JPH11118466A - 形状測定方法およびその装置 - Google Patents
形状測定方法およびその装置Info
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- JPH11118466A JPH11118466A JP9285617A JP28561797A JPH11118466A JP H11118466 A JPH11118466 A JP H11118466A JP 9285617 A JP9285617 A JP 9285617A JP 28561797 A JP28561797 A JP 28561797A JP H11118466 A JPH11118466 A JP H11118466A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 非球面や自由曲面についても、ホコリなどの
異物の影響を受けることなく、常に正しい表面形状測定
を行うことができる形状測定方法およびその装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め（ステップＳ１）、Ｚ座標データの列
を構成する各Ｚ座標データのうち、その前後付近の平均
値Ｚ’からの超過分Ｚｄが所定のしきい値をこえるＺ座
標データを削除し、または、他のＺ座標データに置き換
え（ステップＳ２〜Ｓ４）、この置き換え後のＺ座標デ
ータの列に基づいて測定面の形状測定を行うことにより
（ステップＳ５）、常に正しい表面形状測定を行うこと
ができる。
異物の影響を受けることなく、常に正しい表面形状測定
を行うことができる形状測定方法およびその装置を提供
することを目的とする。 【解決手段】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め（ステップＳ１）、Ｚ座標データの列
を構成する各Ｚ座標データのうち、その前後付近の平均
値Ｚ’からの超過分Ｚｄが所定のしきい値をこえるＺ座
標データを削除し、または、他のＺ座標データに置き換
え（ステップＳ２〜Ｓ４）、この置き換え後のＺ座標デ
ータの列に基づいて測定面の形状測定を行うことにより
（ステップＳ５）、常に正しい表面形状測定を行うこと
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、測定面上でプロー
ブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブのＸ
Ｙ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標デ
ータの列に基づいて測定面の形状測定を行う方法および
その装置に関するものであり、特に非球面レンズなどの
曲面形状の測定に好適である。
ブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブのＸ
Ｙ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標デ
ータの列に基づいて測定面の形状測定を行う方法および
その装置に関するものであり、特に非球面レンズなどの
曲面形状の測定に好適である。
【０００２】
【従来の技術】本発明者らが先に開発した超高精度三次
元測定機は、測定面上を５０ｍｇ以下の弱い測定圧のプ
ローブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブ
のＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、測定面の
形状が設計式からどれだけずれているかを、このＺ座標
データの列から直接的に測定するものである。具体的に
は、測定対象であるレンズやミラーの表面形状は、一般
式でＺ＝ｆ（Ｘ，Ｙ）という形の設計式で表され、測定
点のＸＹ座標におけるＺ測定値からこの設計式の値を差
し引いて誤差を算出していた。
元測定機は、測定面上を５０ｍｇ以下の弱い測定圧のプ
ローブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブ
のＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、測定面の
形状が設計式からどれだけずれているかを、このＺ座標
データの列から直接的に測定するものである。具体的に
は、測定対象であるレンズやミラーの表面形状は、一般
式でＺ＝ｆ（Ｘ，Ｙ）という形の設計式で表され、測定
点のＸＹ座標におけるＺ測定値からこの設計式の値を差
し引いて誤差を算出していた。
【０００３】ここで、測定圧を５０ｍｇ以下としたの
は、１０ｎｍ程度の高精度測定が必要であり、測定面に
傷をつけてはいけないからである。
は、１０ｎｍ程度の高精度測定が必要であり、測定面に
傷をつけてはいけないからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成では、
測定圧が小さいため、測定面についた軽いホコリでさえ
も測定してしまう。レンズやミラーに多少のホコリがつ
いても、通常、光学性能はあまり問題にならないが、形
状測定をするときには、レンズやミラーの表面にホコリ
などの異物が少しついただけでも、測定データはそれを
拾って、上向きに大きく飛んだデータとなり、測定デー
タを評価する際に大問題となる。
測定圧が小さいため、測定面についた軽いホコリでさえ
も測定してしまう。レンズやミラーに多少のホコリがつ
いても、通常、光学性能はあまり問題にならないが、形
状測定をするときには、レンズやミラーの表面にホコリ
などの異物が少しついただけでも、測定データはそれを
拾って、上向きに大きく飛んだデータとなり、測定デー
タを評価する際に大問題となる。
【０００５】すなわち、レンズやミラー面の表面粗さ
は、普通、数ｎｍのオーダであるのに対し、ホコリの大
きさは、普通、数μｍであり、表面粗さの千倍も大きい
ので、ホコリを拾ってしまうと、測定データが大きく乱
れ、その評価ができなくなる。
は、普通、数ｎｍのオーダであるのに対し、ホコリの大
きさは、普通、数μｍであり、表面粗さの千倍も大きい
ので、ホコリを拾ってしまうと、測定データが大きく乱
れ、その評価ができなくなる。
【０００６】このような場合でも、平面ミラーの形状測
定では、各ＸＹ座標位置での測定データであるＺ座標デ
ータはほぼ同じ値であり、なんらデータ処理を行わなく
てもホコリのデータのみが上に飛び出しているから、こ
れを容易に除去できる。また、従来から多く使用されて
いる球面レンズでは、干渉計により参照球面との干渉縞
から形状を測定できる。ただし、干渉縞を受ける撮像素
子の隣り合うピクセルの測定値の差は光の波長レベル以
下でないと測定できないため、ホコリの位置は測定不能
である。
定では、各ＸＹ座標位置での測定データであるＺ座標デ
ータはほぼ同じ値であり、なんらデータ処理を行わなく
てもホコリのデータのみが上に飛び出しているから、こ
れを容易に除去できる。また、従来から多く使用されて
いる球面レンズでは、干渉計により参照球面との干渉縞
から形状を測定できる。ただし、干渉縞を受ける撮像素
子の隣り合うピクセルの測定値の差は光の波長レベル以
下でないと測定できないため、ホコリの位置は測定不能
である。
【０００７】上記２つの例では、隣り合う測定点間のＸ
Ｙ座標上の距離が、たとえば１ｍｍのときでも、Ｚ座標
データの値の差は０．１μｍ程度になるのが普通である
ので、１μｍの高さのホコリのデータを判別するのは容
易であった。
Ｙ座標上の距離が、たとえば１ｍｍのときでも、Ｚ座標
データの値の差は０．１μｍ程度になるのが普通である
ので、１μｍの高さのホコリのデータを判別するのは容
易であった。
【０００８】しかし、非球面や自由曲面を有するレンズ
の形状測定では、参照波面が実質的には作れないので、
測定面上の点列のＸＹＺ座標を測定していくしか方法は
ない。ところが、非球面や自由曲面を有するレンズ面の
傾斜角度は６０度程度のものまであるので、隣り合う測
定点間のＸＹ座標の距離がたとえば１ｍｍであるとする
と、Ｚ座標データの値の差も１ｍｍ前後もある。このた
め、互いに１ｍｍも離れた測定点間のＺ座標データの値
の差がホコリによって１μｍだけずれていてもこれを判
別することは容易ではなかった。
の形状測定では、参照波面が実質的には作れないので、
測定面上の点列のＸＹＺ座標を測定していくしか方法は
ない。ところが、非球面や自由曲面を有するレンズ面の
傾斜角度は６０度程度のものまであるので、隣り合う測
定点間のＸＹ座標の距離がたとえば１ｍｍであるとする
と、Ｚ座標データの値の差も１ｍｍ前後もある。このた
め、互いに１ｍｍも離れた測定点間のＺ座標データの値
の差がホコリによって１μｍだけずれていてもこれを判
別することは容易ではなかった。
【０００９】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その主たる目的は、非球面や自由曲面を有する
測定物の形状測定においても、ホコリなどの異物の影響
を受けることなく、常に正しい表面形状測定を行うこと
ができる形状測定方法およびその装置を提供することで
ある。
であり、その主たる目的は、非球面や自由曲面を有する
測定物の形状測定においても、ホコリなどの異物の影響
を受けることなく、常に正しい表面形状測定を行うこと
ができる形状測定方法およびその装置を提供することで
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願第１、第５の発明は、測定面上でプローブをＸ
Ｙ座標方向に走査することにより、プローブのＸＹ座標
位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標データの
列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ座標デー
タの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その前後付近
の平均値からの超過分が所定のしきい値をこえるＺ座標
データを削除し、または、他のＺ座標データに置き換え
ることを特徴とするものである。
に、本願第１、第５の発明は、測定面上でプローブをＸ
Ｙ座標方向に走査することにより、プローブのＸＹ座標
位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標データの
列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ座標デー
タの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その前後付近
の平均値からの超過分が所定のしきい値をこえるＺ座標
データを削除し、または、他のＺ座標データに置き換え
ることを特徴とするものである。
【００１１】このような構成では、まずＺ座標データの
列を構成する各Ｚ座標データの前後付近の平均値からの
超過分が求められることにより、非球面や自由曲面のう
ねったＺ座標データが十分小さい値とされ、ホコリなど
の異物のデータのみが小さくされないような処理がなさ
れる。ついで各Ｚ座標データのうち、この平均値からの
超過分がしきい値をこえるＺ座標データが削除され、ま
たは、他のＺ座標データに置き換えられることにより、
ホコリなどの異物の飛び出したデータが確実に除去され
る。したがって、従来測定が困難であった非球面や自由
曲面についても、ホコリなどの異物の影響を受けること
なく、常に正しい表面形状測定を行うことができる。
列を構成する各Ｚ座標データの前後付近の平均値からの
超過分が求められることにより、非球面や自由曲面のう
ねったＺ座標データが十分小さい値とされ、ホコリなど
の異物のデータのみが小さくされないような処理がなさ
れる。ついで各Ｚ座標データのうち、この平均値からの
超過分がしきい値をこえるＺ座標データが削除され、ま
たは、他のＺ座標データに置き換えられることにより、
ホコリなどの異物の飛び出したデータが確実に除去され
る。したがって、従来測定が困難であった非球面や自由
曲面についても、ホコリなどの異物の影響を受けること
なく、常に正しい表面形状測定を行うことができる。
【００１２】本願第２、第６の発明は、測定面上でプロ
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その
設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値をこ
えるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データ
に置き換えることを特徴とするものである。
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その
設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値をこ
えるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データ
に置き換えることを特徴とするものである。
【００１３】このような構成では、各Ｚ座標データの設
計値または推定値が予めわかっている場合に、上記第１
の発明における平均値の代わりに、この設計値または推
定値を用いるものであり、上記第１、第５の発明と同様
の作用効果を奏する。
計値または推定値が予めわかっている場合に、上記第１
の発明における平均値の代わりに、この設計値または推
定値を用いるものであり、上記第１、第５の発明と同様
の作用効果を奏する。
【００１４】本願第３、第７の発明は、測定面上でプロ
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値また
は推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよ
うに前記Ｚ座標データの列を座標変換することを特徴と
するものである。
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値また
は推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよ
うに前記Ｚ座標データの列を座標変換することを特徴と
するものである。
【００１５】このような構成では、Ｚ座標データの列を
構成する各Ｚ座標データの設計値または推定値からの超
過分の二乗平均値がより小さくなるように前記Ｚ座標デ
ータの列が座標変換されることにより、この列の各座標
軸が設計値または推定値の各座標軸とほぼ一致するよう
になるため、測定面の傾きやズレが補正される。
構成する各Ｚ座標データの設計値または推定値からの超
過分の二乗平均値がより小さくなるように前記Ｚ座標デ
ータの列が座標変換されることにより、この列の各座標
軸が設計値または推定値の各座標軸とほぼ一致するよう
になるため、測定面の傾きやズレが補正される。
【００１６】本願第４、第８の発明は、測定面上でプロ
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値また
は推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよ
うに前記Ｚ座標データの列を座標変換し、座標変換後の
Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値を
こえるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標デー
タに置き換えることを特徴とするものである。
ーブをＸＹ座標方向に走査することにより、プローブの
ＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、このＺ座標
データの列に基づいて測定面の形状測定を行う際に、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値また
は推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよ
うに前記Ｚ座標データの列を座標変換し、座標変換後の
Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値を
こえるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標デー
タに置き換えることを特徴とするものである。
【００１７】このような構成では、まずＺ座標データの
列を構成する各Ｚ座標データの設計値または推定値から
の超過分の二乗平均値がより小さくなるように前記Ｚ座
標データの列が座標変換されることにより、この列の各
座標軸が設計値または推定値の各座標軸とほぼ一致する
ようになるため、測定面の傾きやズレが補正される。
列を構成する各Ｚ座標データの設計値または推定値から
の超過分の二乗平均値がより小さくなるように前記Ｚ座
標データの列が座標変換されることにより、この列の各
座標軸が設計値または推定値の各座標軸とほぼ一致する
ようになるため、測定面の傾きやズレが補正される。
【００１８】ついで座標変換後のＺ座標データの列を構
成する各Ｚ座標データの設計値または推定値からの超過
分が求められることにより、非球面や自由曲面のうねっ
たＺ座標データがさらに小さい値とされ、ホコリなどの
異物のデータのみが小さくされないような処理がなされ
る。そして座標変換後のＺ座標データの列を構成する各
Ｚ座標データのうち、その設計値または推定値からの超
過分がしきい値をこえるＺ座標データが削除され、また
は、他のＺ座標データに置き換えられることにより、ホ
コリなどの異物の飛び出したデータがより確実に除去さ
れる。したがって、従来測定が困難であった非球面や自
由曲面についても、ホコリなどの異物の影響を受けるこ
となく、常に正しい表面形状測定を行うことができる。
成する各Ｚ座標データの設計値または推定値からの超過
分が求められることにより、非球面や自由曲面のうねっ
たＺ座標データがさらに小さい値とされ、ホコリなどの
異物のデータのみが小さくされないような処理がなされ
る。そして座標変換後のＺ座標データの列を構成する各
Ｚ座標データのうち、その設計値または推定値からの超
過分がしきい値をこえるＺ座標データが削除され、また
は、他のＺ座標データに置き換えられることにより、ホ
コリなどの異物の飛び出したデータがより確実に除去さ
れる。したがって、従来測定が困難であった非球面や自
由曲面についても、ホコリなどの異物の影響を受けるこ
となく、常に正しい表面形状測定を行うことができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、添付の図を参照して本発明
のいくつかの実施の形態について説明し、本発明の理解
に供する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具現化
した例であって、本発明の技術的範囲を限定する性格の
ものではない。
のいくつかの実施の形態について説明し、本発明の理解
に供する。なお、以下の実施の形態は、本発明を具現化
した例であって、本発明の技術的範囲を限定する性格の
ものではない。
【００２０】（実施の形態１）本実施の形態１は図１、
図４および図５に示しており、図３に示すような形状測
定機に適用できる。
図４および図５に示しており、図３に示すような形状測
定機に適用できる。
【００２１】本実施の形態１にかかる形状測定方法（以
下、「方法１」という。）は、図１に示すように、測定
面上でプローブをＸＹ座標方向に走査することにより、
プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、
このＺ座標データの列に基づいて測定面の形状測定を行
う点は従来例と同様である。しかし、本方法１では、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その
前後付近の平均値からの超過分が所定のしきい値をこえ
るＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データに
置き換える点で従来例と異なる。
下、「方法１」という。）は、図１に示すように、測定
面上でプローブをＸＹ座標方向に走査することにより、
プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標データの列を求め、
このＺ座標データの列に基づいて測定面の形状測定を行
う点は従来例と同様である。しかし、本方法１では、Ｚ
座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その
前後付近の平均値からの超過分が所定のしきい値をこえ
るＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データに
置き換える点で従来例と異なる。
【００２２】本方法１は、図３に示すような形状測定機
により具体化される。図３において、レーザ測長光学系
１およびプローブ２を搭載した移動体３はＸＹステージ
４、５によりＸＹ座標方向に移動し、プローブ２は定盤
６上に固定した測定物７の測定面７ａに沿ってＺ座標方
向に移動するようになっている。レーザ測長光学系１
は、周知の光干渉法などによりプローブ２のＺ座標方向
の移動量を測定するものである。
により具体化される。図３において、レーザ測長光学系
１およびプローブ２を搭載した移動体３はＸＹステージ
４、５によりＸＹ座標方向に移動し、プローブ２は定盤
６上に固定した測定物７の測定面７ａに沿ってＺ座標方
向に移動するようになっている。レーザ測長光学系１
は、周知の光干渉法などによりプローブ２のＺ座標方向
の移動量を測定するものである。
【００２３】以下、この形状測定機の動作を、図１およ
び図３などを参照しつつ説明する。
び図３などを参照しつつ説明する。
【００２４】図１および図３において、まず測定面７ａ
上の測定点のＸＹＺ座標位置をレーザ測長により計測す
る（ステップＳ１）。図４は非球面レンズ上をプローブ
２を走査して得た測定データのＸＹＺ点列をつないでプ
ロットした例を示す。同図中、Ｚ軸は１目盛りが０．２
ｍｍと大きいので、滑らかに見え、異物のデータはこの
ままでは検出できない。このデータ列を、列Ａ
｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2，Ｙ2 ，Ｚ2 ），…
…，（ＸN ，ＹN ，ＺN ）｝と記述する。このデータ列
は、たとえば｛（Ｘ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2 ，Ｚ2 ），…
…，（ＸN ，ＺN ）｝のように二次元のものであっても
よい。
上の測定点のＸＹＺ座標位置をレーザ測長により計測す
る（ステップＳ１）。図４は非球面レンズ上をプローブ
２を走査して得た測定データのＸＹＺ点列をつないでプ
ロットした例を示す。同図中、Ｚ軸は１目盛りが０．２
ｍｍと大きいので、滑らかに見え、異物のデータはこの
ままでは検出できない。このデータ列を、列Ａ
｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2，Ｙ2 ，Ｚ2 ），…
…，（ＸN ，ＹN ，ＺN ）｝と記述する。このデータ列
は、たとえば｛（Ｘ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2 ，Ｚ2 ），…
…，（ＸN ，ＺN ）｝のように二次元のものであっても
よい。
【００２５】測定データであるＺ座標データＺK を、そ
の前後を含めた５点のＺ座標データの値の平均値ＺK ’
＝（ＺK-2 ＋ＺK-1 ＋ＺK ＋ＺK+1 ＋ＺK+2 ）／５に置
き換えた列Ｂ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ’），（Ｘ2 ，
Ｙ2 ，Ｚ2 ’），……，（ＸN ，ＹN ，ＺN ’）｝を算
出する（ステップＳ２）。この平均値はＺ座標データの
前後を含めた７点、９点など何点のものでもかまわない
し、あるいは、ガウス分布曲線などで重み付けした平均
値としてもよい。
の前後を含めた５点のＺ座標データの値の平均値ＺK ’
＝（ＺK-2 ＋ＺK-1 ＋ＺK ＋ＺK+1 ＋ＺK+2 ）／５に置
き換えた列Ｂ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ’），（Ｘ2 ，
Ｙ2 ，Ｚ2 ’），……，（ＸN ，ＹN ，ＺN ’）｝を算
出する（ステップＳ２）。この平均値はＺ座標データの
前後を含めた７点、９点など何点のものでもかまわない
し、あるいは、ガウス分布曲線などで重み付けした平均
値としてもよい。
【００２６】列Ａから列Ｂの同じＸＹ座標位置における
Ｚ座標データの値を減算した列Ｃ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1
−Ｚ1 ’），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 −Ｚ2 ’），……，
（ＸN，ＹN ，ＺN −ＺN ’）｝を算出する（ステップ
Ｓ３）。列Ｃをプロットしたものが図５である。同図中
の表示は、Ｚ軸が１目盛り１μｍと拡大されている。ま
たＺd ＝ＺK −ＺK ’である。これより異物のデータの
みが飛び出していることがわかる。
Ｚ座標データの値を減算した列Ｃ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1
−Ｚ1 ’），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 −Ｚ2 ’），……，
（ＸN，ＹN ，ＺN −ＺN ’）｝を算出する（ステップ
Ｓ３）。列Ｃをプロットしたものが図５である。同図中
の表示は、Ｚ軸が１目盛り１μｍと拡大されている。ま
たＺd ＝ＺK −ＺK ’である。これより異物のデータの
みが飛び出していることがわかる。
【００２７】図６は、同じデータをＹ軸方向から見たも
のである。同図中の破線で示すように、スライスレベル
を決め、Ｚd が一定値（所定のしきい値に相当）以上の
値を異物のデータとしてＺ座標データから削除し、また
は、前後の点を結んで直線補間などした点に置き換える
（ステップＳ４）。これにより、異物の影響のないＺ座
標データを得ることができる。これらの一連の処理後の
Ｚ座標データに基づいて測定面７ａの形状を測定する
（ステップＳ５）。
のである。同図中の破線で示すように、スライスレベル
を決め、Ｚd が一定値（所定のしきい値に相当）以上の
値を異物のデータとしてＺ座標データから削除し、また
は、前後の点を結んで直線補間などした点に置き換える
（ステップＳ４）。これにより、異物の影響のないＺ座
標データを得ることができる。これらの一連の処理後の
Ｚ座標データに基づいて測定面７ａの形状を測定する
（ステップＳ５）。
【００２８】なお、上記各ステップＳ１〜Ｓ５を実行す
る各手段は、たとえば上記形状測定機に搭載された制御
用コンピュータ（不図示）のメモリに構築された実行形
式のプログラムにより具体化される。
る各手段は、たとえば上記形状測定機に搭載された制御
用コンピュータ（不図示）のメモリに構築された実行形
式のプログラムにより具体化される。
【００２９】本方法１は、測定物７の設計式を知らなく
ても使用できるし、非常に小さい異物データまで一括し
て判別し除去できるという利点がある。この場合、平均
値処理により異物の前後のＺ座標データも影響され、こ
れら異物の前後の点が、図５および図６から見てもわか
るように下向きに飛び出すので、下向きに出る異常値、
たとえば測定面７ａに傷やへこみがあるときの判別がで
きず、このため同時にマイナス側に設定したスライスレ
ベルで下向きに出る異常値を除去するといったことはで
きない。しかし、ホコリや異物があっても不良品ではな
いが、傷やへこみがあるのは不良品であるので、これま
で除去する必要はないので、本方法１で特に問題はな
い。
ても使用できるし、非常に小さい異物データまで一括し
て判別し除去できるという利点がある。この場合、平均
値処理により異物の前後のＺ座標データも影響され、こ
れら異物の前後の点が、図５および図６から見てもわか
るように下向きに飛び出すので、下向きに出る異常値、
たとえば測定面７ａに傷やへこみがあるときの判別がで
きず、このため同時にマイナス側に設定したスライスレ
ベルで下向きに出る異常値を除去するといったことはで
きない。しかし、ホコリや異物があっても不良品ではな
いが、傷やへこみがあるのは不良品であるので、これま
で除去する必要はないので、本方法１で特に問題はな
い。
【００３０】（実施の形態２）本実施の形態２は図７お
よび図８に示しており、上記実施の形態１と同様に図３
に示すような形状測定機に適用できる。
よび図８に示しており、上記実施の形態１と同様に図３
に示すような形状測定機に適用できる。
【００３１】上記実施の形態１において、図３の測定面
７ａの形状が、Ｚ＝ｆ（Ｘ，Ｙ）という形の設計値また
は設計値に近いと推定される場合、つまり、この形状を
狙って測定物７が製作されている場合には測定データで
あるＺ座標データの値からこの設計値または推定値を差
し引いて誤差を算出することができる。図７に、前記図
４と同じＺ座標データの値から設計値を差し引いたもの
をプロットした。同図中の表示は、Ｚ軸が１目盛り１μ
ｍと拡大されており、Ｚd はＺ座標データの値から設計
値を差し引いたものである。
７ａの形状が、Ｚ＝ｆ（Ｘ，Ｙ）という形の設計値また
は設計値に近いと推定される場合、つまり、この形状を
狙って測定物７が製作されている場合には測定データで
あるＺ座標データの値からこの設計値または推定値を差
し引いて誤差を算出することができる。図７に、前記図
４と同じＺ座標データの値から設計値を差し引いたもの
をプロットした。同図中の表示は、Ｚ軸が１目盛り１μ
ｍと拡大されており、Ｚd はＺ座標データの値から設計
値を差し引いたものである。
【００３２】図８は、同じデータをＹ軸方向から見たも
のである。同図中の破線で示すようにスライスレベルを
決め、Ｚd が一定値（所定のしきい値に相当）以上の値
を異物のデータとしてＺ座標データから削除し、また
は、前後の点を結んで直線補間などした点に置き換える
ことにより、異物の影響の少ないＺ座標データを得るこ
とができる。なお、この場合には、上記実施の形態１の
ような平均値処理を行わないので、一連の処理後の異物
の前後の点でＺ座標データが下向きに飛び出すことがな
い。
のである。同図中の破線で示すようにスライスレベルを
決め、Ｚd が一定値（所定のしきい値に相当）以上の値
を異物のデータとしてＺ座標データから削除し、また
は、前後の点を結んで直線補間などした点に置き換える
ことにより、異物の影響の少ないＺ座標データを得るこ
とができる。なお、この場合には、上記実施の形態１の
ような平均値処理を行わないので、一連の処理後の異物
の前後の点でＺ座標データが下向きに飛び出すことがな
い。
【００３３】（実施の形態３）本実施の形態３は図９〜
図１２に示しており、上記実施の形態１、２と同様に図
３に示すような形状測定機に適用できる。
図１２に示しており、上記実施の形態１、２と同様に図
３に示すような形状測定機に適用できる。
【００３４】上記実施の形態２における図７や図８で
は、Ｚd のラインがゼロからかなりずれており、このま
までは小さい異物データの除去が困難である。これは、
図３の測定物７が形状測定機に対し、傾いて置かれてい
るためである。そこで、本実施の形態３では以下のよう
にして解決することとした。
は、Ｚd のラインがゼロからかなりずれており、このま
までは小さい異物データの除去が困難である。これは、
図３の測定物７が形状測定機に対し、傾いて置かれてい
るためである。そこで、本実施の形態３では以下のよう
にして解決することとした。
【００３５】本実施の形態３にかかる形状測定方法（以
下、「方法２」という。）は、図２に示すように、Ｚ座
標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値または
推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよう
にＺ座標データの列を座標変換し、座標変換後のＺ座標
データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その設計
値または推定値からの超過分が所定のしきい値をこえる
Ｚ座標データを削除し、または、他のＺ座標データに置
き換える点で上記実施の形態２と異なり、その他の点で
は上記実施の形態２と同様である。
下、「方法２」という。）は、図２に示すように、Ｚ座
標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値または
推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなるよう
にＺ座標データの列を座標変換し、座標変換後のＺ座標
データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、その設計
値または推定値からの超過分が所定のしきい値をこえる
Ｚ座標データを削除し、または、他のＺ座標データに置
き換える点で上記実施の形態２と異なり、その他の点で
は上記実施の形態２と同様である。
【００３６】本方法２についても、上記実施の形態１、
２と同様の形状測定機により具体化されるが、その基本
的な構成は、上記実施の形態１、２で説明した通りであ
るので、その詳細説明は割愛する。
２と同様の形状測定機により具体化されるが、その基本
的な構成は、上記実施の形態１、２で説明した通りであ
るので、その詳細説明は割愛する。
【００３７】以下、この形状測定機の動作を、図２およ
び図３などを参照しつつ説明する。
び図３などを参照しつつ説明する。
【００３８】図２および図３において、まず測定面７ａ
上の測定点のＸＹＺ座標位置をレーザ測長により計測す
る（ステップＳ１１）。この計測により得られた三次元
のデータ列を、列Ａ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2 ，
Ｙ2 ，Ｚ2 ），……，（ＸN ，ＹN ，ＺN ）｝と記述す
る。このデータ列は、たとえば｛（Ｘ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ
2 ，Ｚ2 ），……，（ＸN ，ＺN ）｝のように二次元の
ものであってもよい。
上の測定点のＸＹＺ座標位置をレーザ測長により計測す
る（ステップＳ１１）。この計測により得られた三次元
のデータ列を、列Ａ｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ2 ，
Ｙ2 ，Ｚ2 ），……，（ＸN ，ＹN ，ＺN ）｝と記述す
る。このデータ列は、たとえば｛（Ｘ1 ，Ｚ1 ），（Ｘ
2 ，Ｚ2 ），……，（ＸN ，ＺN ）｝のように二次元の
ものであってもよい。
【００３９】測定データであるＺ座標データＺK を、そ
の設計値ＺK ”に置き換えた列Ｂ’｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ
1 ”），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 ”），……，（ＸN ，
ＹN ，ＺN ”）｝を算出する（ステップＳ１２）。この
設計値は推定値でもかまわない。
の設計値ＺK ”に置き換えた列Ｂ’｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，Ｚ
1 ”），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 ”），……，（ＸN ，
ＹN ，ＺN ”）｝を算出する（ステップＳ１２）。この
設計値は推定値でもかまわない。
【００４０】列Ａから列Ｂ’の同じＸＹ座標位置におけ
るＺ座標データの値を減算した列Ｃ’｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，
Ｚ1 −Ｚ1 ”），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 −Ｚ2 ”），…
…，（ＸN ，ＹN ，ＺN −ＺN ”）｝を算出する（ステ
ップＳ１３）。またＺd ’はＺ座標データの値から設計
値Ｚ”を差し引いたものである。
るＺ座標データの値を減算した列Ｃ’｛（Ｘ1 ，Ｙ1 ，
Ｚ1 −Ｚ1 ”），（Ｘ2 ，Ｙ2 ，Ｚ2 −Ｚ2 ”），…
…，（ＸN ，ＹN ，ＺN −ＺN ”）｝を算出する（ステ
ップＳ１３）。またＺd ’はＺ座標データの値から設計
値Ｚ”を差し引いたものである。
【００４１】ここまでは、上記方法１の場合と同様であ
る。しかし本方法２では、引き続き以下のような特有の
処理を行う。すなわち次式で示すような、二乗平均値Ｒ
ＭＳ（Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅ）を算出し
（ステップＳ１４）、このＲＭＳがより小さくなるよう
に列Ａを平行移動および回転方向に座標変換する（ステ
ップＳ１５）。
る。しかし本方法２では、引き続き以下のような特有の
処理を行う。すなわち次式で示すような、二乗平均値Ｒ
ＭＳ（Ｒｏｏｔ Ｍｅａｎ Ｓｑｕａｒｅ）を算出し
（ステップＳ１４）、このＲＭＳがより小さくなるよう
に列Ａを平行移動および回転方向に座標変換する（ステ
ップＳ１５）。
【００４２】
【数１】
【００４３】これにより、列Ａの各座標軸が設計値の各
座標軸とほぼ一致するようになるため、測定面７ａの傾
きやずれを補正し、正しいＺ座標データを得ることがで
きる。図９および図１０は、同じ列Ａについて、ＸＹＺ
方向の平行移動とＸＹ軸を中心に回転する方向に、上記
（１）式で示されるＲＭＳが最小になるまで上記ステッ
プＳ１３〜Ｓ１５を繰り返したものである。同図中、Ｚ
d ’のラインはゼロに近く、異物データを除去するスラ
イスレベルを小さくすることができる。ただし、図１０
に示すように、１つのスライスレベルで一括して異物デ
ータを除去しなければならないこともない。測定データ
の一部を拡大して、細かな異物データを除去することも
可能である。
座標軸とほぼ一致するようになるため、測定面７ａの傾
きやずれを補正し、正しいＺ座標データを得ることがで
きる。図９および図１０は、同じ列Ａについて、ＸＹＺ
方向の平行移動とＸＹ軸を中心に回転する方向に、上記
（１）式で示されるＲＭＳが最小になるまで上記ステッ
プＳ１３〜Ｓ１５を繰り返したものである。同図中、Ｚ
d ’のラインはゼロに近く、異物データを除去するスラ
イスレベルを小さくすることができる。ただし、図１０
に示すように、１つのスライスレベルで一括して異物デ
ータを除去しなければならないこともない。測定データ
の一部を拡大して、細かな異物データを除去することも
可能である。
【００４４】以上のようにして、上記（１）式で示され
るＲＭＳがより小さくなるように、図１１に示すような
方向の座標軸ＸＹＺαβγのうちのたとえば５軸ＸＹＺ
αβの座標変換（アライメント）をした後、スライスレ
ベルを決め、Ｚd ’が一定値（所定のしきい値に相当）
以上の値を異物データあるとしてこれを除去し、また
は、前後の点から直線補間などしたデータに置き換える
（ステップＳ１６）。その結果を図１２に示す。図１２
において、Ｆｒｅｅとあるのは座標変換で動かした軸、
Ｌｏｃｋとあるのは動かさない軸を意味し、たとえばＸ
＝−４４．７１８４（μｍ）とあるのは測定値をこれだ
け座標変換で動かしたことを意味する。
るＲＭＳがより小さくなるように、図１１に示すような
方向の座標軸ＸＹＺαβγのうちのたとえば５軸ＸＹＺ
αβの座標変換（アライメント）をした後、スライスレ
ベルを決め、Ｚd ’が一定値（所定のしきい値に相当）
以上の値を異物データあるとしてこれを除去し、また
は、前後の点から直線補間などしたデータに置き換える
（ステップＳ１６）。その結果を図１２に示す。図１２
において、Ｆｒｅｅとあるのは座標変換で動かした軸、
Ｌｏｃｋとあるのは動かさない軸を意味し、たとえばＸ
＝−４４．７１８４（μｍ）とあるのは測定値をこれだ
け座標変換で動かしたことを意味する。
【００４５】図１２はＺ軸が０．１μｍ／目盛りで、同
図が示すのは異物データの無い滑らかな非球面レンズ形
状であることがわかる。これが最終の測定結果であり、
これにより測定面７ａの形状を０．１μｍ〜０．０１μ
ｍもの超高精度で測定できる（ステップＳ１７）。
図が示すのは異物データの無い滑らかな非球面レンズ形
状であることがわかる。これが最終の測定結果であり、
これにより測定面７ａの形状を０．１μｍ〜０．０１μ
ｍもの超高精度で測定できる（ステップＳ１７）。
【００４６】なお、上記各ステップＳ１１〜Ｓ１７を実
行する各手段についても、上記実施の形態１、２と同様
に、たとえば上記形状測定機に搭載された制御用コンピ
ュータ（不図示）のメモリに構築された実行形式のプロ
グラムにより具体化される。
行する各手段についても、上記実施の形態１、２と同様
に、たとえば上記形状測定機に搭載された制御用コンピ
ュータ（不図示）のメモリに構築された実行形式のプロ
グラムにより具体化される。
【００４７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、非球面や自由曲面のうねった測定データが十
分小さい値とされ、ホコリなどの異物のデータのみが小
さくされないような処理がなされた後、しきい値処理が
施されることによりホコリなどの異物の飛び出したデー
タが確実に除去される。したがって、従来測定が困難で
あった非球面や自由曲面についても、ホコリなどの異物
の影響を受けることなく、常に正しい表面形状測定を行
うことができる。
によれば、非球面や自由曲面のうねった測定データが十
分小さい値とされ、ホコリなどの異物のデータのみが小
さくされないような処理がなされた後、しきい値処理が
施されることによりホコリなどの異物の飛び出したデー
タが確実に除去される。したがって、従来測定が困難で
あった非球面や自由曲面についても、ホコリなどの異物
の影響を受けることなく、常に正しい表面形状測定を行
うことができる。
【００４８】さらに座標変換処理により、測定面の傾き
やズレが補正されると、非球面や自由曲面のうねった測
定データがさらに小さい値とされ、ホコリなどの異物の
データのみが小さくされないような処理がなされた後、
しきい値処理が施されることにより、ホコリなどの異物
の飛び出したデータがより確実に除去される。したがっ
て、従来測定が困難であった非球面や自由曲面について
も、ホコリなどの異物の影響を受けることなく、常に正
しい表面形状測定を行うことができる。
やズレが補正されると、非球面や自由曲面のうねった測
定データがさらに小さい値とされ、ホコリなどの異物の
データのみが小さくされないような処理がなされた後、
しきい値処理が施されることにより、ホコリなどの異物
の飛び出したデータがより確実に除去される。したがっ
て、従来測定が困難であった非球面や自由曲面について
も、ホコリなどの異物の影響を受けることなく、常に正
しい表面形状測定を行うことができる。
【図１】本発明の実施の形態１にかかる形状測定方法の
概略構成を示すフロー図である。
概略構成を示すフロー図である。
【図２】本発明の実施の形態２にかかる形状測定方法の
概略構成を示すフロー図である。
概略構成を示すフロー図である。
【図３】実施の形態１〜３にかかる形状測定機の概略構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図４】実施の形態１で測定データをそのままプロット
したものを示す説明図である。
したものを示す説明図である。
【図５】実施の形態１で測定データを処理してプロット
したものを示す説明図である。
したものを示す説明図である。
【図６】実施の形態１で測定データを処理してプロット
し、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図である。
し、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図である。
【図７】実施の形態２で測定データを処理してプロット
したものを示す説明図である。
したものを示す説明図である。
【図８】実施の形態２で測定データを処理してプロット
し、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図である。
し、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図である。
【図９】実施の形態３で測定データを処理してプロット
したものを示す説明図である。
したものを示す説明図である。
【図１０】実施の形態３で測定データを処理してプロッ
トし、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図であ
る。
トし、それをＹ軸方向から見たものを示す説明図であ
る。
【図１１】実施の形態３で座標変換するときの各座標軸
の方向を示す説明図である。
の方向を示す説明図である。
【図１２】実施の形態３での最終の測定結果を示す説明
図である。
図である。
１ レーザ測長光学系 ２ プローブ ３ 移動体 ４、５ ＸＹステージ ６ 定盤 ７ 測定物 ７ａ 測定面
フロントページの続き (72)発明者 半田 宏治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め、このＺ座標データの列に基づいて測
定面の形状測定を行う方法において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の前後付近の平均値からの超過分が所定のしきい値をこ
えるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データ
に置き換えることを特徴とする形状測定方法。 - 【請求項２】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め、このＺ座標データの列に基づいて測
定面の形状測定を行う方法において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値を
こえるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標デー
タに置き換えることを特徴とする形状測定方法。 - 【請求項３】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め、このＺ座標データの列に基づいて測
定面の形状測定を行う方法において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値ま
たは推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなる
ように前記Ｚ座標データの列を座標変換することを特徴
とする形状測定方法。 - 【請求項４】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求め、このＺ座標データの列に基づいて測
定面の形状測定を行う方法において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値ま
たは推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなる
ように前記Ｚ座標データの列を座標変換し、座標変換後
のＺ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、
その設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値
をこえるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標デ
ータに置き換えることを特徴とする形状測定方法。 - 【請求項５】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求める手段と、このＺ座標データの列に基
づいて測定面の形状測定を行う手段を具備した形状測定
装置において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の前後付近の平均値からの超過分が所定のしきい値をこ
えるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標データ
に置き換える手段を設けたことを特徴とする形状測定装
置。 - 【請求項６】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求める手段と、このＺ座標データの列に基
づいて測定面の形状測定を行う手段を具備した形状測定
装置において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データのうち、そ
の設計値または推定値からの超過分が所定のしきい値を
こえるＺ座標データを削除し、または、他のＺ座標デー
タに置き換える手段を設けたことを特徴とする形状測定
装置。 - 【請求項７】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求める手段と、このＺ座標データの列に基
づいて測定面の形状測定を行う手段を具備した形状測定
装置において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値ま
たは推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなる
ように前記Ｚ座標データの列を座標変換する手段を設け
たことを特徴とする形状測定装置。 - 【請求項８】 測定面上でプローブをＸＹ座標方向に走
査することにより、プローブのＸＹ座標位置でのＺ座標
データの列を求める手段と、このＺ座標データの列に基
づいて測定面の形状測定を行う手段を具備した形状測定
装置において、 Ｚ座標データの列を構成する各Ｚ座標データの設計値ま
たは推定値からの超過分の二乗平均値がより小さくなる
ように前記Ｚ座標データの列を座標変換する手段と、座
標変換後のＺ座標データの列を構成する各Ｚ座標データ
のうち、その設計値または推定値からの超過分が所定の
しきい値をこえるＺ座標データを削除し、または、他の
Ｚ座標データに置き換える手段を設けたことを特徴とす
る形状測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9285617A JPH11118466A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 形状測定方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9285617A JPH11118466A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 形状測定方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11118466A true JPH11118466A (ja) | 1999-04-30 |
| JPH11118466A5 JPH11118466A5 (ja) | 2005-01-06 |
Family
ID=17693854
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9285617A Pending JPH11118466A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 形状測定方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11118466A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002202115A (ja) * | 2000-11-09 | 2002-07-19 | Samsung Electronics Co Ltd | 測定装置の自動測定エラー検出方法 |
| CN113670235A (zh) * | 2021-04-23 | 2021-11-19 | 达运精密工业股份有限公司 | 基材平坦度的检测方法 |
| JP2022122428A (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-23 | 株式会社東京精密 | 測定データ分析装置、測定データ分析方法、プログラム及び三次元測定機 |
Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JPH02176508A (ja) * | 1988-09-16 | 1990-07-09 | Natl Exploit Ind De Tabacs & Allumettes:Soc | 実質的に円筒形状の物体の少なくとも一つの横方向寸法を測定するための装置 |
| JPH05164702A (ja) * | 1991-12-17 | 1993-06-29 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
| JPH06331633A (ja) * | 1993-05-27 | 1994-12-02 | Shimadzu Corp | 走査型表面分析装置 |
| JPH08285570A (ja) * | 1995-04-14 | 1996-11-01 | Nikon Corp | 形状パラメータ測定方法および装置 |
| JPH09189544A (ja) * | 1996-01-05 | 1997-07-22 | Canon Inc | 形状測定方法及びそれを用いた形状測定装置 |
-
1997
- 1997-10-17 JP JP9285617A patent/JPH11118466A/ja active Pending
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| CN113670235A (zh) * | 2021-04-23 | 2021-11-19 | 达运精密工业股份有限公司 | 基材平坦度的检测方法 |
| CN113670235B (zh) * | 2021-04-23 | 2023-06-20 | 达运精密工业股份有限公司 | 基材平坦度的检测方法 |
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