JPH11142857A

JPH11142857A - 液晶表示素子の製法およびスペーサ散布装置

Info

Publication number: JPH11142857A
Application number: JP30175997A
Authority: JP
Inventors: Toshio Watanabe; 俊夫渡辺; Kazumi Kanemoto; 和己金本
Original assignee: Rohm Co Ltd
Current assignee: Rohm Co Ltd
Priority date: 1997-11-04
Filing date: 1997-11-04
Publication date: 1999-05-28
Anticipated expiration: 2017-11-04
Also published as: JP3706470B2

Abstract

(57)【要約】【課題】スペーサの散布状況に拘らず、常に一定のス
ペーサを散布することができる液晶表示素子の製法およ
びそのスペーサ散布装置を提供する。【解決手段】絶縁性透明基板３０に透明電極および配
向膜を形成し、スペーサを散布して２枚の絶縁性透明基
板を貼着し、該２枚の絶縁性透明基板の間隙に液晶材料
を充填する液晶表示素子の製法であって、前記スペーサ
の散布をチャンバー１内に浮遊するスペーサの密度を一
定に制御しながらチャンバー１内の下部に絶縁性透明基
板３０を載置して一定時間放置することにより行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の２枚
の基板間に設けられるスペーサの量を一定にすることが
できる液晶表示素子の製法に関する。さらに詳しくは、
スペーサを散布する際のチャンバー内のスペーサの量を
一定に制御することにより基板間のスペーサを一定量と
する液晶表示素子の製法およびそれに用いるスペーサ散
布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子は、つぎのように製造され
る。すなわち２枚のガラスなどからなる絶縁性透明の基
板にそれぞれ透明電極や配向膜などを設け、一方の基板
のセル周囲にシール剤を設け、他方の基板にスペーサを
散布する。そして、２枚の基板をそれぞれ透明電極や配
向膜が対向しスペーサを介して一定間隙を有するように
貼着し、各セルに分割した後に２枚の基板の間隙に液晶
材料を充填し、その両外面に偏光板などを貼着すること
により製造される。

【０００３】このスペーサの散布方法は、たとえば図８
に示されるようなスペーサ散布装置を用いて行われる。
すなわち、チャンバー１の下部に排気用ダンパー２を介
して排気管３が接続されてチャンバー１内の浮遊物を排
気することができるようになっている。また、上部には
スプレーノズル４が設けられ、スペーサをアルコールと
水との混合液などの溶媒に分散させた散布液５を霧化圧
縮空気６によりチャンバー１内に噴霧させることができ
るようになっている。この装置でカセット３１に収納さ
れた基板３０がローダー２１でコンベア２２上に下ろさ
れ、順次チャンバー１内に搬送され、散布液５が噴霧さ
れたチャンバー１内に０.１〜６０秒程度のうちの一定
時間放置されることにより、チャンバー１内に噴霧され
た散布液の溶媒は蒸発し、チャンバー１内に浮遊するス
ペーサが基板３０上に沈降する。一定時間の経過後、排
気用ダンパー２を開にして浮遊しているスペーサを一定
時間排気した後、基板３０をチャンバー１から排出して
コンベア２３上を搬送し、アンローダー２４で別のカセ
ット３２内に収納される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前述のスペーサの散布
方法によれば、前の基板への散布が終った後にチャンバ
ー内の浮遊するスペーサを排気してから新たな基板をチ
ャンバー内に入れて一定量の散布液をチャンバー内に噴
霧させることにより一定量のスペーサの散布量になるよ
うに行われている。しかし、１枚の基板への散布が終了
した後に一定時間排気してもチャンバー内のスペーサが
完全になくなるわけではなく、時間と共に浮遊するスペ
ーサは沈降するため、つぎの基板が搬入されるまでの時
間によりチャンバー内に残存するスペーサの量がバラツ
クことになる。つぎの基板がチャンバー内に搬入された
ときに、残存するスペーサが一定でないと一定量の散布
液を噴霧してもチャンバー内に浮遊するスペーサが一定
でなくなる。とくに、生産の開始時などにはチャンバー
内に浮遊するスペーサが一定になるまでダミーを流さな
ければならないが、何枚ダミーを流せば一定になるか不
明である。また、カセットを取り替えた後や、ライント
ラブルで中断した後などには基板の供給間隔が長くなる
ため、チャンバー内に浮遊しているスペーサが少なくな
り散布されるスペーサの量も少なくなる。その結果、基
板をチャンバー内に入れて一定時間放置しても基板上に
は一定量のスペーサが散布されず、液晶パネルの基板の
間隔に不均一が生じて表示品位が低下するという問題が
ある。

【０００５】本発明はこのような問題を解決するために
なされたもので、基板の搬入インターバルに拘らず、常
に一定のスペーサを散布することができる液晶表示素子
の製法を提供することにある。

【０００６】本発明の他の目的は、そのような一定のス
ペーサを散布することができるスペーサ散布装置を提供
することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の製法は、基板に透明電極および配向膜を形成し、ス
ペーサを散布して２枚の基板を貼着し、該２枚の基板の
間隙に液晶材料を充填する液晶表示素子の製法であっ
て、前記スペーサの散布をチャンバー内に浮遊するスペ
ーサの密度を一定に制御しながら該チャンバー内の下部
に前記基板を載置して一定時間放置することにより行う
ことを特徴とする。すなわち、本発明者らの検討の結
果、チャンバー内に浮遊するスペーサの量と、基板上に
沈降するスペーサの量との間に相関関係があることを見
出し、チャンバー内のスペーサの量を制御することによ
り、基板上に一定量のスペーサを散布するようにしたも
のである。

【０００８】前記スペーサ密度の制御は、パーティクル
カウンタにより前記チャンバー内の一定体積に浮遊する
スペーサの数を測定しながら制御することもできるし、
スペーサを分散させる溶媒の前記チャンバー内の濃度を
測定しながら制御することもできるし、スペーサを分散
させた散布液の重量の減少量を測定しながら制御するこ
ともできる。散布液の減少量による制御は、たとえば基
板のあるなしに拘らず一定周期で散布工程を繰り返すな
どのチャンバー内のスペーサ密度の均一化を図ることが
好ましい。

【０００９】本発明のスペーサ散布装置は、チャンバー
と、該チャンバーの下部に排気用バルブを介して接続さ
れる排気管と、前記チャンバーの上部に設けられ、スペ
ーサを分散させたる霧化用気体により前記チャンバー内
に噴霧するスプレーノズルと、前記チャンバーに設けら
れる通風孔ダンパーと、前記チャンバー内のスペーサの
密度を測定し得る検出手段と、該検出手段に応じて前記
排気用バルブの開閉、スプレーノズルの噴霧、および通
風孔ダンパーの開閉を制御する制御コントローラとから
なっている。

【００１０】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の液晶表示素子の
製法およびスペーサ散布装置について説明をする。

【００１１】液晶表示素子は、ガラスやプラスティック
のような２枚の絶縁性透明の基板のそれぞれにＩＴＯな
どの透明導電膜により電極パターンを形成し、配向膜な
どを形成してから、一方の基板にスペーサを散布して２
枚の基板をシール剤により貼着し、各セルにまたはフレ
ーム状に分割してから２枚の基板の間隙に液晶材料を充
填することにより製造される。本発明の液晶表示素子の
製法は、前述のように、チャンバー内に浮遊するスペー
サの量と基板上に沈降するスペーサの量との間に相関関
係があるという知見に基づいて、チャンバー内に浮遊す
るスペーサの密度を制御することにより、２枚の基板間
に介在するスペーサの数を均一にすることに特徴があ
る。そのスペーサの散布方法について、図１の本発明の
スペーサ散布装置の一実施形態を参照しながら説明す
る。

【００１２】図１に示されるスペーサ散布装置は、チャ
ンバー１の下部に排気用のバタフライバルブ２を介して
排気管３が接続されており、チャンバー１内の残留物を
排気することができるようになっている。排気用バルブ
２は電磁弁２ａにより開閉できるようになっており、電
磁弁２ａは制御コントローラ９からの制御信号により動
力用エアー２ｂを用いて制御される。このチャンバー１
は、たとえば１.５ｍ角で、２ｍほどの高さのステンレ
ス製の箱型に形成されており、排気管３はたとえば直径
が１０ｃｍ程度の太さで、１〜１.３ｍ／ｓｅｃ程度の
スピードで排気される。

【００１３】チャンバー１の上部には、スプレーノズル
４が設けられており、散布液５がポンプ５１を介してス
プレーノズル４内に送られるようになっている。図１に
示される例では、スプレーノズル４内の散布液５を容器
５２内の散布液５と循環できるようにパイプが配管され
ており、また、容器５２内ではマグネットスターラ５３
により回転子（テフロンがコーティングされたマグネッ
ト）５４を介して散布液５が撹拌されるようにして、ス
プレーノズル４内の散布液５が時間の経過により不均一
にならないようにされている。スプレーノズル４には、
散布液５を送るパイプのほか、散布液５を霧化するため
のＮ₂などからなる霧化用気体６が気体通路を介して導
入されている。この気体通路にも制御コントローラ９か
らの制御信号により開閉が制御される電磁弁６ａが設け
られている。チャンバー１の上部にはさらに通風孔７ｃ
が設けられ、その通風孔７ｃを開閉する通風孔用ダンパ
ー７が設けられている。この通風孔用ダンパー７は動力
用エアー７ｂを用いた電磁弁７ａにより開閉できるよう
になっており、制御コントローラ９からの制御信号に基
づき開閉される。

【００１４】チャンバー１内にはさらに、たとえばパー
ティクルカウンタからなるチャンバー内のスペーサの密
度を測定し得るスペーサ密度を検出する検出手段８のセ
ンサ部８ａが突っ込まれ、チャンバー１内のスペーサの
密度を測定できるようになっている。そして、そのカウ
ント数は制御コントローラ９に送られ、制御コントロー
ラ９はその測定値が所定の範囲に入っているか否かを調
べ、所定の範囲より少ないときは排気用バルブ２および
通風孔用ダンパー７を閉塞し、霧化用気体通路を開くよ
うに電磁弁２ａ、７ａ、６ａに制御信号を送り、スプレ
ーノズル４からスペーサを噴霧することができるように
なっている。また、逆にパーティクルカウンタ８による
測定数が所定の範囲より多い場合は、排気用バルブ２お
よび通風孔用ダンパー７を開き、霧化用気体通路を閉じ
るように電磁弁２ａ、７ａ、６ａに制御信号を送る。こ
の一連の制御は後述するように、マイコンにより制御さ
れる。

【００１５】前記チャンバー１には散布液５の噴霧の際
の気化熱による温度低下を防ぎ、散布液の溶媒を蒸発さ
せやすくするため、チャンバー１内の温度がたとえば６
０℃程度の一定になるようにヒータ１０が設けられてい
る。図１に示される例ではチャンバー１の内側に設けら
れているが、チャンバー１の外側に設けられていてもよ
い。なお、図１で１１は基板３０をチャンバー１内に搬
入するための搬入扉、１２は基板３０をチャンバー１か
ら搬出するための排出扉である。また、基板３０は、カ
セット３１に収納されてローダー２１に載置され、そこ
で１枚１枚コンベア２２上に載せられてチャンバー１の
底部１ａに運ばれ、散布の終った基板３０は再度コンベ
ア２３により運搬されてアンローダー２４で別のカセッ
ト３２に収納される。

【００１６】つぎにこのスペーサ散布装置を用いて、電
極パターンや配向膜が形成された基板にスペーサを散布
する方法の具体例について説明をする。前述の装置で、
霧化用気体は、たとえば４ｋｇｆ／ｃｍ²に、電磁弁２
ａ、７ａを駆動する動力用エアーは３ｋｇｆ／ｃｍ²に
設定した。また、スペーサとして直径５.６μｍφのシ
リカ球状スペーサを使用し、エチルアルコールと純水を
１：１に混合した溶液１００ｃｃに０.６ｇのスペーサ
を分散させた散布液を調合し、噴霧時間を３秒に設定し
た。スペーサ密度の検出手段としてリオン（株）製の商
品名パーティクルカウンターＫＣ−２５を使用し、この
検出手段によりカウントする数の上限値を２５５００個
／リットル、下限値を２３５００個／リットルと設定し
た。

【００１７】この状態で、まず初期状態のチャンバー１
内をクリアにするため、通風孔用ダンパー７および排気
用バルブ２を３０秒間開いてチャンバー１内のスペーサ
および溶媒のエチルアルコールガスを排気する。そし
て、カセット３１から取り出された基板３０をコンベア
２２により搬送して搬入扉１１を開き、チャンバー１内
の底部１ａに基板３０をセッティングして搬入扉１１を
閉じる。その後、散布液をチャンバー１内に３秒間噴霧
する。この散布液の噴霧は図２に示されるフローチャー
トに従って行われる。

【００１８】すなわち、タイマーによりカウントをし
（Ｓ１）、カウンターがタイムアップしていないか否か
を調べる（Ｓ２）。カウンタがタイムアップ（たとえば
設定値３秒）していれば（ＮＯ）、噴霧作業は終了し、
タイムアップしていなければ（ＹＥＳ）、スペーサ密度
が設定値の下限（たとえば２３５００個／リットル）よ
り上にあるか否かを調べる（Ｓ３）。つぎに、スペーサ
密度が下限値より下であれば（ＮＯ）、通風孔用ダンパ
ーを閉じ（Ｓ４）、さらに排気用バルブを閉じ（Ｓ
５）、さらにスプレーノズルの噴霧を行い（Ｓ６）ステ
ップＳ２に戻る。そして、スペーサ密度が下限値より上
にあれば（ＹＥＳ）、スペーサ密度が設定値の上限値
（たとえば２５５００個／リットル）より下にあるかを
調べる（Ｓ７）。上限値より下であれば（ＹＥＳ）ステ
ップＳ２に戻り、上限値より上であれば（ＮＯ）、通風
孔用ダンパーを開き（Ｓ８）、さらに排気用バルブを開
き（Ｓ９）、さらにスプレーノズルを閉じて（Ｓ１０）
ステップＳ２に戻る。これをカウンタがタイムアップす
るまで繰り返し、タイムアップしたら噴霧作業が終了す
る。

【００１９】その後、通風孔用ダンパーおよび排気用バ
ルブを閉じて３０秒間放置し、チャンバー内に浮遊する
スペーサを基板上に自然落下させる。ついで、排気用の
バルブ２を開いて、たとえば１〜３秒間程度の所定時間
排気してから排出扉１２を開けて基板３０をチャンバー
１から排出し排出扉１２を閉じて、同様に繰り返す。

【００２０】この方法により製造した液晶表示素子の実
際の基板上のスペーサの量を前述の検出手段により検出
したチャンバー内に浮遊するスペーサの量と共に、順次
行う基板ごとにその順番の数を横軸にして測定した結果
を図３（ａ）に示す。なお、本発明の方法によるチャン
バー内のスペーサ密度の管理をしない従来の方法で、前
述の検出手段によるチャンバー内に浮遊するスペーサの
量と実際に基板上に沈降するスペーサの量とを図３
（ｂ）に示す。図３において、白丸の縦軸はチャンバー
内のスペーサの１リットル当りの個数、黒丸の縦軸は基
板上に散布されたスペーサ密度（１個／ｍｍ²）、横軸
は処理順の基板の番号、Ｐはチャンバー内のスペーサの
設定値の上限（２５５００個）、Ｑは設定値の下限（２
３５００個）である。図３から明らかなように、本発明
（図３（ａ））によれば基板上に散布されるスペーサの
量が非常に均一で３０〜３８個／ｍｍ²の範囲であるの
に対して、従来の方法（図３（ｂ））では周期的に散布
量が変化して２０〜４０個／ｍｍ²で、チャンバー内の
スペーサ密度と共に非常にばらついていることが分る。
この周期的に変化するのは、カセットに収納される基板
の数と一致し、カセットの取替えによる時間のため散布
間隔が長くなるためと考えられる。

【００２１】本発明によれば、チャンバー内のスペーサ
の量を常に一定量にして基板上にスペーサの散布が行わ
れる。一方、図３（ｂ）からも明らかなように、チャン
バー内のスペーサの量と実際に基板上に散布されるスペ
ーサの量との間には相関関係がある。そのため、図３
（ａ）に示されるように、チャンバー内のスペーサの量
が一定数量になるように制御されることにより、基板上
に散布されるスペーサの量も一定になる。その結果、各
製品についてスペーサの量が一定となり、液晶パネルの
基板間隔も常に一定となり、品質の安定した液晶表示素
子が得られる。

【００２２】なお、前述の例では、スペーサとしてシリ
カ製の球状スペーサを使用したが、プラスティックビー
ズでも同様の結果が得られた。

【００２３】前述の例では、パーティクルカウンタによ
りチャンバー内に浮遊するスペーサの数を検出してその
数が一定の範囲に入るようにしてスペーサ密度を制御し
たが、スペーサを分散させる溶媒のチャンバー１内の濃
度を測定しながら制御することもできる。すなわち、ス
ペーサは前述のように、たとえばエチルアルコールと水
の混合溶液に分散させてその散布液をチャンバー内に噴
霧することにより散布している。このエチルアルコール
のような溶媒は、噴霧される際に蒸発してチャンバー内
に蒸気として存在する。この量も噴霧される分散液の量
に比例するため、このエチルアルコールの蒸気の濃度を
測定することによっても同様にチャンバー内に浮遊する
スペーサの密度を制御することができる。

【００２４】すなわち、前述のチャンバー内のスペーサ
の密度を測定し得る検出手段８として、たとえば新コス
モス電機（株）製の可燃性ガス検知器、商品名コスモテ
クターＸＰ−３１１Ａを用い、エチルアルコールガスを
検出することができる。この場合の液晶表示素子の製法
およびスペーサの散布方法は、チャンバー内のエチルア
ルコールガスの濃度をモニターしてその値をたとえば上
限値が０.１９ｖｏｌ％、下限値を０.１７５ｖｏｌ％に
設定してその範囲に入るように制御する以外は前述の例
と同じで、その説明を省略する。エチルアルコールガス
の濃度をこのように設定して散布液を噴霧するときのフ
ローチャートを図４に示す。図４において、図２と同じ
ステップの所については同じステップ番号を付してその
説明を省略する。この例では、ステップＳ１３でエチル
アルコールガスの濃度が下限値より上であるかを調べ、
ステップＳ１７でエチルアルコールガス濃度が上限値よ
り下にあるか否かを調べる点で異なっているだけで、そ
れぞれの場合の制御方法については前述の例と同様であ
る。

【００２５】この例の方法により制御してスペーサを散
布したときの基板上に散布される単位面積当たりのスペ
ーサの個数およびチャンバー内のエチルアルコールガス
濃度を前述と同様に各基板ごとに測定した結果を図５
（ａ）に、同様の測定方法で従来の散布方法の場合のス
ペーサの個数およびチャンバー内のエチルアルコールガ
ス濃度を図５（ｂ）にそれぞれ示す。図５において、白
丸の縦軸はチャンバー内のエチルアルコールガスの濃度
（ｖｏｌ％）、黒丸の縦軸は基板上に散布されたスペー
サの密度（個／ｍｍ²）、横軸は処理順の基板の番号、
Ｐはエチルアルコールガス濃度の設定値の上限値（０.
１９ｖｏｌ％）、Ｑはその下限値（０.１７５％）であ
る。この場合も、本発明によれば基板上のスペーサの個
数は３０〜３８個／ｍｍ²と均一であるのに対して、従
来の方法では２０〜４０個／ｍｍ²とばらついているこ
とが分る。また、図５（ｂ）からも実際に基板上に散布
されるスペーサの個数とチャンバー内のエチルアルコー
ルガス濃度との間に相関関係があることが分る。

【００２６】なお、この例ではエチルアルコールガス濃
度を検出してその量を制御したが、溶媒はエチルアルコ
ールとは限らず、たとえばフロンなどが用いられる場合
にはそのフロンなどの検出器を用いて測定することによ
り、同様に制御することができる。また、プロパノール
などの他のアルコール類が混入されている場合で、検出
手段がその両方を検出する場合は、両方の合計値を測定
して合計値により制御するようにしてもよい。さらに、
溶媒が２種類以上の混合物である場合、そのいずれか１
種類が検出されればよい。なお、このガス濃度により制
御する場合は、前述のヒータ１０によるチャンバー内の
温度制御を充分に行うことが好ましい。温度により溶媒
の蒸発量が異なり、ガス濃度が変ってくるからである。
この場合も、スペーサとしてプラスティックビーズを用
いても同様の結果が得られた。

【００２７】図６は、スペーサ密度の制御を、チャンバ
ー（図示せず）内に噴霧するためのスペーサを分散させ
た散布液５の重量の減少量を測定しながら制御するため
の概略図である。すなわち、分散液５を入れた容器５２
の重量をたとえば電子天秤からなる検出手段８により検
出しながら、そのデータを制御コントローラ９に供給
し、その減少量が所定の設定量に達した状態でスプレー
ノズル４からの噴霧を停止させるものである。この場
合、散布液の噴霧をたとえば０.２秒程度の短時間噴霧
を断続的に行い、その都度散布液の重量変化を検出手段
８により検出する。そして、その検出結果が制御コント
ローラ９に送られ、所定の噴霧量に達したときに噴霧を
終了する。散布液は、前述のように、マグネットスター
ラにより撹拌しながら行っているため、散布液内のスペ
ーサの密度は常に一定であり、噴霧する散布液の量が一
定であれば、チャンバー内に噴霧されるスペーサの量も
常に一定になる。

【００２８】この例によれば、噴霧する散布液の量を常
に一定にすることができる。そのため、スプレーノズル
の差（ノズルの先の径や霧化用気体の圧力など）に基づ
く変動要因により一定時間の噴霧に対しても１０％程度
の噴霧量のバラツキがあった（電磁弁による噴霧時間の
制御は１／１００秒の単位で制御することができる）も
のが、確実に噴霧量を一定に制御することができる。す
なわち、図７にイメージ図が示されるように、スプレー
ノズルにより時間当たりの噴霧量（図の傾き）が異なっ
ても、噴霧時間の調整（時間ｔ₁からｔ₂）により、常
に一定の散布液の量Ｔが噴霧される。チャンバー内のス
ペーサ密度が一定であれば、前述のように、一定の個数
のスペーサが散布され、絶縁性透明基板間のギャップを
一定にすることができる。この場合、散布液を噴霧する
前のチャンバー内のスペーサの密度が一定でないと、一
定量の散布液を噴霧しても一定にはならないため、たと
えば基板の有無に拘らず一定のサイクルで噴霧、放置、
および排気の工程を繰り返すなどのチャンバー内のスペ
ーサ密度を一定化させることが必要となる。

【００２９】

【発明の効果】本発明によれば、基板へのスペーサの散
布量が常に一定になるため、液晶パネルの基板間隔が常
に一定になり、表示品位の優れた安定した品質の液晶表
示素子が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスペーサ散布装置の一実施形態の説明
図である。

【図２】図１の装置で散布液をチャンバー内に噴霧する
ときのフローチャートである。

【図３】図１の装置を用いてスペーサを散布したときの
散布量およびチャンバー内のスペーサ密度の変化を示す
図である。

【図４】本発明の他の実施形態の散布液を噴霧するとき
のフローチャートである。

【図５】図４の実施形態によるスペーサの散布量および
チャンバー内の溶媒濃度を示す図である。

【図６】本発明のさらに他の実施形態の説明図である。

【図７】図６の実施形態による散布液の噴霧量の一定化
の説明図である。

【図８】従来のスペーサの散布装置の一例の説明図であ
る。

【符号の説明】

１チャンバー２排気ダンパー４スプレーノズル５散布液６霧化用気体７通風孔用ダンパー８検出手段９制御コントローラ３０基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に透明電極および配向膜を形成し、
スペーサを散布して２枚の基板を貼着し、該２枚の基板
の間隙に液晶材料を充填する液晶表示素子の製法であっ
て、前記スペーサの散布をチャンバー内に浮遊するスペ
ーサの密度を一定に制御し、該チャンバー内の下部に前
記基板を載置して一定時間放置することにより行うこと
を特徴とする液晶表示素子の製法。
【請求項２】前記スペーサ密度の制御をパーティクル
カウンタにより前記チャンバー内の一定体積に浮遊する
スペーサの数を測定しながら制御する請求項１記載の製
法。
【請求項３】前記スペーサ密度の制御をスペーサを分
散させる溶媒の前記チャンバー内の濃度を測定しながら
制御する請求項１記載の製法。
【請求項４】前記スペーサ密度の制御を前記チャンバ
ー内に噴霧するためのスペーサを分散させた散布液の重
量の減少量を測定しながら制御する請求項１記載の製
法。
【請求項５】チャンバーと、該チャンバーの下部に排
気用バルブを介して接続される排気管と、前記チャンバ
ーの上部に設けられ、スペーサを分散させた分散液を霧
化用気体により前記チャンバー内に噴霧するスプレーノ
ズルと、前記チャンバーに設けられる通風孔ダンパー
と、前記チャンバー内のスペーサの密度を測定し得る検
出手段と、該検出手段に応じて前記排気用バルブの開
閉、スプレーノズルの噴霧、および通風孔ダンパーの開
閉を制御する制御コントローラとからなるスペーサ散布
装置。