JPH1113457A - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents

内燃機関の排気浄化装置

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JPH1113457A
JPH1113457A JP9169018A JP16901897A JPH1113457A JP H1113457 A JPH1113457 A JP H1113457A JP 9169018 A JP9169018 A JP 9169018A JP 16901897 A JP16901897 A JP 16901897A JP H1113457 A JPH1113457 A JP H1113457A
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passage
exhaust gas
catalyst
temperature
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JP9169018A
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Yoshimasa Watanabe
義正 渡辺
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  • Exhaust Gas After Treatment (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 機関過渡運転時に排気中のNOX を良好に浄
化する。 【解決手段】 機関排気通路内に配置された触媒15の
担体20は排気通路軸線J−J方向に延びて排気通路を
開放通路22と閉鎖通路23とに分離する通気性を備え
た分離壁21を具備する。開放通路22の内壁面22a
上のみにNOX を浄化するための排気浄化触媒を配置す
る。触媒15に流入する排気の温度が上昇したとき、排
気浄化触媒の排気上流端周りには還元剤が完全酸化され
うる高温領域が形成されるが、閉鎖通路23内に流入し
た還元剤は完全に酸化されることなく閉鎖通路23内を
流通し、次いで分離壁21を通過して開放通路22の比
較的低温の部分に到り、排気浄化触媒においてNOX
還元する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は内燃機関の排気浄化
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】機関排気通路内に配置された排気浄化触
媒に還元剤を供給して排気浄化触媒においてこの還元剤
によりNOX を還元するようにしたディーゼル機関の排
気浄化装置が公知である(特開平6−26328号公報
参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで排気浄化触媒
は通常、いわゆるハニカム状をなす担体上に担持されて
おり、このハニカム状担体は排気上流端および排気下流
端が共に開放された複数の開放通路を備えているので排
気は各開放通路内を排気上流端から排気下流端に向けて
順次流通することになる。この場合、排気浄化触媒に流
入する排気の温度が上昇するとまず排気浄化触媒の排気
上流端周りに高温部分が形成され、この高温部分が排気
浄化触媒の排気上流端から排気下流端に向けて順次拡大
することになる。ところが、高温部分の温度がかなり高
いときには還元剤はNOX よりも酸素と活発に反応する
ようになり、その結果排気浄化触媒に供給された還元剤
のほとんどがこの高温部分において完全に酸化され、し
たがってNOX 還元作用が行われうる排気浄化触媒の排
気下流側部分に還元剤がほとんど到達せず、斯くしてN
X を良好に還元することができないという問題点があ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に1番目の発明によれば、機関排気通路内に配置された
排気浄化触媒に還元剤を供給して排気浄化触媒において
この還元剤によりNO X を還元するようにした内燃機関
において、排気通路のほぼ軸線方向に延びる分離壁によ
り排気通路を一対の通路に分割し、これら一対の通路の
うち一方の通路の排気下流端を閉鎖してこの一方の通路
により閉鎖通路を形成すると共に他方の通路により開放
通路を形成し、分離壁を通気性材料から形成することに
より閉鎖通路内に流入した排気が分離壁を通過した後に
開放通路内に流入して開放通路内を流通する排気と合流
するようにし、上記排気浄化触媒を開放通路の内壁面上
のみに配置している。すなわち1番目の発明では、閉鎖
通路内に流入した還元剤は完全に酸化されることなく閉
鎖通路内を流通し、次いで開放通路内に流入する。その
結果、排気浄化触媒のNOX 還元作用が行われうる部分
に還元剤が供給されうるようになり、したがって排気浄
化触媒に流入する排気の温度が上昇したときであっても
NOX が良好に浄化される。
【0005】また、2番目の発明によれば1番目の発明
において、上記閉鎖通路および上記開放通路を複数具備
し、これら閉鎖通路および開放通路を交互に繰り返し配
置している。すなわち2番目の発明では、閉鎖通路内に
多量の排気浄化触媒が配置されるので多量のNOX が同
時に還元される。また、3番目の発明によれば1番目の
発明において、上記分離壁の流路抵抗が排気下流端に近
づくにつれて大きくなるようにしている。分離壁の流路
抵抗を排気通路軸線方向に一様に形成すると閉鎖通路内
に流入した大部分の排気は排気下流端周りの分離壁を通
過して開放通路内に流入し、すなわち閉鎖通路内に流入
した大部分の還元剤は排気下流端周りの排気浄化触媒に
供給されるので好ましくない。そこで3番目の発明で
は、分離壁の流路抵抗を排気下流端に近づくにつれて大
きくなるようにし、それにより閉鎖通路内に流入した排
気が分離壁を排気通路軸線方向に関し一様に通過するよ
うにしている。
【0006】
【発明の実施の形態】図1は本発明をディーゼル機関に
適用した場合を示している。図1を参照すると、1は機
関本体、2はピストン、3は燃焼室、4は吸気ポート、
5は吸気弁、6は排気ポート、7は排気弁、8は燃焼室
3内に燃料を直接噴射する燃料噴射弁をそれぞれ示す。
各気筒の吸気ポート4はそれぞれ対応する吸気枝管9を
介して共通のサージタンク10に接続され、サージタン
ク10は吸気ダクト11を介してエアクリーナ12に接
続される。吸気ダクト11内にはアクセルペダル40と
連動する吸気絞り弁13が配置される。一方、各気筒の
排気ポート6は共通の排気マニホルド14に接続され、
この排気マニホルド14は触媒15を内蔵した触媒コン
バータ16に接続され、触媒コンバータ16は排気管1
7に接続される。また、各気筒の燃料噴射弁8は共通の
燃料用蓄圧室18を介して燃料ポンプ19に接続され
る。このようにすると各気筒の1燃焼サイクルにおいて
複数回燃料噴射を行うことができる。なお、各燃料噴射
弁8は電子制御ユニット30からの出力信号に基づいて
制御される。
【0007】電子制御ユニット(ECU)30はデジタ
ルコンピュータからなり、双方向性バス31を介して相
互に接続されたROM(リードオンリメモリ)32、R
AM(ランダムアクセスメモリ)33、CPU(マイク
ロプロセッサ)34、入力ポート35、および出力ポー
ト36を具備する。排気マニホルド14には触媒15に
流入する排気の温度に比例した出力電圧を発生する温度
センサ37uが取り付けられ、排気管17には触媒15
から流出した排気の温度に比例した出力電圧を発生する
温度センサ37dが取り付けられる。これら温度センサ
37u,37dの出力電圧はそれぞれ対応するAD変換
器38を介して入力ポート35に入力される。なお、触
媒15に流入する排気の温度すなわち入口温度Tuは触
媒15の排気上流端の温度を表しており、触媒15から
流出した排気の温度すなわち出口温度Tdは触媒15の
排気下流端の温度を表している。また、入力ポート35
にはクランクシャフトが例えば30度回転する毎に出力
パルスを発生するクランク角センサ39が接続される。
CPU34ではこの出力パルスに基づいて機関回転数N
が算出される。さらに、アクセルペダル40の踏み込み
量DEPに比例した出力電圧を発生する踏み込み量セン
サ41の出力電圧が対応するAD変換器38を介して入
力ポート35に入力される。一方、出力ポート36は駆
動回路42を介して各燃料噴射弁8にそれぞれ接続され
る。
【0008】図2に触媒15の拡大断面図を示す。触媒
15は全体として円筒状をなす担体20を具備し、この
担体20は通気性材料、すなわちゼオライト、アルミ
ナ、コージェライト、SiC、金属多孔板などの多孔質
材料から形成される。なお、ゼオライトとして例えばZ
SM−5型、フェリエライト、モルデナイトなどの高シ
リカ含有ゼオライトを用いることができる。担体20は
ほぼ排気通路軸線J−J方向に延びる複数の分離壁21
を具備し、これら分離壁21は排気通路を複数の通路に
分割して交互に繰り返し配置された複数の開放通路22
と複数の閉鎖通路23とを形成する。開放通路22はそ
の排気上流端22uおよび排気下流端22dが共に開放
されており、したがって図2において矢印でもって示さ
れるように排気上流端22uから開放通路22内に流入
した排気はこの開放通路22内を流通した後に排気下流
端22dから流出する。一方、閉鎖通路23はその排気
上流端23uが開放されているが排気下流端23dが閉
鎖されており、したがって図2において矢印でもって示
されるように排気上流端23uから閉鎖通路23内に流
入した排気は分離壁21を通過して隣接する開放通路2
2内に流入し、開放通路22内を流通する排気と合流し
た後にこの開放通路22の排気下流端22dから流出す
る。
【0009】なお、分離壁21の流路抵抗は排気下流端
に近づくにつれて大きくなるようにされている。その結
果、閉鎖通路23内に流入した排気が分離壁21を排気
通路軸線J−J方向に関し一様に通過するようになる。
図3に示されるように、開放通路22の内壁面22a上
には排気浄化触媒24が担持され、しかしながら閉鎖通
路23の内壁面23a上には担持されない。排気浄化触
媒24をどのように構成してもよいが、図1のディーゼ
ル機関1では排気浄化触媒24を白金Pt、パラジウム
Pdなどの貴金属から構成している。この排気浄化触媒
24は例えば炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)な
どの還元剤を含む酸素雰囲気において流入する排気中の
NOX をこれらHC、COなどと選択的に反応せしめ、
それによってNOX を窒素N2 に還元することができ
る。すなわち、排気浄化触媒24は流入する排気が還元
剤を含んでいると、たとえ酸素雰囲気であっても流入す
る排気中のNOX を還元する。
【0010】この場合のNOX 還元作用のメカニズムに
ついては明らかでない部分もある。しかしながら、この
NOX 還元作用は以下のようなメカニズムで行われてい
るものと考えられる。すなわち、排気浄化触媒24を白
金Ptから形成した場合について説明すると、排気中の
NOが白金Ptの表面に到ると白金Pt表面に付着しつ
つ酸化され(2NO+O2 →2NO2 )、活性状態にさ
れる。一方、排気中のHCが白金Ptに到ると部分酸化
され或いはCOが生成され、次いでこれら部分酸化され
たHCおよびCOは活性状態のNO2 に到り、斯くして
NOX が還元される。なお、排気浄化触媒24を他の貴
金属を用いた場合にも同様のメカニズムとなる。
【0011】このような排気浄化触媒24のNOX 還元
作用は排気浄化触媒24が活性状態にあるとき、すなわ
ち排気浄化触媒24の温度が活性温度の下限しきい値L
Tと上限しきい値UT間にあるときに最も効率的に行わ
れる。これは、排気浄化触媒24の温度が活性温度の下
限しきい値LTよりも低いとNOまたはHCの酸化反応
が生じにくくなり或いはNO2 が活性状態にされず、一
方、排気浄化触媒24の温度が上限しきい値UTよりも
高いとHCがNOX よりも酸素と活発に反応するように
なるためであると考えられている。なお、排気浄化触媒
24を白金Ptから形成した場合、下限しきい値LTは
約200℃であり、上限しきい値UTは約300℃であ
る。
【0012】ところで、図1のディーゼル機関では機関
から排出されるスモークやパティキュレートを低減する
ために燃焼室3内で燃焼せしめられる混合気の空燃比が
理論空燃比よりもリーンに維持される。このため、排気
浄化触媒24は酸素雰囲気に維持されることになる。し
たがって、排気浄化触媒24に還元剤が存在すれば流入
する排気中のNOX は排気浄化触媒24において良好に
還元される。この場合、機関から排出される未燃HCや
COなどが還元剤として作用しうるが、ディーゼル機関
から排出される未燃HCなどに比べて浄化すべきNOX
量は圧倒的に多く、すなわちNOX を良好に浄化するた
めの還元剤が不足する。そこで、燃料噴射弁8から副燃
料噴射を行うことによって排気浄化触媒24に還元剤と
しての燃料(炭化水素)を2次的に供給し、それによっ
てNOX に対し還元剤が不足しないようにしている。
【0013】すなわち、例えば圧縮上死点周りに行われ
る通常の燃料噴射すなわち主燃料噴射に加えて、燃料噴
射弁8から膨張行程または排気行程に2回目の燃料噴射
すなわち副燃料噴射を行い、それによって排気中に燃料
を2次的に供給するようにしている。なお、この副燃料
噴射による燃料は機関出力にほとんど寄与しない。本実
施態様では上述したように分離壁21の流路抵抗が排気
下流端に近づくにつれて大きくなるようにされており、
したがって閉鎖通路23内に流入した排気が分離壁21
を排気通路軸線J−J方向に関し一様に通過するように
なる。その結果、還元剤が排気浄化触媒24に一様に供
給されることとなり、したがってNOX をさらに良好に
浄化することができる。
【0014】再び図3を参照すると、閉鎖通路23の内
壁面23a上には補助触媒25が担持される。この補助
触媒25は例えばゼオライトに担持された排気浄化触媒
24よりも酸化力が弱い触媒成分、例えば銅Cu、鉄F
eなどの遷移金属からなる。この補助触媒25は閉鎖通
路23内に流入した還元剤を部分酸化し、しかしながら
完全には酸化しない。なお、ゼオライトは温度が低いと
きにHCを吸着し、温度が高くなると吸着されているH
Cを放出するHC吸放出作用を備えている。したがっ
て、補助触媒25は温度が低いときに過剰のHCを吸着
し、温度が高くなると吸着されているHCを放出し、こ
のHCは次いで排気浄化触媒24に到ってNOX を還元
する。したがって、NOX 還元作用のためにHCが不足
するのがさらに阻止されている。
【0015】次に、図4および図5を参照して本発明に
よる排気浄化方法を詳細に説明する。図4および図5に
おいてxは触媒15の排気上流端からの排気通路軸線J
−J方向位置を示しており、Txは位置xにおける排気
浄化触媒24の温度を示している。図4は例えば機関減
速運転時のように触媒15に流入する排気の温度が低下
した場合を示している。触媒15に流入する排気の温度
が低下するとまず触媒15の排気上流端周りの温度が低
下し、しかしながら排気下流端周りは高温に維持され
る。その結果、排気浄化触媒24の排気上流側に不活性
領域AIが形成され、排気下流側に活性領域AAが形成
される。この場合、開放通路22内に流入したHCは不
活性領域AI内を流通した後に活性領域AA内に流入
し、したがってHCは完全に酸化されることなく活性領
域AAに到る。その結果、部分酸化されたHC(H
* )およびCOが生成される。一方、閉鎖通路23内
に流入したHCの一部は補助触媒25により部分酸化さ
れてHC* およびCOが生成され、これらHC* および
COは次いで分離壁21を通過して活性領域AA内に流
入する。このとき活性領域AAでは活性状態のNO
2 (NO2 * )が白金Ptの表面上に付着しており、そ
の結果NO2 * がこれらHC* およびCOにより還元さ
れる。
【0016】ところで、閉鎖通路23の流路抵抗は開放
通路22よりも大きく、したがって閉鎖通路23内にお
ける排気流速は開放通路22内におけるよりも低いので
閉鎖通路23における熱伝達速度は開放通路22におけ
るよりも低くなる。すなわち、触媒15に流入する排気
の温度が低下した後しばらくの間は、同一の位置xにお
いて閉鎖通路23内の温度は開放通路22内よりも高く
なっている。その結果、排気浄化触媒24の低温の不活
性領域AIが拡大したとしてもこの不活性領域AIに隣
接する補助触媒25においてHC* およびCOが生成さ
れうる。これらHC* およびCOは次いで活性領域AA
に到り、斯くしてNOX をさらに良好に還元することが
できる。
【0017】一方、図5は例えば機関加速運転時のよう
に触媒15に流入する排気の温度が上昇した場合を示し
ている。触媒15に流入する排気の温度が上昇するとま
ず触媒15の排気上流端周りの温度が上昇し、しかしな
がら排気下流端周りは低温に維持される。その結果、排
気浄化触媒24の排気上流側に活性領域AAが形成さ
れ、排気下流側に不活性領域AIが形成される。この場
合、開放通路22内に流入したHCはまず不活性領域A
I内に流入し、この高温の不活性領域AIにおいてHC
のほとんどが完全に酸化される。すなわち、開放通路2
2内に流入したHCのほとんどは活性領域AA内に到達
できない。ところが、閉鎖通路23内に流入したHC、
或いは補助触媒25から放出されたHCは完全に酸化さ
れることなく閉鎖通路23内を流通し、HC* およびC
Oの形で活性領域AAに隣接する閉鎖通路23に到る。
これらHC* およびCOは次いで分離壁21を通過して
活性領域AA内に流入し、斯くしてNO2 * を還元す
る。
【0018】すなわち、還元剤が完全に酸化されない領
域が排気浄化触媒24の高温の不活性領域AIを迂回し
て活性領域AAに隣接する位置まで形成されているので
排気浄化触媒24に流入する排気の温度が上昇した場合
にも排気浄化触媒24の活性領域AAに還元剤を供給す
ることができ、したがって良好なNOX 還元作用を確保
することができる。
【0019】また、上述の理由から触媒15に流入する
排気の温度が上昇した後しばらくの間は、同一の位置x
において閉鎖通路23内の温度は開放通路22内よりも
低くなっている。その結果、排気浄化触媒24の高温の
不活性領域AIが拡大したとしてもこの不活性領域AI
に隣接する補助触媒25においてHC* およびCOが生
成されうる。これらHC* およびCOは次いで活性領域
AAに到り、斯くしてNOX をさらに良好に還元するこ
とができる。
【0020】このように本実施態様では触媒15に流入
する排気の温度が低下するときであろうと上昇するとき
であろうとNOX を良好に浄化することができ、したが
って機関過渡運転時であってもNOX を良好に浄化する
ことができる。ところで、排気浄化触媒24全体が活性
状態にないときに副燃料噴射を行って排気浄化触媒24
に還元剤を供給してもこの還元剤はNOX を還元するこ
となく或いは酸化されることなく排気浄化触媒24から
排出されてしまう。一方、入口温度Tuが上限しきい値
UTよりも高くかつ出口温度Tdが上限しきい値UTよ
りも高いときには排気浄化触媒24全体の温度が上限し
きい値UTよりも高いと判断することができ、入口温度
Tuが下限しきい値LTよりも低くかつ出口温度Tdが
下限しきい値LTよりも低いときには排気浄化触媒24
全体の温度が下限しきい値LTよりも引きと判断するこ
とができる。そこで、本実施態様ではTu>UTかつT
d>UTのとき、またはTu<LTかつTd<LTのと
きには副燃料噴射を停止するようにしている。したがっ
て、還元剤をNOX 還元のために有効に利用することが
できる。
【0021】図6は副燃料噴射を制御するためのルーチ
ンを示している。このルーチンは例えばメインルーチン
内で実行される。図6を参照すると、まずステップ50
では、入口温度Tuが排気浄化触媒24の活性温度の上
限しきい値UTよりも高くかつ出口温度Tdが上限しき
い値UTよりも高いか否かが判別される。Tu>UTか
つTd>UTのときには排気浄化触媒24全体が限しき
い値UTよりも高い温度であると判断してステップ51
に進み、副燃料噴射を停止する。Tu≦UTであるか或
いはTd≦UTのときには次いでステップ52に進み、
入口温度Tuが排気浄化触媒24の活性温度の下限しき
い値LTよりも低くかつ出口温度Tdが下限しきい値L
Tよりも低いか否かが判別される。Tu<LTかつTd
<LTのときには排気浄化触媒24全体が下限しきい値
LTよりも低い温度であると判断してステップ51に進
み、副燃料噴射を停止する。Tu≧LTであるか或いは
Td≧LTのときには次いでステップ53に進み、副燃
料噴射が実行される。
【0022】上述の実施態様では、触媒15に還元剤を
供給するために機関膨張行程または排気行程に燃料噴射
弁8から副燃料噴射を行うようにしている。しかしなが
ら、例えば排気マニホルド14内に還元剤噴射弁を取り
付け、この還元剤噴射弁から例えばガソリン、イソオク
タン、ヘキサン、ヘプタン、軽油、灯油のような炭化水
素、或いは液体の状態で保存しうるブタン、プロパンの
ような炭化水素、或いは水素や一酸化炭素を2次的に供
給するようにすることもできる。
【0023】また、本発明を火花点火式機関に適用する
こともできる。この場合、燃焼室3内で燃焼せしめられ
る混合気の空燃比を一時的にリッチにすることによって
触媒15に還元剤を供給することができる。
【0024】
【発明の効果】機関過渡運転時に排気中のNOX を良好
に浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】内燃機関の全体図である。
【図2】触媒の拡大断面図である。
【図3】図2の断面図の部分拡大図である。
【図4】排気浄化触媒に流入する排気の温度が低下した
場合の排気浄化作用を説明する図である。
【図5】排気浄化触媒に流入する排気の温度が上昇した
場合の排気浄化作用を説明する図である。
【図6】副燃料噴射制御を実行するためのフローチャー
トである。
【符号の説明】
3…燃焼室 8…燃料噴射弁 14…排気マニホルド 15…触媒 20…担体 21…分離壁 22…開放通路 23…閉鎖通路 24…排気浄化触媒 25…補助触媒 J…排気通路軸線

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 機関排気通路内に配置された排気浄化触
    媒に還元剤を供給して該排気浄化触媒において該還元剤
    によりNOX を還元するようにした内燃機関において、
    排気通路のほぼ軸線方向に延びる分離壁により排気通路
    を一対の通路に分割し、これら一対の通路のうち一方の
    通路の排気下流端を閉鎖して該一方の通路により閉鎖通
    路を形成すると共に他方の通路により開放通路を形成
    し、分離壁を通気性材料から形成することにより閉鎖通
    路内に流入した排気が分離壁を通過した後に開放通路内
    に流入して開放通路内を流通する排気と合流するように
    し、上記排気浄化触媒を開放通路の内壁面上のみに配置
    した排気浄化装置。
  2. 【請求項2】 上記閉鎖通路および上記開放通路を複数
    具備し、これら閉鎖通路および開放通路を交互に繰り返
    し配置した請求項1に記載の排気浄化装置。
  3. 【請求項3】 上記分離壁の流路抵抗が排気下流端に近
    づくにつれて大きくなるようにした請求項1に記載の排
    気浄化装置。
JP9169018A 1997-06-25 1997-06-25 内燃機関の排気浄化装置 Pending JPH1113457A (ja)

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