JPH1092028A - 溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法 - Google Patents
溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法Info
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- JPH1092028A JPH1092028A JP8246527A JP24652796A JPH1092028A JP H1092028 A JPH1092028 A JP H1092028A JP 8246527 A JP8246527 A JP 8246527A JP 24652796 A JP24652796 A JP 24652796A JP H1092028 A JPH1092028 A JP H1092028A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溝のない基板を用いた光記録媒体でプッシュ
プル法によるトラッキングサーボを可能にする。 【解決手段】 トラッキングサーボ用の溝であるグルー
ブが存在しない平坦な基板１上に、記録層３として、ビ
スマス（Ｂｉ）添加磁性ガーネットを製膜し、この記録
層３にレーザ光を照射し、該記録層３におけるレーザ光
照射部分の結晶構造、または組成比を変化させることに
よって、反射率および磁気的性質が非照射部分と異なる
トラック状の領域を形成する。
プル法によるトラッキングサーボを可能にする。 【解決手段】 トラッキングサーボ用の溝であるグルー
ブが存在しない平坦な基板１上に、記録層３として、ビ
スマス（Ｂｉ）添加磁性ガーネットを製膜し、この記録
層３にレーザ光を照射し、該記録層３におけるレーザ光
照射部分の結晶構造、または組成比を変化させることに
よって、反射率および磁気的性質が非照射部分と異なる
トラック状の領域を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光記録技術に係わ
り、溝（グルーブ）が存在しない基板を用いた光記録媒
体の記録層に、トラッキング用ガイドトラックを作製す
ることのできる光記録媒体およびその作製方法に関する
ものである。
り、溝（グルーブ）が存在しない基板を用いた光記録媒
体の記録層に、トラッキング用ガイドトラックを作製す
ることのできる光記録媒体およびその作製方法に関する
ものである。
【０００２】［発明の概要］この発明は、映像、音声、
若しくはデータ情報などを、ディスク、カードなどの光
記録媒体に記録するための光記録に係わるもので、トラ
ッキングサーボ用のグルーブ（溝）が加工されていない
基板を用いた光記録媒体に対し、レーザを照射すること
によって、記録材料のレーザ照射部分を垂直磁化を持た
ない領域に変質させて、トラッキングサーボに利用でき
るトラックを作製するものである。
若しくはデータ情報などを、ディスク、カードなどの光
記録媒体に記録するための光記録に係わるもので、トラ
ッキングサーボ用のグルーブ（溝）が加工されていない
基板を用いた光記録媒体に対し、レーザを照射すること
によって、記録材料のレーザ照射部分を垂直磁化を持た
ない領域に変質させて、トラッキングサーボに利用でき
るトラックを作製するものである。
【０００３】
【従来の技術】現在実用化されている、コンパクトディ
スクや光磁気ディスクでは、トラッキングサーボ方式と
して、凹凸溝の山、および谷の部分からの反射光の位相
差を利用したプッシュプル法が採用されている（例え
ば、「イレーザブル光ディスク技術」 195頁、（株）ト
リケップス、1991年）。
スクや光磁気ディスクでは、トラッキングサーボ方式と
して、凹凸溝の山、および谷の部分からの反射光の位相
差を利用したプッシュプル法が採用されている（例え
ば、「イレーザブル光ディスク技術」 195頁、（株）ト
リケップス、1991年）。
【０００４】また、ガラス基板に溝切り加工を施す方法
には、 １）感光性樹脂法（２Ｐ法）と呼ばれる紫外線照射によ
って硬化する高分子重合体と金属スタンパを用いる方法
（例えば、「続・わかりやすい光ディスク」 172頁、オ
プトロニクス社、1990年）や、 ２）ダイレクトカッティング法、と呼ばれる、イオンミ
リングによってガラス基板に直接溝を切る方法が知られ
ている。
には、 １）感光性樹脂法（２Ｐ法）と呼ばれる紫外線照射によ
って硬化する高分子重合体と金属スタンパを用いる方法
（例えば、「続・わかりやすい光ディスク」 172頁、オ
プトロニクス社、1990年）や、 ２）ダイレクトカッティング法、と呼ばれる、イオンミ
リングによってガラス基板に直接溝を切る方法が知られ
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、６００ｎｍ
以下の波長域において信号強度が大きい磁性ガーネット
は、光源波長を短くすることによって高密度記録が可能
な光磁気記録材料として知られている。しかし、この磁
性ガーネットを製膜中に結晶化させるには基板温度を５
００℃以上にする必要がある（例えば、T.Okuda et a
l.；IEEE Trans.Mag., MAG-23, 3491(1987) ）。製膜後
の熱処理で結晶化させる場合でも、添加元素であるビス
マス（Ｂｉ）の組成比にもよるが、５８０℃以上で熱処
理しなければならない（例えば、Y.Braik and H.Le Gal
l:J.Appl.Phys.76, 7633(1994)）。従って、ガーネット
を記録層に用いる場合、基板を溝切り加工する方法は、
ダイレクトカッティング法によらざるをえないという課
題があった。
以下の波長域において信号強度が大きい磁性ガーネット
は、光源波長を短くすることによって高密度記録が可能
な光磁気記録材料として知られている。しかし、この磁
性ガーネットを製膜中に結晶化させるには基板温度を５
００℃以上にする必要がある（例えば、T.Okuda et a
l.；IEEE Trans.Mag., MAG-23, 3491(1987) ）。製膜後
の熱処理で結晶化させる場合でも、添加元素であるビス
マス（Ｂｉ）の組成比にもよるが、５８０℃以上で熱処
理しなければならない（例えば、Y.Braik and H.Le Gal
l:J.Appl.Phys.76, 7633(1994)）。従って、ガーネット
を記録層に用いる場合、基板を溝切り加工する方法は、
ダイレクトカッティング法によらざるをえないという課
題があった。
【０００６】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、その目的は、溝のない基板を用いた光記録媒体で
プッシュプル法によるトラッキングサーボを可能にする
ことにある。
あり、その目的は、溝のない基板を用いた光記録媒体で
プッシュプル法によるトラッキングサーボを可能にする
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１の発明は、トラッキングサーボ用の溝で
あるグルーブが存在しない平坦な基板上に、記録層とし
て、ビスマス（Ｂｉ）添加磁性ガーネットが製膜されて
いることを特徴とするものである。
めに、請求項１の発明は、トラッキングサーボ用の溝で
あるグルーブが存在しない平坦な基板上に、記録層とし
て、ビスマス（Ｂｉ）添加磁性ガーネットが製膜されて
いることを特徴とするものである。
【０００８】請求項２の発明は、請求項１に記載の光記
録媒体において、前記記録層にレーザ光を照射し、該記
録層におけるレーザ光照射部分の結晶構造、または組成
比を変化させることによって、反射率および磁気的性質
が非照射部分と異なるトラック状の領域を形成したこと
を特徴とするものである。
録媒体において、前記記録層にレーザ光を照射し、該記
録層におけるレーザ光照射部分の結晶構造、または組成
比を変化させることによって、反射率および磁気的性質
が非照射部分と異なるトラック状の領域を形成したこと
を特徴とするものである。
【０００９】請求項３の発明は、請求項１に記載の光記
録媒体において、前記記録層は、酸素（Ｏ）を除いたと
きのＢｉ組成比が１５at.%から４５at.%の間の値を持つ
ターゲットを用いて前記基板上に製膜されることを特徴
とするものである。
録媒体において、前記記録層は、酸素（Ｏ）を除いたと
きのＢｉ組成比が１５at.%から４５at.%の間の値を持つ
ターゲットを用いて前記基板上に製膜されることを特徴
とするものである。
【００１０】請求項４の発明は、請求項１に記載の光記
録媒体において、前記記録層の未結晶化状態での光学密
度、または光吸収率が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用
いて製膜されたＢｉ無添加膜の１．５倍以上であること
を特徴とするものである。
録媒体において、前記記録層の未結晶化状態での光学密
度、または光吸収率が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるようなターゲットを用
いて製膜されたＢｉ無添加膜の１．５倍以上であること
を特徴とするものである。
【００１１】請求項５の発明は、請求項１に記載の光記
録媒体において、前記記録層が積層される基板として、
石英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、
コーニング０３１７などのガラス、およびこれらのガラ
スに非磁性のガーネット若しくは、白金（Ｐｔ）、クロ
ム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属、または
これらの金属からなる合金を積層したもの、またはガド
リニウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム
・ガリウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶を用い
ることを特徴とするものである。
録媒体において、前記記録層が積層される基板として、
石英ガラス、無アルカリガラス、コーニング７０５９、
コーニング０３１７などのガラス、およびこれらのガラ
スに非磁性のガーネット若しくは、白金（Ｐｔ）、クロ
ム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金属、または
これらの金属からなる合金を積層したもの、またはガド
リニウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム
・ガリウム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶を用い
ることを特徴とするものである。
【００１２】請求項６の発明は、トラッキングサーボ用
の溝であるグルーブが存在しない平坦な基板上に、ビス
マス（Ｂｉ）、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む非磁性のガーネッ
ト下地膜を積層し、次に、所定の製膜条件で、前記下地
膜上に、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸
素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８a
t.%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%
であるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法に
より、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶
質膜を製膜し、その後、この非晶質膜を所定の熱処理条
件で結晶化させて、ビスマス添加磁性ガーネット膜から
成る記録層を作製し、この記録層に所定の照射条件でレ
ーザ光を照射して反射率および磁気的性質が非照射部分
と異なるトラック状の領域を形成すること、を特徴とす
るものである。
の溝であるグルーブが存在しない平坦な基板上に、ビス
マス（Ｂｉ）、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む非磁性のガーネッ
ト下地膜を積層し、次に、所定の製膜条件で、前記下地
膜上に、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸
素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８a
t.%、Ｄｙ＝８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%
であるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法に
より、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶
質膜を製膜し、その後、この非晶質膜を所定の熱処理条
件で結晶化させて、ビスマス添加磁性ガーネット膜から
成る記録層を作製し、この記録層に所定の照射条件でレ
ーザ光を照射して反射率および磁気的性質が非照射部分
と異なるトラック状の領域を形成すること、を特徴とす
るものである。
【００１３】請求項７の発明は、トラッキングサーボ用
の溝であるグルーブが存在しない平坦な基板上に、所定
の製膜条件で、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄ
ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含
み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝
３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４
１at.%であるような焼結ターゲットから、高周波スパッ
タ法により、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄ
ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から
成る非晶質膜の記録層を作製し、この記録層に所定の照
射条件でレーザ光を照射して反射率および、結晶化後の
磁気的性質が非照射部分と異なるトラック状の領域を形
成すること、を特徴とするものである。
の溝であるグルーブが存在しない平坦な基板上に、所定
の製膜条件で、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄ
ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含
み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝
３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４
１at.%であるような焼結ターゲットから、高周波スパッ
タ法により、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄ
ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から
成る非晶質膜の記録層を作製し、この記録層に所定の照
射条件でレーザ光を照射して反射率および、結晶化後の
磁気的性質が非照射部分と異なるトラック状の領域を形
成すること、を特徴とするものである。
【００１４】課題を解決するために本発明で具体的に用
いている方法を以下に述べる。溝無し基板上に記録層を
製膜した光記録媒体にレーザ光を照射し、前記記録層の
レーザ光照射部分の結晶構造、または組成比を変化させ
ることによって、反射率、および磁気的性質が非照射部
分と異なるトラック状の領域を作製する。
いている方法を以下に述べる。溝無し基板上に記録層を
製膜した光記録媒体にレーザ光を照射し、前記記録層の
レーザ光照射部分の結晶構造、または組成比を変化させ
ることによって、反射率、および磁気的性質が非照射部
分と異なるトラック状の領域を作製する。
【００１５】結晶構造、または組成比が変化するに充分
な熱量を得るには、照射されるレーザの波長における記
録層の光吸収率、または光学密度を大きくしなければな
らない。そのために、例えば、イットリウム（Ｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含
み、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.
%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるターゲット
から製膜した膜の１．５倍以上の光吸収率、または光学
密度を示すビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む膜を結晶化さ
せた、ガーネット膜を記録層に用いる。
な熱量を得るには、照射されるレーザの波長における記
録層の光吸収率、または光学密度を大きくしなければな
らない。そのために、例えば、イットリウム（Ｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含
み、酸素（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.
%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるターゲット
から製膜した膜の１．５倍以上の光吸収率、または光学
密度を示すビスマス（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含む膜を結晶化さ
せた、ガーネット膜を記録層に用いる。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面、および表を参照して説明する。
て、図面、および表を参照して説明する。
【００１７】＜第１の実施の形態＞図１は、本発明に係
わる第１の実施の形態において用いられる光記録媒体の
構成を示す図である。無アルカリガラスを使用した基板
１と、その基板１上に積層したビスマス（Ｂｉ）、イッ
トリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜２、およびビス
マス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比が、Ｂｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝
８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような
焼結ターゲットから、高周波スパッタ法で製膜した記録
層３から構成される。
わる第１の実施の形態において用いられる光記録媒体の
構成を示す図である。無アルカリガラスを使用した基板
１と、その基板１上に積層したビスマス（Ｂｉ）、イッ
トリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜２、およびビス
マス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比が、Ｂｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝
８at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような
焼結ターゲットから、高周波スパッタ法で製膜した記録
層３から構成される。
【００１８】《光記録媒体の作製方法（トラッキング用
のガイドトラックの作製方法）》次に、図１に示した光
記録媒体の作製方法およびトラッキング用のガイドトラ
ックの作製方法について表１〜表３を参照して説明す
る。表１は、基板１上に記録層３を製膜するときのスパ
ッタ条件を示し、表２は、記録層３を結晶化させるとき
の熱処理条件を示し、表３は、第１の実施の形態におい
て用いられる光記録媒体にトラッキング用のガイドトラ
ックを作製するために、レーザを照射するときの条件を
示している。
のガイドトラックの作製方法）》次に、図１に示した光
記録媒体の作製方法およびトラッキング用のガイドトラ
ックの作製方法について表１〜表３を参照して説明す
る。表１は、基板１上に記録層３を製膜するときのスパ
ッタ条件を示し、表２は、記録層３を結晶化させるとき
の熱処理条件を示し、表３は、第１の実施の形態におい
て用いられる光記録媒体にトラッキング用のガイドトラ
ックを作製するために、レーザを照射するときの条件を
示している。
【００１９】
【表１】
【表２】
【表３】 まず、無アルカリガラス基板１上に非磁性ガーネットを
下地膜２として積層し、この下地膜２が積層された基板
１上に、表１に示した条件でビスマス（Ｂｉ）、ジスプ
ロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）からなる非晶質膜を製膜した。図２に示すよう
に、未結晶化状態にある記録層３の光学密度は、波長が
５１４．５ｎｍの光に対して、イットリウム（Ｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%のターゲットから製膜した膜
の１．５倍以上になっている。
下地膜２として積層し、この下地膜２が積層された基板
１上に、表１に示した条件でビスマス（Ｂｉ）、ジスプ
ロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）からなる非晶質膜を製膜した。図２に示すよう
に、未結晶化状態にある記録層３の光学密度は、波長が
５１４．５ｎｍの光に対して、イットリウム（Ｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝
１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%のターゲットから製膜した膜
の１．５倍以上になっている。
【００２０】次に、表２に示した条件で熱処理して、記
録層３をガーネットとして結晶化させた。このようにし
て作製した光記録媒体に、表３の条件で波長が５１４．
５ｎｍのレーザを照射したところ、吸収による発熱の結
果、幅１．５μｍの垂直磁化を示さないトラックが形成
された。この領域は膜面側に凸になっていることから、
膜面側、または基板側の何れから読み出し光を照射して
も、散乱のために反射率そのものも、周辺領域より低く
なっていることが確認された。
録層３をガーネットとして結晶化させた。このようにし
て作製した光記録媒体に、表３の条件で波長が５１４．
５ｎｍのレーザを照射したところ、吸収による発熱の結
果、幅１．５μｍの垂直磁化を示さないトラックが形成
された。この領域は膜面側に凸になっていることから、
膜面側、または基板側の何れから読み出し光を照射して
も、散乱のために反射率そのものも、周辺領域より低く
なっていることが確認された。
【００２１】また、図１に示した光記録媒体に光磁気記
録を行うと４０ｄＢ以上のＣＮ比が確保されることがわ
かった。したがって、光磁気記録を行うトラックと垂直
磁化を示さないガイドトラックとの間の信号強度の差も
４０ｄＢ以上になることが理解できる。
録を行うと４０ｄＢ以上のＣＮ比が確保されることがわ
かった。したがって、光磁気記録を行うトラックと垂直
磁化を示さないガイドトラックとの間の信号強度の差も
４０ｄＢ以上になることが理解できる。
【００２２】＜第２の実施の形態＞図３は、本発明に係
わる第２の実施の形態において用いられる光記録媒体の
構成を示す図である。この光記録媒体は、無アルカリガ
ラスを使用した基板４と、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロ
シウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成
比が、Ｂｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３a
t.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲットから
製膜された非晶質膜からなる記録層５から構成される。
わる第２の実施の形態において用いられる光記録媒体の
構成を示す図である。この光記録媒体は、無アルカリガ
ラスを使用した基板４と、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロ
シウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素
（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたときの各元素の組成
比が、Ｂｉ＝３２at.%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３a
t.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼結ターゲットから
製膜された非晶質膜からなる記録層５から構成される。
【００２３】《光記録媒体の作製方法（トラッキング用
のガイドトラックの作製方法）》次に、図３に示した光
記録媒体の作製方法およびトラッキング用のガイドトラ
ックの作製方法について説明する。
のガイドトラックの作製方法）》次に、図３に示した光
記録媒体の作製方法およびトラッキング用のガイドトラ
ックの作製方法について説明する。
【００２４】
【表４】
【表５】 ここで、表４は、第２の実施の形態において用いられる
光記録媒体にトラッキング用のガイドトラックを作製す
るために、レーザを照射するときの条件を示し、表５
は、第２の実施の形態において用いられる光記録媒体の
記録層５を結晶化させるときの、熱処理条件を示してい
る。
光記録媒体にトラッキング用のガイドトラックを作製す
るために、レーザを照射するときの条件を示し、表５
は、第２の実施の形態において用いられる光記録媒体の
記録層５を結晶化させるときの、熱処理条件を示してい
る。
【００２５】記録層５を構成する非晶質膜の成膜条件
は、表１に示したものと同じである。すなわち、基板１
として無アルカリガラスを用い、この無アルカリガラス
基板１上に、表１に示した製膜条件（スパッタ条件）
で、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３２at.
%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%
であるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法に
より、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶
質膜を製膜して記録層５とした。
は、表１に示したものと同じである。すなわち、基板１
として無アルカリガラスを用い、この無アルカリガラス
基板１上に、表１に示した製膜条件（スパッタ条件）
で、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリ
ウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素
（Ｏ）を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３２at.
%、Ｄｙ＝１４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%
であるような焼結ターゲットから、高周波スパッタ法に
より、ビスマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガ
リウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶
質膜を製膜して記録層５とした。
【００２６】次に、表４の条件で波長が５１４．５ｎｍ
のレーザを照射したところ、周辺の非晶質領域よりも膜
面側に凸になった、幅１μｍのトラックが形成された。
このようにしてトラックを焼き付けた試料を表５に示し
た条件で熱処理したところ、トラック部分は垂直磁化を
示さない凸の領域として残り、トラック以外の領域は書
換型の光磁気記録が可能なガーネットとして結晶化し
た。
のレーザを照射したところ、周辺の非晶質領域よりも膜
面側に凸になった、幅１μｍのトラックが形成された。
このようにしてトラックを焼き付けた試料を表５に示し
た条件で熱処理したところ、トラック部分は垂直磁化を
示さない凸の領域として残り、トラック以外の領域は書
換型の光磁気記録が可能なガーネットとして結晶化し
た。
【００２７】なお、第１の実施の形態、および第２の実
施の形態において、トラッキング用ガイドトラックを形
成するために、光記録媒体に照射するレーザの波長を５
１４．５ｎｍとしたが、図２に示すように、ビスマス
（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含む非晶質膜５の光学密度と、イッ
トリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、およ
び酸素（Ｏ）を含む膜の光学密度の差は短波長になるほ
ど広がるので、５１４．５ｎｍ以下の波長でもよく、こ
のときのレーザパワーは、表３の値すなわち１３ｍＷ、
または表４の値すなわち７ｍＷ以下でもよい。また、照
射するレーザパワーが１３ｍＷ、または７ｍＷ以上の場
合は、非晶質膜５の光学密度が、イットリウム（Ｙ）、
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含
む膜の２倍から１．５倍の値になる、５１４．５ｎｍか
ら６５０ｎｍの間の波長のレーザを用いてもよい。
施の形態において、トラッキング用ガイドトラックを形
成するために、光記録媒体に照射するレーザの波長を５
１４．５ｎｍとしたが、図２に示すように、ビスマス
（Ｂｉ）、希土類元素、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、酸素（Ｏ）を含む非晶質膜５の光学密度と、イッ
トリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、およ
び酸素（Ｏ）を含む膜の光学密度の差は短波長になるほ
ど広がるので、５１４．５ｎｍ以下の波長でもよく、こ
のときのレーザパワーは、表３の値すなわち１３ｍＷ、
または表４の値すなわち７ｍＷ以下でもよい。また、照
射するレーザパワーが１３ｍＷ、または７ｍＷ以上の場
合は、非晶質膜５の光学密度が、イットリウム（Ｙ）、
ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、および酸素（Ｏ）を含
む膜の２倍から１．５倍の値になる、５１４．５ｎｍか
ら６５０ｎｍの間の波長のレーザを用いてもよい。
【００２８】次に、これらの根拠について述べる。図４
に示すように非晶質膜の追記的記録（このときのビット
が空間的に連続したものがトラッキング用のガイドトラ
ック）に必要なレーザパワーは、Ｂｉ濃度が高く、光学
密度が大きい膜ほど低い。従って、Ｂｉ添加膜の光学密
度がさらに大きくなる５１４．５ｎｍ以下の波長のレー
ザを用いる場合は、レーザパワーは低くてすむが、Ｂｉ
添加膜と無添加膜の光学密度の差が縮まる５１４．５ｎ
ｍから６５０ｎｍの間の波長のレーザを用いる場合は、
レーザパワーを高くしなければならない。
に示すように非晶質膜の追記的記録（このときのビット
が空間的に連続したものがトラッキング用のガイドトラ
ック）に必要なレーザパワーは、Ｂｉ濃度が高く、光学
密度が大きい膜ほど低い。従って、Ｂｉ添加膜の光学密
度がさらに大きくなる５１４．５ｎｍ以下の波長のレー
ザを用いる場合は、レーザパワーは低くてすむが、Ｂｉ
添加膜と無添加膜の光学密度の差が縮まる５１４．５ｎ
ｍから６５０ｎｍの間の波長のレーザを用いる場合は、
レーザパワーを高くしなければならない。
【００２９】第１の実施の形態、および第２の実施の形
態において、記録層３、５の製膜に用いるターゲットの
Ｂｉ組成比を、３８at.%、および３２at.%としたが、Ｂ
ｉ組成比は１５at.%から４５at.%の間の値でよい。Ｂｉ
組成比が０at.%だと、トラック形成に必要な発熱量が得
られないし、結晶化に必要な熱処理温度が８００℃以上
になり、基板に用いるガラスの耐熱温度を越えてしまう
恐れがある。我々は、ターゲットのＢｉ組成比が２５a
t.%のとき、７５０℃、１時間の熱処理で無アルカリガ
ラス基板に損傷を与えずに、ガーネット単相膜を得てい
る。これらのことを考慮し、ターゲットのＢｉ組成比の
下限を１５at.%とする。
態において、記録層３、５の製膜に用いるターゲットの
Ｂｉ組成比を、３８at.%、および３２at.%としたが、Ｂ
ｉ組成比は１５at.%から４５at.%の間の値でよい。Ｂｉ
組成比が０at.%だと、トラック形成に必要な発熱量が得
られないし、結晶化に必要な熱処理温度が８００℃以上
になり、基板に用いるガラスの耐熱温度を越えてしまう
恐れがある。我々は、ターゲットのＢｉ組成比が２５a
t.%のとき、７５０℃、１時間の熱処理で無アルカリガ
ラス基板に損傷を与えずに、ガーネット単相膜を得てい
る。これらのことを考慮し、ターゲットのＢｉ組成比の
下限を１５at.%とする。
【００３０】また、第１の実施の形態、および第２の実
施の形態において、基板として無アルカリガラスを用い
たが、石英ガラス、コーニング０３１７、コーニング７
０５９などのガラスのうちの何れかでもよく、このとき
の下地膜は、非磁性ガーネットのみならず、白金（Ｐ
ｔ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金
属、またはこれらの合金でもよい。また、ガドリニウム
・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウ
ム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶を基板としても
よい。
施の形態において、基板として無アルカリガラスを用い
たが、石英ガラス、コーニング０３１７、コーニング７
０５９などのガラスのうちの何れかでもよく、このとき
の下地膜は、非磁性ガーネットのみならず、白金（Ｐ
ｔ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）などの金
属、またはこれらの合金でもよい。また、ガドリニウム
・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウ
ム・ガーネット（ＮＧＧ）などの単結晶を基板としても
よい。
【００３１】このように本発明の各実施の形態によれ
ば、垂直磁化を示さず、且つ、反射率の低いトラック
を、光磁気記録を行うトラックの幅だけ間隔をあけて配
置することにより、グルーブの無い平坦な基板を用いた
場合でも、プッシュプル法によるトラッキングサーボを
行える光磁気記録媒体の作製が可能となる。
ば、垂直磁化を示さず、且つ、反射率の低いトラック
を、光磁気記録を行うトラックの幅だけ間隔をあけて配
置することにより、グルーブの無い平坦な基板を用いた
場合でも、プッシュプル法によるトラッキングサーボを
行える光磁気記録媒体の作製が可能となる。
【００３２】また、光記録媒体の動特性評価装置に光記
録媒体をのせて、記録・再生用光源のレーザを光記録媒
体に照射して、記録層自体にトラッキング用のガイドト
ラックを作製する。従って、本実施の形態によれば、ダ
イレクトカッティングのためのイオンミリング装置や、
２Ｐ法におけるフォトレジスト塗布、および紫外線によ
る硬化処理の過程を必要としないので、光記録媒体用基
板製作過程を簡略化できるとともに、光記録媒体のコス
トにおける基板加工費の割合を圧縮できる。
録媒体をのせて、記録・再生用光源のレーザを光記録媒
体に照射して、記録層自体にトラッキング用のガイドト
ラックを作製する。従って、本実施の形態によれば、ダ
イレクトカッティングのためのイオンミリング装置や、
２Ｐ法におけるフォトレジスト塗布、および紫外線によ
る硬化処理の過程を必要としないので、光記録媒体用基
板製作過程を簡略化できるとともに、光記録媒体のコス
トにおける基板加工費の割合を圧縮できる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように各請求項記載の本発
明によれば、垂直磁化を示さず、且つ、反射率の低いト
ラックを、光磁気記録を行うトラックの幅だけ間隔をあ
けて配置することが可能となり、これににより、グルー
ブの無い平坦な基板を用いた場合でも、プッシュプル法
によるトラッキングサーボを行える光記録媒体の作製が
可能となる。
明によれば、垂直磁化を示さず、且つ、反射率の低いト
ラックを、光磁気記録を行うトラックの幅だけ間隔をあ
けて配置することが可能となり、これににより、グルー
ブの無い平坦な基板を用いた場合でも、プッシュプル法
によるトラッキングサーボを行える光記録媒体の作製が
可能となる。
【００３４】また、本発明によれば、ダイレクトカッテ
ィングのためのイオンミリング装置や、２Ｐ法における
フォトレジスト塗布、および紫外線による硬化処理の過
程を必要としないので、光記録媒体用基板製作過程を簡
略化できるとともに、光記録媒体のコストにおける基板
加工費の割合を圧縮できる。
ィングのためのイオンミリング装置や、２Ｐ法における
フォトレジスト塗布、および紫外線による硬化処理の過
程を必要としないので、光記録媒体用基板製作過程を簡
略化できるとともに、光記録媒体のコストにおける基板
加工費の割合を圧縮できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態において用いられる
光記録媒体の構造を示す説明図である。
光記録媒体の構造を示す説明図である。
【図２】Ｂｉ、希土類元素、Ｇａ、Ｆｅ、Ｏを含む非晶
質膜の、光学密度の光源波長依存性を示す説明図であ
る。
質膜の、光学密度の光源波長依存性を示す説明図であ
る。
【図３】本発明の第２の実施の形態において用いられる
光記録媒体の構造を示す説明図である。
光記録媒体の構造を示す説明図である。
【図４】波長が５１４．５ｎｍの光で非晶質膜に追記型
光記録を行ったときの、ＣＮ比の記録パワー依存性を示
す説明図である。
光記録を行ったときの、ＣＮ比の記録パワー依存性を示
す説明図である。
１ 基板 ２ 下地膜（非磁性ガーネット膜） ３ 記録層（ビスマス添加磁性ガーネット膜） ４ 基板（無アルカリガラス） ５ 記録層（非晶質膜）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１１ Ｇ１１Ｂ 7/26 7/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｘ
Claims (7)
- 【請求項１】 トラッキングサーボ用の溝であるグルー
ブが存在しない平坦な基板上に、記録層として、ビスマ
ス（Ｂｉ）添加磁性ガーネットが製膜されていることを
特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光記録媒体において、 前記記録層にレーザ光を照射し、該記録層におけるレー
ザ光照射部分の結晶構造、または組成比を変化させるこ
とによって、反射率および磁気的性質が非照射部分と異
なるトラック状の領域を形成したことを特徴とする光記
録媒体。 - 【請求項３】 請求項１に記載の光記録媒体において、 前記記録層は、酸素（Ｏ）を除いたときのＢｉ組成比が
１５at.%から４５at.%の間の値を持つターゲットを用い
て前記基板上に製膜されることを特徴とする光記録媒
体。 - 【請求項４】 請求項１に記載の光記録媒体において、 前記記録層の未結晶化状態での光学密度、または光吸収
率が、イットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆ
ｅ）、および酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除いたと
きの組成比が、Ｙ＝４６at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝
４１at.%であるようなターゲットを用いて製膜されたＢ
ｉ無添加膜の１．５倍以上であることを特徴とする光記
録媒体。 - 【請求項５】 請求項１に記載の光記録媒体において、 前記記録層が積層される基板として、石英ガラス、無ア
ルカリガラス、コーニング７０５９、コーニング０３１
７などのガラス、およびこれらのガラスに非磁性のガー
ネット若しくは、白金（Ｐｔ）、クロム（Ｃｒ）、アル
ミニウム（Ａｌ）などの金属、またはこれらの金属から
なる合金を積層したもの、またはガドリニウム・ガリウ
ム・ガーネット（ＧＧＧ）、ネオジム・ガリウム・ガー
ネット（ＮＧＧ）などの単結晶を用いることを特徴とす
る光記録媒体。 - 【請求項６】 トラッキングサーボ用の溝であるグルー
ブが存在しない平坦な基板上に、ビスマス（Ｂｉ）、イ
ットリウム（Ｙ）、ガリウム（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸
素（Ｏ）を含む非磁性のガーネット下地膜を積層し、 次に、所定の製膜条件で、前記下地膜上に、ビスマス
（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）を除
いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３８at.%、Ｄｙ＝８
at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるような焼
結ターゲットから、高周波スパッタ法により、ビスマス
（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム（Ｇ
ａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜を製膜
し、 その後、この非晶質膜を所定の熱処理条件で結晶化させ
て、ビスマス添加磁性ガーネット膜から成る記録層を作
製し、 この記録層に所定の照射条件でレーザ光を照射して反射
率および磁気的性質が非照射部分と異なるトラック状の
領域を形成すること、 を特徴とする光記録媒体の作製方法。 - 【請求項７】 トラッキングサーボ用の溝であるグルー
ブが存在しない平坦な基板上に、所定の製膜条件で、ビ
スマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）を含み、酸素（Ｏ）
を除いたときの各元素の組成比がＢｉ＝３２at.%、Ｄｙ
＝１４at.%、Ｇａ＝１３at.%、Ｆｅ＝４１at.%であるよ
うな焼結ターゲットから、高周波スパッタ法により、ビ
スマス（Ｂｉ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ガリウム
（Ｇａ）、鉄（Ｆｅ）、酸素（Ｏ）から成る非晶質膜の
記録層を作製し、 この記録層に所定の照射条件でレーザ光を照射して反射
率および、結晶化後の磁気的性質が非照射部分と異なる
トラック状の領域を形成すること、 を特徴とする光記録媒体の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246527A JPH1092028A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8246527A JPH1092028A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092028A true JPH1092028A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17149739
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8246527A Pending JPH1092028A (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 溝無し基板を用いた光記録媒体、およびその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092028A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6728194B1 (en) | 1998-11-25 | 2004-04-27 | Minolta Co., Ltd. | Optical recording medium, method of making the same and optical memory device using the optical memory medium |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP8246527A patent/JPH1092028A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6728194B1 (en) | 1998-11-25 | 2004-04-27 | Minolta Co., Ltd. | Optical recording medium, method of making the same and optical memory device using the optical memory medium |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040824 |