JPH11120557A

JPH11120557A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH11120557A
Application number: JP9280457A
Authority: JP
Inventors: Jo Nakajima; 丈中嶋
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-10-14
Filing date: 1997-10-14
Publication date: 1999-04-30

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明の目的は、光学的な透明性に優れ、か
つ高い磁気出力、すなわち配向比の高い磁気記録媒体の
製造方法を提供することにある。【解決手段】支持体上の少なくとも１方に、透明な磁
気記録層を有する磁気記録媒体の製造方法において、該
磁気記録層を形成する磁性塗布液を、支持体上に塗布す
る際に、該磁性塗布液にかかるずり速度が、２×１０⁴
〜２×１０⁵（１／ｓ）であることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体の製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハロゲン化銀写真フィルム（以
下、写真フィルムともいう）上に磁気記録層を設け、撮
影時等の各種の情報を、写真フィルム上の磁気記録層
に、磁気情報として記録、再生する研究が多数なされて
いる。

【０００３】例えば、カメラ撮影時に、写真フィルム上
の磁気記録層に、撮影情報を磁気記録ヘッドで記録し、
現像後の写真プリント時に、撮影情報を磁気再生して、
写真プリントに撮影情報を反映させる写真システムが、
ＷＯ９０／０４２０５号、ＷＯ９０／０４２１４号、米
国特許４，９６５，６２７号、米国特許４，９７５，７
３２号等によって提案されている。

【０００４】写真フィルムの磁気記録層の性能として
は、写真性能に影響を及ぼさない透明性、及び磁気信号
の記録再生がエラー無しに、安定して行えるような、高
い磁気性能（磁気出力）が要求される。この透明性及び
磁気出力を得るためには、磁性塗布液中の磁性体の分散
状態を、高めることにより達成されることが特開平９−
１６０１７３号、同５−８８２８３号で知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、最近では前述
した特許で実現できる磁気記録層の透明性に限界があ
り、例えばリバーサルフィルムに対しては、磁気記録層
の色濃度が大きすぎて、リバーサルフィルムの写真性能
に悪影響を及ぼすことがわかってきた。

【０００６】磁気記録層の透明性を向上させるために
は、磁気記録層自体の膜厚を、単位体積当たりの磁性体
量を変化させずに薄くする。あるいは、膜厚はそのまま
で、単位体積当たりの磁性体量を減らす方法が考えられ
るが、両者とも、膜厚あるいは磁性体量の減少に比例し
て、磁気記録層の磁気出力が低下してしまい、安定した
磁気記録再生が困難になってしまう。そのため、リバー
サルフィルムにも対応できるような透明性を維持し、か
つ高い磁気出力を得るための方法が要求されている。

【０００７】この問題を解決する方法として、特開平８
−１５７９７号に記載されるような、透明な磁気記録層
に磁場配向をかけて、磁気記録層の配向比を高くするこ
とにより、高い磁気出力を得る発明が提案されている。
この発明によれば、例えば磁気記録層の膜厚を半分にし
て、透明性を２倍にしても、磁気出力を半分に低下させ
ることなく、元の磁気出力を得ることが可能である。

【０００８】しかしこの方法では、例えば、塗布する磁
性塗料の、磁性体等の個体成分に対する溶剤量比率が変
化した場合、磁場配向をかける配向磁石の位置を変化さ
せなければならず、実際に磁気記録層を製造する場合
に、困難が生じる。そこで、もっと簡便な方法により、
磁気記録層の配向比を高める方法の発明が、要望されて
いる。

【０００９】したがって、本発明の目的は、光学的な透
明性に優れ、かつ高い磁気出力、すなわち配向比の高い
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成により達成された。

【００１１】１．支持体上の少なくとも１方に、透明な
磁気記録層を有する磁気記録媒体の製造方法において、
該磁気記録層を形成する磁性塗布液を、支持体上に塗布
する際に、該磁性塗布液にかかるずり速度が、２×１０
⁴〜２×１０⁵（１／ｓ）であることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。

【００１２】即ち、この方法により、透明な磁気記録層
の配向比を高くすることができ、磁気出力を高くするこ
とを可能となし得たものである。

【００１３】一般的に、支持体上に磁気記録層を形成す
る場合、エクストリュージョンコーターや、リバースロ
ールコーター等を用いる。例えば、エクストルージョン
コーターの場合、磁性塗布液に、エクストルージョンコ
ーターの下流端エッジでかかるずり速度は、ナビエ・ス
トークスの式より、以下の様な関係式で求まることが知
られている。

【００１４】ずり速度（１／ｓ）＝塗布速度²×塗布幅
／２／全流量ビデオテープ等の、磁性塗布液中の磁性体密度が濃い場
合には、塗布時に磁性塗布液にかかるずり速度が比較的
弱くても、磁性体が塗布長手方向に配向されることが知
られている（磁石でかける磁場配向に対して、機械配向
と呼ぶ）。しかし透明な磁気記録層の場合、塗布液中の
磁性体密度が非常に低いので（ビデオテープ等に比べて
１／１００以下）、塗布時にかかるずり速度が弱いと、
塗布時に充分に磁性体に機械配向がかからず、その後の
乾燥過程で完全に無配向化されてしまう。

【００１５】そこで本発明者が検討したところ、塗布時
に２×１０⁴（１／ｓ）以上のずり速度で、塗布を行っ
た場合には、塗布時の機械配向が非常に強いため、その
後の乾燥過程での無配向化が完全にはなされず、乾燥後
の磁気記録層の配向比が、１．１以上となることがわか
った。また２×１０⁴未満では、ほとんど無配向化さ
れ、配向比は、０．９７〜１．０３程度となることがわ
かった。例えば配向比１．１の場合は、配向比１．０に
対して、磁気出力が約１ｄＢ上昇する。

【００１６】本発明における、塗布時に磁性塗布液にか
かるずり速度は、２×１０⁴以上２×１０⁵以下であり、
あまりずり速度が高いと、塗布不安定あるいは不能とな
ってしまう。したがって、ずり速度の上限は、例えばエ
クストルージョンコーターの場合、そのコーターエッジ
の形状、塗布時の支持体の張力、塗布液の粘度等によっ
て異なるが、ほぼ２×１０⁵程度である。

【００１７】２．前記磁気記録層を形成する磁性塗布液
を、支持体上に塗布し乾燥させる際に、該磁性塗布液の
溶剤含有率が、６０％以下から１０％以上である時に、
磁気記録層表面の磁束密度が５０から２０００ガウスで
磁場配向を行うことを特徴とする、１項に記載の磁気記
録媒体の製造方法。

【００１８】と組み合わせることにより、更により配向
比を高くできることを見いだし、本発明の目的を達成し
得たものである。

【００１９】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２０】本発明における、透明の意味について述べ
る。本発明における透明とは、具体的には磁気記録層の
光学濃度が１．５以下であることをいう。光学濃度の測
定方法は、コニカ（株）製サクラ濃度計ＰＤＡ−６５を
用い、ブルー光を透過するフィルターを用いて、４３６
ｎｍの波長の光を磁気記録層に垂直に入射させ、磁気記
録層による光の吸収を算出する方法による。光学濃度
は、写真への影響を考慮すると小さいことが望ましく、
０．２以下が好ましく、特に好ましくは０．１以下であ
る。

【００２１】本発明における、配向比の意味について述
べる。配向比とは、従来から磁気記録分野で定義されて
いる配向比に等しい。ＯＲ、オリエンテイション・レシ
オとも呼ばれ、磁気記録層の長手方向（磁気記録再生方
向に平行）の角型比と幅手方向（磁気記録再生方向に垂
直）の角型比の、長手／幅手の比率である。

【００２２】本発明における、磁性塗布液に対する溶剤
含有率とは、塗布直後の支持体が移送され、乾燥ゾーン
を通過する途中の、任意の点における支持体の単位面積
上の磁気記録層の重量により、この同じ磁気記録層か
ら、完全に溶剤を蒸発乾燥させた場合の重量を、除した
値のことである。塗布機により支持体上に磁性塗布液が
塗布された瞬間は、溶剤の揮散が全くないと見なせるの
で、塗料調整時の溶剤含有率と同じである。また完全に
乾燥して巻き取られた段階での磁気記録層では、高沸点
の溶剤が５〜１００ｍｌ／ｍ²程度残存する事がある
が、ほとんど無視できる量なので０％とする。乾燥ゾー
ンの途中では、溶剤は蒸発し、磁気記録層中の溶剤含有
率は、塗布液を調整した時点での塗布液の構成比の割合
とは異なるが、調整時の溶剤含有率と０％の中間にな
る。この値は、実際に計測しても良いし、乾燥ゾーンに
吹き込む空気量，温度，伝熱係数，混合溶剤の湿り線
図，飽和蒸気圧などから、化学工学的に算出しても良
い。

【００２３】本発明における、配向磁場を通過させる際
の溶剤含有率は、１０〜６０％が好ましい。１０％以下
では、磁気記録層の乾燥が進みすぎて、磁性体を配向さ
せることができない。また６０％以上では、磁性体の凝
集を起こしてしまい、その凝集が透明性を損ね、写真性
能に影響を及ぼしてしまう。更に好ましくは２０〜４０
％である。

【００２４】次に本発明における磁場配向について説明
する。本発明における配向磁場の発生方法としては、永
久磁石による方法、ソレノイドコイルによる方法のいず
れも使用することができる。永久磁石を使用する場合に
は、Ｎ極どうしの永久磁石を対向配置し、その間に支持
体を通すようにすればよい。使用する永久磁石の強度
は、１０００ガウス以上であることが好ましいが、支持
体上の磁気記録層に、５０ガウス以上２０００ガウス以
下の磁束密度、好ましくは５００ガウス以上２０００ガ
ウス以下の磁束密度の磁場がかかる物であれば、特に限
定するものではない。磁気記録層にかかる磁束密度の強
度は、磁石自体の磁場強度、あるいは支持体と磁石との
距離を変更することにより変化可能である。

【００２５】磁束密度は５０ガウス以下では、磁性体に
充分な配向をかけることができず、また２０００ガウス
以上では、磁性体の凝集を起こしてしまい、その凝集が
透明性を損ね、写真性能に影響を及ぼしてしまう。

【００２６】また上記に限定する範囲内で、配向磁石を
２段以上設けて、さらに配向強度を高めることも可能で
ある。

【００２７】磁気記録層を形成する塗布液には、該記録
層に潤滑性の付与、帯電防止、接着防止、摩擦・磨粍耐
性向上等の機能を持たせるために、潤滑剤、帯電防止剤
等種々の添加剤を添加することができる。又、その他、
磁気記録層に柔軟性を与えるために可塑剤を、塗布液中
での磁性体の分散を助けるために分散剤を、磁気ヘッド
の目詰りを防止するために研磨剤を添加することができ
る。

【００２８】上記潤滑性の付与、帯電防止、接着防止、
摩擦・磨粍耐性向上、磁気ヘッドの目詰り防止等の機能
は、磁気記録層とは別にこれらの機能性層を設けて付与
させてもよい。例えば帯電防止層の上に本発明の磁気記
録層を設ける場合、その良好な被膜形成性と塗布回数を
減らして、より均一な薄膜にできるので、従来の磁気記
録層を帯電防止層上に形成する場合よりも、良好な帯電
防止性を得ることができる。又、磁気記録層をストライ
プ状に設ける場合、この上に磁性体を含有しない透明な
ポリマー層を設けて磁気記録層による段差をなくしても
よい。この場合、この透明なポリマー層に上記の各種機
能を持たせてもよい。

【００２９】磁気記録層を設けた後に、この層の上をカ
レンダリング処理して平滑性を向上させ、磁気出力のＳ
／Ｎ比を更に向上させることも可能である。この場合、
カレンダリング処理を施した後に、ハロゲン化銀感光性
層を塗布することが好ましい。

【００３０】磁気記録層に用いられる強磁性微粉末とし
ては、強磁性酸化鉄微粉末、Ｃｏドープの強磁性酸化鉄
微粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強磁性金属粉末、
強磁性合金粉末、バリウムフェライト等が挙げられる。

【００３１】強磁性粉末は公知の方法に従って製造する
ことができる。その形状としては、針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等の何れでもよいが、針状、板状が
電磁変換特性上好ましい。結晶子サイズ、非表面積も特
に制限はないが、結晶子サイズで４００Å以下、ＳＢＥ
Ｔで２０ｍ²／ｇ以上が好ましく、３０ｍ²／ｇ以上が特
に好ましい。

【００３２】強磁性粉末のｐＨ、表面処理は特に制限な
く用いることができ、好ましいｐＨの範囲は５〜１０で
ある。強磁性酸化鉄微粉末の場合、２価の鉄／３価の鉄
の比は特に制限されることなく用いることができる。こ
れらの磁気記録層については、特開昭４７−３２８１２
号、同５３−１０９６０４号に記載されている。

【００３３】光学的に透明な磁気記録層を形成するに
は、バインダーは、磁性体粉末１重量部に対して１〜２
００重量部用いるのが好ましい。更に好ましくは、磁性
体粉末１重量部に対して２〜５０重量部である。

【００３４】支持体上に磁気記録層を設ける方法として
は、エクストルージョンコート、リバースロールコート
の他に、エアードクターコート、ブレードコート、エア
ーナイフコート、スクイズコート、含浸コート、トラン
スファーロールコート、グラビアコート、キスコート、
キャストコート、スプレイコート等が利用できる。多条
のストライプ塗布を行うには、これら塗布ヘッドを多連
にすればよく、ストライプ塗布の具体的方法としては、
例えば特開昭４８−２５５０３号、同４８−２５５０４
号、同４８−９８８０３号、同５０−１３８０３７号、
同５２−１５５３３号、同５１−３２０８号、同５１−
６２３９号、同５１−６５６０６号、同５１−１４０７
０３号、特公昭２９−４２２１号、米国特許３，０６
２，１８１号、同３，２２７，１６５号等の記載を参考
にすることができる。

【００３５】磁気記録層を支持体上に強固に接着させる
ために、支持体に下塗層を設けてもよく、又、支持体を
薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫
外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ
処理、レーザー処理、濃酸処理、オゾン酸化処理等の表
面活性化処理をしてもよい。更に、これら表面活性化処
理をした後に下塗層を設けてもよい。下塗層は水系ラテ
ックス系のものが好ましい。

【００３６】磁気記録層に採用できるバインダーや下引
層に用いるバインダーとしては、熱可塑性樹脂、放射線
硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、その他の反応型樹脂があ
り、有機溶媒や水に溶解又は分散したものを単独又は混
合して使用することができる。熱可塑性樹脂としては、
塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢
酸ビニル樹脂、酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合
体、部分加水分解した塩化ビニル・酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル
・アクリロニトリル共重合体、エチレン・ビニルアルコ
ール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン・塩化
ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体等のビ
ニル系重合体又は共重合体、ニトロセルロース、セルロ
ースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネー
ト、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロー
ス誘導体、マレイン酸及び／又はアクリル酸の共重合
体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル・
スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニト
リル・塩素化ポリエチレン・スチレン共重合体、メチル
メタクリレート・ブタヂエン・スチレン共重合体、アク
リル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエー
テルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレン・ブタジエン樹脂、ブタ
ジエン・アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコ
ーン系樹脂、弗素系樹脂等を挙げることができる。特に
セルロース誘導体、中でもセルロースジアセテートが好
ましい。

【００３７】上記熱可塑性樹脂は、Ｔｇが−４０〜１８
０℃、好ましくは−３０〜１５０℃であり、重量平均分
子量は５，０００〜３００，０００であるものが好まし
く、更に好ましくは、重量平均分子量が１０，０００〜
２００，０００のものである。本発明における磁気記録
層は、Ｔｇが５０℃以上のものと、３０℃以下のものを
併用するのが好ましい。Ｔｇについては、新実験化学講
座１９（高分子化学ＩＩ），丸善に詳しく記載されてい
る。

【００３８】これらは水系エマルジョン又は水系コロイ
ド溶液として使用することもできる。これら合成樹脂系
エマルジョンの粒径は５ｎｍ〜２μｍのものを使うこと
が出来る。

【００３９】放射線硬化性樹脂とは、電子線、紫外線等
の放射線によって硬化させる樹脂であり、無水マレイン
酸型、ウレタンアクリル型、エーテルアクリル型、エポ
キシアクリル型のものが挙げられる。

【００４０】又、熱硬化性樹脂、その他の反応型樹脂と
しては、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
系硬化型樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、シリコン系
硬化型樹脂等が挙げられる。

【００４１】上記列挙の結合剤は、その分子中に極性基
を有していてもよい。極性基としてはエポキシ基、−Ｃ
ＯＯＭ、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−ＮＲ₃Ｘ、−ＳＯ₃Ｍ、−
ＯＳＯ₃Ｍ、−ＰＯ₃Ｍ₂、−ＯＰＯ₃Ｍ（Ｍは各々、水素
原子、アルカリ金属又はアンモニウムを、Ｘはアミン塩
を形成する酸を、Ｒは各々、水素原子、アルキル基を表
す）等が挙げられる。

【００４２】上記のバインダーはエポキシ系、アジリジ
ン系、イソシアネート系の公知の架橋剤、あるいは放射
線硬化型の樹脂モノマーを併用して硬化処理することが
できる。イソシアネート系架橋剤としてはイソシアネー
ト基を２個以上有するポリイソシアネート化合物で、た
とえば、トリレンジイソシアネート、４，４′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン
１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、などのイソシア
ネート類、および、これらのイソシアネート類とポリア
ルコールとの反応生成物（例えば、トリレンジイソシア
ネート３ｍｏｌとトリメチロールプロパン１ｍｏｌの反
応生成物）、及び、これらのイソシアネートの縮合によ
り生成したポリイシオシアネートなどがあげられる。具
体的には、コロネート３０４１、ミリオネート４００
（日本ポリウレタン）などがあげられる。

【００４３】この他に本発明に使用できる親水性バイン
ダーとしては、例えばリサーチ・ディスクロージャ（Ｒ
ＤＮｏ．１７６４３，２６頁、及び同Ｎｏ．１８７１
６，６５１頁）に記載されている水溶性ポリマー、セル
ロースエーテル、ラテックスポリマー、水溶性ポリエス
テルを挙げることができる。

【００４４】水溶性ポリマーとしては、前述の他にゼラ
チン、ゼラチン誘導体、カゼイン、寒天、アルギン酸ナ
トリウム、澱粉、ポリビニールアルコール、アクリル酸
系共重合体、無水マレイン酸共重合体等が挙げられ、セ
ルロースエーテルとしては、メチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、
ヒドロキシプロピルセルロース等が挙げられる。

【００４５】水溶性ポリマーを使用する場合は硬膜剤を
使用するのが好ましい。使用できる硬膜剤としては、ア
ルデヒド系化合物類、ケトン化合物類、反応性ハロゲン
を有する化合物類、反応性オレフィンを持つ化合物類、
Ｎ−メチロール化合物、イソシアナート類、アジリジン
化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ムコハロ酸
類、クロム明礬、硫酸ジルコニウム、カルボキシル基活
性型硬膜剤等を挙げることができる。硬膜剤は、通常、
樹脂固形分に対して０．０１〜６０重量％用いられるの
が好ましく、更に好ましくは０．０５〜５０重量％であ
る。

【００４６】磁気記録層に使用できる潤滑剤としては、
ポリシロキサン等のシリコンオイル、ポリエチレン、ポ
リテトラフルオロエチレン等のプラスチック微粉末、高
級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、パラフィンワックス、
フルオロカーボン類が挙げられる。これらは、単独又は
混合して用いることができる。これらの添加量は、乾燥
塗膜１００重量部に対し０．５〜２０重量部の範囲で用
いることができる。水に溶けるか拡散させることができ
るものが好ましい。

【００４７】磁気記録層に使用できる研磨剤としては、
モース硬度が５以上、好ましくは６以上の非磁性無機粉
末が挙げられ、具体的には、酸化物アルミニウム（α−
アルミナ、γ−アルミナ、コランダム等）、酸化クロム
（Ｃｒ₂Ｏ₃）、酸化鉄（α−Ｆｅ₂Ｏ₃）、二酸化珪素、
二酸化チタン等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の炭
化物、ダイアモンド等の微粉末を挙げることができる。
これらの平均粒径は０．０１〜２．０μｍが好ましく、
磁性体粉末１００重量部に対して０．５〜３００重量部
の範囲で添加することができる。

【００４８】磁気記録層に含有される帯電防止剤として
は金属酸化物の微粒子が好ましい。具体例としてはＮｂ
₂Ｏ_5+Xのような酸素過剰な酸化物、ＲｈＯ_2-X，Ｉｒ₂Ｏ
_3-X等の酸素欠損酸化物、あるいはＮｉ（ＯＨ）_Xのよう
な不定比水素化物、ＨｆＯ₂，ＴｈＯ₂，ＺｒＯ₂，Ｃｅ
Ｏ₂，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，ＳｎＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｉｎ
₂Ｏ₃，ＳｉＯ₂，ＭｇＯ，ＢａＯ，ＭｏＯ₂，Ｖ₂Ｏ₅等、
あるいはこれらの複合酸化物が好ましく、特にＺｎＯ，
ＴｉＯ₂及びＳｎＯ₂が好ましい。異種原子を含む例とし
ては、例えばＺｎＯに対してＡｌ，Ｉｎ等の添加、Ｔｉ
Ｏ₂に対してはＮｂ，Ｔａ等の添加、又、ＳｎＯ₂に対し
てはＳｂ，Ｎｂ，ハロゲン元素等の添加が効果的であ
る。これら異種原子の添加量は０．０１〜２５ｍｏｌ％
の範囲が好ましいが、０．１〜１５ｍｏｌ％の範囲が特
に好ましい。

【００４９】又、これらの導電性を有する金属酸化物粉
体の体積抵抗率は１０⁷Ωｃｍ、特に１０⁵Ωｃｍ以下で
あることが好ましい。又、前記金属酸化物の微粒子が水
溶液中に混合されたゾルを用いてもよい。

【００５０】この他に、カーボンブラック、カーボンブ
ラックグラフトポリマー等の導電性微粉末、アルキレン
オキサイド系、グリセリン系及びグリシドール系等のノ
ニオン系界面活性剤；高級アルキルアミン類、第４級ア
ンモニウム塩類、ピリジンその他の複素環化合物の塩
類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン系界
面活性剤；カルボキシル基、燐酸基、硫酸エステル基、
燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン系界面活性
剤；アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸又は燐酸エステル類等の両性界面活性剤等を挙
げることができる。本発明のバインダー系はこれらの帯
電防止剤の分散性にも優れるので、磁気記録層に良好な
導電性を付与することができる。

【００５１】尚、界面活性剤は、ポリマーの置換基とし
て含まれていてもよい。

【００５２】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケ
トン、メチル−ｉ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、
イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ｉ−ブ
チルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、メチルシク
ロヘキサノール等のアルコール系；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸−ｉ−ブチル、酢酸−ｉ−プロ
ピル、乳酸エチル、酢酸グリコール、モノエチルエーテ
ル等のエステル系；エーテル、グリコールジメチルエー
テル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなど
のグリコールエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンなどのター
ル系（芳香族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレ
ンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンク
ロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン、水など
が使用できる。

【００５３】本発明において、支持体としては各種のも
のが使用できる。具体的にはポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等
のポリエステルフィルム、セルローストリアセテート
（ＴＡＣ）フィルム、セルロースジアセテート（ＤＡ
Ｃ）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレ
ンフィルム、ポリオレフィンフィルム等を挙げることが
できる。

【００５４】ポリエステル支持体としては特に限定され
ないが、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフ
タレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸とエチレン
グリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタ
ンジオール等のアルキレングリコール類との縮合ポリマ
ー、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
−２，６−ジナフタレート、ポリプロピレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート等、あるいはこれら
の共重合体が挙げられる。特に、現像処理後の巻癖回復
性の点で特開平１−２４４４４６号、同１−２９１２４
８号、同１−２９８３５０号、同２−８９０４５号、同
２−９３６４１号、同２−１８１７４９号、同２−２１
４８５２号及び特開平２−２９１１３５号等に示される
ような、含水率の高いポリエステルを用いることが好ま
しい。これらのポリエステルは、極性基、その他の置換
基を有していてもよい。

【００５５】本発明の支持体としてはＰＥＴ又はＰＥＮ
が好ましい。これらポリエステルは、フィルム支持体の
機械的強度、寸法安定性などを満足させるために面積比
で４〜１６倍の範囲で延伸を行うことが好ましい。

【００５６】支持体には、マット剤、帯電防止剤、滑
剤、界面活性剤、安定剤、分散剤、可塑剤、紫外線吸収
剤、導電性物質、粘着性付与剤、軟化剤、流動性付与
剤、増粘剤、酸化防止剤等を添加することができる。

【００５７】支持体は、最小濃度部の色味のニュートラ
ル化、写真乳剤層を塗設したフィルムに光がエッジから
入射した時に起こるライトパイピング現象（縁カブリ）
の防止、ハレーション防止等の目的で染料を含有させる
ことができる。

【００５８】この染料の種類は特に限定されないが、支
持体としてポリエステルフィルムを用いる場合、製膜工
程上、耐熱性に優れたものが好ましく、例えばアンスラ
キノン系化学染料等が挙げられる。又、色調としては、
ライトパイピング防止を目的とする場合、一般の感光材
料に見られるようにグレー染色が好ましい。染料は１種
類又は２種類以上の染料を混合して用いてもよい。市販
品として、三菱化成社製：Ｄｉａｒｅｓｉｎ、Ｂａｙｅ
ｒ社製：ＭＡＣＲＯＬＥＸ等の染料を、単独又は適宜混
合して用いることで目標を達成することが可能である。

【００５９】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本
発明の実施の態様はこれらに限定されない。

【００６０】実施例１：（下引処理ベースの作成）ポリエチレン−２，６−ナフ
タレートベース（厚さ８５μｍ）の両面に１０Ｗ／ｍ²
・ｍｉｎのコロナ放電処理を施し、片面に下記組成の下
引塗布液Ｕ−１、Ｕ−２を調製し、ベース側より順次
０．８μｍ、０．１μｍの乾燥膜厚となるように塗布
し、他方の面に下記組成の下引塗布液Ｕ−３、Ｓ−１を
調製し、ベース側より順次０．１μｍ、０．３μｍの乾
燥膜厚となるように塗布して帯電防止機能を持つ下引層
形成済み支持体を作成した。尚、以下の実施例におい
て、特に断りない限り、各素材の「部」は「重量部」を
示す。

【００６１】下引層塗布液（Ｕ−１）ブチルアクリレート／ｔ−ブチルアクリレート／スチレン／２ −ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体ラテックス液（重量構成比＝３０：２０：２５：２５，固形分３０％）２７０部界面活性剤（Ａ−１）０．５部硬膜剤（Ｈ−１）１部純水７３０部下引層塗布液（Ｕ−２）スチレン／マレイン酸共重合体ラテックス液（固形分５％）１００部界面活性剤（Ａ−１）０．５部硬膜剤（Ｈ−２）０．１部マット剤（平均粒径３μｍのシリカ粒子）０．５部純水９００部下引層塗布液（Ｕ−３）エポクロスＫ−２０２０Ｅ（株）日本触媒固形分４０％２００部界面活性剤（Ａ−１）０．５部純水８００部下引層塗布液（Ｓ−１）酸化錫微粉末（平均粒径０．１μｍ）（石原産業（株）製：ＳＮ１００Ｐ）６０部スルホ基含有ポリエステルラテックス（固形分３０％）１２０部ヒドロキシル基含有アクリル酸エステルラテックス（固形分３０％）１２部界面活性剤（Ａ−１）１部純水１２００部使用した化合物の構造を下記に示す。

【００６２】

【化１】

【００６３】（磁気記録層の塗設）前記下引処理ベース
の下引層塗布液Ｓ−１（導電層に当たる）が塗布された
面に、下記組成と手順で磁性層塗布液（Ｍ−１）を調製
し、特開平１−１８４０７２号のエクストルージョン型
塗布ヘッドを用いて塗布を行った。その際、塗布幅を１
００ｍｍ，塗布速度を２５ｍ／ｍｉｎとした。またスパ
ン５００ｍｍのサポートロール間の中間の位置にコータ
ーを設置し、搬送張力は６ｋｇ／１００ｍｍ幅とした。
また塗布時の磁性塗布液の送液流量を２２ｃｃ／ｍｉｎ
とし、塗布後の乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５
（コニカ（株）社製サクラ濃度計ＰＤＡ−６５による）
の磁気記録層を設けた。

【００６４】磁性層塗布液（Ｍ−１）下記組成Ｐ−１を攪拌混合したのち、サンドミルで分散
する。

【００６５】〈Ｐ−１〉コバルト含有γ−酸化鉄（平均長軸長０．１２μｍ，短軸長０．０１５μｍ，Ｆｅ²⁺／Ｆｅ³⁺＝０．２，比表面積４０ｍ²／ｇ，Ｈｃ＝７５０Ｏｅ）７部 α−アルミナ（平均粒径０．２μｍ）５部ポリウレタン（分子量３万，１分子中スルホン酸基２個含有）１部メチルエチルケトン１０部シクロヘキサノン３部上記Ｐ−１を下記の希釈用樹脂溶液ＬＤ−１で希釈し攪拌・混合する。

【００６６】〈ＬＤ−１〉セルロースジアセテート８９部シクロヘキサノン６００部アセトン６００部この塗布液をサンドミルで更に分散した後、コロネート
３０４１（固形分５０％）を２０部添加して攪拌後、フ
ィルターで濾過して磁性層塗布液Ｍ−１とした。

【００６７】（潤滑層の塗設）この磁気記録層の上に、
カルナバワックスを０．１％含有するよう、水／メタノ
ール混合溶液に分散した潤滑剤塗布液を調整し、ワック
ス付量が２０ｍｇ／ｍ²となるように塗布した。ワック
ス液塗布・乾燥後の原反を１００℃の熱処理ゾーンに５
分間通した後、元巻きを５０℃のオーブンに５日間放置
して、イゾシアネートの架橋反応を充分に行った。

【００６８】（感光材料の作成）磁気記録層を有する面
と逆の面、即ち、前記下引層塗布液Ｕ−２の上に２５Ｗ
／ｍ²・ｍｉｎのコロナ放電を施した後、特開平８−３
３４８５８号記載の実施例１，試料１０１の乳剤層構成
より成る多層カラー感光材料を作成した。

【００６９】該試料の乳剤層において、ｍ²当たり、ゼ
ラチンは１３．７ｇ、０．３〜０．４μｍ及び０．７〜
０．８μｍのハロゲン化銀粒子は、それぞれ２．３ｇ、
油滴量は２．８ｇであり、膜厚は２７μｍであった。

【００７０】〈現像処理〉作成した感光材料を、以下に
示す処理工程に従って現像処理した。これを試料１とし
た。

【００７１】処理工程処理時間カラー現像３分１５秒漂白６分３０秒水洗２分１０秒定着４分２０秒水洗３分１５秒安定１分０５秒各工程に用いた処理液組成は下記の通りであった。

【００７２】カラー現像液ジエチレントリアミン五酢酸１．０ｇ１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸２．０ｇ亜硫酸ナトリウム４．０ｇ炭酸カリウム３０．０ｇ臭化カリウム１．４ｇ沃化カリウム１．３ｍｇヒドロキシルアミン硫酸塩２．４ｇ４−（Ｎ−エチル−Ｎ−β−ヒドロキシエチル）アミノ −２−メチルアニリン硫酸塩４．５ｇ水を加えて１リットルとし、ｐＨ１０．０に調整する。

【００７３】漂白液エチレンジアミン四酢酸第二鉄アンモニウム塩１００．０ｇエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩１０．０ｇ臭化アンモニウム１５０．０ｇ硝酸アンモニウム１０．０ｇ水を加えて１リットルとし、ｐＨ６．０に調整する。

【００７４】定着液エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム１．０ｇ亜硫酸ナトリウム４．０ｇチオ硫酸アンモニウム（７０％）１７５．０ｇ重亜硫酸ナトリウム４．６ｇ水を加えて１リットルとし、ｐＨ６．６に調整する。

【００７５】安定液ホルマリン（４０％）２．０ｍｇポリオキシエチレン−ｐ−モノノニルフェニルエーテル（均重合度１０）０．３ｇ水を加えて１リットルとした。

【００７６】実施例２：塗布時の塗布速度を５０ｍ／ｍ
ｉｎ、磁性塗布液の送液流量を４４ｃｃ／ｍｉｎとし、
その他は実施例１と全く同様にして、試料２を作成し
た。塗布後の磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学
濃度０．０５であり、試料１と同様であった。

【００７７】実施例３：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、その他は実施例１と
全く同様にして、試料３を作成した。塗布後の磁気記録
層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であり、
試料１と同様であった。

【００７８】実施例４：塗布時の塗布速度を２００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を１７６ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を１２ｋｇ／１００ｍｍとし、その他は実施例
１と全く同様にして、試料４を作成した。塗布後の磁気
記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００７９】実施例５：磁性塗布液Ｍ−１のＬＤ−１を
下記のＬＤ−２に変更し、磁性塗布液Ｍ−２を調製し
た。またＭ−２塗布液塗布時の塗布速度を５０ｍ／ｍｉ
ｎ、磁性塗布液の送液流量を２９ｃｃ／ｍｉｎ、その他
は実施例１と全く同様にして、試料５を作成した。塗布
後の磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．
０５であり、試料１と同様であった。

【００８０】〈ＬＤ−２〉セルロースジアセテート８９部シクロヘキサノン４００部アセトン４００部実施例６：Ｍ−２塗布液塗布時の、塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を５８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、その他は実施例１
と全く同様にして、試料６を作成した。塗布後の磁気記
録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００８１】実施例７：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が５５％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が１００ガウスとなるよ
うに、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例１
と全く同様にして、試料７を作成した。塗布後の磁気記
録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００８２】実施例８：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が５５％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が１０００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料８を作成した。塗布後の磁気
記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００８３】実施例９：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が５５％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料９を作成した。塗布後の磁気
記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００８４】実施例１０：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が３８％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が１００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料１０を作成した。塗布後の磁
気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５で
あり、試料１と同様であった。

【００８５】実施例１１：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が３８％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が１０００ガウスとな
るように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施
例１と全く同様にして、試料１１を作成した。塗布後の
磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５
であり、試料１と同様であった。

【００８６】実施例１２：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が３８％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウスとな
るように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施
例１と全く同様にして、試料１２を作成した。塗布後の
磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５
であり、試料１と同様であった。

【００８７】実施例１３：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が１５％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が１００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料１３を作成した。塗布後の磁
気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５で
あり、試料１と同様であった。

【００８８】実施例１４：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が１５％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が１０００ガウスとな
るように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施
例１と全く同様にして、試料１４を作成した。塗布後の
磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５
であり、試料１と同様であった。

【００８９】実施例１５：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が１５％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウスとな
るように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施
例１と全く同様にして、試料１５を作成した。塗布後の
磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５
であり、試料１と同様であった。

【００９０】実施例１６：塗布時の塗布速度を１００ｍ
／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を
乾燥させる際に、磁性塗布液の残留溶剤量が５５％の時
点で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウス、２
０％の時点で１０００ガウスとなるように、２つの永久
磁石で２段階の磁場配向を行った。その他は実施例１と
全く同様にして、試料１６を作成した。塗布後の磁気記
録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００９１】比較例１：塗布時の塗布速度を１５ｍ／ｍ
ｉｎ、磁性塗布液の送液流量を１３ｃｃ／ｍｉｎとし、
その他は実施例１と全く同様にして、試料１７を作成し
た。塗布後の磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学
濃度０．０５であり、試料１と同様であった。

【００９２】比較例２：塗布時の塗布速度を２５０ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を２２０ｃｃ／ｍｉｎ、
搬送張力を１５ｋｇ／１００ｍｍとし、その他は実施例
１と全く同様にして、試料１８を作成した。塗布後の磁
気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５で
あり、試料１と同様であった。

【００９３】比較例３：Ｍ−２塗布液塗布時の、塗布速
度を１５０ｍ／ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８７ｃ
ｃ／ｍｉｎ、搬送張力を１５ｋｇ／１００ｍｍとし、そ
の他は実施例１と全く同様にして、試料１９を作成し
た。塗布後の磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学
濃度０．０５であり、試料１と同様であった。

【００９４】比較例４：磁性塗布液Ｍ−１のＬＤ−１を
下記のＬＤ−３に変更し、磁性塗布液Ｍ−３を調整し
た。またＭ−３塗布液塗布時の、塗布速度を１５ｍ／ｍ
ｉｎ、磁性塗布液の送液流量を１１ｃｃ／ｍｉｎとし、
その他は実施例１と全く同様にして、試料２０を作成し
た。塗布後の磁気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学
濃度０．０５であり、試料１と同様であった。

【００９５】〈ＬＤ−３〉セルロースジアセテート８９部シクロヘキサノン５００部アセトン５００部比較例５：塗布時の塗布速度を１００ｍ／ｍｉｎ、磁性
塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬送張力を９ｋ
ｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾燥させる際
に、磁性塗布液の溶剤含有率が３８％の時点で、磁気記
録層表面の磁束密度が３０００ガウスとなるように、永
久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例１と全く同
様にして、試料２１を作成した。塗布後の磁気記録層
は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であり、試
料１と同様であった。

【００９６】比較例６：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が３８％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が３０ガウスとなるよう
に、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例１と
全く同様にして、試料２２を作成した。塗布後の磁気記
録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【００９７】比較例７：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が８％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料２３を作成した。塗布後の磁
気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５で
あり、試料１と同様であった。

【００９８】比較例８：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が６５％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が２０００ガウスとなる
ように、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例
１と全く同様にして、試料２４を作成した。塗布後の磁
気記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５で
あり、試料１と同様であった。

【００９９】比較例９：塗布時の塗布速度を１００ｍ／
ｍｉｎ、磁性塗布液の送液流量を８８ｃｃ／ｍｉｎ、搬
送張力を９ｋｇ／１００ｍｍとし、また磁性塗布液を乾
燥させる際に、磁性塗布液の溶剤含有率が６５％の時点
で、磁気記録層表面の磁束密度が１００ガウスとなるよ
うに、永久磁石で磁場配向を行った。その他は実施例１
と全く同様にして、試料２５を作成した。塗布後の磁気
記録層は、乾燥膜厚０．５μｍ，光学濃度０．０５であ
り、試料１と同様であった。

【０１００】（磁気記録層の評価）このようにして得ら
れた各々の試料について、磁気記録層の配向比と磁気出
力の測定を行った。また、磁性体の凝集状態を評価する
ために、光学顕微鏡（４００倍）による観察を行った。
その結果を表１にまとめる。

【０１０１】《磁気出力（電磁変換特性）》オーディオ
テープレコーダー用の磁気ヘッドにより、磁気記録層長
手方向に、搬送速度１００ｍｍ／ｓで、３ｋＨｚの方形
波を最適記録電流で記録し、同じく搬送速度１００ｍｍ
／ｓで再生し、そのときの再生出力を測定した。また磁
気出力の値は、比較例１の長手方向を０ｄＢとしてｄＢ
換算で求めた。

【０１０２】《配向比》東英工業製試料振動型磁束計
（ＶＳＭ−３）により、最大磁界５ｋエルステッドで磁
気記録層の長手方向，幅手方向の角型比を測定し、長手
／幅手の計算により算出した。

【０１０３】以上の結果を表１に示す。

【０１０４】

【表１】

【０１０５】表１の実施例１〜６から、塗布時のずり速
度が２×１０⁴以上であれば、配向比が高くなり、磁気
記録層の長手方向の磁気出力が高くできることがわか
る。またずり速度が高くなるにつれて、配向比も高くす
ることができることがわかる（請求項１記載の発明）。
これに対して、比較例１〜４から、ずり速度が２×１０
⁴以下であると、ほとんど配向比を高くすることができ
ず、またあまりずり速度が高いと（この場合は２×１０
⁵以上）、塗布不能に陥ってしまうことがわかる。

【０１０６】また表１の実施例７〜１６から、塗布液の
溶剤含有率が、６０％以下から１０％以上である時に、
磁気記録層表面の磁束密度が５０から２０００ガウスで
磁場配向を行うことを組み合わせることによって、更に
配向比を高くし、磁気出力を高くすることができること
がわかる（請求項２記載の発明）。これに対して比較例
５〜９から、溶剤含有率１０％以下および磁束密度５０
ガウス以下では、ほとんど配向比の変化が無い。また溶
剤含有率６０％以上および磁束密度２０００ガウス以上
では、磁性体が凝集を起こしてしまう。特に比較例５，
８は肉眼でも、凝集が確認可能なほど、強いレベルであ
った。

【０１０７】

【発明の効果】本発明により、光学的な透明性に優れ、
かつ高い磁気出力、すなわち配向比の高い磁気記録媒体
の製造方法を提供することができた。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上の少なくとも１方に、透明な磁
気記録層を有する磁気記録媒体の製造方法において、該
磁気記録層を形成する磁性塗布液を、支持体上に塗布す
る際に、該磁性塗布液にかかるずり速度が、２×１０⁴
〜２×１０⁵（１／ｓ）であることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
【請求項２】前記磁気記録層を形成する磁性塗布液
を、支持体上に塗布し乾燥させる際に、該磁性塗布液の
溶剤含有率が、１０〜６０％である時に、磁気記録層表
面の磁束密度が５０〜２０００ガウスで磁場配向を行う
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体の製造
方法。