JPH0567230B2 - - Google Patents
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- JPH0567230B2 JPH0567230B2 JP61162867A JP16286786A JPH0567230B2 JP H0567230 B2 JPH0567230 B2 JP H0567230B2 JP 61162867 A JP61162867 A JP 61162867A JP 16286786 A JP16286786 A JP 16286786A JP H0567230 B2 JPH0567230 B2 JP H0567230B2
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- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/051—Organic non-macromolecular compounds
- G03G5/0521—Organic non-macromolecular compounds comprising one or more heterocyclic groups
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/051—Organic non-macromolecular compounds
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
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-
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- G03G5/0622—Heterocyclic compounds
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- G03G5/0661—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in different ring systems, each system containing at least one hetero ring
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明は電子写真感光体に関し、特に有機光導
電性電子写真感光体の改良に関する。
電性電子写真感光体の改良に関する。
カールソン方法の電子写真複写機においては、
感光体表面に帯電させた後、露光によつて静電潜
像を形成すると共に、その静電潜像をトナーによ
つて現像し、次いでその可視像を紙等を転写、定
着させる。同時に、感光体は付着トナーの除去や
除電、表面の清浄化が施され、長期に亘つて反復
使用される。 従つて、電子写真感光体としては、帯電特性お
よび感度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写
真特性は勿論であるが、加えて繰返し使用での耐
刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物理的性質や、コロ
ナ放電時に発生するオゾン、露光時の紫外線等へ
の耐性(耐環境性)においても良好であることが
要求される。 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化
亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主
成分とする感光層を有する無機感光体が広く用い
られている。 一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光
体の感光層の材料として利用することが近年活発
に開発、研究されている。 例えば特公昭50−10496号公報には、ポリ−N
−ビニルカルバゾールと2,4,7,−トリニト
ロ−9−フルオレノンを含有した感光層を有する
有機感光体について記載されている。しかしこの
感光体は、感度及び耐久性において必ずしも満足
できるものではない。このような欠点を改善する
ために、感光層において、電荷発生機能と電荷輸
送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を
開発する試みがなされている。このようないわば
機能分離型の電子写真感光体においては、各機能
を発揮する物質を広い範囲のものから選択するこ
とができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。 こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な
電荷発生物質として、従来数多くの物質が提案さ
れている。無機物質を用いる例としては、例えぼ
特公昭43−16198号公報に記載されているように、
無定形セレンがある。これは有機電荷輸送物質と
組み合わされる。 また、有機燃料や有機顔料をキヤリア発生物質
として用いた電子写真感光体も多数提案されてお
り、例えば、ビスアゾ化合物を含有する感光層を
有するものは、特開昭47−37543号、同55−22834
号、同54−79632号、同56−116040号各公報等に
より既に知られている。 ところで、有機光導電性物質を用いる公知の熱
光体は通常、負帯電用として使用されている。こ
の理由は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホ
ールの移動度が大きいことから、光感度等の面で
有利なためである。 しかしながら、このような負帯電使用では、次
の如き問題があることが判明している。即ち、ま
ず問題となることは、帯電器による負帯電時に雰
囲気中にオゾンが発生し易くなり、環境条件を悪
くしてしまう。また、他の問題は、負帯電用感光
体の現像には正極性のトナーが必要となるが、正
極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦帯
電系列からみて製造が困難であることである。 そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正
帯電で使用することが提案されている。例えば、
電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、電荷輸送層
を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯電用感
光体の場合、電荷輸送層にトリニトロフルオレノ
ン等を含有せしめるが、この物質は発ガン性があ
るため不適当である。他方、ホール輸送能の大き
い電荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電用
感光体が考えられるが、これでは表面側に非常に
薄い電荷発生層が存在するために耐刷性等が悪く
なり、実用的な層構成ではない。 また、正帯電用感光体として、米国特許第
3615414号明細書には、チアピリリウム塩(電荷
発生物質)をポリカーボネート(バインダー樹
脂)と共晶錯体を形成するように含有させたもの
が示されている。しかしこの公知の感光体では、
メモリー現象が大きく、ゴーストも発生し易いと
いう欠点がある。米国特許3357989号明細書にも、
フタロシアニンを含有せしめた感光体が示されて
いるが、フタロシアニンは結晶型によつて特性が
変化してしまう上に、結晶型を厳密に制御する必
要があり、更に短波長感度が不足しかつメモリー
現象も大きく、可視光波長域の光源を用いる複写
機には不適当である。 上記の実情から従来は、有機光導電性物質を用
いた感光体を正帯電使用することは実現性に乏し
く、このためにもつぱら負帯電用として使用され
てきたのである。
感光体表面に帯電させた後、露光によつて静電潜
像を形成すると共に、その静電潜像をトナーによ
つて現像し、次いでその可視像を紙等を転写、定
着させる。同時に、感光体は付着トナーの除去や
除電、表面の清浄化が施され、長期に亘つて反復
使用される。 従つて、電子写真感光体としては、帯電特性お
よび感度が良好で更に暗減衰が小さい等の電子写
真特性は勿論であるが、加えて繰返し使用での耐
刷性、耐摩耗性、耐湿性等の物理的性質や、コロ
ナ放電時に発生するオゾン、露光時の紫外線等へ
の耐性(耐環境性)においても良好であることが
要求される。 従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化
亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性物質を主
成分とする感光層を有する無機感光体が広く用い
られている。 一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光
体の感光層の材料として利用することが近年活発
に開発、研究されている。 例えば特公昭50−10496号公報には、ポリ−N
−ビニルカルバゾールと2,4,7,−トリニト
ロ−9−フルオレノンを含有した感光層を有する
有機感光体について記載されている。しかしこの
感光体は、感度及び耐久性において必ずしも満足
できるものではない。このような欠点を改善する
ために、感光層において、電荷発生機能と電荷輸
送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい有機感光体を
開発する試みがなされている。このようないわば
機能分離型の電子写真感光体においては、各機能
を発揮する物質を広い範囲のものから選択するこ
とができるので、任意の特性を有する電子写真感
光体を比較的容易に作製することが可能である。 こうした機能分離型の電子写真感光体に有効な
電荷発生物質として、従来数多くの物質が提案さ
れている。無機物質を用いる例としては、例えぼ
特公昭43−16198号公報に記載されているように、
無定形セレンがある。これは有機電荷輸送物質と
組み合わされる。 また、有機燃料や有機顔料をキヤリア発生物質
として用いた電子写真感光体も多数提案されてお
り、例えば、ビスアゾ化合物を含有する感光層を
有するものは、特開昭47−37543号、同55−22834
号、同54−79632号、同56−116040号各公報等に
より既に知られている。 ところで、有機光導電性物質を用いる公知の熱
光体は通常、負帯電用として使用されている。こ
の理由は、負帯電使用の場合には、電荷のうちホ
ールの移動度が大きいことから、光感度等の面で
有利なためである。 しかしながら、このような負帯電使用では、次
の如き問題があることが判明している。即ち、ま
ず問題となることは、帯電器による負帯電時に雰
囲気中にオゾンが発生し易くなり、環境条件を悪
くしてしまう。また、他の問題は、負帯電用感光
体の現像には正極性のトナーが必要となるが、正
極性のトナーは強磁性体電荷粒子に対する摩擦帯
電系列からみて製造が困難であることである。 そこで、有機光導電性物質を用いる感光体を正
帯電で使用することが提案されている。例えば、
電荷発生層上に電荷輸送層を積層し、電荷輸送層
を電子輸送能の大きい物質で形成する正帯電用感
光体の場合、電荷輸送層にトリニトロフルオレノ
ン等を含有せしめるが、この物質は発ガン性があ
るため不適当である。他方、ホール輸送能の大き
い電荷輸送層上に電荷発生層を積層した正帯電用
感光体が考えられるが、これでは表面側に非常に
薄い電荷発生層が存在するために耐刷性等が悪く
なり、実用的な層構成ではない。 また、正帯電用感光体として、米国特許第
3615414号明細書には、チアピリリウム塩(電荷
発生物質)をポリカーボネート(バインダー樹
脂)と共晶錯体を形成するように含有させたもの
が示されている。しかしこの公知の感光体では、
メモリー現象が大きく、ゴーストも発生し易いと
いう欠点がある。米国特許3357989号明細書にも、
フタロシアニンを含有せしめた感光体が示されて
いるが、フタロシアニンは結晶型によつて特性が
変化してしまう上に、結晶型を厳密に制御する必
要があり、更に短波長感度が不足しかつメモリー
現象も大きく、可視光波長域の光源を用いる複写
機には不適当である。 上記の実情から従来は、有機光導電性物質を用
いた感光体を正帯電使用することは実現性に乏し
く、このためにもつぱら負帯電用として使用され
てきたのである。
本発明の目的は、正帯電用としても使用するこ
とができ、良好な感度を有し、耐傷性、耐オゾン
性に優れ、耐久性のある有機光導電性電子写真感
光体を提供することにある。
とができ、良好な感度を有し、耐傷性、耐オゾン
性に優れ、耐久性のある有機光導電性電子写真感
光体を提供することにある。
【発明の構成および作用効果】
本発明の上記目的は、導電性支持体上に帯電発
生物質および電荷輸送物質を主要構成成分として
含有する感光層を設けた電子写真感光体の感光層
中に下記構造式(a)、(b)および(c)の少なくとも1つ
を分子中に有する化合物を含有せしめることによ
つて達成された。 構造式(a)
生物質および電荷輸送物質を主要構成成分として
含有する感光層を設けた電子写真感光体の感光層
中に下記構造式(a)、(b)および(c)の少なくとも1つ
を分子中に有する化合物を含有せしめることによ
つて達成された。 構造式(a)
【式】
構造式(b)
【式】
構造式(c)
【式】
式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子または
有機置換基を表すが、R1が水素原子の場合、構
造式(a)は分子中に2つ以上含まれる。 感光体のオゾン劣化は反復して付加されるコロ
ナ放電によつて生ずるが、露光によつて発生する
一重項酸素によつても強められると考えられる。
また、感光体の感光層の構成、電荷発生物質や電
荷輸送物質の種類、等によつてもオゾン酸化を受
ける程度は変化するが、電荷輸送物質の方が酸化
を受け易く、特に有機光導電性物質を使用する場
合、その影響は極めて大きい。 本発明者らは、感光体のオゾン劣化(特に電位
低下)の改良に関し鋭意検討の結果、感光層中に
前記構造式(a)、(b)および(c)の少なくとも1つを分
子中に有する化合物がオゾン酸化を著しく防止す
るだけでなく、その他の電子写真特性や物理的性
質の向上にも寄与することを見い出し本発明をな
すに至つた。 以下、本発明をより具体的に説明する。 本発明において感光層に添加してオゾン劣化を
制御する上記化合物は、いわゆるヒンダードアミ
ン型の構造を有している。構造式(a)および(c)にお
いて、R1およびR2が表す有機置換基としては脂
肪族、芳香族のいずれでもよく、例えばアルキル
基、アリール基、アシル基、アラルキル基、カル
バモイル基等を挙げることができる。 ただし、R1が水素原子の場合、構造式(a)は分
子中に2つ以上含まれる。 本発明に好ましく用いられるヒンダードアミン
型化合物(以下、本発明の化合物という)の代表
的具体例を以下に示すが、これに限定されるもの
ではない。
有機置換基を表すが、R1が水素原子の場合、構
造式(a)は分子中に2つ以上含まれる。 感光体のオゾン劣化は反復して付加されるコロ
ナ放電によつて生ずるが、露光によつて発生する
一重項酸素によつても強められると考えられる。
また、感光体の感光層の構成、電荷発生物質や電
荷輸送物質の種類、等によつてもオゾン酸化を受
ける程度は変化するが、電荷輸送物質の方が酸化
を受け易く、特に有機光導電性物質を使用する場
合、その影響は極めて大きい。 本発明者らは、感光体のオゾン劣化(特に電位
低下)の改良に関し鋭意検討の結果、感光層中に
前記構造式(a)、(b)および(c)の少なくとも1つを分
子中に有する化合物がオゾン酸化を著しく防止す
るだけでなく、その他の電子写真特性や物理的性
質の向上にも寄与することを見い出し本発明をな
すに至つた。 以下、本発明をより具体的に説明する。 本発明において感光層に添加してオゾン劣化を
制御する上記化合物は、いわゆるヒンダードアミ
ン型の構造を有している。構造式(a)および(c)にお
いて、R1およびR2が表す有機置換基としては脂
肪族、芳香族のいずれでもよく、例えばアルキル
基、アリール基、アシル基、アラルキル基、カル
バモイル基等を挙げることができる。 ただし、R1が水素原子の場合、構造式(a)は分
子中に2つ以上含まれる。 本発明に好ましく用いられるヒンダードアミン
型化合物(以下、本発明の化合物という)の代表
的具体例を以下に示すが、これに限定されるもの
ではない。
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
これらの化合物は光安定剤として知られてお
り、例えばチヌビン144、622、622LD、765、770
(チバ、ガイギー社)、マークLA−57(アデカ・ア
ーガス社)、チアソーブ944LD(チモサ社)等、市
販品を入手できる他、特開昭59−133543号公報に
記載の方法を参考にして合成することができる。 本発明の化合物の添加量は、感光体の層構成、
電荷輸送物質の種類などによつて一定でないが、
電荷輸送物質に対して0.01〜100重量%、特に好
ましくは0.1〜10重量%の範囲で用いられる。 次に本発明の感光体の構成を図面によつて説明
する。 本発明の感光体は例えば第1図に示すように支
持体1(導電性支持体またはシート上に導電層を
設けたもの)上に、電荷発生物質5(以下、
CGMということがある)と必要に応じてバイン
ダー樹脂を含有する電荷発生層2(以下、CGL
ということがある)を下層とし、電荷輸送物質6
(以下、CTMということがある)と必要に応じて
バインダー樹脂を含有する電荷輸送層3(以下、
CTLということがある)を上層とする積層構成
の感光層4を設けたもの、第2図に示すように支
持体1上にCTL3を下層とし、CGL2を上層と
する積層構成の感光層4を設けたもの、および第
3図に示すように支持体上1上にCGL、CTMお
よび必要に大じてバインダー樹脂を含有する単層
構成の感光層4を設けたもの、等が挙げられる。 また、第2図と同様の層構成で上層のCGLに
CGMとCTMの両方が含有されてもよく、感光層
の上に保護層(OCL)を設けてもよく、支持体
と感光層の間に中間層を設けてもい。第4図に、
その1例を示してある。すなわち、支持体1上に
中間層7を設け、その上にCTM6aとバインダ
ー樹脂を含有するCTL3およびCGM5,CTM
6bおよびバインダー樹脂を含有するCGL2を
積層した感光層4を有し、更にバインダーを主成
分とする保護層8を設けた感光体である。 本発明の化合物は、感光体を構成するCGL、
CTL、単層構成感光層またはOCLのいずれに含
有されてもよく、複数層に含有されてもよい。本
発明の効果がより顕著に発揮されるのは、CGL
を上層としCTLを下層とする積層構成の感光体
においてである。 次に本発明に適する電荷発生物質としては、可
視光を吸収してフリー電荷を発生するものであれ
ば、無機顔料及び有機色素の何れをも用いること
ができる。無定形セレン、三方晶系セレン、セレ
ン−砒素合金、セレン−テルル合金、硫化カドミ
ウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カドミウ
ム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の
外、次の代表例で示されるような有機顔料を用い
てもよい。 (1) モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及
びチアゾールアゾ顔料等のアゾ系顔料。 (2) ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等の
ペリレン系顔料。 (3) アントラキノン誘導体、アントアントロン誘
導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラント
ロン誘導体、ビオラントロン誘導体及びイソビ
オラントロン該導体等のアントラキノン系又は
多環キノン系顔料 (4) インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等の
インジゴイド系顔料 (5) 金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン系顔料 (6) ジフエニルメタン系顔料、トリフエニルメタ
ン顔料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等
のカルボニウム系顔料 (7) アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔
料等のキノンイミン系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン
系顔料 (9) キノリン系顔料 (10) ニトロ系顔料 (11) ニトロソ系顔料 (12) ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料 (3) ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン
系顔料 電子吸引性基を有する種々のアゾ顔料が、感
度、メモリー現象、残留電位等の電子写真特性の
良好さから用いられるが耐オゾン性の点で多環キ
ノン系顔料が最も好ましい。 詳細は不明であるが、おそらくアゾ基はオゾン
酸化を受け易く電子写真特性が低下してしまう
が、多環キノン類はオゾンに対して不活性である
ためと思われる。 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、
例えば次の例示化合物群〔〕〜〔〕で示され
るものがある。
り、例えばチヌビン144、622、622LD、765、770
(チバ、ガイギー社)、マークLA−57(アデカ・ア
ーガス社)、チアソーブ944LD(チモサ社)等、市
販品を入手できる他、特開昭59−133543号公報に
記載の方法を参考にして合成することができる。 本発明の化合物の添加量は、感光体の層構成、
電荷輸送物質の種類などによつて一定でないが、
電荷輸送物質に対して0.01〜100重量%、特に好
ましくは0.1〜10重量%の範囲で用いられる。 次に本発明の感光体の構成を図面によつて説明
する。 本発明の感光体は例えば第1図に示すように支
持体1(導電性支持体またはシート上に導電層を
設けたもの)上に、電荷発生物質5(以下、
CGMということがある)と必要に応じてバイン
ダー樹脂を含有する電荷発生層2(以下、CGL
ということがある)を下層とし、電荷輸送物質6
(以下、CTMということがある)と必要に応じて
バインダー樹脂を含有する電荷輸送層3(以下、
CTLということがある)を上層とする積層構成
の感光層4を設けたもの、第2図に示すように支
持体1上にCTL3を下層とし、CGL2を上層と
する積層構成の感光層4を設けたもの、および第
3図に示すように支持体上1上にCGL、CTMお
よび必要に大じてバインダー樹脂を含有する単層
構成の感光層4を設けたもの、等が挙げられる。 また、第2図と同様の層構成で上層のCGLに
CGMとCTMの両方が含有されてもよく、感光層
の上に保護層(OCL)を設けてもよく、支持体
と感光層の間に中間層を設けてもい。第4図に、
その1例を示してある。すなわち、支持体1上に
中間層7を設け、その上にCTM6aとバインダ
ー樹脂を含有するCTL3およびCGM5,CTM
6bおよびバインダー樹脂を含有するCGL2を
積層した感光層4を有し、更にバインダーを主成
分とする保護層8を設けた感光体である。 本発明の化合物は、感光体を構成するCGL、
CTL、単層構成感光層またはOCLのいずれに含
有されてもよく、複数層に含有されてもよい。本
発明の効果がより顕著に発揮されるのは、CGL
を上層としCTLを下層とする積層構成の感光体
においてである。 次に本発明に適する電荷発生物質としては、可
視光を吸収してフリー電荷を発生するものであれ
ば、無機顔料及び有機色素の何れをも用いること
ができる。無定形セレン、三方晶系セレン、セレ
ン−砒素合金、セレン−テルル合金、硫化カドミ
ウム、セレン化カドミウム、硫セレン化カドミウ
ム、硫化水銀、酸化鉛、硫化鉛等の無機顔料の
外、次の代表例で示されるような有機顔料を用い
てもよい。 (1) モノアゾ顔料、ポリアゾ顔料、金属錯塩アゾ
顔料、ピラゾロンアゾ顔料、スチルベンアゾ及
びチアゾールアゾ顔料等のアゾ系顔料。 (2) ペリレン酸無水物及びペリレン酸イミド等の
ペリレン系顔料。 (3) アントラキノン誘導体、アントアントロン誘
導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラント
ロン誘導体、ビオラントロン誘導体及びイソビ
オラントロン該導体等のアントラキノン系又は
多環キノン系顔料 (4) インジゴ誘導体及びチオインジゴ誘導体等の
インジゴイド系顔料 (5) 金属フタロシアニン及び無金属フタロシアニ
ン等のフタロシアニン系顔料 (6) ジフエニルメタン系顔料、トリフエニルメタ
ン顔料、キサンテン顔料及びアクリジン顔料等
のカルボニウム系顔料 (7) アジン顔料、オキサジン顔料及びチアジン顔
料等のキノンイミン系顔料 (8) シアニン顔料及びアゾメチン顔料等のメチン
系顔料 (9) キノリン系顔料 (10) ニトロ系顔料 (11) ニトロソ系顔料 (12) ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料 (3) ナフタルイミド系顔料 (14) ビスベンズイミダゾール誘導体等のペリノン
系顔料 電子吸引性基を有する種々のアゾ顔料が、感
度、メモリー現象、残留電位等の電子写真特性の
良好さから用いられるが耐オゾン性の点で多環キ
ノン系顔料が最も好ましい。 詳細は不明であるが、おそらくアゾ基はオゾン
酸化を受け易く電子写真特性が低下してしまう
が、多環キノン類はオゾンに対して不活性である
ためと思われる。 前記本発明に用いられるアゾ系顔料としては、
例えば次の例示化合物群〔〕〜〔〕で示され
るものがある。
【表】
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また、以下の多環キノン顔料から成る例示化合
物群〔〕〜〔〕はCGMとしても最も好まし
く使用できる。
物群〔〕〜〔〕はCGMとしても最も好まし
く使用できる。
【表】
【表】
【表】
【表】
次に本発明で使用可能な電荷輸送物質として
は、特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導
体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、
イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾ
リン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾ
ール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾ
リン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリゾン誘
導体、フエナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−
ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等
であつてよい。 しかしながら光照射時発生するホールの支持体
側への輸送能力が優れている外、前記キヤリア発
生物質との組合せに好適なものが好ましく用いら
れ、かかるCTMとしては、例えば下記例示化合
物群〔〕又は〔〕で示されるスチル化合物が
使用される。
は、特に制限はないが、例えばオキサゾール誘導
体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導
体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導
体、イミダゾール誘導体、イミダゾロン誘導体、
イミダゾリジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導
体、スチリル化合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾ
リン誘導体、オキサゾロン誘導体、ベンゾチアゾ
ール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、キナゾ
リン誘導体、ベンゾフラン誘導体、アクリゾン誘
導体、フエナジン誘導体、アミノスチルベン誘導
体、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ−1−
ビニルピレン、ポリ−9−ビニルアントラセン等
であつてよい。 しかしながら光照射時発生するホールの支持体
側への輸送能力が優れている外、前記キヤリア発
生物質との組合せに好適なものが好ましく用いら
れ、かかるCTMとしては、例えば下記例示化合
物群〔〕又は〔〕で示されるスチル化合物が
使用される。
【表】
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【表】
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また、CTMとして下記例示化合物群〔XI〕〜
〔〕で示されるヒドラゾン化合物も使用可能
である。
〔〕で示されるヒドラゾン化合物も使用可能
である。
【表】
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【表】
また、CTMとして下記例示化合物〔〕で
示されるピラゾリン化合物も使用可能である。
示されるピラゾリン化合物も使用可能である。
【表】
【表】
【表】
また、CTMとして下記例示化合物群〔〕
で示されるアミン誘導体も使用可能である。
で示されるアミン誘導体も使用可能である。
【表】
【表】
【表】
【表】
本発明の感光体の感光層の層構成は前記のよう
に積層構成と単層構成とがあるが、表面層となる
CTL、CGL、単層感光層またはOCLのいずれか、
もしくは複数層には感度の向上、残留電位ないし
反復使用時の疲労低減等を目的として、1種また
は2種以上の電子受容性物質を含有せしめること
ができる。 本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質と
しては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、
ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、テトラブロム無水フタル
酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フ
タル酸、無水ピロメリツト酸、無水メリツト酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼ
ン、1,3,5,−トリニトロベンゼン、パラニ
トロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノ
ンクロルイミド、クロラニル、ブルマニル、2−
メチルナフトキノン、ジクロロジシアノパラベン
ゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキ
ノン、トリニトロフルオレノン、9−フルオレニ
リデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、
ポリニトロ−9−フルオレニリデン−〔ジシアノ
メチレンマロジニトリル〕、ピクリン酸、o−ニ
トロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−
ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル
酸、フタル酸等が挙げられる。 本発明において感光層に使用可能なバインダー
樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン樹脂、フエノール樹脂、ポリエステル樹
脂、アルキツド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シ
リコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、
重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。 また、前記中間層は接着層又はバリヤー層等と
して機能するもので、上記バインダー樹脂の外
に、例えばポリビニルアルコール、エチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アル
コキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。 次に前記感光層を支持する導電性支持体として
は、アルミニウム、ニツケルなどの金属板、金属
ドラム又は金属箔、アルミニウム、酸化スズ、酸
化インジウムなどを蒸着したプラスチツクフイル
ムあるいは導電性物質を塗布した紙、プラスチツ
クなどのフイルム又はドラムを使用することがで
きる。 CGLは既述のCGMを上記支持体上に真空蒸着
させる方法、CGMを適当な溶剤に単独もしくは
適当なバインダー樹脂と共に溶解もしくは分散せ
しめたものを塗布して乾燥させる方法により設け
ることができる。 上記CGMを分散せしめてCGLを形成する場
合、該当CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下
の平均粒径の粉粒体とされるのが好ましい。即
ち、粒径があまり大きいと層中への分散が悪くな
ると共に、粒子が表面に一部突出して表面の平滑
性が悪くなり、場合によつては粒子の突出部分で
放電が生じたり或いはそこにトナー粒子が付着し
てトナーフイルミング現象が生じ易い。 ただし、上記粒径があまり小さいと却つて凝集
し易く、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増え
て感度及び繰返し特性が低下したり、或いは微細
化する上で限界があるから、平均粒径の下限を
0.01μmとするのが望ましい。 CGLは、次の如き方法によつて設けられるこ
とができる。即ち、既述のCGMをボールミル、
ホモミキサー等によつて分散媒中で微細粒子と
し、バインダー樹脂を加えて混合分散して得られ
る分散液を塗布する方法である。この方法におい
て超音波の作用下に粒子を分散させると、均一分
散が可能である。 CGLの形成に用いられる溶媒としては、例え
ばN,N−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、1,2
−ジクロロエタン、ジクロロメタン、1,1,2
−トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチ
ルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙
げることができる。 CGL中のバインダー樹脂100重量当りCGMが
20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部とされ
る。CGMがこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰が
増大し、かつ受容電位が低下する。 以上のようにして形成されるCGLの膜厚は、
正帯電用構成の場合は好ましくは1〜10μm、特
に好ましくは3〜7μmであり、負帯電用構成の
場合は好ましくは0.01〜10μm、特に好ましくは
0.1〜3μmである。 また、CTLは、既述のCTMを上述のCGLと同
様にして、(即ち、単独であるいは上述のバイン
ダー樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、
乾燥して)形成することができる。 CTL中のバインダー樹脂100重量部当りCTM
が20〜200重量部、好ましくは30〜150重量部とさ
れる。 CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が
悪く残留電位が高くなり易く、又これより多いと
溶媒溶解性が悪くなる。 形成されるCTMの膜厚は、好ましくは5〜
50μm、特に好ましくは5〜30μmである。また、
CGLとCTLの膜厚比は1:(1〜30)であるのが
好ましい。 前記単層構成の場合、CGMがバインダー樹脂
に含有される割合は、バインダー樹脂100重量部
に対して20〜200重量部、好ましくは25〜100重量
部とされる。 CGMの含有割合がこれより少ないと光感度が
低く、残留電位の増加を招き、又これより多いと
暗減衰及び受容電位が低下する。 次にCTMがバインダー樹脂に対して含有され
る割合は、バインダー樹脂100重量部に対して20
〜200重量部、好ましくは30〜150重量部とされ
る。 CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が
悪く残留電位が高くなり易く、又これより多いと
溶媒溶解性が悪くなる。 単層構成の感光層中のCGMに対するCTMの量
比は重量比で1:3〜1:2とするのが好まし
い。本発明において必要に応じて設けられる保護
層はバインダーとしては、体積抵抗108Ω・cm以
上、好ましくは1010Ω・cm以上、より好ましくは
1013Ω・cm以上の透明樹脂が用いられる。又前記
バインダーは光又は熱により硬化する樹脂を少な
くとも50重量%以上含有するものとされる。 かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、
例えば熱硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、フエノー
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキツド樹脂、メ
ラミン樹脂、光硬化性・桂皮酸樹脂等又はこれら
の共重合もしくは共縮合樹脂があり、その外電子
写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の全てが
利用される。又前記保護層中には加工性及び物性
の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として
必要により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有せし
めることができる。かかる熱可塑性樹脂として
は、例えばポリプロピレン、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、
エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの供重合樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体、その他電子写真材料に供され
る熱可塑性樹脂の全てが利用される。 また前記保護層は、電子受容性物質を含有して
もよく、その他、必要によりCGMを保護する目
的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、前記バイ
ンダーと共に溶剤に溶解され、例えばデイツプ塗
布、スプレー塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
により塗布・乾燥されて2μm以下、好ましくは
1μm以下の層厚に形成される。
に積層構成と単層構成とがあるが、表面層となる
CTL、CGL、単層感光層またはOCLのいずれか、
もしくは複数層には感度の向上、残留電位ないし
反復使用時の疲労低減等を目的として、1種また
は2種以上の電子受容性物質を含有せしめること
ができる。 本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質と
しては、例えば無水コハク酸、無水マレイン酸、
ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラ
クロル無水フタル酸、テトラブロム無水フタル
酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フ
タル酸、無水ピロメリツト酸、無水メリツト酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼ
ン、1,3,5,−トリニトロベンゼン、パラニ
トロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノ
ンクロルイミド、クロラニル、ブルマニル、2−
メチルナフトキノン、ジクロロジシアノパラベン
ゾキノン、アントラキノン、ジニトロアントラキ
ノン、トリニトロフルオレノン、9−フルオレニ
リデン〔ジシアノメチレンマロノジニトリル〕、
ポリニトロ−9−フルオレニリデン−〔ジシアノ
メチレンマロジニトリル〕、ピクリン酸、o−ニ
トロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジ
ニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−
ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル
酸、フタル酸等が挙げられる。 本発明において感光層に使用可能なバインダー
樹脂としては、例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン樹脂、フエノール樹脂、ポリエステル樹
脂、アルキツド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シ
リコン樹脂、メラミン樹脂等の付加重合型樹脂、
重付加型樹脂、重縮合型樹脂、並びにこれらの樹
脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を含む共重合
体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
共重合体樹脂等の絶縁性樹脂の他、ポリ−N−ビ
ニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。 また、前記中間層は接着層又はバリヤー層等と
して機能するもので、上記バインダー樹脂の外
に、例えばポリビニルアルコール、エチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロース、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体、カゼイン、N−アル
コキシメチル化ナイロン、澱粉等が用いられる。 次に前記感光層を支持する導電性支持体として
は、アルミニウム、ニツケルなどの金属板、金属
ドラム又は金属箔、アルミニウム、酸化スズ、酸
化インジウムなどを蒸着したプラスチツクフイル
ムあるいは導電性物質を塗布した紙、プラスチツ
クなどのフイルム又はドラムを使用することがで
きる。 CGLは既述のCGMを上記支持体上に真空蒸着
させる方法、CGMを適当な溶剤に単独もしくは
適当なバインダー樹脂と共に溶解もしくは分散せ
しめたものを塗布して乾燥させる方法により設け
ることができる。 上記CGMを分散せしめてCGLを形成する場
合、該当CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下
の平均粒径の粉粒体とされるのが好ましい。即
ち、粒径があまり大きいと層中への分散が悪くな
ると共に、粒子が表面に一部突出して表面の平滑
性が悪くなり、場合によつては粒子の突出部分で
放電が生じたり或いはそこにトナー粒子が付着し
てトナーフイルミング現象が生じ易い。 ただし、上記粒径があまり小さいと却つて凝集
し易く、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増え
て感度及び繰返し特性が低下したり、或いは微細
化する上で限界があるから、平均粒径の下限を
0.01μmとするのが望ましい。 CGLは、次の如き方法によつて設けられるこ
とができる。即ち、既述のCGMをボールミル、
ホモミキサー等によつて分散媒中で微細粒子と
し、バインダー樹脂を加えて混合分散して得られ
る分散液を塗布する方法である。この方法におい
て超音波の作用下に粒子を分散させると、均一分
散が可能である。 CGLの形成に用いられる溶媒としては、例え
ばN,N−ジメチルホルムアミド、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、モノクロルベンゼン、1,2
−ジクロロエタン、ジクロロメタン、1,1,2
−トリクロロエタン、テトラヒドロフラン、メチ
ルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等を挙
げることができる。 CGL中のバインダー樹脂100重量当りCGMが
20〜200重量部、好ましくは25〜100重量部とされ
る。CGMがこれより少ないと光感度が低く、残
留電位の増加を招き、又これより多いと暗減衰が
増大し、かつ受容電位が低下する。 以上のようにして形成されるCGLの膜厚は、
正帯電用構成の場合は好ましくは1〜10μm、特
に好ましくは3〜7μmであり、負帯電用構成の
場合は好ましくは0.01〜10μm、特に好ましくは
0.1〜3μmである。 また、CTLは、既述のCTMを上述のCGLと同
様にして、(即ち、単独であるいは上述のバイン
ダー樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、
乾燥して)形成することができる。 CTL中のバインダー樹脂100重量部当りCTM
が20〜200重量部、好ましくは30〜150重量部とさ
れる。 CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が
悪く残留電位が高くなり易く、又これより多いと
溶媒溶解性が悪くなる。 形成されるCTMの膜厚は、好ましくは5〜
50μm、特に好ましくは5〜30μmである。また、
CGLとCTLの膜厚比は1:(1〜30)であるのが
好ましい。 前記単層構成の場合、CGMがバインダー樹脂
に含有される割合は、バインダー樹脂100重量部
に対して20〜200重量部、好ましくは25〜100重量
部とされる。 CGMの含有割合がこれより少ないと光感度が
低く、残留電位の増加を招き、又これより多いと
暗減衰及び受容電位が低下する。 次にCTMがバインダー樹脂に対して含有され
る割合は、バインダー樹脂100重量部に対して20
〜200重量部、好ましくは30〜150重量部とされ
る。 CTMの含有割合がこれより少ないと光感度が
悪く残留電位が高くなり易く、又これより多いと
溶媒溶解性が悪くなる。 単層構成の感光層中のCGMに対するCTMの量
比は重量比で1:3〜1:2とするのが好まし
い。本発明において必要に応じて設けられる保護
層はバインダーとしては、体積抵抗108Ω・cm以
上、好ましくは1010Ω・cm以上、より好ましくは
1013Ω・cm以上の透明樹脂が用いられる。又前記
バインダーは光又は熱により硬化する樹脂を少な
くとも50重量%以上含有するものとされる。 かかる光又は熱により硬化する樹脂としては、
例えば熱硬化性アクリル樹脂、シリコン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂、フエノー
ル樹脂、ポリエステル樹脂、アルキツド樹脂、メ
ラミン樹脂、光硬化性・桂皮酸樹脂等又はこれら
の共重合もしくは共縮合樹脂があり、その外電子
写真材料に供される光又は熱硬化性樹脂の全てが
利用される。又前記保護層中には加工性及び物性
の改良(亀裂防止、柔軟性付与等)を目的として
必要により熱可塑性樹脂を50重量%未満含有せし
めることができる。かかる熱可塑性樹脂として
は、例えばポリプロピレン、アクリル樹脂、メタ
クリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、
エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、シリコン樹脂、又はこれらの供重合樹
脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共
重合体樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール等の
高分子有機半導体、その他電子写真材料に供され
る熱可塑性樹脂の全てが利用される。 また前記保護層は、電子受容性物質を含有して
もよく、その他、必要によりCGMを保護する目
的で紫外線吸収剤等を含有してもよく、前記バイ
ンダーと共に溶剤に溶解され、例えばデイツプ塗
布、スプレー塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
により塗布・乾燥されて2μm以下、好ましくは
1μm以下の層厚に形成される。
以下、本発明を実施例により説明するが、これ
により本発明の実施の態様が限定されるものでは
ない。 実施例 1 アルミニウム箔をラミネートしたポリエステル
フイルムより成る導電性支持体上に、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エスレ
ツクMF−10、積水化学工業社製)よりなる厚さ
0.1μmの中間層を形成した。 次いでCTM(−75)/ポリカーボネート樹脂
(パンライトL−1250、帝人化成社製)=75/100
(重量比)を16.5重量%含有する1,2−ジクロ
ロエタン溶液を前記中間層上にデイツプ塗布、乾
燥して15μm厚のCTLを得た。 次いでCGMとして昇華した4,10−ジブロモ
アンスアンスロン(−3)/パンライトL−
1250=50/100(重量比)をボールミルで24時間粉
砕し、9重量%になるよう1,2−ジクロロエタ
ンを加えて更にボールミルで24時間分散した液に
CTM(−75)をパンライトL−1250に対して75
重量%および本発明の化合物(8)をCTMに対して
0.5重量%加えた。この分散液にモノクロロベン
ゼンを加えてモノクロロベンゼン/1,2−ジク
ロロエタン=3/7(体積比)になるように調製
したものをCTL上にスプレー塗布方法により厚
さ5μmのCGLを形成し、積層構成の感光層を有
する本発明の感光体を得た。 比較例 1 CGLの化合物(8)を除いた以外は実施例1と同
様にして比較用の感光体を得た。 実施例 2 実施例1における化合物(8)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例1と同様にして本発明の
感光体を得た。 実施例 3 実施例1のCGLから化合物(8)を除いた感光体
(比較例1の感光体と同じ)上に、熱硬化性アク
リル−メラミン−エポキシ(1:1:1)樹脂
1.55重量部および本発明の化合物(9)0.00078重量
部をモノクロロベンゼン/1,1,2−トリクロ
ロエタン(1/1体積比)混合溶媒100重量部中
に溶解して得られた塗布液をスプレー塗布、乾燥
して1μm厚の保護層を形成し、本発明の感光体
を得た。 実施例 4 実施例1のCGLから化合物(8)を除いた感光体
上に、シリコンハードコート用プライマーPH91
(東芝シリコン社製)を0.1μm厚にスプレー塗布
し、更にその上にシリコンハードコートトスガー
ド510(東芝シリコン社製)100重量部に化合物(8)
10重量部からなる溶液をスプレー塗布、乾燥して
1μmの保護層を形成し、本発明お感光体を得た。 実施例 5 アルミニウム箔をラミネートしたポリエステル
フイルムより成る導電性支持体上に実施例1と全
く同様の中間層を形成した。 次いでCTL用塗布液として、ブチラール樹脂
(エレツクスBX−1、積水化学社製)が8重量
%、CTM(−75)が6重量%となるようメチル
エチルケトンに溶解して得られる溶液を前記中間
層上に塗布、乾燥して10μm厚のCTLを形成し
た。 次いでCGM(−7)0.2gをペイントコンデ
イイシヨナー(Paint Conditioner、Red Devil
社製)で30分粉砕し、これにカーボネート樹脂
(パンライトL−1250、前出)を1,2−ジクロ
ロエタン/1,1,2−トリクロロエタン混合溶
媒に0.5重量%となるよう溶解させた溶液を8.3g
加えて3分間分散した後、これにポリカーボネー
ト樹脂、CTM(−75)および化合物(8)を、それ
ぞれ3.3重量%、2.6重量%および0.026重量%とな
るよう1.2−ジクロロエタン/1,1,2−トリ
クロロエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液
19.1gを加えて更に30分間分散した。かくして得
られた分散液を前記CTL上にスプレー塗布し、
かつ乾燥して5μm厚のCGLを形成し、積層構成
の感光層を有する本発明に係る感光体を得た。 比較例 2 CGL中の化合物(8)を除いた以外は実施例5と
同様にして比較用の感光体を得た。 実施例 6 実施例5における化合物(8)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の
感光体を得た。 実施例 7 実施例5のCGLから化合物(8)を除いた感光体
(比較例3の感光体と同じ)上に、実施例3に用
いた化合物(8)を含有する保護層を設け、本発明の
感光体を得た。 実施例 8 実施例5のCGLから化合物(8)を除いた感光体
上に、実施例4に用いた化合物(8)を含有する保護
層を設け、本発明の感光体を得た。 実施例 9 アルミニウムを蒸着したポリエステルフイルム
上に、実施例1と全く同様の中間層を形成した。 次いで昇華した4,10−ジブロモアンスアンス
ロン(−3)40gを磁製ボールミルにて40rpm
で24時間粉砕し、パンライトL−1250(前出)20
gと1,2−ジクロロエタン1300mlを加え、更に
24時間分散してCGL用塗布液とした。これを前
記中間層上に塗布し膜厚1μmのCGLを設けた。 次いでCTM(−61)7.5g、パンライトL−
1250 10gおよび化合物(8)0.075gを1,2−ジク
ロロエタン80mlに溶解した溶液を前記CGL上に
塗布して膜厚15μmのCTLを形成し、本発明の感
光体を作成した。 比較例 3 CTL中の化合物(8)を除いた以外は実施例9と
同様にして比較用の感光体を得た。 実施例 10 アルミニウムを蒸着した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレートから成る導電性支持体上
に、実施例1と全く同様の中間層を形成した。 次いでCGLとしてビスアゾ化合物(−7)
1.5gを1,2−ジクロロエタン/モノエタノー
ルアミン(1000/1体積比)混合溶媒100ml中に
ボールミルで8時間分散させた分散液を上記中間
層上に塗布し、充分乾燥して0.3μm厚のCGLを設
けた。 次いでCTMとしてスチレン化合物(−43)
11.25g、パンライトL−1250(前出)15gおよび
化合物(8)0.1125gを1,2−ジクロロエタン100
mlに溶解した溶液を前記CGL上に塗布し、充分
乾燥して15μm厚のCTLを形成し、本発明の感光
体を作成した。 比較例 4 CTL中の化合物(8)を除いた以外は実施例10と
同様にして比較用の感光体を作成した。 このようにして得られた14種の感光体を次のよ
うにして耐オゾン性評価した。すなわち、静電試
験機(川口電機製作所製、SP−428型)にオゾン
発生器(日本オゾン株式会社製、0−1−2型)
およびオゾンモニター(エバラ実業株式会社製、
EG−2001型)を取り付けたオゾン疲労試験機を
用い、オゾン濃度90ppmにおいて感光体を蒸着
し、以下の特性試験を行つた。すなわち、正常電
用感光体の場合は+6KV、負帯電用感光体の場
合は−6KVの電圧を印加して5秒間コロナ放電
により感光層を帯電させた後5秒間放置(この時
の電位を初期電位Voとする)し、次いで感光層
の表面における照度が14ルツクスとなる状態でタ
ングステンランプよりの光を照射し、この操作を
100回くり返した。100回後の残留電位VIを測定
し、VI/Vo×100(%)により耐オゾン性を評価
した。VI/Vo×100(%)の数値が大きい程、オ
ゾン劣化が少ないことを示す。 結果を別表に示す。
により本発明の実施の態様が限定されるものでは
ない。 実施例 1 アルミニウム箔をラミネートしたポリエステル
フイルムより成る導電性支持体上に、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体(エスレ
ツクMF−10、積水化学工業社製)よりなる厚さ
0.1μmの中間層を形成した。 次いでCTM(−75)/ポリカーボネート樹脂
(パンライトL−1250、帝人化成社製)=75/100
(重量比)を16.5重量%含有する1,2−ジクロ
ロエタン溶液を前記中間層上にデイツプ塗布、乾
燥して15μm厚のCTLを得た。 次いでCGMとして昇華した4,10−ジブロモ
アンスアンスロン(−3)/パンライトL−
1250=50/100(重量比)をボールミルで24時間粉
砕し、9重量%になるよう1,2−ジクロロエタ
ンを加えて更にボールミルで24時間分散した液に
CTM(−75)をパンライトL−1250に対して75
重量%および本発明の化合物(8)をCTMに対して
0.5重量%加えた。この分散液にモノクロロベン
ゼンを加えてモノクロロベンゼン/1,2−ジク
ロロエタン=3/7(体積比)になるように調製
したものをCTL上にスプレー塗布方法により厚
さ5μmのCGLを形成し、積層構成の感光層を有
する本発明の感光体を得た。 比較例 1 CGLの化合物(8)を除いた以外は実施例1と同
様にして比較用の感光体を得た。 実施例 2 実施例1における化合物(8)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例1と同様にして本発明の
感光体を得た。 実施例 3 実施例1のCGLから化合物(8)を除いた感光体
(比較例1の感光体と同じ)上に、熱硬化性アク
リル−メラミン−エポキシ(1:1:1)樹脂
1.55重量部および本発明の化合物(9)0.00078重量
部をモノクロロベンゼン/1,1,2−トリクロ
ロエタン(1/1体積比)混合溶媒100重量部中
に溶解して得られた塗布液をスプレー塗布、乾燥
して1μm厚の保護層を形成し、本発明の感光体
を得た。 実施例 4 実施例1のCGLから化合物(8)を除いた感光体
上に、シリコンハードコート用プライマーPH91
(東芝シリコン社製)を0.1μm厚にスプレー塗布
し、更にその上にシリコンハードコートトスガー
ド510(東芝シリコン社製)100重量部に化合物(8)
10重量部からなる溶液をスプレー塗布、乾燥して
1μmの保護層を形成し、本発明お感光体を得た。 実施例 5 アルミニウム箔をラミネートしたポリエステル
フイルムより成る導電性支持体上に実施例1と全
く同様の中間層を形成した。 次いでCTL用塗布液として、ブチラール樹脂
(エレツクスBX−1、積水化学社製)が8重量
%、CTM(−75)が6重量%となるようメチル
エチルケトンに溶解して得られる溶液を前記中間
層上に塗布、乾燥して10μm厚のCTLを形成し
た。 次いでCGM(−7)0.2gをペイントコンデ
イイシヨナー(Paint Conditioner、Red Devil
社製)で30分粉砕し、これにカーボネート樹脂
(パンライトL−1250、前出)を1,2−ジクロ
ロエタン/1,1,2−トリクロロエタン混合溶
媒に0.5重量%となるよう溶解させた溶液を8.3g
加えて3分間分散した後、これにポリカーボネー
ト樹脂、CTM(−75)および化合物(8)を、それ
ぞれ3.3重量%、2.6重量%および0.026重量%とな
るよう1.2−ジクロロエタン/1,1,2−トリ
クロロエタン混合溶媒に溶解して得られる溶液
19.1gを加えて更に30分間分散した。かくして得
られた分散液を前記CTL上にスプレー塗布し、
かつ乾燥して5μm厚のCGLを形成し、積層構成
の感光層を有する本発明に係る感光体を得た。 比較例 2 CGL中の化合物(8)を除いた以外は実施例5と
同様にして比較用の感光体を得た。 実施例 6 実施例5における化合物(8)に代えて、化合物(2)
を添加した以外は実施例5と同様にして本発明の
感光体を得た。 実施例 7 実施例5のCGLから化合物(8)を除いた感光体
(比較例3の感光体と同じ)上に、実施例3に用
いた化合物(8)を含有する保護層を設け、本発明の
感光体を得た。 実施例 8 実施例5のCGLから化合物(8)を除いた感光体
上に、実施例4に用いた化合物(8)を含有する保護
層を設け、本発明の感光体を得た。 実施例 9 アルミニウムを蒸着したポリエステルフイルム
上に、実施例1と全く同様の中間層を形成した。 次いで昇華した4,10−ジブロモアンスアンス
ロン(−3)40gを磁製ボールミルにて40rpm
で24時間粉砕し、パンライトL−1250(前出)20
gと1,2−ジクロロエタン1300mlを加え、更に
24時間分散してCGL用塗布液とした。これを前
記中間層上に塗布し膜厚1μmのCGLを設けた。 次いでCTM(−61)7.5g、パンライトL−
1250 10gおよび化合物(8)0.075gを1,2−ジク
ロロエタン80mlに溶解した溶液を前記CGL上に
塗布して膜厚15μmのCTLを形成し、本発明の感
光体を作成した。 比較例 3 CTL中の化合物(8)を除いた以外は実施例9と
同様にして比較用の感光体を得た。 実施例 10 アルミニウムを蒸着した厚さ100μmのポリエ
チレンテレフタレートから成る導電性支持体上
に、実施例1と全く同様の中間層を形成した。 次いでCGLとしてビスアゾ化合物(−7)
1.5gを1,2−ジクロロエタン/モノエタノー
ルアミン(1000/1体積比)混合溶媒100ml中に
ボールミルで8時間分散させた分散液を上記中間
層上に塗布し、充分乾燥して0.3μm厚のCGLを設
けた。 次いでCTMとしてスチレン化合物(−43)
11.25g、パンライトL−1250(前出)15gおよび
化合物(8)0.1125gを1,2−ジクロロエタン100
mlに溶解した溶液を前記CGL上に塗布し、充分
乾燥して15μm厚のCTLを形成し、本発明の感光
体を作成した。 比較例 4 CTL中の化合物(8)を除いた以外は実施例10と
同様にして比較用の感光体を作成した。 このようにして得られた14種の感光体を次のよ
うにして耐オゾン性評価した。すなわち、静電試
験機(川口電機製作所製、SP−428型)にオゾン
発生器(日本オゾン株式会社製、0−1−2型)
およびオゾンモニター(エバラ実業株式会社製、
EG−2001型)を取り付けたオゾン疲労試験機を
用い、オゾン濃度90ppmにおいて感光体を蒸着
し、以下の特性試験を行つた。すなわち、正常電
用感光体の場合は+6KV、負帯電用感光体の場
合は−6KVの電圧を印加して5秒間コロナ放電
により感光層を帯電させた後5秒間放置(この時
の電位を初期電位Voとする)し、次いで感光層
の表面における照度が14ルツクスとなる状態でタ
ングステンランプよりの光を照射し、この操作を
100回くり返した。100回後の残留電位VIを測定
し、VI/Vo×100(%)により耐オゾン性を評価
した。VI/Vo×100(%)の数値が大きい程、オ
ゾン劣化が少ないことを示す。 結果を別表に示す。
【表】
【表】
表からも明らかなように、本発明の化合物を添
加することにより、オゾン存在下におけるコロナ
帯電での電位低下が著しく改善される。
加することにより、オゾン存在下におけるコロナ
帯電での電位低下が著しく改善される。
第1図〜第4図は本発明の感光体の断面図であ
る。 1……支持体、2……電荷発生層(CGL)、3
……電荷輸送層(CTL)、4……感光層、5……
電荷発生物質(CGM)、6……電荷輸送物質
(CTM)、7……中間層、8……保護層(OCL)。
る。 1……支持体、2……電荷発生層(CGL)、3
……電荷輸送層(CTL)、4……感光層、5……
電荷発生物質(CGM)、6……電荷輸送物質
(CTM)、7……中間層、8……保護層(OCL)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導電性支持体上に電荷発生物質および電荷輸
送物質を主要構成成分として含有する感光層を設
けた電子写真感光体において、感光層中に下記構
造式(a)、(b)および(c)の少なくとも1つを分子中に
有する化合物を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 構造式(a)【式】 構造式(b)【式】 構造式(c)【式】 〔式中、R1およびR2はそれぞれ水素原子または
有機置換基を表すが、R1が水素原子の場合、構
造式(a)は分子中に2つ以上含まれる。〕
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16286786A JPS6318355A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 電子写真感光体 |
| GB8805160A GB2201254B (en) | 1986-07-10 | 1987-07-09 | Electrophotographic photosensitive material |
| DE3790394A DE3790394C2 (de) | 1986-07-10 | 1987-07-09 | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial |
| PCT/JP1987/000489 WO1988000725A1 (fr) | 1986-07-10 | 1987-07-09 | Materiau photosensible electrophotographique |
| DE19873790394 DE3790394T1 (ja) | 1986-07-10 | 1987-07-09 | |
| US07/180,816 US4952470A (en) | 1986-07-10 | 1987-07-09 | Electrophotographic photosensitive member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16286786A JPS6318355A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6318355A JPS6318355A (ja) | 1988-01-26 |
| JPH0567230B2 true JPH0567230B2 (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=15762769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16286786A Granted JPS6318355A (ja) | 1986-07-10 | 1986-07-10 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6318355A (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2761007B2 (ja) * | 1988-11-21 | 1998-06-04 | 三田工業株式会社 | 電子写真感光体 |
| EP0646580B1 (de) | 1993-09-16 | 2000-05-31 | Ciba SC Holding AG | Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen |
| JP2000353760A (ja) | 1999-06-10 | 2000-12-19 | Sony Chem Corp | 半導体素子搭載用中継基板の製造方法 |
| JP3968089B2 (ja) | 2004-05-25 | 2007-08-29 | シャープ株式会社 | 電子写真感光体およびそれを備える画像形成装置 |
| JP4798494B2 (ja) | 2006-04-07 | 2011-10-19 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| JP4316634B2 (ja) | 2007-05-10 | 2009-08-19 | シャープ株式会社 | エナミン化合物を含有する電子写真感光体とそれを備えた画像形成装置およびエナミン化合物とその製造方法 |
| JP4436864B2 (ja) | 2007-11-16 | 2010-03-24 | シャープ株式会社 | 電子写真感光体及び画像形成装置 |
| US8110752B2 (en) | 2008-04-08 | 2012-02-07 | Ibiden Co., Ltd. | Wiring substrate and method for manufacturing the same |
| WO2011108064A1 (ja) | 2010-03-01 | 2011-09-09 | 富士電機システムズ株式会社 | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| WO2012077206A1 (ja) | 2010-12-09 | 2012-06-14 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体およびその製造方法 |
| JP6311839B2 (ja) | 2015-06-11 | 2018-04-18 | 富士電機株式会社 | 電子写真用感光体、その製造方法および電子写真装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5331726B2 (ja) * | 1973-08-23 | 1978-09-04 | ||
| JPS594633B2 (ja) * | 1976-09-04 | 1984-01-31 | 川崎重工業株式会社 | セメント等粉粒体原料の焼成装置 |
| JPS57122444A (en) * | 1981-01-23 | 1982-07-30 | Canon Inc | Electrophotographic receptor |
| JPH0677154B2 (ja) * | 1984-07-27 | 1994-09-28 | ミノルタカメラ株式会社 | 電子写真用感光体 |
-
1986
- 1986-07-10 JP JP16286786A patent/JPS6318355A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6318355A (ja) | 1988-01-26 |
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| JPS63159860A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPS63153554A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH0555077B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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| S533 | Written request for registration of change of name |
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