JPH10316670A - 新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 - Google Patents
新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物Info
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】皮膚低刺激性で低臭気性、かつ硬化時に酸素の
影響が少ない新規オキセタンビニルエーテルを提供する
こと。 【解決手段】一般式(A)で表されるオキセタンビニル
エーテル。 【化1】 (式(A)中mは2〜5の整数を、nは0〜20の整数
を、Rはメチル基およびエチル基のうち1つ以上をそれ
ぞれ表す。)
影響が少ない新規オキセタンビニルエーテルを提供する
こと。 【解決手段】一般式(A)で表されるオキセタンビニル
エーテル。 【化1】 (式(A)中mは2〜5の整数を、nは0〜20の整数
を、Rはメチル基およびエチル基のうち1つ以上をそれ
ぞれ表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規なオキセタンビ
ニルエーテル、該オキセタンビニルエーテルを含有する
重合性組成物、およびその硬化物に関する。
ニルエーテル、該オキセタンビニルエーテルを含有する
重合性組成物、およびその硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、紫外線硬化型樹脂や電子線硬化型
樹脂などの重合性組成物は主に、インキ、塗料、接着
剤、レジスト、製版材などの多くの分野で用いられてい
る。この重合性組成物の主剤としては、アクリル系モノ
マーや多官能アクリレートが最も一般的である。
樹脂などの重合性組成物は主に、インキ、塗料、接着
剤、レジスト、製版材などの多くの分野で用いられてい
る。この重合性組成物の主剤としては、アクリル系モノ
マーや多官能アクリレートが最も一般的である。
【0003】ところが、アクリル系モノマーには皮膚刺
激性や臭気性、酸素による重合抑制作用に付随する諸問
題がある。そこで最近、皮膚低刺激性で低臭気性、かつ
酸素の影響が少ないエポキシ、オキセタン等の環状エー
テル類やビニルエーテル類が注目されるようになった。
またこれらの化合物は、カチオン重合系で速い硬化速度
を示すため、アクリル系モノマーと比較して、更なる優
位性が期待できる。
激性や臭気性、酸素による重合抑制作用に付随する諸問
題がある。そこで最近、皮膚低刺激性で低臭気性、かつ
酸素の影響が少ないエポキシ、オキセタン等の環状エー
テル類やビニルエーテル類が注目されるようになった。
またこれらの化合物は、カチオン重合系で速い硬化速度
を示すため、アクリル系モノマーと比較して、更なる優
位性が期待できる。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、下記式
(A)で表される低皮膚刺激性であり、種々の分野にお
いて極めて有用である化合物を見いだし、本発明を完成
した。すなわち本発明は、(1)式(A)で表されるオ
キセタンビニルエーテル、
(A)で表される低皮膚刺激性であり、種々の分野にお
いて極めて有用である化合物を見いだし、本発明を完成
した。すなわち本発明は、(1)式(A)で表されるオ
キセタンビニルエーテル、
【0005】
【化2】
【0006】(式(A)中mは2〜5の整数を、nは0
〜20の整数を、Rはメチル基およびエチル基のうち1
つ以上をそれぞれ表す。) (2)上記(1)記載のオキセタンビニルエーテルを含
む重合性組成物、(3)上記(2)記載の重合性組成物
を硬化して得られる硬化物、に関する。
〜20の整数を、Rはメチル基およびエチル基のうち1
つ以上をそれぞれ表す。) (2)上記(1)記載のオキセタンビニルエーテルを含
む重合性組成物、(3)上記(2)記載の重合性組成物
を硬化して得られる硬化物、に関する。
【0007】
【発明の実施の形態】式(A)で表される化合物のうち
nが1〜20であるものは、例えば式(1)
nが1〜20であるものは、例えば式(1)
【0008】
【化3】
【0009】(式(1)中mは2〜5の整数を、nは1
〜20の整数を、またXはハロゲン原子、トシル基、ベ
ンゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基から選
ばれる1つ以上をそれぞれ表す。)で表される化合物
と、式(2)
〜20の整数を、またXはハロゲン原子、トシル基、ベ
ンゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基から選
ばれる1つ以上をそれぞれ表す。)で表される化合物
と、式(2)
【0010】
【化4】
【0011】(式(2)中Rはメチル基およびエチル基
のうち1つ以上を表す。)で表される化合物とを、塩基
性化合物の存在下で反応させることによって得られる。
また、式(A)中nが0である化合物は、アセチレンと
式(2)化合物を反応させて得ることができ、このとき
の反応は、加圧下または常圧下で行うことができる。
のうち1つ以上を表す。)で表される化合物とを、塩基
性化合物の存在下で反応させることによって得られる。
また、式(A)中nが0である化合物は、アセチレンと
式(2)化合物を反応させて得ることができ、このとき
の反応は、加圧下または常圧下で行うことができる。
【0012】前記の方法において用い得る式(1)の化
合物の具体例としては、2−クロロエチルビニルエーテ
ル、4−クロロブチルビニルエーテル、2−ブロモエチ
ルビニルエーテル、4−ブロモブチルビニルエーテル、
2−ビニロキシエチルトシレート、4−ビニロキシブチ
ルトシレート等、およびこれらの混合物がある。
合物の具体例としては、2−クロロエチルビニルエーテ
ル、4−クロロブチルビニルエーテル、2−ブロモエチ
ルビニルエーテル、4−ブロモブチルビニルエーテル、
2−ビニロキシエチルトシレート、4−ビニロキシブチ
ルトシレート等、およびこれらの混合物がある。
【0013】同じく用い得る式(2)の化合物の具体例
としては、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタ
ンおよび、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタ
ンであり、Pattison[J. Am. Chem. Soc., 79 (1957) 3
455-3456]の方法により、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン等から合成することができる。式
(2)の化合物の使用量は、式(1)の化合物1モルに
対して通常0.1モル以上、好ましくは、0.2〜2.
0モルである。反応温度は通常20〜120℃、好まし
くは60〜90℃、反応時間は通常30分〜24時間、
好ましくは1〜10時間である。
としては、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタ
ンおよび、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタ
ンであり、Pattison[J. Am. Chem. Soc., 79 (1957) 3
455-3456]の方法により、トリメチロールエタン、トリ
メチロールプロパン等から合成することができる。式
(2)の化合物の使用量は、式(1)の化合物1モルに
対して通常0.1モル以上、好ましくは、0.2〜2.
0モルである。反応温度は通常20〜120℃、好まし
くは60〜90℃、反応時間は通常30分〜24時間、
好ましくは1〜10時間である。
【0014】式(1)の化合物と式(2)の化合物との
反応は、塩基性化合物の存在下で行い、不活性溶媒、例
えばN,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
N,N−ジメチルイミダゾリドンのような非プロトン性
極性溶媒、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の無極性溶
媒、テトラヒドロフラン、ジグライム、ジオキサン、ト
リオキサン等、またはこれらの混合溶媒中で行ってもよ
い。これら溶媒の使用量は、式(1)の化合物0.1モ
ルに対して、通常0〜500ml、好ましくは50〜3
00mlである。また低沸点物を反応系外に除去しなが
ら反応を進行させることもできる。
反応は、塩基性化合物の存在下で行い、不活性溶媒、例
えばN,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、
N,N−ジメチルイミダゾリドンのような非プロトン性
極性溶媒、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の無極性溶
媒、テトラヒドロフラン、ジグライム、ジオキサン、ト
リオキサン等、またはこれらの混合溶媒中で行ってもよ
い。これら溶媒の使用量は、式(1)の化合物0.1モ
ルに対して、通常0〜500ml、好ましくは50〜3
00mlである。また低沸点物を反応系外に除去しなが
ら反応を進行させることもできる。
【0015】用い得る塩基性化合物の具体例としては、
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム
などのアルカリ金属化合物、金属ナトリウム、金属カリ
ウムなどのアルカリ金属、及び、ナトリウムメチラート
などのアルカリ金属アルコラートなどが挙げられ、その
使用量は、式(1)の化合物のX基1.0モル当量に対
して通常1.0モル以上、好ましくは1.2〜10モル
である。
水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム
などのアルカリ金属化合物、金属ナトリウム、金属カリ
ウムなどのアルカリ金属、及び、ナトリウムメチラート
などのアルカリ金属アルコラートなどが挙げられ、その
使用量は、式(1)の化合物のX基1.0モル当量に対
して通常1.0モル以上、好ましくは1.2〜10モル
である。
【0016】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水と、ジエチルエーテルまたはヘキサンなどで抽
出を行い、次いで有機層に無水硫酸ナトリウム、合成ゼ
オライトなどの乾燥剤を加えて乾燥させる。このとき
に、活性炭などの脱色剤を加えてもよい。この後、濾過
し、減圧蒸留等により目的物(式(A)で表される本発
明のオキセタンビニルエーテル)を得ることができる。
た後、水と、ジエチルエーテルまたはヘキサンなどで抽
出を行い、次いで有機層に無水硫酸ナトリウム、合成ゼ
オライトなどの乾燥剤を加えて乾燥させる。このとき
に、活性炭などの脱色剤を加えてもよい。この後、濾過
し、減圧蒸留等により目的物(式(A)で表される本発
明のオキセタンビニルエーテル)を得ることができる。
【0017】式(A)中nが1〜20の整数で表される
化合物は、別法として例えば式(3)
化合物は、別法として例えば式(3)
【0018】
【化5】
【0019】(式(3)中mは2〜5の整数を表し、n
は1〜20の整数を表す。)で表される化合物と、式
(4)
は1〜20の整数を表す。)で表される化合物と、式
(4)
【0020】
【化6】
【0021】(式(4)中Rはメチル基およびエチル基
のうち1つ以上を、Xはハロゲン原子、トシル基、ベン
ゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基から選ば
れる1つ以上をそれぞれ表す。)で表される化合物と
を、塩基性化合物の存在下で反応させることによって得
ることができる。
のうち1つ以上を、Xはハロゲン原子、トシル基、ベン
ゼンスルホニル基、およびメタンスルホニル基から選ば
れる1つ以上をそれぞれ表す。)で表される化合物と
を、塩基性化合物の存在下で反応させることによって得
ることができる。
【0022】用い得る式(3)の化合物の具体例として
は、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロ
キシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエ
ーテル等、およびこれらの混合物がある。
は、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロ
キシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエ
ーテル等、およびこれらの混合物がある。
【0023】用い得る式(4)の化合物の具体例として
は、3−メチル−3−クロロメチルオキセタン、3−エ
チル−3−クロロメチルオキセタン、3−エチル−3−
ブロモメチルオキセタン等、およびこれらの混合物があ
り、式(4)の化合物の使用量は、式(3)の化合物1
モルに対して通常0.1モル以上、好ましくは、0.2
〜2.0モルである。反応温度は通常0〜100℃、好
ましくは40〜70℃、反応時間は通常30分〜24時
間、好ましくは1〜10時間である。
は、3−メチル−3−クロロメチルオキセタン、3−エ
チル−3−クロロメチルオキセタン、3−エチル−3−
ブロモメチルオキセタン等、およびこれらの混合物があ
り、式(4)の化合物の使用量は、式(3)の化合物1
モルに対して通常0.1モル以上、好ましくは、0.2
〜2.0モルである。反応温度は通常0〜100℃、好
ましくは40〜70℃、反応時間は通常30分〜24時
間、好ましくは1〜10時間である。
【0024】式(3)の化合物と式(4)の化合物との
反応は、式(1)の化合物と式(2)の化合物との反応
に準じて行うことができ、前記した塩基性化合物の存在
下、前記の不活性溶媒中で行ってもよい。また、塩基性
化合物の使用量は、式(4)の化合物のX基1.0モル
当量に対して通常1.0モル以上、好ましくは1.2〜
10モルである。
反応は、式(1)の化合物と式(2)の化合物との反応
に準じて行うことができ、前記した塩基性化合物の存在
下、前記の不活性溶媒中で行ってもよい。また、塩基性
化合物の使用量は、式(4)の化合物のX基1.0モル
当量に対して通常1.0モル以上、好ましくは1.2〜
10モルである。
【0025】次に本発明の重合性組成物につき説明す
る。本発明のオキセタンビニルエーテルと重合開始剤、
及びその他必要に応じて種々の重合性化合物、硬化促進
剤、染料、顔料、可塑剤、無機充填剤、溶剤などを混合
して本発明の重合性組成物を得ることができる。重合開
始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などのラジ
カル重合やイオン(カチオン)重合を起こしうるもので
あれば特に制限はない。
る。本発明のオキセタンビニルエーテルと重合開始剤、
及びその他必要に応じて種々の重合性化合物、硬化促進
剤、染料、顔料、可塑剤、無機充填剤、溶剤などを混合
して本発明の重合性組成物を得ることができる。重合開
始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などのラジ
カル重合やイオン(カチオン)重合を起こしうるもので
あれば特に制限はない。
【0026】用いうる熱重合開始剤の具体例としては、
過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイ
ル、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル等のラジカル開始剤の他、三
フッ化ホウ素、二塩化亜鉛、三塩化アルミニウムなどの
ルイス酸類等の、オキセタン化合物の重合に用いられる
開始剤等が挙げられる。また、これら重合開始剤と共
に、多価アルコール類などの重合促進剤を用いてもよ
い。
過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイ
ル、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシク
ロヘキサンカルボニトリル等のラジカル開始剤の他、三
フッ化ホウ素、二塩化亜鉛、三塩化アルミニウムなどの
ルイス酸類等の、オキセタン化合物の重合に用いられる
開始剤等が挙げられる。また、これら重合開始剤と共
に、多価アルコール類などの重合促進剤を用いてもよ
い。
【0027】用いうる光ラジカル重合開始剤の具体例と
しては、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾフェ
ノン、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、4
−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。
しては、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾフェ
ノン、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエート、4
−ジメチルアミノエチルベンゾエート等が挙げられる。
【0028】用いうる光カチオン重合開始剤の具体例と
しては、特公昭53−32831号、特公昭52−14
277号、特公昭52−14278号、特公昭52−1
4279号、特公昭52−25686号、特公昭61−
34752号、特開昭54−53181号、特開昭54
−95686号、特公昭61−36530号、特公昭5
9−19581号、特公昭63−65688号、特開昭
55−164204号、特公昭60−30690号、特
公昭63−36332号、特公平1−39423号、特
公平2−10171号、特公平5−15721号、特公
平4−62310号、特公昭62−57653号、特公
平3−12081号、特公平3−12082号、特公平
3−16361号、特公昭63−12092号、特公昭
63−12093号、特公昭63−12095号、特公
昭63−12094号、特公平2−37924号、特公
平2−35764号、特公平4−13374号、特公平
4−75908号、特公平4−73428号、特公昭5
3−32831号、特開平2−150848号、特開平
2−296514号、米国特許第4,069,055
号、米国特許第4,069,056号、米国特許第3,
703,296号等に記載されているスルホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、アルソニウム塩、鉄・アレーン錯体など
が挙げられる。
しては、特公昭53−32831号、特公昭52−14
277号、特公昭52−14278号、特公昭52−1
4279号、特公昭52−25686号、特公昭61−
34752号、特開昭54−53181号、特開昭54
−95686号、特公昭61−36530号、特公昭5
9−19581号、特公昭63−65688号、特開昭
55−164204号、特公昭60−30690号、特
公昭63−36332号、特公平1−39423号、特
公平2−10171号、特公平5−15721号、特公
平4−62310号、特公昭62−57653号、特公
平3−12081号、特公平3−12082号、特公平
3−16361号、特公昭63−12092号、特公昭
63−12093号、特公昭63−12095号、特公
昭63−12094号、特公平2−37924号、特公
平2−35764号、特公平4−13374号、特公平
4−75908号、特公平4−73428号、特公昭5
3−32831号、特開平2−150848号、特開平
2−296514号、米国特許第4,069,055
号、米国特許第4,069,056号、米国特許第3,
703,296号等に記載されているスルホニウム塩、
ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨ
ードニウム塩、アルソニウム塩、鉄・アレーン錯体など
が挙げられる。
【0029】これらの重合開始剤は式(A)の化合物に
対して、通常0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%使用され、本発明の硬化物を得る際に式
(A)の化合物と混合してもよいし、本発明の重合性組
成物中に混合してもよい。
対して、通常0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%使用され、本発明の硬化物を得る際に式
(A)の化合物と混合してもよいし、本発明の重合性組
成物中に混合してもよい。
【0030】本発明の硬化物は、本発明のオキセタンビ
ニルエーテルをそのまま、好ましくは本発明の重合性組
成物として、紫外線、電子線、または放射線の照射、或
いは加熱して得ることができる。
ニルエーテルをそのまま、好ましくは本発明の重合性組
成物として、紫外線、電子線、または放射線の照射、或
いは加熱して得ることができる。
【0031】
【実施例】以下に実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【0032】実施例1 温度計、環流冷却器、滴下ロート、窒素導入装置、攪拌
装置のついた1000mlの反応器に、60wt%水素
化ナトリウム34.5gを仕込み、乾燥窒素を流しなが
ら、100mlのテトラヒドロフランで3回洗浄する。
その後N,N−ジメチルアセトアミド400mlを加
え、アイスバスで冷却し、撹拌しながら、3−エチル−
3−ヒドロキシメチルオキセタン100gを30分〜1
時間で滴下する。その後、反応器内が80℃になるまで
徐々に加熱する。次に、反応器内温度を80℃に保ち、
2−クロロエチルビニルエーテル92gを、前記の3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンナトリウム塩
分散体に撹拌しながら、30分〜1時間で滴下する。そ
の後さらに90〜100℃で2時間反応させ、完結させ
る。
装置のついた1000mlの反応器に、60wt%水素
化ナトリウム34.5gを仕込み、乾燥窒素を流しなが
ら、100mlのテトラヒドロフランで3回洗浄する。
その後N,N−ジメチルアセトアミド400mlを加
え、アイスバスで冷却し、撹拌しながら、3−エチル−
3−ヒドロキシメチルオキセタン100gを30分〜1
時間で滴下する。その後、反応器内が80℃になるまで
徐々に加熱する。次に、反応器内温度を80℃に保ち、
2−クロロエチルビニルエーテル92gを、前記の3−
エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンナトリウム塩
分散体に撹拌しながら、30分〜1時間で滴下する。そ
の後さらに90〜100℃で2時間反応させ、完結させ
る。
【0033】反応終了後、反応混合液を室温まで冷却し
た後、水200mlを加え、ジエチルエーテル200m
lで3回抽出する。次いで、抽出したジエチルエーテル
溶液を水100mlで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウム
と活性炭を加え、一晩乾燥・脱色する。その後、濾過
し、ジエチルエーテルを減圧除去し、減圧蒸留(0.0
25mmHg、45〜47℃)により式(5)
た後、水200mlを加え、ジエチルエーテル200m
lで3回抽出する。次いで、抽出したジエチルエーテル
溶液を水100mlで3回洗浄し、無水硫酸ナトリウム
と活性炭を加え、一晩乾燥・脱色する。その後、濾過
し、ジエチルエーテルを減圧除去し、減圧蒸留(0.0
25mmHg、45〜47℃)により式(5)
【0034】
【化7】
【0035】で表される本発明のオキセタンビニルエー
テルを得た(収量53g、収率33%)。また、IRス
ペクトルにより、式(5)の化合物は、3−エチル−3
−ヒドロキシメチルオキセタンに対して水酸基(340
0cm-1付近)が消失し、ビニルエーテル基(1620
cm-1)が出現することを確認した。
テルを得た(収量53g、収率33%)。また、IRス
ペクトルにより、式(5)の化合物は、3−エチル−3
−ヒドロキシメチルオキセタンに対して水酸基(340
0cm-1付近)が消失し、ビニルエーテル基(1620
cm-1)が出現することを確認した。
【0036】
【発明の効果】本発明のオキセタンビニルエーテルは、
低皮膚刺激性の重合性組成物として、コーティング剤、
インキ、塗料、接着剤、レジスト、製版材などの種々の
分野で極めて有用である。特に光カチオン重合開始剤を
含有する本発明の重合性組成物は硬化速度が速く、酸素
による重合阻害がほとんど無いという特徴を示す。ま
た、低粘度であるため、希釈性、加工性にも優れる。
低皮膚刺激性の重合性組成物として、コーティング剤、
インキ、塗料、接着剤、レジスト、製版材などの種々の
分野で極めて有用である。特に光カチオン重合開始剤を
含有する本発明の重合性組成物は硬化速度が速く、酸素
による重合阻害がほとんど無いという特徴を示す。ま
た、低粘度であるため、希釈性、加工性にも優れる。
Claims (3)
- 【請求項1】式(A)で表されるオキセタンビニルエー
テル。 【化1】 (式(A)中mは2〜5の整数を、nは0〜20の整数
を、Rはメチル基およびエチル基のうち1つ以上をそれ
ぞれ表す。) - 【請求項2】請求項1記載のオキセタンビニルエーテル
を含む重合性組成物。 - 【請求項3】請求項2記載の重合性組成物を硬化して得
られる硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14117297A JPH10316670A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14117297A JPH10316670A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10316670A true JPH10316670A (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=15285823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14117297A Pending JPH10316670A (ja) | 1997-05-16 | 1997-05-16 | 新規オキセタンビニルエーテル、重合性組成物およびその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10316670A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000002873A1 (en) * | 1998-07-09 | 2000-01-20 | Jsr Corporation | Oxetane compounds, oxetane copolymer, and process for producing oxetane compounds |
| EP1972622A2 (en) | 2007-03-23 | 2008-09-24 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Vinyl ether compounds and polymerizable compositions |
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