし１０：１
である。成分Ａ）：（Ｃ３）の比は好ましくは１：３０
ないし３０：１、例えば１：２０ないし２０：１または
１：１０ないし１０：１である。
【００５５】新規安定剤混合物またはその個々の成分は
ポリオレフィン中に既知の方法によって、例えば成形の
前もしくは間にまたは溶解されたもしくは分散された化
合物をポリオレフィンに適用し、必要により続いて溶媒
を蒸発させることにより混入することができる。新規安
定剤混合物の個々の成分は安定化される材料に粉末、顆
粒またはマスターバッチの形態で、これらの成分を、例
えば、２．５ないし２５重量％の濃度で含有するように
添加することができる。
ポリオレフィン中に既知の方法によって、例えば成形の
前もしくは間にまたは溶解されたもしくは分散された化
合物をポリオレフィンに適用し、必要により続いて溶媒
を蒸発させることにより混入することができる。新規安
定剤混合物の個々の成分は安定化される材料に粉末、顆
粒またはマスターバッチの形態で、これらの成分を、例
えば、２．５ないし２５重量％の濃度で含有するように
添加することができる。
【００５６】所望により、新規安定剤混合物の成分はポ
リオレフィンにおける混入の前に互いに融解ブレンドす
ることができる。新規安定剤混合物またはその成分は重
合の前もしくは間にまたは架橋の前に添加することがで
きる。
リオレフィンにおける混入の前に互いに融解ブレンドす
ることができる。新規安定剤混合物またはその成分は重
合の前もしくは間にまたは架橋の前に添加することがで
きる。
【００５７】この方法において安定化される材料は広範
囲な種類の形態で使用することができ、例えばフィル
ム、繊維、テープ、成形組成物、異形材としてまたはペ
イント、接着剤もしくはパテのバインダとして使用する
ことができる。本発明の安定化されるポリオレフィンは
さらに様々な慣用の添加剤をもまた含有することがで
き、その例は以下のようなものである。
囲な種類の形態で使用することができ、例えばフィル
ム、繊維、テープ、成形組成物、異形材としてまたはペ
イント、接着剤もしくはパテのバインダとして使用する
ことができる。本発明の安定化されるポリオレフィンは
さらに様々な慣用の添加剤をもまた含有することがで
き、その例は以下のようなものである。
【００５８】１．酸化防止剤 １．１．アルキル化されたモノフェノール、例えば、
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ
−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシク
ロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチル
シクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，
６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三
ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖ま
たは分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−
ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６
−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−
１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。
２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ
−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシク
ロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチル
シクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，
６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三
ブチル−４−メトキシメチルフェノール、側鎖が直鎖ま
たは分岐したノニルフェノール、例えば、２，６−ジ−
ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６
−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−
１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。
【００５９】１．２．アルキルチオメチルフェノール、
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メ
チルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−
エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−
４−ノニルフェノール。
例えば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチ
ルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メ
チルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−
エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−
４−ノニルフェノール。
【００６０】１．３．ヒドロキノンおよびアルキル化さ
れたヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，
６−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アジペート。
れたヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−第三ブチル−
４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチルヒド
ロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，
６−ジ−フェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、
ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）アジペート。
【００６１】１．４．トコフェロール、例えば、α−ト
コフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。 １．５．ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテ
ル、例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オク
チルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチ
ル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６
−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チ
オビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，
４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）ジスルフィド。
コフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロー
ル、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。 １．５．ヒドロキシル化されたチオジフェニルエーテ
ル、例えば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オク
チルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチ
ル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６
−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チ
オビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，
４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）ジスルフィド。
【００６２】１．６．アルキリデンビスフェノール、例
えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシル
メルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−
ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）
ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス
［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニ
ル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル
−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブ
チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタ
ン。
えば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−
メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第
三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレ
ンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシ
ル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチ
レンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブ
チルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニル
フェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−
メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６
−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシ
ベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリ
ス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェ
ニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシル
メルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−
ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）
ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチル−フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス
［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニ
ル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル
−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカ
プトブタン、１，１，５，５−テトラキス（５−第三ブ
チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタ
ン。
【００６３】１．７．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化
合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチ
ル−４，４’−ジヒドロキシ−ジベンジルエーテル、オ
クタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジ
ルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。
合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチ
ル−４，４’−ジヒドロキシ−ジベンジルエーテル、オ
クタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジ
ルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ
−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテー
ト、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
ト。
【００６４】１．８．ヒドロキシベンジル化されたマロ
ネート、例えば、ジ−オクタデシル−２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）
マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、
ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
ネート、例えば、ジ−オクタデシル−２，２−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）
マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、
ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチ
ル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００６５】１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメ
チルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラ
メチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００６６】１．１０．トリアジン化合物、例えば２，
４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−
トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート。
４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−
トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）
−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６
−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−ト
リス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三
ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）
イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，
３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ
−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）
ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−
トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレート。
【００６７】１．１１．ベンジルホスホネート、例え
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
ば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオク
タデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホス
ホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００６８】１．１２．アシルアミノフェノール、例え
ば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステ
アラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
ば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステ
アラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００６９】１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタ
ノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカ
ノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサ
ンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシ
メチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシク
ロ［２．２．２］オクタン。
【００７０】１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の
一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チア
ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒ
ドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキ
サビシクロ［２．２．２］オクタン。
ドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の
一価または多価アルコールとのエステル、アルコール
例、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−
オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジ
オール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコー
ル、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，
Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チア
ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒ
ドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキ
サビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７１】１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコール例、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタ
ン。
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、アルコール例、
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノ
ール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオ
ール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イ
ソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）
オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−
２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタ
ン。
【００７２】１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル、アルコール例、メタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリ
コール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−
チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４
−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリ
オキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【００７３】１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例
えばＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。 １．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例
えばＮ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。 １．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【００７４】１．１９．アミン酸化防止剤、例えば、
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化されたジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−
第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノ
フェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナ
ノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェ
ノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス
（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’
−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス
［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビ
ス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグア
ニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェ
ニル］アミン、第三オクチル化されたＮ−フェニル−１
−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化された第
三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モ
ノ−およびジアルキル化されたノニルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化されたドデシルジ
フェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化さ
れたイソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混
合物、モノ−およびジアルキル化された第三ブチルジフ
ェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジ
メチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、モノ−およびジアルキル化された第三ブチル／第三
オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアル
キル化された第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ
−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
フェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−
イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６
−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オル。
Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ
−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−
３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジ
アミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレ
ンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１
−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン
ジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−
フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイ
ル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’
−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフ
チルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク
チル化されたジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−
第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノ
フェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナ
ノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェ
ノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス
（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブ
チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’
−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−
４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス
［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビ
ス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグア
ニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェ
ニル］アミン、第三オクチル化されたＮ−フェニル−１
−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化された第
三ブチル／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モ
ノ−およびジアルキル化されたノニルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化されたドデシルジ
フェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化さ
れたイソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混
合物、モノ−およびジアルキル化された第三ブチルジフ
ェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジ
メチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジ
ン、モノ−およびジアルキル化された第三ブチル／第三
オクチルフェノチアジンの混合物、モノ−およびジアル
キル化された第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ
−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラ
フェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン、Ｎ，Ｎ−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジ−４−
イル）ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６
−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オン、２，
２，６，６−テトラメチルピペリジノ−４−オル。
【００７５】２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１．ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオビス
［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノ
ール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体
であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン
のようなさらなる配位子を伴うもの、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第
三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、
例えばメチル−またはエチルエステルのニッケル塩、例
えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケ
トキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−フェ
ニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニ
ッケル錯体であって、所望によりさらなる配位子を伴う
もの。
［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノ
ール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体
であって、所望によりｎ−ブチルアミン、トリエタノー
ルアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン
のようなさらなる配位子を伴うもの、ニッケルジブチル
ジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第
三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、
例えばメチル−またはエチルエステルのニッケル塩、例
えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケ
トキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、１−フェ
ニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニ
ッケル錯体であって、所望によりさらなる配位子を伴う
もの。
【００７６】２．２．立体障害アミン、例えば、ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよ
びコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ
タン−テトラカルボキシレート、４−ベンゾイル−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビ
ス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−
７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ
−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モル
ホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチ
ルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ
ノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル
−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリア
ザ−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ド
デシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル
−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシ
ルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，
６，−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合
生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリ
アジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ．
Ｎｏ． ［１３６５０４−９６−６］）、Ｎ−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ド
デシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシン
イミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ
［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２
−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４
−オキソ−スピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒ
ドリンの反応生成物。
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セ
バケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ブチル
−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよ
びコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレ
ンジアミンおよび４−第三オクチルアミノ−２，６−ジ
クロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、トリス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブ
タン−テトラカルボキシレート、４−ベンゾイル−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビ
ス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−
７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ
−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モル
ホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの
縮合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチ
ルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）
−１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−ア
ミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ
−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ
ノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル
−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリア
ザ−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ド
デシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル
−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシ
ルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２，２，６，
６，−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合
生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エ
タンおよび２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリ
アジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジンの縮合生成物（ＣＡＳ Ｒｅｇ．
Ｎｏ． ［１３６５０４−９６−６］）、Ｎ−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ド
デシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペ
ンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシン
イミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ
［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２
−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４
−オキソ−スピロ［４．５］デカンおよびエピクロロヒ
ドリンの反応生成物。
【００７７】３．金属奪活剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフ
ェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイ
ルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。
ェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイ
ルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラ
ジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サ
リチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェ
ニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒ
ドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリル
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオニルジヒドラジド。
【００７８】４．ホスフィットおよびホスホナイト、例
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルソルビトールト
リホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−
第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２
−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット。
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデ
シルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジ
ホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メ
チルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィッ
ト、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，
４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリ
トールジホスフィット、トリステアリルソルビトールト
リホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、
６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−
第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２
−ジオキサホスホシン、６−フルオロ−２，４，８，１
０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ
［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス
（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチ
ルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−
メチルフェニル）エチルホスフィット。
【００７９】５．ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、水素化された牛脂アミン
から誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミ
ン。
−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ
−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキ
サデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデ
シルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オク
タデシルヒドロキシルアミン、水素化された牛脂アミン
から誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミ
ン。
【００８０】６．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α
−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニト
ロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラ
ウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル
−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−
ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプ
タデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデ
シル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロ
ン、水素化された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジ
アルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
−フェニル−ニトロン、Ｎ−エチル−α−メチル−ニト
ロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、Ｎ−ラ
ウリル−α−ウンデシル−ニトロン、Ｎ−テトラデシル
−α−トリデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−
ペンタデシル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプ
タデシル−ニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデ
シル−ニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシル
−ニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニ
トロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシル−ニトロ
ン、水素化された牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジ
アルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００８１】７．チオシナジスト、例えば、ジラウリル
チオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピ
オネート。 ８．パーオキシドスカベンジャー、例えば、β−チオジ
プロピオン酸のエステルであって、例えば、ラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメ
ート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
チオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピ
オネート。 ８．パーオキシドスカベンジャー、例えば、β−チオジ
プロピオン酸のエステルであって、例えば、ラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベン
ズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメ
ート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリト
ールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネ
ート。
【００８２】９．塩基性補助安定剤、例えば、メラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩であって、例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモン
ピロカテコレートまたは錫ピロカテコレート。
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属塩およびアルカリ土類金属塩であって、例えばカ
ルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウ
ムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウム
リシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモン
ピロカテコレートまたは錫ピロカテコレート。
【００８３】１０．核剤、例えば、タルクのような無機
基材、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸
化物、ホスフェート、カーボネートまたはサルフェート
であって、好ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−
またはポリカルボン酸のような有機化合物およびそれら
の塩であって、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジ
ピン酸、ジフェニル酢酸、ナトリウムスクシネートまた
はナトリウムベンゾエート、イオン性コポリマー（”イ
オノマー”）のようなポリマー性化合物。
基材、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸
化物、ホスフェート、カーボネートまたはサルフェート
であって、好ましくはアルカリ土類金属のもの、モノ−
またはポリカルボン酸のような有機化合物およびそれら
の塩であって、例えば、４−第三ブチル安息香酸、アジ
ピン酸、ジフェニル酢酸、ナトリウムスクシネートまた
はナトリウムベンゾエート、イオン性コポリマー（”イ
オノマー”）のようなポリマー性化合物。
【００８４】１１．充填剤および強化剤、例えば、炭酸
カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェー
ト、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グ
ラファイト、木材粉末および他の天然生成物の粉末また
は繊維、合成繊維。 １２．その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難
燃剤、静電防止剤および発泡剤。
カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アス
ベスト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェー
ト、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グ
ラファイト、木材粉末および他の天然生成物の粉末また
は繊維、合成繊維。 １２．その他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化
剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、光沢剤、難
燃剤、静電防止剤および発泡剤。
【００８５】１３．ベンゾフラノンおよびインドリノ
ン、例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−
５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ
−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−
Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９または
ＥＰ−Ａ−０５９１１０２において公開されるもの、ま
たは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］
−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイ
ルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オ
ン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−
（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４
−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−
（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，
７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−
（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）
−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
ン、例えば、ＵＳ−Ａ−４３２５８６３、ＵＳ−Ａ−４
３３８２４４、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２、ＵＳ−Ａ−
５２１６０５２、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３、ＤＥ−Ａ
−４３１６６１１、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２、ＤＥ−
Ａ−４３１６８７６、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９または
ＥＰ−Ａ−０５９１１０２において公開されるもの、ま
たは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］
−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、
５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイ
ルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オ
ン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−
（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフ
ラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４
−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−
（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，
７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、３−
（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）
−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。
【００８６】成分Ａ）、Ｂ）およびＣ）の全量の慣用の
添加剤に対する重量比は、例えば、１：０．１ないし
１：５であることができる。本発明はさらに光誘発され
る崩壊に対してポリオレフィンを安定化するための新規
安定剤混合物の使用に関する。
添加剤に対する重量比は、例えば、１：０．１ないし
１：５であることができる。本発明はさらに光誘発され
る崩壊に対してポリオレフィンを安定化するための新規
安定剤混合物の使用に関する。
【００８７】
【発明の実施の形態】以下の実施例は本発明をより詳細
に説明する。全ての百分率および部は、他に言及されな
い限り、重量百分率および重量部を表す。 実施例１および２において使用される安定剤 化合物（Ｉ−Ａ）
に説明する。全ての百分率および部は、他に言及されな
い限り、重量百分率および重量部を表す。 実施例１および２において使用される安定剤 化合物（Ｉ−Ａ）
【化４２】 化合物（ＩＩ−Ａ）
【化４３】 化合物（ＩＩＩ−Ａ）
【化４４】 化合物（Ｖ−Ａ）
【化４５】 化合物（ＶＩ−Ａ）
【化４６】 化合物（ＶＩ−Ｂ）
【化４７】 化合物（ＶＩＩＩ−Ａ）
【化４８】 化合物（ＶＩＩＩ−Ｂ）
【化４９】 化合物（ＸＸ）
【化５０】 化合物（Ｃ）
【化５１】
【００８８】実施例１ ポリプロピレンホモポリマーフ
ィルムにおける光安定化。 ポリプロピレンホモポリマー粉末１００部をペンタエリ
トリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０５
部、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフ
ィット０．０５部および表１および２において示される
安定剤とブラベンダープラストグラフにおいて２００℃
で１０分間、均質化する。こうして得られた組成物を可
能な限り素早く配合機から取り除き、そしてトグルプレ
スにおいて圧縮し、２ないし３ミリメートルの厚さを持
つシートを得る。結果として生じた圧縮成形物の断片を
切り出し、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔の間
で６分間、２６０℃で実験室用油圧プレスを使用して圧
締し、０．５ミリメートルの厚さを持つフィルムを得、
該フィルムを直ちに水冷プレスにおいて冷却する。各々
６０ミリメートル×２５ミリメートルの寸法を有する断
片をその後、該０．５ミリメートルフィルムから打抜
き、そしてＷＥＡＴＨＥＲ−ＯＭＥＴＥＲ Ｃｉ ６５
（黒色パネル温度６３±２℃、水噴霧無し）において暴
露する。これらの試験試料を規則的な時間隔で暴露装置
から取り外し、そしてそれらのカルボニル含有量につい
てＩＲ分光光度計において試験する。暴露の際のカルボ
ニル吸光度の増加はポリマーの光酸化崩壊の尺度であ
り、またそれは機械的性質における劣化と関係している
ことが経験から既知である。
ィルムにおける光安定化。 ポリプロピレンホモポリマー粉末１００部をペンタエリ
トリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．０５
部、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフ
ィット０．０５部および表１および２において示される
安定剤とブラベンダープラストグラフにおいて２００℃
で１０分間、均質化する。こうして得られた組成物を可
能な限り素早く配合機から取り除き、そしてトグルプレ
スにおいて圧縮し、２ないし３ミリメートルの厚さを持
つシートを得る。結果として生じた圧縮成形物の断片を
切り出し、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔の間
で６分間、２６０℃で実験室用油圧プレスを使用して圧
締し、０．５ミリメートルの厚さを持つフィルムを得、
該フィルムを直ちに水冷プレスにおいて冷却する。各々
６０ミリメートル×２５ミリメートルの寸法を有する断
片をその後、該０．５ミリメートルフィルムから打抜
き、そしてＷＥＡＴＨＥＲ−ＯＭＥＴＥＲ Ｃｉ ６５
（黒色パネル温度６３±２℃、水噴霧無し）において暴
露する。これらの試験試料を規則的な時間隔で暴露装置
から取り外し、そしてそれらのカルボニル含有量につい
てＩＲ分光光度計において試験する。暴露の際のカルボ
ニル吸光度の増加はポリマーの光酸化崩壊の尺度であ
り、またそれは機械的性質における劣化と関係している
ことが経験から既知である。
【００８９】０．１のカルボニル吸光度に達するために
必要とされる時間（Ｔ0.1 measured）を表１および２に
おいて示す。
必要とされる時間（Ｔ0.1 measured）を表１および２に
おいて示す。
【００９０】
【００９１】
【００９２】
【００９３】実施例２ ポリプロピレンブロックコポリ
マーフィルムにおける光安定化。 ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部をペン
タエリトリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．
０５部、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホ
スフィット０．１０部および表３において示される安定
剤混合物とブラベンダープラストグラフにおいて２００
℃で１０分間、均質化する。こうして得られた組成物を
可能な限り素早く配合機から取り除き、そしてトグルプ
レスにおいて圧縮し、２ないし３ミリメートルの厚さを
持つシートを得る。結果として生じた圧縮成形物の断片
を切り出し、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔の
間で６分間、２６０℃で実験室用油圧プレスを使用して
圧締し、０．５ミリメートルの厚さを持つフィルムを
得、該フィルムを直ちに水冷プレスにおいて冷却する。
各々６０ミリメートル×２５ミリメートルの寸法を有す
る断片をその後、該０．５ミリメートルフィルムから打
抜き、そしてＷＥＡＴＨＥＲ−ＯＭＥＴＥＲ Ｃｉ ６
５（黒色パネル温度 ６３±２℃、水噴霧無し）におい
て暴露する。これらの試験試料を規則的な時間隔で暴露
装置から取り外し、そしてそれらのカルボニル含有量に
ついてＩＲ分光光度計において試験する。暴露の際のカ
ルボニル吸光度の増加はポリマーの光酸化崩壊の尺度で
あり、また機械的性質における劣化と関係していること
が経験から既知である。
マーフィルムにおける光安定化。 ポリプロピレンブロックコポリマー粉末１００部をペン
タエリトリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．
０５部、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホ
スフィット０．１０部および表３において示される安定
剤混合物とブラベンダープラストグラフにおいて２００
℃で１０分間、均質化する。こうして得られた組成物を
可能な限り素早く配合機から取り除き、そしてトグルプ
レスにおいて圧縮し、２ないし３ミリメートルの厚さを
持つシートを得る。結果として生じた圧縮成形物の断片
を切り出し、そして２枚の高光沢硬質アルミニウム箔の
間で６分間、２６０℃で実験室用油圧プレスを使用して
圧締し、０．５ミリメートルの厚さを持つフィルムを
得、該フィルムを直ちに水冷プレスにおいて冷却する。
各々６０ミリメートル×２５ミリメートルの寸法を有す
る断片をその後、該０．５ミリメートルフィルムから打
抜き、そしてＷＥＡＴＨＥＲ−ＯＭＥＴＥＲ Ｃｉ ６
５（黒色パネル温度 ６３±２℃、水噴霧無し）におい
て暴露する。これらの試験試料を規則的な時間隔で暴露
装置から取り外し、そしてそれらのカルボニル含有量に
ついてＩＲ分光光度計において試験する。暴露の際のカ
ルボニル吸光度の増加はポリマーの光酸化崩壊の尺度で
あり、また機械的性質における劣化と関係していること
が経験から既知である。
【００９４】０．１のカルボニル吸光度に達するために
必要とされる時間（Ｔ0.1 measured）を表３において示
す。
必要とされる時間（Ｔ0.1 measured）を表３において示
す。
【００９５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 403/12 ２４９ Ｃ０７Ｄ 403/12 ２４９ Ｃ０８Ｋ 5/34 Ｃ０８Ｋ 5/34 Ｃ０８Ｌ 23/00 Ｃ０８Ｌ 23/00
Claims (15)
- 【請求項１】Ａ）（Ａ１）次式（Ｉ） 【化１】 ［式中、基Ｒ1 は、互いに独立して、水素原子、炭素原
子数１ないし８のアルキル基、−Ｏ・ 、−ＣＨ2 ＣＮ、
炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子数７な
いし９のフェニルアルキル基、フェニル基について炭素
原子数１ないし４のアルキル基によって置換された炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基、または炭素原
子数１ないし８のアシル基を表す。］で表される少なく
とも一つの化合物、または（Ａ２）次式（ＩＩ） 【化２】 ［式中、基Ｒ2 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ3 は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基、炭素原子数５ないし７のシクロ
アルキレン基、炭素原子数１ないし４のアルキレンジ
（炭素原子数５ないし７のシクロアルキレン）基、フェ
ニレン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４の
アルキレン）基を表す。］で表される少なくとも一つの
化合物、または（Ａ３）次式（ＩＩＩ） 【化３】 ［式中、基Ｒ4 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ5 は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数１ない
し１２のアルコキシ基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または（Ａ４）次式（ＩＶ） 【化４】 ［式中、基Ｒ6 は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、基Ｒ7 は、互いに独立して、
水素原子または炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
表し、またＲ8 およびＲ9 は、互いに独立して、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基を表す。］で表される少
なくとも一つの化合物、または（Ａ５）次式（Ｖ） 【化５】 ［式中、基Ｒ10は、互いに独立して、Ｒ1 について与え
られた定義の一つを有し、またＲ11は炭素原子数２ない
し２２のアルキレン基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または（Ａ６）次式（ＶＩ） 【化６】 ［式中、Ｒ12は次式（ＶＩＩ） 【化７】 （式中、Ｒ13は炭素原子数１ないし１２のアルキル基ま
たは炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基を表
し、Ｒ14は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基を表
し、またＲ15はＲ1 について与えられた意味の一つを有
する。）で表される基を表す。］で表される少なくとも
一つの化合物、または（Ａ７）次式（ＶＩＩＩ） 【化８】 ［式中、Ｒ16は炭素原子数１ないし２４のアルキル基を
表し、またＲ17はＲ1 について与えられた定義の一つを
有する。］で表される少なくとも一つの化合物のいずれ
か一つ、および Ｂ）酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化亜
鉛、水酸化亜鉛または亜鉛もしくはマグネシウムの有機
塩、またはハイドロタルサイト、および Ｃ）（Ｃ１）ＵＶ吸収剤または（Ｃ２）顔料、または
（Ｃ３）ＵＶ吸収剤および顔料のいずれか一つを含有す
る安定剤混合物。 - 【請求項２】 成分Ｂ）は酸化マグネシウム、水酸化マ
グネシウム、酸化亜鉛、水酸化亜鉛または亜鉛もしくは
マグネシウムの有機塩である、請求項１に記載の安定剤
混合物。 - 【請求項３】 成分Ａ）は式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、
（Ｖ）、（ＶＩ）または（ＶＩＩＩ）で表される化合物
である、請求項１に記載の安定剤混合物。 - 【請求項４】 式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ10、
Ｒ15およびＲ17は、互いに独立して、水素原子、炭素原
子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル基ま
たはアセチル基を表す、請求項１に記載の安定剤混合
物。 - 【請求項５】 式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 、Ｒ10、
Ｒ15およびＲ17は、互いに独立して、水素原子またはメ
チル基を表す、請求項１に記載の安定剤混合物。 - 【請求項６】 式中、Ｒ3 は炭素原子数２ないし１０の
アルキレン基、シクロヘキシレン基、（炭素原子数１な
いし４のアルキレン）ジシクロヘキシレン基、フェニレ
ン基またはフェニレンジ（炭素原子数１ないし４のアル
キレン）基を表し、Ｒ5 は水素原子、炭素原子数１ない
し４のアルキル基または炭素原子数１ないし４のアルコ
キシ基を表し、基Ｒ7 は、互いに独立して、水素原子ま
たは炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ8 お
よびＲ9 は、互いに独立して、炭素原子数１ないし４の
アルキル基を表し、Ｒ11は炭素原子数２ないし１０のア
ルキレン基を表し、Ｒ13は炭素原子数１ないし４のアル
キル基またはシクロヘキシル基を表し、Ｒ14は炭素原子
数２ないし１０のアルキレン基を表し、またＲ16は炭素
原子数１ないし１４のアルキル基を表す請求項１に記載
の安定剤混合物。 - 【請求項７】 成分Ａ）は次式 【化９】 【化１０】 【化１１】 【化１２】 【化１３】 【化１４】 【化１５】 【化１６】 または 【化１７】 で表される化合物である、請求項１に記載の安定剤混合
物。 - 【請求項８】 亜鉛またはマグネシウムの有機塩はアセ
チルアセトネートまたは脂肪族モノカルボキシレートで
ある、請求項１に記載の安定剤混合物。 - 【請求項９】 ＵＶ吸収剤は２−（２’−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、置換されたもしくは未置換の安息香酸のエステ
ル、アクリレート、オキサミド、２−（２−ヒドロキシ
フェニル）−１，３，５−トリアジン、レゾルシノール
のモノベンゾエートまたはホルムアミジンである、請求
項１に記載の安定剤混合物。 - 【請求項１０】 ＵＶ吸収剤は２−（２’−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシベンゾ
フェノンまたは２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，
３，５−トリアジンである、請求項１に記載の安定剤混
合物。 - 【請求項１１】 顔料は二酸化チタンである、請求項１
に記載の安定剤混合物。 - 【請求項１２】 成分Ｃ）としてＵＶ吸収剤を含有す
る、請求項１に記載の安定剤混合物。 - 【請求項１３】 成分Ｂ）はマグネシウムステアレート
または亜鉛ステアレートであり、また成分Ｃ）は次式 【化１８】 【化１９】 で表される化合物またはＴｉＯ2 である、請求項７に記
載の安定剤混合物。 - 【請求項１４】 ポリオレフィンおよび請求項１に記載
の安定剤混合物を含有する組成物。 - 【請求項１５】 ポリオレフィンはポリエチレンまたは
ポリプロピレンまたはポリエチレンもしくはポリプロピ
レンのコポリマーである請求項１４に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP96810557 | 1996-08-22 | ||
| DE96810557.7 | 1996-08-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1088129A true JPH1088129A (ja) | 1998-04-07 |
| JPH1088129A5 JPH1088129A5 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=8225683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9239069A Pending JPH1088129A (ja) | 1996-08-22 | 1997-08-20 | 安定剤混合物 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6545071B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1088129A (ja) |
| BE (1) | BE1011448A3 (ja) |
| CA (1) | CA2213526C (ja) |
| DE (1) | DE19735974A1 (ja) |
| ES (1) | ES2132030B1 (ja) |
| FR (1) | FR2752580B1 (ja) |
| GB (1) | GB2316410B (ja) |
| IT (1) | IT1294339B1 (ja) |
| NL (1) | NL1006820C2 (ja) |
| TW (1) | TW467931B (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002097467A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-04-02 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 安定剤混合物 |
| JP2003524047A (ja) * | 2000-02-22 | 2003-08-12 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ポリオレフィンのための安定剤混合物 |
| JP2005528497A (ja) * | 2002-05-30 | 2005-09-22 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定化された物品 |
| JP2010534265A (ja) * | 2007-07-24 | 2010-11-04 | イノヴィア フィルムズ リミテッド | 紫外線遮断フィルム |
| JP2015512454A (ja) * | 2012-03-20 | 2015-04-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 有機材料の安定化のためのイソインドロ［２，１−ａ］キナゾリン誘導体 |
| WO2019151355A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2019-08-08 | 株式会社Adeka | 安定剤組成物、これを含有する塩化ビニル系樹脂組成物、およびその成形体 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW467931B (en) * | 1996-08-22 | 2001-12-11 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures |
| ITMI980366A1 (it) | 1998-02-25 | 1999-08-25 | Ciba Spec Chem Spa | Preparazione di eteri amminici stericamente impediti |
| SG82601A1 (en) | 1998-03-09 | 2001-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | 1-alkoxy-polyalkyl-piperidine derivatives and their use as polymerization regulators |
| US6337362B1 (en) * | 2000-06-12 | 2002-01-08 | Elementis Specialties, Inc. | Ultraviolet resistant pre-mix compositions and articles using such compositions |
| ZA200301683B (en) * | 2002-03-04 | 2004-09-06 | Ciba Sc Holding Ag | Synergistic combinations of UV absorbers for pigmented polyolefins. |
| US20030225191A1 (en) * | 2002-04-12 | 2003-12-04 | Francois Gugumus | Stabilizer mixtures |
| US20040063826A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Sobieski Robert T. | Halogen-containing vinyl polymer compounds |
| US20040061095A1 (en) * | 2002-09-30 | 2004-04-01 | Sobieski Robert T. | Halogen-containing vinyl polymer stabilizers |
| US7029759B2 (en) * | 2002-09-30 | 2006-04-18 | Omnova Solutions Inc. | Halogen-containing vinyl polymer compositions |
| BRPI0710207A2 (pt) * | 2006-03-31 | 2011-05-24 | Basf Se | composição, processo para a produção de uma composição polimérica pigmentada, e, uso de um composto |
| EA201891847A1 (ru) | 2016-02-22 | 2019-03-29 | Басф Се | Зародышеобразователь для твердых термопластичных полиуретанов |
| EP3565855A1 (de) | 2016-12-02 | 2019-11-13 | Basf Se | Reaktive polyurethan-hotmelts |
| DE202019002318U1 (de) | 2019-05-27 | 2019-06-07 | Basf Se | Reaktive Polyurethan-Hotmelts |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4190571A (en) * | 1977-09-21 | 1980-02-26 | The B. F. Goodrich Company | Substituted 2-keto-1,4-diazacycloalkanes and UV-light-stabilized compositions containing them |
| DE3006272A1 (de) * | 1980-02-20 | 1981-08-27 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Cyclische imide, deren herstellung und verwendung |
| JPS5949252B2 (ja) * | 1981-03-30 | 1984-12-01 | 宇部興産株式会社 | ポリプロピレン組成物 |
| CA1279738C (en) | 1984-07-24 | 1991-01-29 | Yuzo Maegawa | Resin compositions stabilized with piperidine derivatives |
| DE3530666A1 (de) * | 1985-08-28 | 1987-03-12 | Basf Ag | Glykolurilderivate und ihre verwendung als stabilisatoren fuer polymere |
| IT1215455B (it) * | 1987-05-05 | 1990-02-14 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polietilene comprendente composti contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| EP0290386B1 (de) * | 1987-05-05 | 1992-06-10 | Ciba-Geigy Ag | Stabilisierung von organischen Polymeren gegen Lichtabbau |
| DE3871855D1 (de) * | 1987-05-05 | 1992-07-16 | Ciba Geigy Ag | Gegen lichtschaedigung stabilisierte polyolefine. |
| DE3738736A1 (de) * | 1987-11-14 | 1989-05-24 | Basf Ag | 4-formylaminopiperidinderivate und deren verwendung als stabilisatoren |
| US5071981A (en) * | 1990-03-19 | 1991-12-10 | The B. F. Goodrich Company | Alkylated oxo-piperanzinyl-triazine |
| IT1246170B (it) * | 1990-07-24 | 1994-11-16 | Ciba Geigy Spa | Composizione stabilizzante per polipropilene comprendente composti triazinici contenenti gruppi piperidinici e composti metallici |
| DE4031279A1 (de) * | 1990-10-04 | 1992-04-09 | Basf Ag | Stabilisatoren enthaltende holzbeizen |
| FR2694761B1 (fr) | 1992-08-17 | 1996-06-14 | Sandoz Sa | Amines steriquement encombrees, leur preparation et leur utilisation comme stabilisants des matieres polymeres. |
| IT1269953B (it) * | 1994-06-27 | 1997-04-16 | Ciba Geigy Spa | Films di poliolefine o copolimeri di olefine con migliorata stabilita' alla luce e resistenza agli insetticidi |
| FR2725451B1 (fr) * | 1994-10-06 | 1998-04-17 | Sandoz Sa | Nouvelle composition stabilisante pour les matieres polymeres |
| TW464670B (en) | 1996-08-07 | 2001-11-21 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures containing a hindered amine |
| TW467931B (en) * | 1996-08-22 | 2001-12-11 | Ciba Sc Holding Ag | Stabilizer mixtures |
-
1997
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-
2003
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Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003524047A (ja) * | 2000-02-22 | 2003-08-12 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ポリオレフィンのための安定剤混合物 |
| JP2002097467A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-04-02 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 安定剤混合物 |
| JP2005528497A (ja) * | 2002-05-30 | 2005-09-22 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 安定化された物品 |
| JP2009287040A (ja) * | 2002-05-30 | 2009-12-10 | Ciba Holding Inc | 安定化された物品 |
| JP2010013660A (ja) * | 2002-05-30 | 2010-01-21 | Ciba Holding Inc | 安定化された物品 |
| JP2010534265A (ja) * | 2007-07-24 | 2010-11-04 | イノヴィア フィルムズ リミテッド | 紫外線遮断フィルム |
| JP2015512454A (ja) * | 2012-03-20 | 2015-04-27 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアＢａｓｆ Ｓｅ | 有機材料の安定化のためのイソインドロ［２，１−ａ］キナゾリン誘導体 |
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| JPWO2019151355A1 (ja) * | 2018-02-02 | 2021-01-28 | 株式会社Adeka | 安定剤組成物、これを含有する塩化ビニル系樹脂組成物、およびその成形体 |
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