JPH11144624A - 画像表示装置 - Google Patents
画像表示装置Info
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- JPH11144624A JPH11144624A JP9303129A JP30312997A JPH11144624A JP H11144624 A JPH11144624 A JP H11144624A JP 9303129 A JP9303129 A JP 9303129A JP 30312997 A JP30312997 A JP 30312997A JP H11144624 A JPH11144624 A JP H11144624A
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- glass
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマによって電気光学表示セルを駆動す
る画像表示装置(プラズマアドレス表示装置)あるいは
プラズマによって蛍光体を発光励起する画像表示装置
(プラズマディスプレイパネル)において、放電領域を
仕切る隔壁の寸法精度を高め良好な画像表示が行えるよ
うにする。 【解決手段】 放電領域を仕切る隔壁をパターニングさ
れたガラス板によって構成する。このガラス板のパター
ニングは、例えばサンドブラスト法、スクライブブレー
ク法、グラインディング法、レーザカット法等によって
行われる。
る画像表示装置(プラズマアドレス表示装置)あるいは
プラズマによって蛍光体を発光励起する画像表示装置
(プラズマディスプレイパネル)において、放電領域を
仕切る隔壁の寸法精度を高め良好な画像表示が行えるよ
うにする。 【解決手段】 放電領域を仕切る隔壁をパターニングさ
れたガラス板によって構成する。このガラス板のパター
ニングは、例えばサンドブラスト法、スクライブブレー
ク法、グラインディング法、レーザカット法等によって
行われる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は画像表示装置に関
し、特に隔壁で囲まれた複数の放電領域で生じるプラズ
マによって画像表示を制御する画像表示装置に関する。
し、特に隔壁で囲まれた複数の放電領域で生じるプラズ
マによって画像表示を制御する画像表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】プラズマアドレス表示装置(PALC)
やプラズマディスプレイパネル(PDP)のようなフラ
ットパネルディスプレイでは、複数の電極がx,y−マ
トリックス状に形成され、これら電極の交差点が画素に
対応する。
やプラズマディスプレイパネル(PDP)のようなフラ
ットパネルディスプレイでは、複数の電極がx,y−マ
トリックス状に形成され、これら電極の交差点が画素に
対応する。
【0003】例えば、プラズマアドレス表示装置は、放
電プラズマを利用して液晶を駆動する画像表示装置(以
下、プラズマアドレス表示装置と称する。)であり、電
気光学材料層である液晶層と、プラズマ放電がなされる
プラズマセルとが、ガラス等からなる誘電体薄板を介し
て隣接配置されてなる。
電プラズマを利用して液晶を駆動する画像表示装置(以
下、プラズマアドレス表示装置と称する。)であり、電
気光学材料層である液晶層と、プラズマ放電がなされる
プラズマセルとが、ガラス等からなる誘電体薄板を介し
て隣接配置されてなる。
【0004】上記プラズマセルは、互いに略平行な複数
の放電電極と複数の隔壁が形成された第1の基板上に、
上記誘電体薄板が所定の間隔をもって配置され、周囲を
フリットシールで封止することで構成される。このプラ
ズマセルは、セル内が、隔壁(リブ)によってライン状
に仕切られ、この仕切られた各空間が放電領域となる。
の放電電極と複数の隔壁が形成された第1の基板上に、
上記誘電体薄板が所定の間隔をもって配置され、周囲を
フリットシールで封止することで構成される。このプラ
ズマセルは、セル内が、隔壁(リブ)によってライン状
に仕切られ、この仕切られた各空間が放電領域となる。
【0005】一方、液晶層は、上記誘電体薄板と、この
誘電体薄板上に所定の間隔をもって配置された第2の基
板の間に配される。この第2の基板上には、上記放電電
極と略直交するデータ電極が形成される。
誘電体薄板上に所定の間隔をもって配置された第2の基
板の間に配される。この第2の基板上には、上記放電電
極と略直交するデータ電極が形成される。
【0006】このようなプラズマアドレス表示装置にお
いては、プラズマ放電が行われる放電領域を順次切り替
え走査するとともに、液晶層側のデータ電極に信号電圧
を印加することによって該信号電圧が各画素に保持さ
れ、液晶層が駆動される。
いては、プラズマ放電が行われる放電領域を順次切り替
え走査するとともに、液晶層側のデータ電極に信号電圧
を印加することによって該信号電圧が各画素に保持さ
れ、液晶層が駆動される。
【0007】一方、プラズマディスプレイパネルは、放
電プラズマを利用して蛍光体を発光させる画像表示装置
である。
電プラズマを利用して蛍光体を発光させる画像表示装置
である。
【0008】例えばAC面放電型のプラズマディスプレ
イパネルの場合、互いに略平行な複数のデータ電極と複
数の隔壁が形成され、この隔壁で仕切られた領域の側壁
と底部に蛍光体が塗布された第1の基板上に、上記デー
タ電極と略直交する方向で放電電極が形成され、その上
に誘電体層とMgO保護膜が形成された第2の基板が所
定の間隙をもって配置され、周囲をフリットシールで封
止することで構成される。このプラズマディスプレイパ
ネルは、内部が隔壁によってライン状に仕切られ、この
仕切られた各空間が放電領域となる。
イパネルの場合、互いに略平行な複数のデータ電極と複
数の隔壁が形成され、この隔壁で仕切られた領域の側壁
と底部に蛍光体が塗布された第1の基板上に、上記デー
タ電極と略直交する方向で放電電極が形成され、その上
に誘電体層とMgO保護膜が形成された第2の基板が所
定の間隙をもって配置され、周囲をフリットシールで封
止することで構成される。このプラズマディスプレイパ
ネルは、内部が隔壁によってライン状に仕切られ、この
仕切られた各空間が放電領域となる。
【0009】このようなプラズマディスプレイパネルに
おいては、データ電極と放電電極に所定のタイミングで
パルス電圧を印加することによって放電領域でのプラズ
マ発生・消失が制御され、プラズマ発生している領域に
おいて蛍光体が励起発光する。
おいては、データ電極と放電電極に所定のタイミングで
パルス電圧を印加することによって放電領域でのプラズ
マ発生・消失が制御され、プラズマ発生している領域に
おいて蛍光体が励起発光する。
【0010】ところで、プラズマアドレス表示装置やプ
ラズマディスプレイパネルにおいて放電領域を仕切る隔
壁は、ガラスペーストをスクリーン印刷法によって印刷
し、乾燥、焼成することで形成されるのが一般的であ
る。ここで、隔壁は通常200〜300μmの高さに設
定されるので、隔壁のスクリーン印刷の工程では、この
高さを得るために、印刷操作を10〜15回繰り返す積
層印刷が行われる。
ラズマディスプレイパネルにおいて放電領域を仕切る隔
壁は、ガラスペーストをスクリーン印刷法によって印刷
し、乾燥、焼成することで形成されるのが一般的であ
る。ここで、隔壁は通常200〜300μmの高さに設
定されるので、隔壁のスクリーン印刷の工程では、この
高さを得るために、印刷操作を10〜15回繰り返す積
層印刷が行われる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかし、スクリーン印
刷を繰り返し行うと、印刷毎に印刷パターンの位置ズレ
が生じ、寸法精度の良い隔壁を得るのが難しい。隔壁に
寸法誤差があると画素の開口率が低くなり、表示画像の
輝度の低下につながる。また、作業工数が多くなること
から生産効率を低下させることにもなる。
刷を繰り返し行うと、印刷毎に印刷パターンの位置ズレ
が生じ、寸法精度の良い隔壁を得るのが難しい。隔壁に
寸法誤差があると画素の開口率が低くなり、表示画像の
輝度の低下につながる。また、作業工数が多くなること
から生産効率を低下させることにもなる。
【0012】また、特にプラズマアドレス表示装置で
は、隔壁の頂部に厚さ50μm程度の薄い誘電体薄板が
貼り合わせられるが、スクリーン印刷法によって形成さ
れた隔壁の頂部は表面が粗く、誘電体薄板をそのまま隔
壁に貼り合わせると隔壁の頂部の凹凸形状に誘電体薄板
が倣い、その上に積層される液晶層の厚さを精度良く制
御するのが難しくなる。
は、隔壁の頂部に厚さ50μm程度の薄い誘電体薄板が
貼り合わせられるが、スクリーン印刷法によって形成さ
れた隔壁の頂部は表面が粗く、誘電体薄板をそのまま隔
壁に貼り合わせると隔壁の頂部の凹凸形状に誘電体薄板
が倣い、その上に積層される液晶層の厚さを精度良く制
御するのが難しくなる。
【0013】これに対して、隔壁の頂部を、アルミナ研
磨剤を用いて湿式研磨することも行われているが、この
研磨工程で隔壁に欠けやキズ、破損が生じる場合が多
い。また、このような隔壁の研磨は、表示装置が大型化
する程条件設定が難しくなり、大型の表示装置用に高価
な研磨機が必要になるといった問題もある。
磨剤を用いて湿式研磨することも行われているが、この
研磨工程で隔壁に欠けやキズ、破損が生じる場合が多
い。また、このような隔壁の研磨は、表示装置が大型化
する程条件設定が難しくなり、大型の表示装置用に高価
な研磨機が必要になるといった問題もある。
【0014】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、寸法精度が高く、頂部が
平坦な隔壁を有し、良好な画像表示が行える画像表示装
置を提供することを目的とする。
鑑みて提案されたものであり、寸法精度が高く、頂部が
平坦な隔壁を有し、良好な画像表示が行える画像表示装
置を提供することを目的とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】一主面上に互いに略平行
な複数の電極が形成された第1の基板上に、第2の基板
が所定の間隙をもって配置され、第1の基板と第2の基
板の間の間隙が隔壁によって複数の空間に仕切られ、こ
の空間で生じるプラズマによって画像表示を制御する画
像表示装置において、上記隔壁は、パターニングされた
ガラス板よりなることを特徴とするものである。
な複数の電極が形成された第1の基板上に、第2の基板
が所定の間隙をもって配置され、第1の基板と第2の基
板の間の間隙が隔壁によって複数の空間に仕切られ、こ
の空間で生じるプラズマによって画像表示を制御する画
像表示装置において、上記隔壁は、パターニングされた
ガラス板よりなることを特徴とするものである。
【0016】パターニングされたガラス板よりなる隔壁
は、頂部がガラス板の表面によって構成されるので平坦
性に優れている。したがって、特にプラズマアドレス表
示装置の場合にはこの上に接着される誘電体薄板もこれ
に倣って平坦になるので液晶層が均一な厚さで形成され
る。
は、頂部がガラス板の表面によって構成されるので平坦
性に優れている。したがって、特にプラズマアドレス表
示装置の場合にはこの上に接着される誘電体薄板もこれ
に倣って平坦になるので液晶層が均一な厚さで形成され
る。
【0017】また、パターニングされたガラス板よりな
る隔壁は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラス
ト法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レ
ーザカット法のような加工方法を組み合わせることで高
い寸法精度で形成される。したがって、画素の開口率が
高くなり、高い輝度が得られるようになる。
る隔壁は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラス
ト法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レ
ーザカット法のような加工方法を組み合わせることで高
い寸法精度で形成される。したがって、画素の開口率が
高くなり、高い輝度が得られるようになる。
【0018】さらに、この隔壁の形成工程は、スクリー
ン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が少な
いので高い生産効率が得られる。
ン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が少な
いので高い生産効率が得られる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について、図面を参照しながら説明する。
態について、図面を参照しながら説明する。
【0020】まず、本発明を適用した画像表示装置の第
1の実施の形態を図1,図2に示す。
1の実施の形態を図1,図2に示す。
【0021】この画像表示装置(プラズマアドレス表示
装置)は、図1及び図2に示すように、電気光学表示セ
ル1と、プラズマセル2と、それら両者の間に介在する
誘電体薄板3とを積層した、いわゆるフラットパネル構
造を有する。
装置)は、図1及び図2に示すように、電気光学表示セ
ル1と、プラズマセル2と、それら両者の間に介在する
誘電体薄板3とを積層した、いわゆるフラットパネル構
造を有する。
【0022】誘電体薄板3には、透光性を有する材質、
例えば厚さが30〜50μmの薄板ガラス等が使用さ
れ、それ自身、キャパシタとして機能する。したがっ
て、電気光学表示セル1とプラズマセル2との電気的結
合を十分に確保し、且つ電荷の二次元的な広がりを抑制
するために、この誘電シート3の厚さはなるべく薄い方
がよく、また誘電率は高い方がよい。
例えば厚さが30〜50μmの薄板ガラス等が使用さ
れ、それ自身、キャパシタとして機能する。したがっ
て、電気光学表示セル1とプラズマセル2との電気的結
合を十分に確保し、且つ電荷の二次元的な広がりを抑制
するために、この誘電シート3の厚さはなるべく薄い方
がよく、また誘電率は高い方がよい。
【0023】上記プラズマセル2は、上記誘電体薄板3
と、この下方に配されるガラス基板(第1の基板)4と
で構成されている。
と、この下方に配されるガラス基板(第1の基板)4と
で構成されている。
【0024】上記第1の基板4には誘電体薄板3と対向
する側の外周縁部にリブ4aが形成され、このリブ4a
で囲まれた領域に列方向に延びる複数のアノード電極5
A及びカソード電極5Kが第1の下地層6を介して形成
されている。これらアノード電極5A及びカソード電極
5Kは、交互に所定の間隔を保持して並列に配列され、
放電電極群を構成している。
する側の外周縁部にリブ4aが形成され、このリブ4a
で囲まれた領域に列方向に延びる複数のアノード電極5
A及びカソード電極5Kが第1の下地層6を介して形成
されている。これらアノード電極5A及びカソード電極
5Kは、交互に所定の間隔を保持して並列に配列され、
放電電極群を構成している。
【0025】また、各アノード電極5Aの上面中央部に
は第2の下地層7が電極に沿って延在するように形成さ
れ、その上に第2の下地層7と同じパターンでパターニ
ングされたガラス板よりなる隔壁8が形成されている。
この隔壁8に用いるガラス板としては、例えば厚さ20
0〜250μm、平坦性(中心線平均粗さRa)5〜1
0μmのほう珪酸系マイクロシートガラス等が用いられ
る。
は第2の下地層7が電極に沿って延在するように形成さ
れ、その上に第2の下地層7と同じパターンでパターニ
ングされたガラス板よりなる隔壁8が形成されている。
この隔壁8に用いるガラス板としては、例えば厚さ20
0〜250μm、平坦性(中心線平均粗さRa)5〜1
0μmのほう珪酸系マイクロシートガラス等が用いられ
る。
【0026】そして、各隔壁8の頂部は、誘電体薄板3
の下面に当接され、第1の基板4と誘電体薄板3間の間
隙がほぼ一定に保たれている。
の下面に当接され、第1の基板4と誘電体薄板3間の間
隙がほぼ一定に保たれている。
【0027】さらに、上記誘電体薄板3は、上記第1の
基板4のリブ4a上に低融点ガラス等を使用した封止材
9により気密的に接合されており、プラズマセル2が密
閉空間として構成されている。この密閉空間には、例え
ばヘリウム、ネオン、アルゴン、あるいはこれらの混合
気体等、イオン化可能なガスが封入されている。また、
この密閉空間は各隔壁8で分離され、分離された複数の
空間が放電チャンネル10とされる。
基板4のリブ4a上に低融点ガラス等を使用した封止材
9により気密的に接合されており、プラズマセル2が密
閉空間として構成されている。この密閉空間には、例え
ばヘリウム、ネオン、アルゴン、あるいはこれらの混合
気体等、イオン化可能なガスが封入されている。また、
この密閉空間は各隔壁8で分離され、分離された複数の
空間が放電チャンネル10とされる。
【0028】一方、上記電気光学表示セル1は、上記誘
電体薄板3の上に液晶封止材11によって所定の間隙を
保持した状態でガラス基板(第2の基板)12を接合す
ることにより形成される。
電体薄板3の上に液晶封止材11によって所定の間隙を
保持した状態でガラス基板(第2の基板)12を接合す
ることにより形成される。
【0029】そして、この誘電体薄板3と第2の基板1
2の間の間隙には、液晶の配向を整えるための配向膜1
3a,13bに挟持された液晶層14が形成される。な
お、電気光学材料としては、液晶以外のものを使用する
こともできる。
2の間の間隙には、液晶の配向を整えるための配向膜1
3a,13bに挟持された液晶層14が形成される。な
お、電気光学材料としては、液晶以外のものを使用する
こともできる。
【0030】ここで、第2の基板12と誘電体薄板3の
間の間隙の寸法は、例えばツイストネマティック液晶の
場合6〜7μmとされ、表示面全面に亘ってほぼ均一に
保たれている。
間の間隙の寸法は、例えばツイストネマティック液晶の
場合6〜7μmとされ、表示面全面に亘ってほぼ均一に
保たれている。
【0031】また、上記第2の基板12の誘電体薄板3
との対向面には、上記放電電極5(アノード電極5A,
カソード電極5K)と直交する方向、すなわち行方向に
延びる複数本のデータ電極15が所定の間隔を保持して
列方向に並列に配列されている。このデータ電極15は
インジウム・スズ・オキサイド(ITO)等の透明導電
材料から構成されている。また、このデータ電極15上
には、カラーフィルタ16及び配向膜13bが積層され
ている。
との対向面には、上記放電電極5(アノード電極5A,
カソード電極5K)と直交する方向、すなわち行方向に
延びる複数本のデータ電極15が所定の間隔を保持して
列方向に並列に配列されている。このデータ電極15は
インジウム・スズ・オキサイド(ITO)等の透明導電
材料から構成されている。また、このデータ電極15上
には、カラーフィルタ16及び配向膜13bが積層され
ている。
【0032】上述のプラズマアドレス表示装置において
は、第1の基板4と誘電体薄板3の間隙に、各隔壁8で
分離された複数の放電チャンネル10が行方向に並列に
形成されている。この放電チャンネル10はデータ電極
15と直交し、この放電チャンネル10とデータ電極1
5の交差領域が各画素17に対応している。このプラズ
マ放電が行われる放電チャンネル10を順次切り替え操
作するとともに液晶層側のデータ電極15にこれと同期
して信号電圧を印加することによって該信号電圧が各画
素17に保持され、液晶層14が駆動される。
は、第1の基板4と誘電体薄板3の間隙に、各隔壁8で
分離された複数の放電チャンネル10が行方向に並列に
形成されている。この放電チャンネル10はデータ電極
15と直交し、この放電チャンネル10とデータ電極1
5の交差領域が各画素17に対応している。このプラズ
マ放電が行われる放電チャンネル10を順次切り替え操
作するとともに液晶層側のデータ電極15にこれと同期
して信号電圧を印加することによって該信号電圧が各画
素17に保持され、液晶層14が駆動される。
【0033】ここで、このプラズマアドレス表示装置に
おいては特に、放電チャンネルを仕切る隔壁8がパター
ニングされたガラス板によって構成されていることが重
要である。
おいては特に、放電チャンネルを仕切る隔壁8がパター
ニングされたガラス板によって構成されていることが重
要である。
【0034】パターニングされたガラス板よりなる隔壁
8は、頂部がガラス板の表面によって構成されるので平
坦性に優れている。したがって、この上に真空吸着で密
着される誘電体薄板3もこれに倣って平坦になるので液
晶層14が均一な厚さで形成される。
8は、頂部がガラス板の表面によって構成されるので平
坦性に優れている。したがって、この上に真空吸着で密
着される誘電体薄板3もこれに倣って平坦になるので液
晶層14が均一な厚さで形成される。
【0035】また、パターニングされたガラス板よりな
る隔壁8は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラ
スト法、スクライブブレーク法、グラインディング(G
rinding)法、レーザカット法のような加工方法
を組み合わせることで高い寸法精度で形成される。した
がって、画素17の開口率が高くなり、高い輝度が得ら
れるようになる。
る隔壁8は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラ
スト法、スクライブブレーク法、グラインディング(G
rinding)法、レーザカット法のような加工方法
を組み合わせることで高い寸法精度で形成される。した
がって、画素17の開口率が高くなり、高い輝度が得ら
れるようになる。
【0036】さらに、この隔壁の形成工程は、スクリー
ン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が少な
いので高い生産効率が得られる。
ン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が少な
いので高い生産効率が得られる。
【0037】なお、このプラズマアドレス表示装置は、
適当な箇所に着色部材を用いることでコントラストの向
上を図るようにしても良い。例えば、隔壁8の形成に用
いるガラス板として黒色に着色されたものを用いたり、
隔壁8や第1の基板4aのリブの頂部や側面に、クロ
ム,酸化クロム等の黒色系金属膜をスパッタリング等に
よって被着させたり、カーボン等の黒色顔料を含有する
黒色低融点ガラスをスクリーン印刷法によって印刷、焼
成することで黒色に着色しても良い。
適当な箇所に着色部材を用いることでコントラストの向
上を図るようにしても良い。例えば、隔壁8の形成に用
いるガラス板として黒色に着色されたものを用いたり、
隔壁8や第1の基板4aのリブの頂部や側面に、クロ
ム,酸化クロム等の黒色系金属膜をスパッタリング等に
よって被着させたり、カーボン等の黒色顔料を含有する
黒色低融点ガラスをスクリーン印刷法によって印刷、焼
成することで黒色に着色しても良い。
【0038】この画像表示装置では、偏光板を通過した
光が照射され、プラズマセル2、誘電体薄板3、電気化
学表示セル1を順次通過し、画像が表示されるが、この
ような着色部材を用いることによって、反射による偏光
の乱れが防止され、乱れた光が液晶に入ることによるコ
ントラスト劣化が防止される。
光が照射され、プラズマセル2、誘電体薄板3、電気化
学表示セル1を順次通過し、画像が表示されるが、この
ような着色部材を用いることによって、反射による偏光
の乱れが防止され、乱れた光が液晶に入ることによるコ
ントラスト劣化が防止される。
【0039】なお、この実施の形態ではアノード電極上
に隔壁を配しているが、第1の基板上に直接配列させて
もよく、アノード電極上とカソード電極上の両方に配す
るようにしても良い。
に隔壁を配しているが、第1の基板上に直接配列させて
もよく、アノード電極上とカソード電極上の両方に配す
るようにしても良い。
【0040】次に、このプラズマアドレス表示装置の製
造工程について説明する。
造工程について説明する。
【0041】プラズマアドレス表示装置を製造するに
は、まず、図3に示すようにガラスよりなる第1の基板
21を用意し、この第1の基板21の一主面全面にガラ
スペースト層22を印刷形成した後、この上に重ねて導
電ペースト層23を印刷形成する。
は、まず、図3に示すようにガラスよりなる第1の基板
21を用意し、この第1の基板21の一主面全面にガラ
スペースト層22を印刷形成した後、この上に重ねて導
電ペースト層23を印刷形成する。
【0042】続いて、この導電ペースト層23上に、例
えば感光性フィルムレジストを重ね、放電電極の形成パ
ターンでレジストが硬化するように光照射することで図
4に示すようなレジストマスク24を形成する。この例
では、帯状のアノード電極と、このアノード電極よりも
幅狭の帯状のカソード電極とが交互に複数本形成される
ように、それに対応したパターンでレジストマスク24
を形成する。
えば感光性フィルムレジストを重ね、放電電極の形成パ
ターンでレジストが硬化するように光照射することで図
4に示すようなレジストマスク24を形成する。この例
では、帯状のアノード電極と、このアノード電極よりも
幅狭の帯状のカソード電極とが交互に複数本形成される
ように、それに対応したパターンでレジストマスク24
を形成する。
【0043】次に、この上からサンドブラスト処理を行
う。サンドブラスト処理は、高速噴射させた粒子を被処
理面に当てることによってこの被処理面を研削加工する
ものである。ここでは、このサンドブラスト処理によっ
て、レジストマスク24から露出している導電ペースト
層23がまず研削除去され、続いてガラスペースト層2
2が研削除去される。その結果、図5に示すように、ガ
ラスペースト層22と導電ペースト層23が、幅狭の帯
と幅広の帯とが交互に複数本形成されたパターンで残存
する。
う。サンドブラスト処理は、高速噴射させた粒子を被処
理面に当てることによってこの被処理面を研削加工する
ものである。ここでは、このサンドブラスト処理によっ
て、レジストマスク24から露出している導電ペースト
層23がまず研削除去され、続いてガラスペースト層2
2が研削除去される。その結果、図5に示すように、ガ
ラスペースト層22と導電ペースト層23が、幅狭の帯
と幅広の帯とが交互に複数本形成されたパターンで残存
する。
【0044】次いで、図6に示すように、この残存した
導電ペースト層23のうち、アノード電極に対応する幅
広の導電ペースト層の上面の中央部にスクリーン印刷法
によってガラスペースト層25を形成する。
導電ペースト層23のうち、アノード電極に対応する幅
広の導電ペースト層の上面の中央部にスクリーン印刷法
によってガラスペースト層25を形成する。
【0045】一方、厚さが200〜250μmの隔壁用
薄板ガラス26とカバーガラス(例えば厚さ500μm
のガラス板)27を密着して重ねた積層ガラスを用意
し、上述の第1の基板に形成されたガラスペースト層2
5上に、図7に示すように隔壁用薄板ガラス26、カバ
ーガラス27、押さえガラス28を、第1の基板21側
と押さえガラス28側から挟み込む治具を用いて固定
し、この状態で焼成炉によって加熱処理する。加熱処理
するとガラスペースト層22,25と導電ペースト層2
3が焼成され、カソード電極に対応する領域では、ガラ
スペースト層の焼結体よりなる第1の下地層22上に導
電ペースト層の焼結体よるなるカソード電極23Kが形
成されたかたちになる。また、アノード電極に対応する
領域では、ガラスペースト層の焼結体よりなる第1の下
地層22上に、導電ペースト層の焼結体よりなるアノー
ド電極23Aが形成され、この上にガラスペースト層の
焼結体よりなる第2の下地層25が形成されたかたちに
なる。そして、上記隔壁用薄板ガラス26は、複数の第
2の下地層25に亘って掛け渡された状態で接着され
る。
薄板ガラス26とカバーガラス(例えば厚さ500μm
のガラス板)27を密着して重ねた積層ガラスを用意
し、上述の第1の基板に形成されたガラスペースト層2
5上に、図7に示すように隔壁用薄板ガラス26、カバ
ーガラス27、押さえガラス28を、第1の基板21側
と押さえガラス28側から挟み込む治具を用いて固定
し、この状態で焼成炉によって加熱処理する。加熱処理
するとガラスペースト層22,25と導電ペースト層2
3が焼成され、カソード電極に対応する領域では、ガラ
スペースト層の焼結体よりなる第1の下地層22上に導
電ペースト層の焼結体よるなるカソード電極23Kが形
成されたかたちになる。また、アノード電極に対応する
領域では、ガラスペースト層の焼結体よりなる第1の下
地層22上に、導電ペースト層の焼結体よりなるアノー
ド電極23Aが形成され、この上にガラスペースト層の
焼結体よりなる第2の下地層25が形成されたかたちに
なる。そして、上記隔壁用薄板ガラス26は、複数の第
2の下地層25に亘って掛け渡された状態で接着され
る。
【0046】なお、隔壁用薄板ガラス26に重ねるカバ
ーガラス27は、焼成に際して隔壁用薄板ガラス26表
面に塵等が付着するのを防止したり、適当な荷重を加え
ることによって隔壁用薄板ガラス26の平坦性を高める
ためのものである。
ーガラス27は、焼成に際して隔壁用薄板ガラス26表
面に塵等が付着するのを防止したり、適当な荷重を加え
ることによって隔壁用薄板ガラス26の平坦性を高める
ためのものである。
【0047】このようにして焼成を行った後、カバーガ
ラス27を隔壁用薄板ガラス26から外し、この隔壁用
薄板ガラス26を、所定の隔壁のパターンでパターニン
グする。このパターニングには、例えばサンドブラスト
法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法が用いられる。
ラス27を隔壁用薄板ガラス26から外し、この隔壁用
薄板ガラス26を、所定の隔壁のパターンでパターニン
グする。このパターニングには、例えばサンドブラスト
法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法が用いられる。
【0048】このうちサンドブラスト法による場合に
は、隔壁用薄板ガラス26上に感光性フィルムレジスト
を積層し、第2の隔壁に対応する領域のレジストが硬化
するように光照射し、図8に示すようにレジストマスク
20を形成する。
は、隔壁用薄板ガラス26上に感光性フィルムレジスト
を積層し、第2の隔壁に対応する領域のレジストが硬化
するように光照射し、図8に示すようにレジストマスク
20を形成する。
【0049】そして、この上からサンドブラスト処理を
行う。これによってレジストマスク20から露出してい
る隔壁用薄板ガラス26が研削除去され、図9に示すよ
うに第2の下地層25上に薄板ガラスよりなる隔壁26
が形成される。
行う。これによってレジストマスク20から露出してい
る隔壁用薄板ガラス26が研削除去され、図9に示すよ
うに第2の下地層25上に薄板ガラスよりなる隔壁26
が形成される。
【0050】また、スクライブブレーク法による場合に
は、図10に示すように、ダイヤモンドカッターによ
り、隔壁用薄板ガラス26にけがきを入れ、そのけがき
に沿って軽く衝撃を与え、隔壁用薄板ガラス26を割る
ことによって隔壁を形成する。
は、図10に示すように、ダイヤモンドカッターによ
り、隔壁用薄板ガラス26にけがきを入れ、そのけがき
に沿って軽く衝撃を与え、隔壁用薄板ガラス26を割る
ことによって隔壁を形成する。
【0051】なお、隔壁用薄板ガラスの加工にスクライ
ブブレーク処理を用いる場合には、サンドブラスト処理
を浅く全面に行うという後処理を行うことによって隔壁
用薄板ガラスの先端部端面のバリを除去するようにして
も良い。
ブブレーク処理を用いる場合には、サンドブラスト処理
を浅く全面に行うという後処理を行うことによって隔壁
用薄板ガラスの先端部端面のバリを除去するようにして
も良い。
【0052】グラインディング法では、図11に示すよ
うに、ダイヤモンド微粒子をバインダーで焼結させた焼
結体よりなる研削用ダイヤモンドホイール75によっ
て、隔壁に対応しない領域の隔壁用薄板ガラス26を研
削除去するか、あるいは、図12に示すように、複数の
切断用ダイヤモンドホイール76によって、隔壁形成領
域と隔壁に対応しない領域の境界線の位置で隔壁用薄板
ガラス26を切断することで隔壁を形成する。
うに、ダイヤモンド微粒子をバインダーで焼結させた焼
結体よりなる研削用ダイヤモンドホイール75によっ
て、隔壁に対応しない領域の隔壁用薄板ガラス26を研
削除去するか、あるいは、図12に示すように、複数の
切断用ダイヤモンドホイール76によって、隔壁形成領
域と隔壁に対応しない領域の境界線の位置で隔壁用薄板
ガラス26を切断することで隔壁を形成する。
【0053】さらに、レーザカット法では、図13に示
すように、YAGレーザや炭酸ガスレーザをレンズ77
で集光させ、隔壁形成領域と隔壁に対応しない領域の境
界線の位置でガラスを溶断する。このとき、レーザと集
光レンズ77をライン状に複数配置し、複数の隔壁が一
度に形成されるようにしても良い。
すように、YAGレーザや炭酸ガスレーザをレンズ77
で集光させ、隔壁形成領域と隔壁に対応しない領域の境
界線の位置でガラスを溶断する。このとき、レーザと集
光レンズ77をライン状に複数配置し、複数の隔壁が一
度に形成されるようにしても良い。
【0054】隔壁用薄板ガラス26をサンドブラスト法
やスクライブブレーク法、グラインディング法、レーザ
カット法によってパターニングすると、寸法精度良く隔
壁が形成される。また、スクリーン印刷法を繰り返し行
うのに比べて工程数が少なくて済む。さらに、形成され
た隔壁の頂部は、薄板ガラスの表面によって構成される
ので平坦性に優れている。なお、より頂部が平坦な隔壁
を形成するために、サンドブラスト処理やスクライブブ
レーク処理等を行う前に隔壁用薄板ガラス表面に研磨処
理を施しても良い。この研磨は、例えばアルミナ研磨剤
を用いる湿式研磨、ポリエステルテープにアルミナ研磨
剤やSiO2研磨剤を塗布した研磨テープを用いる乾式
研磨のいずれで行っても良い。隔壁が形成された後の段
階で研磨を行うと隔壁に欠けやキズ等の損傷を生じる
が、このように薄板ガラスの段階で研磨を行えば隔壁の
損傷が避けられる。
やスクライブブレーク法、グラインディング法、レーザ
カット法によってパターニングすると、寸法精度良く隔
壁が形成される。また、スクリーン印刷法を繰り返し行
うのに比べて工程数が少なくて済む。さらに、形成され
た隔壁の頂部は、薄板ガラスの表面によって構成される
ので平坦性に優れている。なお、より頂部が平坦な隔壁
を形成するために、サンドブラスト処理やスクライブブ
レーク処理等を行う前に隔壁用薄板ガラス表面に研磨処
理を施しても良い。この研磨は、例えばアルミナ研磨剤
を用いる湿式研磨、ポリエステルテープにアルミナ研磨
剤やSiO2研磨剤を塗布した研磨テープを用いる乾式
研磨のいずれで行っても良い。隔壁が形成された後の段
階で研磨を行うと隔壁に欠けやキズ等の損傷を生じる
が、このように薄板ガラスの段階で研磨を行えば隔壁の
損傷が避けられる。
【0055】なお、このようにして第1の下地層22、
第2の下地層25、隔壁26を形成するのと同時に、第
1の基板21の辺縁部にもこれと同じ層構成でリブ21
aを形成し、このリブ21aを封止剤を塗布するフリッ
トシール部としても良い。
第2の下地層25、隔壁26を形成するのと同時に、第
1の基板21の辺縁部にもこれと同じ層構成でリブ21
aを形成し、このリブ21aを封止剤を塗布するフリッ
トシール部としても良い。
【0056】そして、第1の基板21のリブ21aに低
融点ガラスよりなる封止材を塗布し、誘電体薄板3を重
ねてプラズマセルの封止を行う。この封止は、次のよう
にカバーガラスを用いて行うと焼成炉中での誘電体薄板
表面の汚染を防止することができる。
融点ガラスよりなる封止材を塗布し、誘電体薄板3を重
ねてプラズマセルの封止を行う。この封止は、次のよう
にカバーガラスを用いて行うと焼成炉中での誘電体薄板
表面の汚染を防止することができる。
【0057】すなわち、図14に示すように誘電体薄板
28にカバーガラス29を密着させて重ね、積層ガラス
とする。なお、誘電体薄板28とカバーガラス29を重
ね合わせると両方の対向面でファンデルワールス力が働
き、両者が強く密着される。
28にカバーガラス29を密着させて重ね、積層ガラス
とする。なお、誘電体薄板28とカバーガラス29を重
ね合わせると両方の対向面でファンデルワールス力が働
き、両者が強く密着される。
【0058】ここで誘電体薄板28は、液晶層に効率良
く外部電圧が印加されるようにするために厚さが薄く誘
電率が高い方が望ましい。また、カバーガラス29との
密着性を高めるためには、誘電体薄板28は平坦性な方
が良い。このような点から、アルカリ成分が低濃度とな
されたほうケイ酸ガラスよりなり、厚さが30〜50μ
m、平坦性(中心線平均粗さRa)が5〜10μmのマ
イクロシートガラスを用いるのが望ましい。
く外部電圧が印加されるようにするために厚さが薄く誘
電率が高い方が望ましい。また、カバーガラス29との
密着性を高めるためには、誘電体薄板28は平坦性な方
が良い。このような点から、アルカリ成分が低濃度とな
されたほうケイ酸ガラスよりなり、厚さが30〜50μ
m、平坦性(中心線平均粗さRa)が5〜10μmのマ
イクロシートガラスを用いるのが望ましい。
【0059】一方、カバーガラス29としては、誘電体
薄板28と密着させるために平坦性の良いものを用いる
のが望ましく、誘電体薄板28と同じ材質で同程度の平
坦性を有し、また誘電体薄板28よりも厚いものを用い
るのが良い。
薄板28と密着させるために平坦性の良いものを用いる
のが望ましく、誘電体薄板28と同じ材質で同程度の平
坦性を有し、また誘電体薄板28よりも厚いものを用い
るのが良い。
【0060】ここで、誘電体薄板28とカバーガラス2
9の組み合わせは、作業時の割れ、欠けを防止するため
に、両方を重ね合わせたときの全厚が200〜300μ
mとなるように選ぶのが好ましい。したがって、例えば
誘電体薄板28の厚さが50μmである場合には厚さが
200μm程度のカバーガラスが使用される。また、誘
電体薄板28の厚さが50μmよりも薄い場合、例えば
30μmである場合には、厚さが200〜250μm程
度のカバーガラスを用いたり、厚さが100μmのカバ
ーガラスを2〜3枚重ねて用い、補強するようにしても
構わない。
9の組み合わせは、作業時の割れ、欠けを防止するため
に、両方を重ね合わせたときの全厚が200〜300μ
mとなるように選ぶのが好ましい。したがって、例えば
誘電体薄板28の厚さが50μmである場合には厚さが
200μm程度のカバーガラスが使用される。また、誘
電体薄板28の厚さが50μmよりも薄い場合、例えば
30μmである場合には、厚さが200〜250μm程
度のカバーガラスを用いたり、厚さが100μmのカバ
ーガラスを2〜3枚重ねて用い、補強するようにしても
構わない。
【0061】そして、この誘電体薄板28とカバーガラ
ス29よりなる積層ガラスを、図15に示すように、こ
れら誘電体薄板28とカバーガラス29よりも一回り大
きめの面積となされ外周縁部にリブ30aを有する押さ
えガラス30の、リブ30aで囲まれた内側に収容す
る。なお、このとき誘電体薄板28がカバーガラス29
よりも上側となるようにする。次いで、図16に示すよ
うに第1の基板21の封止材31が塗布されたリブ21
aの頂部を、上記誘電体薄板3に当接させる。そして、
図17に示すようにこれら第1の基板21、誘電体薄板
28、カバーガラス29、押さえガラス30を第1の基
板21側と押さえガラス30側から挟み込む治具32を
用いて固定し、この状態で焼成炉によって加熱する。加
熱すると第1の基板21のリブ21aと誘電体薄板28
の間の封止材31が焼成され、第1の基板21と誘電体
薄板28の間の空間が気密的に密閉される。
ス29よりなる積層ガラスを、図15に示すように、こ
れら誘電体薄板28とカバーガラス29よりも一回り大
きめの面積となされ外周縁部にリブ30aを有する押さ
えガラス30の、リブ30aで囲まれた内側に収容す
る。なお、このとき誘電体薄板28がカバーガラス29
よりも上側となるようにする。次いで、図16に示すよ
うに第1の基板21の封止材31が塗布されたリブ21
aの頂部を、上記誘電体薄板3に当接させる。そして、
図17に示すようにこれら第1の基板21、誘電体薄板
28、カバーガラス29、押さえガラス30を第1の基
板21側と押さえガラス30側から挟み込む治具32を
用いて固定し、この状態で焼成炉によって加熱する。加
熱すると第1の基板21のリブ21aと誘電体薄板28
の間の封止材31が焼成され、第1の基板21と誘電体
薄板28の間の空間が気密的に密閉される。
【0062】ここで、このとき隔壁26の頂部が平坦で
あるので、貼り合わされた誘電体薄板28表面も平坦で
ある。また、焼成に際して、誘電体薄板28にはカバー
ガラス29が密着しているので、焼成雰囲気中のガスや
塵等が誘電体薄板28表面に付着するのが防止され、誘
電体薄板28表面が清浄な状態に保たれる。
あるので、貼り合わされた誘電体薄板28表面も平坦で
ある。また、焼成に際して、誘電体薄板28にはカバー
ガラス29が密着しているので、焼成雰囲気中のガスや
塵等が誘電体薄板28表面に付着するのが防止され、誘
電体薄板28表面が清浄な状態に保たれる。
【0063】続いて、この密閉された第1の基板21と
誘電体薄板28の間の空間を真空排気処理し、イオン化
可能なガスを封入することによってプラズマセルとす
る。そして、図18に示すように治具32と押さえガラ
ス30を外し、さらにカバーガラス29を誘電体薄板2
8から剥離する。カバーガラス29の剥離は、例えば粘
着テープをカバーガラス29に接着し、この粘着テープ
をカバーガラス29が剥離される方向に引っ張ることで
行う。
誘電体薄板28の間の空間を真空排気処理し、イオン化
可能なガスを封入することによってプラズマセルとす
る。そして、図18に示すように治具32と押さえガラ
ス30を外し、さらにカバーガラス29を誘電体薄板2
8から剥離する。カバーガラス29の剥離は、例えば粘
着テープをカバーガラス29に接着し、この粘着テープ
をカバーガラス29が剥離される方向に引っ張ることで
行う。
【0064】この後、このプラズマセル上に電気光学表
示セルを形成する。この電気光学表示セルの形成は、通
常の画像表示装置の製造工程に準じて良い。
示セルを形成する。この電気光学表示セルの形成は、通
常の画像表示装置の製造工程に準じて良い。
【0065】例えば、図19に示すように誘電体薄板2
8上にTiO2溶液を塗布し、プリベークした後、焼成
することによって紫外線を遮蔽するためのTiO2膜3
3を形成する。次いで、このTiO2膜33上に、例え
ばポリアミック酸溶液を塗布し、プリベークした後、焼
成し、さらにラビング処理することによってポリイミド
よりなる配向膜34を形成する。なお、ラビング処理は
ポリイミドを布でこすることによってポリマー鎖を並べ
揃える工程である。そして、この上に、データ電極、カ
ラーフィルタ、第2の配向膜を形成しておいた第2の基
板を、液晶封止材を介して所定のギャップをもって配置
し、第1の配向膜と第2の配向膜の間にツイストネマテ
ィック液晶等の液晶を注入封止することによって、図
1,図2に示すプラズマアドレス表示装置が完成する。
8上にTiO2溶液を塗布し、プリベークした後、焼成
することによって紫外線を遮蔽するためのTiO2膜3
3を形成する。次いで、このTiO2膜33上に、例え
ばポリアミック酸溶液を塗布し、プリベークした後、焼
成し、さらにラビング処理することによってポリイミド
よりなる配向膜34を形成する。なお、ラビング処理は
ポリイミドを布でこすることによってポリマー鎖を並べ
揃える工程である。そして、この上に、データ電極、カ
ラーフィルタ、第2の配向膜を形成しておいた第2の基
板を、液晶封止材を介して所定のギャップをもって配置
し、第1の配向膜と第2の配向膜の間にツイストネマテ
ィック液晶等の液晶を注入封止することによって、図
1,図2に示すプラズマアドレス表示装置が完成する。
【0066】なお、このプラズマアドレス表示装置の製
造工程は種々の変更が可能である。
造工程は種々の変更が可能である。
【0067】例えば、TiO2膜17や配向膜13aの
焼成工程での塵付着を防止するために、TiO2膜17
のプリベーク後に、図20に示すように、外周縁部に主
面より立ち上がった2段の段差39aを有する厚板カバ
ーガラス39を被せ、TiO2膜33表面と厚板カバー
ガラス39との間に清浄な空間を形成した状態で焼成を
行うようにしても良い。また、配向膜34の場合も同様
であり、図21に示すように、2段の段差39aを有す
る厚板カバーガラス39を被せることで配向膜34と厚
板カバーガラス39との間に清浄な空間を形成し、この
状態で焼成を行うようにすると良い。また、このような
厚板カバーガラス39は、第2の基板での配向膜の焼成
工程で使用しても勿論差し支えない。
焼成工程での塵付着を防止するために、TiO2膜17
のプリベーク後に、図20に示すように、外周縁部に主
面より立ち上がった2段の段差39aを有する厚板カバ
ーガラス39を被せ、TiO2膜33表面と厚板カバー
ガラス39との間に清浄な空間を形成した状態で焼成を
行うようにしても良い。また、配向膜34の場合も同様
であり、図21に示すように、2段の段差39aを有す
る厚板カバーガラス39を被せることで配向膜34と厚
板カバーガラス39との間に清浄な空間を形成し、この
状態で焼成を行うようにすると良い。また、このような
厚板カバーガラス39は、第2の基板での配向膜の焼成
工程で使用しても勿論差し支えない。
【0068】また、TiO2溶液塗布前やポリアミック
酸溶液の塗布前に除電エアブローを行うことで表面の塵
を除去したり、配向膜のラビング処理後に紫外線ブロア
ー等の除電除塵装置によって塵を除去したり、イソプロ
ピルアルコールによる洗浄を行うようにしても良い。
酸溶液の塗布前に除電エアブローを行うことで表面の塵
を除去したり、配向膜のラビング処理後に紫外線ブロア
ー等の除電除塵装置によって塵を除去したり、イソプロ
ピルアルコールによる洗浄を行うようにしても良い。
【0069】これらの洗浄操作を行うことで、さらに塵
付着による液晶の配向不良や誘電体薄板のヒビや割れが
防止されるようになり、プラズマアドレス表示装置の画
質や歩留まりが改善される。
付着による液晶の配向不良や誘電体薄板のヒビや割れが
防止されるようになり、プラズマアドレス表示装置の画
質や歩留まりが改善される。
【0070】次に、本発明の画像表示装置の第2の実施
の形態について図22,図23を参照しながら説明す
る。
の形態について図22,図23を参照しながら説明す
る。
【0071】この画像表示装置(プラズマディスプレイ
パネル)は、図22,図23に示すように、第1の基板
41と第2の基板42が所定の間隙をもって対向配置さ
れ、第2の基板42に形成された電極43A,43B間
にAC電圧を印加することで放電を生じさせるAC面放
電型とされている。なお、図23中、第1の基板41及
びこの上に形成された各層は、図22において正面から
みた断面図であり、第2の基板42及びこの上に形成さ
れた各層は、図22において側面から見た断面図であ
る。
パネル)は、図22,図23に示すように、第1の基板
41と第2の基板42が所定の間隙をもって対向配置さ
れ、第2の基板42に形成された電極43A,43B間
にAC電圧を印加することで放電を生じさせるAC面放
電型とされている。なお、図23中、第1の基板41及
びこの上に形成された各層は、図22において正面から
みた断面図であり、第2の基板42及びこの上に形成さ
れた各層は、図22において側面から見た断面図であ
る。
【0072】上記第1の基板41には、一主面上に行方
向に延びる複数本のデータ電極44が、所定の間隔を保
持して列方向に並列に配列され、その上に表面全面を覆
って誘電体層45が積層されている。そして、この誘電
体層上45には、列方向に延びる複数本の隔壁47が下
地層46を介して形成され、データ電極44とデータ電
極44の間に所定の間隔を保持して並列に配列されてい
る。この隔壁47はパターニングされたガラス板によっ
て構成されている。このガラス板としては例えば厚さ2
00〜250μm、平坦性5〜10μmのほう珪酸系マ
イクロシートガラス等が用いられる。そして、この隔壁
47で囲まれた領域の壁面と底部には蛍光体52が塗布
されている。
向に延びる複数本のデータ電極44が、所定の間隔を保
持して列方向に並列に配列され、その上に表面全面を覆
って誘電体層45が積層されている。そして、この誘電
体層上45には、列方向に延びる複数本の隔壁47が下
地層46を介して形成され、データ電極44とデータ電
極44の間に所定の間隔を保持して並列に配列されてい
る。この隔壁47はパターニングされたガラス板によっ
て構成されている。このガラス板としては例えば厚さ2
00〜250μm、平坦性5〜10μmのほう珪酸系マ
イクロシートガラス等が用いられる。そして、この隔壁
47で囲まれた領域の壁面と底部には蛍光体52が塗布
されている。
【0073】上記第2の基板42の第1の基板41との
対向面には、上記データ電極44と直交する方向、すな
わち行方向に延びる複数本の第1の放電電極43Aと第
2の放電電極43Bが所定の間隔を保持して並列に配列
されており、放電電極群を構成している。この放電電極
43A、43Bはインジウム・スズ・オキサイド(IT
O)等の透明導電材料から構成されている。また、この
第2の基板42上には、第1の放電電極43Aと第2の
放電電極43Bに隣接してバス電極48A,48Bが配
列されている。このバス電極48A,48Bは、第1の
放電電極43Aと第2の放電電43Bとで左右を逆にし
て隣接されており、第1の放電電極43Aと第2の放電
電極43Bよりなる各電極対の間にはバス電極が介在し
ないような配列となっている。このバス電極48は、放
電電極43A,43Bの導電性を補足するためのもので
あり、導電性の高い導電材料、例えばCr−Cu−Cr
等によって構成されている。そして、これら電極43
A,43B,48A,48B上には、表面全面を覆って
誘電体層49とMgO保護膜50が積層されている。
対向面には、上記データ電極44と直交する方向、すな
わち行方向に延びる複数本の第1の放電電極43Aと第
2の放電電極43Bが所定の間隔を保持して並列に配列
されており、放電電極群を構成している。この放電電極
43A、43Bはインジウム・スズ・オキサイド(IT
O)等の透明導電材料から構成されている。また、この
第2の基板42上には、第1の放電電極43Aと第2の
放電電極43Bに隣接してバス電極48A,48Bが配
列されている。このバス電極48A,48Bは、第1の
放電電極43Aと第2の放電電43Bとで左右を逆にし
て隣接されており、第1の放電電極43Aと第2の放電
電極43Bよりなる各電極対の間にはバス電極が介在し
ないような配列となっている。このバス電極48は、放
電電極43A,43Bの導電性を補足するためのもので
あり、導電性の高い導電材料、例えばCr−Cu−Cr
等によって構成されている。そして、これら電極43
A,43B,48A,48B上には、表面全面を覆って
誘電体層49とMgO保護膜50が積層されている。
【0074】この第2の基板42は、上記第1の基板4
1上に所定の間隙をもって低融点ガラス等を使用した封
止材によって気密的に接合されており、第1の基板41
と第2の基板42の間の間隙が密閉空間とされている。
この密閉空間には、例えばヘリウム、ネオン、キセノ
ン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等、イオン化可
能なガスが封入されている。また、この密閉空間は、隔
壁47によってライン状に仕切られ、この仕切られた各
空間が放電領域51とされている。この放電領域51
は、放電電極と直交しており、この放電領域51と放電
電極の交差領域が画素に対応している。
1上に所定の間隙をもって低融点ガラス等を使用した封
止材によって気密的に接合されており、第1の基板41
と第2の基板42の間の間隙が密閉空間とされている。
この密閉空間には、例えばヘリウム、ネオン、キセノ
ン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等、イオン化可
能なガスが封入されている。また、この密閉空間は、隔
壁47によってライン状に仕切られ、この仕切られた各
空間が放電領域51とされている。この放電領域51
は、放電電極と直交しており、この放電領域51と放電
電極の交差領域が画素に対応している。
【0075】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、データ電極、第1の放電電極、第2の放電電極に所
定のタイミングでパルス電圧を印加することによって、
各放電領域での放電の発生・消去が制御され、放電が生
じている領域で蛍光体が発光励起する。
は、データ電極、第1の放電電極、第2の放電電極に所
定のタイミングでパルス電圧を印加することによって、
各放電領域での放電の発生・消去が制御され、放電が生
じている領域で蛍光体が発光励起する。
【0076】ここで、このプラズマアドレス表示装置に
おいては特に、放電領域を仕切る隔壁47がパターニン
グされたガラス板によって構成されていることが重要で
ある。
おいては特に、放電領域を仕切る隔壁47がパターニン
グされたガラス板によって構成されていることが重要で
ある。
【0077】パターニングされたガラス板よりなる隔壁
47は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラスト
法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法のような加工方法を組み合わせることで高い
寸法精度で形成される。したがって、画素の開口率が高
くなり、輝度の高い表示画像が得られるようになる。
47は、例えばフォトリソグラフィと、サンドブラスト
法、スクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法のような加工方法を組み合わせることで高い
寸法精度で形成される。したがって、画素の開口率が高
くなり、輝度の高い表示画像が得られるようになる。
【0078】さらに、この隔壁47の形成工程は、スク
リーン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が
少ないので高い生産効率が得られる。
リーン印刷を繰り返す隔壁の形成工程に比べて工程数が
少ないので高い生産効率が得られる。
【0079】なお、このプラズマディスプレイパネル
は、適当な箇所に着色部材を用いることでコントラスト
の向上を図るようにしても良い。例えば、隔壁の形成に
用いるガラス板として黒色に着色されたものを用いた
り、隔壁や第1の基板のリブの頂部や側面に、クロム,
酸化クロム等の黒色系金属膜をスパッタリング等によっ
て被着させたり、カーボン等の黒色顔料を含有する黒色
低融点ガラスをスクリーン印刷法によって印刷、焼成す
ることで黒色に着色しても良い。このような着色部材を
用いることによって、プラズマ紫外光の漏れが防止さ
れ、このプラズマ紫外光の漏れによるコントラスト低下
が抑えられる。
は、適当な箇所に着色部材を用いることでコントラスト
の向上を図るようにしても良い。例えば、隔壁の形成に
用いるガラス板として黒色に着色されたものを用いた
り、隔壁や第1の基板のリブの頂部や側面に、クロム,
酸化クロム等の黒色系金属膜をスパッタリング等によっ
て被着させたり、カーボン等の黒色顔料を含有する黒色
低融点ガラスをスクリーン印刷法によって印刷、焼成す
ることで黒色に着色しても良い。このような着色部材を
用いることによって、プラズマ紫外光の漏れが防止さ
れ、このプラズマ紫外光の漏れによるコントラスト低下
が抑えられる。
【0080】次に、このプラズマディスプレイパネルの
製造工程について説明する。
製造工程について説明する。
【0081】プラズマディスプレイパネルを製造するに
は、ガラスよりなる第1の基板を用意し、図24に示す
ようにこの第1の基板61の一主面に、例えばスクリー
ン印刷法によって、Ag粉末あるいはNi粉末等を含有
する導電ペーストを帯状のペースト層62が等間隔に複
数本形成されるように印刷し、乾燥する。
は、ガラスよりなる第1の基板を用意し、図24に示す
ようにこの第1の基板61の一主面に、例えばスクリー
ン印刷法によって、Ag粉末あるいはNi粉末等を含有
する導電ペーストを帯状のペースト層62が等間隔に複
数本形成されるように印刷し、乾燥する。
【0082】次に、図25に示すように、この導電ペー
スト層62が形成された第1の基板61上に、誘電体を
全面塗布し、乾燥することで誘電体塗膜63を形成す
る。
スト層62が形成された第1の基板61上に、誘電体を
全面塗布し、乾燥することで誘電体塗膜63を形成す
る。
【0083】続いて、誘電体塗膜63上に、図26に示
すように、低融点のガラスペーストを帯状のペースト層
64が等間隔に複数本形成されるように印刷し、乾燥す
る。なお、このガラスペースト層64は、各ガラスペー
スト層64が各導電ペースト層62の間に配列されるよ
うに印刷形成する。
すように、低融点のガラスペーストを帯状のペースト層
64が等間隔に複数本形成されるように印刷し、乾燥す
る。なお、このガラスペースト層64は、各ガラスペー
スト層64が各導電ペースト層62の間に配列されるよ
うに印刷形成する。
【0084】次いで、図27に示すように、このガラス
ペースト層64上に隔壁用薄板ガラス65を重ね、この
上に黒鉛シート66を介して押さえ用厚板ガラス67を
重ねる。そして、第1の基板61側と押さえ用厚板ガラ
ス67側から挟み込む治具を用いて、第1の基板61、
隔壁用薄板ガラス65、押さえ用厚板ガラス67を固定
し、この状態で焼成炉に搬送し、加熱する。加熱によっ
て、導電ペースト層62、誘電体塗膜63、ガラスペー
スト層64が焼成され、隔壁用薄板ガラス65は複数の
ガラスペースト層64の焼成体の頂部に掛け渡された状
態で接着される。焼成された導電ペースト層62、誘電
体塗膜63、ガラスペースト層64は、それぞれデータ
電極62、誘電体層63、下地層64となる。
ペースト層64上に隔壁用薄板ガラス65を重ね、この
上に黒鉛シート66を介して押さえ用厚板ガラス67を
重ねる。そして、第1の基板61側と押さえ用厚板ガラ
ス67側から挟み込む治具を用いて、第1の基板61、
隔壁用薄板ガラス65、押さえ用厚板ガラス67を固定
し、この状態で焼成炉に搬送し、加熱する。加熱によっ
て、導電ペースト層62、誘電体塗膜63、ガラスペー
スト層64が焼成され、隔壁用薄板ガラス65は複数の
ガラスペースト層64の焼成体の頂部に掛け渡された状
態で接着される。焼成された導電ペースト層62、誘電
体塗膜63、ガラスペースト層64は、それぞれデータ
電極62、誘電体層63、下地層64となる。
【0085】このようにして焼成を行った後、治具、押
さえ用厚板ガラス67、黒鉛シート66を外し、隔壁用
薄板ガラスを、所定の隔壁のパターンでパターニングす
る。このパターニングには、例えばサンドブラスト法や
スクライブブレーク法等が用いられる。
さえ用厚板ガラス67、黒鉛シート66を外し、隔壁用
薄板ガラスを、所定の隔壁のパターンでパターニングす
る。このパターニングには、例えばサンドブラスト法や
スクライブブレーク法等が用いられる。
【0086】このうちサンドブラスト法による場合に
は、隔壁用薄板ガラス65上に感光性フィルムレジスト
を積層し、下地層64に対応する領域のレジストが硬化
するように光照射し、図28に示すようにレジストマス
ク68を形成する。
は、隔壁用薄板ガラス65上に感光性フィルムレジスト
を積層し、下地層64に対応する領域のレジストが硬化
するように光照射し、図28に示すようにレジストマス
ク68を形成する。
【0087】そして、この上からサンドブラスト処理を
行う。これによってレジストマスクから露出している隔
壁用薄板ガラスが研削除去され、図29に示すように誘
電体層63上に薄板ガラス65よりなる隔壁65が形成
される。
行う。これによってレジストマスクから露出している隔
壁用薄板ガラスが研削除去され、図29に示すように誘
電体層63上に薄板ガラス65よりなる隔壁65が形成
される。
【0088】また、スクライブブレーク法による場合に
は、図30に示すように、ダイヤモンドカッターによ
り、隔壁用薄板ガラス26にけがきを入れ、そのけがき
に沿って軽く衝撃を与え、隔壁用薄板ガラス26を割る
ことによって隔壁を形成する。
は、図30に示すように、ダイヤモンドカッターによ
り、隔壁用薄板ガラス26にけがきを入れ、そのけがき
に沿って軽く衝撃を与え、隔壁用薄板ガラス26を割る
ことによって隔壁を形成する。
【0089】さらに、第1の実施の形態の製造工程で説
明したようなグラインディング法やレーザカット法によ
って隔壁用薄板ガラス65を加工しても良い。
明したようなグラインディング法やレーザカット法によ
って隔壁用薄板ガラス65を加工しても良い。
【0090】隔壁用薄板ガラス65を、サンドブラスト
法やスクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法によってパターニングすると、寸法精度良く
隔壁が形成される。また、スクリーン印刷法を繰り返し
行うのに比べて工程数が少なくて済む。さらに、形成さ
れた隔壁の頂部は、薄板ガラスの表面によって構成され
るので平坦性に優れている。
法やスクライブブレーク法、グラインディング法、レー
ザカット法によってパターニングすると、寸法精度良く
隔壁が形成される。また、スクリーン印刷法を繰り返し
行うのに比べて工程数が少なくて済む。さらに、形成さ
れた隔壁の頂部は、薄板ガラスの表面によって構成され
るので平坦性に優れている。
【0091】なお、より頂部が平坦な隔壁を形成するた
めに、サンドブラスト処理やスクライブブレーク処理、
グラインディング処理、レーザカット処理を行う前に隔
壁用薄板ガラス表面に研磨処理を施しても良い。この研
磨は、アルミナ研磨剤を用いる湿式研磨、ポリエステル
テープにアルミナ研磨剤やSiO2研磨剤を塗布した研
磨テープを用いる乾式研磨のいずれで行っても良い。隔
壁が形成された後の段階で研磨を行うと隔壁に欠けやキ
ズ等の損傷を生じるが、このように薄板ガラスの段階で
研磨を行えばこのような隔壁の損傷が避けられる。
めに、サンドブラスト処理やスクライブブレーク処理、
グラインディング処理、レーザカット処理を行う前に隔
壁用薄板ガラス表面に研磨処理を施しても良い。この研
磨は、アルミナ研磨剤を用いる湿式研磨、ポリエステル
テープにアルミナ研磨剤やSiO2研磨剤を塗布した研
磨テープを用いる乾式研磨のいずれで行っても良い。隔
壁が形成された後の段階で研磨を行うと隔壁に欠けやキ
ズ等の損傷を生じるが、このように薄板ガラスの段階で
研磨を行えばこのような隔壁の損傷が避けられる。
【0092】そして、このようにして隔壁65を形成し
た後、図31に示すようにこの隔壁65によって仕切ら
れた領域の壁面と底部に蛍光体69を塗布する。
た後、図31に示すようにこの隔壁65によって仕切ら
れた領域の壁面と底部に蛍光体69を塗布する。
【0093】次に、ガラスよりなる第2の基板を用意
し、図32に示すように、この第2の基板70の一主面
に、スパッタリング法によってITO等の透明導電材料
を被着させることで電極層を形成し、この電極層を帯状
の電極層が等間隔に複数本形成されるようなパターンで
エッチングし、放電電極71を形成する。
し、図32に示すように、この第2の基板70の一主面
に、スパッタリング法によってITO等の透明導電材料
を被着させることで電極層を形成し、この電極層を帯状
の電極層が等間隔に複数本形成されるようなパターンで
エッチングし、放電電極71を形成する。
【0094】続いて、スクリーン印刷法によって、図3
3に示すようにAg又はNi粉末等を含有する導電ペー
ストを帯状のペースト層72が上記放電電極71と隣接
するように複数本形成されるように印刷する。次いで、
図34に示すように、その上に誘電体を全面塗布し、乾
燥することで誘電体塗膜73を形成する。そして、この
第2の基板70を焼成炉に搬送し、加熱することで導電
ペースト層72と誘電体塗膜73を焼成させ、バス電極
72、誘電体層73とする。
3に示すようにAg又はNi粉末等を含有する導電ペー
ストを帯状のペースト層72が上記放電電極71と隣接
するように複数本形成されるように印刷する。次いで、
図34に示すように、その上に誘電体を全面塗布し、乾
燥することで誘電体塗膜73を形成する。そして、この
第2の基板70を焼成炉に搬送し、加熱することで導電
ペースト層72と誘電体塗膜73を焼成させ、バス電極
72、誘電体層73とする。
【0095】次いで、誘電体層73上に、図35に示す
ように蒸着法によってMgOを被着させることでMgO
保護膜74を形成する。
ように蒸着法によってMgOを被着させることでMgO
保護膜74を形成する。
【0096】そして、先の工程で各層が形成された第1
の基板61の周縁部に封止材を配し、この上に第2の基
板70を重ね、両側から挟み込む治具によって固定す
る。この状態で第1の基板61と第2の基板70を焼成
炉の搬送し、加熱する、加熱によって第1の基板61と
第2の基板70の間の封止材が焼成され、第1の基板6
1と第2の基板70の間の空間が気密的に密閉される。
の基板61の周縁部に封止材を配し、この上に第2の基
板70を重ね、両側から挟み込む治具によって固定す
る。この状態で第1の基板61と第2の基板70を焼成
炉の搬送し、加熱する、加熱によって第1の基板61と
第2の基板70の間の封止材が焼成され、第1の基板6
1と第2の基板70の間の空間が気密的に密閉される。
【0097】続いて、この密閉された第1の基板と第2
の基板の間の空間を真空排気処理し、イオン化可能なガ
スを封入することによってプラズマディスプレイパネル
が完成する。
の基板の間の空間を真空排気処理し、イオン化可能なガ
スを封入することによってプラズマディスプレイパネル
が完成する。
【0098】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の画像表示装置は、一主面上に互いに略平行な複数の
電極が形成された第1の基板上に、第2の基板が所定の
間隙をもって配置され、第1の基板と第2の基板の間の
間隙が隔壁によって複数の領域に仕切られ、この領域で
生じるプラズマによって画像表示を行う画像表示装置で
あって、上記隔壁がパターニングされたガラス板よりな
るので、隔壁の寸法精度が高く画素の開口率が大きいの
で、輝度の高い表示画像が得られる。
明の画像表示装置は、一主面上に互いに略平行な複数の
電極が形成された第1の基板上に、第2の基板が所定の
間隙をもって配置され、第1の基板と第2の基板の間の
間隙が隔壁によって複数の領域に仕切られ、この領域で
生じるプラズマによって画像表示を行う画像表示装置で
あって、上記隔壁がパターニングされたガラス板よりな
るので、隔壁の寸法精度が高く画素の開口率が大きいの
で、輝度の高い表示画像が得られる。
【0099】また、この隔壁は、スクリーン印刷を繰り
返して形成される隔壁に比べて、少ない工数で形成でき
るので、このような隔壁を用いることによって画像表示
装置の製造効率を上げ、製造コストを低減することがで
きる。
返して形成される隔壁に比べて、少ない工数で形成でき
るので、このような隔壁を用いることによって画像表示
装置の製造効率を上げ、製造コストを低減することがで
きる。
【図1】本発明を適用した画像表示装置の一例を一部切
り欠いて示す概略斜視図である。
り欠いて示す概略斜視図である。
【図2】本発明を適用した画像表示装置の一例を示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図3】画像表示装置の製造工程を工程順に示すもので
あり、導電ペースト及びガラスペーストの印刷工程を示
す概略断面図である。
あり、導電ペースト及びガラスペーストの印刷工程を示
す概略断面図である。
【図4】レジストマスク形成工程と、導電ペースト層と
ガラスペースト層のサンドブラスト工程を示す概略断面
図である。
ガラスペースト層のサンドブラスト工程を示す概略断面
図である。
【図5】パターニングされた導電ペースト層とガラスペ
ースト層を示す概略断面図である。
ースト層を示す概略断面図である。
【図6】ガラスペーストの印刷工程を示す概略断面図で
ある。
ある。
【図7】隔壁用薄板ガラスを重ねる工程と、導電ペース
ト層とガラスペースト層の焼成工程を示す概略断面図で
ある。
ト層とガラスペースト層の焼成工程を示す概略断面図で
ある。
【図8】第2のレジストマスク形成工程と、隔壁用薄板
ガラスのサンドブラスト工程を示す概略断面図である。
ガラスのサンドブラスト工程を示す概略断面図である。
【図9】パターニングされた隔壁用薄板ガラスを示す概
略断面図である。
略断面図である。
【図10】隔壁用薄板ガラスのスクライブブレーク工程
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図11】隔壁用薄板ガラスのグラインディング工程の
一例を示す概略断面図である。
一例を示す概略断面図である。
【図12】隔壁用薄板ガラスのグラインディング工程の
他の例を示す概略断面図である。
他の例を示す概略断面図である。
【図13】隔壁用薄板ガラスのレーザカット工程を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図14】誘電体薄板とカバーガラスの積層工程を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図15】押さえガラス内への積層ガラスの収容工程を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
【図16】第1の基板と積層ガラスを重ねる工程を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図17】封止材の焼成工程を示す概略断面図である。
【図18】第1の基板側に誘電体薄板上に重ねられたカ
バーガラスを外す工程を示す概略断面図である。
バーガラスを外す工程を示す概略断面図である。
【図19】TiO2膜と配向膜の形成工程の一例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図20】TiO2膜の形成工程の他の例を示す概略断
面図である。
面図である。
【図21】配向膜の形成工程の他の例を示す概略断面図
である。
である。
【図22】本発明を適用した画像表示装置の他の例を一
部切り欠いて示す概略斜視図である。
部切り欠いて示す概略斜視図である。
【図23】本発明を適用した画像表示装置の他の例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
【図24】画像表示装置の製造工程を工程順に示すもの
であり、導電ペーストの印刷工程を示す概略断面図であ
る。
であり、導電ペーストの印刷工程を示す概略断面図であ
る。
【図25】誘電体塗膜形成工程を示す概略断面図であ
る。
る。
【図26】ガラスペーストの印刷工程を示す概略断面図
である。
である。
【図27】隔壁用薄板ガラスの接着工程と、導電ペース
ト層、誘電体塗膜、ガラスペースト層の焼成工程を示す
概略断面図である。
ト層、誘電体塗膜、ガラスペースト層の焼成工程を示す
概略断面図である。
【図28】レジストマスク形成工程と、隔壁用薄板ガラ
スのサンドブラスト工程を示す概略断面図である。
スのサンドブラスト工程を示す概略断面図である。
【図29】パターニングされた隔壁用薄板ガラスを示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図30】隔壁用薄板ガラスのスクライブブレーク工程
を示す概略断面図である。
を示す概略断面図である。
【図31】蛍光体塗布工程を示す概略断面図である。
【図32】放電電極形成工程を示す概略断面図である。
【図33】導電ペーストの印刷工程を示す概略断面図で
ある。
ある。
【図34】誘電体塗膜形成工程を示す概略断面図であ
る。
る。
【図35】保護膜形成工程を示す概略断面図である。
1 電気光学表示セル、2 プラズマセル、3 誘電体
薄板、4 第1の基板、5A アノード電極、5K カ
ソード電極、6 第1の下地層、7 第2の下地層、8
隔壁、9 封止材、10 放電チャンネル、11 液
晶封止材、12第2の基板、13a,13b 配向膜、
14 液晶層、15 データ電極、16 カラーフィル
タ、17 画素、41 第1の基板、42 第2の基
板、43A 第1の放電電極、43B 第2の放電電
極、44 データ電極、45 誘電体層、46 下地
層、47 隔壁、48 バス電極、49 誘電体層、5
0 保護膜、52 蛍光体
薄板、4 第1の基板、5A アノード電極、5K カ
ソード電極、6 第1の下地層、7 第2の下地層、8
隔壁、9 封止材、10 放電チャンネル、11 液
晶封止材、12第2の基板、13a,13b 配向膜、
14 液晶層、15 データ電極、16 カラーフィル
タ、17 画素、41 第1の基板、42 第2の基
板、43A 第1の放電電極、43B 第2の放電電
極、44 データ電極、45 誘電体層、46 下地
層、47 隔壁、48 バス電極、49 誘電体層、5
0 保護膜、52 蛍光体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01J 17/16 H01J 17/16 17/49 17/49 K
Claims (6)
- 【請求項1】 一主面上に互いに略平行な複数の電極が
形成された第1の基板上に、第2の基板が所定の間隙を
もって配置され、 第1の基板と第2の基板の間の間隙が隔壁によって複数
の領域に仕切られ、この領域で生じるプラズマによって
画像表示を行う画像表示装置において、 上記隔壁は、パターニングされたガラス板よりなること
を特徴とする画像表示装置。 - 【請求項2】 一主面上に互いに略平行な複数の放電電
極と複数の隔壁が形成された第1の基板上に、所定の間
隙をもって誘電体薄板が配置され、周囲をシール部で封
止することでプラズマセルが形成され、 上記誘電体薄板上に、対向面に上記放電電極と略直交す
る複数の電極が形成された第2の基板が電気化学材料層
を介して重ね合わされてなり、 上記隔壁は、パターニングされたガラス板よりなること
を特徴とする請求項1記載の画像表示装置。 - 【請求項3】 隔壁は、融着ガラスによって第1の基板
上に接着されていることを特徴とする請求項2記載の画
像表示装置。 - 【請求項4】 隔壁は、放電電極上に接着されているこ
とを特徴とする請求項2記載の画像表示装置。 - 【請求項5】 一主面上に互いに略平行な複数の電極と
複数の隔壁が形成され、この隔壁で仕切られた領域の側
壁と底部に蛍光体が塗布された第1の基板上に、 対向面に上記電極と略直交する複数の放電電極が形成さ
れ、この上に誘電体層と保護膜が形成された第2の基板
が所定の間隙をもって配置され、周囲をシール部で封止
されてなり、 上記隔壁は、パターニングされたガラス板よりなること
を特徴とする請求項1記載の画像表示装置。 - 【請求項6】 一主面上に互いに略平行な複数の電極が
形成された第1の基板上に誘電体層が形成され、この誘
電体層上に融着ガラスによって隔壁が接着されているこ
とを特徴とする請求項5記載の画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9303129A JPH11144624A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9303129A JPH11144624A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11144624A true JPH11144624A (ja) | 1999-05-28 |
Family
ID=17917239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9303129A Withdrawn JPH11144624A (ja) | 1997-11-05 | 1997-11-05 | 画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11144624A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001133758A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Toppan Printing Co Ltd | プラズマアドレス液晶パネルの背面板及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-11-05 JP JP9303129A patent/JPH11144624A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001133758A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-18 | Toppan Printing Co Ltd | プラズマアドレス液晶パネルの背面板及びその製造方法 |
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