JPH11144330A - 光ディスク用原盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
光ディスク用原盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置Info
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- JPH11144330A JPH11144330A JP9304063A JP30406397A JPH11144330A JP H11144330 A JPH11144330 A JP H11144330A JP 9304063 A JP9304063 A JP 9304063A JP 30406397 A JP30406397 A JP 30406397A JP H11144330 A JPH11144330 A JP H11144330A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピット又はグルーブの深さを記録再生領域の
内周から外周にかけて深くした光ディスク用原盤及びフ
ォトレジスト塗布方法及び装置を提供する。 【解決手段】 カップ１内にモータ２により回転するタ
ーンテーブル３に光ディスク用原盤４を載置し、該原盤
４にノズル７を伸ばしてフォトレジストを塗布する。カ
ップ１には、中央開口部の直径がレジスト層が露光され
る領域の外径と同等又はそれ以下のドーナツ形状の整流
板５を駆動装置６により上下するように設置する。図示
しない装置により、前記中央開口部より空気を吸い込
み、原盤４と整流板５との間を通し、ダクト８，薬液受
け９，排気ダクト１０を経て排出する。このとき、駆動
装置６による整流板５の上下により、また図示しないダ
クト中に設けたファンにより、空気の流れを制御する。
スピンコート中又はスピン乾燥中に空気の流れを制御す
るので、前記膜厚を精密に制御することができる。
内周から外周にかけて深くした光ディスク用原盤及びフ
ォトレジスト塗布方法及び装置を提供する。 【解決手段】 カップ１内にモータ２により回転するタ
ーンテーブル３に光ディスク用原盤４を載置し、該原盤
４にノズル７を伸ばしてフォトレジストを塗布する。カ
ップ１には、中央開口部の直径がレジスト層が露光され
る領域の外径と同等又はそれ以下のドーナツ形状の整流
板５を駆動装置６により上下するように設置する。図示
しない装置により、前記中央開口部より空気を吸い込
み、原盤４と整流板５との間を通し、ダクト８，薬液受
け９，排気ダクト１０を経て排出する。このとき、駆動
装置６による整流板５の上下により、また図示しないダ
クト中に設けたファンにより、空気の流れを制御する。
スピンコート中又はスピン乾燥中に空気の流れを制御す
るので、前記膜厚を精密に制御することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用原盤
及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置に関し、より
詳細には、ピット又はグルーブの深さを記録再生領域の
内周から外周にかけて連続的に深くした光ディスク用原
盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置に関する。
及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置に関し、より
詳細には、ピット又はグルーブの深さを記録再生領域の
内周から外周にかけて連続的に深くした光ディスク用原
盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、コンパクトディスク，レーザディ
スク，光磁気（ＭＯ）ディスク等を製造する場合、光デ
ィスクの記録情報領域全面にわたり記録再生特性を均一
にするために、ピットあるいはグルーブの形状をディス
ク全面で均一になるようにしている。特に、ピットある
いはグルーブの深さは、ガラス原盤のフォトレジスト層
の膜厚で決定されるため、ガラス原盤上にフォトレジス
ト層を形成する場合、その後の行程で得られる光ディス
クの記録情報領域に対応するフォトレジスト層の領域の
膜厚が内外周で均一になるように、フォトレジスト塗布
装置のスピンプログラム，排気量及びフォトレジストの
粘度等の諸条件を管理している。
スク，光磁気（ＭＯ）ディスク等を製造する場合、光デ
ィスクの記録情報領域全面にわたり記録再生特性を均一
にするために、ピットあるいはグルーブの形状をディス
ク全面で均一になるようにしている。特に、ピットある
いはグルーブの深さは、ガラス原盤のフォトレジスト層
の膜厚で決定されるため、ガラス原盤上にフォトレジス
ト層を形成する場合、その後の行程で得られる光ディス
クの記録情報領域に対応するフォトレジスト層の領域の
膜厚が内外周で均一になるように、フォトレジスト塗布
装置のスピンプログラム，排気量及びフォトレジストの
粘度等の諸条件を管理している。
【０００３】追記型ＣＤ（ＣＤ−Ｒ）のように、グルー
ブの深さが大きい（約150〜200nm）光ディスクのレプリ
カを射出成形する場合、光ディスクの外周部でグルーブ
の転写性が落ちることによりグルーブの深さが小さくな
り、記録再生特性が外周部で劣化するという問題があっ
た。また、従来の光ディスクのレプリカの射出成形にお
いても、成形時間を短縮するために、射出時間あるいは
成形後の冷却時間を短くすると、前記追記型ＣＤ（ＣＤ
−Ｒ）と同様に、光ディスクの外周部でピットあるいは
グルーブの転写性が落ちることによりピットあるいはグ
ルーブの深さが小さくなり、記録再生特性が外周部で劣
化するという問題があった。そのため、フォトレジスト
塗布装置のスピンプログラムを管理するなどしてガラス
原盤のフォトレジスト層の膜厚が、内周部から外周部に
かけて、あるいは中周部から外周部にかけて大きくなる
ように変化させて、フォトレジスト層を形成し、光ディ
スク外周部のピットあるいはグルーブの深さを大きくし
て、射出成形時の光ディスク外周部でのピットあるいは
グルーブの深さの減少を補う試みがなされている。
ブの深さが大きい（約150〜200nm）光ディスクのレプリ
カを射出成形する場合、光ディスクの外周部でグルーブ
の転写性が落ちることによりグルーブの深さが小さくな
り、記録再生特性が外周部で劣化するという問題があっ
た。また、従来の光ディスクのレプリカの射出成形にお
いても、成形時間を短縮するために、射出時間あるいは
成形後の冷却時間を短くすると、前記追記型ＣＤ（ＣＤ
−Ｒ）と同様に、光ディスクの外周部でピットあるいは
グルーブの転写性が落ちることによりピットあるいはグ
ルーブの深さが小さくなり、記録再生特性が外周部で劣
化するという問題があった。そのため、フォトレジスト
塗布装置のスピンプログラムを管理するなどしてガラス
原盤のフォトレジスト層の膜厚が、内周部から外周部に
かけて、あるいは中周部から外周部にかけて大きくなる
ように変化させて、フォトレジスト層を形成し、光ディ
スク外周部のピットあるいはグルーブの深さを大きくし
て、射出成形時の光ディスク外周部でのピットあるいは
グルーブの深さの減少を補う試みがなされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フォトレジス
ト塗布装置のスピンプログラム，排気量及びフォトレジ
ストの粘度等の諸条件を管理だけでは、内外周にわたり
安定した膜厚差を有するガラス原盤を得ることは困難で
ある。そのため、フォトレジスト塗布装置の機構を改良
する必要がある。特開平６−７７１２０号公報及び特開
平６−８９８５３号公報には、それぞれ原盤表面に平行
して配置された回転数が可変の回転板を設ける技術、及
び原盤に対向して配置する整流板の対向面に溝を形成す
る技術が開示されている。また、特開平９−９４５１６
号公報には、通気孔を有する傾斜蓋部（一種の整流板）
により、外周部のフォトレジストの膜厚が大きくなるよ
うにした技術が開示されているが、スピンコートあるい
はスピン乾燥中に風速を変えるようにしていないので、
フォトレジストの膜厚分布を精密に制御することは難し
いのが実情である。
ト塗布装置のスピンプログラム，排気量及びフォトレジ
ストの粘度等の諸条件を管理だけでは、内外周にわたり
安定した膜厚差を有するガラス原盤を得ることは困難で
ある。そのため、フォトレジスト塗布装置の機構を改良
する必要がある。特開平６−７７１２０号公報及び特開
平６−８９８５３号公報には、それぞれ原盤表面に平行
して配置された回転数が可変の回転板を設ける技術、及
び原盤に対向して配置する整流板の対向面に溝を形成す
る技術が開示されている。また、特開平９−９４５１６
号公報には、通気孔を有する傾斜蓋部（一種の整流板）
により、外周部のフォトレジストの膜厚が大きくなるよ
うにした技術が開示されているが、スピンコートあるい
はスピン乾燥中に風速を変えるようにしていないので、
フォトレジストの膜厚分布を精密に制御することは難し
いのが実情である。
【０００５】本発明は、上述のような実情に鑑みてなさ
れたもので、ピット又はグルーブの深さを記録再生領域
の内周から外周にかけて連続的に深くした光ディスク原
盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置を提供する
ものである。
れたもので、ピット又はグルーブの深さを記録再生領域
の内周から外周にかけて連続的に深くした光ディスク原
盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置を提供する
ものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、光デ
ィスク用原盤において、ピット又はグルーブの深さを、
記録再生領域の内周から外周にかけて連続的に深くした
ことを特徴とし、もって、光ディスク等の射出成形時の
内周から外周の転写性劣化によるピット又はグルーブの
深さの低下を補正するようにしたものである。
ィスク用原盤において、ピット又はグルーブの深さを、
記録再生領域の内周から外周にかけて連続的に深くした
ことを特徴とし、もって、光ディスク等の射出成形時の
内周から外周の転写性劣化によるピット又はグルーブの
深さの低下を補正するようにしたものである。
【０００７】請求項２の発明は、光ディスク用原盤にお
いて、ピット又はグルーブの深さを、記録再生領域の内
周から中周にかけてほぼ一定とし、中周から外周にかけ
てそれよりも連続的に深くしたことを特徴とし、もっ
て、光ディスク等の射出成形時の特に中周から外周の転
写性劣化によるピット又はグルーブの深さの低下を補正
するようにしたものである。
いて、ピット又はグルーブの深さを、記録再生領域の内
周から中周にかけてほぼ一定とし、中周から外周にかけ
てそれよりも連続的に深くしたことを特徴とし、もっ
て、光ディスク等の射出成形時の特に中周から外周の転
写性劣化によるピット又はグルーブの深さの低下を補正
するようにしたものである。
【０００８】請求項３の発明は、光ディスク用原盤を回
動しながら該原盤にフォトレジストを塗布し、前記原盤
の内周部より外周部に空気を流して前記フォトレジスト
のスピンコート又はスピン乾燥を行うフォトレジスト塗
布方法において、前記スピンコート又はスピン乾燥中に
前記空気の流速を制御することを特徴とし、もって、膜
厚分布を精密に制御するようにしたものである。
動しながら該原盤にフォトレジストを塗布し、前記原盤
の内周部より外周部に空気を流して前記フォトレジスト
のスピンコート又はスピン乾燥を行うフォトレジスト塗
布方法において、前記スピンコート又はスピン乾燥中に
前記空気の流速を制御することを特徴とし、もって、膜
厚分布を精密に制御するようにしたものである。
【０００９】請求項４の発明は、駆動装置により回転す
るターンテーブルに設置された光ディスク用原盤にフォ
トレジストを吐出するノズルと、前記ターンテーブルが
収納され、中央開口部の直径が前記原盤にフォトレジス
ト層が露光される領域の外径と同等又はそれ以下のドー
ナツ状整流板を前記原盤上面に該原盤と同心かつ平行に
備えたカップと、該カップに接続され、前記中央開口部
から流入し、前記原盤と前記整流板との間隙を通過した
後、排気される空気のダクトと、前記空気の流速を検出
する装置と、前記空気の流速を制御する装置とを有する
ことを特徴とし、もって、膜厚分布を精密に制御するよ
うにしたものである。
るターンテーブルに設置された光ディスク用原盤にフォ
トレジストを吐出するノズルと、前記ターンテーブルが
収納され、中央開口部の直径が前記原盤にフォトレジス
ト層が露光される領域の外径と同等又はそれ以下のドー
ナツ状整流板を前記原盤上面に該原盤と同心かつ平行に
備えたカップと、該カップに接続され、前記中央開口部
から流入し、前記原盤と前記整流板との間隙を通過した
後、排気される空気のダクトと、前記空気の流速を検出
する装置と、前記空気の流速を制御する装置とを有する
ことを特徴とし、もって、膜厚分布を精密に制御するよ
うにしたものである。
【００１０】請求項５の発明は、請求項４の発明におい
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記光ディスク
用原盤と前記ドーナツ状整流板との間の距離を変える装
置であることを特徴とし、もって、膜厚分布を容易に制
御するようにしたものである。
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記光ディスク
用原盤と前記ドーナツ状整流板との間の距離を変える装
置であることを特徴とし、もって、膜厚分布を容易に制
御するようにしたものである。
【００１１】請求項６の発明は、請求項４の発明におい
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記ダクトの途
中に設置した角度を制御できる弁であることを特徴と
し、もって、膜厚分布を容易に制御するようにしたもの
である。
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記ダクトの途
中に設置した角度を制御できる弁であることを特徴と
し、もって、膜厚分布を容易に制御するようにしたもの
である。
【００１２】請求項７の発明は、請求項４の発明におい
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記ダクト終端
に設置した回転数を制御できるファンであることを特徴
とし、もって、膜厚分布を容易に制御するようにしたも
のである。
て、前記空気の流速を制御する装置は、前記ダクト終端
に設置した回転数を制御できるファンであることを特徴
とし、もって、膜厚分布を容易に制御するようにしたも
のである。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は、本発明のフォトレジスト
塗布装置の要部概略構成図で、図中、１はカップ、２は
モータ、３は該モータ２により回転させられるターンテ
ーブル、４は該ターンテーブルに載置されたガラス原
盤、５は中央に開口を持ち開口部の直径がガラス原盤の
外径よりも小さいドーナツ形状の整流板で、ガラス原盤
４上に、この原盤と同心かつ平行にしてカップ１に備え
られる。６は該整流板を上下移動する駆動装置、７はフ
ォトレジスト塗布用ノズル、８はダクト、９は薬液受
け、１０は排気ダクトである。
塗布装置の要部概略構成図で、図中、１はカップ、２は
モータ、３は該モータ２により回転させられるターンテ
ーブル、４は該ターンテーブルに載置されたガラス原
盤、５は中央に開口を持ち開口部の直径がガラス原盤の
外径よりも小さいドーナツ形状の整流板で、ガラス原盤
４上に、この原盤と同心かつ平行にしてカップ１に備え
られる。６は該整流板を上下移動する駆動装置、７はフ
ォトレジスト塗布用ノズル、８はダクト、９は薬液受
け、１０は排気ダクトである。
【００１４】まず、ターンテーブル３にガラス原盤４が
セットされる。このとき、ドーナツ形状整流板５の中央
開口部の直径はガラス原盤４の外径よりも小さいので、
整流板５は駆動装置６により上方へ移動させる。ガラス
原盤４のセット後、スピンコートを始めるときに下方へ
移動し、整流板５とガラス原盤４との距離を近づける。
セットされる。このとき、ドーナツ形状整流板５の中央
開口部の直径はガラス原盤４の外径よりも小さいので、
整流板５は駆動装置６により上方へ移動させる。ガラス
原盤４のセット後、スピンコートを始めるときに下方へ
移動し、整流板５とガラス原盤４との距離を近づける。
【００１５】次に、モータ２によりターンテーブル３を
回転させ、ノズル７をガラス原盤中央に移動し、フォト
レジストを吐出し、また整流板５の中央開口部からは空
気を吸い込み、吸い込まれた空気は整流板５とガラス原
盤４との間を通り、カップ内からダクト８，薬液受け
９，排気ダクト１０を経て排気される。
回転させ、ノズル７をガラス原盤中央に移動し、フォト
レジストを吐出し、また整流板５の中央開口部からは空
気を吸い込み、吸い込まれた空気は整流板５とガラス原
盤４との間を通り、カップ内からダクト８，薬液受け
９，排気ダクト１０を経て排気される。
【００１６】このとき、整流板５の開口付近やガラス原
盤４と整流板５との間で空気の流れ（流速）が速くな
り、フォトレジストの乾燥がガラス原盤４の中心部分よ
りも速くなる。従って、フォトレジストの膜厚が整流板
５の開口付近やガラス原盤４と整流板５との間で厚くな
る。空気の流れを一定にしたり変化させることにより、
フォトレジストの膜厚分布を制御しながらスピンコート
を行うことができる。
盤４と整流板５との間で空気の流れ（流速）が速くな
り、フォトレジストの乾燥がガラス原盤４の中心部分よ
りも速くなる。従って、フォトレジストの膜厚が整流板
５の開口付近やガラス原盤４と整流板５との間で厚くな
る。空気の流れを一定にしたり変化させることにより、
フォトレジストの膜厚分布を制御しながらスピンコート
を行うことができる。
【００１７】図２は、空気の流れを制御する手法を説明
するためのレジスト塗布装置の要部概略構成図であり、
図中、１１は風速計である。図１と同じ構成部品には同
じ参照番号を付し説明を省略する。
するためのレジスト塗布装置の要部概略構成図であり、
図中、１１は風速計である。図１と同じ構成部品には同
じ参照番号を付し説明を省略する。
【００１８】風速計１１を監視しながら駆動装置６によ
り整流板５を上下移動させ、空気の流れ（流速）を一定
にし、あるいは変化させるなど制御する。風速計１１は
排気ダクト１０に設置したが、この場所に限定されるも
のではない。また風速計の代りに圧力差計を使うことも
できる。
り整流板５を上下移動させ、空気の流れ（流速）を一定
にし、あるいは変化させるなど制御する。風速計１１は
排気ダクト１０に設置したが、この場所に限定されるも
のではない。また風速計の代りに圧力差計を使うことも
できる。
【００１９】図３は、空気の流れを制御する他の手法を
説明するためのレジスト塗布装置の要部概略構成図であ
り、図中、１２は開閉角度を制御できる弁である。な
お、図１及び図２と同じ構成部品には同じ参照番号を付
し、説明を省略する（以下の図面において同じ）。
説明するためのレジスト塗布装置の要部概略構成図であ
り、図中、１２は開閉角度を制御できる弁である。な
お、図１及び図２と同じ構成部品には同じ参照番号を付
し、説明を省略する（以下の図面において同じ）。
【００２０】風速計１１を監視しながら弁１２の開閉角
度を制御し、流速を一定に、あるいは変化させるなど制
御する。風速計１１は排気ダクト１０に設定したが、こ
の場所に限定しない。また風速計の代りに圧力差計を使
用することができる。
度を制御し、流速を一定に、あるいは変化させるなど制
御する。風速計１１は排気ダクト１０に設定したが、こ
の場所に限定しない。また風速計の代りに圧力差計を使
用することができる。
【００２１】図４は、空気の流れを制御するさらに他の
手法を説明するためのレジスト塗布装置の要部概略構成
図で、図中、１３はファンである。
手法を説明するためのレジスト塗布装置の要部概略構成
図で、図中、１３はファンである。
【００２２】風速計１１を監視しながらファン１３の回
転数を調整し、流速を一定にし、あるいは変化させるな
ど制御する。風速計１１の位置は、排気ダクト１０に限
定されるものではなく、また風速計の代りに圧力差計を
使用することができる。
転数を調整し、流速を一定にし、あるいは変化させるな
ど制御する。風速計１１の位置は、排気ダクト１０に限
定されるものではなく、また風速計の代りに圧力差計を
使用することができる。
【００２３】（実施例１）ガラス原盤として直径φ２０
０mm，厚さ６mm、ドーナツ形状の整流板として中央開口
部直径φ８０，１００，１２０，１４０mmの４種類のも
のを使用した。フォトレジストにはＴＳＭＲ−８９００
（東京応化）を使用し、適当な粘度に希釈を行い、ダク
ト内の排気速度を０.５m/sに固定しスピンコートを行っ
た。
０mm，厚さ６mm、ドーナツ形状の整流板として中央開口
部直径φ８０，１００，１２０，１４０mmの４種類のも
のを使用した。フォトレジストにはＴＳＭＲ−８９００
（東京応化）を使用し、適当な粘度に希釈を行い、ダク
ト内の排気速度を０.５m/sに固定しスピンコートを行っ
た。
【００２４】図５は、このときのフォトレジストの膜厚
分布を示す図である。コンパクトディスク（ＣＤ）の外
径は１２０mmとした。この場合、整流板中央開口部の直
径φが１４０mmであると、半径６０mmでわずかに膜厚が
増加している程度であり、内外周の差は殆どない。従っ
て、コンパクトディスク（ＣＤ）の場合、ドーナツ形状
整流板の中央開口部直径φは１２０mm以下である必要が
ある。
分布を示す図である。コンパクトディスク（ＣＤ）の外
径は１２０mmとした。この場合、整流板中央開口部の直
径φが１４０mmであると、半径６０mmでわずかに膜厚が
増加している程度であり、内外周の差は殆どない。従っ
て、コンパクトディスク（ＣＤ）の場合、ドーナツ形状
整流板の中央開口部直径φは１２０mm以下である必要が
ある。
【００２５】直径φ８０mmのとき、膜厚が内周（半径２
０mm）から外周（半径６０mm）にかけて、つまり記録再
生領域の内周から外周にかけて連続的に厚くなり、請求
項１の発明の光ディスク用ガラス原盤が得られた。ここ
で、コンパクトディスク（ＣＤ）の信号領域は、前記半
径２０〜５９mm位の範囲である。
０mm）から外周（半径６０mm）にかけて、つまり記録再
生領域の内周から外周にかけて連続的に厚くなり、請求
項１の発明の光ディスク用ガラス原盤が得られた。ここ
で、コンパクトディスク（ＣＤ）の信号領域は、前記半
径２０〜５９mm位の範囲である。
【００２６】直径φ１００mmや１２０mmのとき、内周か
ら中周にかけて膜厚が±１０Åでほぼ一定であり、中周
から外周にかけて膜厚が厚くなり、請求項２の発明の光
ディスク用ガラス原盤が得られた。膜厚分布によりグル
ーブやピットの深さが決まるので、外周部分でのグルー
ブやピットの深さが大きくなることにより、射出成形で
の外周の転写性劣化を補正することができる。
ら中周にかけて膜厚が±１０Åでほぼ一定であり、中周
から外周にかけて膜厚が厚くなり、請求項２の発明の光
ディスク用ガラス原盤が得られた。膜厚分布によりグル
ーブやピットの深さが決まるので、外周部分でのグルー
ブやピットの深さが大きくなることにより、射出成形で
の外周の転写性劣化を補正することができる。
【００２７】（実施例２）ガラス基盤として直径φ２０
０mm，厚さ６mm，ドーナツ形状整流板の中央開口部直径
φ１２０mmのものを使用した。フォトレジストには、Ｔ
ＳＭＲ−８９００（東京応化）を使用し、適当な粘度に
希釈を行い、風速を変えてスピンコートを行った。
０mm，厚さ６mm，ドーナツ形状整流板の中央開口部直径
φ１２０mmのものを使用した。フォトレジストには、Ｔ
ＳＭＲ−８９００（東京応化）を使用し、適当な粘度に
希釈を行い、風速を変えてスピンコートを行った。
【００２８】図６は、風速の変化によるフォトレジスト
の膜厚分布を示す図である。風速が０.５m/sと２.０m/s
では、内外周の膜厚差が異なり、２.０m/sの方が大きく
なる。しかし、どちらも膜厚分布にピークを持ってい
る。スピン乾燥中に風速を２.０から０.５m/sに下げる
と、膜厚のピークがなだらかになり、分布が変わる。風
速を変えるのは、前述のいずれの手法でも良い。膜厚分
布をどのようにするかは、射出成形条件でも決まるが、
ドーナツ形状整流板の中央開口部の直径や風速条件によ
り必要な膜厚分布を自由に得ることができる。
の膜厚分布を示す図である。風速が０.５m/sと２.０m/s
では、内外周の膜厚差が異なり、２.０m/sの方が大きく
なる。しかし、どちらも膜厚分布にピークを持ってい
る。スピン乾燥中に風速を２.０から０.５m/sに下げる
と、膜厚のピークがなだらかになり、分布が変わる。風
速を変えるのは、前述のいずれの手法でも良い。膜厚分
布をどのようにするかは、射出成形条件でも決まるが、
ドーナツ形状整流板の中央開口部の直径や風速条件によ
り必要な膜厚分布を自由に得ることができる。
【００２９】
【発明の効果】請求項１の発明によれば、光ディスク用
原盤において、ピット又はグルーブの深さを、記録再生
領域の内周から外周にかけて連続的に深くしたので、ピ
ット又はグルーブの深さが内周から外周にかけて連続的
に深くなっているので、射出成形における外周部の転写
性劣化によるピット又はグルーブの低下を補正すること
ができる。
原盤において、ピット又はグルーブの深さを、記録再生
領域の内周から外周にかけて連続的に深くしたので、ピ
ット又はグルーブの深さが内周から外周にかけて連続的
に深くなっているので、射出成形における外周部の転写
性劣化によるピット又はグルーブの低下を補正すること
ができる。
【００３０】請求項２の発明によれば、光ディスク用原
盤において、ピット又はグルーブの深さを、記録再生領
域の内周から中周にかけてほぼ一定とし、中周から外周
にかけてそれよりも連続的に深くしたので、射出成形に
おける時の特に中周部から外周部の転写性劣化によるピ
ット又はグルーブの深さの低下を補正することができ
る。
盤において、ピット又はグルーブの深さを、記録再生領
域の内周から中周にかけてほぼ一定とし、中周から外周
にかけてそれよりも連続的に深くしたので、射出成形に
おける時の特に中周部から外周部の転写性劣化によるピ
ット又はグルーブの深さの低下を補正することができ
る。
【００３１】請求項３の発明によれば、光ディスク用原
盤を回動しながら該原盤にフォトレジストを塗布し、前
記原盤の内周部より外周部に空気を流して前記フォトレ
ジストのスピンコート又はスピン乾燥を行うフォトレジ
スト塗布方法において、前記スピンコート又はスピン乾
燥中に前記空気の流速を制御するので、膜厚分布を精密
に制御することができる。
盤を回動しながら該原盤にフォトレジストを塗布し、前
記原盤の内周部より外周部に空気を流して前記フォトレ
ジストのスピンコート又はスピン乾燥を行うフォトレジ
スト塗布方法において、前記スピンコート又はスピン乾
燥中に前記空気の流速を制御するので、膜厚分布を精密
に制御することができる。
【００３２】請求項４の発明によれば、駆動装置により
回転するターンテーブルに設置された光ディスク用原盤
にフォトレジストを吐出するノズルと、前記ターンテー
ブルが収納され、中央開口部の直径が前記原盤にフォト
レジスト層が露光される領域の外径と同等又はそれ以下
のドーナツ状整流板を前記原盤上面に該原盤と同心かつ
平行に備えたカップと、該カップに接続され、前記中央
開口部から流入し、前記原盤と前記整流板との間隙を通
過した後、排気される空気のダクトと、前記空気の流速
を検出する装置と、前記空気の流速を制御する装置とを
有するので、スピンコートあるいはスピン乾燥中に原盤
とドーナツ状整流板との間の風速を制御することがで
き、フォトレジスト層の膜厚分布を精密に制御すること
ができる。
回転するターンテーブルに設置された光ディスク用原盤
にフォトレジストを吐出するノズルと、前記ターンテー
ブルが収納され、中央開口部の直径が前記原盤にフォト
レジスト層が露光される領域の外径と同等又はそれ以下
のドーナツ状整流板を前記原盤上面に該原盤と同心かつ
平行に備えたカップと、該カップに接続され、前記中央
開口部から流入し、前記原盤と前記整流板との間隙を通
過した後、排気される空気のダクトと、前記空気の流速
を検出する装置と、前記空気の流速を制御する装置とを
有するので、スピンコートあるいはスピン乾燥中に原盤
とドーナツ状整流板との間の風速を制御することがで
き、フォトレジスト層の膜厚分布を精密に制御すること
ができる。
【００３３】請求項５の発明によれば、請求項４の発明
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記光ディスク用原盤と前記ドーナツ状整流板との間の距
離を変える装置であるので、フォトレジスト層の膜厚分
布を容易に制御することができる。
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記光ディスク用原盤と前記ドーナツ状整流板との間の距
離を変える装置であるので、フォトレジスト層の膜厚分
布を容易に制御することができる。
【００３４】請求項６の発明によれば、請求項４の発明
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記ダクトの途中に設置した角度を制御できる弁であるの
で、フォトレジスト層の膜厚分布を容易に制御すること
ができる。
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記ダクトの途中に設置した角度を制御できる弁であるの
で、フォトレジスト層の膜厚分布を容易に制御すること
ができる。
【００３５】請求項７の発明によれば、請求項４の発明
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記ダクト終端に設置した回転数を制御できるファンであ
るので、フォトレジスト層の膜厚分布を容易に制御する
ことができる。
の効果に加えて、前記空気の流速を制御する装置は、前
記ダクト終端に設置した回転数を制御できるファンであ
るので、フォトレジスト層の膜厚分布を容易に制御する
ことができる。
【図１】 本発明のフォトレレジスト塗布装置の要部概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】 本発明の空気の流れを制御する手法を説明す
るためのフォトレジスト塗布装置の要部概略構成図であ
る。
るためのフォトレジスト塗布装置の要部概略構成図であ
る。
【図３】 本発明の空気の流れを制御する他の手法を説
明するためのフォトレジスト塗布装置の要部概略構成図
である。
明するためのフォトレジスト塗布装置の要部概略構成図
である。
【図４】 本発明の空気の流れを制御するさらに他の手
法を説明するためのフォトレジスト塗布装置の要部概略
構成図である。
法を説明するためのフォトレジスト塗布装置の要部概略
構成図である。
【図５】 フォトレジストの膜厚分布を示す図である。
【図６】 風速の変化によるフォトレジストの膜厚分布
を示す図である。
を示す図である。
１…カップ、２…モータ、３…ターンテーブル、４…ガ
ラス原盤、５…ドーナツ形状の整流板、６…整流板の駆
動装置、７…フォトレジスト塗布ノズル、８…ダクト、
９…薬液受け、１０…排気ダクト、１１…風速計、１２
…弁、１３…ファン。
ラス原盤、５…ドーナツ形状の整流板、６…整流板の駆
動装置、７…フォトレジスト塗布ノズル、８…ダクト、
９…薬液受け、１０…排気ダクト、１１…風速計、１２
…弁、１３…ファン。
Claims (7)
- 【請求項１】 光ディスク用原盤において、ピット又は
グルーブの深さを、記録再生領域の内周から外周にかけ
て連続的に深くしたことを特徴とする光ディスク用原
盤。 - 【請求項２】 光ディスク用原盤において、ピット又は
グルーブの深さを、記録再生領域の内周から中周にかけ
てほぼ一定とし、中周から外周にかけて連続的に深くし
たことを特徴とする光ディスク用原盤。 - 【請求項３】 光ディスク用原盤を回動しながら該原盤
にフォトレジストを塗布し、前記原盤の内周部より外周
部に空気を流して前記フォトレジストのスピンコート又
はスピン乾燥を行うフォトレジスト塗布方法において、
前記スピンコート又はスピン乾燥中に前記空気の流速を
制御することを特徴とするフォトレジスト塗布方法。 - 【請求項４】 駆動装置により回転するターンテーブル
に設置された光ディスク用原盤にフォトレジストを吐出
するノズルと、前記ターンテーブルが収納され、中央開
口部の直径が前記原盤にフォトレジスト層が露光される
領域の外径と同等又はそれ以下のドーナツ状整流板を前
記原盤上面に該原盤と同心かつ平行に備えたカップと、
該カップに接続され、前記中央開口部から流入し、前記
原盤と前記整流板との間隙を通過した後、排気される空
気のダクトと、前記空気の流速を検出する装置と、前記
空気の流速を制御する装置とを有することを特徴とする
フォトレジスト塗布装置。 - 【請求項５】 前記空気の流速を制御する装置は、前記
光ディスク用原盤と前記ドーナツ状整流板との間の距離
を変える装置であることを特徴とする請求項４に記載の
フォトレジスト塗布装置。 - 【請求項６】 前記空気の流速を制御する装置は、前記
ダクトの途中に設置した角度を制御できる弁であること
を特徴とする請求項４に記載のフォトレジスト塗布装
置。 - 【請求項７】 前記空気の流速を制御する装置は、前記
ダクト終端に設置した回転数を制御できるファンである
ことを特徴とする請求項４に記載のフォトレジスト塗布
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9304063A JPH11144330A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 光ディスク用原盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9304063A JPH11144330A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 光ディスク用原盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144330A true JPH11144330A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17928595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9304063A Pending JPH11144330A (ja) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | 光ディスク用原盤及びフォトレジスト塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144330A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012238838A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理装置、塗布現像処理システム、並びに塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
| JP2015097268A (ja) * | 2011-04-26 | 2015-05-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
| CN108745803A (zh) * | 2018-08-07 | 2018-11-06 | 湖南普照信息材料有限公司 | 一种涂胶台 |
| JP2021003660A (ja) * | 2019-06-25 | 2021-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
-
1997
- 1997-11-06 JP JP9304063A patent/JPH11144330A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012238838A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-12-06 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理装置、塗布現像処理システム、並びに塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
| JP2015097268A (ja) * | 2011-04-26 | 2015-05-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理方法及びその塗布処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 |
| CN108745803A (zh) * | 2018-08-07 | 2018-11-06 | 湖南普照信息材料有限公司 | 一种涂胶台 |
| JP2021003660A (ja) * | 2019-06-25 | 2021-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040401 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040713 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040910 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041005 |