JPH1092786A - 半導体ウエハの乾燥方法 - Google Patents
半導体ウエハの乾燥方法Info
- Publication number
- JPH1092786A JPH1092786A JP24448096A JP24448096A JPH1092786A JP H1092786 A JPH1092786 A JP H1092786A JP 24448096 A JP24448096 A JP 24448096A JP 24448096 A JP24448096 A JP 24448096A JP H1092786 A JPH1092786 A JP H1092786A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- rotation
- shaft
- drying
- revolving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体ウエハ表面の乾燥残渣を少なくし、且つ
処理枚数を多くできる半導体ウエハの乾燥方法を提供す
ること。 【解決手段】中心に半導体ウエハ１０（点線で示す）を
公転させる公転軸１があり、この公転軸１の回転力がギ
ヤ２、ギヤ３を使って自転軸４に伝達される。公転軸１
より自転軸４の直径が小さいため、自転軸４の回転数は
公転軸１の回転数より多い。自転軸４にはウエハ治具５
が取り付けられており自転軸４と同期して回転し、半導
体ウエハ１０はウエハ治具５で固定され、ウエハ治具５
の回転に合わせて自転する。また公転軸１の回転により
半導体ウエハ１０は公転軸１の回りを公転軸１の回転に
合わせて公転する。自転の回転数を多くし、且つ公転を
加えることで、半導体ウエハ１０上の乾燥残渣を少なく
して、処理枚数の多い乾燥を行うことができる。
処理枚数を多くできる半導体ウエハの乾燥方法を提供す
ること。 【解決手段】中心に半導体ウエハ１０（点線で示す）を
公転させる公転軸１があり、この公転軸１の回転力がギ
ヤ２、ギヤ３を使って自転軸４に伝達される。公転軸１
より自転軸４の直径が小さいため、自転軸４の回転数は
公転軸１の回転数より多い。自転軸４にはウエハ治具５
が取り付けられており自転軸４と同期して回転し、半導
体ウエハ１０はウエハ治具５で固定され、ウエハ治具５
の回転に合わせて自転する。また公転軸１の回転により
半導体ウエハ１０は公転軸１の回りを公転軸１の回転に
合わせて公転する。自転の回転数を多くし、且つ公転を
加えることで、半導体ウエハ１０上の乾燥残渣を少なく
して、処理枚数の多い乾燥を行うことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、製造工程中の半
導体ウエハを洗浄したあと、乾燥させる場合の乾燥方法
に関する。
導体ウエハを洗浄したあと、乾燥させる場合の乾燥方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造において、半導体
ウエハにｐ形不純物やｎ形不純物を拡散したり、絶縁膜
を被覆したりする。その製造工程の各段階で半導体ウエ
ハの表面を清浄にすることが、デバイス特性の確保上お
よび信頼性の確保上において重要である。半導体ウエハ
の表面を清浄にするためには、半導体ウエハの表面を化
学処理した後、純水などで洗浄し、乾燥させる。洗浄後
の半導体ウエハを乾燥させる場合、半導体ウエハを高速
回転させて、遠心力で半導体ウエハ表面を乾燥させるリ
ンサードライヤー（洗浄後乾燥させる装置のこと）が一
般に使用されている。このリンサードライヤーには、半
導体ウエハを自転させるタイプ（スピンドライヤーがこ
れに当たる）と公転させるタイプがある。前者は、高速
の回転をさせることで、乾燥残渣（乾燥後半導体ウエハ
表面に残された異物のこと）を少なくすることができ
る。また後者は、前者に比べて処理枚数を多くすること
ができる。
ウエハにｐ形不純物やｎ形不純物を拡散したり、絶縁膜
を被覆したりする。その製造工程の各段階で半導体ウエ
ハの表面を清浄にすることが、デバイス特性の確保上お
よび信頼性の確保上において重要である。半導体ウエハ
の表面を清浄にするためには、半導体ウエハの表面を化
学処理した後、純水などで洗浄し、乾燥させる。洗浄後
の半導体ウエハを乾燥させる場合、半導体ウエハを高速
回転させて、遠心力で半導体ウエハ表面を乾燥させるリ
ンサードライヤー（洗浄後乾燥させる装置のこと）が一
般に使用されている。このリンサードライヤーには、半
導体ウエハを自転させるタイプ（スピンドライヤーがこ
れに当たる）と公転させるタイプがある。前者は、高速
の回転をさせることで、乾燥残渣（乾燥後半導体ウエハ
表面に残された異物のこと）を少なくすることができ
る。また後者は、前者に比べて処理枚数を多くすること
ができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、自転させるタ
イプは一回の処理枚数が１枚と少なく、一方、公転させ
るタイプは半導体ウエハの割れが発生しやすいため、回
転数を上げられず、乾燥が不十分で乾燥残渣が多いとい
う課題がある。この発明の目的は、前記課題を解決し
て、半導体ウエハ表面の乾燥残渣を少なくし、且つ処理
枚数を多くできる半導体ウエハの乾燥方法を提供するこ
とにある。
イプは一回の処理枚数が１枚と少なく、一方、公転させ
るタイプは半導体ウエハの割れが発生しやすいため、回
転数を上げられず、乾燥が不十分で乾燥残渣が多いとい
う課題がある。この発明の目的は、前記課題を解決し
て、半導体ウエハ表面の乾燥残渣を少なくし、且つ処理
枚数を多くできる半導体ウエハの乾燥方法を提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、半導体ウエハの洗浄後の乾燥方法において、半導
体ウエハを自転させながら、且つ公転させることで、半
導体ウエハの表面に付着している洗浄液を除去して半導
体ウエハを乾燥させる方法とする。この半導体ウエハの
自転の回転数が公転の回転数より多いとよい。また複数
個の半導体ウエハを同時に乾燥処理してもよい。
めに、半導体ウエハの洗浄後の乾燥方法において、半導
体ウエハを自転させながら、且つ公転させることで、半
導体ウエハの表面に付着している洗浄液を除去して半導
体ウエハを乾燥させる方法とする。この半導体ウエハの
自転の回転数が公転の回転数より多いとよい。また複数
個の半導体ウエハを同時に乾燥処理してもよい。
【０００５】
【発明の実施の形態】図１は第１実施例で、半導体ウエ
ハの自転、公転を実現する装置の要部構成図である。中
心に半導体ウエハ１０（点線で示す）を公転させる公転
軸１があり、この公転軸１の回転力がギヤ２、ギヤ３を
使って自転軸４に伝達される。公転軸１より自転軸４の
直径が小さいため、自転軸４の回転数は公転軸１の回転
数より多い。この実施例では自転軸４は公転軸１の回り
に４等分間隔で配置されており、バランスがとれるよう
になっている。また、自転軸４にはウエハ治具５が取り
付けられており自転軸４と同期して回転する。半導体ウ
エハ１０はウエハ治具５で固定され、ウエハ治具５の回
転に合わせて自転する。また公転軸１の回転により半導
体ウエハ１０は公転軸１の回りを公転軸１に合わせて公
転する。ウエハ治具５で固定された半導体ウエハ１０は
矢印７のように公転し、且つ矢印８のように自転する。
前記したように自転の回転数は公転の回転数より多い。
自転の回転数を多くし、且つ公転を加えることで、半導
体ウエハ１０上の乾燥残渣を少なくして、処理枚数の多
い乾燥を行うことができる。
ハの自転、公転を実現する装置の要部構成図である。中
心に半導体ウエハ１０（点線で示す）を公転させる公転
軸１があり、この公転軸１の回転力がギヤ２、ギヤ３を
使って自転軸４に伝達される。公転軸１より自転軸４の
直径が小さいため、自転軸４の回転数は公転軸１の回転
数より多い。この実施例では自転軸４は公転軸１の回り
に４等分間隔で配置されており、バランスがとれるよう
になっている。また、自転軸４にはウエハ治具５が取り
付けられており自転軸４と同期して回転する。半導体ウ
エハ１０はウエハ治具５で固定され、ウエハ治具５の回
転に合わせて自転する。また公転軸１の回転により半導
体ウエハ１０は公転軸１の回りを公転軸１に合わせて公
転する。ウエハ治具５で固定された半導体ウエハ１０は
矢印７のように公転し、且つ矢印８のように自転する。
前記したように自転の回転数は公転の回転数より多い。
自転の回転数を多くし、且つ公転を加えることで、半導
体ウエハ１０上の乾燥残渣を少なくして、処理枚数の多
い乾燥を行うことができる。
【０００６】図２は第２実施例で、半導体ウエハの自
転、公転を実現する装置の要部構成図である。図１との
違いは公転軸１の回転をベルト６で自転軸４に伝達して
いる点である。こうすることで、図１と同様な動作と効
果が得られ、且つギヤをベルトに代えることで摩耗を少
なくできる。尚、図１および図２では半導体ウエハを４
枚同時に処理する場合を示したが必要に応じて、処理枚
数を増減しても構わない。また、製造工程段階で形成さ
れた酸化膜などの絶縁膜やポリシリコン膜などが半導体
ウエハの表面に被着されている場合でも勿論本発明は使
用できる。
転、公転を実現する装置の要部構成図である。図１との
違いは公転軸１の回転をベルト６で自転軸４に伝達して
いる点である。こうすることで、図１と同様な動作と効
果が得られ、且つギヤをベルトに代えることで摩耗を少
なくできる。尚、図１および図２では半導体ウエハを４
枚同時に処理する場合を示したが必要に応じて、処理枚
数を増減しても構わない。また、製造工程段階で形成さ
れた酸化膜などの絶縁膜やポリシリコン膜などが半導体
ウエハの表面に被着されている場合でも勿論本発明は使
用できる。
【０００７】
【発明の効果】この発明によれば、半導体ウエハを高速
で自転させながら、公転運動を加えることで、乾燥残渣
の少ない、且つ処理枚数の多い半導体ウエハの乾燥方法
とすることができる。
で自転させながら、公転運動を加えることで、乾燥残渣
の少ない、且つ処理枚数の多い半導体ウエハの乾燥方法
とすることができる。
【図１】第１実施例で、半導体ウエハの自転、公転を実
現する装置の要部構成図
現する装置の要部構成図
【図２】第２実施例で、半導体ウエハの自転、公転を実
現する装置の要部構成図
現する装置の要部構成図
１ 公転軸 ２ ギヤ ３ ギヤ ４ 自転軸 ５ ウエハ治具 ６ ベルト ７ 矢印 ８ 矢印 １０ 半導体ウエハ
Claims (3)
- 【請求項１】半導体ウエハの洗浄後の乾燥方法におい
て、半導体ウエハを自転させながら、且つ公転させるこ
とで、半導体ウエハの表面に付着している洗浄液を除去
して半導体ウエハを乾燥させることを特徴とする半導体
ウエハの乾燥方法。 - 【請求項２】半導体ウエハの自転の回転数が公転の回転
数より多いことを特徴とする請求項１記載の半導体ウエ
ハの乾燥方法。 - 【請求項３】複数個の半導体ウエハを同時に乾燥処理す
ることを特徴とする請求項１記載の半導体ウエハの乾燥
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24448096A JPH1092786A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 半導体ウエハの乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24448096A JPH1092786A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 半導体ウエハの乾燥方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092786A true JPH1092786A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17119300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24448096A Pending JPH1092786A (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 半導体ウエハの乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1092786A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113758178A (zh) * | 2021-08-16 | 2021-12-07 | 安徽荣泰玻璃制品有限公司 | 一种玻璃瓶生产用原料烘干装置 |
| CN116045617A (zh) * | 2022-12-27 | 2023-05-02 | 安徽和佳医疗用品科技有限公司 | 医用pvc手套生产加工用干燥设备 |
-
1996
- 1996-09-17 JP JP24448096A patent/JPH1092786A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113758178A (zh) * | 2021-08-16 | 2021-12-07 | 安徽荣泰玻璃制品有限公司 | 一种玻璃瓶生产用原料烘干装置 |
| CN116045617A (zh) * | 2022-12-27 | 2023-05-02 | 安徽和佳医疗用品科技有限公司 | 医用pvc手套生产加工用干燥设备 |
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