JPH11140135A - 新規プロペニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 - Google Patents
新規プロペニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】皮膚低刺激性で低臭気性、かつ硬化時に酸素の
影響が少ない新規プロペニルエーテルを提供すること。 【解決手段】一般式(A)で表されるプロペニルエーテ
ル。 【化1】 (式(A)中X1 はプロペニロキシ基含有硬化性基また
は水素原子を表すが、2個のX1 のうち50%以上はプ
ロペニロキシ基含有硬化性基である。)
影響が少ない新規プロペニルエーテルを提供すること。 【解決手段】一般式(A)で表されるプロペニルエーテ
ル。 【化1】 (式(A)中X1 はプロペニロキシ基含有硬化性基また
は水素原子を表すが、2個のX1 のうち50%以上はプ
ロペニロキシ基含有硬化性基である。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なプロペニルエ
ーテル、該プロペニルエーテルを含有する重合性組成
物、およびその硬化物に関する。
ーテル、該プロペニルエーテルを含有する重合性組成
物、およびその硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型
樹脂などの重合性組成物は主に、インキ、塗料、接着
剤、レジスト、製版材などの多くの分野で用いられてい
る。この重合性組成物の主剤としては、アクリル系モノ
マーや多官能アクリレートが最も一般的である。ところ
が、アクリル系モノマーには皮膚刺激性や臭気性、酸素
による重合抑制作用に付随する諸問題がある。
樹脂などの重合性組成物は主に、インキ、塗料、接着
剤、レジスト、製版材などの多くの分野で用いられてい
る。この重合性組成物の主剤としては、アクリル系モノ
マーや多官能アクリレートが最も一般的である。ところ
が、アクリル系モノマーには皮膚刺激性や臭気性、酸素
による重合抑制作用に付随する諸問題がある。
【0003】そこで最近、皮膚低刺激性で低臭気性、か
つ酸素の影響が少ない脂環式エポキシ化合物やビニルエ
ーテル化合物を用いた、カチオン重合系が注目されるよ
うになった。しかし、脂環式エポキシ化合物はラジカル
系のUV硬化と比較して、硬化速度が遅く、また、ビニ
ルエーテル化合物は工業的な製造が困難であった。
つ酸素の影響が少ない脂環式エポキシ化合物やビニルエ
ーテル化合物を用いた、カチオン重合系が注目されるよ
うになった。しかし、脂環式エポキシ化合物はラジカル
系のUV硬化と比較して、硬化速度が遅く、また、ビニ
ルエーテル化合物は工業的な製造が困難であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低臭気性、
低皮膚刺激性であり、カチオン重合において硬化速度が
速く、かつ容易に製造できる紫外線硬化性化合物及び重
合性組成物を提供することを目的とする。
低皮膚刺激性であり、カチオン重合において硬化速度が
速く、かつ容易に製造できる紫外線硬化性化合物及び重
合性組成物を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討した結果、種々の分野におい
て極めて有用である化合物を見いだし、本発明を完成し
た。すなわち本発明は、(1)式(A)で表されるプロ
ペニルエーテル、
を解決するため、鋭意検討した結果、種々の分野におい
て極めて有用である化合物を見いだし、本発明を完成し
た。すなわち本発明は、(1)式(A)で表されるプロ
ペニルエーテル、
【0006】
【化3】
【0007】(式(A)中X1 は式(1)
【0008】
【化4】
【0009】(式(1)中Rは炭素数2〜12のアルキ
レン基を、nは0〜10の整数をそれぞれ表す。)また
は水素原子を表すが、2個のX1 のうち50%以上は式
(1)である。) (2)上記(1)記載のプロペニルエーテルを含む重合
性組成物、(3)上記(2)記載の重合性組成物を硬化
して得られる硬化物に関する。
レン基を、nは0〜10の整数をそれぞれ表す。)また
は水素原子を表すが、2個のX1 のうち50%以上は式
(1)である。) (2)上記(1)記載のプロペニルエーテルを含む重合
性組成物、(3)上記(2)記載の重合性組成物を硬化
して得られる硬化物に関する。
【0010】
【発明の実施の形態】式(A)で表される化合物は、例
えば式(2)
えば式(2)
【0011】
【化5】
【0012】(式(2)中X2 は式(3)
【0013】
【化6】
【0014】(式(3)中Rおよびnは式(1)におけ
るのと同じ意味を表す。)で表される基または水素原子
を表すが、2個のX2 のうち50%以上は式(3)であ
る。)で表されるアリルエーテルのアリル転移反応や、
式(4)
るのと同じ意味を表す。)で表される基または水素原子
を表すが、2個のX2 のうち50%以上は式(3)であ
る。)で表されるアリルエーテルのアリル転移反応や、
式(4)
【0015】
【化7】
【0016】(式(4)中X3 は式(5)
【0017】
【化8】
【0018】(式(5)中Rおよびnは式(1)におけ
るのと同じ意味を表す。)で表される基である。)で表
される化合物とプロピオンアルデヒドとのアセタール化
−脱アセタール化反応等、その合成自体は公知の方法に
従って得られるが、アリル転移反応が好ましい。
るのと同じ意味を表す。)で表される基である。)で表
される化合物とプロピオンアルデヒドとのアセタール化
−脱アセタール化反応等、その合成自体は公知の方法に
従って得られるが、アリル転移反応が好ましい。
【0019】前記アリル転移反応において用い得る式
(2)の化合物は、前記式(4)と式(6)
(2)の化合物は、前記式(4)と式(6)
【0020】
【化9】
【0021】(式(6)中Yはハロゲン原子、トシル
基、ベンゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基
から選ばれる1つ以上を表す。)とを、塩基性化合物の
存在下で反応させることによって得られる。
基、ベンゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基
から選ばれる1つ以上を表す。)とを、塩基性化合物の
存在下で反応させることによって得られる。
【0022】前記の方法において用い得る式(4)の化
合物の具体例としては、トリシクロドデカンジメチロー
ル(TCDDM)、トリシクロドデカンビスヒドロキシ
エトキシメチル等が挙げられ、式(6)の化合物の具体
例としては、3−塩化アリル、3−臭化アリル、アリロ
キシトシレート等が挙げられる。式(6)の化合物の使
用量は、式(4)の化合物1モルに対して通常1モル以
上、好ましくは、1.2〜3.0モルである。反応温度
は通常20〜120℃、好ましくは40〜100℃であ
るが、式(6)の化合物が気体である場合60℃以上で
加圧下で反応させるてもよい。反応時間は通常30分〜
24時間、好ましくは1〜10時間である。
合物の具体例としては、トリシクロドデカンジメチロー
ル(TCDDM)、トリシクロドデカンビスヒドロキシ
エトキシメチル等が挙げられ、式(6)の化合物の具体
例としては、3−塩化アリル、3−臭化アリル、アリロ
キシトシレート等が挙げられる。式(6)の化合物の使
用量は、式(4)の化合物1モルに対して通常1モル以
上、好ましくは、1.2〜3.0モルである。反応温度
は通常20〜120℃、好ましくは40〜100℃であ
るが、式(6)の化合物が気体である場合60℃以上で
加圧下で反応させるてもよい。反応時間は通常30分〜
24時間、好ましくは1〜10時間である。
【0023】式(4)の化合物と式(6)の化合物との
反応は、塩基性化合物の存在下で行い、不活性溶媒、例
えばN,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
N,N−ジメチルイミダゾリドンのような非プロトン性
極性溶媒、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の無極性溶
媒、テトラヒドロフラン、ジグライム、ジオキサン、ト
リオキサン等溶媒中、またはこれらの混合溶媒中で行っ
てもよい。これら溶媒の使用量は、式(4)の化合物
0.1モルに対して、通常0〜500ml、好ましくは
50〜300mlである。
反応は、塩基性化合物の存在下で行い、不活性溶媒、例
えばN,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
N,N−ジメチルイミダゾリドンのような非プロトン性
極性溶媒、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の無極性溶
媒、テトラヒドロフラン、ジグライム、ジオキサン、ト
リオキサン等溶媒中、またはこれらの混合溶媒中で行っ
てもよい。これら溶媒の使用量は、式(4)の化合物
0.1モルに対して、通常0〜500ml、好ましくは
50〜300mlである。
【0024】用い得る塩基性化合物の具体例としては、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム
などのアルカリ金属化合物、金属ナトリウム、金属カリ
ウムなどのアルカリ金属、及び、ナトリウムメチラート
などのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられ、その
使用量は、式(4)の化合物1.0モルに対して通常
1.0モル以上、好ましくは1.5〜10モルである。
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム
などのアルカリ金属化合物、金属ナトリウム、金属カリ
ウムなどのアルカリ金属、及び、ナトリウムメチラート
などのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられ、その
使用量は、式(4)の化合物1.0モルに対して通常
1.0モル以上、好ましくは1.5〜10モルである。
【0025】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水と、ジエチルエーテルまたはヘキサンなどで抽
出を行い、次いで有機層に無水硫酸ナトリウム、合成ゼ
オライトなどの乾燥剤を加えて乾燥させる。このとき
に、活性炭などの脱色剤を加えてもよい。この後、濾過
し、減圧蒸留等により式(2)で表されるアリルエーテ
ルを得ることができる。
た後、水と、ジエチルエーテルまたはヘキサンなどで抽
出を行い、次いで有機層に無水硫酸ナトリウム、合成ゼ
オライトなどの乾燥剤を加えて乾燥させる。このとき
に、活性炭などの脱色剤を加えてもよい。この後、濾過
し、減圧蒸留等により式(2)で表されるアリルエーテ
ルを得ることができる。
【0026】式(2)の化合物のアリル転移反応は、通
常触媒存在下で行い、前記不活性溶媒の他に、ポリエチ
レングリコール等のアルキレンオキサオド類またはこれ
らの混合溶媒中で行ってもよい。これら溶媒の使用量
は、式(2)の化合物0.1モルに対して、通常0〜5
00ml、好ましくは50〜300mlである。反応温
度は100〜200℃、好ましくは120〜160℃で
ある。反応時間は通常10分〜20時間、好ましくは1
〜15時間である。
常触媒存在下で行い、前記不活性溶媒の他に、ポリエチ
レングリコール等のアルキレンオキサオド類またはこれ
らの混合溶媒中で行ってもよい。これら溶媒の使用量
は、式(2)の化合物0.1モルに対して、通常0〜5
00ml、好ましくは50〜300mlである。反応温
度は100〜200℃、好ましくは120〜160℃で
ある。反応時間は通常10分〜20時間、好ましくは1
〜15時間である。
【0027】アリル転移において用い得る触媒の具体例
としては、カリウム−t−ブトキシド等のアルカリ金属
アルコキシドなどや、トリス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウムジクロライドなどが挙げられ、その使用
量は、式(2)の化合物1.0モルに対して通常0.0
1ミリモル以上、好ましくは0.1〜10ミリモルであ
る。
としては、カリウム−t−ブトキシド等のアルカリ金属
アルコキシドなどや、トリス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウムジクロライドなどが挙げられ、その使用
量は、式(2)の化合物1.0モルに対して通常0.0
1ミリモル以上、好ましくは0.1〜10ミリモルであ
る。
【0028】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水を加え、酢酸エチル、ジエチルエーテル、また
はヘキサンなどで抽出を行い、次いで有機層に無水硫酸
ナトリウム、合成ゼオライトなどの乾燥剤を加えて乾燥
させる。このときに、活性炭などの脱色剤を加えてもよ
い。この後、濾過し、減圧蒸留等により式(A)で表さ
れる本発明のプロペニルエーテルを得ることができる。
た後、水を加え、酢酸エチル、ジエチルエーテル、また
はヘキサンなどで抽出を行い、次いで有機層に無水硫酸
ナトリウム、合成ゼオライトなどの乾燥剤を加えて乾燥
させる。このときに、活性炭などの脱色剤を加えてもよ
い。この後、濾過し、減圧蒸留等により式(A)で表さ
れる本発明のプロペニルエーテルを得ることができる。
【0029】次に本発明の重合性組成物につき説明す
る。本発明のプロペニルエーテルと重合開始剤、及びそ
の他必要に応じて種々の重合性化合物、硬化促進剤、染
料、顔料、可塑剤、無機充填剤、溶剤などを混合して本
発明の重合性組成物を得ることができる。重合開始剤と
しては、熱重合開始剤、光重合開始剤などのラジカル重
合やイオン(カチオン)重合を起こしうるものであれば
特に制限はない。
る。本発明のプロペニルエーテルと重合開始剤、及びそ
の他必要に応じて種々の重合性化合物、硬化促進剤、染
料、顔料、可塑剤、無機充填剤、溶剤などを混合して本
発明の重合性組成物を得ることができる。重合開始剤と
しては、熱重合開始剤、光重合開始剤などのラジカル重
合やイオン(カチオン)重合を起こしうるものであれば
特に制限はない。
【0030】用いうる熱重合開始剤の具体例としては、
過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイ
ル、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル等のラジカル開始剤の他、三
フッ化ホウ素、二塩化亜鉛、三塩化アルミニウムなどの
ルイス酸類等の、カチオン重合開始剤等が挙げられる。
過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイ
ル、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル等のラジカル開始剤の他、三
フッ化ホウ素、二塩化亜鉛、三塩化アルミニウムなどの
ルイス酸類等の、カチオン重合開始剤等が挙げられる。
【0031】用いうる光ラジカル重合開始剤の具体例と
しては、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾフェ
ノン、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、4
−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。
しては、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾフェ
ノン、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、4
−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。
【0032】用いうる光カチオン重合開始剤の具体例と
しては、特公昭53−32831号、特公昭52−14
277号、特公昭52−14278号、特公昭52−1
4279号、特公昭52−25686号、特公昭61−
34752号、特開昭54−53181号、特開昭54
−95686号、特公昭61−36530号、特公昭5
9−19581号、特公昭63−65688号、特開昭
55−164204号、特公昭60−30690号、特
公昭63−36332号、特公平1−39423号、特
公平2−10171号、特公平5−15721号、特公
平4−62310号、特公昭62−57653号、特公
平3−12081号、特公平3−12082号、特公平
3−16361号、特公昭63−12092号、特公昭
63−12093号、特公昭63−12095号、特公
昭63−12094号、特公平2−37924号、特公
平2−35764号、特公平4−13374号、特公平
4−75908号、特公平4−73428号、特公昭5
3−32831号、特開平2−150848号、特開平
2−296514号、米国特許第4,069,055
号、米国特許第4,069,056号、米国特許第3,
703,296号等に記載されているスルホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、アルソニウム塩、鉄・アレーン錯体など
が挙げられる。
しては、特公昭53−32831号、特公昭52−14
277号、特公昭52−14278号、特公昭52−1
4279号、特公昭52−25686号、特公昭61−
34752号、特開昭54−53181号、特開昭54
−95686号、特公昭61−36530号、特公昭5
9−19581号、特公昭63−65688号、特開昭
55−164204号、特公昭60−30690号、特
公昭63−36332号、特公平1−39423号、特
公平2−10171号、特公平5−15721号、特公
平4−62310号、特公昭62−57653号、特公
平3−12081号、特公平3−12082号、特公平
3−16361号、特公昭63−12092号、特公昭
63−12093号、特公昭63−12095号、特公
昭63−12094号、特公平2−37924号、特公
平2−35764号、特公平4−13374号、特公平
4−75908号、特公平4−73428号、特公昭5
3−32831号、特開平2−150848号、特開平
2−296514号、米国特許第4,069,055
号、米国特許第4,069,056号、米国特許第3,
703,296号等に記載されているスルホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、アルソニウム塩、鉄・アレーン錯体など
が挙げられる。
【0033】これらの重合開始剤は式(A)の化合物に
対して、通常0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%使用され、本発明の硬化物を得る際に式
(A)の化合物と混合してもよいし、本発明の重合性組
成物中に混合してもよい。
対して、通常0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%使用され、本発明の硬化物を得る際に式
(A)の化合物と混合してもよいし、本発明の重合性組
成物中に混合してもよい。
【0034】本発明の硬化物は、本発明のプロペニルエ
ーテルをそのまま、好ましくは本発明の重合性組成物と
して、紫外線、電子線、または放射線の照射、或いは加
熱して得ることができる。例えば、紫外線、電子線、ま
たは放射線照射の場合、線源の下に、本発明のプロペニ
ルエーテル、重合性組成物等を設置、或いは通過させ、
照射すればよく、加熱の場合、オーブン等により、本発
明のプロペニルエーテルまたは重合性組成物を加熱すれ
ばよい。
ーテルをそのまま、好ましくは本発明の重合性組成物と
して、紫外線、電子線、または放射線の照射、或いは加
熱して得ることができる。例えば、紫外線、電子線、ま
たは放射線照射の場合、線源の下に、本発明のプロペニ
ルエーテル、重合性組成物等を設置、或いは通過させ、
照射すればよく、加熱の場合、オーブン等により、本発
明のプロペニルエーテルまたは重合性組成物を加熱すれ
ばよい。
【0035】
【実施例】以下に実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0036】実施例1 温度計、環流冷却器、滴下ロート、窒素導入装置、攪拌
装置のついた1000mlの反応器に、60wt%水素
化ナトリウム85.0gを仕込み、乾燥窒素を流しなが
ら、200mlのテトラヒドロフラン(THF)で3回
洗浄した後、THF200mlを加え、アイスバスで冷
却し、撹拌しながら、TCDDM200gとTHF10
0mlとの混合溶液を1〜2時間で滴下した。その後、
反応器内が60℃になるまで徐々に加熱し、TCDDM
のナトリウム塩を得た。
装置のついた1000mlの反応器に、60wt%水素
化ナトリウム85.0gを仕込み、乾燥窒素を流しなが
ら、200mlのテトラヒドロフラン(THF)で3回
洗浄した後、THF200mlを加え、アイスバスで冷
却し、撹拌しながら、TCDDM200gとTHF10
0mlとの混合溶液を1〜2時間で滴下した。その後、
反応器内が60℃になるまで徐々に加熱し、TCDDM
のナトリウム塩を得た。
【0037】次に、反応器内温度を60℃に保ち、3−
臭化アリル250gを、前記のTCDDMナトリウム塩
分散体に撹拌しながら、1〜2時間かけて滴下した。そ
の後さらに60℃で5時間反応させた。
臭化アリル250gを、前記のTCDDMナトリウム塩
分散体に撹拌しながら、1〜2時間かけて滴下した。そ
の後さらに60℃で5時間反応させた。
【0038】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水300mlを加え、有機層を抽出した。次い
で、抽出した有機層を水300mlで3回洗浄し、無水
硫酸ナトリウムを加え、一晩乾燥させた。その後、濾過
し、THFと未反応3−臭化アリルを減圧除去して式
(7)で表されるアリルエーテルを得た(収量206
g、収率74.5%)。
た後、水300mlを加え、有機層を抽出した。次い
で、抽出した有機層を水300mlで3回洗浄し、無水
硫酸ナトリウムを加え、一晩乾燥させた。その後、濾過
し、THFと未反応3−臭化アリルを減圧除去して式
(7)で表されるアリルエーテルを得た(収量206
g、収率74.5%)。
【0039】
【化10】
【0040】次に、前記式(7)で表される化合物のア
リル転移反応について説明する。温度計、環流冷却器、
滴下ロート、窒素導入装置、攪拌装置のついた300m
lの反応器に、前記式(7)で表される化合物28.0
gと、ポリエチレングリコール(PEG−400、ライ
オン(株)製)を15.0g仕込み、乾燥窒素を流しな
がら、アイスバスで冷却し撹拌した。その後、撹拌しな
がら水酸化カリウムを20.0g加え、反応器内が15
0℃になるまで徐々に加熱した後、反応器内温度を15
0℃に保ち、6時間反応させた。
リル転移反応について説明する。温度計、環流冷却器、
滴下ロート、窒素導入装置、攪拌装置のついた300m
lの反応器に、前記式(7)で表される化合物28.0
gと、ポリエチレングリコール(PEG−400、ライ
オン(株)製)を15.0g仕込み、乾燥窒素を流しな
がら、アイスバスで冷却し撹拌した。その後、撹拌しな
がら水酸化カリウムを20.0g加え、反応器内が15
0℃になるまで徐々に加熱した後、反応器内温度を15
0℃に保ち、6時間反応させた。
【0041】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水100mlを加え、ヘキサン100mlで3回
抽出した。次いで、抽出したヘキサン溶液に無水硫酸ナ
トリウムと活性炭を加え、一晩乾燥・脱色した。その
後、濾過し、ヘキサンを減圧除去し、蒸留(0.10〜
0.15mmHg、115〜120℃)して式(8)で
表される本発明のプロペニルエーテルを得た(収量2
6.4g、収率94.3%)。H−NMRによりアリル
エーテルが99%以上プロペニルエーテル基に転移して
いることを確認した。
た後、水100mlを加え、ヘキサン100mlで3回
抽出した。次いで、抽出したヘキサン溶液に無水硫酸ナ
トリウムと活性炭を加え、一晩乾燥・脱色した。その
後、濾過し、ヘキサンを減圧除去し、蒸留(0.10〜
0.15mmHg、115〜120℃)して式(8)で
表される本発明のプロペニルエーテルを得た(収量2
6.4g、収率94.3%)。H−NMRによりアリル
エーテルが99%以上プロペニルエーテル基に転移して
いることを確認した。
【0042】
【化11】
【0043】
【発明の効果】本発明のプロペニルエーテルは、低皮膚
刺激性の重合性組成物として、コーティング剤、イン
キ、塗料、接着剤、レジスト、製版材、絶縁材などの種
々の分野で極めて有用である。特に光カチオン重合開始
剤を含有する本発明の重合性組成物は硬化速度が速く、
酸素による重合阻害がほとんど無いという特徴を示す。
また、低誘電率で絶縁性に優れた硬化物が得られ、樹脂
そのものは低粘度であるため、希釈性、加工性にも優れ
る。
刺激性の重合性組成物として、コーティング剤、イン
キ、塗料、接着剤、レジスト、製版材、絶縁材などの種
々の分野で極めて有用である。特に光カチオン重合開始
剤を含有する本発明の重合性組成物は硬化速度が速く、
酸素による重合阻害がほとんど無いという特徴を示す。
また、低誘電率で絶縁性に優れた硬化物が得られ、樹脂
そのものは低粘度であるため、希釈性、加工性にも優れ
る。
Claims (3)
- 【請求項1】式(A)で表されるプロペニルエーテル。 【化1】 (式(A)中X1 は式(1) 【化2】 (式(1)中Rは炭素数2〜12のアルキレン基を、n
は0〜10の整数をそれぞれ表す。)で表される基また
は水素原子を表すが、2個のX1 のうち50%以上は式
(1)である。) - 【請求項2】請求項1記載のプロペニルエーテルを含む
重合性組成物。 - 【請求項3】請求項2記載の重合性組成物を硬化して得
られる硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31664797A JPH11140135A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 新規プロペニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31664797A JPH11140135A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 新規プロペニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11140135A true JPH11140135A (ja) | 1999-05-25 |
Family
ID=18079362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31664797A Pending JPH11140135A (ja) | 1997-11-04 | 1997-11-04 | 新規プロペニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11140135A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001278829A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Showa Denko Kk | 新規な不飽和エーテル化合物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びその硬化物 |
| JP2010006770A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Sanyo Chem Ind Ltd | ジプロペニルエーテル化合物、その製造方法及び光カチオン重合性組成物 |
| EP3284760A4 (en) * | 2015-03-25 | 2018-12-19 | Zeon Corporation | Polymer, molding material and resin molded body |
-
1997
- 1997-11-04 JP JP31664797A patent/JPH11140135A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001278829A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Showa Denko Kk | 新規な不飽和エーテル化合物、該化合物の製造方法、該化合物を含む組成物及びその硬化物 |
| JP2010006770A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Sanyo Chem Ind Ltd | ジプロペニルエーテル化合物、その製造方法及び光カチオン重合性組成物 |
| EP3284760A4 (en) * | 2015-03-25 | 2018-12-19 | Zeon Corporation | Polymer, molding material and resin molded body |
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