JPH1092365A - 集束イオンビーム加工用試料ホルダ - Google Patents
集束イオンビーム加工用試料ホルダInfo
- Publication number
- JPH1092365A JPH1092365A JP8247525A JP24752596A JPH1092365A JP H1092365 A JPH1092365 A JP H1092365A JP 8247525 A JP8247525 A JP 8247525A JP 24752596 A JP24752596 A JP 24752596A JP H1092365 A JPH1092365 A JP H1092365A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ion beam
- focused ion
- thin film
- processing
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】集束イオンビーム加工装置を用いた透過電子顕
微鏡用試料などの薄膜作製で、試料加工部のひずみ変形
防止と、試料への応力印加による構造変化の観察を可能
とする。 【解決手段】固定板４と固定ねじ５による試料保持部６
から構成された試料ホルダ。
微鏡用試料などの薄膜作製で、試料加工部のひずみ変形
防止と、試料への応力印加による構造変化の観察を可能
とする。 【解決手段】固定板４と固定ねじ５による試料保持部６
から構成された試料ホルダ。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は集束イオンビーム加
工装置を用いた透過電子顕微鏡用試料などの薄膜作製に
おいて、試料加工部のひずみ変形防止と、試料への応力
印加による構造変化の観察を可能とする集束イオンビー
ム加工観察装置に関する。
工装置を用いた透過電子顕微鏡用試料などの薄膜作製に
おいて、試料加工部のひずみ変形防止と、試料への応力
印加による構造変化の観察を可能とする集束イオンビー
ム加工観察装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、集束イオンビーム加工装置で透過
電子顕微鏡の試料を作製する場合、試料の不要な部分を
イオンビームのスパッタリングにより除去し、薄膜化し
ていた。その場合の試料は直接、または金属ディスクへ
接着固定したのちに、試料おさえ金具などを用いてホル
ダ本体に固定していた。
電子顕微鏡の試料を作製する場合、試料の不要な部分を
イオンビームのスパッタリングにより除去し、薄膜化し
ていた。その場合の試料は直接、または金属ディスクへ
接着固定したのちに、試料おさえ金具などを用いてホル
ダ本体に固定していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】集束イオンビーム加工
による薄膜試料作製では、未加工部からの加工部（薄膜
部）への応力が大きく、これが薄膜領域の変形をもたら
すことが多い。従来の試料固定法では、加工中に例え
ば、試料薄膜部がわん曲するなどの不都合が生じても、
加工中の試料への処置ができないために、仕上がった試
料の透過電子顕微鏡による試料の正しい構造の観察が不
可能な場合があった。
による薄膜試料作製では、未加工部からの加工部（薄膜
部）への応力が大きく、これが薄膜領域の変形をもたら
すことが多い。従来の試料固定法では、加工中に例え
ば、試料薄膜部がわん曲するなどの不都合が生じても、
加工中の試料への処置ができないために、仕上がった試
料の透過電子顕微鏡による試料の正しい構造の観察が不
可能な場合があった。
【０００４】本発明の目的は、集束イオンビーム加工観
察装置で加工した各種材料の構造解析を正しく行うため
の試料作製法を提供することにある。
察装置で加工した各種材料の構造解析を正しく行うため
の試料作製法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は加工試料の両端をつかみ、加工試料の変形
状態に合わせ、試料に引っ張りなどの応力を印加する。
集束イオンビーム加工による薄膜試料作製では、未加工
部からの加工部（薄膜部）への応力が大きく、これが薄
膜領域の変形をもたらすことが多い。
め、本発明は加工試料の両端をつかみ、加工試料の変形
状態に合わせ、試料に引っ張りなどの応力を印加する。
集束イオンビーム加工による薄膜試料作製では、未加工
部からの加工部（薄膜部）への応力が大きく、これが薄
膜領域の変形をもたらすことが多い。
【０００６】集束イオンビームによる薄膜試料作製の際
の薄膜部の変形は、未加工部からの応力による場合が多
い。したがって、加工中の試料の両端を機械的に固定
し、必要な応力を試料両端から印加することにより、薄
膜部への応力集中を緩和させる。その薄膜部への応力集
中を防ぐことにより、変形を未然に防ぐことが可能にな
る。
の薄膜部の変形は、未加工部からの応力による場合が多
い。したがって、加工中の試料の両端を機械的に固定
し、必要な応力を試料両端から印加することにより、薄
膜部への応力集中を緩和させる。その薄膜部への応力集
中を防ぐことにより、変形を未然に防ぐことが可能にな
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を説
明する。図１は本発明の一実施例の試料ホルダの斜視図
を示す。同図において、イオンビーム３は矢印方向から
試料１へ入射する。試料保持部は導電性をもった固定板
４と固定ねじ５とで構成されている。試料１は、固定板
４と固定ねじ５により試料の両端をつかむ形で取り付け
られる。
明する。図１は本発明の一実施例の試料ホルダの斜視図
を示す。同図において、イオンビーム３は矢印方向から
試料１へ入射する。試料保持部は導電性をもった固定板
４と固定ねじ５とで構成されている。試料１は、固定板
４と固定ねじ５により試料の両端をつかむ形で取り付け
られる。
【０００８】本実施例によれば、試料の両端を固定板４
と固定ねじ５により直接固定し、試料薄膜部２への未加
工部からの応力集中を防ぐことにより、試料薄膜部の変
形を未然に防ぐことが可能になる。さらに、予めダイシ
ングソーなどによって成形加工をした試料は、そのサイ
ズが小さいということもあり、接着剤を用いて金属ディ
スクに接着固定するのは熟練を必要とする。また、透過
電子顕微鏡で観察する際に、接着剤から発生するガスが
汚れとなって観察視野に付着する場合もある。これら２
点の回避策としても、本実施例の効果は更に大きくな
る。
と固定ねじ５により直接固定し、試料薄膜部２への未加
工部からの応力集中を防ぐことにより、試料薄膜部の変
形を未然に防ぐことが可能になる。さらに、予めダイシ
ングソーなどによって成形加工をした試料は、そのサイ
ズが小さいということもあり、接着剤を用いて金属ディ
スクに接着固定するのは熟練を必要とする。また、透過
電子顕微鏡で観察する際に、接着剤から発生するガスが
汚れとなって観察視野に付着する場合もある。これら２
点の回避策としても、本実施例の効果は更に大きくな
る。
【０００９】図２は本発明の一実施例の試料ホルダの側
面図である。この場合、イオンビームは紙面に垂直上か
ら入射する。同図で、固定板の保持部６はスプリング７
をはさむ形で構成されている。さらに、固定板４にはス
トレス−ストレインゲージ８が取り付けてある。さら
に、ストレス−ストレインゲージ８には、電圧電源９と
表示計１０が接続されている。固定板の保持部６は、ス
プリング７によって矢印方向での移動が可能であり、加
工中の試料へ圧縮および引っ張り応力が印加できる。ま
た、ストレス−ストレインゲージ８の表示計１０によ
り、試料へ印加されたときの圧縮および引っ張り量をモ
ニタすることができる。本実施例によれば、集束イオン
ビームによる薄膜試料作製において、試料に圧縮および
引っ張り応力を印加した状態で加工することができ、二
次電子像によりその材料の形態変化をリアルタイムで観
察することができる。
面図である。この場合、イオンビームは紙面に垂直上か
ら入射する。同図で、固定板の保持部６はスプリング７
をはさむ形で構成されている。さらに、固定板４にはス
トレス−ストレインゲージ８が取り付けてある。さら
に、ストレス−ストレインゲージ８には、電圧電源９と
表示計１０が接続されている。固定板の保持部６は、ス
プリング７によって矢印方向での移動が可能であり、加
工中の試料へ圧縮および引っ張り応力が印加できる。ま
た、ストレス−ストレインゲージ８の表示計１０によ
り、試料へ印加されたときの圧縮および引っ張り量をモ
ニタすることができる。本実施例によれば、集束イオン
ビームによる薄膜試料作製において、試料に圧縮および
引っ張り応力を印加した状態で加工することができ、二
次電子像によりその材料の形態変化をリアルタイムで観
察することができる。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、集束イオンビームを用
いて透過電子顕微鏡の試料などを作製する場合、加工試
料の両端を直接固定することにより、未加工部からの加
工部（薄膜部）への応力集中を緩和することができ、試
料作製中に導入されるひずみを未然に防ぐことができ
る。さらに、試料固定部の一方を移動することにより、
加工中の試料へ圧縮および引っ張り応力が印加でき、材
料の形態変化の観察が可能になる。
いて透過電子顕微鏡の試料などを作製する場合、加工試
料の両端を直接固定することにより、未加工部からの加
工部（薄膜部）への応力集中を緩和することができ、試
料作製中に導入されるひずみを未然に防ぐことができ
る。さらに、試料固定部の一方を移動することにより、
加工中の試料へ圧縮および引っ張り応力が印加でき、材
料の形態変化の観察が可能になる。
【図１】本発明の一実施例の試料ホルダへの試料の固定
法の説明図。
法の説明図。
【図２】本発明の一実施例の試料への圧縮および引っ張
り応力が印加できる試料ホルダの説明図。
り応力が印加できる試料ホルダの説明図。
１…試料、２…試料薄膜部、３…イオンビーム、４…固
定板、５…固定ねじ、６…固定板の保持部、７…スプリ
ング、８…ストレス−ストレインゲージ、９…ゲージ電
圧電源、１０…表示部。
定板、５…固定ねじ、６…固定板の保持部、７…スプリ
ング、８…ストレス−ストレインゲージ、９…ゲージ電
圧電源、１０…表示部。
Claims (3)
- 【請求項１】イオン銃から放出されたイオンを試料面上
に照射することにより、試料加工を行う集束イオンビー
ム加工装置において、試料の両端を機械的に固定する機
構を備えたことを特徴とする集束イオンビーム加工用試
料ホルダ。 - 【請求項２】請求項１において、試料固定部の一方を移
動することにより、加工中の試料へ圧縮および引張り応
力が印加できる集束イオンビーム加工用試料ホルダ。 - 【請求項３】請求項２において、前記試料への圧縮，引
張り応力量を表示することが可能な集束イオンビーム加
工用試料ホルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8247525A JPH1092365A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 集束イオンビーム加工用試料ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8247525A JPH1092365A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 集束イオンビーム加工用試料ホルダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092365A true JPH1092365A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17164799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8247525A Pending JPH1092365A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 集束イオンビーム加工用試料ホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092365A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101076076B1 (ko) | 2009-09-28 | 2011-10-21 | 현대제철 주식회사 | 주사 전자 현미경의 시편 홀더장치 |
| KR101307874B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-09-12 | 한국기초과학지원연구원 | 금속시편의 집속이온빔 가공을 위한 시편보호블럭 및 그 고정장치 |
| CN104422605A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-18 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种tem样品的制备方法 |
| JP2020205289A (ja) * | 2015-02-23 | 2020-12-24 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料加工評価装置 |
-
1996
- 1996-09-19 JP JP8247525A patent/JPH1092365A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101076076B1 (ko) | 2009-09-28 | 2011-10-21 | 현대제철 주식회사 | 주사 전자 현미경의 시편 홀더장치 |
| KR101307874B1 (ko) * | 2011-09-20 | 2013-09-12 | 한국기초과학지원연구원 | 금속시편의 집속이온빔 가공을 위한 시편보호블럭 및 그 고정장치 |
| CN104422605A (zh) * | 2013-08-27 | 2015-03-18 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种tem样品的制备方法 |
| JP2020205289A (ja) * | 2015-02-23 | 2020-12-24 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 試料加工評価装置 |
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