JPH11120528A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH11120528A JPH11120528A JP9276291A JP27629197A JPH11120528A JP H11120528 A JPH11120528 A JP H11120528A JP 9276291 A JP9276291 A JP 9276291A JP 27629197 A JP27629197 A JP 27629197A JP H11120528 A JPH11120528 A JP H11120528A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
- G11B21/16—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads
- G11B21/20—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier
- G11B21/21—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier with provision for maintaining desired spacing of head from record carrier, e.g. fluid-dynamic spacing, slider
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 吸着現象を生じにくい磁気ヘッドを提供す
る。 【解決手段】 スライダ１は、ＡＢＳ１３、１４を有す
る。ＡＢＳ１３、１４は、保護膜１７、１８と、スライ
ダ基体面１５、１６とで構成されている。保護膜１７、
１８は、スライダ基体面１５、１６に部分的に付着さ
れ、少なくとも、電磁変換素子２、３の端部を覆う。
る。 【解決手段】 スライダ１は、ＡＢＳ１３、１４を有す
る。ＡＢＳ１３、１４は、保護膜１７、１８と、スライ
ダ基体面１５、１６とで構成されている。保護膜１７、
１８は、スライダ基体面１５、１６に部分的に付着さ
れ、少なくとも、電磁変換素子２、３の端部を覆う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体の走行によって生じる動圧
を利用して、磁気記録媒体との間に微小な間隔を保って
浮上する磁気ヘッドは、例えば特公昭５８−２１３２９
号、特公昭５８−２８６５０号各公報等で公知である。
を利用して、磁気記録媒体との間に微小な間隔を保って
浮上する磁気ヘッドは、例えば特公昭５８−２１３２９
号、特公昭５８−２８６５０号各公報等で公知である。
【０００３】上述した磁気ヘッドは、磁気記録再生装置
において、ヘッド支持装置の先端部に装着され、スライ
ダの空気ベアリング面（以下ＡＢＳと称する）を磁気デ
ィスクの表面にバネ接触させ、この状態で起動停止を行
なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ方式に
よって駆動される。磁気ディスクが静止しているとき
は、バネ圧によりＡＢＳが磁気ディスクの面に押付けら
れているが、磁気ディスクが回転すると、スライダのＡ
ＢＳに揚力動圧が発生し、磁気ヘッドは磁気ディスクの
面から浮上する。
において、ヘッド支持装置の先端部に装着され、スライ
ダの空気ベアリング面（以下ＡＢＳと称する）を磁気デ
ィスクの表面にバネ接触させ、この状態で起動停止を行
なう、いわゆるコンタクト．スタート．ストップ方式に
よって駆動される。磁気ディスクが静止しているとき
は、バネ圧によりＡＢＳが磁気ディスクの面に押付けら
れているが、磁気ディスクが回転すると、スライダのＡ
ＢＳに揚力動圧が発生し、磁気ヘッドは磁気ディスクの
面から浮上する。
【０００４】この種の磁気記録再生装置においては、高
密度記録に対応するため、磁気ヘッドの浮上量はできる
だけ小さい値が望ましい。しかしながら、磁気ヘッドの
浮上量を低下させた場合、磁気ヘッドが磁気ディスクの
表面に衝突して、クラッシュ等の損傷を起こし易くな
る。
密度記録に対応するため、磁気ヘッドの浮上量はできる
だけ小さい値が望ましい。しかしながら、磁気ヘッドの
浮上量を低下させた場合、磁気ヘッドが磁気ディスクの
表面に衝突して、クラッシュ等の損傷を起こし易くな
る。
【０００５】クラッシュを防ぎ、耐久性を向上させる一
つの手段は、表面平滑性の高い磁気ディスクを用いるこ
とである。ところが、表面平滑性の高い磁気ディスクで
は、通常、磁気ディスク表面に潤滑剤が付与されるた
め、この潤滑剤が主要因になって、磁気ヘッドが磁気デ
ィスク表面に吸着するようになる。更に、潤滑剤による
吸着作用に対し、空気中に存在する湿分または水分等の
影響が加わって、磁気ヘッドが磁気ディスク表面に、ま
すます強く吸着するようになる。
つの手段は、表面平滑性の高い磁気ディスクを用いるこ
とである。ところが、表面平滑性の高い磁気ディスクで
は、通常、磁気ディスク表面に潤滑剤が付与されるた
め、この潤滑剤が主要因になって、磁気ヘッドが磁気デ
ィスク表面に吸着するようになる。更に、潤滑剤による
吸着作用に対し、空気中に存在する湿分または水分等の
影響が加わって、磁気ヘッドが磁気ディスク表面に、ま
すます強く吸着するようになる。
【０００６】この種の磁気記録再生装置は、前述したよ
うに、コンタクト．スタート．ストップ方式によって駆
動されるものであり、磁気ヘッドの吸着現象を生じる
と、起動できなくなる。
うに、コンタクト．スタート．ストップ方式によって駆
動されるものであり、磁気ヘッドの吸着現象を生じる
と、起動できなくなる。
【０００７】吸着現象を回避する手段としては従来より
種々の技術が提案されている。例えば、特開昭６３ー３
７８７４号公報、特開平８ー２８７４４０号公報及び特
開平８ー２１２２７４０号公報には、レール面の特定さ
れた位置に３個の突起を設けることにより、磁気ディス
クと磁気ヘッドとの接触面積を小さくする手段が開示さ
れている。特開平７ー３２６１５０号公報には、スライ
ダ基体の一部であるレール面に微小凹凸を設けることに
より、吸着を防止する手段を開示している。
種々の技術が提案されている。例えば、特開昭６３ー３
７８７４号公報、特開平８ー２８７４４０号公報及び特
開平８ー２１２２７４０号公報には、レール面の特定さ
れた位置に３個の突起を設けることにより、磁気ディス
クと磁気ヘッドとの接触面積を小さくする手段が開示さ
れている。特開平７ー３２６１５０号公報には、スライ
ダ基体の一部であるレール面に微小凹凸を設けることに
より、吸着を防止する手段を開示している。
【０００８】ところで、スライダのＡＢＳに吸着防止の
ための手段を施す場合、ＡＢＳによって与えられる浮上
特性の変化を極力防止すること、ＡＢＳに対して、容
易、かつ、高精度で吸着防止手段を付与できることがき
わめて重要である。上述した先行技術は、必ずしも、こ
のような条件を満たすものではなかった。
ための手段を施す場合、ＡＢＳによって与えられる浮上
特性の変化を極力防止すること、ＡＢＳに対して、容
易、かつ、高精度で吸着防止手段を付与できることがき
わめて重要である。上述した先行技術は、必ずしも、こ
のような条件を満たすものではなかった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、磁気
ディスクに対する吸着力を低減し得る磁気ヘッドを提供
することである。
ディスクに対する吸着力を低減し得る磁気ヘッドを提供
することである。
【００１０】本発明のもう一つの課題は、吸着力を容易
に制御し得る吸着防止手段を有する磁気ヘッドを提供す
ることである。
に制御し得る吸着防止手段を有する磁気ヘッドを提供す
ることである。
【００１１】本発明の更にもう一つの課題は、ＡＢＳに
よって与えられる浮上特性の変化を最小にし得る吸着防
止手段を有する磁気ヘッドを提供することである。
よって与えられる浮上特性の変化を最小にし得る吸着防
止手段を有する磁気ヘッドを提供することである。
【００１２】本発明の更にもう一つの課題は、ＡＢＳに
対して、容易、かつ、高精度で吸着防止手段を付与でき
る磁気ヘッドを提供することである。
対して、容易、かつ、高精度で吸着防止手段を付与でき
る磁気ヘッドを提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、本発明に係る磁気ヘッドは、スライダと、電磁変
換素子とを含む。前記スライダは、空気ベアリング面を
有する。前記電磁変換素子は、前記スライダに備えら
れ、電磁変換のための端部が前記空気ベアリング面と近
接した位置にある。前記空気ベアリング面は、保護膜の
表面と、スライダ基体面とで構成されている。前記保護
膜は、前記スライダ基体面に部分的に付着され、少なく
とも、前記電磁変換素子の前記端部を覆う。
ため、本発明に係る磁気ヘッドは、スライダと、電磁変
換素子とを含む。前記スライダは、空気ベアリング面を
有する。前記電磁変換素子は、前記スライダに備えら
れ、電磁変換のための端部が前記空気ベアリング面と近
接した位置にある。前記空気ベアリング面は、保護膜の
表面と、スライダ基体面とで構成されている。前記保護
膜は、前記スライダ基体面に部分的に付着され、少なく
とも、前記電磁変換素子の前記端部を覆う。
【００１４】本発明に係る磁気ヘッドにおいて、保護膜
はスライダ基体面に付着され、空気ベアリング面を構成
するから、耐摩耗性の高い磁気ヘッドが得られる。
はスライダ基体面に付着され、空気ベアリング面を構成
するから、耐摩耗性の高い磁気ヘッドが得られる。
【００１５】しかも、保護膜は、少なくとも、電磁変換
素子の電磁変換を行なう端部を覆っているから、電磁変
換素子を、保護膜によって保護することができる。特
に、電磁変換素子が、読み取り素子となる磁気抵抗効果
素子（以下ＭＲ素子と称する）を含む場合、ＭＲ素子の
端部が磁気ディスクの表面に直接触れることがないの
で、磁気ディスクに対するセンス電流の漏洩、放電また
はこれらに起因する動作不良を確実に防止することがで
きる。
素子の電磁変換を行なう端部を覆っているから、電磁変
換素子を、保護膜によって保護することができる。特
に、電磁変換素子が、読み取り素子となる磁気抵抗効果
素子（以下ＭＲ素子と称する）を含む場合、ＭＲ素子の
端部が磁気ディスクの表面に直接触れることがないの
で、磁気ディスクに対するセンス電流の漏洩、放電また
はこれらに起因する動作不良を確実に防止することがで
きる。
【００１６】更に、保護膜は、スライダ基体面に部分的
に付着されているので、保護膜の周りには、スライダ基
体面に対して、保護膜の膜厚分の段差が生じる。この場
合、保護膜の表面と、スライダ基体面とがＡＢＳを構成
する。このため、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの吸
着力を低下させることができる。しかも、磁気ディスク
に対する磁気ヘッドの吸着力は、保護膜の面積を増減す
ることによって制御できる。
に付着されているので、保護膜の周りには、スライダ基
体面に対して、保護膜の膜厚分の段差が生じる。この場
合、保護膜の表面と、スライダ基体面とがＡＢＳを構成
する。このため、磁気ディスクに対する磁気ヘッドの吸
着力を低下させることができる。しかも、磁気ディスク
に対する磁気ヘッドの吸着力は、保護膜の面積を増減す
ることによって制御できる。
【００１７】また、保護膜はスライダ基体面に部分的に
付着されるもので、種々のパターンを有するように形成
される。保護膜のパターン化に当たって、スライダ基体
面に保護膜を設け、イオンミリング等の手段によって、
予め定められたパターンで、保護膜を部分的に除去する
ことにより、必要な保護膜パターンを、容易、かつ、高
精度で形成することができる。
付着されるもので、種々のパターンを有するように形成
される。保護膜のパターン化に当たって、スライダ基体
面に保護膜を設け、イオンミリング等の手段によって、
予め定められたパターンで、保護膜を部分的に除去する
ことにより、必要な保護膜パターンを、容易、かつ、高
精度で形成することができる。
【００１８】本発明は、更に、好ましい保護膜の具体
例、浮上特性の変化を最小にし得る保護膜の厚さ、及
び、吸着力と保護膜面積との関係等を開示する。
例、浮上特性の変化を最小にし得る保護膜の厚さ、及
び、吸着力と保護膜面積との関係等を開示する。
【００１９】本発明の他の目的、構成及び利点について
は、添付図面を参照して、更に詳しく説明する。図面
は、単なる実施例を示すに過ぎない。
は、添付図面を参照して、更に詳しく説明する。図面
は、単なる実施例を示すに過ぎない。
【００２０】
【実施例】図１は本発明に係る磁気ヘッドの斜視図、図
２は図１の２ー２線に沿った部分断面図である。図示さ
れた本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、スライダ１と、電
磁変換素子２、３とを含む。電磁変換素子２は書き込み
素子であり、誘導型電磁変換素子である。電磁変換素子
３は読み取り素子であり、磁気抵抗効果を利用した素子
（以下ＭＲ素子と称する）でなる。電磁変換素子２、３
は、レール１１、１２の一方または両者の空気流出端
（トレーリング．エッジ）ＴＲの側に備えられている。
電磁変換素子２、３は、スライダ１に備えられ、電磁変
換のための端部がＡＢＳ１３、１４と近接した位置にあ
る。空気流出端ＴＲの側にある側面には、電磁変換素子
２に接続された取り出し電極２７、２８及び電磁変換素
子３に接続された取り出し電極３３、３４がそれぞれ設
けられている。
２は図１の２ー２線に沿った部分断面図である。図示さ
れた本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、スライダ１と、電
磁変換素子２、３とを含む。電磁変換素子２は書き込み
素子であり、誘導型電磁変換素子である。電磁変換素子
３は読み取り素子であり、磁気抵抗効果を利用した素子
（以下ＭＲ素子と称する）でなる。電磁変換素子２、３
は、レール１１、１２の一方または両者の空気流出端
（トレーリング．エッジ）ＴＲの側に備えられている。
電磁変換素子２、３は、スライダ１に備えられ、電磁変
換のための端部がＡＢＳ１３、１４と近接した位置にあ
る。空気流出端ＴＲの側にある側面には、電磁変換素子
２に接続された取り出し電極２７、２８及び電磁変換素
子３に接続された取り出し電極３３、３４がそれぞれ設
けられている。
【００２１】スライダ１は、ＡＢＳ１３、１４を有す
る。ＡＢＳ１３、１４は、保護膜１７、１８と、スライ
ダ基体面１５、１６とで構成されている。保護膜１７、
１８は、スライダ基体面１５、１６に部分的に付着さ
れ、少なくとも、電磁変換素子２、３のポール部等の端
部を覆う。保護膜１７、１８を構成する材料の代表例
は、ダイヤモンド．ライク．カーボン（以下ＤＬＣと称
する）または窒化カーボン等である。
る。ＡＢＳ１３、１４は、保護膜１７、１８と、スライ
ダ基体面１５、１６とで構成されている。保護膜１７、
１８は、スライダ基体面１５、１６に部分的に付着さ
れ、少なくとも、電磁変換素子２、３のポール部等の端
部を覆う。保護膜１７、１８を構成する材料の代表例
は、ダイヤモンド．ライク．カーボン（以下ＤＬＣと称
する）または窒化カーボン等である。
【００２２】図示されたスライダ１は媒体対向面側にレ
ール１１、１２を有し、スライダ基体面１５、１６はレ
ール１１、１２の表面によって構成されている。レール
１１、１２は２本に限らない。１〜３本のレールを有す
ることがあり、レールを持たない平面となることもあ
る。また、浮上特性改善等のために、媒体対向面に種々
の幾何学的形状が付されることもある。何れのタイプの
スライダ１であっても、本発明の適用が可能である。
ール１１、１２を有し、スライダ基体面１５、１６はレ
ール１１、１２の表面によって構成されている。レール
１１、１２は２本に限らない。１〜３本のレールを有す
ることがあり、レールを持たない平面となることもあ
る。また、浮上特性改善等のために、媒体対向面に種々
の幾何学的形状が付されることもある。何れのタイプの
スライダ１であっても、本発明の適用が可能である。
【００２３】また、保護膜１７、１８は、レール１１、
１２の幅方向の略中間部において、空気流出端ＴＲから
空気流入端ＬＥに向かって直線状に形成されている。電
磁変換素子２、３の端部は、保護膜１７、１８の膜厚ｄ
１の分だけ後退した位置にある。
１２の幅方向の略中間部において、空気流出端ＴＲから
空気流入端ＬＥに向かって直線状に形成されている。電
磁変換素子２、３の端部は、保護膜１７、１８の膜厚ｄ
１の分だけ後退した位置にある。
【００２４】図３は図１に示した薄膜磁気ヘッドの電磁
変換素子部分の拡大斜視図である。電磁変換素子２は、
ＡＢＳ１３、１４に現れる第１のポール部Ｐ１及び第２
のポール部Ｐ２２を有する。第１のポール部Ｐ１及び第
２のポール部Ｐ２２はギャップ膜２４を隔てて対向して
いる。
変換素子部分の拡大斜視図である。電磁変換素子２は、
ＡＢＳ１３、１４に現れる第１のポール部Ｐ１及び第２
のポール部Ｐ２２を有する。第１のポール部Ｐ１及び第
２のポール部Ｐ２２はギャップ膜２４を隔てて対向して
いる。
【００２５】書き込み素子となる電磁変換素子２は、Ｍ
Ｒ素子３に対する第２のシールド膜を兼ねている第１の
磁性膜２１、第２の磁性膜２２、コイル膜２３、アルミ
ナ等でなるギャップ膜２４、ノボラック樹脂等の有機樹
脂で構成された絶縁膜２５及びアルミナ等でなる保護膜
２６などを有している。第１の磁性膜２１及び第２の磁
性膜２２の先端部は微小厚みのギャップ膜２４を隔てて
対向する第１のポール部Ｐ１及び第２のポール部Ｐ２２
となっており、第１のポール部Ｐ１及び第２のポール部
Ｐ２２において書き込みを行なう。第１の磁性膜２１及
び第２の磁性膜２２は、そのヨーク部が第１のポール部
Ｐ１及び第２のポール部Ｐ２２とは反対側にあるバック
ギャップ部において、磁気回路を完成するように互いに
結合されている。絶縁膜２５の上に、ヨーク部の結合部
のまわりを渦巻状にまわるように、コイル膜２３を形成
してある。コイル膜２３の両端は、取り出し電極２７、
２８に導通されている（図１参照）。コイル膜２３の巻
数および層数は任意である。
Ｒ素子３に対する第２のシールド膜を兼ねている第１の
磁性膜２１、第２の磁性膜２２、コイル膜２３、アルミ
ナ等でなるギャップ膜２４、ノボラック樹脂等の有機樹
脂で構成された絶縁膜２５及びアルミナ等でなる保護膜
２６などを有している。第１の磁性膜２１及び第２の磁
性膜２２の先端部は微小厚みのギャップ膜２４を隔てて
対向する第１のポール部Ｐ１及び第２のポール部Ｐ２２
となっており、第１のポール部Ｐ１及び第２のポール部
Ｐ２２において書き込みを行なう。第１の磁性膜２１及
び第２の磁性膜２２は、そのヨーク部が第１のポール部
Ｐ１及び第２のポール部Ｐ２２とは反対側にあるバック
ギャップ部において、磁気回路を完成するように互いに
結合されている。絶縁膜２５の上に、ヨーク部の結合部
のまわりを渦巻状にまわるように、コイル膜２３を形成
してある。コイル膜２３の両端は、取り出し電極２７、
２８に導通されている（図１参照）。コイル膜２３の巻
数および層数は任意である。
【００２６】ＭＲ素子３は、これまで、種々の膜構造の
ものが提案され、実用に供されている。例えばパーマロ
イ等による異方性磁気抵抗効果素子を用いたもの、巨大
磁気抵抗（ＧＭＲ）効果膜を用いたもの等がある。本発
明において、何れのタイプであってもよい。ＭＲ素子３
は、第１のシールド膜３１と、第２のシールド膜を兼ね
ている第１の磁性膜２１との間において、絶縁膜３２の
内部に配置されている。絶縁膜３２はアルミナ等によっ
て構成されている。ＭＲ素子３は取り出し電極３３、３
４に接続されている（図１参照）。
ものが提案され、実用に供されている。例えばパーマロ
イ等による異方性磁気抵抗効果素子を用いたもの、巨大
磁気抵抗（ＧＭＲ）効果膜を用いたもの等がある。本発
明において、何れのタイプであってもよい。ＭＲ素子３
は、第１のシールド膜３１と、第２のシールド膜を兼ね
ている第１の磁性膜２１との間において、絶縁膜３２の
内部に配置されている。絶縁膜３２はアルミナ等によっ
て構成されている。ＭＲ素子３は取り出し電極３３、３
４に接続されている（図１参照）。
【００２７】図４は図１〜図３に示した磁気ヘッドを組
み込んだ磁気記録再生装置の平面図である。以下図１〜
図３をも参照し、図４に図示された磁気記録再生装置に
ついて説明する。本発明に係る磁気ヘッド６は、ヘッド
支持装置５の先端部に装着される。そして、スライダ１
のＡＢＳ１３、１４を磁気ディスク４の表面にバネ接触
させ、この状態で起動及び停止を行なう、いわゆるコン
タクト．スタート．ストップ方式によって駆動する。
み込んだ磁気記録再生装置の平面図である。以下図１〜
図３をも参照し、図４に図示された磁気記録再生装置に
ついて説明する。本発明に係る磁気ヘッド６は、ヘッド
支持装置５の先端部に装着される。そして、スライダ１
のＡＢＳ１３、１４を磁気ディスク４の表面にバネ接触
させ、この状態で起動及び停止を行なう、いわゆるコン
タクト．スタート．ストップ方式によって駆動する。
【００２８】磁気ディスク４が静止しているときは、ヘ
ッド支持装置５のバネ圧によりＡＢＳ１３、１４を構成
する保護膜１７、１８の表面が磁気ディスク４の面に押
付けられているが、磁気ディスク４が回転すると、ＡＢ
Ｓ１３、１４に揚力動圧が発生し、この動圧とヘッド支
持装置５のバネ圧と釣り合う浮上量で、磁気ディスク４
の面から浮上する。駆動方式としては、ロータリー．ア
クチュエータ方式が一般的であるが、リニアアクチュエ
ータ方式を採用してもよい。図４はロータリー．アクチ
ュエータ方式を示し、ヘッド支持装置５の先端部に取り
付けられた磁気ヘッド６が、磁気ディスク４の径方向ｂ
１またはｂ２に駆動される。そして、ヘッド支持装置５
を回転駆動する位置決め装置７により、磁気ヘッド６
が、磁気ディスク４上の所定のトラック位置に位置決め
される。
ッド支持装置５のバネ圧によりＡＢＳ１３、１４を構成
する保護膜１７、１８の表面が磁気ディスク４の面に押
付けられているが、磁気ディスク４が回転すると、ＡＢ
Ｓ１３、１４に揚力動圧が発生し、この動圧とヘッド支
持装置５のバネ圧と釣り合う浮上量で、磁気ディスク４
の面から浮上する。駆動方式としては、ロータリー．ア
クチュエータ方式が一般的であるが、リニアアクチュエ
ータ方式を採用してもよい。図４はロータリー．アクチ
ュエータ方式を示し、ヘッド支持装置５の先端部に取り
付けられた磁気ヘッド６が、磁気ディスク４の径方向ｂ
１またはｂ２に駆動される。そして、ヘッド支持装置５
を回転駆動する位置決め装置７により、磁気ヘッド６
が、磁気ディスク４上の所定のトラック位置に位置決め
される。
【００２９】ここで、本発明に係る磁気ヘッドにおい
て、保護膜１７、１８がスライダ基体面１５、１６に付
着され、ＡＢＳ１３、１４を構成するから、主として、
保護膜１７、１８が磁気ディスク４と接触することにな
り、耐摩耗性の高い磁気ヘッドが得られる。
て、保護膜１７、１８がスライダ基体面１５、１６に付
着され、ＡＢＳ１３、１４を構成するから、主として、
保護膜１７、１８が磁気ディスク４と接触することにな
り、耐摩耗性の高い磁気ヘッドが得られる。
【００３０】しかも、保護膜１７、１８は、少なくと
も、電磁変換素子２、３の電磁変換を行なう端部を覆っ
ているから、電磁変換素子２、３を、保護膜１７、１８
によって保護することができる。特に、電磁変換素子３
が、ＭＲ素子である場合、ＭＲ素子３の端部が磁気ディ
スク４の表面に直接触れることがない。このため、磁気
ディスク４に対するセンス電流の漏洩、放電またはこれ
らに起因する動作不良を確実に防止することができる。
も、電磁変換素子２、３の電磁変換を行なう端部を覆っ
ているから、電磁変換素子２、３を、保護膜１７、１８
によって保護することができる。特に、電磁変換素子３
が、ＭＲ素子である場合、ＭＲ素子３の端部が磁気ディ
スク４の表面に直接触れることがない。このため、磁気
ディスク４に対するセンス電流の漏洩、放電またはこれ
らに起因する動作不良を確実に防止することができる。
【００３１】更に、保護膜１７、１８は、スライダ基体
面１５、１６に部分的に付着されているので、保護膜１
７、１８の周りには、スライダ基体面１５、１６に対し
て保護膜１７、１８の膜厚ｄ１によって定まる段差が生
じる。図においては、スライダ基体面１５、１６は、保
護膜１７、１８の表面よりも低くなっている。そして、
保護膜１７、１８の表面と、スライダ基体面１５、１６
によるＡＢＳ１３、１４が構成される。このため、磁気
ディスク４に対する磁気ヘッド６の吸着力を低下させる
ことができる。磁気ディスク４に対する磁気ヘッド６の
吸着力は、保護膜１７、１８の面積を増減することによ
って制御できる。
面１５、１６に部分的に付着されているので、保護膜１
７、１８の周りには、スライダ基体面１５、１６に対し
て保護膜１７、１８の膜厚ｄ１によって定まる段差が生
じる。図においては、スライダ基体面１５、１６は、保
護膜１７、１８の表面よりも低くなっている。そして、
保護膜１７、１８の表面と、スライダ基体面１５、１６
によるＡＢＳ１３、１４が構成される。このため、磁気
ディスク４に対する磁気ヘッド６の吸着力を低下させる
ことができる。磁気ディスク４に対する磁気ヘッド６の
吸着力は、保護膜１７、１８の面積を増減することによ
って制御できる。
【００３２】また、保護膜１７、１８はスライダ基体面
１５、１６に部分的に付着されるもので、種々のパター
ンを有するように形成される。保護膜１７、１８のパタ
ーン化に当たって、スライダ基体面１５、１６の上に保
護膜１７、１８を設け、この保護膜１７、１８を、イオ
ンミリング等の手段によって、予め定められたパターン
で、部分的に除去することにより、必要なパターンを、
容易、かつ、高精度で形成することができる。
１５、１６に部分的に付着されるもので、種々のパター
ンを有するように形成される。保護膜１７、１８のパタ
ーン化に当たって、スライダ基体面１５、１６の上に保
護膜１７、１８を設け、この保護膜１７、１８を、イオ
ンミリング等の手段によって、予め定められたパターン
で、部分的に除去することにより、必要なパターンを、
容易、かつ、高精度で形成することができる。
【００３３】保護膜１７、１８は、好ましくは、０．０
１〜０．０５μｍの範囲の膜厚ｄ１（図２参照）となる
ように形成される。保護膜１７、１８の膜厚ｄ１が０．
０５μｍを越えると、電磁変換素子２、３におけるスペ
ーシングロスが増え、電磁変換特性が劣化する。膜厚ｄ
１が０．０１μｍよりも小さくなると、吸着力の制御が
できなくなる。しかも、保護膜１７、１８の膜厚ｄ１を
前述した０．０１〜０．０５μｍの範囲に設定した場合
は、保護膜１７、１８によるＡＢＳ１３、１４の浮上特
性の変化を最小にし得る。
１〜０．０５μｍの範囲の膜厚ｄ１（図２参照）となる
ように形成される。保護膜１７、１８の膜厚ｄ１が０．
０５μｍを越えると、電磁変換素子２、３におけるスペ
ーシングロスが増え、電磁変換特性が劣化する。膜厚ｄ
１が０．０１μｍよりも小さくなると、吸着力の制御が
できなくなる。しかも、保護膜１７、１８の膜厚ｄ１を
前述した０．０１〜０．０５μｍの範囲に設定した場合
は、保護膜１７、１８によるＡＢＳ１３、１４の浮上特
性の変化を最小にし得る。
【００３４】保護膜１７は、好ましくは、その面積をＳ
１とし、ＡＢＳ１３の面積をＳ０としたとき、 ０．０５≦（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０≦０．６ を満たすように形成する。保護膜１８の面積Ｓ１も、Ａ
ＢＳ１４の面積Ｓ０に対して同様の関係を有する。
１とし、ＡＢＳ１３の面積をＳ０としたとき、 ０．０５≦（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０≦０．６ を満たすように形成する。保護膜１８の面積Ｓ１も、Ａ
ＢＳ１４の面積Ｓ０に対して同様の関係を有する。
【００３５】図５は（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０と起動時摩擦
抵抗との関係をグラフ化して示す図である。このデータ
はコンタクト．スタート．ストップ方式によって駆動し
た場合のデータである。起動時摩擦抵抗の値１（ａｒ
ｂ．）は、ＡＢＳ１３、１４が保護膜１７、１８とスラ
イダ基体面１５、１６との組み合わせを持たない平面で
ある場合の値である。図示するように、保護膜１７、１
８を設けた本発明に係る磁気ヘッド６は、コンタクト．
スタート．ストップ方式によって駆動した場合、起動時
摩擦抵抗が、従来の磁気ヘッドよりも、必ず小さくな
る。このことは、吸着力が低下していることを示す。特
に、０．０５≦（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０≦０．６の範囲で
は、起動時摩擦抵抗が０．５以下であり、従来の磁気ヘ
ッドの半分の値まで低下している。
抵抗との関係をグラフ化して示す図である。このデータ
はコンタクト．スタート．ストップ方式によって駆動し
た場合のデータである。起動時摩擦抵抗の値１（ａｒ
ｂ．）は、ＡＢＳ１３、１４が保護膜１７、１８とスラ
イダ基体面１５、１６との組み合わせを持たない平面で
ある場合の値である。図示するように、保護膜１７、１
８を設けた本発明に係る磁気ヘッド６は、コンタクト．
スタート．ストップ方式によって駆動した場合、起動時
摩擦抵抗が、従来の磁気ヘッドよりも、必ず小さくな
る。このことは、吸着力が低下していることを示す。特
に、０．０５≦（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０≦０．６の範囲で
は、起動時摩擦抵抗が０．５以下であり、従来の磁気ヘ
ッドの半分の値まで低下している。
【００３６】保護膜１７、１８の形状、膜厚ｄ１及び配
置、それによって画定されるスライダ基体面１５、１６
の形状、配置等は、磁気記録再生装置の要求に応じて変
更され得る。例えば、磁気記録再生装置からの要求に応
じて、正圧を発生させる形状もしくは配置、または、負
圧を発生させる形状もしくは配置にしたり、あるいは、
磁気ディスク４の回転スピードに合わせて膜厚ｄ１を選
択する等である。次に、そのような変形例を、図６〜図
８を参照して説明する。
置、それによって画定されるスライダ基体面１５、１６
の形状、配置等は、磁気記録再生装置の要求に応じて変
更され得る。例えば、磁気記録再生装置からの要求に応
じて、正圧を発生させる形状もしくは配置、または、負
圧を発生させる形状もしくは配置にしたり、あるいは、
磁気ディスク４の回転スピードに合わせて膜厚ｄ１を選
択する等である。次に、そのような変形例を、図６〜図
８を参照して説明する。
【００３７】図６は本発明に係る磁気ヘッドの別の例を
示す斜視図である。図において、図１と同一の構成部分
には同一の参照符号を付してある。この実施例の特徴
は、保護膜１７、１８が点在されていることである。保
護膜１７、１８は、円形、楕円形、長円形または角形
等、任意の形状を採ることができる。この実施例におい
ても、保護膜１７、１８の厚さｄ１、面積Ｓ０と面積Ｓ
１との比等については、前述した条件が適用される。
示す斜視図である。図において、図１と同一の構成部分
には同一の参照符号を付してある。この実施例の特徴
は、保護膜１７、１８が点在されていることである。保
護膜１７、１８は、円形、楕円形、長円形または角形
等、任意の形状を採ることができる。この実施例におい
ても、保護膜１７、１８の厚さｄ１、面積Ｓ０と面積Ｓ
１との比等については、前述した条件が適用される。
【００３８】図７は本発明に係る磁気ヘッドの更に別の
例を示す斜視図である。図において、図１と同一の構成
部分には同一の参照符号を付してある。この実施例の特
徴は、レール１１、１２の長さ方向に沿って、保護膜１
７、１８と、スライダ基体面１５、１６とが交互に配置
（ストライプ状）されていることである。この実施例の
場合、膜厚ｄ１の値によってスライダ基体面１５、１６
を負圧発生部として機能させることができる。面積Ｓ０
と面積Ｓ１との比等については、前述した条件が適用さ
れる。
例を示す斜視図である。図において、図１と同一の構成
部分には同一の参照符号を付してある。この実施例の特
徴は、レール１１、１２の長さ方向に沿って、保護膜１
７、１８と、スライダ基体面１５、１６とが交互に配置
（ストライプ状）されていることである。この実施例の
場合、膜厚ｄ１の値によってスライダ基体面１５、１６
を負圧発生部として機能させることができる。面積Ｓ０
と面積Ｓ１との比等については、前述した条件が適用さ
れる。
【００３９】図８は本発明に係る磁気ヘッドの更に別の
実施例を示す平面図である。図示された磁気ヘッドは、
負圧型であり、２つの凸部１１、１２の間に、負圧発生
部となる保護膜１９１を有する。凸部１１、１２の間
は、空気流入端（リーディング．エッジ）ＬＥの側で
は、スライダ基体面１９２によって閉じられ、空気流出
端ＴＲの側では開放されている。スライダ基体面１９２
はスライダ基体面１５、１６と連続する平面を構成して
いる。保護膜１７、１８の態様は、図１及び図２に示し
た実施例と類似している。即ち、保護膜１７、１８は、
凸部１１、１２の表面を構成するスライダ基体１５、１
６の幅方向の略中間部において、空気流出端ＴＲから空
気流入端ＬＥに向かって直線状に形成されている。図示
は省略するが、保護膜１７、１８は、図６、図７に示し
た態様を採ることもできる。
実施例を示す平面図である。図示された磁気ヘッドは、
負圧型であり、２つの凸部１１、１２の間に、負圧発生
部となる保護膜１９１を有する。凸部１１、１２の間
は、空気流入端（リーディング．エッジ）ＬＥの側で
は、スライダ基体面１９２によって閉じられ、空気流出
端ＴＲの側では開放されている。スライダ基体面１９２
はスライダ基体面１５、１６と連続する平面を構成して
いる。保護膜１７、１８の態様は、図１及び図２に示し
た実施例と類似している。即ち、保護膜１７、１８は、
凸部１１、１２の表面を構成するスライダ基体１５、１
６の幅方向の略中間部において、空気流出端ＴＲから空
気流入端ＬＥに向かって直線状に形成されている。図示
は省略するが、保護膜１７、１８は、図６、図７に示し
た態様を採ることもできる。
【００４０】この実施例においても、保護膜１７、１８
の厚さｄ１、面積Ｓ０と面積Ｓ１との比等については、
前述した条件が適用される。
の厚さｄ１、面積Ｓ０と面積Ｓ１との比等については、
前述した条件が適用される。
【００４１】以上、好ましい実施例を参照して本発明の
内容を具体的に説明したが、本発明の基本的技術思想及
び教示に基づいて、当業者であれば、種々の変形態様を
採り得ることは自明である。
内容を具体的に説明したが、本発明の基本的技術思想及
び教示に基づいて、当業者であれば、種々の変形態様を
採り得ることは自明である。
【００４２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果を得ることができる。 （ａ）磁気ディスクに対する磁気ヘッドの吸着力を低減
し得る磁気ヘッドを提供することができる。 （ｂ）ＡＢＳによって与えられる浮上特性の変化を最小
にし得る吸着防止手段を有する磁気ヘッドを提供するこ
とができる。 （ｃ）ＡＢＳに対して、容易、かつ、高精度で吸着防止
手段を付与できる磁気ヘッドを提供することができる。
のような効果を得ることができる。 （ａ）磁気ディスクに対する磁気ヘッドの吸着力を低減
し得る磁気ヘッドを提供することができる。 （ｂ）ＡＢＳによって与えられる浮上特性の変化を最小
にし得る吸着防止手段を有する磁気ヘッドを提供するこ
とができる。 （ｃ）ＡＢＳに対して、容易、かつ、高精度で吸着防止
手段を付与できる磁気ヘッドを提供することができる。
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの斜視図である。
【図２】図１の２ー２線に沿った部分断面図である。
【図３】図１に示した薄膜磁気ヘッドの電磁変換素子部
分の拡大斜視図である。
分の拡大斜視図である。
【図４】図１〜図３に示した磁気ヘッドを組み込んだ磁
気記録再生装置の平面図である。
気記録再生装置の平面図である。
【図５】（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０と起動時摩擦抵抗との関
係をグラフ化して示す図である。
係をグラフ化して示す図である。
【図６】本発明に係る磁気ヘッドの別の例を示す斜視図
である。
である。
【図７】本発明に係る磁気ヘッドの更に別の例を示す斜
視図である。
視図である。
【図８】本発明に係る磁気ヘッドの更に別の実施例を示
す平面図である。
す平面図である。
１ スライダ ２、３ 電磁変換素子 １０ スライダ基体 １１、１２ レールまたは凸部 １３、１４ ＡＢＳ １５、１６ スライダ基体面 １７、１８ 保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 秋典 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (6)
- 【請求項１】 スライダと、電磁変換素子とを含む磁気
ヘッドであって、 前記スライダは、空気ベアリング面を有しており、 前記電磁変換素子は、前記スライダに備えられ、電磁変
換のための端部が前記空気ベアリング面と近接した位置
にあり、 前記空気ベアリング面は、保護膜の表面と、スライダ基
体面とで構成されており、 前記保護膜は、前記スライダ基体面に部分的に付着さ
れ、少なくとも、前記電磁変換素子の前記端部を覆う磁
気ヘッド。 - 【請求項２】 請求項１に記載された磁気ヘッドであっ
て、 前記保護膜は、厚さが０．０１〜０．０５μｍの範囲に
ある磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載された磁気ヘッ
ドであって、 前記保護膜は、ダイヤモンド．ライク．カーボンまたは
窒化カーボンの少なくとも一種でなる磁気ヘッド。 - 【請求項４】 請求項１、２または３に記載された磁気
ヘッドであって、 前記空気ベアリング面の面積をＳ０とし、前記保護膜の
表面積をＳ１としたとき、 ０．０５≦（Ｓ０−Ｓ１）／Ｓ０≦０．６ を満たす磁気ヘッド。 - 【請求項５】 請求項１、２、３または４の何れかに記
載された磁気ヘッドであって、 前記保護膜は、点在している磁気ヘッド。 - 【請求項６】 請求項１、２、３または４の何れかに記
載された磁気ヘッドであって、 前記保護膜は、直線状に設けられている磁気ヘッド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9276291A JPH11120528A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 磁気ヘッド |
| SG1998003948A SG71159A1 (en) | 1997-10-08 | 1998-09-30 | Magnetic head |
| US09/165,158 US6493182B1 (en) | 1997-10-08 | 1998-10-02 | Magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9276291A JPH11120528A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11120528A true JPH11120528A (ja) | 1999-04-30 |
Family
ID=17567413
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9276291A Pending JPH11120528A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 磁気ヘッド |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6493182B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11120528A (ja) |
| SG (1) | SG71159A1 (ja) |
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| US6958888B2 (en) | 2001-10-05 | 2005-10-25 | Headway Technologies, Inc. | Slider of thin-film magnetic head and method of manufacturing same |
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-
1997
- 1997-10-08 JP JP9276291A patent/JPH11120528A/ja active Pending
-
1998
- 1998-09-30 SG SG1998003948A patent/SG71159A1/en unknown
- 1998-10-02 US US09/165,158 patent/US6493182B1/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| US6493182B1 (en) | 2002-12-10 |
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