JPH11145048A

JPH11145048A - 露光装置

Info

Publication number: JPH11145048A
Application number: JP9317666A
Authority: JP
Inventors: Kanefumi Nakahara; 兼文中原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-11-04
Filing date: 1997-11-04
Publication date: 1999-05-28

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、露光装置の設置面の平面度が変化し
ても、基板搬送系と露光部との間の基板搬送動作を維持
できる露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】ベース４２上に設置され、レチクルＲを搬
送するレチクル搬送機構５，２２と、ウェハＷを搬送す
る基板搬送機構８，９と、ベース４２と独立したベース
４４上に設置されたレチクル待機部６およびウェハホル
ダ３と、レチクル搬送機構５，２２とレチクル待機部６
との相対位置を測定する位置検出センサ部２４，２６
と、ウェハ搬送機構８，９とウェハホルダ３との相対位
置を測定する位置検出センサ部３０，３２とを有し、位
置検出センサ部２４，２６での測定に基づいてレチクル
搬送機構５，２２とレチクル待機部６との相対位置を補
正し、位置検出センサ部３０，３２での測定に基づいて
ウェハ搬送機構８，９とウェハホルダ３との相対位置を
補正する補正手段１００とを備えるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、液晶
表示装置、あるいは薄膜磁気ヘッド等の製造におけるフ
ォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置等の製造工程
におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるい
はマスク（以下、レチクルという）に形成された回路パ
ターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレ
ート（以下、ウェハという）上に投影露光する投影露光
装置が用いられている。この投影露光装置としては種々
の方式のものがあるが、例えば半導体装置の製造の場
合、レチクルの回路パターン全体を内包し得るイメージ
フィールドを持つ投影光学系を介してウェハをステップ
・アンド・リピート方式で露光する投影露光装置と、レ
チクルを１次元に走査しつつ、ウェハをそれと同期した
速度で１次元に走査させる、いわゆるステップ・アンド
・スキャン方式の投影露光装置とがある。

【０００３】一般にこれら投影露光装置は、レチクルを
保管するレチクルライブラリや、例えば１ロット分のウ
ェハを保管するウェハカセットを有し、それらからレチ
クルやウェハを取り出して搬送する基板搬送装置が設け
られた基板搬送系と、基板搬送系により搬送されたレチ
クルおよびウェハを所定位置に載置して露光動作を行う
露光部とに分離されている。また、基板搬送系と露光部
とが完全には分離されていなくても、基板搬送系で発生
する振動を除去するために基板搬送系と露光部が一部の
部材でのみ連結されている露光装置もある。そして、こ
れら基板搬送系と露光部とは別個のベース上に設置さ
れ、且つ別個のチャンバ内に格納されている。このよう
な構成にすることにより、基板搬送の際に基板搬送系で
生じる振動成分を露光部側に伝達させることなく、露光
部で高精度の露光動作をさせることができるようにな
る。

【０００４】通常、基板搬送系と露光部との間のレチク
ルおよびウェハの受け渡し位置の設定は、露光装置をク
リーンルームの床面に設置する際の設置調整時に行わ
れ、一旦設定が為されたら、それ以降は定期的なメンテ
ナンス時に行う検査により、レチクルおよびウェハの受
け渡し位置や受け渡し動作状態の確認を行うようにして
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、露光装置が
設置されたクリーンルームの床は、露光装置全体の重量
に十分耐えられる強度を有していることが理想である
が、経時変化により、床の平面度に変化が生じてしまう
ことがある。また床の補強構造によっては露光装置設置
面の全面が均一の耐荷重であるとは限らないため、経時
変化により床の平面度に変化が生じてしまうと、上記の
ような基板搬送系と露光部とが別個のベース上にそれぞ
れ設置されているような露光装置の場合、基板搬送系と
露光部との間に相対的な位置ずれや傾きが生じてしま
う。ところが、そのような状態では、露光装置の設置調
整時に設定した基板受け渡しのための位置関係がずれて
しまうので、レチクルやウェハの搬送における基板搬送
系と露光部との基板受け渡し動作を正常に行うことがで
きず、基板受け渡しエラーの発生により露光装置の稼動
を停止せざるを得ず、装置のスループット低下の原因と
なってしまうという問題を生じる。また、基板搬送系と
露光部との基板受け渡し位置が大幅にずれているような
場合には、そのまま基板受け渡し動作を実行してしまう
とレチクルやウェハを破損してしまうという問題も生じ
る。

【０００６】このような事態を回避するには、基板受け
渡し動作状態の検査を頻繁に行う必要が生じるが、クリ
ーンルームの床の平面度の経時変化を予測することは困
難であり、また検査のための作業や装置の停止は作業効
率の面で多大な負荷となる。

【０００７】本発明は、上記従来の技術が有している技
術的課題を解決するためになされたものであり、その目
的は、露光装置が設置されているクリーンルームの床が
経時変化により、露光装置の基板搬送系と露光部との間
に相対的な位置ずれを生じさせる程度にその平面度が変
化しても、基板搬送系と露光部との間の基板搬送動作を
維持できる露光装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の実施の形態を表
す図１乃至図４に対応付けて説明すると上記目的は、第
１のべース（４２）上に設置され、基板（Ｒ、Ｗ）を搬
送する基板搬送機構（５，２２，８，９）と、第１のベ
ース（４２）から独立した第２のべース（４４）上に設
置され、基板搬送機構（５，２２，８，９）により基板
（Ｒ、Ｗ）が載置される基板載置部（６，３）と、基板
搬送機構（５，２２，８，９）と基板載置部（６，３）
との相対位置を測定する測定手段（２４，２６，３０，
３２）と、測定手段（２４，２６，３０，３２）での測
定に基づいて、基板搬送機構（５，２２，８，９）と基
板載置部（６，３）との相対位置を補正する補正手段
（１００）とを備えたことを特徴とする露光装置によっ
て達成される。また、本発明の露光装置において、基板
搬送機構（５，２２，８，９）は、パターンが形成され
たレチクル（Ｒ）を搬送するレチクル搬送機構（５，２
２）、または感光基板（Ｗ）を搬送する感光基板搬送機
構（８，９）の少なくとも１つを含み、基板載置部
（６，３）は、レチクル搬送機構（５，２２）によりレ
チクル（Ｒ）が載置されるレチクル載置部（６）、また
は感光基板搬送機構（８，９）により感光基板（Ｗ）が
載置される感光基板載置部（３）の少なくとも１つを含
み、測定手段（２４，２６，３０，３２）は、レチクル
搬送機構（５，２２）とレチクル載置部（６）との相対
位置を測定する第１の測定手段（２４，２６）、または
感光基板搬送機構（８，９）と感光基板載置部（３）と
の相対位置を測定する第２の測定手段（３０，３２）の
少なくとも１つを含むことを特徴とする露光装置によっ
て達成される。また、第１および第２の測定手段（２
４，２６，３０，３２）は、相対位置をそれぞれ非接触
で６自由度で測定することを特徴とする。

【０００９】また、補正手段（１００）により、第２の
ベース（４４）に対する第１のベース（４２）の位置を
相対的に補正するようにしてもよい。この場合、第１の
ベース（４２）と第１のベース（４２）の設置面（Ｆ
Ｌ）との間に、設置面（ＦＬ）に対する第１のベース
（４２）の高さおよび傾きを調整可能なベース位置調整
系（４０ａ〜４０ｄ）を設け、補正手段（１００）によ
り、ベース位置調整系（４０ａ〜４０ｄ）を駆動して第
２のベース（４４）に対する第１のベース（４２）の位
置を相対的に補正するようにしてもよい。さらに上記目
的は、基板搬送機構（５，２２，８，９）により露光装
置内の基板載置部（６，３）に基板（Ｒ、Ｗ）を載置す
る基板載置方法において、基板搬送機構（５，２２，
８，９）が第１のべース（４２）上に設置され、基板載
置部（６，３）が第１のべース（４２）から独立した第
２のべース（４４）上に設置されており、基板搬送機構
（５，２２，８，９）と基板載置部（６，３）との相対
位置を測定し、基板搬送機構（５，２２，８，９）と基
板載置部（６，３）との相対位置を補正した後に、基板
搬送機構（５，２２，８，９）により基板載置部（６，
３）に基板（Ｒ、Ｗ）を載置する基板載置方法によって
達成される。

【００１０】本発明では、第１のベース（４２）および
第２のベース（４４）が設置されている床（ＦＬ）の経
時変化による平面度の変化を測定する代わりに、床（Ｆ
Ｌ）の経時変化に基づくレチクル搬送機構（５，２２）
とレチクル載置部（６）との相対位置ずれを第１の測定
手段（２４，２６）により直接測定し、基板搬送機構
（８，９）と基板載置部（３）との相対位置ずれを第２
の測定手段（３０，３２）で直接測定するようにしてい
るので、極めて高い精度でそれらの位置補正情報を得る
ことができる。さらに、第１および第２の測定手段（２
４，２６，３０，３２）は、相対位置をそれぞれ非接触
で６自由度で測定することができるセンサを用いること
によりさらに正確に相対位置ずれを測定することができ
る。

【００１１】また、それら測定手段（２４，２６，３
０，３２）がレチクル搬送系と基板搬送系とでそれぞれ
別個独立に設けられているので、レチクル搬送機構
（５，２２）とレチクル載置部（６）との相対位置の補
正値と、基板搬送機構（８，９）と基板載置部（３）と
の相対位置の補正値とをそれぞれ独立して直接正確に測
定することができる。さらに、それらの補正値に基づく
補正もそれぞれ別個に行うことができるので、補正量が
それほど大きくない場合には、ベース（４２）の位置を
補正しなくてもレチクル搬送機構（５，２２）の補正調
整、あるいは基板搬送機構（８，９）の補正調整を行う
だけでそれらの位置合わせ補正を容易に行うことができ
る。

【００１２】また、仮に床（ＦＬ）の経時変化が大きく
なって補正量が増大した場合には、第２のベース（４
４）に対する第１のベース（４２）の位置を相対的に補
正することもできる。この場合には、第１のベース（４
２）と第１のベース（４２）の設置面（ＦＬ）との間
に、設置面（ＦＬ）に対する第１のベース（４２）の高
さおよび傾きを調整可能なベース位置調整系（４０ａ〜
４０ｄ）を設けておき、補正手段（１００）により、ベ
ース位置調整系（４０ａ〜４０ｄ）を駆動して第２のベ
ース（４４）に対する第１のベース（４２）の位置を相
対的に補正することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態による露光
装置を図１乃至図４を用いて説明する。まず、本実施の
形態による露光装置の概略の構成を図１を用いて説明す
る。図１は、本実施の形態による露光装置を側面から簡
略に表した図である。図１において、レチクル搬送系お
よびウェハ搬送系は、搬送系側チャンバ１内に格納され
ている。レチクル搬送系は、レチクル搬送系ベース１２
と、レチクル搬送系ベース１２上に設置され、複数のレ
チクルＲを格納したレチクルライブラリ２０と、レチク
ルライブラリ２０内の所定のレチクルＲを取り出して保
持／移動するレチクル搬送ロボット５と、レチクル搬送
ロボット５からレチクルＲを受け取って露光部側チャン
バ２内のレチクル待機部６上にレチクルＲを載置するレ
チクルロード搬送系２２とを有している。

【００１４】一方、ウェハ搬送系は、ウェハ搬送系ベー
ス１４と、ウェハ搬送系ベース１４上に設置され、複数
のウェハＷを格納したウェハカセット２８と、ウェハカ
セット２８内の所定のウェハＷを取り出して移動するウ
ェハ搬送ロボット８と、ウェハ搬送ロボット８からウェ
ハＷを受け取って露光部側チャンバ２内のウェハホルダ
３上にウェハＷを載置するウェハロード搬送系９とを有
している。

【００１５】これらレチクル搬送系とウェハ搬送系を格
納した搬送系側チャンバ１は、そのベース４２の四隅に
設けられたエアマウント部４０ａ〜４０ｄを介してクリ
ーンルームの床ＦＬ上に設置されている。エアマウント
部４０ａ〜４０ｄはベース位置調整系を構成しており、
後述するようにエアマウント部４０ａ〜４０ｄをそれぞ
れ駆動することにより、図中のＸ−Ｙ−Ｚ直交座標系に
おけるＺ軸方向の位置およびＸ、Ｙ軸回りの回転を含め
た３自由度で、搬送系側チャンバ１の位置を床ＦＬに対
して変化させることができるようになっている。

【００１６】以上の搬送系側チャンバ１に隣接して露光
装置の露光部側チャンバ２が設置されている。露光部側
チャンバ２内には、そのベース４４上に防振機構１６が
設けられ、防振機構１６上に露光部が設けられている。
露光部は、架台４６で支えられてレチクルＲを載置して
Ｘ−Ｙ面内を２次元移動可能なレチクルホルダ４と、図
示を省略した照明系で照明されたレチクルＲの透過光を
集光する投影光学系ＰＬと、ウェハＷを載置したウェハ
ホルダ３を保持してＸ−Ｙ面内を２次元移動可能なウェ
ハステージＷＳＴとを有している。そして、ウェハステ
ージＷＳＴを移動させてウェハＷの所定の露光領域を投
影光学系ＰＬの結像面に一致させることにより、レチク
ルＲのパターンが当該露光領域に転写されるようになっ
ている。また、さらに露光部には、レチクルホルダ４に
載置する前にレチクルＲを待機させるレチクル待機部６
と、このレチクル待機部６上のレチクルＲを把持してレ
チクルホルダ４に受け渡すレチクル搬送系７が設けられ
ている。

【００１７】この搬送系側チャンバ１と露光部側チャン
バ２との隣接面側の側壁には、レチクルＲの搬送、およ
びウェハＷの搬送のために、所定位置に図示のような２
つの開口部６０、６２が設けられている。搬送系側チャ
ンバ１から開口部６０を介して露光部側チャンバ２内へ
レチクルＲが搬送され、同様にして開口部６２を介して
ウェハＷが搬送される。

【００１８】また本実施の形態による露光装置では、レ
チクルロード搬送系２２とレチクル待機部６とのレチク
ルＲの受け渡し端部近傍に、位置検出センサ部（２４、
２６）が設けられている。位置検出センサ部（２４、２
６）によりレチクルロード搬送系２２とレチクル待機部
６とのレチクルＲの受け渡しにおける位置ずれ量がＸ、
Ｙ、Ｚ各軸方向およびそれらの軸回りの回転を含めた６
自由度で計測されるようになっている。計測された値は
補正部１００に入力されるようになっており、位置ずれ
量が所定値を越えたような場合には、補正部１００から
の指令によりレチクルロード搬送系２２をＸ方向、ある
いはＹ方向へ所定量移動させ、またＺ軸回りの回転Ｚθ
方向に所定量回転させるようにして位置ずれの補正を行
うことができるようになっている。

【００１９】さらに、本実施の形態による露光装置のウ
ェハロード搬送系９とウェハホルダ３とのウェハＷの受
け渡し端部近傍にも、位置検出センサ部（３０、３２）
が設けられている。位置検出センサ部（３０、３２）に
よりウェハロード搬送系９とウェハホルダ３とのウェハ
Ｗの受け渡しにおける位置ずれ量がＸ、Ｙ、Ｚ各軸方向
およびそれらの軸回りの回転を含めた６自由度で計測さ
れるようになっている。計測された値は補正部１００に
入力されるようになっており、位置ずれ量が所定値を越
えたような場合には、補正部１００からの指令によりウ
ェハロード搬送系９をＸ方向、あるいはＹ方向へ所定量
移動させ、またＺ軸回りの回転Ｚθ方向に所定量回転さ
せるようにして位置ずれの補正を行うことができるよう
になっている。

【００２０】図２は上述の位置検出センサ部の一例を示
している。位置検出センサ部は、例えばレーザ光を射出
してその反射光を受光する光学式リニアセンサ２４、３
０と、光学式リニアセンサ２４、３０からのレーザ光を
反射するスケール２６、３２とで構成される光学式リニ
アエンコーダである。光学式リニアセンサ２４は搬送系
側チャンバ１内のレチクルロード搬送系２２端部のセン
サ支持部６４に取り付けられ、光学式リニアセンサ３０
は、ウェハロード搬送系９端部のセンサ支持部６６に取
り付けられている。一方、スケール２６はレチクル待機
部６の側面に取り付けられ、スケール３２はウェハホル
ダ３側面に取り付けられている。図２では、レチクル待
機部６の一部およびウェハホルダ３の一部を立方体で表
している。

【００２１】光学式リニアセンサ２４、３０は、それぞ
れ６個のセンサ２４ａ〜２４ｆ、３０ａ〜３０ｆから構
成される。スケール２６、３２もそれぞれ６個のスケー
ル２６ａ〜２６ｆ、３２ａ〜３２ｆから構成される。６
個のセンサ２４ａ〜２４ｆを例にとると、センサ２４
ａ、２４ｂはＸ軸に平行なレーザ光をそれぞれ射出し、
射出光束をＹ−Ｚ面内に設けられたスケール２６ａ、２
６ｂに入射させるようになっている。また、センサ２４
ｃ、２４ｄはＹ軸に平行なレーザ光束を射出し、射出光
束をＸ−Ｚ面内に設けられたスケール２６ｃ、２６ｄに
入射させるようになっている。さらに、センサ２４ｅ、
２４ｆはＺ軸に平行なレーザ光束をそれぞれ射出し、射
出光束をＸ‐Ｙ面内に設けられたスケール２６ｅ、２６
ｆに入射させるようになっている。

【００２２】このような構成の位置計測センサ部（２
４、２６）により、例えばセンサ２４ａ、２４ｂでＺ方
向変位を計測し、センサ２４ｃ、２４ｄでＸ方向変位を
計測し、センサ２４ｅ、２４ｆでＹ方向変位を計測する
ことができる。また、センサ２４ａとセンサ２４ｂの計
測値の差分からＹ軸回りの回転が求められ、センサ２４
ｃとセンサ２４ｄの計測値の差分からＺ軸回りの回転が
求められ、センサ２４ｅとセンサ２４ｆの計測値の差分
からＸ軸回りの回転が求められる。また、６個のセンサ
３０ａ〜３０ｆについても上述のセンサ２４ａ〜２４ｆ
と同様の配置関係を維持して同様の計測が行われる。こ
のようにしてセンサ部２４とスケール２６とを用いるこ
とにより、レチクルロード搬送系２２とレチクル待機部
６との相対位置ずれを６自由度で計測することができ
る。同様に、センサ部３０とスケール３２とを用いるこ
とにより、ウェハロード搬送系９とウェハホルダ３との
相対位置ずれを６自由度で計測することができる。

【００２３】なお、図２では、光学式リニアセンサを例
示したが、三次元計測のモアレカメラを応用して６自由
度計測してもよい。

【００２４】次に、本実施の形態による露光装置のエア
マウント部４０の構造を図３および図４を用いて説明す
る。図３は、搬送系側チャンバ１のベース４２の四隅に
設けられたエアマウント部４０ａ〜４０ｄと、それらを
駆動してベース４２の位置を補正する補正機構を示して
いる。図４は、エアマウント部４０ａの構造を示してい
る。

【００２５】まず図３において、ベース４２の四隅に設
けられたエアマウント部４０ａ〜４０ｄには、それぞれ
エアチューブ７０ａ〜７０ｄの一端が接続されている。
エアチューブ７０ａ〜７０ｄの他端は電磁弁ユニット７
２に接続されている。さらに電磁弁ユニット７２はエア
チューブ７１を介してコンプレッサ等の正圧源７６に接
続されている。

【００２６】また、補正部１００からの補正信号は電磁
弁制御信号７４として電磁弁ユニット７２に供給される
ようになっている。従って、電磁弁ユニット７２は補正
部１００からの指令に基づいて、正圧源７６からエアチ
ューブ７１を介して供給される圧搾空気をエアチューブ
７０ａ〜７０ｄのそれぞれに所定の圧力で供給すること
ができるようになっている。

【００２７】また、エアマウント部４０ａ〜４０ｄに
は、図３では図示を省略したＺ方向に駆動するＺアクチ
ュエータがそれぞれ設けられており、各Ｚアクチュエー
タを駆動するための信号線７３ａ〜７３ｄの一端も接続
されている。信号線７３ａ〜７３ｄの他端は補正部１０
０に接続されている。補正部１００では、上述の電磁弁
制御信号７４と共に各エアマウント部４０ａ〜４０ｄの
制御線７３ａ〜７３ｄに補正信号を出力して各Ｚアクチ
ュエータを駆動し、各エアマウント部４０ａ〜４０ｄの
Ｚ方向の位置を変化させることができるようになってい
る。

【００２８】次に図４を用いて、エアマウント部４０ａ
の構造を説明する。なお、他のエアマウント部４０ｂ〜
４０ｄの構造も図４に示したエアマウント部４０ａと同
様であるので説明は省略する。図４はエアマウント部４
０ａの斜視図であり、この図４に示すように、エアマウ
ント部４０ａは、下フレーム８２と上フレーム８０とを
有している。下フレーム８２は、長方形の底部の対向す
る２辺部から鉛直方向に伸びた２つの側壁部を有し、両
側壁部上端で支持される上面部を有している。これら底
部、上面部、および両側壁部で囲まれた空間内にＺアク
チュエータ９４が収納されている。Ｚアクチュエータ９
４には、例えばボイスコイルモータが用いられる。

【００２９】Ｚアクチュエータ９４はＺアクチュエータ
固定子９０とＺアクチュエータ可動子９２を備え、Ｚア
クチュエータ固定子９０は下フレーム８２の底部に固定
されている。Ｚアクチュエータ固定子９０上部にＺアク
チュエータ可動子９２が配置され、Ｚアクチュエータ可
動子９２上面には上フレーム８０の底部が固定されてい
る。従って、補正部１００からの補正信号が制御線７３
ａを介してＺアクチュエータ９４に供給されると、当該
補正信号に応じて、Ｚアクチュエータ可動子９２がＺ方
向に移動し、それと共に上フレーム８０をＺ方向に移動
させることができるようになっている。上フレーム８０
は、Ｚアクチュエータ可動子９２と共に移動し、下フレ
ーム８２の上部下面までの範囲でＺ方向に移動可能にな
っている。

【００３０】上フレーム８０は、その長方形状の底部の
うち下フレーム８２の開口部で対向する２辺部から鉛直
方向に伸びた２つの側壁部を有しており、また当該両側
壁部上端で支持される上面部を有している。これら底
部、上面部、および両側壁部で囲まれた空間内にエアマ
ウント８６が収納されている。エアマウント８６の底部
は、上フレーム８０の底部上方に位置する下フレーム８
２の上面に固定されており、エアマウント８６の上部は
上フレーム８０の上部下面に接触している。上フレーム
８２上面中央には、ベース４２との位置決め用のピン８
４が設けられている。

【００３１】エアマウント８６の側面に設けられたエア
供給口８８には図４で図示を省略したエアチューブ７０
ａが接続されており、補正部１００からの補正信号が電
磁弁制御信号７４として電磁弁ユニット７２に供給され
ると、電磁弁ユニット７２による正圧源７６からの圧搾
空気がエアチューブ７０ａを通って所定の圧力でエアマ
ウント８６に供給されるようになっている。この圧力に
応じて、エアマウント８６は、上フレーム８０をＺ方向
に移動させることができるようになっている。

【００３２】以上のような構成のエアマウント部４０を
用いることにより、ベース４２上の一定荷重を支持する
と共に、床ＦＬから伝達する低振動を排除することがで
きる。さらに、補正部１００からの補正信号により各エ
アマウント部４０ａ〜４０ｄをそれぞれＺ方向に移動さ
せることによりベース４２をＺ、Ｘθ、Ｙθ方向に補正
することができる。なお、Ｚ方向に常時一定の位置を維
持しなければならないような補正信号が補正部１００か
ら与えられた場合には、Ｚクチュエータ９４での電力消
費の増大を防止するため、エアマウント部４０ａ〜４０
ｄの各エアマウント８６に所定量の空気を供給すること
により補正する。

【００３３】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、レチクルロード搬送系２２とレチクル待機部６とが
Ｘ、Ｙ、Ｚθ方向に相対位置ずれを生じた場合には、レ
チクルロード搬送系２２をＸ方向、あるいはＹ方向へ所
定量移動させ、またＺ軸回りの回転Ｚθ方向に所定量回
転させることにより位置ずれの補正を行うことができ、
また、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ方向に相対位置ずれが生じた場合
には、各エアマウント部４０ａ〜４０ｄを駆動してベー
ス４２をＺ方向、あるいはＸθ、Ｙθ方向に回転させる
ことにより位置ずれの補正を行うことができるようにな
る。同様にして、ウェハロード搬送系９とウェハホルダ
３とがＸ、Ｙ、Ｚθ方向に相対位置ずれを生じた場合に
は、ウェハロード搬送系９をＸ方向、あるいはＹ方向へ
所定量移動させ、またＺ軸回りの回転Ｚθ方向に所定量
回転させることにより位置ずれの補正を行うことがで
き、また、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ方向に相対位置ずれが生じた
場合には、各エアマウント部４０ａ〜４０ｄを駆動して
ベース４２をＺ方向、あるいはＸθ、Ｙθ方向に回転さ
せることにより位置ずれの補正を行うことができるよう
になる。このようにして６自由度でレチクル搬送系およ
びウェハ搬送系における基板搬送をより高い精度で行う
ことができるようになる。

【００３４】なお、位置検出センサ部（２４、２６）、
（３０、３２）からの位置情報は、定期的に所定のサン
プリング間隔で取得するようにしてもよいし、また、レ
チクルＲあるいはウェハＷを搬送する直前の位置情報を
取得するようにしてもよい。さらに、レチクルＲやウェ
ハＷの搬送動作中に所定のサンプリング間隔で取得する
ようにしてもよい。

【００３５】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、６自由度の変位を検出できる位置検出センサを用い
て、６自由度の位置制御を行うようにしているが、本発
明はこれに限られず、例えば、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の位置を
測定する３自由度の位置検出センサを用いて３自由度の
位置制御を行うようにしてももちろんよい。

【００３６】また、上記実施の形態においては、レーザ
光を射出してその反射強度から位置を測定する位置検出
センサを用いたが、本発明はこれに限られず、例えば、
うず電流式の非接触センサ、あるいは接触式のプローバ
等を位置検出センサとして用いることも可能である。ま
た、上記実施の形態においては、位置検出センサからの
光を反射させるために反射鏡を用いたが、上述の位置検
出センサの種類、性能等により、反射手段として金属板
等を用いることも可能であり、また、レチクル待機部６
やウェハホルダ３の側面部に直接センサのビーム等を照
射して計測するようにしてもよい。

【００３７】また、搬送系側チャンバ１のベース４２の
位置をエアマウント部４０を用いて変化させてもなおレ
チクル待機部６に対するレチクルロード搬送系２２の位
置ずれ、あるいはウェハホルダ３に対するウェハロード
搬送系９の位置ずれを補正しきれないような事態が生じ
た場合には、クリーンルームの床ＦＬの床面に対する搬
送系側チャンバ１と露光部側チャンバ２の再調整が必要
になる。このような場合に備えて相対位置ずれの許容量
を規定するようにし、当該許容値を超えた場合には補正
部１００は補正動作に移ることなく、例えば露光装置の
操作パネル上に当該許容値を越えたことを表示してオペ
レータに通知するようにしてもよい。こうすることによ
り、適切なタイミングで装置の保守調整を行うことがで
きるようになり、装置のスループットをより向上させる
ことが可能になる。

【００３８】さらに、上記実施の形態においては、レチ
クル搬送系およびウェハ搬送系の双方に位置検出センサ
部を設けてそれぞれ別個に位置ずれの計測を行ったが、
本発明はこれに限られず、例えばレチクル搬送系のみに
位置検出センサ部を搭載するようにしてもよい。そし
て、当該位置検出センサでレチクルロード搬送系２２と
レチクル待機部６との相対位置ずれを計測すると共に、
得られた計測値に基づいてウェハロード搬送系９とウェ
ハホルダ３との相対位置ずれ量を計算により求めて補正
するようにすることも可能である。

【００３９】

【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、レチクル
搬送系のレチクルロード搬送系と、ウェハ搬送系のウェ
ハロード搬送系とに各々位置検出センサを設けるように
したので、基板搬送系と露光部側との基板搬送位置ずれ
を正確に検出することができるようになり、露光装置の
設置床ＦＬの平面度の経時変化に基づく基板搬送位置の
相対位置ずれを容易に把握することができるようにな
る。

【００４０】位置検出センサからの位置情報を露光装置
の稼働中に取得し、当該位置情報に基づいて各基板搬送
系の位置を補正するようにしたので、定期的に露光装置
の基板搬送系と露光部との設置調整をする作業が不要に
なるので、スループットを向上させることができるよう
になる。また、常に最適な搬送位置となるように補正す
ることができるので、露光部側で行うレチクルＲおよび
ウェハＷの精密な位置合わせ（アライメント）のために
要する時間も短縮させることが可能になりスループット
を向上させることができるようになる。

【００４１】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態による露光装置の斜視図
である。

【図２】本発明の一実施の形態による露光装置における
位置検出センサ部の構成を示す図である。

【図３】本発明の一実施の形態による露光装置における
エアマウントの概略の構成を示す図である。

【図４】本発明の一実施の形態による露光装置における
エアマウント単体の概略の構成を示す図である。

【符号の説明】

１搬送系側チャンバ２露光部側チャンバ３ウェハホルダ４レチクルホルダ５レチクル搬送ロボット６レチクル待機部７レチクル搬送系８ウェハ搬送ロボット９ウェハロード搬送系１２レチクル搬送系べース１４ウェハ搬送系べース１６防振機構２２レチクルロード搬送系２４、３０光学式リニアセンサ２６、３２スケール４２、４４ベース７０ａ〜７０ｄ、７１エアチューブ７２電磁弁ユニット７３ａ〜７３ｄ信号線７４電磁弁制御信号７６正圧源８０上フレーム８２下フレーム８４ピン８６エアマウント８８エア供給口９０アクチュエータ固定子９２アクチュエータ可動子９４Ｚアクチュエータ１００補正部ＲレチクルＷウェハＷＳＴウェハステージＦＬ床

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第１のべース上に設置され、基板を搬送す
る基板搬送機構と、前記第１のベースから独立した第２のべース上に設置さ
れ、前記基板搬送機構により前記基板が載置される基板
載置部と、前記基板搬送機構と前記基板載置部との相対位置を測定
する測定手段と、前記測定手段での測定に基づいて、前記基板搬送機構と
前記基板載置部との相対位置を補正する補正手段とを備
えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】請求項１記載の露光装置において、前記基板搬送機構は、パターンが形成されたレチクルを
搬送するレチクル搬送機構、または感光基板を搬送する
感光基板搬送機構の少なくとも１つを含み、前記基板載置部は、前記レチクル搬送機構により前記レ
チクルが載置されるレチクル載置部、または前記感光基
板搬送機構により前記感光基板が載置される感光基板載
置部の少なくとも１つを含み、前記測定手段は、前記レチクル搬送機構と前記レチクル
載置部との相対位置を測定する第１の測定手段、または
前記感光基板搬送機構と前記感光基板載置部との相対位
置を測定する第２の測定手段の少なくとも１つを含むこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項３】請求項２記載の露光装置において、前記第１および第２の測定手段は、前記相対位置をそれ
ぞれ非接触で６自由度で測定することを特徴とする露光
装置。
【請求項４】請求項１記載の露光装置において、前記補正手段は、前記第１のベースと前記第１のベース
の設置面との間に、前記設置面に対する前記第１のベー
スの高さおよび傾きを調整可能なベース位置調整系を有
していることを特徴とする露光装置。
【請求項５】請求項１記載の露光装置において、前記補正手段は、前記第２のベースに対する前記第１の
ベースの位置を相対的に補正することを特徴とする露光
装置。
【請求項６】基板搬送機構により露光装置内の基板載置
部に基板を載置する基板載置方法において、前記基板搬送機構が第１のべース上に設置され、前記基
板載置部が前記第１のべースから独立した第２のべース
上に設置されており、前記基板搬送機構と前記基板載置
部との相対位置を測定し、前記基板搬送機構と前記基板
載置部との相対位置を補正した後に、前記基板搬送機構
により前記基板載置部に前記基板を載置する基板載置方
法。