JPH11146268A - フィルムスキャナおよびシネフィルムの走査方法 - Google Patents
フィルムスキャナおよびシネフィルムの走査方法Info
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- JPH11146268A JPH11146268A JP10207405A JP20740598A JPH11146268A JP H11146268 A JPH11146268 A JP H11146268A JP 10207405 A JP10207405 A JP 10207405A JP 20740598 A JP20740598 A JP 20740598A JP H11146268 A JPH11146268 A JP H11146268A
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- H04N3/38—Scanning of motion picture films, e.g. for telecine with continuously moving film
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
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- H04N5/253—Picture signal generating by scanning motion picture films or slide opaques, e.g. for telecine
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Details Of Television Scanning (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルムのパーフォレーション孔を走査して
記憶されている基準パターンと比較し、画像位置誤りの
補償を改善することである。 【解決手段】 評価装置が設けられており、評価装置に
より、複数の計算ステップにおいて走査値および基準パ
ターンの値が相互にオフセットされ、かつ評価装置によ
り、各計算ステップにおいて走査値と基準パターンとの
一致の度合が求められて、最適な一致が検出される走査
値および基準パターンの絶対的なオフセットから補正信
号が発生されるように構成して解決される。
記憶されている基準パターンと比較し、画像位置誤りの
補償を改善することである。 【解決手段】 評価装置が設けられており、評価装置に
より、複数の計算ステップにおいて走査値および基準パ
ターンの値が相互にオフセットされ、かつ評価装置によ
り、各計算ステップにおいて走査値と基準パターンとの
一致の度合が求められて、最適な一致が検出される走査
値および基準パターンの絶対的なオフセットから補正信
号が発生されるように構成して解決される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、パーフォレーショ
ン孔を光学的に走査する走査装置と、パーフォレーショ
ン孔の走査値を基準パターンと比較して画像位置誤りを
補償するための補正信号を発生する評価装置とを有する
フィルムスキャナに関する。本発明はまた、フィルムの
パーフォレーション孔を光学的に走査して基準パターン
と比較して、画像位置誤りを補償するための補正信号を
発生する、シネフィルムの走査方法に関する。
ン孔を光学的に走査する走査装置と、パーフォレーショ
ン孔の走査値を基準パターンと比較して画像位置誤りを
補償するための補正信号を発生する評価装置とを有する
フィルムスキャナに関する。本発明はまた、フィルムの
パーフォレーション孔を光学的に走査して基準パターン
と比較して、画像位置誤りを補償するための補正信号を
発生する、シネフィルムの走査方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シネフィルム材から電気信号へ変換する
ために、フィルムスキャナ内のフィルムは光電走査装置
内またはその近傍を通過ないし通り抜ける。この場合に
従来から、順次走査される画像の画像位置を一定に保た
なければならない問題があった。一部で周期的な画像位
置の変動、一部で定常的な画像位置の変動は画像位置誤
りと称され、この誤りは種々異なる原因を有している。
1つには撮影カメラおよびネガ/ポジ複写機における位
置決め誤差が原因として考えられる。しかし他方ではフ
ィルムスキャナの画像位置誤りおよびトラッキングエラ
ーが別の画像位置誤りを生じさせることもある。
ために、フィルムスキャナ内のフィルムは光電走査装置
内またはその近傍を通過ないし通り抜ける。この場合に
従来から、順次走査される画像の画像位置を一定に保た
なければならない問題があった。一部で周期的な画像位
置の変動、一部で定常的な画像位置の変動は画像位置誤
りと称され、この誤りは種々異なる原因を有している。
1つには撮影カメラおよびネガ/ポジ複写機における位
置決め誤差が原因として考えられる。しかし他方ではフ
ィルムスキャナの画像位置誤りおよびトラッキングエラ
ーが別の画像位置誤りを生じさせることもある。
【0003】画像位置誤りを低減させるために、種々異
なる解決手段が存在する。例えばドイツ連邦共和国特許
第3736789号明細書から、走査される各フィルム
画像のための基準点としてこれらの画像にそれぞれ1つ
ずつ対応するパーフォレーション孔を走査することが公
知である。走査装置、例えばフィルムの走行方向に対し
て所定の角度だけ傾けて設けられているラインセンサに
より、パルス状の信号が発生され、この信号は記憶され
ていた基準パターンと比較される。そのつど実際に走査
されるパルス状信号と記憶されていた基準パターンとの
時間的な偏差から、計算回路において、そのつど走査さ
れたパーフォレーション孔の水平ずれ(水平オフセッ
ト)および垂直ずれ(垂直オフセット)が水平ベクトル
信号および垂直ベクトル信号として求められる。これら
のベクトル信号は補正回路に供給され、この補正回路に
おいて走査されたフィルム画像が測定されたパーフォレ
ーション孔の水平ずれおよび垂直ずれに相応にそれぞれ
相互にシフトされる。パーフォレーション孔をフィルム
画像のための基準点として使用することは、機械的に制
約されるフィルムの位置決め誤差を充分に保証できる利
点を有する。なぜならそのつど走査されるパーフォレー
ション孔の位置と、この孔が対応しているフィルム画像
の位置とは通常の場合きわめて小さな許容誤差で相互に
関連しているからである。
なる解決手段が存在する。例えばドイツ連邦共和国特許
第3736789号明細書から、走査される各フィルム
画像のための基準点としてこれらの画像にそれぞれ1つ
ずつ対応するパーフォレーション孔を走査することが公
知である。走査装置、例えばフィルムの走行方向に対し
て所定の角度だけ傾けて設けられているラインセンサに
より、パルス状の信号が発生され、この信号は記憶され
ていた基準パターンと比較される。そのつど実際に走査
されるパルス状信号と記憶されていた基準パターンとの
時間的な偏差から、計算回路において、そのつど走査さ
れたパーフォレーション孔の水平ずれ(水平オフセッ
ト)および垂直ずれ(垂直オフセット)が水平ベクトル
信号および垂直ベクトル信号として求められる。これら
のベクトル信号は補正回路に供給され、この補正回路に
おいて走査されたフィルム画像が測定されたパーフォレ
ーション孔の水平ずれおよび垂直ずれに相応にそれぞれ
相互にシフトされる。パーフォレーション孔をフィルム
画像のための基準点として使用することは、機械的に制
約されるフィルムの位置決め誤差を充分に保証できる利
点を有する。なぜならそのつど走査されるパーフォレー
ション孔の位置と、この孔が対応しているフィルム画像
の位置とは通常の場合きわめて小さな許容誤差で相互に
関連しているからである。
【0004】ただし、パーフォレーション孔の位置を公
知の従来技術により求めるためには、走査されるパーフ
ォレーション孔の幾何学的形状を基準パターンとできる
限り正確に一致させなければならない。パーフォレーシ
ョン孔の損傷または汚れは平均化しか行われず、特にエ
ラーが偶然生じた場合には必然的に誤った画像位置補正
が行われることになってしまう。
知の従来技術により求めるためには、走査されるパーフ
ォレーション孔の幾何学的形状を基準パターンとできる
限り正確に一致させなければならない。パーフォレーシ
ョン孔の損傷または汚れは平均化しか行われず、特にエ
ラーが偶然生じた場合には必然的に誤った画像位置補正
が行われることになってしまう。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、パー
フォレーション孔に損傷または汚れがある場合にもパー
フォレーション孔の位置を確実に求めることである。そ
の際に走査されるフィルム画像の分解能を高めて、これ
までほとんど見えなかった画像位置誤りを見えるように
する必要もある。このため本発明の別の課題は、パーフ
ォレーション孔の位置をきわめて正確に求めることであ
る。
フォレーション孔に損傷または汚れがある場合にもパー
フォレーション孔の位置を確実に求めることである。そ
の際に走査されるフィルム画像の分解能を高めて、これ
までほとんど見えなかった画像位置誤りを見えるように
する必要もある。このため本発明の別の課題は、パーフ
ォレーション孔の位置をきわめて正確に求めることであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】この課題は、評価装置が
設けられており、評価装置により、複数の計算ステップ
において走査値および基準パターンの値が相互にオフセ
ットされ、かつ評価装置により、各計算ステップにおい
て走査値と基準パターンとの一致の度合が求められて、
最適な一致が検出される走査値および基準パターンの絶
対的なオフセットから補正信号が発生されるように構成
して解決される。課題はまた、複数の計算ステップにお
いて走査値および基準パターンの値を相互にオフセット
し、各計算ステップにおいて走査値と基準パターンとの
一致の度合を求め、最適な一致が検出される走査値およ
び基準パターンの絶対的なオフセットから補正信号を発
生することにより解決される。
設けられており、評価装置により、複数の計算ステップ
において走査値および基準パターンの値が相互にオフセ
ットされ、かつ評価装置により、各計算ステップにおい
て走査値と基準パターンとの一致の度合が求められて、
最適な一致が検出される走査値および基準パターンの絶
対的なオフセットから補正信号が発生されるように構成
して解決される。課題はまた、複数の計算ステップにお
いて走査値および基準パターンの値を相互にオフセット
し、各計算ステップにおいて走査値と基準パターンとの
一致の度合を求め、最適な一致が検出される走査値およ
び基準パターンの絶対的なオフセットから補正信号を発
生することにより解決される。
【0007】
【発明の実施の形態】例えば評価装置として計算ユニッ
トが設けられており、この計算ユニットにおいてパーフ
ォレーション孔の走査値と基準パターンとが相互に段階
的に垂直方向および水平方向へオフセットされる。計算
ユニットは各オフセット段階において走査値と基準パタ
ーンとの一致のための判定基準を形成し、続いて走査値
と基準パターンとが最適に一致するオフセットステップ
を求め、この最適な一致のオフセットステップに基づく
水平方向のオフセットおよび垂直方向のオフセットを画
像偏差の補償のための補正信号として送出する。
トが設けられており、この計算ユニットにおいてパーフ
ォレーション孔の走査値と基準パターンとが相互に段階
的に垂直方向および水平方向へオフセットされる。計算
ユニットは各オフセット段階において走査値と基準パタ
ーンとの一致のための判定基準を形成し、続いて走査値
と基準パターンとが最適に一致するオフセットステップ
を求め、この最適な一致のオフセットステップに基づく
水平方向のオフセットおよび垂直方向のオフセットを画
像偏差の補償のための補正信号として送出する。
【0008】パーフォレーション孔のエッジの特性を表
す走査値はこのようにして全体的または部分的に、その
つどのパーフォレーション孔に固有の形式で関係づけら
れ、そこから正確な位置または正確な位置偏差が求めら
れる。基準パターンを走査値に対して(または走査値を
基準パターンに対して)段階的にオフセットすることに
より、基準パターンと記憶されている走査値との最適な
一致が求められる。最適な一致を達成するためにオフセ
ットしなければならない基準パターンまたは走査値の値
および方向は、直接にそのつど走査されるパーフォレー
ション孔の水平ずれおよび垂直ずれを生じさせる。最適
な一致はこの場合に重みづけ関数を介して求めることが
でき、この場合に最適な一致の度合すなわち一致の高い
クォリティは、求められた一致誤差の逆数に等しい。相
応に適切な重みづけ関数を選択すること、例えば走査値
と基準パターンとの間の差の2乗を加算することによ
り、障害的な走査値の影響を抑圧することができる。
す走査値はこのようにして全体的または部分的に、その
つどのパーフォレーション孔に固有の形式で関係づけら
れ、そこから正確な位置または正確な位置偏差が求めら
れる。基準パターンを走査値に対して(または走査値を
基準パターンに対して)段階的にオフセットすることに
より、基準パターンと記憶されている走査値との最適な
一致が求められる。最適な一致を達成するためにオフセ
ットしなければならない基準パターンまたは走査値の値
および方向は、直接にそのつど走査されるパーフォレー
ション孔の水平ずれおよび垂直ずれを生じさせる。最適
な一致はこの場合に重みづけ関数を介して求めることが
でき、この場合に最適な一致の度合すなわち一致の高い
クォリティは、求められた一致誤差の逆数に等しい。相
応に適切な重みづけ関数を選択すること、例えば走査値
と基準パターンとの間の差の2乗を加算することによ
り、障害的な走査値の影響を抑圧することができる。
【0009】一致のクォリティは相互にオフセットされ
る走査画像と基準パターンの複数の組合せに対して求め
られるので、障害的な走査値が容易に検出され、除去さ
れる。各オフセット段階に対して特に一致の度合が求め
られるため、各オフセット段階において他のオフセット
段階に無関係に走査値のプロージビリティ検査が可能に
なる。このために有利には計算ユニットが設けられてお
り、この計算ユニットは、走査値から計算された、走査
されたパーフォレーション孔の位置に対する差が所定の
閾値を超過するパーフォレーション孔の走査値を比較過
程から取り除く。パーフォレーション孔の予測すべき幾
何学的形状を考慮して空間的に隣接する測定結果から平
均値を形成することにより、個々の測定値と平均値との
間の偏差が求められ、平均値からきわめて強く偏差する
測定値は更なる信号処理過程から選別除去される。この
手段により、例えば測定対象物の不均一な照明、汚れや
ひっかき傷、フィルム損傷などのフィルムエッジの障害
量によって生じる誤りを選別除去することができる。複
数の走査値が使用されるため、どんな場合にも充分な数
の評価可能な測定結果が残ることが保証されている。
る走査画像と基準パターンの複数の組合せに対して求め
られるので、障害的な走査値が容易に検出され、除去さ
れる。各オフセット段階に対して特に一致の度合が求め
られるため、各オフセット段階において他のオフセット
段階に無関係に走査値のプロージビリティ検査が可能に
なる。このために有利には計算ユニットが設けられてお
り、この計算ユニットは、走査値から計算された、走査
されたパーフォレーション孔の位置に対する差が所定の
閾値を超過するパーフォレーション孔の走査値を比較過
程から取り除く。パーフォレーション孔の予測すべき幾
何学的形状を考慮して空間的に隣接する測定結果から平
均値を形成することにより、個々の測定値と平均値との
間の偏差が求められ、平均値からきわめて強く偏差する
測定値は更なる信号処理過程から選別除去される。この
手段により、例えば測定対象物の不均一な照明、汚れや
ひっかき傷、フィルム損傷などのフィルムエッジの障害
量によって生じる誤りを選別除去することができる。複
数の走査値が使用されるため、どんな場合にも充分な数
の評価可能な測定結果が残ることが保証されている。
【0010】このために例えば、複数の走査値から走査
値と基準パターンとの偏差に対する平均値を形成し、平
均値からの偏差が閾値を超過する走査値を平均値形成部
から選別除去し、かつ残った走査値から新たに平均値を
形成するように構成されている。この過程は残っている
走査値のすべてが所定の閾値を超過しなくなるまで繰り
返される。この手段により、走査値の平均と比べてあま
りに基準パターンから隔たっているか、またはあまりに
基準パターンに近いために基準パターンに対する差が他
の走査値と一致しない走査値が完全に除去される。この
ようなプロージビリティの監視により、重みづけ関数と
しては走査値と基準パターンとの差を加算するだけで充
分である。
値と基準パターンとの偏差に対する平均値を形成し、平
均値からの偏差が閾値を超過する走査値を平均値形成部
から選別除去し、かつ残った走査値から新たに平均値を
形成するように構成されている。この過程は残っている
走査値のすべてが所定の閾値を超過しなくなるまで繰り
返される。この手段により、走査値の平均と比べてあま
りに基準パターンから隔たっているか、またはあまりに
基準パターンに近いために基準パターンに対する差が他
の走査値と一致しない走査値が完全に除去される。この
ようなプロージビリティの監視により、重みづけ関数と
しては走査値と基準パターンとの差を加算するだけで充
分である。
【0011】有利には、走査値と基準パターンとの一致
の度合を求める場合に、パーフォレーション孔の水平エ
ッジに対応する走査値についてはそれぞれの水平基準エ
ッジに対する垂直方向の差だけを比較結果に含め、また
パーフォレーション孔の垂直エッジに対応する走査値に
ついては水平方向の差だけを比較結果に含める。この場
合に重みづけ関数は値の組の個々の成分として処理され
る。これは補正信号の垂直成分および水平成分が完全に
相互に無関係に求められているからである。補正信号の
2つの成分のうち一方が誤って求められた場合でも、他
の成分の算出への悪影響は生じない。
の度合を求める場合に、パーフォレーション孔の水平エ
ッジに対応する走査値についてはそれぞれの水平基準エ
ッジに対する垂直方向の差だけを比較結果に含め、また
パーフォレーション孔の垂直エッジに対応する走査値に
ついては水平方向の差だけを比較結果に含める。この場
合に重みづけ関数は値の組の個々の成分として処理され
る。これは補正信号の垂直成分および水平成分が完全に
相互に無関係に求められているからである。補正信号の
2つの成分のうち一方が誤って求められた場合でも、他
の成分の算出への悪影響は生じない。
【0012】本発明の別の実施例ではまず重みづけ関数
により、それぞれ1つずつの値が個々に横方向の各エッ
ジに対して求められ、それぞれ対向するエッジに対する
平均値が形成される。これにより実際にはパーフォレー
ション孔の中心が検出される。対向するエッジを組にし
て平均することにより、それぞれのパーフォレーション
孔の位置検出の正確性が高められる。
により、それぞれ1つずつの値が個々に横方向の各エッ
ジに対して求められ、それぞれ対向するエッジに対する
平均値が形成される。これにより実際にはパーフォレー
ション孔の中心が検出される。対向するエッジを組にし
て平均することにより、それぞれのパーフォレーション
孔の位置検出の正確性が高められる。
【0013】有利には計算ユニットは基準パターンとし
て直線部を有しており、この直線部はそのつど比較すべ
きパーフォレーション孔のエッジに対して直角に配置さ
れる。横方向エッジが円弧状に形成されているパーフォ
レーション孔では、基準パターンの直線部は、横方向エ
ッジのそれぞれの円弧状の曲線部の接線に直角に配置さ
れる。直線部を基準パターンとして使用することの利点
は、パーフォレーション孔の位置が幾何学的形状(直
線、円弧)と比較されて、比較がきわめて高い精度で行
われる点である。基準パターンの直線部を使用すること
により、汚れまたは損傷に起因する測定値を特に簡単に
除去可能である。これは直線部上にない走査値は最初か
ら計算されないためである。基準パターンの直線部上に
ある走査値は一義的にパーフォレーション孔の輪郭上の
所定のポイントに対応させることができるので、各ポイ
ントに対してパーフォレーション孔の輪郭との差を求め
ることができる。これにより、差が複数の他の走査値か
ら強く偏差する走査値を簡単に識別することができる。
て直線部を有しており、この直線部はそのつど比較すべ
きパーフォレーション孔のエッジに対して直角に配置さ
れる。横方向エッジが円弧状に形成されているパーフォ
レーション孔では、基準パターンの直線部は、横方向エ
ッジのそれぞれの円弧状の曲線部の接線に直角に配置さ
れる。直線部を基準パターンとして使用することの利点
は、パーフォレーション孔の位置が幾何学的形状(直
線、円弧)と比較されて、比較がきわめて高い精度で行
われる点である。基準パターンの直線部を使用すること
により、汚れまたは損傷に起因する測定値を特に簡単に
除去可能である。これは直線部上にない走査値は最初か
ら計算されないためである。基準パターンの直線部上に
ある走査値は一義的にパーフォレーション孔の輪郭上の
所定のポイントに対応させることができるので、各ポイ
ントに対してパーフォレーション孔の輪郭との差を求め
ることができる。これにより、差が複数の他の走査値か
ら強く偏差する走査値を簡単に識別することができる。
【0014】
【実施例】本発明を以下に実施例に則して詳細に説明す
る。
る。
【0015】図1には実施例としてフィルムスキャナの
主要部分の概略図と、本発明により構成されたパーフォ
レーション孔検出用の検出回路とフィルムスキャナとの
共働作用が示されている。フィルム1はこの場合連続的
に供給リール2から矢印3の方向へキャプスタンローラ
4を介して巻取リール5へ送られる。供給リール2、キ
ャプスタンローラ4、巻取リール5は電気モータ6、
7、8により駆動され、これらの電気モータは送り制御
装置9すなわち走行制御装置により制御される。このた
めに、フィルム走行路の供給リール2の近傍に配置され
ている第1のセンシングレバー11を用いて、フィルム
の張力が測定される。測定されたフィルム張力は送り制
御装置9に供給され、この送り制御装置は内部の制御回
路により供給リールモータ6をできる限り一定のフィル
ム走行が保証されるように制御する。巻取リール5の近
傍に配置されている第2のセンシングレバー12を用い
て、同様にフィルム張力は巻取リールモータ8により巻
取過程において制御される。フィルム走行路には複数の
ガイドローラ10が設けられており、これらのガイドロ
ーラによりフィルム1のフィルム走行路が予め定められ
ている。
主要部分の概略図と、本発明により構成されたパーフォ
レーション孔検出用の検出回路とフィルムスキャナとの
共働作用が示されている。フィルム1はこの場合連続的
に供給リール2から矢印3の方向へキャプスタンローラ
4を介して巻取リール5へ送られる。供給リール2、キ
ャプスタンローラ4、巻取リール5は電気モータ6、
7、8により駆動され、これらの電気モータは送り制御
装置9すなわち走行制御装置により制御される。このた
めに、フィルム走行路の供給リール2の近傍に配置され
ている第1のセンシングレバー11を用いて、フィルム
の張力が測定される。測定されたフィルム張力は送り制
御装置9に供給され、この送り制御装置は内部の制御回
路により供給リールモータ6をできる限り一定のフィル
ム走行が保証されるように制御する。巻取リール5の近
傍に配置されている第2のセンシングレバー12を用い
て、同様にフィルム張力は巻取リールモータ8により巻
取過程において制御される。フィルム走行路には複数の
ガイドローラ10が設けられており、これらのガイドロ
ーラによりフィルム1のフィルム走行路が予め定められ
ている。
【0016】フィルム1の光学的走査のために、フィル
ム1は旋回可能なガイドローラ13により、フィルムが
キャプスタンローラに部分的に巻き付くように案内され
る。これによりフィルム送り速度は専らキャプスタンロ
ーラ4またはキャプスタンモータ7により決定される。
早送り動作または早巻き戻し動作において旋回可能なガ
イドローラ13はフィルム1から第2の矢印14の方向
に外側へ旋回され、フィルムはキャプスタンローラ4に
もはや巻き付かない。この場合にはフィルム送りは専ら
供給リールモータ7および巻取リールモータ9により行
われる。
ム1は旋回可能なガイドローラ13により、フィルムが
キャプスタンローラに部分的に巻き付くように案内され
る。これによりフィルム送り速度は専らキャプスタンロ
ーラ4またはキャプスタンモータ7により決定される。
早送り動作または早巻き戻し動作において旋回可能なガ
イドローラ13はフィルム1から第2の矢印14の方向
に外側へ旋回され、フィルムはキャプスタンローラ4に
もはや巻き付かない。この場合にはフィルム送りは専ら
供給リールモータ7および巻取リールモータ9により行
われる。
【0017】走査中の送り速度を制御するためにフィル
ム走行路に速度センサとして、タコディスク16に固定
連結されたスプロケット15が設けられている。タコデ
ィスク16は送り速度に相応してパルス信号(以下タコ
パルスと称する)を送出し、このパルス信号は送り制御
装置9に供給される。操作パネル17でセットされたパ
ラメータとタコディスク16から送出されたタコパルス
とに依存して、キャプスタンモータ7を駆動するための
制御信号が発生される。
ム走行路に速度センサとして、タコディスク16に固定
連結されたスプロケット15が設けられている。タコデ
ィスク16は送り速度に相応してパルス信号(以下タコ
パルスと称する)を送出し、このパルス信号は送り制御
装置9に供給される。操作パネル17でセットされたパ
ラメータとタコディスク16から送出されたタコパルス
とに依存して、キャプスタンモータ7を駆動するための
制御信号が発生される。
【0018】フィルム送り時にフィルム1は走査ユニッ
ト18を通過して走行する。この走査ユニットではフィ
ルム1は、概略的にランプ19および集光レンズ20と
して図示されている照明装置により照明される。フィル
ム1の画像内容を映し出す光は画像走査センサ21、2
2、23、24を介して走査される。第1の画像走査セ
ンサ21は輝度信号Wの走査に使用され、他の画像走査
センサ22、23、24は色成分信号RGBの走査に使
用される。輝度信号Wおよび色成分信号RGBはビデオ
信号処理ユニット25に供給され、このビデオ信号処理
ユニットで受信された信号がそれぞれ所望のビデオ信号
フォーマットに変換され、インターフェース26でスタ
ジオ標準方式で使用可能となる。
ト18を通過して走行する。この走査ユニットではフィ
ルム1は、概略的にランプ19および集光レンズ20と
して図示されている照明装置により照明される。フィル
ム1の画像内容を映し出す光は画像走査センサ21、2
2、23、24を介して走査される。第1の画像走査セ
ンサ21は輝度信号Wの走査に使用され、他の画像走査
センサ22、23、24は色成分信号RGBの走査に使
用される。輝度信号Wおよび色成分信号RGBはビデオ
信号処理ユニット25に供給され、このビデオ信号処理
ユニットで受信された信号がそれぞれ所望のビデオ信号
フォーマットに変換され、インターフェース26でスタ
ジオ標準方式で使用可能となる。
【0019】フィルム1が走査ユニット18において光
電変換される場合、このフィルムはさらに画像位置誤り
検出用装置を通過する。この画像位置誤り検出用装置す
なわちセンタリングエラー検出用装置はこの実施例で
は、フィルム1の一方側の第2の照明装置27、フィル
ム1の他方側のスプロケットに対するパーフォレーショ
ン孔センサ28、コンピュータ計算ユニット29から構
成されている。パーフォレーション孔センサ28として
例えば、独立した製品として付加可能なラインカメラが
適している。さらにパーフォレーション孔センサ28と
してCCDラインセンサを使用することもできる。コン
ピュータ計算ユニット29はパーフォレーション孔セン
サ28の出力信号を評価し、水平画像位置誤りおよび垂
直画像位置誤りに対する補正信号Cを発生する。この補
正信号はビデオ信号処理ユニット25に供給される。補
正信号Cにより公知のように信号変換時に個々の各ビデ
オ画像が水平位置および垂直位置で相応にオフセットさ
れ、そのつど画像位置誤りが補正される。この実施例で
説明されているフィルムスキャナにはビデオ信号処理ユ
ニット25としていわゆるディジタル画像効果装置(D
VE)が集積されている。ただし技術的に等価な解決手
段として、ビデオ信号および補正信号を外部インターフ
ェースを介して外部に接続されたDVE装置に供給して
もよい。
電変換される場合、このフィルムはさらに画像位置誤り
検出用装置を通過する。この画像位置誤り検出用装置す
なわちセンタリングエラー検出用装置はこの実施例で
は、フィルム1の一方側の第2の照明装置27、フィル
ム1の他方側のスプロケットに対するパーフォレーショ
ン孔センサ28、コンピュータ計算ユニット29から構
成されている。パーフォレーション孔センサ28として
例えば、独立した製品として付加可能なラインカメラが
適している。さらにパーフォレーション孔センサ28と
してCCDラインセンサを使用することもできる。コン
ピュータ計算ユニット29はパーフォレーション孔セン
サ28の出力信号を評価し、水平画像位置誤りおよび垂
直画像位置誤りに対する補正信号Cを発生する。この補
正信号はビデオ信号処理ユニット25に供給される。補
正信号Cにより公知のように信号変換時に個々の各ビデ
オ画像が水平位置および垂直位置で相応にオフセットさ
れ、そのつど画像位置誤りが補正される。この実施例で
説明されているフィルムスキャナにはビデオ信号処理ユ
ニット25としていわゆるディジタル画像効果装置(D
VE)が集積されている。ただし技術的に等価な解決手
段として、ビデオ信号および補正信号を外部インターフ
ェースを介して外部に接続されたDVE装置に供給して
もよい。
【0020】フィルム送り制御装置9は有利にはタコデ
ィスク16のタコパルスを評価することにより、速度が
異なる場合にも実質的に同一の垂直方向ピクセル分解能
が得られるように、パーフォレーション孔センサ20の
ライン周波数を選択されたフィルム速度に適合させる。
個々のフィルム画像に対して所定のパーフォレーション
孔(例えばそのつど最上部のパーフォレーション孔)を
一義的に対応させるために、この実施例ではフィルムス
キャナに別の目的で、新たなフィルム画像の開始を特徴
付けるための、そのつど形成される同期パルス“フレー
ムフィルムスタート”が使用される。
ィスク16のタコパルスを評価することにより、速度が
異なる場合にも実質的に同一の垂直方向ピクセル分解能
が得られるように、パーフォレーション孔センサ20の
ライン周波数を選択されたフィルム速度に適合させる。
個々のフィルム画像に対して所定のパーフォレーション
孔(例えばそのつど最上部のパーフォレーション孔)を
一義的に対応させるために、この実施例ではフィルムス
キャナに別の目的で、新たなフィルム画像の開始を特徴
付けるための、そのつど形成される同期パルス“フレー
ムフィルムスタート”が使用される。
【0021】1つのフィルム画像に対応するパーフォレ
ーション孔は通常1回の打ち抜き過程で形成されるの
で、個々の各フィルム画像に対応するパーフォレーショ
ン孔の幾何学的サイズは一定である。このためあまりひ
どく変形したパーフォレーション孔または損傷したパー
フォレーション孔がないかぎりは、各画像に対してその
つど同じ位置にあるパーフォレーション孔を走査するこ
とにより充分正確な1つの基準点を計算することが可能
である。1つのフィルム画像に対応する複数のパーフォ
レーション孔または全てのパーフォレーション孔の走査
および評価では、重大な損傷を有するパーフォレーショ
ン孔がある場合、1つのフィルム画像に対応する複数の
パーフォレーション孔または全てのパーフォレーション
孔の平均により基準点を求めるように改善を行うことが
できる。
ーション孔は通常1回の打ち抜き過程で形成されるの
で、個々の各フィルム画像に対応するパーフォレーショ
ン孔の幾何学的サイズは一定である。このためあまりひ
どく変形したパーフォレーション孔または損傷したパー
フォレーション孔がないかぎりは、各画像に対してその
つど同じ位置にあるパーフォレーション孔を走査するこ
とにより充分正確な1つの基準点を計算することが可能
である。1つのフィルム画像に対応する複数のパーフォ
レーション孔または全てのパーフォレーション孔の走査
および評価では、重大な損傷を有するパーフォレーショ
ン孔がある場合、1つのフィルム画像に対応する複数の
パーフォレーション孔または全てのパーフォレーション
孔の平均により基準点を求めるように改善を行うことが
できる。
【0022】この実施例ではパーフォレーション孔の走
査のために、パーフォレーション孔を赤外線光源例えば
赤外線ダイオードを用いて照明し、赤外線感受性のライ
ンセンサにより走査が行われる。走査されるフィルム1
と画像走査センサ21、22、23、24との間に赤外
線カットフィルタ30が配置されており、このカットフ
ィルタは可視光の領域で透過性を有する。このようにし
て、パーフォレーション孔の照明に使用される光に起因
する画像走査センサ21、22、23、24への障害は
回避される。
査のために、パーフォレーション孔を赤外線光源例えば
赤外線ダイオードを用いて照明し、赤外線感受性のライ
ンセンサにより走査が行われる。走査されるフィルム1
と画像走査センサ21、22、23、24との間に赤外
線カットフィルタ30が配置されており、このカットフ
ィルタは可視光の領域で透過性を有する。このようにし
て、パーフォレーション孔の照明に使用される光に起因
する画像走査センサ21、22、23、24への障害は
回避される。
【0023】パーフォレーション孔を赤外線を用いて照
明することにより、驚くべきことに、得られた走査信号
がパーフォレーション孔のエッジ領域で減衰の最大値を
有するので、エッジは特に簡単に検出可能となる。減衰
の最大値の理由として、打ち抜き過程によりエッジ領域
で赤外線透過領域における材料の透過性の変化が生じる
ことが考えられる。図2にはフィルム材1の長手軸線に
沿って切断された断面図が示されており、このフィルム
材は通常の透過性を有する領域31と、打ち抜き過程に
より透過性を低減されている領域32と、パーフォレー
ション孔の領域33とを有する。下側にはパーフォレー
ション孔29の出力電圧Usがそれぞれフィルムの送り
方向に沿った同じ位置で示されている。有利には微分回
路により信号の経過の変化が検出される。図2にはグラ
ジエント法により得られた関連のパルス状信号のピーク
34、35が示されている。これらの信号ピークはコン
ピュータ計算ユニット29に走査値として供給される。
明することにより、驚くべきことに、得られた走査信号
がパーフォレーション孔のエッジ領域で減衰の最大値を
有するので、エッジは特に簡単に検出可能となる。減衰
の最大値の理由として、打ち抜き過程によりエッジ領域
で赤外線透過領域における材料の透過性の変化が生じる
ことが考えられる。図2にはフィルム材1の長手軸線に
沿って切断された断面図が示されており、このフィルム
材は通常の透過性を有する領域31と、打ち抜き過程に
より透過性を低減されている領域32と、パーフォレー
ション孔の領域33とを有する。下側にはパーフォレー
ション孔29の出力電圧Usがそれぞれフィルムの送り
方向に沿った同じ位置で示されている。有利には微分回
路により信号の経過の変化が検出される。図2にはグラ
ジエント法により得られた関連のパルス状信号のピーク
34、35が示されている。これらの信号ピークはコン
ピュータ計算ユニット29に走査値として供給される。
【0024】有利にはパーフォレーション孔は走査すべ
きフィルムの水平軸線に対してわずかに傾けられて配置
されており、このため走査検出精度が向上される。図3
に示されているパーフォレーション孔36の走査パター
ンと同様に、ライン走査においても検出された走査値の
幾何学的歪みが生じる。しかしこの幾何学的歪みは、時
間的な偏差がフィルムの送り速度に比例しているため、
走査値の簡単な換算により消去できる。パーフォレーシ
ョン孔のすべての走査値はコンピュータ計算ユニット2
9において(特に図示はされていない)メモリに一時記
憶される。評価装置はメモリ内に一時記憶された走査値
にランダムにアクセス可能である。
きフィルムの水平軸線に対してわずかに傾けられて配置
されており、このため走査検出精度が向上される。図3
に示されているパーフォレーション孔36の走査パター
ンと同様に、ライン走査においても検出された走査値の
幾何学的歪みが生じる。しかしこの幾何学的歪みは、時
間的な偏差がフィルムの送り速度に比例しているため、
走査値の簡単な換算により消去できる。パーフォレーシ
ョン孔のすべての走査値はコンピュータ計算ユニット2
9において(特に図示はされていない)メモリに一時記
憶される。評価装置はメモリ内に一時記憶された走査値
にランダムにアクセス可能である。
【0025】次に基準パーフォレーション孔と走査され
た各パーフォレーション孔の走査値との最適な一致の度
合を求めるために、図5に示されたフローチャートに則
して適切な方法のステップについて説明する。走査値は
通常所定の基準画像の基準点と比較および評価可能であ
るが、水平ずれと垂直ずれとを相互に別々に計算すると
有利であることがわかった。このために基準点から形成
された基準パーフォレーション孔の代わりにディメンシ
ョンラインが使用される。このディメンションラインは
それぞれ検査すべきエッジに対して直角に設けられてい
る。図4にはこのようなディメンションライン40から
形成されている基準パターンと、この基準パターンに基
づくパーフォレーション孔41の輪郭とが示されてい
る。図4にはさらに走査されたパーフォレーション孔の
走査値42、44、46、48も示されている。簡単化
のために、それぞれ走査されるパーフォレーション孔の
上側エッジ43に対応する走査値42、走査されるパー
フォレーション孔の左側エッジ45に対応する走査値4
4、走査されるパーフォレーション孔の右側エッジ47
に対応する走査値46、走査されるパーフォレーション
孔の下側エッジ49に対応する走査値48のみが示され
ている。
た各パーフォレーション孔の走査値との最適な一致の度
合を求めるために、図5に示されたフローチャートに則
して適切な方法のステップについて説明する。走査値は
通常所定の基準画像の基準点と比較および評価可能であ
るが、水平ずれと垂直ずれとを相互に別々に計算すると
有利であることがわかった。このために基準点から形成
された基準パーフォレーション孔の代わりにディメンシ
ョンラインが使用される。このディメンションラインは
それぞれ検査すべきエッジに対して直角に設けられてい
る。図4にはこのようなディメンションライン40から
形成されている基準パターンと、この基準パターンに基
づくパーフォレーション孔41の輪郭とが示されてい
る。図4にはさらに走査されたパーフォレーション孔の
走査値42、44、46、48も示されている。簡単化
のために、それぞれ走査されるパーフォレーション孔の
上側エッジ43に対応する走査値42、走査されるパー
フォレーション孔の左側エッジ45に対応する走査値4
4、走査されるパーフォレーション孔の右側エッジ47
に対応する走査値46、走査されるパーフォレーション
孔の下側エッジ49に対応する走査値48のみが示され
ている。
【0026】わかりやすくするために数本のディメンシ
ョンラインのみが示されている。評価のために設けられ
ているディメンションラインの有意義な最大数は、パー
フォレーション孔の走査ユニットとコンピュータ計算ユ
ニットにかかるコストによって定まる。この実施例では
相応の手段、例えば走査ユニットにおけるフィルムエッ
ジの支持案内部を用いて、スプライス部の約30個の画
素の基本的な安定性が得られる。有利には、パーフォレ
ーション孔のコーナで得られた走査値も評価から選別除
去される。なぜならコーナの湾曲部の評価を行えば比較
的大きな計算コストがかかり、逆に評価を行わなくても
多数の走査値が残っているため精度への重大な悪影響は
生じないからである。
ョンラインのみが示されている。評価のために設けられ
ているディメンションラインの有意義な最大数は、パー
フォレーション孔の走査ユニットとコンピュータ計算ユ
ニットにかかるコストによって定まる。この実施例では
相応の手段、例えば走査ユニットにおけるフィルムエッ
ジの支持案内部を用いて、スプライス部の約30個の画
素の基本的な安定性が得られる。有利には、パーフォレ
ーション孔のコーナで得られた走査値も評価から選別除
去される。なぜならコーナの湾曲部の評価を行えば比較
的大きな計算コストがかかり、逆に評価を行わなくても
多数の走査値が残っているため精度への重大な悪影響は
生じないからである。
【0027】基準パターンとそのつどの走査値との比較
を実施すべき回数を低減するために有利には粗いサーチ
から開始して段階的にサーチを細かくする。サーチ過程
のイニシャライズのために第1の計算ステップ501で
は、基準パターンをオフセットする段階幅nをまず8つ
の画素に設定する。サーチが開始される位置x、yはイ
ニシャライズの際に基準パーフォレーション孔のゼロ位
置x=0、y=0に設定される。
を実施すべき回数を低減するために有利には粗いサーチ
から開始して段階的にサーチを細かくする。サーチ過程
のイニシャライズのために第1の計算ステップ501で
は、基準パターンをオフセットする段階幅nをまず8つ
の画素に設定する。サーチが開始される位置x、yはイ
ニシャライズの際に基準パーフォレーション孔のゼロ位
置x=0、y=0に設定される。
【0028】次の計算ステップ502から510までに
おいて、マトリクスE[i,j]が形成される。
おいて、マトリクスE[i,j]が形成される。
【0029】−4≦i≦3および−4≦j≦3にて E[i,j]=F(SrcWin(x+n・i,Y+n・
j);RefWin(x,y)) サーチウィンドウ内の、可能な各オフセット位置i,j
に対する走査値SrcWinは、走査値と基準パターンとの比
較誤差Eを有する。マトリクスE[]を計算するため
に、相互に交錯する2つの計数ループにより、パーフォ
レーション孔の走査値はサーチウィンドウの左下のコー
ナ(i=−4,j=−4)で開始されて左から右へオフ
セットされる。この場合に計数ループは走行変数i、j
のための2つのインクリメンテーションブロック50
5、507と、各ループの終了を決定するための決定ブ
ロック506、509とから形成される。各ステップに
おいて計算ステップ502の重みづけ関数F()を用い
て、オフセット走査値SrcWin()と基準パターンRefWin()
との比較誤差が計算され、相応の個所でマトリクスE
[i,j]に代入される。サーチウィンドウの右側の境
界(i=3)に達すると、サーチウィンドウはその位置
を1つだけ上側へオフセットされ(j=i+1)、サー
チウィンドウの左側でのサーチが新たに開始される。マ
トリクスE[]の計算は、サーチウィンドウの右上側の
コーナ(i=3,j=3)に達すると終了される。
j);RefWin(x,y)) サーチウィンドウ内の、可能な各オフセット位置i,j
に対する走査値SrcWinは、走査値と基準パターンとの比
較誤差Eを有する。マトリクスE[]を計算するため
に、相互に交錯する2つの計数ループにより、パーフォ
レーション孔の走査値はサーチウィンドウの左下のコー
ナ(i=−4,j=−4)で開始されて左から右へオフ
セットされる。この場合に計数ループは走行変数i、j
のための2つのインクリメンテーションブロック50
5、507と、各ループの終了を決定するための決定ブ
ロック506、509とから形成される。各ステップに
おいて計算ステップ502の重みづけ関数F()を用い
て、オフセット走査値SrcWin()と基準パターンRefWin()
との比較誤差が計算され、相応の個所でマトリクスE
[i,j]に代入される。サーチウィンドウの右側の境
界(i=3)に達すると、サーチウィンドウはその位置
を1つだけ上側へオフセットされ(j=i+1)、サー
チウィンドウの左側でのサーチが新たに開始される。マ
トリクスE[]の計算は、サーチウィンドウの右上側の
コーナ(i=3,j=3)に達すると終了される。
【0030】基準パターンRefWinと走査値SrcWinとの一
致の度合が増すにつれて、比較時に生じる比較誤差Eは
わずかになる。この実施例ではパーフォレーション孔の
水平ずれと垂直ずれが相互に別々に計算されるので、マ
トリクス要素E[i,j]に対して値の組ex、eyが
生じる。値の組のうち第1の値exは垂直エッジの比較
に対する比較誤差、すなわち水平方向の比較誤差を表
し、第2の値eyは水平エッジの比較に対する比較誤
差、すなわち垂直方向の比較誤差を表す。このために一
方では、オフセットされた基準パターンの垂直のディメ
ンションラインの上にあるパーフォレーション孔の上側
および下側エッジの全ての走査値k=(1...K)に対
して、それぞれその距離dy(k)(図4を参照)がオ
フセットされた基準パターンの上側および下側エッジの
ために計算される。基準パターンの上側および下側エッ
ジは直線状であるため、距離dy(k)はそれぞれの走
査値42と基準パーフォレーション孔41の上側ないし
下側エッジとの垂直ずれに等しい。同様に他方では、横
方向エッジに対応する走査値1∈(1...L)に対して
距離dx(図4を参照)が計算される。この距離d
xは、ディメンションライン上に配置される走査点44
が、ディメンションラインと基準パターンの輪郭との交
点に対して有する距離である。生じる総和はそれぞれの
計算に使用される数KないしLにより除算され、この総
和により平均された比較誤差
致の度合が増すにつれて、比較時に生じる比較誤差Eは
わずかになる。この実施例ではパーフォレーション孔の
水平ずれと垂直ずれが相互に別々に計算されるので、マ
トリクス要素E[i,j]に対して値の組ex、eyが
生じる。値の組のうち第1の値exは垂直エッジの比較
に対する比較誤差、すなわち水平方向の比較誤差を表
し、第2の値eyは水平エッジの比較に対する比較誤
差、すなわち垂直方向の比較誤差を表す。このために一
方では、オフセットされた基準パターンの垂直のディメ
ンションラインの上にあるパーフォレーション孔の上側
および下側エッジの全ての走査値k=(1...K)に対
して、それぞれその距離dy(k)(図4を参照)がオ
フセットされた基準パターンの上側および下側エッジの
ために計算される。基準パターンの上側および下側エッ
ジは直線状であるため、距離dy(k)はそれぞれの走
査値42と基準パーフォレーション孔41の上側ないし
下側エッジとの垂直ずれに等しい。同様に他方では、横
方向エッジに対応する走査値1∈(1...L)に対して
距離dx(図4を参照)が計算される。この距離d
xは、ディメンションライン上に配置される走査点44
が、ディメンションラインと基準パターンの輪郭との交
点に対して有する距離である。生じる総和はそれぞれの
計算に使用される数KないしLにより除算され、この総
和により平均された比較誤差
【0031】
【数1】
【0032】が生じる。計算ステップ502に続いて選
別除去ステップ503では、それぞれの平均値ex、e
yからの絶対差が所定の閾値よりも大きい走査値のすべ
てを実際の走査値から選別除去する。続く決定ブロック
504において走査値が選別除去されたことが確認され
続けているかぎり、比較誤差を計算するステップ502
が繰り返される。この場合に選別除去ブロック503に
おいて選別除去された走査値はもはや考慮されない。計
算ステップ502、および平均値からきわめて強く偏差
する走査値に対する選別除去ステップ503は、選別除
去すべき走査値が存在しなくなるまで繰り返される。こ
のようにして、汚れているエッジまたは損傷したエッジ
から生じた走査値を確実に選別除去することができ、比
較結果に悪影響を与えない。このようにして誤り決定が
回避される。
別除去ステップ503では、それぞれの平均値ex、e
yからの絶対差が所定の閾値よりも大きい走査値のすべ
てを実際の走査値から選別除去する。続く決定ブロック
504において走査値が選別除去されたことが確認され
続けているかぎり、比較誤差を計算するステップ502
が繰り返される。この場合に選別除去ブロック503に
おいて選別除去された走査値はもはや考慮されない。計
算ステップ502、および平均値からきわめて強く偏差
する走査値に対する選別除去ステップ503は、選別除
去すべき走査値が存在しなくなるまで繰り返される。こ
のようにして、汚れているエッジまたは損傷したエッジ
から生じた走査値を確実に選別除去することができ、比
較結果に悪影響を与えない。このようにして誤り決定が
回避される。
【0033】マトリクスE[]が形成されるとただちに
次の計算ステップ510において、最小の誤りを有する
値の組のマトリクス要素がサーチされる。このマトリク
ス要素のアドレスにより、低減されたサーチ幅n=1を
有する新たな計算過程のために、新たなサーチ領域x、
yが定められる。計算ステップ502から509までの
全てがもう一度繰り返された後、最小の比較誤差を有す
るマトリクス要素が、ずれをパーフォレーション孔セン
サの1画素の精度で表す。複数の走査値が使用されるた
め、もう1度サーチ幅をn=1/8まで低減し、かつ計
算ステップ502から509までを新たに実行すること
により、パーフォレーション孔センサの所定の分解能よ
りも高い精度でずれが求められる。残っている基準点か
ら対応する幾何学的形状“直線”または“円弧”が近似
的に求められ、そこからサブピクセル精度のずれが求め
られる。
次の計算ステップ510において、最小の誤りを有する
値の組のマトリクス要素がサーチされる。このマトリク
ス要素のアドレスにより、低減されたサーチ幅n=1を
有する新たな計算過程のために、新たなサーチ領域x、
yが定められる。計算ステップ502から509までの
全てがもう一度繰り返された後、最小の比較誤差を有す
るマトリクス要素が、ずれをパーフォレーション孔セン
サの1画素の精度で表す。複数の走査値が使用されるた
め、もう1度サーチ幅をn=1/8まで低減し、かつ計
算ステップ502から509までを新たに実行すること
により、パーフォレーション孔センサの所定の分解能よ
りも高い精度でずれが求められる。残っている基準点か
ら対応する幾何学的形状“直線”または“円弧”が近似
的に求められ、そこからサブピクセル精度のずれが求め
られる。
【0034】円弧状の横方向エッジを有するパーフォレ
ーション孔の場合、ディメンションライン上に配置され
る走査点と、ディメンションラインと基準パターンの交
点と間の横方向の距離dxの計算は他の計算に比べて比
較的面倒である。なぜなら三角関数を計算しなければな
らないからである。しかし図示されているように、それ
ぞれの円弧状の部分の接線に垂直なディメンションライ
ンの代わりに、直交する走査ラスタに位置しているディ
メンションライン(図6を参照)を使用する場合、使用
可能な結果を得ることができる。
ーション孔の場合、ディメンションライン上に配置され
る走査点と、ディメンションラインと基準パターンの交
点と間の横方向の距離dxの計算は他の計算に比べて比
較的面倒である。なぜなら三角関数を計算しなければな
らないからである。しかし図示されているように、それ
ぞれの円弧状の部分の接線に垂直なディメンションライ
ンの代わりに、直交する走査ラスタに位置しているディ
メンションライン(図6を参照)を使用する場合、使用
可能な結果を得ることができる。
【0035】別の実施例では、円弧状の横方向エッジを
有するパーフォレーション孔(例えば“N”タイプのパ
ーフォレーション孔で公知である)において、パーフォ
レーション孔の位置を2つの段階で検出する。すなわち
第1の段階では上述のように、パーフォレーション孔の
上側および下側エッジの位置が相互に別々に検出され、
2つのエッジの間の対称軸線が求められる。第2の段階
では、2つの円弧状の横方向エッジに中心がすでに求め
られた対称軸線上に位置する完全な円を相関させる。エ
ッジと円との相関時に求められた円の中心は求めるべき
パーフォレーション孔の中心と同一である。
有するパーフォレーション孔(例えば“N”タイプのパ
ーフォレーション孔で公知である)において、パーフォ
レーション孔の位置を2つの段階で検出する。すなわち
第1の段階では上述のように、パーフォレーション孔の
上側および下側エッジの位置が相互に別々に検出され、
2つのエッジの間の対称軸線が求められる。第2の段階
では、2つの円弧状の横方向エッジに中心がすでに求め
られた対称軸線上に位置する完全な円を相関させる。エ
ッジと円との相関時に求められた円の中心は求めるべき
パーフォレーション孔の中心と同一である。
【0036】さらに種々異なる適用が可能である。孔の
中心を計算しないでパーフォレーション孔のエッジの一
部分を直接に基準として使用する手段を用いてもよい。
中心を計算しないでパーフォレーション孔のエッジの一
部分を直接に基準として使用する手段を用いてもよい。
【図1】フィルムスキャナの概略図である。
【図2】赤外線領域におけるパーフォレーション孔とそ
れに関連する信号の波形を示す図である。
れに関連する信号の波形を示す図である。
【図3】フィルム送りの水平軸線に対して傾けられたパ
ーフォレーション孔センサによる走査値を示す図であ
る。
ーフォレーション孔センサによる走査値を示す図であ
る。
【図4】円弧状の横方向エッジを有するパーフォレーシ
ョン孔において、パーフォレーション孔のエッジに対し
て直角に配置される基準パターンを示す図である。
ョン孔において、パーフォレーション孔のエッジに対し
て直角に配置される基準パターンを示す図である。
【図5】計算ユニットにより実行される計算ステップを
説明するためのフローチャートである。
説明するためのフローチャートである。
【図6】円弧状の横方向エッジを有するパーフォレーシ
ョン孔のための別の基準パターンを示す図である。
ョン孔のための別の基準パターンを示す図である。
1 フィルム 2 供給リール 4 キャプスタンローラ 5 巻取リール 6、7、8 電気モータ 9 送り制御装置 10、13 ガイドローラ 11、12 センシングレバー 15 スプロケット 16 タコディスク 17 操作パネル 18 走査ユニット 19、20、27 照明装置 21〜24 画像走査センサ 25 ビデオ信号処理装置 26 インターフェース 28 パーフォレーション孔センサ 29 計算ユニット 30 赤外線カットフィルタ 31〜33 フィルムの各領域 34、35 信号ピーク 36、41 パーフォレーション孔 37、42、44、46、48 走査値 40 ディメンションライン 43、45、47、49 パーフォレーション孔のエッ
ジ
ジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 590000248 Groenewoudseweg 1, 5621 BA Eindhoven, Th e Netherlands
Claims (9)
- 【請求項1】 パーフォレーション孔を光学的に走査す
る走査装置と、パーフォレーション孔の走査値を基準パ
ターンと比較して画像位置誤りを補償するための補正信
号を発生する評価装置とを有するフィルムスキャナにお
いて、 評価装置(29)が設けられており、 該評価装置により、複数の計算ステップにおいて走査値
および基準パターンの値が相互にオフセットされ、 かつ該評価装置により、各計算ステップにおいて走査値
と基準パターンとの一致の度合が求められて、最適な一
致が検出される走査値および基準パターンの絶対的なオ
フセットから補正信号が発生される、ことを特徴とする
フィルムスキャナ。 - 【請求項2】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置によりパーフォレーション孔の走査値と基準パ
ターンとが相互に段階的に水平オフセットおよび垂直オ
フセットされ、各オフセットステップにおいて走査値と
基準値とを一致させるための判定基準が形成され、走査
値と基準値とが最適に一致するオフセットステップが求
められ、該走査値と基準値とが最適に一致するオフセッ
トステップに基づく水平オフセットおよび垂直オフセッ
トが画像位置誤りを補償するための補正信号として使用
される、請求項1記載のフィルムスキャナ。 - 【請求項3】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置により、比較過程で求められた水平オフセット
および垂直オフセットが更なる比較過程の開始点として
低減された段階幅で行われる、請求項1または2記載の
フィルムスキャナ。 - 【請求項4】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置により、走査値から計算された、走査されたパ
ーフォレーション孔の位置に対する差が所定の閾値を超
過する場合、該差を有するパーフォレーション孔の走査
値が比較過程から選別除去される、請求項1から3まで
のいずれか1項記載のフィルムスキャナ。 - 【請求項5】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置により、複数の走査値から走査値と基準パター
ンとの偏差に対する平均値が形成され、平均値からの偏
差が閾値を超過する走査値が平均値形成部から選別除去
され、残っている走査値から新たに平均値が形成され
る、請求項4記載のフィルムスキャナ。 - 【請求項6】 評価装置(29)が複数のディメンショ
ンラインを有しており、該ディメンションラインはそれ
ぞれ比較すべきパーフォレーション孔のエッジに対して
近似的に垂直である、請求項1から5までのいずれか1
項記載のフィルムスキャナ。 - 【請求項7】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置により、補正信号の水平成分はパーフォレーシ
ョン孔の横方向エッジに対応する走査値からのみ形成さ
れ、補正信号の垂直成分はパーフォレーション孔の上側
および下側エッジに対応する走査値からのみ形成され
る、請求項1から6までのいずれか1項記載のフィルム
スキャナ。 - 【請求項8】 評価装置(29)が設けられており、該
評価装置により、対向するエッジにおいて2つのエッジ
の偏差が相互に別々に計算され、かつ別々に計算された
エッジの中心線が偏差として使用される、請求項7記載
のフィルムスキャナ。 - 【請求項9】 フィルムのパーフォレーション孔を光学
的に走査して基準パターンと比較して、画像位置誤りを
補償するための補正信号を発生する、シネフィルムの走
査方法において、 複数の計算ステップにおいて走査値および基準パターン
の値を相互にオフセットし、 各計算ステップにおいて走査値と基準パターンとの一致
の度合を求め、 最適な一致が検出される走査値および基準パターンの絶
対的なオフセットから補正信号を発生する、ことを特徴
とするシネフィルムの走査方法。
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