JPH11111664A - 基板の処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は処理槽内で基板を処理する際、基
板が外気によって汚染されたり、処理槽の雰囲気が外部
に漏れ出るのを防止した基板の処理装置を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 基板２を回転させて処理する処理装置に
おいて、上記基板を保持して回転駆動するためのスピン
装置３と、このスピン装置が収容された処理槽１と、こ
の処理槽に設けられ処理槽内に清浄空気を供給するフィ
ルタユニット１１と、上記処理槽内の空気を排出する排
気管１４と、上記処理槽の内部と外部との圧力差を検出
する差圧検出器１６と、この検出手段の検出結果に基い
て上記フィルタユニットによる上記処理槽への清浄空気
の供給量を制御する制御装置１７とを具備したことを特
徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は基板を回転させて
処理するスピン装置を備えた基板の処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶製造装置や半導体製造装置
には、液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの基板を高
い清浄度で洗浄する工程がある。このような基板を洗浄
する方式としては、洗浄液中に複数枚の基板を浸漬する
デイップ方式や基板に向けて洗浄液を噴射して一枚づつ
洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄度が得られ
るとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採用されるこ
とが多くなってきている。

【０００３】枚葉方式の１つとして基板を回転させなが
ら洗浄するスピン装置が知られている。スピン装置の場
合、上記基板を低速回転させながら洗浄液をかけること
で洗浄を行うことができ、ついで高速回転させることで
乾燥処理することができる。つまり、スピン装置は、洗
浄処理と乾燥処理とを連続して行うことができるという
利点がある。

【０００４】上記スピン装置で基板を回転させると、そ
の回転にともない発生する空気流によって外気に含まれ
るパ−ティクルが上記基板に付着し、汚染の原因になる
ということがある。そこで、スピン装置による基板の処
理をクリ−ンル−ムで行うだけでなく、上記スピン装置
を処理槽に収容し、その内部に清浄空気を循環させて行
うようにしている。

【０００５】処理槽に清浄空気を循環させれば、基板に
付着するパ−ティクルの量を減少させることができる。
しかしながら、処理槽内の圧力は、清浄空気の循環量の
変動や基板の処理形態に応じた回転速度の変更などによ
って変動することが避けられない。

【０００６】そして、処理槽内の圧力が外気の圧力より
も低くなると、外気が処理槽内に流入するから、その外
気に含まれるパ−ティクルが基板に付着するということ
がある。また、処理槽内の圧力が外気よりも高くなる
と、処理槽内の雰囲気が外部に漏れ出るということがあ
り、とくに、基板を薬液で洗浄処理するような場合に
は、洗浄槽内の雰囲気が外部に漏れ出ることは好ましく
ない。

【０００７】さらに、処理槽の外部の圧力、つまりクリ
−ンル−ムの圧力も一定でないため、その圧力変動によ
っても、基板へのパ−ティクルの付着量が増大したり、
処理槽内の雰囲気が外部に漏れ出ることがある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来は基
板をスピン処理する場合、基板へのパ−ティクルの付着
を抑制するためにスピン装置を処理槽内に設置するとい
うことが行われているものの、処理槽内と外部との圧力
変動によって洗浄槽内へパ−ティクルが流入したり、洗
浄槽内の雰囲気が外部に漏れ出るなどのことがあった。

【０００９】この発明は、処理槽や外部の圧力が変動し
ても、外気が処理槽に流入したり、処理槽内の雰囲気が
外部に漏れ出ることがないようにした基板の処理装置を
提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を回転させて処理する処理装置において、上記基板を保
持して回転駆動するためのスピン装置と、このスピン装
置が収容された処理槽と、この処理槽に設けられ処理槽
内に清浄空気を供給するフィルタユニットと、上記処理
槽内の空気を排出する排気手段と、上記処理槽の内部と
外部との圧力差を検出する検出手段と、この検出手段の
検出結果に基いて上記フィルタユニットによる上記処理
槽への清浄空気の供給量を制御する制御手段とを具備し
たことを特徴とする。

【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記制御手段は、上記処理槽の内部と外部との圧力
差がほぼ０になるよう上記フィルタユニットによる清浄
空気の供給量を制御することを特徴とする。

【００１２】請求項１と請求項２の発明によれば、処理
槽の内部と外部との圧力差を検出し、その検出結果に基
いて処理槽への清浄空気の供給量を制御するため、外気
が処理槽内に流入したり、内部の雰囲気が外部に漏れ出
るのを防止することができる。

【００１３】とくに、請求項２の発明によれば、処理槽
の内部と外部との圧力差がほぼ０になるよう制御するた
め、処理槽への外気の流入や内部雰囲気が外部へ漏れ出
るのを確実に防止することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。図１に示すこの発明の処理装
置はクリ−ンル−ムＲに設置された処理槽１を備えてい
る。この処理槽１は箱型状をなしていて、内部には半導
体ウエハや液晶用ガラス基板などの基板２を洗浄や乾燥
処理するためのスピン装置３が設置されている。

【００１５】なお、処理槽１の一側壁には図示しない開
閉扉によって開閉される開口部が設けられ、この開口部
から上記スピン装置３に対して基板２が出し入れされる
ようになっている。

【００１６】上記スピン装置３は、上面が開口したカッ
プ体４を有し、このカップ体４の内部には上記基板２を
保持する回転体５が回転自在に設けられている。この回
転体５の下面には駆動軸６が連結され、この駆動軸６は
駆動源７によって回転駆動されるようになっている。

【００１７】上記回転体５の上方にはノズル体８が配置
され、このノズル体８からは上記回転体５に保持された
基板２に向けて薬液や純水などの洗浄液が噴射されるよ
うになっている。

【００１８】したがって、上記ノズル体８から洗浄液を
噴射しながら基板２を回転体５とともに回転させれば、
上記基板２を洗浄処理することができ、洗浄後に洗浄液
を噴射させずに回転体５を高速回転させれば、上記基板
２を乾燥処理することができるようになっている。

【００１９】上記処理槽１の上部にはフィルタユニット
１１が設けられている。このフィルタユニット１１はク
リ−ンル−ムＲ内の清浄空気を処理槽１へ導入する送風
機部１２と、この送風機部１２によって上記処理槽１へ
導入される清浄空気をさらに浄化するためのフィルタ部
１３とからなる。なお、クリ−ンル−ムＲには清浄空気
が図示しない浄化装置を通じて供給されるが、クリ−ン
ル−ムＲ内の圧力は清浄空気の供給量の変化などによっ
て変動することがある。

【００２０】上記カップ体４の底部には、このカップ体
４内で生じるパ−ティクルやミストなどを含む雰囲気を
処理槽１の外部に排気する排気管１４が接続されてい
る。この排気管１４はクリ−ンル−ムＲに設置された複
数の処理装置の排気を一括して行う図示しない排気ポン
プに接続されている。

【００２１】したがって、複数の処理装置が全て稼働し
ているときと、そうでないときとでは排気圧が多少変動
することが避けられない。つまり、カップ体４内の圧力
が変動することがある。

【００２２】上記処理槽１には、この処理槽１とクリ−
ル−ムＲとの圧力差を検出して電気信号に変換して出力
する差圧検出器１６が接続されている。この差圧検出器
１６からの検出信号Ｓは制御装置１７に入力される。こ
の制御装置１７は検出信号Ｓの大きさに応じて駆動信号
Ｄを駆動部１８に出力し、それによって、この駆動部１
８は上記フィルタユニット１１の送風機部１２の出力、
たとえば回転数などを制御するようになっている。

【００２３】つまり、上記差圧検出器１６が検出する差
圧がほぼ０に近い場合、たとえば０〜-0.5mmAqの設定範
囲内の場合には、その差圧が維持されるよう上記送風機
部１２の出力を変えることはないが、差圧が設定範囲か
ら外れた場合には、上記送風機部１２による処理槽１へ
の清浄空気の供給量を増減制御し、処理槽１内の圧力を
設定範囲内に維持するようになっている。

【００２４】たとえば、洗浄槽１内の圧力が外部の圧力
よりも高い場合には、上記送風機部１２の回転数が下げ
て送風量を減少させ、逆に低い場合には送風機部１２の
回転数が上げられて送風量を増大させる。

【００２５】つぎに、上記構成の処理装置によって基板
２を処理する場合について説明する。未処理の基板２を
スピン装置３の回転体５に供給したならば、この回転体
５を低速回転するとともに、ノズル体８から処理液を上
記基板２に向けて噴射する。それによって、基板２は処
理液によってたとえば洗浄処理されることになる。

【００２６】処理液による洗浄処理が終了したならば、
上記ノズル体８（または別のノズル体）から基板２に向
けて純水を供給し、基板２をリンス処理する。ついで、
基板２を高速回転させることで、その遠心力によって基
板２を乾燥処理する。

【００２７】このような一連の処理作業に際し、クリ−
ンル−ムＲと処理槽１内部との差圧が差圧検出器１６に
よって検出される。この差圧検出器１６による差圧の検
出範囲が０〜-0.5mmAqの範囲内であれば、フィルタユニ
ット１１の送風機部１２はその状態での運転が継続され
る。

【００２８】しかしながら、クリ−ンル−ムＲと処理槽
１の内部との差圧が設定された範囲から外れると、上記
送風機部１２の運転が駆動部１８により制御され、差圧
が設定範囲内に維持されることになる。

【００２９】差圧の変動要因としては、クリ−ンル−ム
Ｒの圧力変動、スピン装置３に接続された排気管１４に
よる排気圧の変動、処理形態に応じた回転体５の回転数
の変化による内部圧力の変動などが考えられる。

【００３０】そして、処理槽１内の圧力がクリ−ンル−
ムＲの圧力よりも高くなると、処理槽１内の雰囲気がク
リ−ンル−ムの漏れ出る虞があり、とくに基板２を薬液
処理する場合には作業者に悪影響を与えることになった
り、パ−ティクルやミストを含むカップ体４内の気体の
排出が円滑に行われなくなり、基板２を汚染することが
ある。

【００３１】処理槽１内の圧力がクリ−ンル−ムＲの圧
力よりも低くなると、クリ−ンル−ムＲ内の外気が処理
槽１内に侵入する虞がある。クリ−ンル−ムＲ内の気体
は浄化されているものの、フィルタユニット１１で浄化
されて処理槽１に供給される空気に比べると清浄度が低
いため、その場合も基板２を汚染する虞がある。

【００３２】しかしながら、この発明においては、上述
したように、クリ−ンル−ムＲと処理槽１の内部との差
圧が差圧検出器１６によって検出され、その検出結果に
基づいて処理槽１の内部圧力は所定の範囲内になるよう
送風機部１２の回転数が変えられて処理槽１への送風量
が制御されるから、洗浄槽１内の雰囲気が外部に漏れ出
たり、外気が洗浄槽１内に侵入するなどのことが防止さ
れ、基板２の処理を安全かつ確実に行うことができる。

【００３３】なお、この発明は上記一実施の形態に限定
されるものでなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能である。たとえば処理槽への清浄空気の供給量
の制御は送風機部の回転数を変える手段に変えて送風機
部とフィルタユニットとの間にダンパを設け、このダン
パの開度を制御することで行うようにしてもよい。

【００３４】

【発明の効果】以上述べたように請求項１と請求項２の
発明によれば、処理槽の内部と外部との圧力差を検出
し、その検出結果に基いて処理槽への清浄空気の供給量
を制御するようにした。

【００３５】そのため、基板を処理槽で処理するに際
し、処理槽の内部と外部との圧力差を所定の範囲内に維
持することができるから、処理槽内に外気が流入して基
板が汚染されたり、処理槽内の雰囲気が外部に漏れ出る
などのことを確実に防止することができる。

【００３６】とくに、請求項２の発明によれば、処理槽
の内部と外部との圧力差がほぼ０になるよう制御される
ため、処理槽への外気の流入や内部雰囲気が外部へ漏れ
出るのを確実に防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施形態を示す全体の構成
図。

【符号の説明】

１…処理槽 ２…基板 ３…スピン装置 １１…フィルタユニット １２…送風機部 １４…排気管 １６…差圧検出器 １７…制御装置

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を回転させて処理する処理装置にお
   いて、 上記基板を保持して回転駆動するためのスピン装置と、 このスピン装置が収容された処理槽と、 この処理槽に設けられ処理槽内に清浄空気を供給するフ
   ィルタユニットと、 上記処理槽内の空気を排出する排気手段と、 上記処理槽の内部と外部との圧力差を検出する検出手段
   と、 この検出手段の検出結果に基いて上記フィルタユニット
   による上記処理槽への清浄空気の供給量を制御する制御
   手段とを具備したことを特徴とする基板の処理装置。
2. 【請求項２】 上記制御手段は、上記処理槽の内部と外
   部との圧力差がほぼ０になるよう上記フィルタユニット
   による清浄空気の供給量を制御することを特徴とする請
   求項１記載の基板の処理装置。