JPH11149165A - 電子写真用感光体 - Google Patents

電子写真用感光体

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Publication number
JPH11149165A
JPH11149165A JP31704897A JP31704897A JPH11149165A JP H11149165 A JPH11149165 A JP H11149165A JP 31704897 A JP31704897 A JP 31704897A JP 31704897 A JP31704897 A JP 31704897A JP H11149165 A JPH11149165 A JP H11149165A
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JP
Japan
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type semiconductor
layer
conductive support
charge generation
pigment
Prior art date
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Application number
JP31704897A
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English (en)
Inventor
Hirokazu Takada
宏和 高田
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 pn接合による電位障壁を利用した電子写真
用感光体において、n型半導体層内のキャリア移動度を
大きくし、n型半導体層の膜厚を大きくした場合や低温
環境下および帯電・露光を繰り返した後であっても、画
像欠陥および感度低下がなく、印字環境および導電性支
持体の表面状態に影響され難い高品質の電子写真用感光
体を提供する。 【解決手段】 導電性支持体上に電荷発生層及び電荷輸
送層を積層してなる感光層を有する電子写真用感光体に
おいて、電荷発生層がp型半導体顔料を樹脂に分散して
なるとともに、導電性支持体と電荷発生層との間にn型
半導体顔料を樹脂に分散してなり、支持体と電気的に非
整流的な接合状態を示すn型半導体層を有し、n型半導
体層が下記一般式で示されるトリフェニルメタン化合物
を含有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真用感光体に
関し、さらに詳しくはp型半導体層である電荷発生層に
対してpn接合をするn型半導体層を電荷発生層と導電
性支持体との間に設けることによって、電子写真特性を
大幅に改善した電子写真用感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に電子写真用感光体は、導電性支持
体上に、感光層を形成することにより構成されている
が、特に感光層が電荷発生層と電荷輸送層からなる機能
分離型の積層型電子写真用感光体が用いられることが多
い。このような電子写真用感光体では、導電性支持体と
電荷発生層の間の電気的な接合状態によって、その特性
が大きく変化することが知られている。
【0003】例えば、通常の電流と電界が比例的関係に
あるような、非整流型(いわゆるオーミック型)の場合
においては、帯電時に導電性支持体から常に電荷が注入
されることにより、表面電位が減衰し、電子写真用感光
体の帯電能が著しく低下する。この場合、感光層と導電
性支持体との間に電気的なバリアー層を設けて導電性支
持体からの電荷の注入を阻止することによって、帯電能
を上げることができることが知られている。
【0004】これに対して、例えば、アルミニウムのよ
うな仕事関数の小さい金属を導電性支持体とし、フタロ
シアニン化合物を電荷発生材料とした場合の組み合わせ
にみられるように、いわゆるショットキー型の接合を持
つ場合は、その整流作用によって、導電性支持体からの
電荷の注入が制限され、特にバリアー層を設けなくても
比較的優れた帯電能を示すことが知られている。
【0005】しかしながら、この場合においても導電性
支持体上に点在する欠陥、不純物の晶出、塗膜中の不純
物等が原因となり、局所的な電位の落ち込みが生じ、特
に反転現像方式において画像上に欠陥として現れること
が知られており、その対策としてさらにバリアー層を設
けることが一般的である。
【0006】従来の技術において、バリアー層を利用し
て機能向上を図った電子写真用感光体では、例えば、バ
リアー層に電気絶縁性の高分子重合体を用いたもので
は、適度のバリアー性と接着性、上層を塗布する際に溶
解しないといった条件を満足する必要性から、バリアー
層として使用できる材料がかなり限定されており、さら
に膜厚の設定が大きい場合には感光層から導電性支持体
への電荷注入が阻害され、感度低下や残留電位の増加を
もたらしたり、吸水によるバリアー性の変化による電子
写真特性の劣化や、感光層との密着性の不足等がしばし
ば問題となっていた。
【0007】また、バリアー層にAl23やSiO2
の絶縁性無機化合物膜を用いたものでは、化学処理、あ
るいは真空蒸着、スパッタリング等の手段を必要とする
ため、成膜に時間がかかったり、コストが大きくなる等
の問題があり、さらに樹脂塗膜型のバリアー層と同様に
感度の低下や残留電位の増加といった問題が未解決であ
った。
【0008】さらに、バリアー層にTiO2やZnO等
の白色無機粉末を樹脂分散させた層を用いる技術も知ら
れているが、この方法でも基本的には樹脂塗膜型と同様
な問題点を持っており、実用的な電子写真用感光特性を
得るためには材料の純度、粒径、表面状態、樹脂との配
合比との調整が非常に面倒であった。
【0009】そこで、これらの問題点を解決する手段と
してpn接合の電位障壁を利用し、帯電時における導電
性支持体からの電荷の注入を阻止し、感光体の帯電能を
上げる方法が、例えば、特開平7−160010に記載
されている。
【0010】すなわち、電子写真用感光体の電荷発生層
に多く用いられているチタニルフタロシアニン、無金属
フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料はp型半導体
としての性質を有するが、このp型半導体顔料を樹脂に
分散してなる電荷発生層と導電性支持体との間に、導電
性支持体と非整流的な接合状態を示すn型半導体顔料を
樹脂に分散してなる層を設けるというものである。
【0011】この場合、感光体に負帯電を行うと、形成
されたpn接合に対しては逆バイアス電場となり、その
整流性により導電性支持体からの電荷(正孔)の注入は
阻止され、その結果、帯電能が向上する。
【0012】ここで、電荷発生層に吸収を有する波長の
光がpn接合型感光体に照射されると、電荷発生層内で
正孔と電子の対が発生し、このうち正孔はp型電荷発生
層から電荷輸送層に注入、輸送され表面電荷を中和す
る。一方、電子はn型半導体層を経て、導電性支持体に
注入される。
【0013】また従来の電子写真用感光体においては、
導電性支持体と電荷発生層の間の、ショットキー接合で
代表される整流的接合、或いは独立したバリアー層の電
気抵抗によって電荷の注入を阻止しているため、導電性
支持体と感光層の間の微妙な接触状態により大きな特性
変化が生じ得る。
【0014】例えば、導電性支持体上に汚れや欠陥があ
る場合、有効なバリアー形成が阻害され、画像上に欠陥
として出現する確率が非常に大きくなる。
【0015】これに対し、上記のpn接合を用いた電子
写真用感光体においては、導電性支持体と接するn型半
導体層と支持体との間はオーミックに接するため、バリ
アー形成のための微妙な条件設定は不必要となり、また
電荷の注入はn型半導体層とp型半導体層である電荷発
生層との界面という導電性支持体表面より離れた部分に
おいて阻止されるため、導電性支持体の影響を受けるこ
とが少なく、高品質な画像特性を得ることができる。
【0016】しかし、顔料を樹脂に分散させてなるn型
半導体層においては層内におけるキャリアトラップの密
度が大きいこと、また高電気抵抗の樹脂に顔料を分散し
ている構造のためキャリアのホッピング伝導に必要なホ
ッピングサイトの密度が小さいといったことにより、キ
ャリアの移動度が小さいという問題がある。
【0017】このため、n型半導体層の膜厚が大きい場
合、もしくは低温環境下や帯電、露光を繰り返した場合
には、n型半導体層のキャリア移動度の低下やキャリア
トラップによる空間電荷のため、感度の低下や残留電位
の増加、暗減衰の増加といった電子写真特性の劣化が現
れることがある。
【0018】その結果、回転しながら印字を行うドラム
状の感光体の場合には露光を行っていないにも関わら
ず、前周の画像パターンが再び画像もしくは反転画像と
して現れる、メモリー現象と称される画像欠陥を生じ
る。
【0019】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、pn接合を
用いた電子写真用感光体におけるこれらの問題を解決
し、画像特性に優れ、更に繰り返し使用においても特性
が変化しない電子写真用感光体を提供することにある。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討を行
った結果、上記課題は以下の手段により解決されること
を見いだした。
【0021】すなわち本発明は、導電性支持体上に少な
くとも電荷発生層及び電荷輸送層を積層してなる感光層
を有する電子写真用感光体において、該電荷発生層がp
型半導体顔料を樹脂に分散してなるとともに、該導電性
支持体と該電荷発生層との間にn型半導体顔料を樹脂に
分散してなり、該導電性支持体と電気的に非整流的な接
合状態を示すn型半導体層を有し、該n型半導体層が下
記一般式で示されるトリフェニルメタン化合物を含有す
ることを特徴とする。
【0022】
【化2】
【0023】(式中、R1、R2、R3、R4は、水素原
子、もしくは、置換基を有していても良いアルキル基、
アリール基を表し、R5、R6、R7は水素原子、ハロゲ
ン原子、もしくは、置換基を有しても良いアルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アミノ基を表す。)
【0024】好ましくは、上記一般式で示されるトリフ
ェニルメタン化合物において、R1、R2、R3、R4、R
5、R7が水素原子、もしくはメチル基、R6が水素原子
もしくはメチル置換基を有していても良いアミノ基であ
る電子写真用感光体である。
【0025】また、好ましくは上記n型半導体顔料がペ
リレン系顔料からなり、さらに好ましくは上記p型半導
体顔料がチタニルフタロシアニン系顔料または無金属フ
タロシアニン系顔料からなる群より選ばれる顔料である
電子写真用感光体である。
【0026】本発明により、pn接合型電子写真用感光
体において問題となっていた低温環境下での使用時や帯
電、露光を繰り返した際の感度の低下や残留電位の上
昇、暗減衰の増加といった問題が解決され、環境および
使用状態に影響されず、安定した良質な画像が得られる
電子写真用感光体を提供することが可能となる。
【0027】n型半導体顔料を樹脂に分散させてなるn
型半導体層に上記のトリフェニルメタン化合物を添加す
ることにより、n型半導体層における光キャリアのドリ
フト移動度が大きくなることが過渡光電流(TOF)測
定により観測される。このことよりn型半導体層におけ
るキャリアの輸送効率が向上し、感光層内における空間
電荷の生成が抑えられることにより上記のような問題が
解決されるものと考えられる。
【0028】これらのトリフェニルメタン化合物のう
ち、特にロイコ化合物は電子輸送性が大きく、n型半導
体層に添加することでキャリア輸送効率は顕著に増加す
る。これらのロイコ化合物の例としてはマゼンタ、メチ
ルバイオレット、クリスタルバイオレット、マラカイト
グリーン等のトリフェニルメタン染料のロイコ塩基が挙
げられる。このうち、ロイコマラカイトグリーンは特に
キャリア輸送効率の向上に対する効果が大きく、特に好
ましい。
【0029】本発明において、n型半導体層に添加する
トリフェニルメタン化合物の添加量は、n型半導体層の
顔料に対し1〜25重量パーセントの範囲が特に好まし
く、この範囲でキャリアの移動度の向上に効果が特に顕
著である。
【0030】さらに、n型半導体層の膜厚は0.5μm
以上がpn接合による十分な整流性を得ることができる
が、特に膜厚を5〜20μmの範囲とすることにより、
導電性支持体表面の欠陥、汚染等に起因する画像上の欠
陥を効果的に改善することができる。
【0031】本発明におけるn型半導体層に用いること
のできる顔料としては、例えば、ジスアゾ系顔料、ペリ
レン系顔料、アンザンスロン系顔料、ペリノン系顔料等
の有機顔料や、硫化カドミウム、硫化亜鉛等の無機顔料
が挙げられる。これらのうち、特にペリレン系顔料は電
子輸送能が大きく、また本発明におけるトリフェニルメ
タン化合物の添加によりさらに電子輸送効率が向上し、
良好なpn接合型感光体を得ることができる。
【0032】一方、p型電荷発生層に用いることのでき
る顔料としてはフタロシアニン系顔料、メロシアニン系
色素等の有機顔料や、六方晶セレン等の無機顔料が挙げ
られる。これらのうち、フタロシアニン系顔料、特にチ
タニルフタロシアニン系顔料および無金属フタロシアニ
ン系顔料は、量子収率が大きく、高感度の感光体が得ら
れるとともに、ペリレン系顔料よりn型半導体層と良好
なpn接合を形成するため特に好ましい。
【0033】本発明の電子写真用感光体で使用するこれ
らのp型およびn型半導体物質は、ここに挙げたものに
限定されるものではなく、また2種類以上のp型もしく
はn型半導体物質を混合して用いることができる。
【0034】これらの電荷発生層、n型半導体層はそれ
ぞれ、p型及びn型半導体顔料を適当なバインダー樹脂
に分散した状態で形成されるのが一般的である。これら
のp型及びn型半導体顔料を分散させるバインダー樹脂
としては、フィルム形成可能な高分子重合体が好まし
い。
【0035】このような高分子重合体としては、例え
ば、ポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、スチレン−
ブタジエン共重合体、塩化ビニリデンーアクリロニトリ
ル重合体、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹
脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−
ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルフォルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、
ポリビニルアルコール、エチルセルロース、フェノール
樹脂、ポリアミド、カルボキシ−メチルセルロース、塩
化ビニリデン系ポリマーラテックス、ポリウレタン等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【0036】これらのバインダー樹脂は、単独又は2種
類以上を混合して用いられる。特に、これらの樹脂の電
気抵抗の大きさにより電荷発生層とn型半導体層との間
のpn接合状態、またn型半導体層におけるキャリア移
動度が変化し、帯電能、感度、画像特性等に影響を及ぼ
すため、適度な抵抗値が得られるとともに、吸湿による
電気抵抗変化の小さい樹脂を選択することがより好まし
い。
【0037】本発明の電子写真用感光体における導電性
支持体としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ス
テンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウ
ム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いた金
属板、、金属ドラム、ベルト、あるいは導電性ポリマ
ー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、
パラジウム、金等の金属又は合金や導電性カーボン等を
塗布、蒸着、あるいはラミネートした紙、プラスチック
フィルム、板、ドラム、ベルト等が挙げられる。
【0038】これらの導電性支持体はn型半導体層と非
整流的な接合状態を示すことが必要であるが、これらが
非整流的に接合する条件は、導電性支持体の材質と導電
性支持体に接する半導体層に使用する顔料の組み合わせ
によって決定される。
【0039】例えばペリレン系顔料をn型半導体層に用
いた場合、アルミニウムのような仕事関数の小さい材料
を導電性支持体に用いることにより、n型半導体層と導
電性支持体との間に非整流的な接合が実現され、特に好
ましい。
【0040】本発明における電荷輸送層は正孔輸送型で
あることが好ましい。正孔輸送物質としては、低分子化
合物では、例えばピレン系化合物、カルバゾール系化合
物、ヒドラゾン系化合物、スチルベン系化合物、ピラゾ
リン系化合物、トリフェニルアミン系化合物、トリフェ
ニルメタン系化合物、ベンジジン系化合物、ブタジエン
系化合物等が挙げられる。
【0041】また、高分子化合物としては、例えば、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアン
スラセン、ポリビニルアクリジン、ピレン−ホルムアル
デヒド樹脂、エチルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹
脂、トリフェニルメタンポリマー、ポリシラン等が挙げ
られる。これらの電荷輸送物質はここに挙げたものに限
定されるものではなく、その使用に際しては、単独、或
いは2種以上混合して用いることができる。
【0042】本発明における電子写真用感光体の構成の
一例を、図1に示す。導電性支持体1上にn型半導体層
2を形成させ、電荷発生層3および電荷輸送層4を順次
形成させたものであるが、バインダー樹脂を溶剤に溶解
した上で、n型半導体物質、p型半導体物質、電荷輸送
物質をそれぞれ分散もしくは溶解させた塗料を塗布する
ことにより、各層を形成するのが一般的である。
【0043】塗布方法としては浸積塗工、ロールコーテ
ィング、スプレーコーティング等の方法が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。
【0044】また、n型半導体層および電荷発生層に関
しては、蒸着等の物理的な膜形成方法を選択することも
可能である。
【0045】
【実施例】以下、実施例および比較例を用い本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。尚、実施例中「部」とあるのは
「重量部」を表す。
【0046】(実施例1)ブチラール樹脂(商品名「エ
スレックBH−3」積水化学(株)製)4部、ポリアミ
ド樹脂(商品名「CM−8000」東レ(株)製)1部
を、混合溶剤(塩化メチレン50%、メタノール50
%)100部に溶解した。これにn型半導体顔料である
下記構造式
【0047】
【化3】
【0048】で表されるペリレン顔料(商品名「PALIOG
EN Maroon L3820」BASF社製) 10部を加え、サン
ドグラインダーを用いて分散させて、塗料を作製した。
この塗料に下記構造式
【0049】
【化4】
【0050】で表されるロイコマラカイトグリーン(p、
p'-Benzylidenebis(N、N-dimethylaniline)、関東化学
(株)製)0.5部を加え、n型半導体層用の塗料とし
た。
【0051】次に、ブチラール樹脂1部を塩化メチレン
100部に溶解し、p型半導体顔料であるα型チタニル
フタロシアニン2部を加え、振動ミルを用いて分散させ
て電荷発生層用の塗料を得た。
【0052】さらに、正孔輸送物質である下記構造式
【0053】
【化5】
【0054】で表されるヒドラゾン系化合物4部および
ポリカーボネート樹脂(商品名「パンライトC−140
0」帝人化成(株)製)5部を塩化メチレン40部に溶
解して電荷輸送層用の塗料を得た。
【0055】次に、アルミニウム板に乾燥後の膜厚が5
μmとなるように、作製したn型半導体層用塗料をバー
コーターを用いて塗布し、乾燥を行った。次に同様に乾
燥後の膜厚が0.4μmとなるように、n型半導体層の
上に電荷発生層用塗料を塗布し乾燥後、さらに乾燥後の
膜厚が25μmとなるように、電荷輸送層用の塗料を塗
布することによって感光体を作製した。
【0056】(実施例2)実施例1と同様のブチラール
樹脂2部、ポリアミド樹脂3部を、混合溶剤100部に
溶解し、これに下記構造式
【0057】
【化6】
【0058】で表されるペリレン顔料(商品名「PALIOG
EN Red L3910」BASF社製)10部を加え、サンドグ
ラインダーを用いて分散させて、これにロイコマラカイ
トグリーン1部を加えた。これをn型半導体層用の塗料
とし、実施例1と同様に塗布し、これに実施例1と同様
の電荷発生層、電荷輸送層を順次積層し、感光体を作製
した。
【0059】(実施例3)実施例1において電荷発生層
に用いるp型半導体顔料としてX型無金属フタロシアニ
ンを用いた以外は実施例1と同様にして電子写真用感光
体を作製した。
【0060】(比較例)ロイコマラカイトグリーンを添
加しないこと以外は実施例1と同様のn型半導体層用の
塗料を作製し、これを実施例1と同様の方法で塗布、さ
らに実施例1と同様の電荷発生層、電子輸送層を順次積
層することにより感光体を作製した。
【0061】(電気的特性)各実施例及び比較例で得た
感光体の電子写真特性を評価するために静電気帯電試験
装置Model EPA−8100((株)川口電機製
作所製)を用いて電子写真特性を測定した。
【0062】測定は23℃で行い、まず電子写真用感光
体を暗所で印加電圧−6kVのコロナ放電により帯電さ
せ、この直後の表面電位を初期電位V0として電子写真
感光体の帯電能の評価に用いた。 次に10秒間、暗所
に放置した後の電位を測定し、V10とした。ここで比V
10/V0によって電位保持能を評価した。
【0063】次いで、780nmの干渉フィルタを通し
たタングステンランプの光を、強度が1μW/cm2
なるように設定し、感光層に光照射を15秒間行い、表
面電位の減衰曲線を記録した。ここで15秒後の表面電
位を測定し、それを残留電位VR とした。また光照射に
より表面電位がV10の1/2に減少するまでの露光量を
求め、半減露光量E1/2(mJ/m2)として感度を評価
した。その後、3000ルクスの白色光を0.1秒間照
射して除電した。さらに、これらの帯電、露光、除電の
行程を100回繰り返した後の特性変化を測定した。こ
れらの結果を表1に示した。
【0064】
【表1】
【0065】表1から明らかなように、実施例1〜4の
電子写真用感光体は本発明におけるトリフェニルメタン
化合物をn型半導体層に含有しない比較例の電子写真用
感光体と比較して、残留電位が小さく、また帯電・露光
を繰り返しによる暗減衰の劣化も少なかった。
【0066】(画像特性)外径30mm、表面粗度0.
3μmのアルミドラム上に浸漬塗工法によって、実施例
1〜4および比較例の電子写真感光体を同一膜厚条件と
なるように塗布、乾燥させてドラム上電子写真感光体を
作製した。画像特性の評価には市販のレーザープリンタ
(商品名 「Laser Jet 4」 Hewlett Packard社製)に
作製したドラム状電子写真用感光体を装着して、10
℃、20%RH、23℃、50%RH、35℃、85%
RHの3種類の温湿度環境条件で印字試験を行い、その
評価を行った。
【0067】この結果、実施例1〜4の電子写真用感光
体はどの環境条件においても、いずれも鮮明で地汚れの
ない画像が得られ、また1万枚を連続で印字を行った後
も初期の品質を保持していた。
【0068】一方、比較例の電子写真用感光体では、1
0℃、20%RHの環境で印字試験を行うと、露光を行
っていないにも関わらず、ドラムの前周の画像パターン
が反転画像として現れるメモリー現象が認められた。
【0069】また、23℃、50%RHの環境での印字
試験の初期ではこの様なメモリー現象は見られなかった
が、連続印字を約1500回繰り返すと、今度はドラム
の前周の画像パターンが正転画像として現れるメモりー
現象が認められた。
【0070】
【発明の効果】本発明におけるトリフェニルメタン化合
物をpn接合型電子写真用感光体におけるn型半導体層
に含有させることにより、n型半導体層内のキャリア移
動度が大きくなり、n型半導体層の膜厚を大きくした場
合であっても低温環境下および帯電・露光を繰り返した
際の感度の低下や、メモリー現象といった画像欠陥を防
止することができ、印字環境や導電性支持体の表面状態
に影響され難く、さらには繰り返し使用においても特性
が変化しない高品質の電子写真用感光体を提供すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電子写真用感光体の層構成の一例を示
す模式断面図である。
【符号の説明】
1 導電性支持体 2 n型半導体層 3 電荷発生層 4 電荷輸送層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生層
    及び電荷輸送層を積層してなる感光層を有する電子写真
    用感光体において、該電荷発生層がp型半導体顔料を樹
    脂に分散してなるとともに、該導電性支持体と該電荷発
    生層との間にn型半導体顔料を樹脂に分散してなり、該
    導電性支持体と電気的に非整流的な接合状態を示すn型
    半導体層を有し、該n型半導体層が下記一般式で示され
    るトリフェニルメタン化合物を含有することを特徴とす
    る電子写真用感光体。 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4は、水素原子、もしくは、
    置換基を有していても良いアルキル基、アリール基を表
    し、R5、R6、R7は水素原子、ハロゲン原子、もしく
    は、置換基を有していても良いアルキル基、アリール
    基、アルコキシ基、アミノ基を表す。)
  2. 【請求項2】 R1、R2、R3、R4、R5、R7が水素原
    子もしくはメチル基、R6が水素原子もしくはメチル置
    換基を有していても良いアミノ基であることを特徴とす
    る請求項1記載の電子写真用感光体。
  3. 【請求項3】 n型半導体顔料がペリレン系顔料からな
    ることを特徴とする請求項1または請求項2記載の電子
    写真用感光体。
  4. 【請求項4】 p型半導体顔料がチタニルフタロシアニ
    ン系顔料または無金属フタロシアニン系顔料からなる群
    より選ばれる顔料であることを特徴とする請求項1、請
    求項2または請求項3記載の電子写真用感光体。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7442481B2 (en) 2004-04-27 2008-10-28 Xsys Print Solutions Us Llc Charge control agent
JP2019184845A (ja) * 2018-04-11 2019-10-24 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置。

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US7442481B2 (en) 2004-04-27 2008-10-28 Xsys Print Solutions Us Llc Charge control agent
JP2019184845A (ja) * 2018-04-11 2019-10-24 富士ゼロックス株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置。

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