JPH11100551A - シリコーン被膜の剥離力を調節する方法およびシリコーン被膜に架橋しうる組成物 - Google Patents
シリコーン被膜の剥離力を調節する方法およびシリコーン被膜に架橋しうる組成物Info
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- JPH11100551A JPH11100551A JP10220266A JP22026698A JPH11100551A JP H11100551 A JPH11100551 A JP H11100551A JP 10220266 A JP10220266 A JP 10220266A JP 22026698 A JP22026698 A JP 22026698A JP H11100551 A JPH11100551 A JP H11100551A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 成分(A)アルケニル官能性ポリオルガノシ
ロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキサン
を包含するシリコーンコーティング組成物の架橋により
得られる、粘着性物質反発性シリコーン被膜の剥離力を
調節する。 【解決手段】 剥離力の調節を、組成物と不相溶性の基
0.1〜60モル%を有するSiH官能性オルガノシロ
キサン(B)の使用により行なう。その際該基は組成物
と、不相溶性基30モル%およびアルケニル官能性ポリ
オルガノシロキサン(A)9重量部からなる混合物が2
0℃で1よりも多い相を形成する場合に不相溶性とみな
す。 【効果】 剥離挙動を無段、再現可能および貯蔵時間独
立に調節できる。
ロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキサン
を包含するシリコーンコーティング組成物の架橋により
得られる、粘着性物質反発性シリコーン被膜の剥離力を
調節する。 【解決手段】 剥離力の調節を、組成物と不相溶性の基
0.1〜60モル%を有するSiH官能性オルガノシロ
キサン(B)の使用により行なう。その際該基は組成物
と、不相溶性基30モル%およびアルケニル官能性ポリ
オルガノシロキサン(A)9重量部からなる混合物が2
0℃で1よりも多い相を形成する場合に不相溶性とみな
す。 【効果】 剥離挙動を無段、再現可能および貯蔵時間独
立に調節できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコーン被膜の
剥離力を調節する方法およびシリコーン被膜に架橋しう
る組成物に関する。
剥離力を調節する方法およびシリコーン被膜に架橋しう
る組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】シリコーンコーティング組成物は、粘着
性物質に対し反撥性にすべき任意の支持体上に塗布し、
エラストマーのシリコーン被膜に架橋させることができ
る。粘着性物質の高レベルの反撥は、シリコーンの固有
特性の1つであり、さらに可成りの部分がジオルガノシ
ロキサン単位からなる材料の特性でもある。従って、す
べてのシリコーンコーティング組成物の主要成分は、−
架橋の種類に応じて−場合により官能化されていてもよ
いオルガノポリシロキサンである。さらに、触媒、架橋
剤、光増感剤、溶剤、乳化剤、充填剤、樹脂等が含有さ
れていてもよい。塗布されたシリコーンコーティング組
成物のエラストマーのシリコーン被膜への架橋は、熱、
高エネルギー粒子または電磁放射線によるかまたは上記
方法の組合わせにより行うかまたは促進することがで
き、その際アルケニル官能性オルガノポリシロキサンと
SiH含有架橋剤との反応による熱誘導される付加架橋
(Additionsvernetzung)、白金接
触によるヒドロシリル化はとくに大きい実際的重要性を
獲得した。付加架橋の外に、縮合架橋性、ペルオキシド
架橋性および放射線架橋性のシリコーンコーティング組
成物も記載された。
性物質に対し反撥性にすべき任意の支持体上に塗布し、
エラストマーのシリコーン被膜に架橋させることができ
る。粘着性物質の高レベルの反撥は、シリコーンの固有
特性の1つであり、さらに可成りの部分がジオルガノシ
ロキサン単位からなる材料の特性でもある。従って、す
べてのシリコーンコーティング組成物の主要成分は、−
架橋の種類に応じて−場合により官能化されていてもよ
いオルガノポリシロキサンである。さらに、触媒、架橋
剤、光増感剤、溶剤、乳化剤、充填剤、樹脂等が含有さ
れていてもよい。塗布されたシリコーンコーティング組
成物のエラストマーのシリコーン被膜への架橋は、熱、
高エネルギー粒子または電磁放射線によるかまたは上記
方法の組合わせにより行うかまたは促進することがで
き、その際アルケニル官能性オルガノポリシロキサンと
SiH含有架橋剤との反応による熱誘導される付加架橋
(Additionsvernetzung)、白金接
触によるヒドロシリル化はとくに大きい実際的重要性を
獲得した。付加架橋の外に、縮合架橋性、ペルオキシド
架橋性および放射線架橋性のシリコーンコーティング組
成物も記載された。
【0003】シリコーンコーティング組成物は、その溶
剤含量に関してまたは他の方法でも区別することができ
る。たとえば、架橋性シリコーンコーティング組成物は
溶剤含有であるかまたは好ましくは溶剤不含であっても
よく、または水性エマルションとして存在していてもよ
い。
剤含量に関してまたは他の方法でも区別することができ
る。たとえば、架橋性シリコーンコーティング組成物は
溶剤含有であるかまたは好ましくは溶剤不含であっても
よく、または水性エマルションとして存在していてもよ
い。
【0004】シリコーン被膜による粘着性物質反撥の程
度は、剥離力を用いて定量することができる。剥離力
(Trennkraft)は、たとえばシリコーン処理
された剥離紙および接着剤塗布された試験片からなるラ
ミネートである標準化された貼合わせ複合体の離層過程
を、たとえばFINAT試験法により設定された剥離速
度で持続させるために適用しなければならない力の尺度
である。測定された剥離力が大きければ大きいほど、粘
着性材料はシリコーン処理された剥離紙に益々強固に付
着する。剥離力は、温度、剥離速度、剥離角度(Abz
ugswinkel)、接着材料の層厚、貼合わせ複合
体製造の際の圧着圧、就中粘着性物質の種類およびシリ
コーンコーティングのタイプに依存する。粘着性物質の
種類はその都度の適用により設定されるので、シリコー
ン被膜の剥離性質を適切に調節することのできること、
つまり適用技術上の要件に適合させることが決定的に重
要である。たとえば、粘着性材料の包装のために使用さ
れるかまたはベーキング工程の間パン生地の下敷きとし
て役立つシリコーン処理された剥離紙は、粘着性物質に
対しできるだけ高レベルの反撥を有するべきであり、こ
れは非常に低レベルの剥離力値に相当する。これに反し
て、ラベルの裏材として使用されるシリコーン処理され
た剥離紙は、−ラベル紙の大きさに応じて−より高レベ
ルの剥離力を有しなければならない、それというのもさ
もないとラベルが早期に裏材から剥離しうるからであ
る。実際に、シリコーン被膜の剥離挙動に対する要求は
なお遥かに困難である。それで、一般に特殊な接着剤に
対し特定レベルの剥離力が要求されるだけでなく、これ
は剥離速度からの設定された依存性をも示すべきであ
る。たとえば、消費財の値札付けに使用される比較的小
さいラベルの剥離力は、静止状態でおよび低い剥離速度
においては自動販売機中での早期剥離を排除するために
できるだけ高くなければならず、高い剥離速度において
は剥離力は、裂けのないおよび停滞しない機械による値
札付けを可能にするために、できるだけ低くなければな
らない。他の適用においては、反対の挙動、即ち高い剥
離速度において高い剥離力が要求されるかまたは分離速
度とも呼ばれる剥離速度から独立の剥離力挙動が所望さ
れる。剥離力レベルに対する特殊な要求は、たとえばレ
ーザープリンターに適当なラベル紙に課せられる。
度は、剥離力を用いて定量することができる。剥離力
(Trennkraft)は、たとえばシリコーン処理
された剥離紙および接着剤塗布された試験片からなるラ
ミネートである標準化された貼合わせ複合体の離層過程
を、たとえばFINAT試験法により設定された剥離速
度で持続させるために適用しなければならない力の尺度
である。測定された剥離力が大きければ大きいほど、粘
着性材料はシリコーン処理された剥離紙に益々強固に付
着する。剥離力は、温度、剥離速度、剥離角度(Abz
ugswinkel)、接着材料の層厚、貼合わせ複合
体製造の際の圧着圧、就中粘着性物質の種類およびシリ
コーンコーティングのタイプに依存する。粘着性物質の
種類はその都度の適用により設定されるので、シリコー
ン被膜の剥離性質を適切に調節することのできること、
つまり適用技術上の要件に適合させることが決定的に重
要である。たとえば、粘着性材料の包装のために使用さ
れるかまたはベーキング工程の間パン生地の下敷きとし
て役立つシリコーン処理された剥離紙は、粘着性物質に
対しできるだけ高レベルの反撥を有するべきであり、こ
れは非常に低レベルの剥離力値に相当する。これに反し
て、ラベルの裏材として使用されるシリコーン処理され
た剥離紙は、−ラベル紙の大きさに応じて−より高レベ
ルの剥離力を有しなければならない、それというのもさ
もないとラベルが早期に裏材から剥離しうるからであ
る。実際に、シリコーン被膜の剥離挙動に対する要求は
なお遥かに困難である。それで、一般に特殊な接着剤に
対し特定レベルの剥離力が要求されるだけでなく、これ
は剥離速度からの設定された依存性をも示すべきであ
る。たとえば、消費財の値札付けに使用される比較的小
さいラベルの剥離力は、静止状態でおよび低い剥離速度
においては自動販売機中での早期剥離を排除するために
できるだけ高くなければならず、高い剥離速度において
は剥離力は、裂けのないおよび停滞しない機械による値
札付けを可能にするために、できるだけ低くなければな
らない。他の適用においては、反対の挙動、即ち高い剥
離速度において高い剥離力が要求されるかまたは分離速
度とも呼ばれる剥離速度から独立の剥離力挙動が所望さ
れる。剥離力レベルに対する特殊な要求は、たとえばレ
ーザープリンターに適当なラベル紙に課せられる。
【0005】それで、シリコーン被膜の動的剥離力挙動
を貯蔵時間独立に適切に再現可能に調節することが、そ
の適用可能性に対する決定的判断基準である。
を貯蔵時間独立に適切に再現可能に調節することが、そ
の適用可能性に対する決定的判断基準である。
【0006】シリコーン被膜は、通例非常に低レベルの
剥離力を有する、つまり粘着性物質反撥の程度は非常に
高い。従って、剥離挙動の適切な調節の問題は主とし
て、剥離力増強を惹起することである。この適切な剥離
力増強は、制御剥離(Controlled Rele
ase(CR))と呼ばれ、このために使用される添加
剤は相応に制御剥離添加剤(CRAs)と呼ばれる。
剥離力を有する、つまり粘着性物質反撥の程度は非常に
高い。従って、剥離挙動の適切な調節の問題は主とし
て、剥離力増強を惹起することである。この適切な剥離
力増強は、制御剥離(Controlled Rele
ase(CR))と呼ばれ、このために使用される添加
剤は相応に制御剥離添加剤(CRAs)と呼ばれる。
【0007】技術水準に属するものとしては、剥離力レ
ベルを適切に調節、殊に増強する多数の方法を挙げるこ
とができる:たとえば、オルガノポリシロキサン中の有
機基の重量による分量の増加が、たとえばメチル基の部
分をフェニル基または他の高分子有機基に代えることに
より一連の粘着性物質に対する剥離力値の上昇と結合し
ていることは公知である。一般に、シリコーンゴムコン
パウンドの有機特性の増加につれてシリコーンに典型的
な剥離特性が抑圧され、これにより粘着性物質反撥の程
度が減少することが明白であることを確認することがで
きる。シリコーンコーティング組成物の有機特性の増加
は、多種多様の方法で実施することができる。たとえ
ば、これはオルガノポリシロキサン中に典型的に存在す
るメチル基をより高分子および殊により高極性の有機基
により増加代替することにより行なうことができ;他の
方法はシロキサン主鎖中へ二価の有機基を組入れること
を要旨とする。さらに、オルガノポリシロキサンは部分
的に、シリコーン網状構造中への架橋導入を可能にする
と同時にシリコーン被膜の表面における不所望の滲出を
排除するために、場合により官能基を備えている有機化
合物、殊に有機オリゴマーまたはポリマーによって代え
ることができる。この種の剥離力調節方法は原則的に可
能であるにも拘わらず、それの適用の際には多数の欠点
を甘受しなければならない。それで、主成分を形成する
オルガノポリシロキサンを変性することが必要であり、
その際オルガノポリシロキサン中の有機分量は、高い剥
離力値を得るためには劇的に増加しなければならない;
しかし高分子有機基を有するオルガノポリシロキサン、
ブロックコポリマー等の製造は非常に費用がかかり;さ
らに、異なる接着剤タイプおよび剥離力要求に基づき、
種々に変性されたオルガノポリシロキサンを用意しなけ
ればならない。シリコーンコーティング組成物に対する
有機の、殊により高極性化合物の添加による剥離力調節
もあまり有望でない、それというのも剥離力レベルの再
現可能で貯蔵時間独立の調節を阻止する純粋に相溶性の
問題が生じるからである。さらに、このような添加剤に
より架橋反応が損なわれうる。
ベルを適切に調節、殊に増強する多数の方法を挙げるこ
とができる:たとえば、オルガノポリシロキサン中の有
機基の重量による分量の増加が、たとえばメチル基の部
分をフェニル基または他の高分子有機基に代えることに
より一連の粘着性物質に対する剥離力値の上昇と結合し
ていることは公知である。一般に、シリコーンゴムコン
パウンドの有機特性の増加につれてシリコーンに典型的
な剥離特性が抑圧され、これにより粘着性物質反撥の程
度が減少することが明白であることを確認することがで
きる。シリコーンコーティング組成物の有機特性の増加
は、多種多様の方法で実施することができる。たとえ
ば、これはオルガノポリシロキサン中に典型的に存在す
るメチル基をより高分子および殊により高極性の有機基
により増加代替することにより行なうことができ;他の
方法はシロキサン主鎖中へ二価の有機基を組入れること
を要旨とする。さらに、オルガノポリシロキサンは部分
的に、シリコーン網状構造中への架橋導入を可能にする
と同時にシリコーン被膜の表面における不所望の滲出を
排除するために、場合により官能基を備えている有機化
合物、殊に有機オリゴマーまたはポリマーによって代え
ることができる。この種の剥離力調節方法は原則的に可
能であるにも拘わらず、それの適用の際には多数の欠点
を甘受しなければならない。それで、主成分を形成する
オルガノポリシロキサンを変性することが必要であり、
その際オルガノポリシロキサン中の有機分量は、高い剥
離力値を得るためには劇的に増加しなければならない;
しかし高分子有機基を有するオルガノポリシロキサン、
ブロックコポリマー等の製造は非常に費用がかかり;さ
らに、異なる接着剤タイプおよび剥離力要求に基づき、
種々に変性されたオルガノポリシロキサンを用意しなけ
ればならない。シリコーンコーティング組成物に対する
有機の、殊により高極性化合物の添加による剥離力調節
もあまり有望でない、それというのも剥離力レベルの再
現可能で貯蔵時間独立の調節を阻止する純粋に相溶性の
問題が生じるからである。さらに、このような添加剤に
より架橋反応が損なわれうる。
【0008】実質的にSiO4/2単位および/またはR
SiO3/2単位、さらにR3SiO1/2単位および場合に
よりR2SiO2/2単位をも含有する樹脂状添加剤がCR
Asとしてとくに重視されていて、その際Rは同じかま
たは異なり、−Hまたは−OHであってもよくまたは任
意の置換または非置換の有機基である。
SiO3/2単位、さらにR3SiO1/2単位および場合に
よりR2SiO2/2単位をも含有する樹脂状添加剤がCR
Asとしてとくに重視されていて、その際Rは同じかま
たは異なり、−Hまたは−OHであってもよくまたは任
意の置換または非置換の有機基である。
【0009】ヨーロッパ特許(EP−A)652258
号にはケイ素樹脂、米国特許(US−A)461104
2号にはシロキサンコポリマーがCRA´sとして記載
されている。このCRA´sの欠点としては、就中次ぎ
のことが現われる:非常に高いケイ素樹脂含量において
初めて剥離力は明瞭に増加する;ケイ素樹脂は高価であ
る;ケイ素樹脂はシリコーンコーティング組成物の不所
望の著しい粘度増加を惹起し、これは短鎖シリコーンポ
リマーの選択によるかないしは不所望の溶剤の助けをか
りることによって補償しなければならない;ケイ素樹脂
は、屡々架橋されたシリコーン被膜の抽出可能分量を増
加し、これはより低い残留接着力値に現れる。たとえ
ば、かかるシリコーン処理された紙から剥離される値札
は日用品に良好に付着しない、それというのもラベルの
接着剤がシリコーンで汚染されるからである;ケイ素樹
脂を用いて屡々、低い剥離速度において剥離力が低く、
高い剥離速度においては高いことを惹起することができ
ない;T単位および/またはQ単位を含有するオルガノ
ポリシロキサンの製造は、比較的費用がかかる。ゲル化
の危険がある。線状オルガノポリシロキサンの容易な入
手可能性の利点は放棄される;ケイ素樹脂は加硫特性を
劣化する、つまり架橋速度が低下する。しかし非常に短
い架橋時間は、剥離紙のシリコーン処理のようなシリコ
ーンコーティング組成物のたいていの適用に対し決定的
な判断基準である。
号にはケイ素樹脂、米国特許(US−A)461104
2号にはシロキサンコポリマーがCRA´sとして記載
されている。このCRA´sの欠点としては、就中次ぎ
のことが現われる:非常に高いケイ素樹脂含量において
初めて剥離力は明瞭に増加する;ケイ素樹脂は高価であ
る;ケイ素樹脂はシリコーンコーティング組成物の不所
望の著しい粘度増加を惹起し、これは短鎖シリコーンポ
リマーの選択によるかないしは不所望の溶剤の助けをか
りることによって補償しなければならない;ケイ素樹脂
は、屡々架橋されたシリコーン被膜の抽出可能分量を増
加し、これはより低い残留接着力値に現れる。たとえ
ば、かかるシリコーン処理された紙から剥離される値札
は日用品に良好に付着しない、それというのもラベルの
接着剤がシリコーンで汚染されるからである;ケイ素樹
脂を用いて屡々、低い剥離速度において剥離力が低く、
高い剥離速度においては高いことを惹起することができ
ない;T単位および/またはQ単位を含有するオルガノ
ポリシロキサンの製造は、比較的費用がかかる。ゲル化
の危険がある。線状オルガノポリシロキサンの容易な入
手可能性の利点は放棄される;ケイ素樹脂は加硫特性を
劣化する、つまり架橋速度が低下する。しかし非常に短
い架橋時間は、剥離紙のシリコーン処理のようなシリコ
ーンコーティング組成物のたいていの適用に対し決定的
な判断基準である。
【0010】米国特許(US−A)5545831号
は、シリコーンコーティング組成物に対するCRAとし
て、残留接着力に不利な影響を及ぼすことなく使用する
ことのできる、必ずしもSiHを含有しないが、それぞ
れの場合にSi原子の間にアルキレン基を含有する線状
オルガノシロキサンを記載する。開示されたCRAs中
のSiHは、そもそも、連鎖末端位に存在するにすぎな
い。アルケニル基であってもよい連鎖末端位のSiH基
は、明らかにCRA´sの架橋導入に役立ち;剥離力増
加作用はアルキレン基により、つまり有機基を組入れる
ことによって行われる。このようなCRAsは高い含量
において初めて明らかな剥離力増加を惹起することが不
利である。
は、シリコーンコーティング組成物に対するCRAとし
て、残留接着力に不利な影響を及ぼすことなく使用する
ことのできる、必ずしもSiHを含有しないが、それぞ
れの場合にSi原子の間にアルキレン基を含有する線状
オルガノシロキサンを記載する。開示されたCRAs中
のSiHは、そもそも、連鎖末端位に存在するにすぎな
い。アルケニル基であってもよい連鎖末端位のSiH基
は、明らかにCRA´sの架橋導入に役立ち;剥離力増
加作用はアルキレン基により、つまり有機基を組入れる
ことによって行われる。このようなCRAsは高い含量
において初めて明らかな剥離力増加を惹起することが不
利である。
【0011】ヨーロッパ特許(EP−A)605227
号は、シリコーン被膜の架橋密度ないしはモジュラスの
適切な調節に基づく剥離力調節方法を開示する。殊に、
高い剥離速度における剥離力の増加は、アルケニル末端
オルガノポリシロキサンをSiH末端オルガノポリシロ
キサンと組合せることにより達成され、これは架橋中に
経過する連鎖延長に基づき僅かな網点密度および低いモ
ジュラスを有し、それと共に高い剥離速度において高い
剥離値を有するシリコーン被膜を生じる。この方法の欠
点は、剥離力調節が高い剥離速度においてしか達成する
ことができないことであり、さらにこの剥離力調節は、
網点密度(Netzpunktdichte)の変化は
機械的強度、殊に耐磨耗性に作用を及ぼすので、狭い範
囲内で可変であるにすぎない。さらに、SiH末端オル
ガノポリシロキサンの分量増加と共に、残留接着力が不
利な影響を受ける。そこには、付加的に必要なSiH架
橋剤はシリコーンコーティング組成物に可溶でなければ
ならないことが明白に強調されている。
号は、シリコーン被膜の架橋密度ないしはモジュラスの
適切な調節に基づく剥離力調節方法を開示する。殊に、
高い剥離速度における剥離力の増加は、アルケニル末端
オルガノポリシロキサンをSiH末端オルガノポリシロ
キサンと組合せることにより達成され、これは架橋中に
経過する連鎖延長に基づき僅かな網点密度および低いモ
ジュラスを有し、それと共に高い剥離速度において高い
剥離値を有するシリコーン被膜を生じる。この方法の欠
点は、剥離力調節が高い剥離速度においてしか達成する
ことができないことであり、さらにこの剥離力調節は、
網点密度(Netzpunktdichte)の変化は
機械的強度、殊に耐磨耗性に作用を及ぼすので、狭い範
囲内で可変であるにすぎない。さらに、SiH末端オル
ガノポリシロキサンの分量増加と共に、残留接着力が不
利な影響を受ける。そこには、付加的に必要なSiH架
橋剤はシリコーンコーティング組成物に可溶でなければ
ならないことが明白に強調されている。
【0012】ヨーロッパ特許(EP−A)355381
号は、十分な数の単官能性フェノール構造単位を有す
る、必ずしもSiHを含有しないオルガノシロキサンの
使用によるシリコーン塗膜の剥離力挙動の調節を記載す
る。
号は、十分な数の単官能性フェノール構造単位を有す
る、必ずしもSiHを含有しないオルガノシロキサンの
使用によるシリコーン塗膜の剥離力挙動の調節を記載す
る。
【0013】ドイツ国特許(DE−A)2509620
号は、主成分として、非末端位のシロキサン単位の3〜
30モル%がジフェニルシロキサン単位であり、かつ残
余のシロキサン単位中の有機基数の少なくとも50%が
メチル基であるジオルガノポリシロキサン(I)を含有
する付加架橋性シリコーンコーティング組成物の剥離力
調節方法を記載する。これらのフェニル含有ジオルガノ
ポリシロキサン(I)を少なくとも3つのSiに結合し
た水素原子を有するオルガノポリシロキサン(II)と
組合せることにより、オルガノポリシロキサン(II)
中のSiに結合した水素の異なる濃度により、生じるシ
リコーン被膜の剥離力を広い範囲内で連続的に変えるこ
とができる。ここで就中、主成分としてフェニル含有オ
ルガノポリシロキサンを使用する必要性ならびに比較的
多数の異なるSiH含有オルガノポリシロキサン(I
I)を準備する必要性が不利であることが判明した。
号は、主成分として、非末端位のシロキサン単位の3〜
30モル%がジフェニルシロキサン単位であり、かつ残
余のシロキサン単位中の有機基数の少なくとも50%が
メチル基であるジオルガノポリシロキサン(I)を含有
する付加架橋性シリコーンコーティング組成物の剥離力
調節方法を記載する。これらのフェニル含有ジオルガノ
ポリシロキサン(I)を少なくとも3つのSiに結合し
た水素原子を有するオルガノポリシロキサン(II)と
組合せることにより、オルガノポリシロキサン(II)
中のSiに結合した水素の異なる濃度により、生じるシ
リコーン被膜の剥離力を広い範囲内で連続的に変えるこ
とができる。ここで就中、主成分としてフェニル含有オ
ルガノポリシロキサンを使用する必要性ならびに比較的
多数の異なるSiH含有オルガノポリシロキサン(I
I)を準備する必要性が不利であることが判明した。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、剥離挙動が無段、再現可能および貯蔵時間独立に調
節されることができかつ剥離力調節の公知方法の上記欠
点を有しないシリコーン被膜に架橋しうる組成物を提供
することである。
は、剥離挙動が無段、再現可能および貯蔵時間独立に調
節されることができかつ剥離力調節の公知方法の上記欠
点を有しないシリコーン被膜に架橋しうる組成物を提供
することである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の対象は、成分
(A)アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンおよび
(B)SiH官能性オルガノシロキサンを包含する組成
物の架橋により得られるシリコーン被膜の剥離力を調節
する方法において、剥離力の調節を、組成物と不相溶性
の基0.1〜60モル%を有するSiH官能性オルガノ
シロキサン(B)の使用により行ない、その際該基は組
成物と、不相溶性基30モル%を有するSiH官能性オ
ルガノシロキサン(B)1重量部およびアルケニル官能
性ポリオルガノシロキサン(A)9重量部からなる混合
物が20℃で1より多い相を形成する場合に不相溶性と
みなす、シリコーン被膜の剥離力を調節する方法であ
る。
(A)アルケニル官能性ポリオルガノシロキサンおよび
(B)SiH官能性オルガノシロキサンを包含する組成
物の架橋により得られるシリコーン被膜の剥離力を調節
する方法において、剥離力の調節を、組成物と不相溶性
の基0.1〜60モル%を有するSiH官能性オルガノ
シロキサン(B)の使用により行ない、その際該基は組
成物と、不相溶性基30モル%を有するSiH官能性オ
ルガノシロキサン(B)1重量部およびアルケニル官能
性ポリオルガノシロキサン(A)9重量部からなる混合
物が20℃で1より多い相を形成する場合に不相溶性と
みなす、シリコーン被膜の剥離力を調節する方法であ
る。
【0016】成分(A)アルケニル官能性ポリオルガノ
シロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキサ
ンを包含する、シリコーン被膜に架橋しうる組成物にお
いて、SiH官能性オルガノシロキサン(B)は組成物
と不相溶性の基0.1〜60モル%を有し、その際該基
は組成物と、不相溶性基30モル%を有するSiH官能
性オルガノシロキサン(B)1重量部およびアルケニル
官能性ポリオルガノシロキサン(A)9重量部からなる
混合物が20℃で1より多い相を形成する場合に不相溶
性とみなす、シリコーン被膜に架橋しうる組成物も本発
明の対象である。
シロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキサ
ンを包含する、シリコーン被膜に架橋しうる組成物にお
いて、SiH官能性オルガノシロキサン(B)は組成物
と不相溶性の基0.1〜60モル%を有し、その際該基
は組成物と、不相溶性基30モル%を有するSiH官能
性オルガノシロキサン(B)1重量部およびアルケニル
官能性ポリオルガノシロキサン(A)9重量部からなる
混合物が20℃で1より多い相を形成する場合に不相溶
性とみなす、シリコーン被膜に架橋しうる組成物も本発
明の対象である。
【0017】シリコーンコーティング組成物は、エラス
トマーのシリコーン被膜に架橋しうる。
トマーのシリコーン被膜に架橋しうる。
【0018】剥離力の調節は、SiH官能性オルガノシ
ロキサン(B)の、アルケニル官能性ポリオルガノシロ
キサン(A)を包含するシリコーンコーティング組成物
との不相溶性の程度を調節することにより行われる。S
iH官能性オルガノシロキサン(B)中の、組成物と不
相溶性の基の分量が増加すると剥離力は増加し、該分量
が減少すると剥離力は低下する。好ましくは、剥離力は
増加させる。
ロキサン(B)の、アルケニル官能性ポリオルガノシロ
キサン(A)を包含するシリコーンコーティング組成物
との不相溶性の程度を調節することにより行われる。S
iH官能性オルガノシロキサン(B)中の、組成物と不
相溶性の基の分量が増加すると剥離力は増加し、該分量
が減少すると剥離力は低下する。好ましくは、剥離力は
増加させる。
【0019】完全な相溶性と不相溶性の間の転移は流動
的である。従って、SiH含有オルガノシロキサン化合
物がなおシリコーンコーティング組成物と、混濁が出現
しない程度に相溶性である場合既にCRA効果が観察さ
れる。
的である。従って、SiH含有オルガノシロキサン化合
物がなおシリコーンコーティング組成物と、混濁が出現
しない程度に相溶性である場合既にCRA効果が観察さ
れる。
【0020】非常に高い不相溶性化基含量を有するSi
H含有オルガノシロキサン化合物は、実際に全くシリコ
ーンコーティング組成物中へ混入することができず、こ
れはもちろん必然的に架橋経過の障害、シリコーン被膜
表面の不十分な均質性、粘着性等を生じる。本発明にお
いては不相溶性の程度は、シリコーンコーティング組成
物中への十分均質に混入することがなお可能である(場
合により出現する混合物の混濁はこれが微小相分離系
(mikrophasensepariertes S
ystem)であることを証明するが)ように選択され
る。
H含有オルガノシロキサン化合物は、実際に全くシリコ
ーンコーティング組成物中へ混入することができず、こ
れはもちろん必然的に架橋経過の障害、シリコーン被膜
表面の不十分な均質性、粘着性等を生じる。本発明にお
いては不相溶性の程度は、シリコーンコーティング組成
物中への十分均質に混入することがなお可能である(場
合により出現する混合物の混濁はこれが微小相分離系
(mikrophasensepariertes S
ystem)であることを証明するが)ように選択され
る。
【0021】とくに、SiH官能性オルガノシロキサン
(B)は、組成物と不相溶性の基0.5〜30モル%、
殊に1〜20モル%を有する。
(B)は、組成物と不相溶性の基0.5〜30モル%、
殊に1〜20モル%を有する。
【0022】架橋性組成物の架橋により得られるシリコ
ーン被膜の剥離力は、SiH官能性オルガノシロキサン
(B)により広い範囲内で、架橋速度、残留接着力、耐
磨耗性、抽出可能分量のような残余の性質に不利な影響
を及ぼすことなしに、安定で再現可能な方法で調節する
ことができ;これらの性質はむしろさらに改善される。
技術水準によれば全く反対に常に、すべての成分の高い
相溶性を維持することに留意されている、それというの
も不相溶性は不良な再現性、加硫障害、架橋導入され、
従って後で滲出する成分の高い含量、粘着性および他の
欠点と結合するからである。
ーン被膜の剥離力は、SiH官能性オルガノシロキサン
(B)により広い範囲内で、架橋速度、残留接着力、耐
磨耗性、抽出可能分量のような残余の性質に不利な影響
を及ぼすことなしに、安定で再現可能な方法で調節する
ことができ;これらの性質はむしろさらに改善される。
技術水準によれば全く反対に常に、すべての成分の高い
相溶性を維持することに留意されている、それというの
も不相溶性は不良な再現性、加硫障害、架橋導入され、
従って後で滲出する成分の高い含量、粘着性および他の
欠点と結合するからである。
【0023】相溶性の減少したSiH含有オルガノシロ
キサンによる剥離力調節は、次の付加的利点を有する:
シリコーン被膜の動的剥離力挙動に対する多種多様の困
難な要求、たとえば高い剥離速度における高い剥離値
は、SiH含有オルガノシロキサン化合物の相溶性を低
下する基の適当な選択および/または異なる含量によっ
て非常に簡単に達成することができる。
キサンによる剥離力調節は、次の付加的利点を有する:
シリコーン被膜の動的剥離力挙動に対する多種多様の困
難な要求、たとえば高い剥離速度における高い剥離値
は、SiH含有オルガノシロキサン化合物の相溶性を低
下する基の適当な選択および/または異なる含量によっ
て非常に簡単に達成することができる。
【0024】本発明による方法の適用により調節される
剥離値は、慣例の方法におけるよりも安定である、つま
りシリコーン被膜の貯蔵時間から独立である。
剥離値は、慣例の方法におけるよりも安定である、つま
りシリコーン被膜の貯蔵時間から独立である。
【0025】変性された架橋剤は、付加的にシリコーン
被膜の多数の適用技術的に重要な性質の改善を惹起す
る;この利点はとくに付加架橋性シリコーンコーティン
グ組成物に関する。これらの組成物は、完全な架橋に基
づき抽出可能成分の僅かな分量、高い耐磨耗性および高
い架橋速度を有する。
被膜の多数の適用技術的に重要な性質の改善を惹起す
る;この利点はとくに付加架橋性シリコーンコーティン
グ組成物に関する。これらの組成物は、完全な架橋に基
づき抽出可能成分の僅かな分量、高い耐磨耗性および高
い架橋速度を有する。
【0026】付加架橋性シリコーンコーティング組成物
の高い架橋速度に基づき、本発明による方法から他の利
点が誘導できる:シリコーンコーティング組成物の白金
触媒含量は、不変の架橋速度において減少することがで
き;これはコストの節約を生じる。この利点は、殊に低
温度硬化(LTC)性コーティング組成物において生じ
る。
の高い架橋速度に基づき、本発明による方法から他の利
点が誘導できる:シリコーンコーティング組成物の白金
触媒含量は、不変の架橋速度において減少することがで
き;これはコストの節約を生じる。この利点は、殊に低
温度硬化(LTC)性コーティング組成物において生じ
る。
【0027】シリコーンコーティング組成物の架橋形式
は些細なことである。これは、たとえばアルケニル官能
性ポリオルガノシロキサン(A)およびSiH官能性オ
ルガノシロキサン(B)の間の貴金属触媒によるヒドロ
シリル化反応によるか、またはたとえば、シラノール含
有オルガノシロキサンおよびたとえばアルコキシ官能性
シランの間のスズ触媒による縮合反応によるか、または
ペルオキシド架橋によるか、または放射線架橋により行
なうことができる。
は些細なことである。これは、たとえばアルケニル官能
性ポリオルガノシロキサン(A)およびSiH官能性オ
ルガノシロキサン(B)の間の貴金属触媒によるヒドロ
シリル化反応によるか、またはたとえば、シラノール含
有オルガノシロキサンおよびたとえばアルコキシ官能性
シランの間のスズ触媒による縮合反応によるか、または
ペルオキシド架橋によるか、または放射線架橋により行
なうことができる。
【0028】とくに、SiH官能性オルガノシロキサン
(B)は架橋剤として働く。とくに、ヒドロシリル化触
媒(C)を包含する組成物が使用される。
(B)は架橋剤として働く。とくに、ヒドロシリル化触
媒(C)を包含する組成物が使用される。
【0029】とくに、シリコーン被膜に架橋しうる組成
物は、成分(A)アルケニル官能性ポリオルガノシロキ
サン、(B)SiH官能性オルガノシロキサンおよび
(C)ヒドロシリル化触媒を包含する付加架橋性シリコ
ーンゴム組成物である。
物は、成分(A)アルケニル官能性ポリオルガノシロキ
サン、(B)SiH官能性オルガノシロキサンおよび
(C)ヒドロシリル化触媒を包含する付加架橋性シリコ
ーンゴム組成物である。
【0030】アルケニル官能性ポリオルガノシロキサン
(A)はとくに一般式(1) A2SiO2/2 (1) の構造単位少なくとも90モル%および一般式(2) RaR1 bSiO(4-a-b)/2 (2) の構造単位から構成されていて、上記式中Aはメチル
基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、R
は同じかまたは異なる一価の、場合によりハロゲン置換
またはシアノ置換された、場合により有機二価の基を介
してケイ素に結合した、脂肪族炭素−炭素の多重結合を
含有するC1〜C10炭化水素基を表わし、R1は同じかま
たは異なる一価の、場合によりハロゲン置換またはシア
ノ置換された、脂肪族炭素−炭素の多重結合を有しな
い、SiCに結合したC1〜C10炭化水素基を表わし、
aおよびbは0、1、2、または3の値を表わす、ただ
し各分子中には少なくとも2つの基Rが存在する。
(A)はとくに一般式(1) A2SiO2/2 (1) の構造単位少なくとも90モル%および一般式(2) RaR1 bSiO(4-a-b)/2 (2) の構造単位から構成されていて、上記式中Aはメチル
基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、R
は同じかまたは異なる一価の、場合によりハロゲン置換
またはシアノ置換された、場合により有機二価の基を介
してケイ素に結合した、脂肪族炭素−炭素の多重結合を
含有するC1〜C10炭化水素基を表わし、R1は同じかま
たは異なる一価の、場合によりハロゲン置換またはシア
ノ置換された、脂肪族炭素−炭素の多重結合を有しな
い、SiCに結合したC1〜C10炭化水素基を表わし、
aおよびbは0、1、2、または3の値を表わす、ただ
し各分子中には少なくとも2つの基Rが存在する。
【0031】ケイ素原子の四価は、(a+b)が3より
も大きくないことを条件付ける。
も大きくないことを条件付ける。
【0032】アルケニル基Rは、SiH官能性架橋剤を
用いる付加反応に使用される。通常2〜6個の炭素原子
を有するアルケニル基、たとえばビニル、アリル、メタ
リル、1−プロペニル、5ーヘキセニル、ブタジエニ
ル、ヘキサジエニル、シクロペンテニル、シクロペンタ
ジエニル、シクロヘキセニル、とくにビニルおよびアリ
ルが使用される。
用いる付加反応に使用される。通常2〜6個の炭素原子
を有するアルケニル基、たとえばビニル、アリル、メタ
リル、1−プロペニル、5ーヘキセニル、ブタジエニ
ル、ヘキサジエニル、シクロペンテニル、シクロペンタ
ジエニル、シクロヘキセニル、とくにビニルおよびアリ
ルが使用される。
【0033】アルケニル基がそれを介してポリマー鎖の
ケイ素に結合していてもよい有機二価の基は、たとえば
1〜20個のオキシアルキレン単位からなる。
ケイ素に結合していてもよい有機二価の基は、たとえば
1〜20個のオキシアルキレン単位からなる。
【0034】基Rは、ポリマー鎖の各位置において、殊
に末端位のケイ素原子に結合していてもよい。
に末端位のケイ素原子に結合していてもよい。
【0035】R1の例は、メチル、エチル、プロピル、
ブチルおよびヘキシルのようなアルキル基、フェニル、
トリル、キシリル、メシチル、ベンジル、β−フェニル
エチルおよびナフチルのようなアリール基およびアルカ
リール基、または3,3,3−トリフルオロプロピル、
o−、p−およびm−クロロフェニル、ブロモトリルお
よびβ−シアノエチルのような置換された基である。好
ましい置換基は、フッ素、塩素および臭素である。R1
は、とくに1〜6個の炭素原子を有する。メチルおよび
フェニルがとくに好ましい。
ブチルおよびヘキシルのようなアルキル基、フェニル、
トリル、キシリル、メシチル、ベンジル、β−フェニル
エチルおよびナフチルのようなアリール基およびアルカ
リール基、または3,3,3−トリフルオロプロピル、
o−、p−およびm−クロロフェニル、ブロモトリルお
よびβ−シアノエチルのような置換された基である。好
ましい置換基は、フッ素、塩素および臭素である。R1
は、とくに1〜6個の炭素原子を有する。メチルおよび
フェニルがとくに好ましい。
【0036】CRAとして働く相溶性の減少したSiH
官能性オルガノシロキサン(B)はとくに、一般式
(3)の構造単位 AcR2 dSiO(4-c-d)/2 (3) および一般式(4)の構造単位 HeAfR2 gSiO(4-e-f-g)/2 (4) から構成されていて、上記式中R2は水素およびAと異
なる無機または有機の基を表わし、cおよびdは0、
1、2または3の値を表わし、eは1、2または3の値
を表わし、fおよびgは0、1、または2の値を表わ
し、Aは上記の意味を有する、ただし(d+g)は(c
+d+e+f+g)の0.1〜60モル%を有し、およ
び各分子中に一般式(4)の構造単位が少なくとも2個
存在する。
官能性オルガノシロキサン(B)はとくに、一般式
(3)の構造単位 AcR2 dSiO(4-c-d)/2 (3) および一般式(4)の構造単位 HeAfR2 gSiO(4-e-f-g)/2 (4) から構成されていて、上記式中R2は水素およびAと異
なる無機または有機の基を表わし、cおよびdは0、
1、2または3の値を表わし、eは1、2または3の値
を表わし、fおよびgは0、1、または2の値を表わ
し、Aは上記の意味を有する、ただし(d+g)は(c
+d+e+f+g)の0.1〜60モル%を有し、およ
び各分子中に一般式(4)の構造単位が少なくとも2個
存在する。
【0037】ケイ素原子の四価は、(c+d)および
(e+f+g)がその都度3よりも大きくないことを条
件付ける。
(e+f+g)がその都度3よりも大きくないことを条
件付ける。
【0038】R2は、二価/2、三価/3または四価/
4の基を表わすこともできる。
4の基を表わすこともできる。
【0039】粘着性物質を反撥する目的のために開発さ
れたシリコーンコーティング組成物の主成分は非極性基
Aを含有するオルガノポリシロキサンであるので、Si
H含有オルガノシロキサン化合物(B)中のとくに高極
性および/または芳香族の基R2の選択によりこのシリ
コーンコーティング組成物との不相溶性を惹起すること
ができる。このためには非常に多種多様の基が利用でき
るので、これらはたんに例示的に次に記載することがで
きるにすぎず、その際シリコーンコーティング組成物の
架橋経過に不利な影響を及ぼさない基が好ましい。さら
に、相溶性の減少したSiH含有オルガノシロキサン化
合物の重量によるSiH含量を不必要に減少しない軽量
の基が好ましい。
れたシリコーンコーティング組成物の主成分は非極性基
Aを含有するオルガノポリシロキサンであるので、Si
H含有オルガノシロキサン化合物(B)中のとくに高極
性および/または芳香族の基R2の選択によりこのシリ
コーンコーティング組成物との不相溶性を惹起すること
ができる。このためには非常に多種多様の基が利用でき
るので、これらはたんに例示的に次に記載することがで
きるにすぎず、その際シリコーンコーティング組成物の
架橋経過に不利な影響を及ぼさない基が好ましい。さら
に、相溶性の減少したSiH含有オルガノシロキサン化
合物の重量によるSiH含量を不必要に減少しない軽量
の基が好ましい。
【0040】とくに、R2はSiH含有オルガノシロキ
サン化合物(B)の主鎖に結合していて、分枝個所には
結合していない。
サン化合物(B)の主鎖に結合していて、分枝個所には
結合していない。
【0041】SiH含有オルガノシロキサン化合物
(B)中に組入れられた分量R2自体は剥離力増加を惹
起せず、CRA効果はこれにより達成される、SiH含
有オルガノシロキサン化合物のシリコーンコーティング
組成物との減少した相溶性によって惹起される。この理
由から、再び高極性基R2せいぜい10モル%しか含有
しないこのSiH含有化合物せいぜい10重量%のシリ
コーンコーティング組成物含量において既に、かなり高
い剥離力値を調節することができる。これらの基R 2の
相応する量をSiH含有オルガノシロキサン化合物中で
はなく、主成分として働くオルガノポリシロキサン中へ
組入れると、剥離力増加は全くまたは最小限にしか確認
されない。
(B)中に組入れられた分量R2自体は剥離力増加を惹
起せず、CRA効果はこれにより達成される、SiH含
有オルガノシロキサン化合物のシリコーンコーティング
組成物との減少した相溶性によって惹起される。この理
由から、再び高極性基R2せいぜい10モル%しか含有
しないこのSiH含有化合物せいぜい10重量%のシリ
コーンコーティング組成物含量において既に、かなり高
い剥離力値を調節することができる。これらの基R 2の
相応する量をSiH含有オルガノシロキサン化合物中で
はなく、主成分として働くオルガノポリシロキサン中へ
組入れると、剥離力増加は全くまたは最小限にしか確認
されない。
【0042】とくに、シリコーンコーティング組成物は
オルガノシロキサン化合物(B)0.5〜20重量%、
殊に1〜10重量%を含有する。
オルガノシロキサン化合物(B)0.5〜20重量%、
殊に1〜10重量%を含有する。
【0043】R2は、Aおよび水素とは異なる一価の基
であってもよいが、該基はとくに、必ずしも脂肪族二重
結合不含ではない。R2の代表的例は、20個までのC
原子を有する非置換またはハロゲン置換炭化水素基、た
とえば −n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルおよびt
ert−ペンチルおよびドデシルのようなアルキル基、 −シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキ
シル、エチルシクロヘキシル、シクロヘプチルおよびノ
ルボルニル基のようなシクロアルキル基、 −ビニル、アリル、5−ヘキセニル、シクロペンテニ
ル、4−ビニルシクロヘキシルおよび3−ノルボルネニ
ルのようなアルケニル基、 −フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントリルおよび
フェナントリルのようなアリール基、 −ベンジル、フェニルエチルおよびフェニルプロピルの
ようなアルカリール基、 −p−トリル、p−キシリルのようなアルキルアリール
基、 −ビニルフェニルのようなアルケニルアリール基、 −スチリルのようなアルアルケニル基、 −クロロメチル、3−クロロプロピル、3−ブロモプロ
ピル、β−クロロエチル、3,3,3−トリフルオロプ
ロピル、2−フルオロエチル、1,1−ジヒドロペルフ
ルオロドデシル、トリフルオロトリル、クロロフェニ
ル、ジクロロフェニルおよびテトラクロロフェニルのよ
うなハロゲン置換炭化水素基である。
であってもよいが、該基はとくに、必ずしも脂肪族二重
結合不含ではない。R2の代表的例は、20個までのC
原子を有する非置換またはハロゲン置換炭化水素基、た
とえば −n−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチルおよびt
ert−ペンチルおよびドデシルのようなアルキル基、 −シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキ
シル、エチルシクロヘキシル、シクロヘプチルおよびノ
ルボルニル基のようなシクロアルキル基、 −ビニル、アリル、5−ヘキセニル、シクロペンテニ
ル、4−ビニルシクロヘキシルおよび3−ノルボルネニ
ルのようなアルケニル基、 −フェニル、ナフチル、ビフェニル、アントリルおよび
フェナントリルのようなアリール基、 −ベンジル、フェニルエチルおよびフェニルプロピルの
ようなアルカリール基、 −p−トリル、p−キシリルのようなアルキルアリール
基、 −ビニルフェニルのようなアルケニルアリール基、 −スチリルのようなアルアルケニル基、 −クロロメチル、3−クロロプロピル、3−ブロモプロ
ピル、β−クロロエチル、3,3,3−トリフルオロプ
ロピル、2−フルオロエチル、1,1−ジヒドロペルフ
ルオロドデシル、トリフルオロトリル、クロロフェニ
ル、ジクロロフェニルおよびテトラクロロフェニルのよ
うなハロゲン置換炭化水素基である。
【0044】さらにR2は、1個のヘテロ原子、殊に
O、S、NおよびPを含有する、20個までのC原子を
有する一価の基、たとえば
O、S、NおよびPを含有する、20個までのC原子を
有する一価の基、たとえば
【0045】
【化1】
【0046】であってもよく、ここで二価の基R5はた
とえば
とえば
【0047】
【化2】
【0048】であってもよく、基R4は同じかまたは異
なっていてもよく、ハロゲン、カルコゲニド、20個ま
でのC原子を有するアルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基およびシクロアルケニル基、置換または非置
換であってもよい、30個までのC原子を有する一価の
芳香族基ならびにO、S、N、Pのようなヘテロ原子を
含有する、30個までのC原子を有する芳香族または非
芳香族の、環状または非環状の基の群から選択される。
なっていてもよく、ハロゲン、カルコゲニド、20個ま
でのC原子を有するアルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基およびシクロアルケニル基、置換または非置
換であってもよい、30個までのC原子を有する一価の
芳香族基ならびにO、S、N、Pのようなヘテロ原子を
含有する、30個までのC原子を有する芳香族または非
芳香族の、環状または非環状の基の群から選択される。
【0049】基R4の例は
【0050】
【化3】
【0051】である。
【0052】基R3は同じかまたは異なる非置換または
ハロゲン置換の、20個までのC原子を有する炭化水素
基を表わすことができる。
ハロゲン置換の、20個までのC原子を有する炭化水素
基を表わすことができる。
【0053】基R6は同じかまたは異なっていてもよ
く、=Oおよび=Sを加えて、基R4の群から選択する
ことができる。
く、=Oおよび=Sを加えて、基R4の群から選択する
ことができる。
【0054】xは0または1の値を表わす。
【0055】yは1、2、3、4または5の値を表わ
す。
す。
【0056】zは0、1、2、3、4、または5の値を
表わす。
表わす。
【0057】m+nは、その都度0または1〜20、殊
に1〜5の値を表わす。
に1〜5の値を表わす。
【0058】基R2の例は
【0059】
【化4】
【0060】であり、ここでPhはフェニル基を表す。
【0061】R2は、ヘテロ原子を含有する、錯体組成
の一価の基、たとえば −(O)x−(CH2)m−R5−R7 ここで一価の基R7はたとえば、場合によりR4および/
またはR6で置換されていてもよい次の基のいずれかで
ある:
の一価の基、たとえば −(O)x−(CH2)m−R5−R7 ここで一価の基R7はたとえば、場合によりR4および/
またはR6で置換されていてもよい次の基のいずれかで
ある:
【0062】
【化5】
【0063】二価、三価または四価の基R2、好ましく
は二価の基は、同様に自体任意に選択しうる有機基であ
ってもよく、その際シリコーンコーティング組成物の架
橋経過に不利な影響を及ぼさない基が好ましい。非置換
または置換されていてもよくならびにO、S、Nおよび
Pのようなヘテロ原子を含有しうる1から最大30個ま
でのC原子を有する炭化水素基が好ましい。これの例は
次の一般式の基である: −(O)o−(CH2)p−R5 q−E−R5 q−(CH2)p−
(O)o− 式中oおよびpは0または1の値を表わしおよびqは0
または1〜10の値を表わしおよびEは、とくに場合に
より置換された次のアルキレン基ないしはシクロアルキ
レン基から選択することのできる二価の基を表わす:
は二価の基は、同様に自体任意に選択しうる有機基であ
ってもよく、その際シリコーンコーティング組成物の架
橋経過に不利な影響を及ぼさない基が好ましい。非置換
または置換されていてもよくならびにO、S、Nおよび
Pのようなヘテロ原子を含有しうる1から最大30個ま
でのC原子を有する炭化水素基が好ましい。これの例は
次の一般式の基である: −(O)o−(CH2)p−R5 q−E−R5 q−(CH2)p−
(O)o− 式中oおよびpは0または1の値を表わしおよびqは0
または1〜10の値を表わしおよびEは、とくに場合に
より置換された次のアルキレン基ないしはシクロアルキ
レン基から選択することのできる二価の基を表わす:
【0064】
【化6】
【0065】ここでmは上記の意味を有する。
【0066】さらにEは次のものであってもよい:
【0067】
【化7】
【0068】ここでこれらの基は場合により基R4およ
び/またはR6で置換されていてもよく;Eの他の例は
次の式に記載され、式中これらアリーレン基は再び基R
4および/またはR6で置換されていてもよくおよびヘテ
ロ原子を含有しうる:
び/またはR6で置換されていてもよく;Eの他の例は
次の式に記載され、式中これらアリーレン基は再び基R
4および/またはR6で置換されていてもよくおよびヘテ
ロ原子を含有しうる:
【0069】
【化8】
【0070】ここでrは0または1〜10の値を表わ
す。
す。
【0071】他の好ましい基R2は、次の一般式に合致
する:
する:
【0072】
【化9】
【0073】式中sおよびuは0または1の値を表わ
し、vは0、1、2、3または4の値を表わし、tは0
または1〜10の値を表わし、R4およびR5は上記にこ
れにつき記載した意味を有しおよびBは次の二価の単位
を表わす:
し、vは0、1、2、3または4の値を表わし、tは0
または1〜10の値を表わし、R4およびR5は上記にこ
れにつき記載した意味を有しおよびBは次の二価の単位
を表わす:
【0074】
【化10】
【0075】ここでmおよびnは上記の意味を有する。
【0076】他の好ましい基R2は、次の一般式によっ
て表わすことができる:
て表わすことができる:
【0077】
【化11】
【0078】式中wは0から300までの整数であり、
Tは1〜18個のC原子を有する三価の置換または非置
換の脂肪族基または6〜18個の炭素原子を有する三価
の置換または非置換の芳香族基でありおよびR´は同じ
かまたは異なっていてもよく、6〜30個の炭素原子を
有する場合によりハロゲン置換された二価の芳香族炭化
水素基、2〜20個の炭素原子を有するアルキレン基ま
たはシクロアルキレン基または次式の二価の基
Tは1〜18個のC原子を有する三価の置換または非置
換の脂肪族基または6〜18個の炭素原子を有する三価
の置換または非置換の芳香族基でありおよびR´は同じ
かまたは異なっていてもよく、6〜30個の炭素原子を
有する場合によりハロゲン置換された二価の芳香族炭化
水素基、2〜20個の炭素原子を有するアルキレン基ま
たはシクロアルキレン基または次式の二価の基
【0079】
【化12】
【0080】であり、式中Q´は1〜20個の炭素原子
を有する場合により置換された二価の有機基を表わし;
Qは、次の群:
を有する場合により置換された二価の有機基を表わし;
Qは、次の群:
【0081】
【化13】
【0082】から選択された四価の芳香族基であり、こ
こでDは次の基いずれかであってもよく:−O−、−S
−、−C(O)−、−C(CF3)2−、−S(O)2−、−C
hH2h−、−C(O)−O−R′−O−C(O)−および
−O−R′−O−、およびhは1から5までの整数であ
る。
こでDは次の基いずれかであってもよく:−O−、−S
−、−C(O)−、−C(CF3)2−、−S(O)2−、−C
hH2h−、−C(O)−O−R′−O−C(O)−および
−O−R′−O−、およびhは1から5までの整数であ
る。
【0083】R2の他のとくに好ましい二価の基は、次
の一般式のイミド構造である:
の一般式のイミド構造である:
【0084】
【化14】
【0085】式中基QおよびR′は上記にこれにつき記
載した意味を有し、R″は2〜20個のC原子を有する
アルキレン基またはシクロアルキレン基のような二価の
置換または非置換の炭化水素基、6〜30個のC原子を
有する芳香族基またはヘテロ原子を含有する、環状また
は非環状の芳香族または非芳香族基を表わす。
載した意味を有し、R″は2〜20個のC原子を有する
アルキレン基またはシクロアルキレン基のような二価の
置換または非置換の炭化水素基、6〜30個のC原子を
有する芳香族基またはヘテロ原子を含有する、環状また
は非環状の芳香族または非芳香族基を表わす。
【0086】ヒドロシリル化触媒(C)は、成分(A)
のアルケニル基と成分(B)のケイ素に結合した水素原
子との間のヒドロシリル化と呼ばれる付加反応の触媒と
して使用される。文献には、多数の適当なヒドロシリル
化触媒が記載されている。原則的には、公知技術に合致
する、付加架橋性シリコーンコーティング組成物におい
て使用されるすべてのヒドロシリル化触媒を使用するこ
とができる。
のアルケニル基と成分(B)のケイ素に結合した水素原
子との間のヒドロシリル化と呼ばれる付加反応の触媒と
して使用される。文献には、多数の適当なヒドロシリル
化触媒が記載されている。原則的には、公知技術に合致
する、付加架橋性シリコーンコーティング組成物におい
て使用されるすべてのヒドロシリル化触媒を使用するこ
とができる。
【0087】ヒドロシリル化触媒(C)としては、白
金、ロジウム、パラジウム、ルテニウムおよびイリジウ
ムのような金属およびその化合物、とくに白金を使用す
ることができる。金属は、場合により活性炭、酸化アル
ミニウムのような金属酸化物または二酸化珪素のような
微細な担体材料上に固定されていてもよい。
金、ロジウム、パラジウム、ルテニウムおよびイリジウ
ムのような金属およびその化合物、とくに白金を使用す
ることができる。金属は、場合により活性炭、酸化アル
ミニウムのような金属酸化物または二酸化珪素のような
微細な担体材料上に固定されていてもよい。
【0088】とくに、白金および白金化合物が使用され
る。ポリオルガノシロキサンに可溶なかかる白金化合物
がとくに好まれる。可溶性白金化合物としては、たとえ
ば式(PtCl2・オレフィン)2およびH(PtCl3
・オレフィン)の白金−オレフィン錯体を使用すること
ができ、その際好ましくはエチレン、プロピレン、ブテ
ンおよびオクテンの異性体のような2〜8個の炭素原子
を有するアルケン、またはシクロペンテン、シクロヘキ
センおよびシクロヘプテンのような5〜7個の炭素原子
を有するシクロアルケンが使用される。他の可溶性白金
触媒は、式(PtCl2C3H6)2の白金−シクロプロパ
ン錯体、ヘキサクロロ白金酸とアルコール、エーテルお
よびアルデヒドないしはそれらの混合物との反応生成物
またはエタノール溶液中で重炭酸ナトリウムの存在にお
けるヘキサクロロ白金酸とメチルビニルシクロテトラシ
ロキサンとの反応生成物である。白金とsym−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンのようなビニルシロキサン
との錯体がとくに好ましい。
る。ポリオルガノシロキサンに可溶なかかる白金化合物
がとくに好まれる。可溶性白金化合物としては、たとえ
ば式(PtCl2・オレフィン)2およびH(PtCl3
・オレフィン)の白金−オレフィン錯体を使用すること
ができ、その際好ましくはエチレン、プロピレン、ブテ
ンおよびオクテンの異性体のような2〜8個の炭素原子
を有するアルケン、またはシクロペンテン、シクロヘキ
センおよびシクロヘプテンのような5〜7個の炭素原子
を有するシクロアルケンが使用される。他の可溶性白金
触媒は、式(PtCl2C3H6)2の白金−シクロプロパ
ン錯体、ヘキサクロロ白金酸とアルコール、エーテルお
よびアルデヒドないしはそれらの混合物との反応生成物
またはエタノール溶液中で重炭酸ナトリウムの存在にお
けるヘキサクロロ白金酸とメチルビニルシクロテトラシ
ロキサンとの反応生成物である。白金とsym−ジビニ
ルテトラメチルジシロキサンのようなビニルシロキサン
との錯体がとくに好ましい。
【0089】ヒドロシリル化触媒(C)は、マイクロカ
プセル剤形で使用することもでき、その際触媒を含有す
るポリオルガノシロキサンに不溶の微細な固体は、たと
えばポリエステル樹脂またはケイ素樹脂のような熱可塑
性樹脂である。ヒドロシリル化触媒(C)は、たとえば
シクロデキストリン中の包接化合物の形で使用すること
もできる。
プセル剤形で使用することもでき、その際触媒を含有す
るポリオルガノシロキサンに不溶の微細な固体は、たと
えばポリエステル樹脂またはケイ素樹脂のような熱可塑
性樹脂である。ヒドロシリル化触媒(C)は、たとえば
シクロデキストリン中の包接化合物の形で使用すること
もできる。
【0090】使用されるヒドロシリル化触媒(C)の量
は、所望の架橋速度ならびに経済的観点に従う。慣用の
白金触媒を使用する場合、シリコーンコーティング組成
物の白金金属に関するヒドロシリル化触媒(C)の含量
は、とくに白金金属0.1〜500重量ppmの範囲
内、殊に10〜100重量ppmである。
は、所望の架橋速度ならびに経済的観点に従う。慣用の
白金触媒を使用する場合、シリコーンコーティング組成
物の白金金属に関するヒドロシリル化触媒(C)の含量
は、とくに白金金属0.1〜500重量ppmの範囲
内、殊に10〜100重量ppmである。
【0091】シリコーンコーティング組成物は、選択的
に成分(D)として他の添加剤を70重量%まで、とく
に0.01〜40重量%の分量で含有しうる。これらの
添加剤は、たとえば充填剤、樹脂、分散助剤、付着促進
剤、抑制剤、顔料、染料、可塑剤、熱安定剤等であって
もよい。
に成分(D)として他の添加剤を70重量%まで、とく
に0.01〜40重量%の分量で含有しうる。これらの
添加剤は、たとえば充填剤、樹脂、分散助剤、付着促進
剤、抑制剤、顔料、染料、可塑剤、熱安定剤等であって
もよい。
【0092】これには、高分散性ケイ酸、石英粉、ケイ
ソウ土、粘土、白亜、リトポン、カーボンブラック、黒
鉛、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ダス
ト、繊維、染料、顔料等のような添加剤が数えられる。
ソウ土、粘土、白亜、リトポン、カーボンブラック、黒
鉛、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属ダス
ト、繊維、染料、顔料等のような添加剤が数えられる。
【0093】殊に、シリコーンコーティング組成物の加
工時間および架橋速度の適切な調節に役立つ添加剤が含
有されていてもよい。これらの抑制剤および安定剤は、
付加架橋性組成物の分野で非常に良く公知である。慣用
の抑制剤の例は、エチニルシクロヘキサノールおよび2
−メチル−3−ブチン−2−オールのようなアセチレン
系アルコール、メチルビニルシクロテトラシロキサンの
ようなポリメチルビニルシクロシロキサン、ジメチルビ
ニルSiO1/2末端基および/またはメチルビニルSi
O2/2単位を有する低分子シリコーン油、トリアルキル
シアヌレート、ジアリルマレエートおよびジメチルマレ
エートのようなアルキルマレエート、ジエチルフマレー
トおよびジアリルフマレートのようなアルキルフマレー
ト、クメンヒドロペルオキシド、tert−ブチルヒド
ロペルオキシドおよびピナンヒドロペルオキシドのよう
な有機ヒドロペルオキシド、有機ペルオキシド、有機ス
ルホキシド、有機アミンおよび有機アミド、ホスフィン
およびホスファイト、ニトリル、ジアジリジンおよびオ
キシムである。
工時間および架橋速度の適切な調節に役立つ添加剤が含
有されていてもよい。これらの抑制剤および安定剤は、
付加架橋性組成物の分野で非常に良く公知である。慣用
の抑制剤の例は、エチニルシクロヘキサノールおよび2
−メチル−3−ブチン−2−オールのようなアセチレン
系アルコール、メチルビニルシクロテトラシロキサンの
ようなポリメチルビニルシクロシロキサン、ジメチルビ
ニルSiO1/2末端基および/またはメチルビニルSi
O2/2単位を有する低分子シリコーン油、トリアルキル
シアヌレート、ジアリルマレエートおよびジメチルマレ
エートのようなアルキルマレエート、ジエチルフマレー
トおよびジアリルフマレートのようなアルキルフマレー
ト、クメンヒドロペルオキシド、tert−ブチルヒド
ロペルオキシドおよびピナンヒドロペルオキシドのよう
な有機ヒドロペルオキシド、有機ペルオキシド、有機ス
ルホキシド、有機アミンおよび有機アミド、ホスフィン
およびホスファイト、ニトリル、ジアジリジンおよびオ
キシムである。
【0094】溶剤不含または溶剤含有であってもよい
か、または水性エマルションとして存在しうる付加架橋
性シリコーンコーティング組成物は、本発明による方法
の好ましい適用を表わす。この場合に、本発明による方
法はこれにより、いずれにせよシリコーンコーティング
組成物中に含有されるSiH架橋剤を、シリコーンコー
ティング組成物との減少した相溶性を有するように変性
することにより適用することができる。
か、または水性エマルションとして存在しうる付加架橋
性シリコーンコーティング組成物は、本発明による方法
の好ましい適用を表わす。この場合に、本発明による方
法はこれにより、いずれにせよシリコーンコーティング
組成物中に含有されるSiH架橋剤を、シリコーンコー
ティング組成物との減少した相溶性を有するように変性
することにより適用することができる。
【0095】主成分がとくに容易に入手でき、従ってと
くに好ましいジメチルシロキシ単位から構成されている
シリコーンコーティング組成物は、とくに高い剥離力を
有する。それで、成分(A)および(B)中の基のとく
にせいぜい5モル%、殊に2モル%になる僅かな官能基
は別として、有機基が大体においてメチル基であるオル
ガノポリシロキサンは、とくに好ましいシリコーンに属
し;これらは非常に低い剥離力レベルにより優れている
エラストマーのシリコーン被膜に架橋させることができ
る。
くに好ましいジメチルシロキシ単位から構成されている
シリコーンコーティング組成物は、とくに高い剥離力を
有する。それで、成分(A)および(B)中の基のとく
にせいぜい5モル%、殊に2モル%になる僅かな官能基
は別として、有機基が大体においてメチル基であるオル
ガノポリシロキサンは、とくに好ましいシリコーンに属
し;これらは非常に低い剥離力レベルにより優れている
エラストマーのシリコーン被膜に架橋させることができ
る。
【0096】シリコーンコーティング組成物は、紙、た
とえば硫酸紙、クレー塗布紙、クラフト紙、ボール紙、
PE加工紙およびPP加工紙;皮革、織物、シート、た
とえばLDPE、HDPE、PP、ポリエステル、PV
C;プラスチック、金属、たとえば金属ドラムのような
自体任意の支持体上に、粘着性物質反撥性表面を得るた
めに設けることができ、その際粘着性物質反撥の程度は
適切に調節しなければならない。シリコーンコーティン
グ組成物は、たとえば粘着テープ、電気絶縁テープ、食
料品分野、衛生用品、ラベル用の剥離紙等の製造におい
て使用される。
とえば硫酸紙、クレー塗布紙、クラフト紙、ボール紙、
PE加工紙およびPP加工紙;皮革、織物、シート、た
とえばLDPE、HDPE、PP、ポリエステル、PV
C;プラスチック、金属、たとえば金属ドラムのような
自体任意の支持体上に、粘着性物質反撥性表面を得るた
めに設けることができ、その際粘着性物質反撥の程度は
適切に調節しなければならない。シリコーンコーティン
グ組成物は、たとえば粘着テープ、電気絶縁テープ、食
料品分野、衛生用品、ラベル用の剥離紙等の製造におい
て使用される。
【0097】次の例において、その都度別記しない場
合、 a)すべての量の記載は重量に関し; b)すべての圧力は0.10MPa(絶対)であり; c)すべての温度は20℃であり; d)Tl=部を表わす。
合、 a)すべての量の記載は重量に関し; b)すべての圧力は0.10MPa(絶対)であり; c)すべての温度は20℃であり; d)Tl=部を表わす。
【0098】
【実施例】相溶性の減少したSiH含有オルガノシロキ
サンのCRA効果の特性決定は、下記に記載したSiH
含有オルガノシロキサン化合物−これは同時にCRAお
よび架橋剤として働く−が下記に記載した量で添加され
た、標準化された付加架橋性シリコーンコーティング組
成物につき行った。SiH含有オルガノシロキサン化合
物を混入するのは、室温で溶剤の助けをかりずに行っ
た。
サンのCRA効果の特性決定は、下記に記載したSiH
含有オルガノシロキサン化合物−これは同時にCRAお
よび架橋剤として働く−が下記に記載した量で添加され
た、標準化された付加架橋性シリコーンコーティング組
成物につき行った。SiH含有オルガノシロキサン化合
物を混入するのは、室温で溶剤の助けをかりずに行っ
た。
【0099】付加架橋性シリコーンコーティング組成物
の組成は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジ
メチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン9
9.75重量部、エチニルシクロヘキサノール(抑制剤
として働く)0.25重量部、元素状白金1.0重量%
を含有し、かつ25℃で1Pa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン中の白
金−sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の
溶液である白金触媒1.00重量部および架橋剤として
ないしは本発明による例の場合には付加的にCRAとし
て働くSiH含有オルガノシロキサン化合物の下記に記
載する可変量に相当する。
の組成は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジ
メチルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン9
9.75重量部、エチニルシクロヘキサノール(抑制剤
として働く)0.25重量部、元素状白金1.0重量%
を含有し、かつ25℃で1Pa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサン中の白
金−sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の
溶液である白金触媒1.00重量部および架橋剤として
ないしは本発明による例の場合には付加的にCRAとし
て働くSiH含有オルガノシロキサン化合物の下記に記
載する可変量に相当する。
【0100】成分を密接に混合した後、架橋性シリコー
ンコーティング組成物をガラス棒で標準化された硫酸紙
(Bosso社においてBuxil(R)N925の名称
で入手できる;65g/m2)上に薄層に塗り拡げるこ
とにより設けた。塗布量は4g/m2である。これに引
き続き、架橋を空気循環乾燥箱中で温度150℃で下記
に記載する可変時間の間行った。次いで、シリコーン処
理した硫酸紙を、FINAT試験法(“FINAT T
echnisches Handbuch”;4版;1
995年;発行者:FINAT−紙またはその他の支持
体に対する圧感接着およびホットメルト接着ラベルの製
造業者および加工業者の国際協会に記載)中に規定され
た技術により、低い剥離速度における剥離力(FINA
T試験法No.10)、高い剥離速度における剥離力
(FINAT試験法No.4)ならびに残留接着力(F
INAT試験法No.11)に関して特性決定した。こ
の場合、2つの異なる市販の粘着性接着テープを使用し
た(Beiersdorf社において“Tesafil
m(R)No.4154”、“Tesafilm(R)No.
7475”および“Tesafilm(R)No.747
6”の名称で入手できる;幅25mm)。
ンコーティング組成物をガラス棒で標準化された硫酸紙
(Bosso社においてBuxil(R)N925の名称
で入手できる;65g/m2)上に薄層に塗り拡げるこ
とにより設けた。塗布量は4g/m2である。これに引
き続き、架橋を空気循環乾燥箱中で温度150℃で下記
に記載する可変時間の間行った。次いで、シリコーン処
理した硫酸紙を、FINAT試験法(“FINAT T
echnisches Handbuch”;4版;1
995年;発行者:FINAT−紙またはその他の支持
体に対する圧感接着およびホットメルト接着ラベルの製
造業者および加工業者の国際協会に記載)中に規定され
た技術により、低い剥離速度における剥離力(FINA
T試験法No.10)、高い剥離速度における剥離力
(FINAT試験法No.4)ならびに残留接着力(F
INAT試験法No.11)に関して特性決定した。こ
の場合、2つの異なる市販の粘着性接着テープを使用し
た(Beiersdorf社において“Tesafil
m(R)No.4154”、“Tesafilm(R)No.
7475”および“Tesafilm(R)No.747
6”の名称で入手できる;幅25mm)。
【0101】上記に記載した付加架橋性シリコーンコー
ティング組成物との相溶性の減少したSiH含有オルガ
ノシロキサン化合物の製造は、下記の例に記載されてい
る。
ティング組成物との相溶性の減少したSiH含有オルガ
ノシロキサン化合物の製造は、下記の例に記載されてい
る。
【0102】例1:モル比1:1.65のジメチルシロ
キシ単位およびフェニルメチルシロキシ単位からなり、
25℃で95mPa.sの粘度を有するトリメチルシロ
キシ末端コポリマー25gに、PNCl2の20重量%
のトルオール溶液を加えて、PNCl2の含量が150
重量ppmであるようにし、70℃に加熱する。引き続
き、持続的に撹拌しながら温度70℃でトリメチルシロ
キシ末端ポリメチル水素シロキサンMe3Si−(−O
−SiH(Me))n−O−SiMe3(このものは29S
i−NMRによりn=53の平均鎖長を有し、これは
1.58重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当
する)135gを、反応混合物が透明のままであるよう
に滴加する(30分間に亘って)。時折、さらにPNC
l2溶液を加えて、反応混合物のPNCl2含量が約15
0重量ppmであるようにする。ポリメチル水素シロキ
サンの添加後、5分間平衡化し、引き続き室温に冷却す
る。混合物を塩化メチレン200mlに溶解し、平衡化
触媒を25%のアンモニア溶液1mlで失活させ、全溶
液を無水硫酸ナトリウム上で慎重に乾燥する。引き続
き、塩化メチレンを軽度の真空下に蒸留し;得られる混
濁した油状物を一晩に亘って放置し、翌日圧力ヌッチエ
により濾過する;澄明な無色コポリマーが得られ、その
H含量(Siに結合した水素)は湿式化学的に1.27
重量%と測定された。反応生成物10gは、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン100g中に均質に混合で
き、両成分の混合の際に混濁を認めうることもない。
キシ単位およびフェニルメチルシロキシ単位からなり、
25℃で95mPa.sの粘度を有するトリメチルシロ
キシ末端コポリマー25gに、PNCl2の20重量%
のトルオール溶液を加えて、PNCl2の含量が150
重量ppmであるようにし、70℃に加熱する。引き続
き、持続的に撹拌しながら温度70℃でトリメチルシロ
キシ末端ポリメチル水素シロキサンMe3Si−(−O
−SiH(Me))n−O−SiMe3(このものは29S
i−NMRによりn=53の平均鎖長を有し、これは
1.58重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当
する)135gを、反応混合物が透明のままであるよう
に滴加する(30分間に亘って)。時折、さらにPNC
l2溶液を加えて、反応混合物のPNCl2含量が約15
0重量ppmであるようにする。ポリメチル水素シロキ
サンの添加後、5分間平衡化し、引き続き室温に冷却す
る。混合物を塩化メチレン200mlに溶解し、平衡化
触媒を25%のアンモニア溶液1mlで失活させ、全溶
液を無水硫酸ナトリウム上で慎重に乾燥する。引き続
き、塩化メチレンを軽度の真空下に蒸留し;得られる混
濁した油状物を一晩に亘って放置し、翌日圧力ヌッチエ
により濾過する;澄明な無色コポリマーが得られ、その
H含量(Siに結合した水素)は湿式化学的に1.27
重量%と測定された。反応生成物10gは、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン100g中に均質に混合で
き、両成分の混合の際に混濁を認めうることもない。
【0103】例2:製造は例1に記載した通りである
が、フェニル含有コポリマー35gをポリメチル水素シ
ロキサン125gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に1.18重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合でき、その際非常に弱い乳白色の混濁が成分の減
少した相溶性を認識させる。
が、フェニル含有コポリマー35gをポリメチル水素シ
ロキサン125gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に1.18重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合でき、その際非常に弱い乳白色の混濁が成分の減
少した相溶性を認識させる。
【0104】例3:製造は例1に記載した通りである
が、フェニル含有コポリマー45gをポリメチル水素シ
ロキサン115gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に1.05重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合でき、その際両成分を混合する際に生じる弱い乳
白色の混濁が両成分の減少した相溶性を認識させる。
が、フェニル含有コポリマー45gをポリメチル水素シ
ロキサン115gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に1.05重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合でき、その際両成分を混合する際に生じる弱い乳
白色の混濁が両成分の減少した相溶性を認識させる。
【0105】例4:製造は例1に記載した通りである
が、フェニル含有コポリマー55gをポリメチル水素シ
ロキサン105gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に0.98重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合できるが、その際両成分の混合の際明瞭に乳白色
の混濁が観察され、これはポリジメチルシロキサン中で
のSiH含有コポリマーの微細相分離した分配を示唆す
る。
が、フェニル含有コポリマー55gをポリメチル水素シ
ロキサン105gで平衡化する。反応生成物のH含量
は、湿式化学的に0.98重量%と測定された。反応生
成物は、25℃で500mPa.sの粘度を有するジメ
チルビニルシロキシ末端ポリジメチルシロキサンと均質
に混合できるが、その際両成分の混合の際明瞭に乳白色
の混濁が観察され、これはポリジメチルシロキサン中で
のSiH含有コポリマーの微細相分離した分配を示唆す
る。
【0106】例5(本発明によらない比較例):SiH
含有架橋成分として、トリメチルシロキシ末端ポリメチ
ル水素シロキサンMe3Si−(−O−SiH(Me))
n−O−SiMe3を使用し、このものは 29Si−NMR
によりn=53の平均鎖長を有し、これは1.58重量
%のH含量(Siに結合した水素)に相当する。このポ
リメチル水素シロキサンは、シリコーンコーティング組
成物中に、混濁が認識しうることなしに完全に均質に可
溶である。
含有架橋成分として、トリメチルシロキシ末端ポリメチ
ル水素シロキサンMe3Si−(−O−SiH(Me))
n−O−SiMe3を使用し、このものは 29Si−NMR
によりn=53の平均鎖長を有し、これは1.58重量
%のH含量(Siに結合した水素)に相当する。このポ
リメチル水素シロキサンは、シリコーンコーティング組
成物中に、混濁が認識しうることなしに完全に均質に可
溶である。
【0107】第1表:Tesafilm(R)No.74
75に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
75に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
【0108】
【表1】
【0109】第2表:Tesafilm(R)No.41
54に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
54に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
【0110】
【表2】
【0111】SiH含有オルガノシロキサン化合物(例
1〜例5)を使用して製造された紙シリコーン被膜を、
2つの異なる接着テープに対するその動的剥離力挙動に
つき特性決定した;結果は第1表および第2表にまとめ
られている。差し当たり、例1〜例5に記載されたSi
H架橋剤を使用して配合された組成物は硫酸紙上に乾燥
した非粘着性のシリコーン被膜を生じることを確認する
ことができ、その際架橋はすべての場合に150℃の空
気循環乾燥箱中で5秒間行った。シリコーン処理した硫
酸紙にTesafilm(R)No.7475またはTe
safilm(R)No.4154を貼付け、ラミネート
を20時間70℃および70g/cm2の荷重でのエー
ジング後、その動的剥離力挙動に関してFINAT試験
法により特性決定した。
1〜例5)を使用して製造された紙シリコーン被膜を、
2つの異なる接着テープに対するその動的剥離力挙動に
つき特性決定した;結果は第1表および第2表にまとめ
られている。差し当たり、例1〜例5に記載されたSi
H架橋剤を使用して配合された組成物は硫酸紙上に乾燥
した非粘着性のシリコーン被膜を生じることを確認する
ことができ、その際架橋はすべての場合に150℃の空
気循環乾燥箱中で5秒間行った。シリコーン処理した硫
酸紙にTesafilm(R)No.7475またはTe
safilm(R)No.4154を貼付け、ラミネート
を20時間70℃および70g/cm2の荷重でのエー
ジング後、その動的剥離力挙動に関してFINAT試験
法により特性決定した。
【0112】FINAT試験法No.11により決定し
た、第1表および第2表に記載されたシリコーン被膜の
残留接着力はすべての場合実際に100%であり、これ
によって架橋により組込まれない移行する油状シリコー
ン成分の存在は排除することができ;これは摩擦落ち
(Rub−off)試験、移行試験および着色試験(W
acker Chemie GmbHの説明書“Deh
esive(R)Testmethoden”;1991
年発行参照)における例外なく非常に良好な結果によっ
ても確認される。
た、第1表および第2表に記載されたシリコーン被膜の
残留接着力はすべての場合実際に100%であり、これ
によって架橋により組込まれない移行する油状シリコー
ン成分の存在は排除することができ;これは摩擦落ち
(Rub−off)試験、移行試験および着色試験(W
acker Chemie GmbHの説明書“Deh
esive(R)Testmethoden”;1991
年発行参照)における例外なく非常に良好な結果によっ
ても確認される。
【0113】第1表および第2表に、異なる量のポリメ
チル水素シロキサン(例5)による本発明によらない剥
離力レベルの調節のために記載された異なる剥離速度に
おける剥離力値は、剥離力がSiH使用量から一定の依
存性を示すことを明瞭にする。殊に、Tesafilm
(R)No.7475のアクリレート含有接着剤に対する
適度の剥離力増加はSiH架橋剤量を単に高めることに
より達成することができるが、Tesafilm(R)N
o.4154に対するシリコーン被膜の剥離力はSiH
使用量に対しあまり敏感に反応しない。第1表および第
2表から明らかなように、相溶性の減少した、従って本
発明による方法でフェニルを有するSiH含有コポリマ
ーを用いて剥離力を著しく強く、平均して完全に可溶の
ポリメチル水素シロキサンと比較して二倍ないし三倍に
高めることができる。その際、相溶性の減少したSiH
架橋剤の使用量は、SiH/SiCH=CH2のモル比
がその都度、ポリメチル水素シロキサン4.00重量部
ないしは6.00重量部を含有するシリコーンコーティ
ング組成物のモル比に相当するように選択されたので、
第1表および第2表にはSiH含量から独立にSiH架
橋剤の相溶性減少により惹起された剥離力増加が直接に
開示される。さらに、 SiH架橋剤の相溶性減少によ
りSiH/SiCH=CH2の比が不変の場合に剥離力
値の明瞭な増加を記録することができることは明らかで
ある。これは、相溶性の減少したSiH架橋剤のCRA
効果が一方で使用量の増加により、他方で相溶性の減少
により達成しうることを示す。
チル水素シロキサン(例5)による本発明によらない剥
離力レベルの調節のために記載された異なる剥離速度に
おける剥離力値は、剥離力がSiH使用量から一定の依
存性を示すことを明瞭にする。殊に、Tesafilm
(R)No.7475のアクリレート含有接着剤に対する
適度の剥離力増加はSiH架橋剤量を単に高めることに
より達成することができるが、Tesafilm(R)N
o.4154に対するシリコーン被膜の剥離力はSiH
使用量に対しあまり敏感に反応しない。第1表および第
2表から明らかなように、相溶性の減少した、従って本
発明による方法でフェニルを有するSiH含有コポリマ
ーを用いて剥離力を著しく強く、平均して完全に可溶の
ポリメチル水素シロキサンと比較して二倍ないし三倍に
高めることができる。その際、相溶性の減少したSiH
架橋剤の使用量は、SiH/SiCH=CH2のモル比
がその都度、ポリメチル水素シロキサン4.00重量部
ないしは6.00重量部を含有するシリコーンコーティ
ング組成物のモル比に相当するように選択されたので、
第1表および第2表にはSiH含量から独立にSiH架
橋剤の相溶性減少により惹起された剥離力増加が直接に
開示される。さらに、 SiH架橋剤の相溶性減少によ
りSiH/SiCH=CH2の比が不変の場合に剥離力
値の明瞭な増加を記録することができることは明らかで
ある。これは、相溶性の減少したSiH架橋剤のCRA
効果が一方で使用量の増加により、他方で相溶性の減少
により達成しうることを示す。
【0114】例6:ポリ[(ジメチルシロキシ)−ビス
−(ジメチルシロキシ)−エチルノルボルナン]5.0
gを、トルオール100gに溶解し、80℃に加熱す
る。PNCl 2の10重量%トルオール溶液0.27g
を添加した後、ポリメチル水素シロキサン(Aldri
ch GmbHにおいて商業的に入手できる)8.0g
および1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン(ABCRにおいて商業的に入手できる)4.0
gを徐々に滴加する。易揮発性成分を除去した後に無色
の液体が得られ、該液体はその1H−NMR−、29NM
R−およびIRスペクトルにより次の平均組成を有し、
これは0.984重量%のH含量(Siに結合した水
素)に相当する。相溶性の減少を惹起するノルボルニレ
ン含有構造単位の含量は、このSiH架橋剤が25℃で
500mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキ
シ末端ポリジメチルシロキサン中に、混濁が観察される
ことなしにそれぞれの割合で均質に混合できるように決
められている:
−(ジメチルシロキシ)−エチルノルボルナン]5.0
gを、トルオール100gに溶解し、80℃に加熱す
る。PNCl 2の10重量%トルオール溶液0.27g
を添加した後、ポリメチル水素シロキサン(Aldri
ch GmbHにおいて商業的に入手できる)8.0g
および1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロ
キサン(ABCRにおいて商業的に入手できる)4.0
gを徐々に滴加する。易揮発性成分を除去した後に無色
の液体が得られ、該液体はその1H−NMR−、29NM
R−およびIRスペクトルにより次の平均組成を有し、
これは0.984重量%のH含量(Siに結合した水
素)に相当する。相溶性の減少を惹起するノルボルニレ
ン含有構造単位の含量は、このSiH架橋剤が25℃で
500mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキ
シ末端ポリジメチルシロキサン中に、混濁が観察される
ことなしにそれぞれの割合で均質に混合できるように決
められている:
【0115】
【化15】
【0116】例7:ジメチルシロキサン−シルフェニレ
ンコポリマー20.0gおよびトルオール(乾燥)21
0gを、80℃に加熱する。PNCl2の10重量%ト
ルオール溶液0.35gを添加した後、30分内にポリ
メチル水素シロキサン(Aldrichから)25.0
gおよびテトラメチルシクロテトラシロキサン15.0
gを滴加する。反応混合物を80℃で1時間撹拌し、も
う一度PNCl2の10重量%トルオール溶液0.35
gを添加した後、温度100℃でもう一度1時間撹拌す
る。冷却した後、ヘキサメチルジシラザン(Aldri
chから)2.0gを添加し、30分撹拌する。濾過
後、低沸点成分を真空中で除去する。無色透明な油状物
が得られ、このものは1H−NMR−,29Si−NMR
−およびIR−スペクトルにより次の平均組成を有し、
これは1.02重量%のH含量(Siに結合した水素)
に相当する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単位の
含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mPa.
sの粘度を有するジメチルシロキシ末端ポリジメチルシ
ロキサン中に、混濁が出現することなしに、それぞれの
割合で均質に混合できるように決められている:
ンコポリマー20.0gおよびトルオール(乾燥)21
0gを、80℃に加熱する。PNCl2の10重量%ト
ルオール溶液0.35gを添加した後、30分内にポリ
メチル水素シロキサン(Aldrichから)25.0
gおよびテトラメチルシクロテトラシロキサン15.0
gを滴加する。反応混合物を80℃で1時間撹拌し、も
う一度PNCl2の10重量%トルオール溶液0.35
gを添加した後、温度100℃でもう一度1時間撹拌す
る。冷却した後、ヘキサメチルジシラザン(Aldri
chから)2.0gを添加し、30分撹拌する。濾過
後、低沸点成分を真空中で除去する。無色透明な油状物
が得られ、このものは1H−NMR−,29Si−NMR
−およびIR−スペクトルにより次の平均組成を有し、
これは1.02重量%のH含量(Siに結合した水素)
に相当する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単位の
含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mPa.
sの粘度を有するジメチルシロキシ末端ポリジメチルシ
ロキサン中に、混濁が出現することなしに、それぞれの
割合で均質に混合できるように決められている:
【0117】
【化16】
【0118】例8:製造は例7と同様に行なわれるが、
反応時間を100℃で2時間に増加した;無色透明の油
状物が得られ、このものは1H−NMR−、29Si−N
MR−およびIR−スペクトルにより次の平均組成を有
し、これは0.91重量%のH含量(Siに結合した水
素)に相当する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単
位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mP
a.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリ
ジメチルシロキサン中に実際に均質に混入することがで
きるように決められているが、混合の際に乳白色の混濁
が生じる:
反応時間を100℃で2時間に増加した;無色透明の油
状物が得られ、このものは1H−NMR−、29Si−N
MR−およびIR−スペクトルにより次の平均組成を有
し、これは0.91重量%のH含量(Siに結合した水
素)に相当する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単
位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mP
a.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリ
ジメチルシロキサン中に実際に均質に混入することがで
きるように決められているが、混合の際に乳白色の混濁
が生じる:
【0119】
【化17】
【0120】例9:2,2−ビス(p−アリルオキシフ
ェニル)プロパン10.0gおよびポリメチル水素シロ
キサン(Aldrichから)30.0gを混合し、8
0℃に加熱する。PNCl2の10重量%トルオール溶
液0.10gを反応混合物に添加した後、これを100
℃で2時間撹拌する。引き続き、平衡化触媒を失活さ
せ、生成物混合物から低沸点成分を真空中で除去する。
生成物は、1H−NMR−、29Si−NMR−およびI
R−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは1.
13重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当す
る。相溶性の減少を惹起するビスフェノール−A様の構
造単位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500
mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端
ポリジメチルシロキサン中に、実際に均質に混入するこ
とができるように決められているが、混合の際に乳白色
の混濁が生じる:
ェニル)プロパン10.0gおよびポリメチル水素シロ
キサン(Aldrichから)30.0gを混合し、8
0℃に加熱する。PNCl2の10重量%トルオール溶
液0.10gを反応混合物に添加した後、これを100
℃で2時間撹拌する。引き続き、平衡化触媒を失活さ
せ、生成物混合物から低沸点成分を真空中で除去する。
生成物は、1H−NMR−、29Si−NMR−およびI
R−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは1.
13重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当す
る。相溶性の減少を惹起するビスフェノール−A様の構
造単位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500
mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端
ポリジメチルシロキサン中に、実際に均質に混入するこ
とができるように決められているが、混合の際に乳白色
の混濁が生じる:
【0121】
【化18】
【0122】例10:還流冷却器、撹拌機および内部温
度計を備える丸底フラスコ中に、アリル−4−tert
−ブチルフェニルエーテル9.54gおよびポリメチル
水素シロキサン(Aldrichから)60gを加え
る。この混合物に、80℃で撹拌しながら白金−sym
−ジビニルテトラメチルシロキサン錯体の溶液(元素と
して計算してPt1重量%を有するシクロヘキサン中の
溶液)1.2mlを添加する。90℃で2時間加熱した
後、反応溶液に活性炭を加え、濾過する。真空中(2m
bar)60℃で揮発性成分を除去した後、ポリ[(メ
チル水素シロキサン)(メチルtert−ブチルフェニ
ルプロピルエーテルシロキサン)]57gが得られ、こ
のものは1H−NMR−、29Si−NMR−およびIR
−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは1.3
3重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当する。
相溶性の減少を惹起するtert−ブチルフェノキシプ
ロピル側基の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン中に実際に均質の混入する
ことができるように決められているが、混合の際に乳白
色の混濁が生じる:
度計を備える丸底フラスコ中に、アリル−4−tert
−ブチルフェニルエーテル9.54gおよびポリメチル
水素シロキサン(Aldrichから)60gを加え
る。この混合物に、80℃で撹拌しながら白金−sym
−ジビニルテトラメチルシロキサン錯体の溶液(元素と
して計算してPt1重量%を有するシクロヘキサン中の
溶液)1.2mlを添加する。90℃で2時間加熱した
後、反応溶液に活性炭を加え、濾過する。真空中(2m
bar)60℃で揮発性成分を除去した後、ポリ[(メ
チル水素シロキサン)(メチルtert−ブチルフェニ
ルプロピルエーテルシロキサン)]57gが得られ、こ
のものは1H−NMR−、29Si−NMR−およびIR
−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは1.3
3重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当する。
相溶性の減少を惹起するtert−ブチルフェノキシプ
ロピル側基の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン中に実際に均質の混入する
ことができるように決められているが、混合の際に乳白
色の混濁が生じる:
【0123】
【化19】
【0124】例11:ポリ[(p−フェニレンテトラメ
チルシロキサン)(ジメチルシロキサン)]16.0g
およびポリメチル水素シロキサン32.0gを混合し、
窒素雰囲気下に120℃に加熱する。引き続き、PNC
l2の10重量%トルオール溶液0.12mlを添加
し、混合物を120℃で2時間撹拌する。40℃に冷却
させ、これにヘキサメチルジシラザン1.6gを加え、
10分撹拌し、揮発性成分を80℃で真空中(2mba
r)で除去する。濾過後、澄明な油状物約40gが得ら
れ、このものは1H−NMR−、29Si−NMR−およ
びIR−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは
1.02重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当
する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単位の含量
は、このSiH架橋剤が、25℃で500mPa.sの
粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチル
シロキサン中に実際に均質に混入することができるよう
に決められているが、混合の際に乳白色の混濁が生じ
る:
チルシロキサン)(ジメチルシロキサン)]16.0g
およびポリメチル水素シロキサン32.0gを混合し、
窒素雰囲気下に120℃に加熱する。引き続き、PNC
l2の10重量%トルオール溶液0.12mlを添加
し、混合物を120℃で2時間撹拌する。40℃に冷却
させ、これにヘキサメチルジシラザン1.6gを加え、
10分撹拌し、揮発性成分を80℃で真空中(2mba
r)で除去する。濾過後、澄明な油状物約40gが得ら
れ、このものは1H−NMR−、29Si−NMR−およ
びIR−スペクトルにより次の平均組成を有し、これは
1.02重量%のH含量(Siに結合した水素)に相当
する。相溶性の減少を惹起するフェニレン単位の含量
は、このSiH架橋剤が、25℃で500mPa.sの
粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリジメチル
シロキサン中に実際に均質に混入することができるよう
に決められているが、混合の際に乳白色の混濁が生じ
る:
【0125】
【化20】
【0126】例12:保護ガス下に、ポリ[(ジメチル
シロキシ)−ビス−(ジメチルシロキシ)−エチルノル
ボルナン]5.0gおよびポリメチル水素シロキサン3
0.0gを80℃に加熱する。PNCl2の10重量%
トルオール溶液0.1mlを添加した後、100℃で1
時間、引き続き120℃で15分撹拌する。混合物を室
温に冷却し、これにヘキサメチルジシラザン0.5ml
を加え、さらに15分攪拌し、揮発性成分を70℃で真
空(1mbar)中で除去する。軽度に混濁した油状物
約28gが得られ、このものは1H−NMR−、29Si
−NMR−およびIR−スペクトルにより次の平均組成
を有し、これは1.40重量%のH含量(Siに結合し
た水素)に相当する。
シロキシ)−ビス−(ジメチルシロキシ)−エチルノル
ボルナン]5.0gおよびポリメチル水素シロキサン3
0.0gを80℃に加熱する。PNCl2の10重量%
トルオール溶液0.1mlを添加した後、100℃で1
時間、引き続き120℃で15分撹拌する。混合物を室
温に冷却し、これにヘキサメチルジシラザン0.5ml
を加え、さらに15分攪拌し、揮発性成分を70℃で真
空(1mbar)中で除去する。軽度に混濁した油状物
約28gが得られ、このものは1H−NMR−、29Si
−NMR−およびIR−スペクトルにより次の平均組成
を有し、これは1.40重量%のH含量(Siに結合し
た水素)に相当する。
【0127】相溶性の減少を惹起するノルボルニレン含
有構造単位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン中にそれぞれの割合で均質
に、混濁が観察されることなしに混合できるように決め
られている:
有構造単位の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で5
00mPa.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ
末端ポリジメチルシロキサン中にそれぞれの割合で均質
に、混濁が観察されることなしに混合できるように決め
られている:
【0128】
【化21】
【0129】例13:次の平均組成によるジメチルシロ
キシ含有構造単位およびイミド含有構造単位からなるコ
ポリマー10.0g、
キシ含有構造単位およびイミド含有構造単位からなるコ
ポリマー10.0g、
【0130】
【化22】
【0131】トルオール150.0g、ポリメチル水素
シロキサン75.0gおよびトルオール−4−スルホン
酸1.8gを混合し、100℃で3時間撹拌する。室温
に冷却した後、濾過助剤を通して濾過し、揮発性成分を
60℃で真空(3mbar)中で除去する。反応生成物
約61gが得られ、このものは1H−NMR−、29Si
−NMR−およびIR−スペクトルにより下記に記載し
た平均組成を有し、これは1.32重量%のH含量(S
iに結合した水素)に相当する。
シロキサン75.0gおよびトルオール−4−スルホン
酸1.8gを混合し、100℃で3時間撹拌する。室温
に冷却した後、濾過助剤を通して濾過し、揮発性成分を
60℃で真空(3mbar)中で除去する。反応生成物
約61gが得られ、このものは1H−NMR−、29Si
−NMR−およびIR−スペクトルにより下記に記載し
た平均組成を有し、これは1.32重量%のH含量(S
iに結合した水素)に相当する。
【0132】相溶性の減少を惹起するイミド様構造単位
の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mP
a.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリ
ジメチルシロキサン中に実際均質に混入することができ
るように決定されているが、混合の際に乳白色の混濁が
生じる:
の含量は、このSiH架橋剤が、25℃で500mP
a.sの粘度を有するジメチルビニルシロキシ末端ポリ
ジメチルシロキサン中に実際均質に混入することができ
るように決定されているが、混合の際に乳白色の混濁が
生じる:
【0133】
【化23】
【0134】例5〜13に記載したSiH含有架橋剤の
使用下に製造したシリコーン被膜の結果は、第3表およ
び第4表にまとめられており(動的剥離力挙動);例5
は本発明によらない比較例として役立つ。
使用下に製造したシリコーン被膜の結果は、第3表およ
び第4表にまとめられており(動的剥離力挙動);例5
は本発明によらない比較例として役立つ。
【0135】第3表:Tesafilm(R)No.74
75に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
75に対する動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
【0136】
【表3】
【0137】(TK=剥離力;第2欄における括弧内に
記載した量は、Siに結合した水素の同量をシリコーン
コーティング組成物中に導入するためには、ポリメチル
水素シロキサン何重量部を配量しなければならないかを
示す;記載“引裂け”は、剥離力が紙の引裂けに基づき
測定技術的に最早把握することのできない(非常に高
い)値に達したことを表わす) 第4表:Tesafilm(R)No.4154に対する
動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
記載した量は、Siに結合した水素の同量をシリコーン
コーティング組成物中に導入するためには、ポリメチル
水素シロキサン何重量部を配量しなければならないかを
示す;記載“引裂け”は、剥離力が紙の引裂けに基づき
測定技術的に最早把握することのできない(非常に高
い)値に達したことを表わす) 第4表:Tesafilm(R)No.4154に対する
動的剥離力挙動;架橋:150℃で5秒
【0138】
【表4】
【0139】(TK=剥離力;第2欄において括弧内に
記載した量は、Siに結合した水素の同量をシリコーン
コーティング組成物中に導入するためには、ポリメチル
水素シロキサン何重量部を配量しなければならないかを
示す;記載“引裂け”は、剥離力が紙の引裂けに基づき
測定技術的に最早把握することのできない(非常に高
い)値に達したことを表わす) 第3表および第4表に記載した結果は、剥離力は本発明
による方法で広い範囲内で適切に調節することができる
ことを証明する。減少した相溶性を有するSiH架橋剤
の比較的小さい濃度変化により剥離力は最高値に到達で
き、これはラミネート剥離の場合に紙の引裂けに表われ
る。さらに、不相溶性を惹起する、SiH架橋剤中に含
有されている基の種類に応じて粘着性物質反撥の程度、
殊に動的剥離力挙動を種々に調節することができ、これ
によりこの点で多種多様の要求プロフィールを非常に良
好に満足することができることは明らかである。
記載した量は、Siに結合した水素の同量をシリコーン
コーティング組成物中に導入するためには、ポリメチル
水素シロキサン何重量部を配量しなければならないかを
示す;記載“引裂け”は、剥離力が紙の引裂けに基づき
測定技術的に最早把握することのできない(非常に高
い)値に達したことを表わす) 第3表および第4表に記載した結果は、剥離力は本発明
による方法で広い範囲内で適切に調節することができる
ことを証明する。減少した相溶性を有するSiH架橋剤
の比較的小さい濃度変化により剥離力は最高値に到達で
き、これはラミネート剥離の場合に紙の引裂けに表われ
る。さらに、不相溶性を惹起する、SiH架橋剤中に含
有されている基の種類に応じて粘着性物質反撥の程度、
殊に動的剥離力挙動を種々に調節することができ、これ
によりこの点で多種多様の要求プロフィールを非常に良
好に満足することができることは明らかである。
【0140】第3表および第4表は、適切な剥離力調節
が、主成分を形成するジメチルビニル末端ポリジメチル
シロキサンを変性することなしに可能であることを説明
する。殊に、さもないとこのような高い剥離力値を達成
するために高い濃度で使用すべきケイ素樹脂が完全にな
くてもよい。
が、主成分を形成するジメチルビニル末端ポリジメチル
シロキサンを変性することなしに可能であることを説明
する。殊に、さもないとこのような高い剥離力値を達成
するために高い濃度で使用すべきケイ素樹脂が完全にな
くてもよい。
【0141】第3表および第4表に記載したシリコーン
被膜の残留接着力試験は、例外無く実際に100%の値
を生じ、これは同様に優れた値を生じる摩擦落ち試験、
ストローク(Strich)試験および移行試験と関連
して非常に短い時間内に行われる、シリコーンコーティ
ング組成物の完全な架橋を証明する。
被膜の残留接着力試験は、例外無く実際に100%の値
を生じ、これは同様に優れた値を生じる摩擦落ち試験、
ストローク(Strich)試験および移行試験と関連
して非常に短い時間内に行われる、シリコーンコーティ
ング組成物の完全な架橋を証明する。
【0142】本発明によるSiH架橋剤の減少した相溶
性を考慮して、移行成分が存在せずおよび架橋速度が不
利な影響を受けないだけでなく、むしろ慣例の架橋剤を
慣例のCRAs、殊にケイ素樹脂と関連して使用する場
合よりも完全かつ迅速な架橋が観察されることを確認す
ることは全く驚異的である。このことは下記に、次に記
載する本発明によらないケイ素樹脂含有シリコーンコー
ティング組成物との抽出値(つまり架橋したシリコーン
被膜から溶剤(トルオール)によって抽出できる重量%
での分量)の比較により示す: 例14(本発明によらない比較例):次の成分を密接に
混合することにより架橋性シリコーンコーティング組成
物を製造する:Dehesive(R)920(Wack
er Chemie社において入手可能)70重量部;
25℃で35mPa.sの粘度を有しおよび1.15重
量%のH含量(Siに結合した水素)を有するトリメチ
ルシロキシ末端ポリ[(ジメチルシロキサン)(メチル
水素シロキサン)]−コポリマー4.3重量部;Wac
ker Chemie GmbH社においてCRA17
の名称で入手できるビニル官能性ケイ素樹脂30重量
部;ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25
℃で1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−
sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で
白金1.0重量%(元素として計算して)を含有する白
金触媒1.0重量部。
性を考慮して、移行成分が存在せずおよび架橋速度が不
利な影響を受けないだけでなく、むしろ慣例の架橋剤を
慣例のCRAs、殊にケイ素樹脂と関連して使用する場
合よりも完全かつ迅速な架橋が観察されることを確認す
ることは全く驚異的である。このことは下記に、次に記
載する本発明によらないケイ素樹脂含有シリコーンコー
ティング組成物との抽出値(つまり架橋したシリコーン
被膜から溶剤(トルオール)によって抽出できる重量%
での分量)の比較により示す: 例14(本発明によらない比較例):次の成分を密接に
混合することにより架橋性シリコーンコーティング組成
物を製造する:Dehesive(R)920(Wack
er Chemie社において入手可能)70重量部;
25℃で35mPa.sの粘度を有しおよび1.15重
量%のH含量(Siに結合した水素)を有するトリメチ
ルシロキシ末端ポリ[(ジメチルシロキサン)(メチル
水素シロキサン)]−コポリマー4.3重量部;Wac
ker Chemie GmbH社においてCRA17
の名称で入手できるビニル官能性ケイ素樹脂30重量
部;ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25
℃で1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−
sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で
白金1.0重量%(元素として計算して)を含有する白
金触媒1.0重量部。
【0143】例15(本発明によらない比較例):次の
成分を密接に混合することにより架橋性シリコーンコー
ティング組成物を製造する:Dehesive(R)92
0(Wacker Chemie GmbH社において
入手可能)40重量部;25℃で35mPa.sの粘度
を有しおよび1.15重量%のH含量(Siに結合した
水素)を有するトリメチルシロキシ末端ポリ[(ジメチ
ルシロキサン)(メチル水素シロキサン)]−コポリマ
ー5.5重量部;Wacker Chemie Gmb
H社においてCRA17の名称で入手できるビニル官能
性ケイ素樹脂60重量部;ジメチルビニル末端ポリジメ
チルシロキサン(25℃で1Pa.sの粘度を有する)
に溶解している白金−sym−ジビニルテトラメチルジ
シロキサン錯体の形で白金1.0重量%(元素として計
算)を含有する白金触媒1.0重量部。
成分を密接に混合することにより架橋性シリコーンコー
ティング組成物を製造する:Dehesive(R)92
0(Wacker Chemie GmbH社において
入手可能)40重量部;25℃で35mPa.sの粘度
を有しおよび1.15重量%のH含量(Siに結合した
水素)を有するトリメチルシロキシ末端ポリ[(ジメチ
ルシロキサン)(メチル水素シロキサン)]−コポリマ
ー5.5重量部;Wacker Chemie Gmb
H社においてCRA17の名称で入手できるビニル官能
性ケイ素樹脂60重量部;ジメチルビニル末端ポリジメ
チルシロキサン(25℃で1Pa.sの粘度を有する)
に溶解している白金−sym−ジビニルテトラメチルジ
シロキサン錯体の形で白金1.0重量%(元素として計
算)を含有する白金触媒1.0重量部。
【0144】例16:次の成分を密接に混合することに
より架橋性シリコーンコーティング組成物を製造する:
Dehesive(R)920(Wacker Chem
ie GmbH社において入手可能)100重量部;例
8に記載した本発明によるSiH架橋剤7.5重量部;
ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25℃で
1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−sy
m−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で白金
1.0重量%(元素として計算)を含有する白金触媒
1.0重量部。
より架橋性シリコーンコーティング組成物を製造する:
Dehesive(R)920(Wacker Chem
ie GmbH社において入手可能)100重量部;例
8に記載した本発明によるSiH架橋剤7.5重量部;
ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25℃で
1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−sy
m−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で白金
1.0重量%(元素として計算)を含有する白金触媒
1.0重量部。
【0145】例17:次の成分を密接に混合することに
より架橋性シリコーンコーティング組成物を製造する:
Dehesive(R)920(Wacker Chem
ie GmbH社において入手可能)100重量部;例
8に記載した本発明によるSiH架橋剤10.0重量
部;ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25
℃で1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−
sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で
白金1.0重量%(元素として計算)を含有する白金触
媒1.0重量部。
より架橋性シリコーンコーティング組成物を製造する:
Dehesive(R)920(Wacker Chem
ie GmbH社において入手可能)100重量部;例
8に記載した本発明によるSiH架橋剤10.0重量
部;ジメチルビニル末端ポリジメチルシロキサン(25
℃で1Pa.sの粘度を有する)に溶解している白金−
sym−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の形で
白金1.0重量%(元素として計算)を含有する白金触
媒1.0重量部。
【0146】例14、15、16および17に記載した
架橋性シリコーンコーティング組成物を、シリコーン処
理した剥離紙の製造のために既述した方法により使用し
た、ただしすべての成分の混合により製造した架橋性シ
リコーンコーティング組成物は引き続き直ちに、または
4時間後または24時間後に初めて硫酸紙上に塗布し、
架橋した。さらに、150℃の温度で種々の架橋時間
(3秒と8秒の間)を選択した。こうして製造したシリ
コーン被膜につき、架橋工程直後に抽出可能分量を測定
した;結果は第5表に記載されている。例14および1
6ないしは15および17において使用したSiH架橋
剤量は、結果の比較可能性を保証するために、シリコー
ンコーティング組成物中のSiH/SiCH=CH2の
モル比がその都度等しいように決めた。
架橋性シリコーンコーティング組成物を、シリコーン処
理した剥離紙の製造のために既述した方法により使用し
た、ただしすべての成分の混合により製造した架橋性シ
リコーンコーティング組成物は引き続き直ちに、または
4時間後または24時間後に初めて硫酸紙上に塗布し、
架橋した。さらに、150℃の温度で種々の架橋時間
(3秒と8秒の間)を選択した。こうして製造したシリ
コーン被膜につき、架橋工程直後に抽出可能分量を測定
した;結果は第5表に記載されている。例14および1
6ないしは15および17において使用したSiH架橋
剤量は、結果の比較可能性を保証するために、シリコー
ンコーティング組成物中のSiH/SiCH=CH2の
モル比がその都度等しいように決めた。
【0147】第5表:架橋時間およびCRAの種類に依
存する抽出可能分量
存する抽出可能分量
【0148】
【表5】
【0149】第5表から明らかなように、本発明による
方法は慣例方法(CRAとしてケイ素樹脂)に比し、移
行する抽出可能成分に関して明瞭な利点を有する。設定
されたポットライフの範囲内で架橋性組成物の貯蔵後
も、本発明による方法は優れていることが判明した。殊
に短い架橋時間において本発明による方法の場合に、相
応する例14および16ないしは15および17のSi
H/SiCH=CH2の等しいモル比にも拘わらず低い
抽出物値が見出されるので、本発明による方法の場合に
直接増加した架橋速度を推論することができる。これ
は、本発明による組成物(例16および17)に対しD
SC分析により、比較しうる剥離値を生じる慣例のケイ
素樹脂含有シリコーンコーティング組成物(例14およ
び15)よりも約5℃低いシリコーンコーティング組成
物(例14〜17)の開始温度をも証明する。それで、
本発明による方法(本発明によるシリコーンコーティン
グ組成物)は架橋速度および移行成分の分量の点でも慣
例方法に比して明らかな利点を有することが示されてい
る。
方法は慣例方法(CRAとしてケイ素樹脂)に比し、移
行する抽出可能成分に関して明瞭な利点を有する。設定
されたポットライフの範囲内で架橋性組成物の貯蔵後
も、本発明による方法は優れていることが判明した。殊
に短い架橋時間において本発明による方法の場合に、相
応する例14および16ないしは15および17のSi
H/SiCH=CH2の等しいモル比にも拘わらず低い
抽出物値が見出されるので、本発明による方法の場合に
直接増加した架橋速度を推論することができる。これ
は、本発明による組成物(例16および17)に対しD
SC分析により、比較しうる剥離値を生じる慣例のケイ
素樹脂含有シリコーンコーティング組成物(例14およ
び15)よりも約5℃低いシリコーンコーティング組成
物(例14〜17)の開始温度をも証明する。それで、
本発明による方法(本発明によるシリコーンコーティン
グ組成物)は架橋速度および移行成分の分量の点でも慣
例方法に比して明らかな利点を有することが示されてい
る。
【0150】当業者には、本発明による剥離力調節が適
切に調節された剥離力値が安定である、つまり貯蔵の経
過中にできるだけ何の変化も受けない時にだけ実際の価
値があることは明らかである。これは、製造されたラミ
ネートの取引先における加工時点ないしは使用がたいて
い数週間または数カ月後であるので、とくに重要であ
る。これに関しては2つの方法が区別される:シリコー
ン処理した紙を差し当たり巻き上げ、後で初めて接着剤
保有材料と結合するオフライン(off−line)
法、ならびにラミネート形成を直接支持体のシリコーン
処理に引き続いて行なうインライン(in−line)
法。双方の場合、剥離力値が長い期間を越えて安定であ
ることが重要である。実際に、剥離力調節の本発明によ
る方法は、下記に示すように、この点でも慣例方法より
も勝っていることが判明する。このため貯蔵時間の実験
を実施し、その際オフライン法によりシリコーン処理し
た硫酸紙を150℃で5秒間行った架橋および70℃で
20時間のエージングに引き続き、40℃で長い期間
(12週まで)老化させた。第6表にまとめた結果は、
本発明による方法を使用して適切に調節された、0.3
m/minの剥離速度で異なる接着剤タイプに対して決
定した剥離力値の優れた長期間安定性を説明する。
切に調節された剥離力値が安定である、つまり貯蔵の経
過中にできるだけ何の変化も受けない時にだけ実際の価
値があることは明らかである。これは、製造されたラミ
ネートの取引先における加工時点ないしは使用がたいて
い数週間または数カ月後であるので、とくに重要であ
る。これに関しては2つの方法が区別される:シリコー
ン処理した紙を差し当たり巻き上げ、後で初めて接着剤
保有材料と結合するオフライン(off−line)
法、ならびにラミネート形成を直接支持体のシリコーン
処理に引き続いて行なうインライン(in−line)
法。双方の場合、剥離力値が長い期間を越えて安定であ
ることが重要である。実際に、剥離力調節の本発明によ
る方法は、下記に示すように、この点でも慣例方法より
も勝っていることが判明する。このため貯蔵時間の実験
を実施し、その際オフライン法によりシリコーン処理し
た硫酸紙を150℃で5秒間行った架橋および70℃で
20時間のエージングに引き続き、40℃で長い期間
(12週まで)老化させた。第6表にまとめた結果は、
本発明による方法を使用して適切に調節された、0.3
m/minの剥離速度で異なる接着剤タイプに対して決
定した剥離力値の優れた長期間安定性を説明する。
【0151】第6表:本発明による方法により調節され
た剥離力値の貯蔵時間安定性(架橋:150℃で5秒;
剥離速度:0.3m/分)
た剥離力値の貯蔵時間安定性(架橋:150℃で5秒;
剥離速度:0.3m/分)
【0152】
【表6】
フロントページの続き (72)発明者 アルミン フェーン ドイツ連邦共和国 エメルティング フィ ッシャーヴェーク 18 (72)発明者 ヴォルフガング ヘヒトゥル ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ロー ベルト−コッホ−シュトラーセ 53 (72)発明者 マルゴット キンネ ドイツ連邦共和国 エメルティング ヘッ ケンヴェーク 15
Claims (7)
- 【請求項1】 成分(A)アルケニル官能性ポリオルガ
ノシロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキ
サンを包含する組成物の架橋により得られるシリコーン
被膜の剥離力を調節する方法において、剥離力の調節を
組成物と不相溶性の基0.1〜60モル%を有するSi
H官能性オルガノシロキサン(B)の使用によって行な
い、その際該基は組成物と、不相溶性基30モル%を有
するSiH官能性オルガノシロキサン(B)1重量部お
よびアルケニル官能性ポリオルガノシロキサン(A)9
重量部からなる混合物が20℃で1よりも多い相を形成
する場合に不相溶性とみなす、シリコーン被膜の剥離力
を調節する方法。 - 【請求項2】 剥離力を増加させる、請求項1記載の方
法。 - 【請求項3】 成分(A)アルケニル官能性ポリオルガ
ノシロキサンおよび(B)SiH官能性オルガノシロキ
サンを包含するシリコーン被膜に架橋しうる組成物にお
いて、SiH官能性オルガノシロキサン(B)は組成物
と不相溶性の基0.1〜60モル%を有し、その際該基
は組成物と、不相溶性基30モル%を有するSiH官能
性オルガノシロキサン(B)1重量部およびアルケニル
官能性ポリオルガノシロキサン(A)9重量部からなる
混合物が20℃で1よりも多い相を形成する場合に不相
溶性とみなす、シリコーン被膜に架橋しうる組成物。 - 【請求項4】 成分(A)アルケニル官能性ポリオルガ
ノシロキサン、(B)SiH官能性オルガノシロキサン
および(C)ヒドロシリル化触媒を包含する、請求項3
記載のシリコーン被膜に架橋しうる組成物、即ち付加架
橋しうるシリコーンゴム組成物。 - 【請求項5】 アルケニル官能性ポリオルガノシロキサ
ン(A)が一般式(1) A2SiO2/2 (1) の構造単位少なくとも90モル%および一般式(2) RaR1 bSiO(4-a-b)/2 (2) の構造単位から構成されており、上記式中Aはメチル
基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表わし、R
は同じかまたは異なる一価の、場合によりハロゲン置換
またはシアノ置換された、場合により有機の二価の基を
介してケイ素に結合した、脂肪族炭素−炭素の多重結合
を含有するC1〜C10炭化水素基を表わし、R1は同じか
または異なる一価の、場合によりハロゲン置換またはシ
アノ置換された、脂肪族炭素−炭素の多重結合を有しな
い、SiCに結合したC1〜C10炭化水素基を表わし、
およびaおよびbは0、1、2または3の値を表わす、
ただし各分子中に少なくとも2つの基Rが存在する、請
求項3または4記載のシリコーン被膜に架橋しうる組成
物。 - 【請求項6】 相溶性の減少したSiH官能性オルガノ
シロキサン(B)が一般式(3) AcR2 dSiO(4-c-d)/2 (3) の構造単位および一般式(4) HeAfR2 gSiO(4-e-f-g)/2 (4) の構造単位から構成されており、上記式中R2は水素お
よびAとは異なる無機または有機の基を表わし、cおよ
びdは値0、1、2または3を表わし、eは値1、2ま
たは3を表わし、fおよびgは値0、1または2を表わ
し、およびAは上記の意味を有する、ただし(d+g)
は(c+d+e+f+g)の0.1〜60モル%を有
し、かつ各分子中に一般式(4)の構造単位少なくとも
2個が存在する、請求項3から5までのいずれか1項記
載のシリコーン被膜に架橋しうる組成物。 - 【請求項7】 ヒドロシリル化触媒(C)は白金、ロジ
ウム、パラジウム、ルテニウムおよびイリジウムおよび
それらの化合物から選択される、請求項2または3記載
のシリコーン被膜に架橋しうる組成物。
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