JPH11111174A - 電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置 - Google Patents
電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置Info
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- JPH11111174A JPH11111174A JP9271555A JP27155597A JPH11111174A JP H11111174 A JPH11111174 A JP H11111174A JP 9271555 A JP9271555 A JP 9271555A JP 27155597 A JP27155597 A JP 27155597A JP H11111174 A JPH11111174 A JP H11111174A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/42—Measurement or testing during manufacture
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2203/00—Electron or ion optical arrangements common to discharge tubes or lamps
- H01J2203/02—Electron guns
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光の利用効率を上げて視野を明るくするとと
もにグリッド表面からの反射光の光量を少なくすること
により、カソードの電子ビーム放出面からの反射光を明
るくし、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別できる
ようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検出すること
ができる電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置を提供
する。 【解決手段】 直線偏光の光を電子銃に照射し、この電
子銃により反射された反射光を偏光手段を介して観察す
ることにより電子銃のグリット間における位置ずれを検
出する。
もにグリッド表面からの反射光の光量を少なくすること
により、カソードの電子ビーム放出面からの反射光を明
るくし、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判別できる
ようにして、電子銃の位置ずれを精度よく検出すること
ができる電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置を提供
する。 【解決手段】 直線偏光の光を電子銃に照射し、この電
子銃により反射された反射光を偏光手段を介して観察す
ることにより電子銃のグリット間における位置ずれを検
出する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、組み立てられた電
子銃のグリット間における位置ずれを検出する電子銃の
位置ずれ検出方法及び検出装置に関する。
子銃のグリット間における位置ずれを検出する電子銃の
位置ずれ検出方法及び検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】テレビジョン受像機等に用いられる陰極
線管内に配設されて、蛍光面に向け電子ビームを出射す
る電子銃は、電子ビームを放出するカソードと、電極を
構成する複数のグリッドとを有している。
線管内に配設されて、蛍光面に向け電子ビームを出射す
る電子銃は、電子ビームを放出するカソードと、電極を
構成する複数のグリッドとを有している。
【0003】この電子銃は、複数のグリッドが同一軸線
上に並ぶように組み立てられ、これら複数のグリッドの
うち最下位に位置するグリッド(第1グリッド)内にカ
ソードが配設されてなる。そして、電子銃は、カソード
から放出された電子ビームが、各グリッドを通過するこ
とで、制御、加速、集束され、蛍光面の所定の蛍光体を
照射して、この蛍光体を発光させるようになされてい
る。
上に並ぶように組み立てられ、これら複数のグリッドの
うち最下位に位置するグリッド(第1グリッド)内にカ
ソードが配設されてなる。そして、電子銃は、カソード
から放出された電子ビームが、各グリッドを通過するこ
とで、制御、加速、集束され、蛍光面の所定の蛍光体を
照射して、この蛍光体を発光させるようになされてい
る。
【0004】この電子銃は、例えば単電子銃型(ワンガ
ンスリービーム方式)の場合には、第1グリッドが例え
ばインラインに配置された3個の有底円筒状のグリッド
単体からなり、これらグリッド単体の内方に、赤色蛍光
体を発光させる電子ビームを放出するカソード、緑色蛍
光体を発光させる電子ビームを放出するカソード、青色
蛍光体を発光させる電子ビームを放出するカソードがそ
れぞれ個別に配設されている。
ンスリービーム方式)の場合には、第1グリッドが例え
ばインラインに配置された3個の有底円筒状のグリッド
単体からなり、これらグリッド単体の内方に、赤色蛍光
体を発光させる電子ビームを放出するカソード、緑色蛍
光体を発光させる電子ビームを放出するカソード、青色
蛍光体を発光させる電子ビームを放出するカソードがそ
れぞれ個別に配設されている。
【0005】第1グリッドを構成する3個のグリッド単
体には、その底面の略中央部に、それぞれ収容したカソ
ードから放出される電子ビームを透過するための微小な
電子ビーム透過孔が設けられている。また、この第1グ
リッドに隣接して配置されるグリッド(第2グリッド)
には、第1グリッドとの対向面に3つの微小な電子ビー
ム透過孔が設けられている。そして、3個のグリッド単
体に設けられた電子ビーム透過孔と第2グリッドに設け
られた電子ビーム透過孔とが一致するように、第1グリ
ッドの底面と第2グリッドの対向面とが突き合わされて
両者の相対的な位置決めが図られている。
体には、その底面の略中央部に、それぞれ収容したカソ
ードから放出される電子ビームを透過するための微小な
電子ビーム透過孔が設けられている。また、この第1グ
リッドに隣接して配置されるグリッド(第2グリッド)
には、第1グリッドとの対向面に3つの微小な電子ビー
ム透過孔が設けられている。そして、3個のグリッド単
体に設けられた電子ビーム透過孔と第2グリッドに設け
られた電子ビーム透過孔とが一致するように、第1グリ
ッドの底面と第2グリッドの対向面とが突き合わされて
両者の相対的な位置決めが図られている。
【0006】このワンガンスリービーム方式の電子銃
は、各カソードから放出される電子ビームを電子ビーム
透過孔を通過させて、複数のグリッドにより構成される
主レンズの中心で交差させ、その後3方向に離散する各
電子ビームを静電偏光板で屈折させて、蛍光面上でコン
バーセンスさせるようになされている。
は、各カソードから放出される電子ビームを電子ビーム
透過孔を通過させて、複数のグリッドにより構成される
主レンズの中心で交差させ、その後3方向に離散する各
電子ビームを静電偏光板で屈折させて、蛍光面上でコン
バーセンスさせるようになされている。
【0007】したがって、このように構成される電子銃
は、各グリッドの組立精度が悪いと、出射する電子ビー
ムの形状や軌道がずれてしまう。特に、第1グリッドG
1と第2グリッドG2とは、上述したように微小な電子
ビーム透過孔100,101が一致するように位置決め
されているので、これらに図11に示すような許容限度
を越えた位置ずれが生じると、カソード102から放出
される電子ビームが電子ビーム透過孔を適切に透過せ
ず、その形状や軌道に大きなずれが生じてしまう。
は、各グリッドの組立精度が悪いと、出射する電子ビー
ムの形状や軌道がずれてしまう。特に、第1グリッドG
1と第2グリッドG2とは、上述したように微小な電子
ビーム透過孔100,101が一致するように位置決め
されているので、これらに図11に示すような許容限度
を越えた位置ずれが生じると、カソード102から放出
される電子ビームが電子ビーム透過孔を適切に透過せ
ず、その形状や軌道に大きなずれが生じてしまう。
【0008】そして、このように電子ビームの形状や軌
道がずれた電子銃が陰極線管内に取り付けられると、陰
極線管は、蛍光面の適切な位置に適切な形状で電子ビー
ムが照射されずに、画像の劣化を招いてしまう。
道がずれた電子銃が陰極線管内に取り付けられると、陰
極線管は、蛍光面の適切な位置に適切な形状で電子ビー
ムが照射されずに、画像の劣化を招いてしまう。
【0009】そこで、電子銃は、陰極線管内に取り付け
られる前に、組立精度を評価して、グリッド間に許容範
囲を越える位置ずれが生じた電子銃を陰極線管の生産ラ
インから外して、不良の陰極線管を製造してしまうこと
を防止する必要がある。
られる前に、組立精度を評価して、グリッド間に許容範
囲を越える位置ずれが生じた電子銃を陰極線管の生産ラ
インから外して、不良の陰極線管を製造してしまうこと
を防止する必要がある。
【0010】このような電子銃の位置ずれの検出は、従
来より、図12に示すような位置ずれ検出装置110を
用いて行われていた。この図12に示す位置ずれ検出装
置110は、電子銃120をX軸方向及びY軸方向に移
動可能に支持するXYステージ111と、このXYステ
ージ111に支持された電子銃120を側方から照明す
るファイバー照明機112と、ファイバー照明機112
により照明された電子銃120をその最上位のグリッド
の上方から各グリッドを通して最下位のグリッドの内部
に配設されているカソードを覗くように観察する顕微鏡
113とを備えている。
来より、図12に示すような位置ずれ検出装置110を
用いて行われていた。この図12に示す位置ずれ検出装
置110は、電子銃120をX軸方向及びY軸方向に移
動可能に支持するXYステージ111と、このXYステ
ージ111に支持された電子銃120を側方から照明す
るファイバー照明機112と、ファイバー照明機112
により照明された電子銃120をその最上位のグリッド
の上方から各グリッドを通して最下位のグリッドの内部
に配設されているカソードを覗くように観察する顕微鏡
113とを備えている。
【0011】電子銃120は、この位置ずれ検出装置1
10のXYステージ111の載置面に、中心軸がこの載
置面と略直交するように載置され、ファイバー照明機1
12により側方から光があてられて、グリッド間が照明
される。
10のXYステージ111の載置面に、中心軸がこの載
置面と略直交するように載置され、ファイバー照明機1
12により側方から光があてられて、グリッド間が照明
される。
【0012】そして、例えば第1グリッドG1と第2グ
リッドG2間の位置ずれを検出する際は、照明された第
1グリッドG1の電子ビーム透過孔100のエッジと、
第2グリッドG2の電子ビーム透過孔101のエッジと
のそれぞれの位置を顕微鏡113により観察して、これ
らの位置ずれを検出するようにしていた。
リッドG2間の位置ずれを検出する際は、照明された第
1グリッドG1の電子ビーム透過孔100のエッジと、
第2グリッドG2の電子ビーム透過孔101のエッジと
のそれぞれの位置を顕微鏡113により観察して、これ
らの位置ずれを検出するようにしていた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の位置ずれ検出装置110を用いた検出方法は、
電子銃120に側方から光をあててグリッド間を照明す
るようにしていたので、照明光の光量に対する観察可能
な光量が少なく、いわゆる光の利用効率が悪く、視野が
暗くなってしまっていた。そして、視野が暗くなってし
まうために顕微鏡113の倍率を上げてグリッドを観察
することができず、電子銃120の位置ずれを精度よく
検出することができない場合があった。
た従来の位置ずれ検出装置110を用いた検出方法は、
電子銃120に側方から光をあててグリッド間を照明す
るようにしていたので、照明光の光量に対する観察可能
な光量が少なく、いわゆる光の利用効率が悪く、視野が
暗くなってしまっていた。そして、視野が暗くなってし
まうために顕微鏡113の倍率を上げてグリッドを観察
することができず、電子銃120の位置ずれを精度よく
検出することができない場合があった。
【0014】また、従来の位置ずれ検出装置110を用
いた検出方法は、電子銃120に側方から光をあててグ
リッド間を照明するようにしていたので、グリッドの表
面を均一に照射することができず、グリッド全体を均等
に観察することができなかった。
いた検出方法は、電子銃120に側方から光をあててグ
リッド間を照明するようにしていたので、グリッドの表
面を均一に照射することができず、グリッド全体を均等
に観察することができなかった。
【0015】照明光の利用効率を上げるとともに照明光
をグリッドの表面に均等にあてて、位置ずれを精度よく
検出する方法として、落射照明、すなわち照明光を電子
銃120の最上位のグリッド側から中心軸に沿った方向
に照射し、その反射光を観察して位置ずれを検出するこ
とが考えられるが、落射照明により第1グリッドG1と
第2グリッドG2との位置ずれを検出しようとした場
合、照明された第1グリッドG1の電子ビーム透過孔1
00のエッジと、第2グリッドG2の電子ビーム透過孔
101のエッジとのそれぞれが明瞭に観察できず、これ
らの位置ずれの検出が困難であるとの問題点があった。
をグリッドの表面に均等にあてて、位置ずれを精度よく
検出する方法として、落射照明、すなわち照明光を電子
銃120の最上位のグリッド側から中心軸に沿った方向
に照射し、その反射光を観察して位置ずれを検出するこ
とが考えられるが、落射照明により第1グリッドG1と
第2グリッドG2との位置ずれを検出しようとした場
合、照明された第1グリッドG1の電子ビーム透過孔1
00のエッジと、第2グリッドG2の電子ビーム透過孔
101のエッジとのそれぞれが明瞭に観察できず、これ
らの位置ずれの検出が困難であるとの問題点があった。
【0016】すなわち、第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2は、フラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔100,101が打ち抜き加工で形成さ
れており、電子ビーム透過孔100,101のエッジの
近傍は打ち抜き方向に傾斜した状態となっている。した
がって、落射照明による第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2表面からの反射光は、エッジの近傍にて反射さ
れる光の光量が、それ以外の部分からの反射光の光量に
比べて非常に少なくなっている。
ッドG2は、フラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔100,101が打ち抜き加工で形成さ
れており、電子ビーム透過孔100,101のエッジの
近傍は打ち抜き方向に傾斜した状態となっている。した
がって、落射照明による第1グリッドG1及び第2グリ
ッドG2表面からの反射光は、エッジの近傍にて反射さ
れる光の光量が、それ以外の部分からの反射光の光量に
比べて非常に少なくなっている。
【0017】また、電子ビーム透過孔100,101を
通って第1グリッドG1の内部に配設されているカソー
ド102の電子ビーム放出面にて反射される光は、カソ
ード102の電子ビーム放出面が酸化物面とされている
ことから乱反射して光量が少なくなっている。
通って第1グリッドG1の内部に配設されているカソー
ド102の電子ビーム放出面にて反射される光は、カソ
ード102の電子ビーム放出面が酸化物面とされている
ことから乱反射して光量が少なくなっている。
【0018】したがって、落射照明により第1グリッド
G1と第2グリッドG2との位置ずれを検出しようとし
た場合、電子ビーム透過孔100,101のエッジ近傍
にて反射される光とカソード102の電子ビーム放出面
にて反射される光とが暗く混じり合って、第1グリッド
G1及び第2グリッドG2の電子ビーム透過孔100,
101のエッジが明瞭に判別できなくなってしまう。
G1と第2グリッドG2との位置ずれを検出しようとし
た場合、電子ビーム透過孔100,101のエッジ近傍
にて反射される光とカソード102の電子ビーム放出面
にて反射される光とが暗く混じり合って、第1グリッド
G1及び第2グリッドG2の電子ビーム透過孔100,
101のエッジが明瞭に判別できなくなってしまう。
【0019】そこで、本発明は、光の利用効率を上げて
視野を明るくするとともにグリッド表面からの反射光の
光量を少なくすることにより、カソードの電子ビーム放
出面からの反射光を相対的に明るくし、電子ビーム透過
孔のエッジを明瞭に判別できるようにして、電子銃の位
置ずれを精度よく検出することができる電子銃の位置ず
れ検出方法及び検出装置を提供することを目的とする。
視野を明るくするとともにグリッド表面からの反射光の
光量を少なくすることにより、カソードの電子ビーム放
出面からの反射光を相対的に明るくし、電子ビーム透過
孔のエッジを明瞭に判別できるようにして、電子銃の位
置ずれを精度よく検出することができる電子銃の位置ず
れ検出方法及び検出装置を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電子銃の位
置ずれ検出方法は、直線偏光の光を電子銃に照射し、こ
の電子銃により反射された反射光を偏光手段を介して観
察することにより、電子銃のグリット間における位置ず
れを検出するようにしている。
置ずれ検出方法は、直線偏光の光を電子銃に照射し、こ
の電子銃により反射された反射光を偏光手段を介して観
察することにより、電子銃のグリット間における位置ず
れを検出するようにしている。
【0021】電子銃に照射された直線偏光の光は、電子
銃のグリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出面に
て反射される。
銃のグリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出面に
て反射される。
【0022】グリッドの表面にて反射された反射光は、
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
【0023】一方、カソードの電子ビーム放出面にて反
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きに拘らず、ほぼ一定の光量が偏光手段
を透過する。
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きに拘らず、ほぼ一定の光量が偏光手段
を透過する。
【0024】したがって、直線偏光の光を電子銃に照射
し、この電子銃により反射された反射光を偏光手段を介
して観察することにより、カソードの電子ビーム放出面
からの反射光が相対的に明るくなり、カソードの電子ビ
ーム放出面とグリッドの表面との境界部分が明瞭に判別
できるようになる。
し、この電子銃により反射された反射光を偏光手段を介
して観察することにより、カソードの電子ビーム放出面
からの反射光が相対的に明るくなり、カソードの電子ビ
ーム放出面とグリッドの表面との境界部分が明瞭に判別
できるようになる。
【0025】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出方法
は、偏光手段の偏光軸を電子銃に照射した直線偏光の光
の偏光軸に対して略直交するように設定することが望ま
しい。
は、偏光手段の偏光軸を電子銃に照射した直線偏光の光
の偏光軸に対して略直交するように設定することが望ま
しい。
【0026】このように、偏光手段の偏光軸を電子銃に
照射した直線偏光の光の偏光軸に対して略直交するよう
に設定した場合は、グリッドの表面にて反射された直線
偏光の反射光のほとんどが偏光手段により遮断され、グ
リッドの表面にて反射された反射光とグリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジ近傍の表面にて反射された反射光と
カソードの電子ビーム放出面からの反射光との光のコン
トラストが向上する。
照射した直線偏光の光の偏光軸に対して略直交するよう
に設定した場合は、グリッドの表面にて反射された直線
偏光の反射光のほとんどが偏光手段により遮断され、グ
リッドの表面にて反射された反射光とグリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジ近傍の表面にて反射された反射光と
カソードの電子ビーム放出面からの反射光との光のコン
トラストが向上する。
【0027】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出
方法は、電子銃により反射された反射光をCCDカメラ
により取り込み、このCCDカメラにより取り込まれた
反射光を画像として表示するようにすることが望まし
い。
方法は、電子銃により反射された反射光をCCDカメラ
により取り込み、このCCDカメラにより取り込まれた
反射光を画像として表示するようにすることが望まし
い。
【0028】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置
は、直線偏光の光を電子銃に照射する照明手段と、電子
銃により反射された反射光の光路上に配置される偏光手
段と、偏光手段を透過した反射光を取り込んで上記電子
銃のグリット間における位置ずれを検出する位置ずれ検
出手段とを備えている。
は、直線偏光の光を電子銃に照射する照明手段と、電子
銃により反射された反射光の光路上に配置される偏光手
段と、偏光手段を透過した反射光を取り込んで上記電子
銃のグリット間における位置ずれを検出する位置ずれ検
出手段とを備えている。
【0029】照明手段により電子銃に照射された直線偏
光の光は、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放
出面にて反射される。
光の光は、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放
出面にて反射される。
【0030】グリッドの表面にて反射された反射光は、
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
グリッド表面がフラットな金属面とされていることか
ら、直線偏光の状態を保ったまま偏光手段に向かう。そ
して、グリッドの表面にて反射された直線偏光の反射光
は、その偏光軸と偏光手段の偏光軸との向き違いに応じ
て、偏光手段によりその光量の多くが遮断される。
【0031】一方、カソードの電子ビーム放出面にて反
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きにかかわらず、ほぼ一定の光量が偏光
手段を透過する。
射された光は、カソードの電子ビーム放出面が酸化物の
微少な凹凸面とされていることから、この電子ビーム放
出面で乱反射して偏光状態が崩れた状態で偏光手段に向
かう。そして、カソードの電子ビーム放出面にて反射さ
れた反射光は、偏向状態がランダムであるので、偏光手
段の偏光軸の向きにかかわらず、ほぼ一定の光量が偏光
手段を透過する。
【0032】偏光手段を透過した電子銃からの反射光は
位置ずれ検出手段に取り込まれる。そして、位置ずれ検
出手段は、この反射光を観察して電子銃のグリッド間に
おける位置ずれを検出する。
位置ずれ検出手段に取り込まれる。そして、位置ずれ検
出手段は、この反射光を観察して電子銃のグリッド間に
おける位置ずれを検出する。
【0033】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置
は、偏光手段の偏光軸を電子銃に照射した直線偏光の光
の偏光軸に対して略直交するように設定することが望ま
しい。
は、偏光手段の偏光軸を電子銃に照射した直線偏光の光
の偏光軸に対して略直交するように設定することが望ま
しい。
【0034】このように、偏光手段の偏光軸を電子銃に
照射した直線偏光の光の偏光軸に対して略直交するよう
に設定した場合は、グリッドの表面にて反射された直線
偏光の反射光のほとんどが偏光手段により遮断され、グ
リッドの表面にて反射された反射光とグリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジの近傍の表面にて反射された反射光
とカソードの電子ビーム放出面からの反射光との光のコ
ントラストが向上する。
照射した直線偏光の光の偏光軸に対して略直交するよう
に設定した場合は、グリッドの表面にて反射された直線
偏光の反射光のほとんどが偏光手段により遮断され、グ
リッドの表面にて反射された反射光とグリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジの近傍の表面にて反射された反射光
とカソードの電子ビーム放出面からの反射光との光のコ
ントラストが向上する。
【0035】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出
装置は、位置ずれ検出手段が電子銃により反射された反
射光を取り込むCCDカメラと、このCCDカメラによ
り取り込まれた反射光を画像として表示する表示部とを
備えることが望ましい。
装置は、位置ずれ検出手段が電子銃により反射された反
射光を取り込むCCDカメラと、このCCDカメラによ
り取り込まれた反射光を画像として表示する表示部とを
備えることが望ましい。
【0036】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【0037】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出方法
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察することによ
り、電子銃のグリット間における位置ずれを検出するよ
うにしており、例えば図1乃至図3に示すような電子銃
の位置ずれ検出装置1を用いて実施される。
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察することによ
り、電子銃のグリット間における位置ずれを検出するよ
うにしており、例えば図1乃至図3に示すような電子銃
の位置ずれ検出装置1を用いて実施される。
【0038】この電子銃の位置ずれ検出装置1は、図1
に示すように、電子銃2を移動可能に支持する支持ステ
ージ10と、この支持ステージ10に支持された電子銃
2に直線偏光の光を照射すると共にその反射光を観察す
るための偏光顕微鏡30とを備えている。
に示すように、電子銃2を移動可能に支持する支持ステ
ージ10と、この支持ステージ10に支持された電子銃
2に直線偏光の光を照射すると共にその反射光を観察す
るための偏光顕微鏡30とを備えている。
【0039】支持ステージ10は、図2に示すように、
電子銃2を支持する支持部11と、支持部11に支持さ
れた電子銃2を所定方向に傾斜させる傾斜ステージ14
と、支持部11に支持された電子銃2を回動させる回動
ステージ17と、支持部11に支持された電子銃2を図
2中矢印Yで示すY軸方向に移動させるY軸ステージ1
8と、支持部11に支持された電子銃2を図2中矢印X
で示すX軸方向に移動させるX軸ステージ19と、支持
部11に支持された電子銃2を図2中矢印Zで示すZ軸
方向に移動させるZ軸ステージ20とを備え、これらが
Z軸方向に積み重ねられて一体の移動ステージとしてベ
ース3上に取り付けられている。
電子銃2を支持する支持部11と、支持部11に支持さ
れた電子銃2を所定方向に傾斜させる傾斜ステージ14
と、支持部11に支持された電子銃2を回動させる回動
ステージ17と、支持部11に支持された電子銃2を図
2中矢印Yで示すY軸方向に移動させるY軸ステージ1
8と、支持部11に支持された電子銃2を図2中矢印X
で示すX軸方向に移動させるX軸ステージ19と、支持
部11に支持された電子銃2を図2中矢印Zで示すZ軸
方向に移動させるZ軸ステージ20とを備え、これらが
Z軸方向に積み重ねられて一体の移動ステージとしてベ
ース3上に取り付けられている。
【0040】支持部11は、電子銃2が載置される載置
台12と電子銃2の外周部を保持するホルダ13とを有
している。載置台12はZ軸と直交する載置面12aを
有し、この載置面12aにて電子銃2のカソード側の一
端が支持される。そして、ホルダ13により電子銃2の
外周部が保持される。これにより、電子銃2は、その中
心軸がZ軸方向に沿うように、支持ステージ10上に安
定的に支持される。
台12と電子銃2の外周部を保持するホルダ13とを有
している。載置台12はZ軸と直交する載置面12aを
有し、この載置面12aにて電子銃2のカソード側の一
端が支持される。そして、ホルダ13により電子銃2の
外周部が保持される。これにより、電子銃2は、その中
心軸がZ軸方向に沿うように、支持ステージ10上に安
定的に支持される。
【0041】支持部11のベース3と対向する側には、
傾斜ステージ14が連結されている。
傾斜ステージ14が連結されている。
【0042】傾斜ステージ14は、支持部11をX軸に
対して所定の角度をもって傾斜させるX軸傾斜ステージ
15と、支持部11をY軸に対して所定の角度をもって
傾斜させるY軸傾斜ステージ16とを有している。X軸
傾斜ステージ15とY軸傾斜ステージ16とはそれぞれ
押圧操作部15a,16aを備えており、傾斜ステージ
14は、これら押圧操作部15a,16aが押圧操作さ
れることにより、支持部11及びこれに支持された電子
銃2をX軸方向またはY軸方向に傾斜させる。
対して所定の角度をもって傾斜させるX軸傾斜ステージ
15と、支持部11をY軸に対して所定の角度をもって
傾斜させるY軸傾斜ステージ16とを有している。X軸
傾斜ステージ15とY軸傾斜ステージ16とはそれぞれ
押圧操作部15a,16aを備えており、傾斜ステージ
14は、これら押圧操作部15a,16aが押圧操作さ
れることにより、支持部11及びこれに支持された電子
銃2をX軸方向またはY軸方向に傾斜させる。
【0043】傾斜ステージ14のベース3と対向する側
には、回動ステージ17が連結されている。
には、回動ステージ17が連結されている。
【0044】回動ステージ17は、押圧操作部17aを
備えており、この押圧操作部17aが押圧操作されるこ
とにより、傾斜ステージ14、支持部11及びこれに支
持された電子銃2をZ軸を回動中心として回動させる。
備えており、この押圧操作部17aが押圧操作されるこ
とにより、傾斜ステージ14、支持部11及びこれに支
持された電子銃2をZ軸を回動中心として回動させる。
【0045】回動ステージ17のベース3と対向する側
には、Y軸ステージ18が連結されている。
には、Y軸ステージ18が連結されている。
【0046】Y軸ステージ18は、押圧操作部18aを
備えており、この押圧操作部18aが押圧操作されるこ
とにより、回転ステージ17、傾斜ステージ14、支持
部11及びこれに支持された電子銃2をY軸方向に移動
させる。
備えており、この押圧操作部18aが押圧操作されるこ
とにより、回転ステージ17、傾斜ステージ14、支持
部11及びこれに支持された電子銃2をY軸方向に移動
させる。
【0047】Y軸ステージ18のベース3と対向する側
には、X軸ステージ19が連結されている。
には、X軸ステージ19が連結されている。
【0048】X軸ステージ19は、押圧操作部19aを
備えており、この押圧操作部19aが押圧操作されるこ
とにより、Y軸ステージ18、回転ステージ17、傾斜
ステージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃
2をX軸方向に移動させる。
備えており、この押圧操作部19aが押圧操作されるこ
とにより、Y軸ステージ18、回転ステージ17、傾斜
ステージ14、支持部11及びこれに支持された電子銃
2をX軸方向に移動させる。
【0049】X軸ステージ19のベース3と対向する側
には、Z軸ステージ20が連結されている。
には、Z軸ステージ20が連結されている。
【0050】Z軸ステージ20は、ベース3上に取り付
けられた固定部21と、X軸ステージ19に連結された
移動部22とを備えている。また、Z軸ステージ20
は、押圧操作部20aを備えており、この押圧操作部2
0aが押圧操作されることにより、移動部22がZ軸方
向に移動され、この移動部22の移動にともない、X軸
ステージ19、Y軸ステージ18、回転ステージ17、
傾斜ステージ14、支持部11及びこれに支持された電
子銃2がZ軸方向に移動する。
けられた固定部21と、X軸ステージ19に連結された
移動部22とを備えている。また、Z軸ステージ20
は、押圧操作部20aを備えており、この押圧操作部2
0aが押圧操作されることにより、移動部22がZ軸方
向に移動され、この移動部22の移動にともない、X軸
ステージ19、Y軸ステージ18、回転ステージ17、
傾斜ステージ14、支持部11及びこれに支持された電
子銃2がZ軸方向に移動する。
【0051】以上のように構成される支持ステージ10
は、電子銃2をX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動
可能に支持するので、電子銃2の位置決めを正確に行う
ことができる。
は、電子銃2をX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向に移動
可能に支持するので、電子銃2の位置決めを正確に行う
ことができる。
【0052】また、この支持ステージ10は、支持され
た電子銃2を傾斜させる機構を有しているので、第1グ
リッドが中心軸に対して傾斜して配設された電子銃にも
適切に対応することができる。
た電子銃2を傾斜させる機構を有しているので、第1グ
リッドが中心軸に対して傾斜して配設された電子銃にも
適切に対応することができる。
【0053】また、この支持ステージ10は、支持され
た電子銃2を回動させる機構を有しているので、X軸方
向及びY軸方向からずれた方向の位置ずれを支持ステー
ジ10のX軸方向またはY軸方向の移動量に置き換えて
検出することができる。
た電子銃2を回動させる機構を有しているので、X軸方
向及びY軸方向からずれた方向の位置ずれを支持ステー
ジ10のX軸方向またはY軸方向の移動量に置き換えて
検出することができる。
【0054】支持ステージ10の軸線上には、載置部1
2の載置面12aと対向する位置に、偏光顕微鏡30が
配設されている。
2の載置面12aと対向する位置に、偏光顕微鏡30が
配設されている。
【0055】偏光顕微鏡30は、図3に示すように、無
偏光の光を出射する光源31と、光源31から出射され
た無偏光の光を透過させ直線偏光の光に変える第1の偏
光板32と、第1の偏光板32を透過した直線偏光の光
の一部を透過し他の部分を反射するハーフミラー33
と、ハーフミラー33により反射された光を電子銃2に
集光させる対物レンズ34と、電子銃2により反射され
対物レンズ34及びハーフミラー33を透過した反射光
の光路上に配設された第2の偏光板35と、第2の偏光
板35を透過した反射光を画像として観察するための接
眼レンズ36とを備えている。
偏光の光を出射する光源31と、光源31から出射され
た無偏光の光を透過させ直線偏光の光に変える第1の偏
光板32と、第1の偏光板32を透過した直線偏光の光
の一部を透過し他の部分を反射するハーフミラー33
と、ハーフミラー33により反射された光を電子銃2に
集光させる対物レンズ34と、電子銃2により反射され
対物レンズ34及びハーフミラー33を透過した反射光
の光路上に配設された第2の偏光板35と、第2の偏光
板35を透過した反射光を画像として観察するための接
眼レンズ36とを備えている。
【0056】光源31は、無偏光の光をZ軸と直交する
方向に出射する。
方向に出射する。
【0057】第1の偏光板32は、一定方向に偏光軸を
有し、光源31から出射された無偏光の光の光路上に配
設されている。そして、第1の偏光板32は、光源31
から出射された光を透過して直線偏光の光に変える。
有し、光源31から出射された無偏光の光の光路上に配
設されている。そして、第1の偏光板32は、光源31
から出射された光を透過して直線偏光の光に変える。
【0058】ハーフミラー33は、第1の偏光板32を
透過した直線偏光の光の光路上にてZ軸に対して45度
の傾斜角をもって傾斜するように配設されている。そし
て、ハーフミラー33は、直線偏光の光の一部を透過
し、他の部分を反射してZ軸に沿った方向に曲折する。
透過した直線偏光の光の光路上にてZ軸に対して45度
の傾斜角をもって傾斜するように配設されている。そし
て、ハーフミラー33は、直線偏光の光の一部を透過
し、他の部分を反射してZ軸に沿った方向に曲折する。
【0059】対物レンズ34は、ハーフミラー33によ
り反射された直線偏光の光の光路上に配設されている。
そして、対物レンズ34は、ハーフミラー33により反
射された直線偏光の光を集光して、支持ステージ10に
支持された電子銃2に照射する。
り反射された直線偏光の光の光路上に配設されている。
そして、対物レンズ34は、ハーフミラー33により反
射された直線偏光の光を集光して、支持ステージ10に
支持された電子銃2に照射する。
【0060】第2の偏光板35は、第1の偏光板32の
偏光軸と異なる方向の偏光軸を有し、支持ステージ10
に支持された電子銃2、対物レンズ34及びハーフミラ
ー33と同一軸線上に並ぶように配設されている。そし
て、この第2の偏光板35は、対物レンズ34及びハー
フミラー33を透過した電子銃2からの反射光を、その
偏光状態に応じて一部を遮断し、他の部分を透過する。
偏光軸と異なる方向の偏光軸を有し、支持ステージ10
に支持された電子銃2、対物レンズ34及びハーフミラ
ー33と同一軸線上に並ぶように配設されている。そし
て、この第2の偏光板35は、対物レンズ34及びハー
フミラー33を透過した電子銃2からの反射光を、その
偏光状態に応じて一部を遮断し、他の部分を透過する。
【0061】接眼レンズ36は、第2の偏光板35を透
過した電子銃2からの反射光の光路上に配設されてい
る。この接眼レンズ36には、位置測定用のミクロスケ
ールが設けられており、このミクロスケールを基準に電
子銃2のグリッド間の位置ずれが測定できるようになさ
れている。そして、第2の偏光板35を透過した電子銃
2からの反射光は、この接眼レンズ36を介して画像と
して視認される。
過した電子銃2からの反射光の光路上に配設されてい
る。この接眼レンズ36には、位置測定用のミクロスケ
ールが設けられており、このミクロスケールを基準に電
子銃2のグリッド間の位置ずれが測定できるようになさ
れている。そして、第2の偏光板35を透過した電子銃
2からの反射光は、この接眼レンズ36を介して画像と
して視認される。
【0062】以上のように構成される偏光顕微鏡30
は、連結アーム4を介してベース3上に立設された上下
機構5に連結されており、Z軸方向に移動可能となされ
ている。
は、連結アーム4を介してベース3上に立設された上下
機構5に連結されており、Z軸方向に移動可能となされ
ている。
【0063】ここで、この電子銃の位置ずれ検出装置1
を用いて電子銃の位置ずれを検出する方法について説明
する。なお、ここでは電子銃2の第1グリッドと第2グ
リッド間における位置ずれを検出する例について説明す
るが、この電子銃の位置ずれ検出方法により、電子銃2
の他のグリッド間の位置ずれも検出することができるこ
とは勿論である。
を用いて電子銃の位置ずれを検出する方法について説明
する。なお、ここでは電子銃2の第1グリッドと第2グ
リッド間における位置ずれを検出する例について説明す
るが、この電子銃の位置ずれ検出方法により、電子銃2
の他のグリッド間の位置ずれも検出することができるこ
とは勿論である。
【0064】まず、電子銃2が、支持ステージ10の支
持部11により、カソード側を載置面12aに当接させ
た状態で支持される。そして、X軸ステージ19及びY
軸ステージ18が移動操作されることにより、第1グリ
ッドの電子ビーム透過孔の中心が偏光顕微鏡30の光軸
上に位置するように、電子銃2のX軸方向及びY軸方向
の位置決めがなされる。
持部11により、カソード側を載置面12aに当接させ
た状態で支持される。そして、X軸ステージ19及びY
軸ステージ18が移動操作されることにより、第1グリ
ッドの電子ビーム透過孔の中心が偏光顕微鏡30の光軸
上に位置するように、電子銃2のX軸方向及びY軸方向
の位置決めがなされる。
【0065】ここで、支持部11に支持された電子銃2
が、その第1グリッドが中心軸に対して傾斜して配設さ
れたものである場合は、傾斜ステージ14を移動操作し
て第1グリッドが偏光顕微鏡30の光軸に対して平行に
なるように、電子銃2を傾斜させる。
が、その第1グリッドが中心軸に対して傾斜して配設さ
れたものである場合は、傾斜ステージ14を移動操作し
て第1グリッドが偏光顕微鏡30の光軸に対して平行に
なるように、電子銃2を傾斜させる。
【0066】次に、偏光顕微鏡30の光源31から無偏
光の光が出射される。光源31から出射された無偏光の
光は、第1の偏光板32を透過することにより直線偏光
の光とされる。そして、この直線偏光の光はハーフミラ
ー33により一部が透過され、他の部分が反射される。
光の光が出射される。光源31から出射された無偏光の
光は、第1の偏光板32を透過することにより直線偏光
の光とされる。そして、この直線偏光の光はハーフミラ
ー33により一部が透過され、他の部分が反射される。
【0067】ハーフミラー33により反射された直線偏
光の光は、対物レンズ34により集光され、電子銃2内
に入射して、第1グリッド及び第2グリッドの表面とカ
ソードの電子ビーム放出面に照射される。
光の光は、対物レンズ34により集光され、電子銃2内
に入射して、第1グリッド及び第2グリッドの表面とカ
ソードの電子ビーム放出面に照射される。
【0068】ところで、第1グリッド及び第2グリッド
は、それぞれフラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔が打ち抜き加工で形成されており、電子
ビーム透過孔のエッジの近傍は打ち抜き方向に傾斜した
状態となっている。したがって、第1グリッド及び第2
グリッドの表面に照射された直線偏光の光は、電子ビー
ム透過孔のエッジの近傍以外の箇所にて強く反射される
のに対して、エッジの近傍では反射光の光量が非常に少
なくなる。
は、それぞれフラットな金属面とされている表面に、電
子ビーム透過孔が打ち抜き加工で形成されており、電子
ビーム透過孔のエッジの近傍は打ち抜き方向に傾斜した
状態となっている。したがって、第1グリッド及び第2
グリッドの表面に照射された直線偏光の光は、電子ビー
ム透過孔のエッジの近傍以外の箇所にて強く反射される
のに対して、エッジの近傍では反射光の光量が非常に少
なくなる。
【0069】そして、これらグリッド表面に照射された
直線偏光の光は、グリッド表面がフラットな金属面とさ
れていることから、直線偏光の状態を保ったままグリッ
ド表面にて反射される。
直線偏光の光は、グリッド表面がフラットな金属面とさ
れていることから、直線偏光の状態を保ったままグリッ
ド表面にて反射される。
【0070】また、カソードの電子ビーム放出面は、酸
化物の微少な凹凸面とされているので、第2グリッド及
び第1グリッドの電子ビーム透過孔を通ってカソードの
電子ビーム放出面に照射される直線偏光の光は、カソー
ドの電子ビーム放出面にて屈折と反射を繰り返し、偏光
状態が崩れたかたちで反射される。
化物の微少な凹凸面とされているので、第2グリッド及
び第1グリッドの電子ビーム透過孔を通ってカソードの
電子ビーム放出面に照射される直線偏光の光は、カソー
ドの電子ビーム放出面にて屈折と反射を繰り返し、偏光
状態が崩れたかたちで反射される。
【0071】グリッドの表面とカソードの電子ビーム放
出面にて反射された反射光は、再度対物レンズ34を透
過して、ハーフミラー33に照射される。ハーフミラー
33は、このグリッド表面及びカソードの電子ビーム放
出面からの反射光の一部を透過して、他の部分を反射す
る。
出面にて反射された反射光は、再度対物レンズ34を透
過して、ハーフミラー33に照射される。ハーフミラー
33は、このグリッド表面及びカソードの電子ビーム放
出面からの反射光の一部を透過して、他の部分を反射す
る。
【0072】ハーフミラー33により透過されたグリッ
ド表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光
は、第2の偏光板35に入射する。このとき、グリッド
表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、
その偏光状態に応じて一部が第2の偏光板35により遮
断され、他の部分が第2の偏光板35を透過する。
ド表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光
は、第2の偏光板35に入射する。このとき、グリッド
表面及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、
その偏光状態に応じて一部が第2の偏光板35により遮
断され、他の部分が第2の偏光板35を透過する。
【0073】例えば、第2の偏光板35をその偏光軸が
第1の偏光板32の偏光軸に対して略90度(クロスニ
コル)となるように配置した場合、グリッド表面からの
反射光は第1の偏光板32により直線偏光とされた状態
が保たれているので、そのほとんどが第2の偏光板35
により遮断され、第2の偏光板35を透過する反射光の
光量は、光源31から出射される光の光量の1/400
程度とされる。すなわち、ハーフミラー33と第2の偏
光板35とを透過した後の光束は、グリッド表面からの
反射光の輝度に比べて1/200程度以下となる。
第1の偏光板32の偏光軸に対して略90度(クロスニ
コル)となるように配置した場合、グリッド表面からの
反射光は第1の偏光板32により直線偏光とされた状態
が保たれているので、そのほとんどが第2の偏光板35
により遮断され、第2の偏光板35を透過する反射光の
光量は、光源31から出射される光の光量の1/400
程度とされる。すなわち、ハーフミラー33と第2の偏
光板35とを透過した後の光束は、グリッド表面からの
反射光の輝度に比べて1/200程度以下となる。
【0074】一方、カソードの電子ビーム放出面からの
反射光は、偏光状態が崩れてランダムになっているため
に、第2の偏光板35により遮断される比率が減り、光
源31から出射される光の光量の1/16程度以下が第
2の偏光板35を透過する。すなわち、ハーフミラー3
3と第2の偏光板35とを透過した後の光束は、カソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の輝度に比べて1/
4程度以下となる。
反射光は、偏光状態が崩れてランダムになっているため
に、第2の偏光板35により遮断される比率が減り、光
源31から出射される光の光量の1/16程度以下が第
2の偏光板35を透過する。すなわち、ハーフミラー3
3と第2の偏光板35とを透過した後の光束は、カソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の輝度に比べて1/
4程度以下となる。
【0075】第2の偏光板35を透過したグリッド表面
及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、対物
レンズ36を介して画像として視認される。そして、支
持ステージ10のZ軸ステージ20を移動操作しながら
フォーカス調整を行うことにより、第1グリッドの電子
ビーム透過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビーム透
過孔のエッジが、第1,第2グリッドの表面及びカソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の光量の違いにより
線として認識される。
及びカソードの電子ビーム放出面からの反射光は、対物
レンズ36を介して画像として視認される。そして、支
持ステージ10のZ軸ステージ20を移動操作しながら
フォーカス調整を行うことにより、第1グリッドの電子
ビーム透過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビーム透
過孔のエッジが、第1,第2グリッドの表面及びカソー
ドの電子ビーム放出面からの反射光の光量の違いにより
線として認識される。
【0076】そして、回転ステージ17、Y軸ステージ
18,X軸ステージ19を移動操作して、第1グリッド
の電子ビーム透過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジを対物レンズ36に設けられたミク
ロスケールの中心線に一致させ、このときの(X、Y)
座標を読み取ることにより、第1グリッドと第2グリッ
ド間の位置ずれが測定される。
18,X軸ステージ19を移動操作して、第1グリッド
の電子ビーム透過孔のエッジ及び第2グリッドの電子ビ
ーム透過孔のエッジを対物レンズ36に設けられたミク
ロスケールの中心線に一致させ、このときの(X、Y)
座標を読み取ることにより、第1グリッドと第2グリッ
ド間の位置ずれが測定される。
【0077】ここで、グリッドの表面にて反射され第2
の偏光板35を透過した反射光の光量と、カソードの電
子ビーム放出面にて反射され第2の偏光板35を透過し
た反射光の光量の違いについて、図4及び図5を参照し
て説明する。なお、ここではグリッドの表面にて反射さ
れる光の光量と、カソードの電子ビーム放出面にて反射
される光の光量とが、それぞれ第2の偏光板35を透過
することによりどれだけ減少するかを明確にするため、
便宜上、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出
面における反射率を100%と仮定して説明する。特
に、カソードの電子ビーム放出面は上述したように凹凸
面とされているため拡散反射が起こることになるが、こ
こでは便宜上、拡散のない反射が起こるものと仮定す
る。また、ここでは、便宜上、図3に示したハーフミラ
ー33はないものと仮定し、ハーフミラー33における
反射率や透過率は無視するものとする。
の偏光板35を透過した反射光の光量と、カソードの電
子ビーム放出面にて反射され第2の偏光板35を透過し
た反射光の光量の違いについて、図4及び図5を参照し
て説明する。なお、ここではグリッドの表面にて反射さ
れる光の光量と、カソードの電子ビーム放出面にて反射
される光の光量とが、それぞれ第2の偏光板35を透過
することによりどれだけ減少するかを明確にするため、
便宜上、グリッドの表面及びカソードの電子ビーム放出
面における反射率を100%と仮定して説明する。特
に、カソードの電子ビーム放出面は上述したように凹凸
面とされているため拡散反射が起こることになるが、こ
こでは便宜上、拡散のない反射が起こるものと仮定す
る。また、ここでは、便宜上、図3に示したハーフミラ
ー33はないものと仮定し、ハーフミラー33における
反射率や透過率は無視するものとする。
【0078】光源31から出射され、グリッド表面に向
かう無偏光の光は、図4に示すように、第1の偏光板3
2により直線偏光の光とされて、グリッド表面に照射さ
れる。このとき、光源31から出射された無偏光の光
は、第1の偏光板32の偏光軸と直交する偏光成分の光
のほとんど全てがこの第1の偏光板32により吸収さ
れ、残りの50%の光(第1の偏光板32の偏光軸と同
じ方向の偏光成分の光)が第1の偏光板32を透過す
る。すなわち光源31から出射された光の約50%が直
線偏光の光となって第1の偏光板32を透過する。
かう無偏光の光は、図4に示すように、第1の偏光板3
2により直線偏光の光とされて、グリッド表面に照射さ
れる。このとき、光源31から出射された無偏光の光
は、第1の偏光板32の偏光軸と直交する偏光成分の光
のほとんど全てがこの第1の偏光板32により吸収さ
れ、残りの50%の光(第1の偏光板32の偏光軸と同
じ方向の偏光成分の光)が第1の偏光板32を透過す
る。すなわち光源31から出射された光の約50%が直
線偏光の光となって第1の偏光板32を透過する。
【0079】第1の偏光板32を透過し、グリッド表面
にて反射された光は、グリッド表面がフラットな金属面
とされていることから直線偏光の状態が保たれたまま第
2の偏光板35に向かう。
にて反射された光は、グリッド表面がフラットな金属面
とされていることから直線偏光の状態が保たれたまま第
2の偏光板35に向かう。
【0080】そして、第2の偏光板35が、その偏光軸
が第1の偏光板32の偏光軸に対して略90度(クロス
ニコル)となるように配置された場合、通常、偏光板の
消光比が1/100以下であることから、1%以下の光
が第2の偏光板35を透過する。
が第1の偏光板32の偏光軸に対して略90度(クロス
ニコル)となるように配置された場合、通常、偏光板の
消光比が1/100以下であることから、1%以下の光
が第2の偏光板35を透過する。
【0081】一方、光源31から出射され、カソードの
電子ビーム放出面に向かう無偏光の光は、図5に示すよ
うに、第1の偏光板32により直線偏光の光とされて、
カソードの電子ビーム放出面に照射される。このとき、
光源31から出射された無偏光の光は、第1の偏光板3
2の偏光軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこ
の第1の偏光板32により吸収され、残りの50%の光
(第1の偏光板32の偏光軸と同じ方向の偏光成分の
光)が第1の偏光板32を透過する。すなわち光源31
から出射された光の約50%が直線偏光の光となって第
1の偏光板32を透過する。
電子ビーム放出面に向かう無偏光の光は、図5に示すよ
うに、第1の偏光板32により直線偏光の光とされて、
カソードの電子ビーム放出面に照射される。このとき、
光源31から出射された無偏光の光は、第1の偏光板3
2の偏光軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこ
の第1の偏光板32により吸収され、残りの50%の光
(第1の偏光板32の偏光軸と同じ方向の偏光成分の
光)が第1の偏光板32を透過する。すなわち光源31
から出射された光の約50%が直線偏光の光となって第
1の偏光板32を透過する。
【0082】第1の偏光板32を透過し、カソードの電
子ビーム放出面にて反射された光は、酸化物の微少な凹
凸面とされている電子ビーム放出面で屈折と反射を繰り
返して、偏光状態が崩れたかたちで第2の偏光板35に
向かう。ここでは、仮定したように、カソードの電子ビ
ーム放出面における反射は、拡散や吸収のないものとし
ているので、光量が変わらず偏光がランダムな光が第2
の偏光板35に向かうことになる。
子ビーム放出面にて反射された光は、酸化物の微少な凹
凸面とされている電子ビーム放出面で屈折と反射を繰り
返して、偏光状態が崩れたかたちで第2の偏光板35に
向かう。ここでは、仮定したように、カソードの電子ビ
ーム放出面における反射は、拡散や吸収のないものとし
ているので、光量が変わらず偏光がランダムな光が第2
の偏光板35に向かうことになる。
【0083】第2の偏光板35に向かうカソードの電子
ビーム放出面からの反射光は、第2の偏光板35の偏光
軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこの第2の
偏光板35により吸収され、残りの50%の光(第2の
偏光板35の偏光軸と同じ方向の偏光成分の光)、すな
わち光源31から出射された光の約25%が第2の偏光
板35を透過する。
ビーム放出面からの反射光は、第2の偏光板35の偏光
軸と直交する偏光成分の光のほとんど全てがこの第2の
偏光板35により吸収され、残りの50%の光(第2の
偏光板35の偏光軸と同じ方向の偏光成分の光)、すな
わち光源31から出射された光の約25%が第2の偏光
板35を透過する。
【0084】以上、グリッドの表面にて反射される反射
光の光量とカソードの電子ビーム放出面にて反射される
反射光の光量が、偏光を用いることで異なる光量になる
ことを説明した。実際の観察においては、偏光板の偏光
軸と同じ方向の偏光を持つ光であっても偏光板の吸収が
あったり、偏光板の偏光軸と直交する方向の偏光を持つ
光がどれだけ吸収されるかという、いわゆる偏光板の消
光比などの偏光板の性能によって、先の説明と図4及び
図5に示した光量比は変わってくる。
光の光量とカソードの電子ビーム放出面にて反射される
反射光の光量が、偏光を用いることで異なる光量になる
ことを説明した。実際の観察においては、偏光板の偏光
軸と同じ方向の偏光を持つ光であっても偏光板の吸収が
あったり、偏光板の偏光軸と直交する方向の偏光を持つ
光がどれだけ吸収されるかという、いわゆる偏光板の消
光比などの偏光板の性能によって、先の説明と図4及び
図5に示した光量比は変わってくる。
【0085】また、先の説明では便宜上、ハーフミラー
のない場合について説明したが、実際の照明と観察にお
いては、ハーフミラーを介して行うことで、光量はそれ
ぞれ半分となる。また、ハーフミラーの性能によって、
ハーフミラーで透過又は反射した場合の光量は変わる。
さらに、本発明は、ハーフミラーの代わりに偏光ビーム
スプリッタ等を用いても実施可能であるが、このように
ハーフミラーの代わりに偏光ビームスプリッタを用いた
場合も、光量は変わる。
のない場合について説明したが、実際の照明と観察にお
いては、ハーフミラーを介して行うことで、光量はそれ
ぞれ半分となる。また、ハーフミラーの性能によって、
ハーフミラーで透過又は反射した場合の光量は変わる。
さらに、本発明は、ハーフミラーの代わりに偏光ビーム
スプリッタ等を用いても実施可能であるが、このように
ハーフミラーの代わりに偏光ビームスプリッタを用いた
場合も、光量は変わる。
【0086】また、先の説明では、便宜上、グリッドの
表面及びカソードの電子ビーム放出面における反射率を
100%として仮定したが、実際は、それらの反射率は
いずれもある値を持っている。グリッドの表面は金属面
であるので、入射した光の大部分は散乱せずに反射す
る。したがって、グリッドの表面の反射率は高く、時に
は90%以上にも達する。一方、カソードの電子ビーム
放出面はその表面が凹凸面であり、単純な反射ではな
く、光の出射方向にある分布を持つような反射と散乱の
混ざった反射光が観察される。この反射と散乱の混ざっ
た反射光も光の入射方向によっては出射方向に異なる分
布を持つ。よって、照明する光の光量と観察される光量
から求められる反射率は、カソードの電子ビーム放出面
の状態にも依存し、さらには顕微鏡の対物レンズの開口
数等の顕微鏡の光学性能にも依存する。
表面及びカソードの電子ビーム放出面における反射率を
100%として仮定したが、実際は、それらの反射率は
いずれもある値を持っている。グリッドの表面は金属面
であるので、入射した光の大部分は散乱せずに反射す
る。したがって、グリッドの表面の反射率は高く、時に
は90%以上にも達する。一方、カソードの電子ビーム
放出面はその表面が凹凸面であり、単純な反射ではな
く、光の出射方向にある分布を持つような反射と散乱の
混ざった反射光が観察される。この反射と散乱の混ざっ
た反射光も光の入射方向によっては出射方向に異なる分
布を持つ。よって、照明する光の光量と観察される光量
から求められる反射率は、カソードの電子ビーム放出面
の状態にも依存し、さらには顕微鏡の対物レンズの開口
数等の顕微鏡の光学性能にも依存する。
【0087】なお、先の説明では、便宜上、カソードの
電子ビーム放出面を100%の反射面と仮定したが、カ
ソードの電子ビーム放出面を酸化物マグネシウムで代用
されるような完全拡散反射面と仮定した場合、反射より
も散乱を主とした反射光が観察される場合の光量比を推
定することもできる。この場合も、顕微鏡の対物レンズ
の開口数等の顕微鏡の光学特性を加味する必要がある。
電子ビーム放出面を100%の反射面と仮定したが、カ
ソードの電子ビーム放出面を酸化物マグネシウムで代用
されるような完全拡散反射面と仮定した場合、反射より
も散乱を主とした反射光が観察される場合の光量比を推
定することもできる。この場合も、顕微鏡の対物レンズ
の開口数等の顕微鏡の光学特性を加味する必要がある。
【0088】このようにして、偏光板やハーフミラー、
対物レンズ等の光学系の各光学素子の性能を適宜調整す
ることで、グリッドの表面にて反射される反射光とカソ
ードの電子ビーム放出面にて反射される反射光とを偏光
状態の違いによって分離し、観察される画像をより明確
にすることができる。
対物レンズ等の光学系の各光学素子の性能を適宜調整す
ることで、グリッドの表面にて反射される反射光とカソ
ードの電子ビーム放出面にて反射される反射光とを偏光
状態の違いによって分離し、観察される画像をより明確
にすることができる。
【0089】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置1
は、以上説明したように、偏光板を用いることにより、
グリッドの表面にて反射される直線偏光の光の光量を大
幅に減少させて、カソードの電子ビーム放出面を相対的
に明るくし、カソードの電子ビーム放出面とビーム透過
孔のエッジの近傍との明るさのコントラストを向上させ
るようにしているので、ビーム透過孔のエッジを明瞭に
観察することが可能で、電子銃のグリッド間の位置ずれ
を精度よく検出することができる。
は、以上説明したように、偏光板を用いることにより、
グリッドの表面にて反射される直線偏光の光の光量を大
幅に減少させて、カソードの電子ビーム放出面を相対的
に明るくし、カソードの電子ビーム放出面とビーム透過
孔のエッジの近傍との明るさのコントラストを向上させ
るようにしているので、ビーム透過孔のエッジを明瞭に
観察することが可能で、電子銃のグリッド間の位置ずれ
を精度よく検出することができる。
【0090】すなわち、偏光板を用いずに無偏光の光を
そのままグリッド41の表面41a及びカソード42の
電子ビーム放出面42aに照射し、その反射光を観察し
た場合は、図6に示すように、グリッド表面41aの電
子ビーム透過孔43のエッジ44の近傍45以外の部分
にて反射される光の光量が非常に多いのに対して、電子
ビーム透過孔43のエッジ44の近傍45及びカソード
42の電子ビーム放出面42aにて反射される光の光量
はともに少なくなる。したがって、これらを観察する
と、図7に示すように、電子ビーム透過孔43のエッジ
44の近傍45にて反射された光とカソード42の電子
ビーム放出面42aにて反射された光とが暗く混じり合
ってしまい、電子ビーム透過孔43のエッジ44が明瞭
に判別できないために、電子銃のグリッド41間の位置
ずれを精度よく検出することができない。
そのままグリッド41の表面41a及びカソード42の
電子ビーム放出面42aに照射し、その反射光を観察し
た場合は、図6に示すように、グリッド表面41aの電
子ビーム透過孔43のエッジ44の近傍45以外の部分
にて反射される光の光量が非常に多いのに対して、電子
ビーム透過孔43のエッジ44の近傍45及びカソード
42の電子ビーム放出面42aにて反射される光の光量
はともに少なくなる。したがって、これらを観察する
と、図7に示すように、電子ビーム透過孔43のエッジ
44の近傍45にて反射された光とカソード42の電子
ビーム放出面42aにて反射された光とが暗く混じり合
ってしまい、電子ビーム透過孔43のエッジ44が明瞭
に判別できないために、電子銃のグリッド41間の位置
ずれを精度よく検出することができない。
【0091】これに対して、本発明に係る電子銃の位置
ずれ検出装置1を用いてグリッド41の表面41a及び
カソード42の電子ビーム放出面42aからの反射光を
観察した場合は、図8に示すように、グリッド41の表
面41aにて反射される光の光量が大幅に減少し、カソ
ード42の電子ビーム放出面42aにて反射される光の
光量が相対的に多くなるので、図9に示すように、ビー
ム透過孔43のエッジ44を明瞭に判別することがで
き、電子銃のグリッド41間の位置ずれを精度よく検出
することができる。なお、図6及び図8において、グリ
ッド41の表面41a及びカソード42の電子ビーム放
出面42aからの反射光の光量の違いは、図中の矢印の
太さの違いで示している。
ずれ検出装置1を用いてグリッド41の表面41a及び
カソード42の電子ビーム放出面42aからの反射光を
観察した場合は、図8に示すように、グリッド41の表
面41aにて反射される光の光量が大幅に減少し、カソ
ード42の電子ビーム放出面42aにて反射される光の
光量が相対的に多くなるので、図9に示すように、ビー
ム透過孔43のエッジ44を明瞭に判別することがで
き、電子銃のグリッド41間の位置ずれを精度よく検出
することができる。なお、図6及び図8において、グリ
ッド41の表面41a及びカソード42の電子ビーム放
出面42aからの反射光の光量の違いは、図中の矢印の
太さの違いで示している。
【0092】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出
装置1は、支持ステージ10が、電子銃2をその中心軸
がZ軸方向に沿うように支持し、偏光顕微鏡30が支持
ステージ10に支持された電子銃2に対して照明光を中
心軸に沿った方向に照射するようにしているので、照明
光の利用効率が向上し、グリッドの表面及びカソードの
電子放出面を明るく均一に照射することができる。した
がって、この電子銃の位置ずれ検出装置1によれば、電
子ビーム透過孔のエッジ部分を高倍率で観察することが
可能となり、グリッド間の位置ずれを精度よく検出する
ことができる。
装置1は、支持ステージ10が、電子銃2をその中心軸
がZ軸方向に沿うように支持し、偏光顕微鏡30が支持
ステージ10に支持された電子銃2に対して照明光を中
心軸に沿った方向に照射するようにしているので、照明
光の利用効率が向上し、グリッドの表面及びカソードの
電子放出面を明るく均一に照射することができる。した
がって、この電子銃の位置ずれ検出装置1によれば、電
子ビーム透過孔のエッジ部分を高倍率で観察することが
可能となり、グリッド間の位置ずれを精度よく検出する
ことができる。
【0093】なお、以上は、接眼レンズ36から直に画
像を観察し、電子銃のグリッド間の位置ずれを検出する
ようにした電子銃の位置ずれ検出装置1について説明し
たが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置はこの例
に限定されるものではなく、例えば図10に示すよう
に、偏光顕微鏡30にCCDカメラ51を取り付け、こ
のCCDカメラ51により取り込まれた画像をモニタ5
2に表示して電子銃のグリッド間の位置ずれを検出する
ようにしてもよい。
像を観察し、電子銃のグリッド間の位置ずれを検出する
ようにした電子銃の位置ずれ検出装置1について説明し
たが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置はこの例
に限定されるものではなく、例えば図10に示すよう
に、偏光顕微鏡30にCCDカメラ51を取り付け、こ
のCCDカメラ51により取り込まれた画像をモニタ5
2に表示して電子銃のグリッド間の位置ずれを検出する
ようにしてもよい。
【0094】そして、位置ずれ量の測定を行う場合は、
黙視によりビーム透過孔のエッジ部分を判定し、第1グ
リッドと第2グリッドとをそれぞれ観察した上で、画像
上の距離を測定したり、または支持ステージ10を移動
させてその移動量から両者の位置ずれ量を測定する。
黙視によりビーム透過孔のエッジ部分を判定し、第1グ
リッドと第2グリッドとをそれぞれ観察した上で、画像
上の距離を測定したり、または支持ステージ10を移動
させてその移動量から両者の位置ずれ量を測定する。
【0095】この場合、CCDカメラ51及びモニタ5
2をコントローラ53に接続して、このコントローラ5
3によりCCDカメラ51の制御を行うとともに、モニ
タ52に位置ずれ測定用の基準線を表示することが望ま
しい。
2をコントローラ53に接続して、このコントローラ5
3によりCCDカメラ51の制御を行うとともに、モニ
タ52に位置ずれ測定用の基準線を表示することが望ま
しい。
【0096】電子銃の位置ずれ検出装置は、偏光顕微鏡
30にCCDカメラ51を取り付けて、CCDカメラ5
1により取り込まれた画像をモニタ52に表示する構成
とすることにより、作業者はモニタ52に表示された画
像を観察して電子銃のグリッド間における位置ずれを検
出することが可能となり、位置ずれ検出作業を簡便に行
うことができる。
30にCCDカメラ51を取り付けて、CCDカメラ5
1により取り込まれた画像をモニタ52に表示する構成
とすることにより、作業者はモニタ52に表示された画
像を観察して電子銃のグリッド間における位置ずれを検
出することが可能となり、位置ずれ検出作業を簡便に行
うことができる。
【0097】また、以上は偏光顕微鏡30が無偏光の光
を出射する光源31と第1の偏光板32とを有し、光源
31から出射された無偏光の光を第1の偏光板32を透
過させることにより直線偏光の光として電子銃に照射す
るようにした電子銃の位置ずれ検出装置1について説明
したが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置はこの
例に限定されるものではなく、例えばレーザのように光
源が直線偏光の光を出射するものであって、この光を偏
光板を透過させずに電子銃に直接照射する構成としても
よい。
を出射する光源31と第1の偏光板32とを有し、光源
31から出射された無偏光の光を第1の偏光板32を透
過させることにより直線偏光の光として電子銃に照射す
るようにした電子銃の位置ずれ検出装置1について説明
したが、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置はこの
例に限定されるものではなく、例えばレーザのように光
源が直線偏光の光を出射するものであって、この光を偏
光板を透過させずに電子銃に直接照射する構成としても
よい。
【0098】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出
装置は、直線偏光の光で電子銃を照明して、直線偏光の
反射光と偏向がランダムな状態となった反射光とを見分
けるのみでなく、円偏向のように偏向状態が整えられて
いる光を用いることもできる。例えば、偏光顕微鏡の対
物レンズと支持ステージに支持された電子銃との間に1
/4波長板を配設し、直線偏光の光をこの1/4波長板
を透過させることにより円偏光の光に変えて電子銃に照
射し、電子銃により反射された円偏光の光を再度1/4
波長板を透過させることにより直線偏光の光に変えて、
この反射光を観察するようにしてもよい。
装置は、直線偏光の光で電子銃を照明して、直線偏光の
反射光と偏向がランダムな状態となった反射光とを見分
けるのみでなく、円偏向のように偏向状態が整えられて
いる光を用いることもできる。例えば、偏光顕微鏡の対
物レンズと支持ステージに支持された電子銃との間に1
/4波長板を配設し、直線偏光の光をこの1/4波長板
を透過させることにより円偏光の光に変えて電子銃に照
射し、電子銃により反射された円偏光の光を再度1/4
波長板を透過させることにより直線偏光の光に変えて、
この反射光を観察するようにしてもよい。
【0099】
【発明の効果】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出方法
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察するようにし
ているので、電子銃のグリッド表面からの反射光の光量
が減少し、カソードの電子ビーム放出面からの反射光が
相対的に明るくなる。したがって、この電子銃の位置ず
れ検出方法によれば、グリッドに設けられた電子ビーム
透過孔のエッジ近傍とカソードの電子ビーム放出面との
明るさのコントラストが向上して、電子ビーム透過孔の
エッジを明瞭に判別でき、電子銃の位置ずれを精度よく
検出することができる。
は、直線偏光の光を電子銃に照射し、この電子銃により
反射された反射光を偏光手段を介して観察するようにし
ているので、電子銃のグリッド表面からの反射光の光量
が減少し、カソードの電子ビーム放出面からの反射光が
相対的に明るくなる。したがって、この電子銃の位置ず
れ検出方法によれば、グリッドに設けられた電子ビーム
透過孔のエッジ近傍とカソードの電子ビーム放出面との
明るさのコントラストが向上して、電子ビーム透過孔の
エッジを明瞭に判別でき、電子銃の位置ずれを精度よく
検出することができる。
【0100】また、本発明に係る電子銃の位置ずれ検出
装置は、照明手段より出射され、電子銃により反射され
た直線偏光の光の光量を、その光路上に配置された偏光
手段により、その偏光状態に応じて減少させる。したが
って、この電子銃の位置ずれ検出装置を用いることによ
り、グリッドに設けられた電子ビーム透過孔のエッジ近
傍とカソードの電子ビーム放出面との明るさのコントラ
ストを向上させ、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判
別し、電子銃の位置ずれを精度よく検出することができ
る。
装置は、照明手段より出射され、電子銃により反射され
た直線偏光の光の光量を、その光路上に配置された偏光
手段により、その偏光状態に応じて減少させる。したが
って、この電子銃の位置ずれ検出装置を用いることによ
り、グリッドに設けられた電子ビーム透過孔のエッジ近
傍とカソードの電子ビーム放出面との明るさのコントラ
ストを向上させ、電子ビーム透過孔のエッジを明瞭に判
別し、電子銃の位置ずれを精度よく検出することができ
る。
【図1】本発明に係る電子銃の位置ずれ検出装置を示す
側面図である。
側面図である。
【図2】同電子銃の位置ずれ検出装置の支持ステージを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図3】同電子銃の位置ずれ検出装置の偏光顕微鏡の構
成を説明する模式図である。
成を説明する模式図である。
【図4】グリッドの表面にて反射される光の偏光状態及
び光量を説明する図である。
び光量を説明する図である。
【図5】カソードの電子ビーム放出面にて反射される光
の偏光状態及び光量を説明する図である。
の偏光状態及び光量を説明する図である。
【図6】無偏光の光をグリッドの表面及びカソードの電
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面図であ
る。
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面図であ
る。
【図7】無偏光の光をグリッドの表面及びカソードの電
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合の観察像を示す平面図である。
子ビーム放出面に照射し、その反射光をそのまま観察し
た場合の観察像を示す平面図である。
【図8】直線偏光の光をグリッドの表面及びカソードの
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面
図である。
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合のそれぞれの光量の違いを説明する断面
図である。
【図9】直線偏光の光をグリッドの表面及びカソードの
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合の観察像を示す平面図である。
電子ビーム放出面に照射し、その反射光を偏光板を介し
て観察した場合の観察像を示す平面図である。
【図10】電子銃の位置ずれ検出装置の他の例を示す側
面図である。
面図である。
【図11】電子銃のグリッド間に位置ずれが生じた状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図12】従来の電子銃の位置ずれ検出装置を示す側面
図である。
図である。
1 電子銃の位置ずれ検出装置、2 電子銃、10 支
持ステージ、11 支持部、14 傾斜ステージ、17
回動ステージ、18 Y軸ステージ、19X軸ステー
ジ、20 Z軸ステージ、30 偏光顕微鏡、31 光
源、32 第1の偏光板、34 対物レンズ、35 第
2の偏光板、36 接眼レンズ、51CCDカメラ、5
2 モニタ
持ステージ、11 支持部、14 傾斜ステージ、17
回動ステージ、18 Y軸ステージ、19X軸ステー
ジ、20 Z軸ステージ、30 偏光顕微鏡、31 光
源、32 第1の偏光板、34 対物レンズ、35 第
2の偏光板、36 接眼レンズ、51CCDカメラ、5
2 モニタ
Claims (15)
- 【請求項1】 直線偏光の光を電子銃に照射し、この電
子銃により反射された反射光を偏光手段を介して観察す
ることにより上記電子銃のグリット間における位置ずれ
を検出することを特徴とする電子銃の位置ずれ検出方
法。 - 【請求項2】 上記偏光手段は、上記電子銃に照射した
直線偏光の光の偏光軸に対して略直交する偏光軸を有す
ることを特徴とする請求項1記載の電子銃の位置ずれ検
出方法。 - 【請求項3】 光源から直線偏光の光を出射して上記電
子銃に照射することを特徴とする請求項1記載の電子銃
の位置ずれ検出方法。 - 【請求項4】 光源から出射される光を他の偏光手段を
透過させて直線偏光の光として上記電子銃に照射するこ
とを特徴とする請求項1記載の電子銃の位置ずれ検出方
法。 - 【請求項5】 上記電子銃からの反射光をCCDカメラ
により取り込み、このCCDカメラにより取り込まれた
上記反射光を画像として表示部に表示することを特徴と
する請求項1記載の電子銃の位置ずれ検出方法。 - 【請求項6】 直線偏光の光を電子銃に照射する照明手
段と、 上記電子銃により反射された反射光の光路上に配置され
る偏光手段と、 上記偏光手段を透過した上記反射光を取り込んで上記電
子銃のグリット間における位置ずれを検出する位置ずれ
検出手段とを備えることを特徴とする電子銃の位置ずれ
検出装置。 - 【請求項7】 上記偏光手段は、上記電子銃に照射され
る直線偏光の光の偏光軸に対して略直交する偏光軸を有
することを特徴とする請求項6記載の電子銃の位置ずれ
検出装置。 - 【請求項8】 上記照明手段は、直線偏光の光を出射す
る光源を有することを特徴とする請求項6記載の電子銃
の位置ずれ検出装置。 - 【請求項9】 上記照明手段は、光源と、この光源から
出射された光を透過させてこの光を直線偏光とする他の
偏光手段とを備えることを特徴とする請求項6記載の電
子銃の位置ずれ検出装置。 - 【請求項10】 上記位置ずれ検出手段は、上記電子銃
からの反射光を取り込むCCDカメラと、このCCDカ
メラにより取り込まれた上記反射光を画像として表示す
る表示部とを備えることを特徴とする請求項6記載の電
子銃の位置ずれ検出装置。 - 【請求項11】 上記電子銃が載置される載置面を有
し、上記電子銃を支持する支持手段を備えることを特徴
とする請求項6記載の電子銃の位置ずれ検出装置。 - 【請求項12】 上記支持手段は、上記電子銃を上記載
置面に平行な互いに直交する2方向に移動させる機構を
備えることを特徴とする請求項11記載の電子銃の位置
ずれ検出装置。 - 【請求項13】 上記支持手段は、上記電子銃を上記載
置面と直交する方向に移動させる機構を備えることを特
徴とする請求項11記載の電子銃の位置ずれ検出装置。 - 【請求項14】 上記支持手段は、上記載置面に直交す
る軸を中心としてこの載置面を回転させる機構を備える
ことを特徴とする請求項11記載の電子銃の位置ずれ検
出装置。 - 【請求項15】 上記支持手段は、上記載置面を傾斜さ
せる機構を備えることを特徴とする請求項11記載の電
子銃の位置ずれ検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9271555A JPH11111174A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置 |
| US09/163,480 US6194705B1 (en) | 1997-10-03 | 1998-09-30 | Method and apparatus for detection position deviation of electron gun |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9271555A JPH11111174A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11111174A true JPH11111174A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17501712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9271555A Withdrawn JPH11111174A (ja) | 1997-10-03 | 1997-10-03 | 電子銃の位置ずれ検出方法及び検出装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6194705B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11111174A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1328748C (zh) * | 2005-04-11 | 2007-07-25 | 西安交通大学 | 彩管电子枪扭曲与弯曲特性误差智能检测判定仪 |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| FI107192B (fi) * | 1999-11-09 | 2001-06-15 | Outokumpu Oy | Menetelmä elektrodin pinnanlaadun tarkistamiseksi |
| CN101750187B (zh) | 2010-01-19 | 2011-04-06 | 清华大学 | 一种基于磁钢阵列的运动平台二维定位方法 |
| CN103852801A (zh) * | 2014-01-10 | 2014-06-11 | 凯迈(洛阳)电子有限公司 | 一种红外枪在位检测装置 |
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| FR2643507A1 (fr) * | 1989-02-21 | 1990-08-24 | Thomson Tubes Electroniques | Canon a electrons a faisceau electronique module par un dispositif optique |
| GB9009110D0 (en) * | 1990-04-23 | 1990-06-20 | Europ Vision Syst Centre | Improvements relating to optical measuring systems |
-
1997
- 1997-10-03 JP JP9271555A patent/JPH11111174A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-09-30 US US09/163,480 patent/US6194705B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1328748C (zh) * | 2005-04-11 | 2007-07-25 | 西安交通大学 | 彩管电子枪扭曲与弯曲特性误差智能检测判定仪 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6194705B1 (en) | 2001-02-27 |
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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