JPH11111647A - 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 - Google Patents
半導体ウエハの切断方法及びその切断装置Info
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- JPH11111647A JPH11111647A JP27306197A JP27306197A JPH11111647A JP H11111647 A JPH11111647 A JP H11111647A JP 27306197 A JP27306197 A JP 27306197A JP 27306197 A JP27306197 A JP 27306197A JP H11111647 A JPH11111647 A JP H11111647A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 169
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title claims abstract description 79
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 16
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 abstract description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 2
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウエハを水中で切断することにより、
複数の半導体素子が形成された半導体ウエハ上に保護フ
ィルムを貼り付けることなく、切断工程中に半導体ウエ
ハの表面に異物が付着して汚染されることを防止する。 【解決手段】 孔2aが開口されたドーナツ状のフレー
ム2とフレーム2の下面に張られたダイシングテープ3
とで形成される凹所9内に、半導体ウエハ4をセットす
る。ダイシングテープ3の上でダイシングブレード6を
半導体ウエハ4のスクライブラインに沿って縦横に走ら
せることにより、半導体ウエハ4をスクライブラインに
沿って切断して、個々の固体撮像素子に分割する。切断
工程の間、ダイシングブレード6の支持体に一体的に設
けられたノズル7から冷却水を連続的に噴射し、凹所9
内を常に新しい水で満たされた状態にしておく。
複数の半導体素子が形成された半導体ウエハ上に保護フ
ィルムを貼り付けることなく、切断工程中に半導体ウエ
ハの表面に異物が付着して汚染されることを防止する。 【解決手段】 孔2aが開口されたドーナツ状のフレー
ム2とフレーム2の下面に張られたダイシングテープ3
とで形成される凹所9内に、半導体ウエハ4をセットす
る。ダイシングテープ3の上でダイシングブレード6を
半導体ウエハ4のスクライブラインに沿って縦横に走ら
せることにより、半導体ウエハ4をスクライブラインに
沿って切断して、個々の固体撮像素子に分割する。切断
工程の間、ダイシングブレード6の支持体に一体的に設
けられたノズル7から冷却水を連続的に噴射し、凹所9
内を常に新しい水で満たされた状態にしておく。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ上に
行列状に形成された複数の半導体素子を個々の半導体素
子に分割するための半導体ウェハの切断方法及びその切
断装置に関する。
行列状に形成された複数の半導体素子を個々の半導体素
子に分割するための半導体ウェハの切断方法及びその切
断装置に関する。
【0002】
【従来の技術】通常、固体撮像素子等の半導体素子は、
半導体ウエハ上に行列状に複数個形成され、半導体ウエ
ハのスクライブラインに沿って切断することにより、個
々の素子に分割される。
半導体ウエハ上に行列状に複数個形成され、半導体ウエ
ハのスクライブラインに沿って切断することにより、個
々の素子に分割される。
【0003】以下、従来技術における半導体ウエハの切
断装置について、図面を参照しながら説明する。図6は
従来技術における半導体ウエハの切断装置の構成を示す
断面図である。図6に示すように、円錐台状のテーブル
10の上には、テーブル10の上面よりも広い面積を有
する孔11aが開口されたドーナツ状のフレーム11が
配置されており、フレーム11の下面には孔11aを被
覆した状態で伸縮性を有するダイシングテープ12が張
られている。ここで、フレーム11は、上下方向に移動
可能な状態にされている。テーブル10上のダイシング
テープ12の上には、半導体ウエハ13がセットされ
る。ここで、半導体ウエハ13上には、複数の半導体素
子14が行列状に形成されている(図5参照)。テーブ
ル10の上方には、半導体ウエハ13をスクライブライ
ン15(図5参照)に沿って切断して、個々の半導体素
子14に分割するためのダイシングブレード16が配置
されている。ダイシングブレード16の支持体(図示せ
ず)には、ダイシングブレード16の刃先に向けて冷却
水を噴射するためのノズル17が一体的に設けられてい
る。
断装置について、図面を参照しながら説明する。図6は
従来技術における半導体ウエハの切断装置の構成を示す
断面図である。図6に示すように、円錐台状のテーブル
10の上には、テーブル10の上面よりも広い面積を有
する孔11aが開口されたドーナツ状のフレーム11が
配置されており、フレーム11の下面には孔11aを被
覆した状態で伸縮性を有するダイシングテープ12が張
られている。ここで、フレーム11は、上下方向に移動
可能な状態にされている。テーブル10上のダイシング
テープ12の上には、半導体ウエハ13がセットされ
る。ここで、半導体ウエハ13上には、複数の半導体素
子14が行列状に形成されている(図5参照)。テーブ
ル10の上方には、半導体ウエハ13をスクライブライ
ン15(図5参照)に沿って切断して、個々の半導体素
子14に分割するためのダイシングブレード16が配置
されている。ダイシングブレード16の支持体(図示せ
ず)には、ダイシングブレード16の刃先に向けて冷却
水を噴射するためのノズル17が一体的に設けられてい
る。
【0004】次に、上記のように構成された切断装置を
用いて、半導体ウエハを切断し、個々の半導体素子に分
割する方法について、図面を参照しながら説明する。図
7は従来技術における半導体ウエハの切断方法を示す工
程図である。まず、図7(a)に示すように、テーブル
10上のダイシングテープ12の上に半導体ウエハ13
をセットする。次いで、図7(b)に示すように、フレ
ーム11を押し下げると共に、ダイシングブレード16
を、その下端がテーブル10上のダイシングテープ12
の高さ位置にくるまで降下させる。次いで、図7(c)
に示すように、テーブル10上のダイシングテープ12
の上でダイシングブレード16を半導体ウエハ13のス
クライブライン15(図5参照)に沿って縦横に走らせ
ることにより、半導体ウエハ13をスクライブライン1
5に沿って切断して、個々の半導体素子14に分割す
る。この場合、ダイシングブレード16と半導体ウエハ
13との間の摩擦熱の発生を抑えるために、ノズル17
からダイシングブレード16の刃先に向けて冷却水が連
続的に噴射されており、これによって生じた切削汚水は
テーブル10の上からダイシングテープ12を伝って外
部に排出される。尚、フレーム11を押し下げた状態と
しているのは、ダイシングブレード16によってフレー
ム11を傷付けてしまうことを防止するためである。
用いて、半導体ウエハを切断し、個々の半導体素子に分
割する方法について、図面を参照しながら説明する。図
7は従来技術における半導体ウエハの切断方法を示す工
程図である。まず、図7(a)に示すように、テーブル
10上のダイシングテープ12の上に半導体ウエハ13
をセットする。次いで、図7(b)に示すように、フレ
ーム11を押し下げると共に、ダイシングブレード16
を、その下端がテーブル10上のダイシングテープ12
の高さ位置にくるまで降下させる。次いで、図7(c)
に示すように、テーブル10上のダイシングテープ12
の上でダイシングブレード16を半導体ウエハ13のス
クライブライン15(図5参照)に沿って縦横に走らせ
ることにより、半導体ウエハ13をスクライブライン1
5に沿って切断して、個々の半導体素子14に分割す
る。この場合、ダイシングブレード16と半導体ウエハ
13との間の摩擦熱の発生を抑えるために、ノズル17
からダイシングブレード16の刃先に向けて冷却水が連
続的に噴射されており、これによって生じた切削汚水は
テーブル10の上からダイシングテープ12を伝って外
部に排出される。尚、フレーム11を押し下げた状態と
しているのは、ダイシングブレード16によってフレー
ム11を傷付けてしまうことを防止するためである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の切断方法には、以下のような問題点があった。す
なわち、多数のスクライブラインに沿って半導体ウエハ
を切断するものであるため、切断作業が完了するまでに
ある程度の時間を要する。このため、切断工程中に半導
体ウエハの表面の一部(既に切断されている部分)が乾
いた状態となり、そこを流れる切削汚水中の異物や飛散
異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染される虞れが
あった。その結果、特に、複数の固体撮像素子が行列状
に形成された半導体ウエハを切断する場合には、一部の
固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変換率が低下
し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の特性にばら
つきが生じてしまう。
従来の切断方法には、以下のような問題点があった。す
なわち、多数のスクライブラインに沿って半導体ウエハ
を切断するものであるため、切断作業が完了するまでに
ある程度の時間を要する。このため、切断工程中に半導
体ウエハの表面の一部(既に切断されている部分)が乾
いた状態となり、そこを流れる切削汚水中の異物や飛散
異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染される虞れが
あった。その結果、特に、複数の固体撮像素子が行列状
に形成された半導体ウエハを切断する場合には、一部の
固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変換率が低下
し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の特性にばら
つきが生じてしまう。
【0006】この問題を解決するために、従来において
は、半導体ウエハ上に複数の半導体素子を形成した後、
その上に樹脂製の保護フィルムを貼り付け、この状態で
半導体ウエハを切断して個々の半導体素子に分割した後
に、保護フィルムを剥がすようにされていた。
は、半導体ウエハ上に複数の半導体素子を形成した後、
その上に樹脂製の保護フィルムを貼り付け、この状態で
半導体ウエハを切断して個々の半導体素子に分割した後
に、保護フィルムを剥がすようにされていた。
【0007】しかし、この方法では、保護フィルムを貼
り付ける工程と、保護フィルムを剥がす工程とが必要と
なり、半導体素子の製造工程が複雑になるという問題点
がある。
り付ける工程と、保護フィルムを剥がす工程とが必要と
なり、半導体素子の製造工程が複雑になるという問題点
がある。
【0008】本発明は、従来技術における前記課題を解
決するためになされたものであり、複数の半導体素子が
形成された半導体ウエハ上に保護フィルムを貼り付ける
ことなく、切断工程中に半導体ウエハの表面が汚染され
ることを防止することのできる半導体ウエハの切断方法
及びその切断装置を提供することを目的とする。
決するためになされたものであり、複数の半導体素子が
形成された半導体ウエハ上に保護フィルムを貼り付ける
ことなく、切断工程中に半導体ウエハの表面が汚染され
ることを防止することのできる半導体ウエハの切断方法
及びその切断装置を提供することを目的とする。
【0009】
【問題点を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体ウエハの切断方法は、複数の半
導体素子が行列状に形成された半導体ウエハをスクライ
ブラインに沿って切断して、個々の半導体素子に分割す
る半導体ウエハの切断方法であって、前記半導体ウエハ
を水中で切断することを特徴とする。この半導体ウエハ
の切断方法によれば、切断工程中に半導体ウエハの表面
が乾いてしまうことを防止することができるので、従来
のように切削汚水中の異物や飛散異物が半導体ウエハの
表面に付着して汚染されることはない。その結果、従来
のような、複数の半導体素子が形成された半導体ウエハ
の上に樹脂製の保護フィルムを貼り付ける工程と、個々
の半導体素子に分割した後に保護フィルムを剥がす工程
とが不要となるので、半導体素子の製造工程を簡素化す
ることができる。
め、本発明に係る半導体ウエハの切断方法は、複数の半
導体素子が行列状に形成された半導体ウエハをスクライ
ブラインに沿って切断して、個々の半導体素子に分割す
る半導体ウエハの切断方法であって、前記半導体ウエハ
を水中で切断することを特徴とする。この半導体ウエハ
の切断方法によれば、切断工程中に半導体ウエハの表面
が乾いてしまうことを防止することができるので、従来
のように切削汚水中の異物や飛散異物が半導体ウエハの
表面に付着して汚染されることはない。その結果、従来
のような、複数の半導体素子が形成された半導体ウエハ
の上に樹脂製の保護フィルムを貼り付ける工程と、個々
の半導体素子に分割した後に保護フィルムを剥がす工程
とが不要となるので、半導体素子の製造工程を簡素化す
ることができる。
【0010】また、前記本発明の半導体ウエハの切断方
法においては、半導体ウエハを凹所にセットし、前記凹
所内に水を注入しながら前記半導体ウエハを切断するの
が好ましい。この好ましい例によれば、凹所に満たされ
た水の中に半導体ウエハの表面に付着した異物を浮遊さ
せ、凹所の外部に流してしまうことができるので、半導
体ウエハひいては半導体素子の洗浄効果を向上させるこ
とができる。
法においては、半導体ウエハを凹所にセットし、前記凹
所内に水を注入しながら前記半導体ウエハを切断するの
が好ましい。この好ましい例によれば、凹所に満たされ
た水の中に半導体ウエハの表面に付着した異物を浮遊さ
せ、凹所の外部に流してしまうことができるので、半導
体ウエハひいては半導体素子の洗浄効果を向上させるこ
とができる。
【0011】また、前記本発明の半導体ウエハの切断方
法においては、半導体素子が固体撮像素子であるのが好
ましい。この好ましい例によれば、半導体ウエハ上の一
部の固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変換率が低
下し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の特性にば
らつきが生じることを防止することができる。
法においては、半導体素子が固体撮像素子であるのが好
ましい。この好ましい例によれば、半導体ウエハ上の一
部の固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変換率が低
下し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の特性にば
らつきが生じることを防止することができる。
【0012】また、本発明に係る半導体ウエハの切断装
置の構成は、複数の半導体素子が行列状に形成された半
導体ウエハをスクライブラインに沿って切断して、個々
の半導体素子に分割するための半導体ウエハの切断装置
であって、前記半導体ウエハをセットする凹所と、前記
凹所内に水を注入する手段と、前記半導体ウエハを切断
するダイシングブレードとを備えたことを特徴とする。
この半導体ウエハの切断装置の構成によれば、半導体ウ
エハを水中で切断することができるので、切断工程中に
半導体ウエハの表面が乾いてしまうことを防止すること
ができる。従って、従来のように切削汚水中の異物や飛
散異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染されること
はない。その結果、従来のような、複数の半導体素子が
形成された半導体ウエハの上に樹脂製の保護フィルムを
貼り付ける工程と、個々の半導体素子に分割した後に保
護フィルムを剥がす工程とが不要となるので、半導体素
子の製造工程を簡素化することができる。
置の構成は、複数の半導体素子が行列状に形成された半
導体ウエハをスクライブラインに沿って切断して、個々
の半導体素子に分割するための半導体ウエハの切断装置
であって、前記半導体ウエハをセットする凹所と、前記
凹所内に水を注入する手段と、前記半導体ウエハを切断
するダイシングブレードとを備えたことを特徴とする。
この半導体ウエハの切断装置の構成によれば、半導体ウ
エハを水中で切断することができるので、切断工程中に
半導体ウエハの表面が乾いてしまうことを防止すること
ができる。従って、従来のように切削汚水中の異物や飛
散異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染されること
はない。その結果、従来のような、複数の半導体素子が
形成された半導体ウエハの上に樹脂製の保護フィルムを
貼り付ける工程と、個々の半導体素子に分割した後に保
護フィルムを剥がす工程とが不要となるので、半導体素
子の製造工程を簡素化することができる。
【0013】また、前記本発明の半導体ウエハの切断装
置の構成においては、凹所が、半導体ウエハの厚みより
も厚く、前記半導体ウエハよりも広い面積を有する孔が
開口されたフレームと、前記孔を被覆した状態で前記フ
レームの下面に張られたダイシングテープとで形成され
るのが好ましい。
置の構成においては、凹所が、半導体ウエハの厚みより
も厚く、前記半導体ウエハよりも広い面積を有する孔が
開口されたフレームと、前記孔を被覆した状態で前記フ
レームの下面に張られたダイシングテープとで形成され
るのが好ましい。
【0014】また、前記本発明の半導体ウエハの切断装
置の構成においては、ダイシングブレードは、通常、凹
所の外側に退避しており、半導体ウエハを切断する際に
前記凹所内に移動するのが好ましい。
置の構成においては、ダイシングブレードは、通常、凹
所の外側に退避しており、半導体ウエハを切断する際に
前記凹所内に移動するのが好ましい。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態を用いて本発明
をさらに具体的に説明する。図1は本発明の実施の形態
における半導体ウエハの切断装置の構成を示す断面図で
ある。図1に示すように、円錐台状のテーブル1の上に
は、テーブル1の上面よりも広い面積を有する孔2aが
開口された厚さ約1200μmのドーナツ状のフレーム
2が配置されており、フレーム2の下面には孔2aを被
覆した状態でダイシングテープ3が張られている。テー
ブル1上のダイシングテープ3の上には、厚さ約625
μmの半導体ウエハ4がセットされる。ここで、半導体
ウエハ4上には、複数の固体撮像素子5が行列状に形成
されている(図5参照)。テーブル1の上方には、半導
体ウエハ4をスクライブライン8(図5参照)に沿って
切断して、個々の固体撮像素子5に分割するためのダイ
シングブレード6が配置されている。ダイシングブレー
ド6の支持体(図示せず)には、ダイシングブレード6
の刃先に向けて冷却水を噴射するためのノズル7が一体
的に設けられている。
をさらに具体的に説明する。図1は本発明の実施の形態
における半導体ウエハの切断装置の構成を示す断面図で
ある。図1に示すように、円錐台状のテーブル1の上に
は、テーブル1の上面よりも広い面積を有する孔2aが
開口された厚さ約1200μmのドーナツ状のフレーム
2が配置されており、フレーム2の下面には孔2aを被
覆した状態でダイシングテープ3が張られている。テー
ブル1上のダイシングテープ3の上には、厚さ約625
μmの半導体ウエハ4がセットされる。ここで、半導体
ウエハ4上には、複数の固体撮像素子5が行列状に形成
されている(図5参照)。テーブル1の上方には、半導
体ウエハ4をスクライブライン8(図5参照)に沿って
切断して、個々の固体撮像素子5に分割するためのダイ
シングブレード6が配置されている。ダイシングブレー
ド6の支持体(図示せず)には、ダイシングブレード6
の刃先に向けて冷却水を噴射するためのノズル7が一体
的に設けられている。
【0016】次に、上記のように構成された切断装置を
用いて、半導体ウエハを切断し、個々の固体撮像素子に
分割する方法について、図面を参照しながら説明する。
図2は本発明の実施の形態における半導体ウエハの切断
方法を示す工程図である。まず、図2(a)に示すよう
に、テーブル1上のダイシングテープ3の上に半導体ウ
エハ4をセットする。このとき、ダイシングブレード6
は、高速回転した状態でフレーム2の上方でかつ孔2a
の外側(初期位置)に位置している。次いで、図2
(b)に示すように、ダイシングブレード6を水平方向
に移動させ、半導体ウエハ4のエッジ部の上方に位置さ
せる。次いで、図2(c)に示すように、ダイシングブ
レード6を、その下端がテーブル1上のダイシングテー
プ3の高さ位置にくるまで降下させて、半導体ウエハ4
のエッジ部に位置させる。次いで、テーブル1上のダイ
シングテープ3の上でダイシングブレード6を半導体ウ
エハ4のスクライブライン8(図5参照)に沿って縦横
に走らせることにより、半導体ウエハ4をスクライブラ
イン8に沿って切断して、個々の固体撮像素子5に分割
する。この切断工程の間、ダイシングブレード6は、図
3に示すように、A、B、C、Dの順番で各位置を移動
し、切断作業が完了した後、図2(a)に示す初期位置
(フレーム2の上方でかつ孔2aの外側)に戻る。
用いて、半導体ウエハを切断し、個々の固体撮像素子に
分割する方法について、図面を参照しながら説明する。
図2は本発明の実施の形態における半導体ウエハの切断
方法を示す工程図である。まず、図2(a)に示すよう
に、テーブル1上のダイシングテープ3の上に半導体ウ
エハ4をセットする。このとき、ダイシングブレード6
は、高速回転した状態でフレーム2の上方でかつ孔2a
の外側(初期位置)に位置している。次いで、図2
(b)に示すように、ダイシングブレード6を水平方向
に移動させ、半導体ウエハ4のエッジ部の上方に位置さ
せる。次いで、図2(c)に示すように、ダイシングブ
レード6を、その下端がテーブル1上のダイシングテー
プ3の高さ位置にくるまで降下させて、半導体ウエハ4
のエッジ部に位置させる。次いで、テーブル1上のダイ
シングテープ3の上でダイシングブレード6を半導体ウ
エハ4のスクライブライン8(図5参照)に沿って縦横
に走らせることにより、半導体ウエハ4をスクライブラ
イン8に沿って切断して、個々の固体撮像素子5に分割
する。この切断工程の間、ダイシングブレード6は、図
3に示すように、A、B、C、Dの順番で各位置を移動
し、切断作業が完了した後、図2(a)に示す初期位置
(フレーム2の上方でかつ孔2aの外側)に戻る。
【0017】また、図4に示すように、上記切断工程の
間、ダイシングブレード6の支持体に一体的に設けられ
たノズル7からは冷却水が連続的に噴射しており、孔2
aが開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2の
下面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹所
9は、常に新しい水で満たされた状態となっている。す
なわち、半導体ウエハ4上には、フレーム2の厚みと半
導体ウエハ4の厚みの差分の厚さを有する水の保護膜が
形成された状態となっている。その結果、切断工程中に
半導体ウエハ4の表面が乾いてしまうことはないので、
従来のように切削汚水中の異物や飛散異物が半導体ウエ
ハ4の表面に付着して汚染されることはない。このた
め、従来のような、複数の固体撮像素子(半導体素子)
5が形成された半導体ウエハ4の上に樹脂製の保護フィ
ルムを貼り付ける工程と、個々の固体撮像素子(半導体
素子)5に分割した後に保護フィルムを剥がす工程とが
不要となるので、固体撮像素子5の製造工程を簡素化す
ることができる。特に、本実施の形態のように、複数の
固体撮像素子5が行列状に形成された半導体ウエハ4を
切断する場合にあっては、半導体ウエハ4上の一部の固
体撮像素子5の光電変換部が汚染されて変換率が低下
し、切断後に得られる個々の固体撮像素子5の特性にば
らつきが生じることを防止することができる。また、孔
2aが開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2
の下面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹
所9に満たされた水の中に半導体ウエハ4の表面に付着
した異物を浮遊させ、フレーム2の外部(凹所9の外
部)に流してしまうことができるので、半導体ウエハ4
ひいては固体撮像素子(半導体素子)5の洗浄効果を向
上させることができる。
間、ダイシングブレード6の支持体に一体的に設けられ
たノズル7からは冷却水が連続的に噴射しており、孔2
aが開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2の
下面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹所
9は、常に新しい水で満たされた状態となっている。す
なわち、半導体ウエハ4上には、フレーム2の厚みと半
導体ウエハ4の厚みの差分の厚さを有する水の保護膜が
形成された状態となっている。その結果、切断工程中に
半導体ウエハ4の表面が乾いてしまうことはないので、
従来のように切削汚水中の異物や飛散異物が半導体ウエ
ハ4の表面に付着して汚染されることはない。このた
め、従来のような、複数の固体撮像素子(半導体素子)
5が形成された半導体ウエハ4の上に樹脂製の保護フィ
ルムを貼り付ける工程と、個々の固体撮像素子(半導体
素子)5に分割した後に保護フィルムを剥がす工程とが
不要となるので、固体撮像素子5の製造工程を簡素化す
ることができる。特に、本実施の形態のように、複数の
固体撮像素子5が行列状に形成された半導体ウエハ4を
切断する場合にあっては、半導体ウエハ4上の一部の固
体撮像素子5の光電変換部が汚染されて変換率が低下
し、切断後に得られる個々の固体撮像素子5の特性にば
らつきが生じることを防止することができる。また、孔
2aが開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2
の下面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹
所9に満たされた水の中に半導体ウエハ4の表面に付着
した異物を浮遊させ、フレーム2の外部(凹所9の外
部)に流してしまうことができるので、半導体ウエハ4
ひいては固体撮像素子(半導体素子)5の洗浄効果を向
上させることができる。
【0018】尚、上記実施の形態においては、複数の固
体撮像素子5が形成された半導体ウエハ4をスクライブ
ライン8に沿って切断して、個々の固体撮像素子5に分
割する場合を例に挙げて説明しているが、本発明は必ず
しもこの場合だけに適用されるものではなく、他の半導
体素子、例えばメモリー素子が形成された半導体ウエハ
を切断する場合にも適用することができる。このよう
に、固体撮像素子5以外の他の半導体素子が形成された
半導体ウエハを切断する場合に本発明を適用すれば、切
断工程における切削汚水中の異物によって半導体素子の
表面が汚染されることはない。従来技術における半導体
ウエハの切断方法では、切断工程中に半導体素子の表面
に異物が付着するため、その半導体素子をパッケージに
樹脂封止して半導体装置を製造する場合に、樹脂パッケ
ージにクラックが入ったり、あるいは、異物の部分の樹
脂厚が不足して耐湿性に問題が生じる等の信頼性を低下
させる原因となる。本発明では、そのような問題が生じ
ることはなく、信頼性の高い半導体装置を実現すること
ができる。また、本発明によれば、半導体素子をパッケ
ージのリードとワイヤーボンド接続するために半導体素
子の表面に形成した金属パッド部表面に異物が付着する
ことはないので、ワイヤーボンド接続を良好に行うこと
ができる。
体撮像素子5が形成された半導体ウエハ4をスクライブ
ライン8に沿って切断して、個々の固体撮像素子5に分
割する場合を例に挙げて説明しているが、本発明は必ず
しもこの場合だけに適用されるものではなく、他の半導
体素子、例えばメモリー素子が形成された半導体ウエハ
を切断する場合にも適用することができる。このよう
に、固体撮像素子5以外の他の半導体素子が形成された
半導体ウエハを切断する場合に本発明を適用すれば、切
断工程における切削汚水中の異物によって半導体素子の
表面が汚染されることはない。従来技術における半導体
ウエハの切断方法では、切断工程中に半導体素子の表面
に異物が付着するため、その半導体素子をパッケージに
樹脂封止して半導体装置を製造する場合に、樹脂パッケ
ージにクラックが入ったり、あるいは、異物の部分の樹
脂厚が不足して耐湿性に問題が生じる等の信頼性を低下
させる原因となる。本発明では、そのような問題が生じ
ることはなく、信頼性の高い半導体装置を実現すること
ができる。また、本発明によれば、半導体素子をパッケ
ージのリードとワイヤーボンド接続するために半導体素
子の表面に形成した金属パッド部表面に異物が付着する
ことはないので、ワイヤーボンド接続を良好に行うこと
ができる。
【0019】また、上記実施の形態においては、孔2a
が開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2の下
面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹所9
に水を注入する手段として、ダイシングブレード6の支
持体に一体的に設けられたノズル7を用いているが、必
ずしもこの構成に限定されるものではない。凹所9に水
を注入する手段としては、ノズル以外の他の手段を用い
ることもでき、これらの手段はダイシングブレード6と
は無関係に設けてもよい。
が開口されたドーナツ状のフレーム2とフレーム2の下
面に張られたダイシングテープ3とで形成される凹所9
に水を注入する手段として、ダイシングブレード6の支
持体に一体的に設けられたノズル7を用いているが、必
ずしもこの構成に限定されるものではない。凹所9に水
を注入する手段としては、ノズル以外の他の手段を用い
ることもでき、これらの手段はダイシングブレード6と
は無関係に設けてもよい。
【0020】また、上記実施の形態においては、切断工
程中に凹所9内に連続的に水を注入しているが、凹所9
に水を溜めた状態(新たに水を注入しない状態)で、半
導体ウエハを切断した場合にも、所期の効果を達成する
ことができる。
程中に凹所9内に連続的に水を注入しているが、凹所9
に水を溜めた状態(新たに水を注入しない状態)で、半
導体ウエハを切断した場合にも、所期の効果を達成する
ことができる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
切断工程中に半導体ウエハの表面が乾いてしまうことを
防止することができるので、従来のように切削汚水中の
異物や飛散異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染さ
れることはない。その結果、従来のような、複数の半導
体素子が形成された半導体ウエハの上に樹脂製の保護フ
ィルムを貼り付ける工程と、個々の半導体素子に分割し
た後に保護フィルムを剥がす工程とが不要となるので、
半導体素子の製造工程を簡素化することができる。特
に、半導体素子が固体撮像素子の場合には、半導体ウエ
ハ上の一部の固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変
換率が低下し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の
特性にばらつきが生じることを防止することができる。
切断工程中に半導体ウエハの表面が乾いてしまうことを
防止することができるので、従来のように切削汚水中の
異物や飛散異物が半導体ウエハの表面に付着して汚染さ
れることはない。その結果、従来のような、複数の半導
体素子が形成された半導体ウエハの上に樹脂製の保護フ
ィルムを貼り付ける工程と、個々の半導体素子に分割し
た後に保護フィルムを剥がす工程とが不要となるので、
半導体素子の製造工程を簡素化することができる。特
に、半導体素子が固体撮像素子の場合には、半導体ウエ
ハ上の一部の固体撮像素子の光電変換部が汚染されて変
換率が低下し、切断後に得られる個々の固体撮像素子の
特性にばらつきが生じることを防止することができる。
【図1】本発明の実施の形態における半導体ウエハの切
断装置の構成を示す断面図である。
断装置の構成を示す断面図である。
【図2】本発明の実施の形態における半導体ウエハの切
断方法を示す工程図である。
断方法を示す工程図である。
【図3】本発明の実施の形態の半導体ウエハの切断方法
におけるダイシングブレードの移動を示す図である。
におけるダイシングブレードの移動を示す図である。
【図4】本発明の実施の形態における半導体ウエハの切
断方法及び切断装置の効果を説明するための断面図であ
る。
断方法及び切断装置の効果を説明するための断面図であ
る。
【図5】本発明の実施の形態及び従来技術における半導
体ウエハを示す平面図である。
体ウエハを示す平面図である。
【図6】従来技術における半導体ウエハの切断装置の構
成を示す断面図である。
成を示す断面図である。
【図7】従来技術における半導体ウエハの切断方法を示
す工程図である。
す工程図である。
1 テーブル 2 フレーム 2a 孔 3 ダイシングテープ 4 半導体ウエハ 5 固体撮像素子(半導体素子) 6 ダイシングブレード 7 ノズル 8 スクライブライン 9 凹所
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷内 智也 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内
Claims (6)
- 【請求項1】 複数の半導体素子が行列状に形成された
半導体ウエハをスクライブラインに沿って切断して、個
々の半導体素子に分割する半導体ウエハの切断方法であ
って、前記半導体ウエハを水中で切断することを特徴と
する半導体ウエハの切断方法。 - 【請求項2】 半導体ウエハを凹所にセットし、前記凹
所内に水を注入しながら前記半導体ウエハを切断する請
求項1に記載の半導体ウエハの切断方法。 - 【請求項3】 半導体素子が固体撮像素子である請求項
1に記載の半導体ウエハの切断方法。 - 【請求項4】 複数の半導体素子が行列状に形成された
半導体ウエハをスクライブラインに沿って切断して、個
々の半導体素子に分割するための半導体ウエハの切断装
置であって、前記半導体ウエハをセットする凹所と、前
記凹所内に水を注入する手段と、前記半導体ウエハを切
断するダイシングブレードとを備えたことを特徴とする
半導体ウエハの切断装置。 - 【請求項5】 凹所が、半導体ウエハの厚みよりも厚
く、前記半導体ウエハよりも広い面積を有する孔が開口
されたフレームと、前記孔を被覆した状態で前記フレー
ムの下面に張られたダイシングテープとで形成された請
求項4に記載の半導体ウエハの切断装置。 - 【請求項6】 ダイシングブレードは、通常、凹所の外
側に退避しており、半導体ウエハを切断する際に前記凹
所内に移動する請求項4に記載の半導体ウエハの切断装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27306197A JPH11111647A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27306197A JPH11111647A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11111647A true JPH11111647A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17522613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27306197A Pending JPH11111647A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | 半導体ウエハの切断方法及びその切断装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11111647A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007059829A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ |
| JP2007059802A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ |
| JP2010245446A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
| JP2011124265A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
| JP2011124264A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
| JP2017094455A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-01 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| US20240055297A1 (en) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 | Fu-Chiang Liao | Manufacturing method of semiconductor |
-
1997
- 1997-10-06 JP JP27306197A patent/JPH11111647A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007059829A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ |
| JP2007059802A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法およびウエーハの加工方法に用いる粘着テープ |
| JP2010245446A (ja) * | 2009-04-09 | 2010-10-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 被加工物の切削方法 |
| JP2011124265A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
| JP2011124264A (ja) * | 2009-12-08 | 2011-06-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
| JP2017094455A (ja) * | 2015-11-25 | 2017-06-01 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| US20240055297A1 (en) * | 2022-08-10 | 2024-02-15 | Fu-Chiang Liao | Manufacturing method of semiconductor |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050617 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050622 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050803 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060110 |