JPH1099680A

JPH1099680A - イオウ化合物の処理方法、処理材及び硫化水素処理材

Info

Publication number: JPH1099680A
Application number: JP14770497A
Authority: JP
Inventors: Kenji Seki; 建司関; Kazuaki Mori; 和亮森; Satoshi Takamizawa; 聡高見澤
Original assignee: Osaka Gas Co Ltd
Current assignee: Osaka Gas Co Ltd
Priority date: 1996-06-07
Filing date: 1997-06-05
Publication date: 1998-04-21

Abstract

(57)【要約】【課題】イオウ化合物を常温に近い環境条件にあって
も効率的に分離除去できるイオウ化合物の処理方法を得
ること。【解決手段】イオウ化合物を含む処理対象から前記イ
オウ化合物を分離して除去処理するイオウ化合物の処理
方法であって、吸着材としての１次元又は３次元チャン
ネル構造を有する有機金属錯体に、前記イオウ化合物を
吸着させて、前記イオウ化合物を前記処理対象より分離
除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、各家庭に
供給される都市ガス（例えば天然ガス）中に含有される
イオウ化合物を、このガスより除去、回収処理するイオ
ウ化合物の処理方法、あるいは、このような方法で分離
されるイオウ化合物を、残余のガスとを別々に回収する
技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のイオウ化合物除去が必要な例と
しては、悪臭の元である硫化水素等の除去、天然ガスに
添加される付臭剤の除去等を挙げることができる。ここ
で、前者の例は、悪臭の除去が目的であり、このような
目的のためには、従来、活性炭の使用が一般的である。
一方、後者の例は、天然ガスを燃料電池に対する水素源
として利用する場合に、生じる。即ち、メタンの水素へ
のリフォーマでの変換操作においては、触媒としてＣｕ
−Ｚｎ系金属が使用されるが、ガス中に付臭剤がある
と、この触媒が被毒する。これを回避するために、付臭
剤を除去する必要がある。従って、従来、付臭剤を直接
除去するにあたり、１００〜２５０℃の温度条件下で、
酸化銅、酸化亜鉛または両者の混合物である脱硫触媒
に、付臭剤を含んだ天然ガスを流通させて除去してい
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、活性炭
を使用して、イオウ化合物を分離除去しようとすると、
その除去には、限界がある。一方、金属触媒を利用し
て、イオウ化合物を除去しようとすると、その反応温度
が高い故の問題が残存し、装置構成も複雑になるという
問題があった。従って、本発明の目的は、上記課題を解
決することにあり、イオウ化合物を常温に近い環境条件
にあっても効率的に分離除去できるイオウ化合物の処理
方法を得ることにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】

〔構成〕この目的を達成するための本発明による請求項
１に係わる、イオウ化合物を含む処理対象からイオウ化
合物を分離して除去処理するイオウ化合物の処理方法の
特徴手段は、これが、吸着材としての１次元又は３次元
チャンネル構造を有する有機金属錯体に、イオウ化合物
を吸着させて、イオウ化合物を処理対象より除去処理す
ることにある。〔作用・効果〕本願において吸着材として使用する１次
元又は３次元チャンネル構造を有する有機金属錯体は、
イオウ化合物に対する吸着、脱離能を有するものであ
り、しかも、この能力は、常温環境下においても、これ
が発揮される。さらに、その構造上、空隙の大きさが揃
っているために、比較的選択性よく、所望の吸着対象物
を吸着して、他の成分から分離することができる。例え
ば、悪臭成分としてのイオウ化合物を含む処理対象ガス
が吸着材に接触する状態にあっては、イオウ化合物が選
択的に吸着材に、その温度状態、圧力状態に起因して、
吸脱着される。従って、例えば、処理対象ガス中にイオ
ウ化合物が含有されている場合は、このガスを先に説明
した有機金属錯体に接触させることにより、処理対象ガ
スからイオウ化合物を分離除去することができる。

【０００５】このような特性を有する有機金属錯体は、
（１）分子内の点対称位置に配置された２個のカルボキ
シル基を有するジカルボン酸と金属イオンにより形成さ
れる錯体（テレフタル酸銅、フマル酸銅、１，４−トラ
ンス−シクロヘキサンジカルボン酸銅、４，４’−ビフ
ェニルジカルボン酸銅、２，６−ナフタレンジカルボン
酸銅、ｐ−フェニレジ酢酸銅等）、（２）剛直な骨格の
両末端に金属イオンに配位可能な原子を有する２座配位
可能な有機配位子と２価の金属イオンにより形成される
錯体（以下の化学式で表現されるもの等

【０００６】

【化１】Ｍ（ｂｐｙ）_m（Ａ^-）₂ （ＭはＣｏ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｚｎより選ばられ金属イオ
ン、Ａは陰イオン基、ｍは１．５または２であり、ｂｐ
ｙは４，４’−ビピリジルを表す））

【０００７】又は（３）剛直な骨格の両末端に金属イオ
ンに配位可能な原子を有する２座配位可能な有機配位
子、２，３−ピラジンジカルボン酸と２価の金属イオン
により形成される錯体（以下の化学式で表現されるもの
等

【０００８】

【化２】Ｃｕ（ｂｐｙ）（ｐｙｚｄｃ）₂ （ｂｐｙは４，４’−ビピリジル、ｐｙｚｄｃは２，３
−ピラジンジカルボン酸を表す））

【０００９】の少なくとも１種が例示できる。これらの
錯体は、有機配位子の溶液と原料である金属塩の溶液を
混合、反応させることにより得られる。

【００１０】（１）の錯体を構成する有機配位子であ
る、分子内の点対称位置に配置された２個のカルボキシ
ル基を有するジカルボン酸としては、テレフタル酸、フ
マル酸、１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン
酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸が例示される。
また、金属イオンとしては、銅イオン、クロムイオン、
モリブデンイオン、ロジウムイオン、パラジウムイオ
ン、タングステンイオン、が例示でき、前記ジカルボン
酸と組み合わせて錯体が形成される。

【００１１】（２）の錯体を構成する有機配位子として
は、ピラジン、４，４’−ビピリジル、トランス−１，
２−ビス（４−ピリジル）エチレン、１，４−ジシアノ
ベンゼン、４，４’−ジシアノビフェニル、１，２−ジ
シアノエチレン、１，４−ビス（４−ピリジル）ベンゼ
ンより選択されるものが好ましく、金属イオンとしては
２価の金属イオンが使用され、具体的にはＣｏ、Ｎｉ、
Ｃｕ、Ｚｎより選択されるものの使用が好ましい。

【００１２】（３）の錯体を構成する有機配位子は、
（２）に使用される有機配位子の１種とピラジンジカル
ボン酸が併用され、金属イオンとしては（２）と同じも
のが使用される。

【００１３】これらの有機金属錯体の製造は、有機配位
子の溶液と原料の金属塩の溶液を準備してこれらを混合
し、反応させることにより行う。使用される溶剤は有機
配位子、金属イオンと反応したり錯体を形成するもので
なければ特に制限されない。また、金属イオンの対イオ
ンもその金属塩の溶剤への溶解性、生成する錯体の１次
元又は３次元チャンネル構造の形成を阻害するものでな
ければ特に限定されない。（１）の錯体の製造において
は、ジカルボン酸の溶液に有機酸を添加してｐＨを調整
することが好ましく、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、
プロピオン酸等が使用できる。

【００１４】前記（１）〜（３）の有機金属錯体はＸ線
回折のパターンの解析により、１次元又は３次元チャン
ネル構造を有していることが判る。例えは（１）の錯体
としてテレフタル酸銅を例に取って説明すると、銅は平
面４配位であり、２個の銅イオンをテレフタル酸４分子
が９０°ごとに囲むようにして配置し、カルボキシル基
の２個の酸素原子はそれぞれ別の銅イオンに配位してい
る。即ち、テレフタル酸分子は格子状に配列し、その格
子点に２個の銅イオンが存在する。そして、銅イオンと
ジカルボン酸より形成される層が積層された形で結晶が
構成されている。その結果、格子が積層されて１次元チ
ャンネルが形成される。（２）の錯体として、

【化３】Ｎｉ（ｂｐｙ）_1.5（ＣｌＯ₄）₂ （ｂｐｙは４，４’−ビピリジルを表す））なる組成の
錯体について説明すると、１個のＮｉイオンの周囲、平
面上９０°毎に、４，４’−ビピリジルが４分子Ｎ原子
により配位し、４，４’−ビピリジルは他のＮ原子によ
りそれぞれ別のＮｉイオンに配位し、平面状の格子を形
成し、この格子が、Ｎｉイオンが直線状に並ぶように積
層して結晶が構成されており、格子が積層により、連続
して１次元チャンネルまたは３次元のチャンネルを形成
する。また、（３）の錯体として、

【化４】Ｃｕ（ｂｐｙ）（ｐｙｚｄｃ）₂ （ｂｐｙは４，４’−ビピリジル、ｐｙｚｄｃは２，３
−ピラジンジカルボン酸を表す））なる組成を有する錯
体の例として説明すると、２，３−ピラジンジカルボン
酸が銅イオンに配位して平面状の構造を形成し、この平
面を銅イオンに配位した４，４’−ビピリジルが結合す
る形で積層し結晶が構成され、この層関にチャンネル構
造が形成される。従って、この場合もまた、１次元チャ
ンネルまたは３次元のチャンネルを形成する。

【００１５】〔構成〕上記の方法を適応する場合に、イ
オウ化合物が処理対象ガス中に含有される付臭剤として
の、ｔ−ブチルメルカプタンもしくはメチルサルファイ
ドであり、前記吸着材が、１次元又は３次元チャンネル
構造を有する有機金属錯体であるとともに、その構成金
属に銅を含むであることが好ましい。この構成が請求項
２に係わる。即ち、本願の吸着材は、ｔ−ブチルメルカ
プタンもしくはメチルサルファイドに対して、吸着能を
有するため、このを含有する処理対象ガスを接触させる
ことにより、これらが吸着除去される。さらに、金属と
して銅を構成金属として含む有機金属錯体に接触させる
と、被吸着物に存在するイオウ分と銅との結合が形成さ
れ、これらをさらに良好に吸着除去することができる。
先にも説明したように、燃料電池への水素供給を目的と
して、付臭剤が添加された天然ガスから、付臭剤を除去
しようとする場合等に好適に使用することができる。即
ち、リフォーマにおける触媒の被毒を回避して、長期間
にわたって、同一の触媒を使用することが可能となる。
一方、本願の方法は、必ずしも高温条件を必要としない
ため、装置構成の簡易化、使用環境の良化を達成でき
る。

【００１６】これまで説明してきた例にあっては、おも
に、イオウ化合物の除去のみを目的としてした処理方法
について説明したが、本願の特徴手段を適応する場合
は、処理対象からのイオウ化合物の除去に加えて、その
分離回収、及び、このイオウ化合物の割合が減少したも
のを回収することも可能となる。この構成について以下
説明する。〔構成〕即ち、イオウ化合物を含む処理対象ガスを処理
する場合に、以下のような手段を取るのである。この構
成が本願の請求項３に対応する。処理対象ガスを吸着材
に接触させてイオウ化合物を吸着材に吸着させるととも
に、残余のガスを捕集してイオウ化合物が少ない第１分
離ガスを得る第１工程と、この第１工程で吸着材に吸着
されたイオウ化合物を吸着材から脱離させて、脱離して
くるガスを捕集して前記イオウ化合物が多い第２分離ガ
スを得る第２工程とからなり、吸着材として、１次元又
は３次元チャンネル構造を有する有機金属錯体を使用し
て、第２分離ガスと第１分離ガスとを各別に得ることと
するのである。〔作用〕第１工程において、処理対象ガスを吸着材に接
触させて、吸着材にイオウ化合物を吸着させて、この成
分の少ない第１分離ガスを得る。この処理に続いて、吸
着されているイオウ化合物を吸着材から脱離させて、第
２工程で、イオウ化合物の多い第２分離ガスを得るので
ある。このようにすると、先に説明したイオウ化合物の
除去をするのみならず、イオウ化合物の回収をも、本願
独特の吸着材としての１次元又は３次元チャンネル構造
を有する有機金属錯体を利用しておこなうことができ
る。〔構成〕このような分離・回収をおこなう対象として
は、前記イオウ化合物が、処理対象ガス中に含有される
付臭剤としてのｔ−ブチルメルカプタンもしくはメチル
サルファイドであり、前記１次元又は３次元チャンネル
構造を有する有機金属錯体であり、構成金属として銅を
含むものであることが好ましい。この構成が請求項４に
係わる。〔作用〕先に説明したように、付臭剤としてのｔ−ブチ
ルメルカプタンもしくはメチルサルファイドは、１次元
又は３次元チャンネル構造を有する有機金属錯体に吸着
される。さらにこのような付臭剤は、このような吸着材
から、所定の圧力条件、温度条件で脱離する。従って、
付臭剤側に関しては、これを、例えば、処理対象ガスと
しての天然ガスから分離して、回収して、再使用の用途
に使用することが可能となる。ここで、金属錯体を成す
構成金属に銅が含まれていると、イオウとの結合が起こ
り、さらに高い吸着性能を発揮することができる。

【００１７】一方、天然ガス側からは、被毒作用を持つ
付臭剤の除去を的確に行って、例えば、燃料電池の原料
ガスとして使用する場合に、メタン−水素変換触媒の寿
命を長くできる処理をおこなうことができる。この場
合、常温で、この効果を得られることは、工業上、非常
に有利である。従って、上記のような１次元又は３次元
チャンネル構造を有する有機金属錯体は、イオウ化合物
の処理材として使用することができる。一方、このよう
な有機金属錯体は、イオウ化合物の一種としての主な悪
臭成分である硫化水素を吸着するため、例えば室内の悪
臭除去に有効である。

【００１８】尚、前記有機金属錯体が、フマル酸銅、
１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸銅、テ
レフタル酸銅から選ばれる少なくとも一種以上のもので
ある場合には、イオウ化合物に対して特に高い飽和吸着
量を示す（実験においては二酸化硫黄）とともに、温度
変化に対する可逆的な吸脱着性能を示すことがわかり、
イオウ化合物の除去処理に大きく役立つことがわかっ
た。

【００１９】

【発明の実施の形態】本願のイオウ化合物の処理方法を
使用して、処理対象ガスからイオウ化合物を除去して、
回収するガス処理装置１を、以下、図面に基づいて説明
する。以下に説明する例にあっては、一例としての天然
ガスに、イオウ化合物としての付臭剤（ｔ−ブチルメル
カプタンとジメチルサルファイド）が添加された処理対
象ガス（メタンを主成分とする天然ガス）から、前記付
臭剤を除去し、さらに、この除去作業によって得られた
付臭剤を回収する場合について説明する。図１に示すよ
うに、ガス処理装置１は、吸着材２を収納する吸着材収
納室３を備えるとともに、この吸着材収納室３に対して
処理対象ガスを供給、供給停止自在な処理対象ガス供給
路４と、この吸着材収納室３から排出されるガスを各路
間で選択的に回収自在な第１回収路５と第２回収路６と
を備えて構成されている。即ち、前述の処理対象ガス供
給路４は、その下手側が吸収材収納室３に接続されてお
り、その途中に、ガスの供給と供給停止状態との間で路
を切り換え自在な供給側切り換え弁７が備えられてい
る。さらに、第１回収路５及び第２回収路６は、夫々そ
の上手側が吸収材収納室３に接続されており、それぞれ
に、第１切り換え弁８、第２切り換え弁９が備えられて
いる。そして、原則的には、供給側切り換え弁７が開の
状態で、第１切り換え弁８が開、第２切り換え弁９が閉
の状態が設定できるように構成され、さらに、供給側切
り換え弁７が閉の状態で、第１切り換え弁８が閉、第２
切り換え弁９が開の状態に設定できるように構成されて
いる。ここで、前者の状態が第１分離状態、後者の状態
が第２分離状態に対応する。一方、前述の第２回収路６
には吸引用のポンプ１０が備えられており、このポンプ
１０が働き、第２切り換え弁９が開、第１切り換え弁８
が閉の状態にある場合（第２分離状態に対応）に、吸着
材収納室３を真空排気状態（低圧状態）に維持できるよ
うになっている。さらに、第１切り換え弁８が開、第２
切り換え弁９が閉の状態にある場合（第１分離状態に対
応）には、吸着材収納室内は、ほぼ常圧で、供給側から
ガスが供給される状態になる。従って、このポンプ１０
は、その作動状態と非作動状態（但し他の弁との協働）
によって、吸着材収納室内の圧力が二つの異なった圧力
状態に維持できる圧力設定機構として働く。

【００２０】以上の構成を採用することにより、本願の
ガス処理装置１は、処理対象ガスを吸着材収納室３に導
いて付臭剤（イオウ化合物の一例）を吸着材に吸着させ
るとともに、残余のガス（天然ガス）を第１回収路５に
導いて捕集する第１分離状態と、吸着材２に吸着される
付臭剤を吸着材２から脱離させて、脱離してくる付臭剤
を第２回収路６に導いて捕集する第２分離状態との間
で、状態選択自在に構成されている。

【００２１】上記の吸着材収納室内には、吸着材２の一
例としてフマル酸銅が収納されている。前記圧力設定機
構は、吸着材収納室内の圧力を、吸着材２が吸着動作す
る吸着状態（第１分離状態）において所定の圧力状態
（非真空状態）に、吸着材２が脱離動作する脱離状態
（第２分離状態）において真空に設定切り換え可能に構
成されている。

【００２２】以上が、本願のガス処理装置１の一構成形
態である。以下、この装置１を使用して分離を行った結
果について、以下、説明する。分離操作１先に説明し
たように、フマル酸銅を吸着材２として吸着材収納室内
に収納し、付臭剤を添加された天然ガスを吸着飽和にな
るまで１．０２ｋｇ／ｃｍ²Ｇの圧力にて流通させた。
この場合、処理対象ガス供給路４及び第１回収路５を開
状態とし、第２回収路６を閉状態とした（第１分離状
態）。この操作は、常温状態でおこなった。この操作を
第１工程と呼ぶ。得られた結果を説明すると、表１に示
すように、処理対象ガスから付臭剤成分のみを分離する
ことができた。

【００２３】

【表１】処理対象ガス組成ベースガス天然ガス添加物ｔ−ブチルメルカプタン約２．５ｐｐｍジメチルサルファイド約１．７ｐｐｍ第１回収路５に回収されたガスの成分組成付臭剤成分をｐｐｂ以下で検出せず。

【００２４】さらに、上記の第１工程の後、処理対象ガ
ス供給路４及び第１回収路５を閉状態とし、第２回収路
６を開状態とした（第２分離状態）。但し、この状態に
あっては、ポンプ１０を働かせて、吸着材収納室内を真
空排気して、内部のガスを第２回収路６に導いた。この
操作を第２工程と呼ぶ。結果、第２回収路６に、付臭剤
を回収することができた。さらに、比較例として、活性
炭による付臭剤の除去を試みたが、十分な除去効果を得
ることはできなった。

【００２５】以下に各種吸着材の吸着性能を前記フマル
酸銅との比較において示す。（１）まず、前記フマル酸銅を製造する場合の一例に
ついて説明する。メタノール１００ｃｍ³及び蟻酸１２
ｃｍ³の混合溶媒にフマル酸１．２ｇを溶解した。その
溶液を、常温に冷却後攪拌しながら、蟻酸銅３．３８ｇ
をメターノール１００ｃｍ³に溶解した溶液を滴下し、
１日〜数日静置した。その後、沈澱物を吸引濾過し、１
２０℃／４時間真空乾燥させ、所望のフマル酸銅を１．
３７ｇ得ることができた。このフマル酸銅に対して、硫
黄酸化物（ＳＯ₂）を吸着させ、マイクロ天秤を用いた
重量法により飽和吸着量を調べたところ、ガス圧２０ｍ
ｍＨｇにおいて８１Ｎｃｍ³／ｇ（２５０Ｋ）であっ
た。

【００２６】（２）１，４−トランス−シクロヘキサ
ンジカルボン酸銅の製造例メタノール１００ｃｍ³及び蟻酸１４ｃｍ³の混合溶媒
に１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸２．
５３ｇを溶解した。その溶液を、常温に冷却後攪拌しな
がら、蟻酸銅３．３ｇをメターノール１００ｃｍ³に溶
解した溶液を滴下し、１日〜数日静置した。その後、沈
澱物を吸引濾過し、１２０℃／４時間真空乾燥させ、所
望の１，４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸銅
を１．７１ｇ得ることができた。この１，４−トランス
−シクロヘキサンジカルボン酸銅に対して、硫黄酸化物
（ＳＯ₂）を吸着させ、マイクロ天秤を用いた重量法に
より飽和吸着量を調べたところ、ガス圧２０ｍｍＨｇに
おいて９５Ｎｃｍ³／ｇ（２５０Ｋ）であった。また、
吸着等温線を測定したところ図４のようになった。この
図からはＳＯｘの吸脱着が温度変化によって円滑に行え
るということが読みとれる。

【００２７】（３）テレフタル酸銅の製造例メタノール８００ｃｍ³及び蟻酸３０ｃｍ³の混合溶媒
にテレフタル酸１．２ｇを溶解した。その溶液を、常温
に冷却後攪拌しながら、蟻酸銅３．０ｇをメタノール１
５０ｃｍ³に溶解した溶液を滴下し、１日〜数日静置し
た。その後、沈澱物を吸引濾過し、１２０℃／４時間乾
燥させ、所望のテレフタル酸銅を２．１０ｇ得ることが
できた。このテレフタル酸銅に対して、硫黄酸化物（Ｓ
Ｏ₂）を吸着させ、マイクロ天秤を用いた重量法により
飽和吸着量を調べたところ、ガス圧２０ｍｍＨｇにおい
て１５７Ｎｃｍ³／ｇ（２５０Ｋ）であった。

【００２８】〔別実施の形態〕本願の別実施の形態につ
いて以下説明する。（イ）上記の実施の形態においては、吸着材としてフ
マル酸銅を使用する例を示したが、これまで説明してき
たように、１次元又は３次元チャンネル構造を有する有
機金属錯体であれは、本願の目的は達成できる。さら
に、本願が、除去、回収しようとするものは、イオウを
含むものであるため、錯体内に銅を含むものは、イオウ
との結合を発生しやすく、広い意味での吸着能を発揮し
やすく好ましい。（ロ）上記の実施の形態においては、除去対象、回収
対象として、付臭剤の例を挙げたが、このような付臭剤
で、イオウを含むものとしては、テトラハイドロチオフ
ェン等もある。さらに、本願が対象とするイオウ化合物
は、付臭剤に限られるものではなく、一般的な悪臭源と
しての、イオウを含む化合物を対象とでき、例えば、付
臭剤を吸着除去できる吸着剤は、ＳＯ₂、Ｈ₂Ｓ、ＣＨ
₃ＳＨ、（ＣＨ₃）₂ＳＨ等も吸着、除去できるととも
に、逆も成り立つと考えられている。これら化合物を総
称して、イオウ化合物と呼ぶ。（ハ）上記の実施の形態にあっては、吸着材収納室３
を単一備えるものとし、第１回収路５と第２回収路６と
に交互に、所定のガスを導く構成としたが、連続的に相
互のガスを回収できる構成とすることも可能である。こ
のような構成を図２に示した。図示する構成の装置１０
０にあっては、一対の吸着材収納室３が備えられるとと
もに、これらの吸着材収納室３に接続される処理対象ガ
ス供給路４に、夫々、切り換え弁７０が備えられる。そ
して、各吸着材収納室３からの排出路５０を択一的に第
１回収路５及び第２回収路６に接続する２位置切り換え
弁８０を備えるのである。この場合も、各吸着材収納室
３に、圧力設定機構を備える。このようにしておくと、
一方の吸着材収納室３に処理対象ガスを供給する状態
で、この吸着材収納室３からの排出ガスを第１回収路５
に導くように構成し、さらに、他方の吸着材収納室３へ
の処理対象ガスの供給を遮断する状態で、この吸着材収
納室内にある吸着材２を脱離状態（具体的には減圧真空
状態）に維持し、この収納室３からの排出ガスを第２回
収路６に導くように構成する。そして、この状態を、相
互の吸着材収納室間で、交互に切り換え自在とするので
ある。このように構成しておくと、連続的な、分離回収
が可能となる。（ニ）上記の実施の形態にあっては、吸着材収納室３
に対して、その内部圧を２状態に切り換え設定可能な圧
力設定機構を設けたが、吸着状態と脱離状態の切り換え
は、室内の圧力によることなく、室内の温度により、吸
着、脱離をおこなう構成としてもよい。この場合は、圧
力設定機構の代わりに、室内の温度を任意の温度状態に
設定可能（実体上は２つの設定温度状態）な温度設定機
構１１を設けておけばよい。この構成を、図１に対応し
て、図３に示した。図３の構成においては、ポンプ１０
は必要ないが、これを備えておいてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願のガス処理装置の構成の模式図

【図２】本願のガス処理装置の別構成の形態例を示す図

【図３】本願のガス処理装置の別構成の形態例を示す図

【図４】１，４ートランス−シクロヘキサンジカルボン
酸の吸着等温線を示す図

【符号の説明】

２吸着材３吸着材収納室４処理対象ガス供給路５第１回収路６第２回収路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】イオウ化合物を含む処理対象から前記イ
オウ化合物を分離して除去処理するイオウ化合物の処理
方法であって、吸着材としての１次元又は３次元チャン
ネル構造を有する有機金属錯体に、前記イオウ化合物を
吸着させて、前記イオウ化合物を前記処理対象より分離
除去するイオウ化合物の処理方法。
【請求項２】前記イオウ化合物が、処理対象ガス中に
含有される付臭剤としてのｔ−ブチルメルカプタンもし
くはメチルサルファイドであり、前記吸着材が、前記１
次元又は３次元チャンネル構造を有する有機金属錯体で
あるとともに、その構成金属に銅を含む請求項１記載の
イオウ化合物の処理方法。
【請求項３】イオウ化合物を含む処理対象ガスを処理
するイオウ化合物の処理方法であって、前記処理対象ガスを吸着材に接触させて前記イオウ化合
物を前記吸着材に吸着させるとともに、残余のガスを捕
集して前記イオウ化合物が少ない第１分離ガスを得る第
１工程と、前記第１工程で前記吸着材に吸着された前記
イオウ化合物を前記吸着材から脱離させて、脱離してく
るガスを捕集して前記イオウ化合物が多い第２分離ガス
を得る第２工程とからなり、前記吸着材として１次元又は３次元チャンネル構造を有
する有機金属錯体を使用して、前記第２分離ガスと前記
第１分離ガスとを各別に得るイオウ化合物の処理方法。
【請求項４】前記イオウ化合物が、前記処理対象ガス
中に含有される付臭剤としてのｔ−ブチルメルカプタン
もしくはメチルサルファイドであり、前記吸着材が、前
記１次元又は３次元チャンネル構造を有する有機金属錯
体であるとともに、その構成金属に銅を含む請求項３記
載のイオウ化合物の処理方法。
【請求項５】前記有機金属錯体が、フマル酸銅、１，
４−トランス−シクロヘキサンジカルボン酸銅、テレフ
タル酸銅から選ばれる少なくとも一種以上のものである
請求項１〜４のいずれか１項に記載のイオウ化合物の処
理方法。
【請求項６】１次元又は３次元チャンネル構造を有す
る有機金属錯体からなるイオウ化合物処理材。
【請求項７】１次元又は３次元チャンネル構造を有す
る有機金属錯体からなる硫化水素処理材。