JPH11153703A - 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大量生産に適し、屈折率が非常に高く、強度
が優れた高屈折率層を有する反射防止膜を得る。 【解決手段】 反射防止膜の高屈折率層に、１乃至２０
０ｎｍの平均粒径を有する無機微粒子を５乃至６５体積
％および架橋しているアニオン性ポリマーを３５乃至９
５体積％含ませる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高屈折率層と低屈
折率層とを有する反射防止膜およびそれを用いた画像表
示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けら
れている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止膜が設け
られている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄
膜を積層させた多層膜が従来から普通に用いられてい
る。複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反
射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化
学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理
蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学
的性質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性
が低く大量生産に適していない。蒸着法に代えて、無機
微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案さ
れている。

【０００３】特公昭６０−５９２５０号公報は、微細空
孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示してい
る。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔
は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層か
ら離脱することによって形成される。特開昭５９−５０
４０１号公報は、支持体、高屈折率層および低屈折率層
の順に積層した反射防止膜を開示している。同公報は、
支持体と高屈折率層の間に中屈折率層を設けた反射防止
膜も開示している。低屈折率層は、ポリマーまたは無機
微粒子の塗布により形成されている。特開平２−２４５
７０２号公報は、二種類以上の超微粒子（例えば、Ｍｇ
Ｆ₂とＳｉＯ₂ ）を混在させて、膜厚方向にその混合比
を変化させた反射防止膜を開示している。混合比を変化
させることにより屈折率を変化させ、上記特開昭５９−
５０４０１号公報に記載されている高屈折率層と低屈折
率層を設けた反射防止膜と同様の光学的性質を得てい
る。超微粒子は、エチルシリケートの熱分解で生じたＳ
ｉＯ₂ により接着している。エチルシリケートの熱分解
では、エチル部分の燃焼によって、二酸化炭素と水蒸気
も発生する。同公報の第１図に示されているように、二
酸化炭素と水蒸気が層から離脱することにより、超微粒
子の間に間隙が生じている。特開平５−１３０２１号公
報は、上記特開平２−２４５７０２号公報記載の反射防
止膜に存在する超微粒子間隙をバインダーで充填するこ
とを開示している。特開平７−４８５２７号公報は、多
孔質シリカよりなる無機微粉末とバインダーとを含有す
る反射防止膜を開示している。特開平８−１１０４０１
号、同８−１７９１２３号の各公報には、プラスチック
中に高屈折率の無機微粒子を導入することで、屈折率
１．８０以上の高屈折率皮膜を形成し、反射防止膜に適
用することが開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、反射防止
膜の高屈折率層への無機微粒子の導入について、研究を
進めた。無機微粒子の塗布により高屈折率層を形成する
方法は、生産性が高く大量生産に適している。しかし、
本発明者の研究により、高屈折率層に無機微粒子を導入
すると、解決すべき問題が生じることが判明した。無機
微粒子を微細に分散し、その微細な分散状態を保ったま
ま高屈折率層を形成することが難しい。高屈折率層を透
明な皮膜として形成するためには、無機微粒子を微細か
つ均一に層内に分散させる必要がある。無機微粒子の分
散手段としては、界面活性剤や分散用（アニオン性また
はカチオン性）ポリマーの使用が知られている。しか
し、これらの分散手段は、高屈折率層の形成段階におい
てのみ機能する。高屈折率層の形成後は、これらの分散
手段は全く機能しないだけではなく、高屈折率層の物理
的強度（耐磨耗性）や化学的強度（耐薬品性）を劣化さ
せてしまう。

【０００５】本発明の目的は、大量生産に適した反射防
止膜を提供することである。また、本発明の目的は、屈
折率が非常に高く透明な高屈折率層を有する反射防止膜
を提供することでもある。さらに、本発明の目的は、強
度が優れた高屈折率層を有する反射防止膜を提供するこ
とでもある。さらにまた、本発明の目的は、適切な手段
により反射が防止されている画像表示装置を提供するこ
とでもある。

【０００６】本発明の目的は、下記（１）〜（６）の反
射防止膜および下記（７）の画像表示装置により達成さ
れた。 （１）屈折率が１．６５乃至２．４０である高屈折率層
と、屈折率が１．２０乃至１．５５である低屈折率層と
を有する反射防止膜であって、高屈折率層が、１乃至２
００ｎｍの平均粒径を有する無機微粒子を５乃至６５体
積％および架橋しているアニオン性基を有するポリマー
を３５乃至９５体積％含むことを特徴とする反射防止
膜。 （２）高屈折率層のアニオン性基を有するポリマーが、
リン酸基またはスルホン酸基をアニオン性基として有す
る（１）に記載の反射防止膜。 （３）高屈折率層のアニオン性基を有するポリマーが、
さらにアミノ基またはアンモニウム基を有する（１）に
記載の反射防止膜。 （４）高屈折率層の無機微粒子が、１．８０乃至２．８
０の屈折率を有する（１）に記載の反射防止膜。 （５）高屈折率層が塗布により形成された層であり、ア
ニオン性基を有するポリマーが層の塗布と同時または塗
布後に、重合反応により形成されたポリマーである
（１）に記載の反射防止膜。

【０００７】（６）低屈折率層が、０．５乃至２００ｎ
ｍの平均粒径を有する無機微粒子を５０乃至９５重量％
およびポリマーを５乃至５０重量％含み、該無機微粒子
を少なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間に
ミクロボイドが形成されている層である（１）に記載の
反射防止膜。 （７）屈折率が１．６５乃至２．４０である高屈折率層
と、屈折率が１．２０乃至１．５５である低屈折率層と
を有し、高屈折率層が、１乃至２００ｎｍの平均粒径を
有する無機微粒子を５乃至６５体積％および架橋してい
るアニオン性基を有するポリマーを３５乃至９５体積％
含む反射防止膜を、高屈折率層が画像表示装置側となる
ように配置したことを特徴とする画像表示装置。

【０００８】本発明者が研究を進めた結果、高屈折率層
において架橋しているアニオン性基を有するポリマーを
３５乃至９５体積％用いることで、高屈折率層の無機微
粒子を微細に分散し、その微細な分散状態を保ったまま
層を形成することに成功した。アニオン性基を有するポ
リマーは、高屈折率層の形成前のアニオン性モノマーの
状態において、無機微粒子の優れた分散剤として機能す
る。そして、アニオン性モノマーを高屈折率層の形成後
に、重合および架橋させることにより、架橋しているア
ニオン性基を有するポリマーが形成される。架橋してい
るアニオン性基を有するポリマーによって、無機微粒子
が強固に結合し、強度が優れた高屈折率層が得られる。
以上のように改良された高屈折率層を有する反射防止膜
は、塗布により簡単に製造することができ、大量生産に
適している。この反射防止膜を用いることで、画像表示
装置の画像表示面における光の反射を有効に防止するこ
とができる。

【０００９】

【発明の実施の形態】（反射防止膜の層構成）反射防止
膜の層構成を図１を引用しながら説明する。図１は、反
射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図である。図１
の（ａ）に示す態様は、透明支持体（４）、ハードコー
ト層（３）、高屈折率層（２）、そして低屈折率層
（１）の順序の層構成を有する。（ａ）のように、高屈
折率層（２）と低屈折率層（１）とを有する反射防止膜
では、特開昭５９−５０４０１号公報に記載されている
ように、高屈折率層が下記式（Ｉ）、低屈折率層が下記
式（II）をそれぞれ満足することが好ましい。

【００１０】

【数１】

【００１１】式中、ｍは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ１は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ１は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１２】

【数２】

【００１３】式中、ｎは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ２は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は低屈
折率層の層厚（ｎｍ）である。図１の（ｂ）に示す態様
は、透明支持体（４）、ハードコート層（３）、中屈折
率層（５）、高屈折率層（２）、そして低屈折率層
（１）の順序の層構成を有する。（ｂ）のように、中屈
折率層（５）、高屈折率層（２）と低屈折率層（１）と
を有する反射防止膜では、特開昭５９−５０４０１号公
報に記載されているように、中屈折率層が下記式（II
I)、高屈折率層が下記式（IV）、低屈折率層が下記式
（Ｖ）をそれぞれ満足することが好ましい。

【００１４】

【数３】

【００１５】式中、ｈは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ３は中屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ３は中屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１６】

【数４】

【００１７】式中、ｊは正の整数（一般に１、２または
３）であり、ｎ４は高屈折率層の屈折率であり、そし
て、ｄ４は高屈折率層の層厚（ｎｍ）である。

【００１８】

【数５】

【００１９】式中、ｋは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ５は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ５は低屈
折率層の層厚（ｎｍ）である。以上の層構成を有する反
射防止膜に、本発明に従い改良された高屈折率層を用い
る。

【００２０】（高屈折率層）図２は、高屈折率層の断面
模式図である。図２の高屈折率層の上側に低屈折率層が
あり、下側に画像表示装置またはレンズがある。図２に
示すように、高屈折率層（２）は、空孔がなく、無機微
粒子（２１）の間にポリマー（２２）が充填されている
層である。高屈折率層（２）内では、平均粒径が１乃至
２００ｎｍの無機微粒子（２１）が（図２では３個）積
み重なっている。そして、無機微粒子（２１）の間に、
架橋しているアニオン性基を有するポリマー（２２）が
充填されている。高屈折率層の屈折率は、１．６５乃至
２．４０である。屈折率は、１．７０乃至２．２０であ
ることが好ましい。屈折率は、アッベ屈折率計を用いる
測定や、層表面からの光の反射率からの見積もりにより
求めることができる。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至
１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至１μｍで
あることがさらに好ましく、３０ｎｍ乃至０．５μｍで
あることが最も好ましい。高屈折率層のヘイズは、５％
以下であることが好ましく、３％以下であることがさら
に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。本発
明に従い改良された高屈折率層は、強度が優れている。
具体的な高屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で
Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさ
らに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

【００２１】（高屈折率層の無機微粒子）高屈折率層に
用いる無機微粒子は、屈折率が１．８０乃至２．８０で
あることが好ましく、１．９０乃至２．８０であること
がさらに好ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径
は、１乃至１５０ｎｍであることが好ましく、１乃至１
００ｎｍであることがさらに好ましく、１乃至８０ｎｍ
であることが最も好ましい。形成される高屈折率層中の
無機微粒子の重量平均径は、１乃至２００ｎｍである。
高屈折率層中の無機微粒子の重量平均径は、５乃至１５
０ｎｍであることが好ましく、１０乃至１００ｎｍであ
ることがさらに好ましく、１０乃至８０ｎｍであること
が最も好ましい。無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電
子顕微鏡写真により測定できる。無機微粒子の比表面積
は、１０乃至４００ｍ² ／ｇであることが好ましく、２
０乃至２００ｍ² ／ｇであることがさらに好ましく、３
０乃至１５０ｍ² ／ｇであることが最も好ましい。無機
微粒子は、金属の酸化物または硫化物から形成すること
が好ましい。金属の酸化物または硫化物の例には、二酸
化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、ア
ナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび硫化亜鉛が含ま
れる。酸化チタン、酸化錫および酸化インジウムが特に
好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物または
硫化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができ
る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量
（重量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、
Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃ
ｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐお
よびＳが含まれる。

【００２２】無機微粒子を表面処理してもよい。表面処
理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。
表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナ、シリ
カ、酸化ジルコニウムおよび酸化鉄が含まれる。アルミ
ナおよびシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合
物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステア
リン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップ
リング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ま
しい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施しても
よい。以上を組み合わせて処理されていても構わない。
高屈折率層の無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立
方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好まし
い。二種類以上の無機微粒子を高屈折率層内で併用して
もよい。高屈折率層中の無機微粒子の割合は、５乃至６
５体積％である。無機微粒子の割合は、１０乃至６０体
積％であることが好ましく、２０乃至５５体積％である
ことがさらに好ましい。無機微粒子は、分散物の状態で
高屈折率層の形成に使用する。高屈折率層の無機微粒子
の分散媒体は、沸点が６０乃至１７０℃の液体を用いる
ことが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール
（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素
（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水
素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシ
レン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル
（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２
−プロパノール）が含まれる。トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンおよびブタノールが特に好ましい。無機微粒子
は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例に
は、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミ
ル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミ
ル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サン
ドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好
ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分
散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロー
ルミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。

【００２３】（高屈折率層のバインダー）高屈折率層
は、架橋しているアニオン性基を有するポリマーをバイ
ンダーとして用いる。架橋しているアニオン性基を有す
るポリマーは、アニオン性基を有するポリマーの主鎖が
架橋している構造を有する。アニオン性基は、無機微粒
子の分散状態を維持する機能を有する。架橋構造は、ポ
リマーに皮膜形成能を付与して、高屈折率層を強化する
機能を有する。ポリマーの主鎖の例には、ポリオレフィ
ン（飽和炭化水素）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリ
ウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよ
びメラミン樹脂が含まれる。ポリオレフィン主鎖、ポリ
エーテル主鎖およびポリウレア主鎖が好ましく、ポリオ
レフィン主鎖およびポリエーテル主鎖がさらに好まし
く、ポリオレフィン主鎖が最も好ましい。ポリオレフィ
ン主鎖は、飽和炭化水素からなる。ポリオレフィン主鎖
は、例えば、不飽和重合性基の付加重合反応により得ら
れる。ポリエーテル主鎖は、エーテル結合（−Ｏ−）に
よって繰り返し単位が結合している。ポリエーテル主鎖
は、例えば、エポキシ基の開環重合反応により得られ
る。ポリウレア主鎖は、ウレア結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｎ
Ｈ−）によって、繰り返し単位が結合している。ポリウ
レア主鎖は、例えば、イソシアネート基とアミノ基との
縮重合反応により得られる。ポリウレタン主鎖は、ウレ
タン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単
位が結合している。ポリウレタン主鎖は、例えば、イソ
シアネート基と、水酸基（Ｎ−メチロール基を含む）と
の縮重合反応により得られる。ポリエステル主鎖は、エ
ステル結合（−ＣＯ−Ｏ−）によって、繰り返し単位が
結合している。ポリエステル主鎖は、例えば、カルボキ
シル基（酸ハライド基を含む）と水酸基（Ｎ−メチロー
ル基を含む）との縮重合反応により得られる。ポリアミ
ン主鎖は、イミノ結合（−ＮＨ−）によって、繰り返し
単位が結合している。ポリアミン主鎖は、例えば、エチ
レンイミン基の開環重合反応により得られる。ポリアミ
ド主鎖は、アミド結合（−ＮＨ−ＣＯ−）によって、繰
り返し単位が結合している。ポリアミド主鎖は、例え
ば、イソシアネート基とカルボキシル基（酸ハライド基
を含む）との反応により得られる。メラミン樹脂主鎖
は、例えば、トリアジン基（例、メラミン）とアルデヒ
ド（例、ホルムアルデヒド）との縮重合反応により得ら
れる。なお、メラミン樹脂は、主鎖そのものが架橋構造
を有する。

【００２４】アニオン性基は、ポリマーの主鎖に直接結
合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合させ
る。アニオン性基は、連結基を介して側鎖として、主鎖
に結合させることが好ましい。アニオン性基の例には、
カルボン酸基（カルボキシル）、スルホン酸基（スル
ホ）およびリン酸基（ホスホノ）が含まれる。スルホン
酸基およびリン酸基が好ましい。アニオン性基は、塩の
状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチ
オンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。ま
た、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。
アニオン性基とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、
−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およ
びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であること
が好ましい。架橋構造は、二以上の主鎖を化学的に結合
（好ましくは共有結合）する。架橋構造は、三以上の主
鎖を共有結合することが好ましい。架橋構造は、−ＣＯ
−、−Ｏ−、−Ｓ−、窒素原子、リン原子、脂肪族残
基、芳香族残基およびこれらの組み合わせから選ばれる
二価以上の基からなることが好ましい。ポリマーは、ア
ニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する
繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好まし
い。コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位
の割合は、２乃至９６重量％であることが好ましく、４
乃至９４重量％であることがさらに好ましく、６乃至９
２重量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、
二以上のアニオン性基を有していてもよい。コポリマー
中の架橋構造を有する繰り返し単位の割合は、４乃至９
８重量％であることが好ましく、６乃至９６重量％であ
ることがさらに好ましく、８乃至９４重量％であること
が最も好ましい。

【００２５】ポリマーの繰り返し単位は、アニオン性基
と架橋構造の双方を有していてもよい。ポリマーには、
その他の繰り返し単位（アニオン性基も架橋構造もない
繰り返し単位）が含まれていてもよい。その他の繰り返
し単位としては、アミノ基または四級アンモニウム基を
有する繰り返し単位およびベンゼン環を有する繰り返し
単位が好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基
は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維
持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折
率を高くする機能を有する。なお、アミノ基、四級アン
モニウム基およびベンゼン環は、アニオン性基を有する
繰り返し単位あるいは架橋構造を有する繰り返し単位に
含まれていても、同様の効果が得られる。アミノ基また
は四級アンモニウム基を有する繰り返し単位では、アミ
ノ基または四級アンモニウム基は、ポリマーの主鎖に直
接結合させるか、あるいは連結基を介して主鎖に結合さ
せる。アミノ基または四級アンモニウム基は、連結基を
介して側鎖として、主鎖に結合させることが好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基は、二級アミノ基、
三級アミノ基または四級アンモニウム基であることが好
ましく、三級アミノ基または四級アンモニウム基である
ことがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基ま
たは四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、ア
ルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１乃至１
２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１
乃至６のアルキル基であることがさらに好ましい。四級
アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであるこ
とが好ましい。アミノ基または四級アンモニウム基とポ
リマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、−ＮＨ
−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれ
らの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ま
しい。ポリマーが、アミノ基または四級アンモニウム基
を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．０
６乃至３２重量％であることが好ましく、０．０８乃至
３０重量％であることがさらに好ましく、０．１乃至２
８重量％であることが最も好ましい。

【００２６】ベンゼン環を有する繰り返し単位では、ベ
ンゼン環は、ポリマーの主鎖に直接結合させるか、ある
いは連結基を介して主鎖に結合させる。ベンゼン環は、
連結基を介して側鎖として、主鎖に結合させることが好
ましい。ベンゼン環は、置換基（例、アルキル基、ヒド
ロキシ、ハロゲン原子）を有していてもよい。ベンゼン
環とポリマーの主鎖とを結合する連結基は、−ＣＯ−、
−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、およびこれらの
組み合わせから選ばれる二価の基であることが好まし
い。ポリマーが、ベンゼン環を有する繰り返し単位を含
む場合、その割合は、２乃至９８重量％であることが好
ましく、４乃至９６重量％であることがさらに好まし
く、６乃至９４重量％であることが最も好ましい。最も
好ましいポリオレフィン主鎖を有するポリマーについ
て、アニオン性基を有する繰り返し単位（VI）、架橋構
造を有する繰り返し単位（VII)、アニオン性基と架橋構
造の両方を有する繰り返し単位(VIII)、アミノ基または
四級アンモニウム基を有する繰り返し単位（IX）および
ベンゼン環を有する繰り返し単位（Ｘ）の例を、それぞ
れ以下の各式で示す。

【００２７】

【化１】

【００２８】式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチルであ
り、Ｌ¹ は二価の連結基であり、そして、Ａｎはカルボ
ン酸基、スルホン酸基またはリン酸基である。式（VI）
において、Ｌ¹ は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、
アリーレン基およびこれらの組み合わせから選ばれる二
価の連結基であることが好ましい。アルキレン基の炭素
原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１
５であることがさらに好ましく、１乃至１０であること
が最も好ましい。アルキレン基は環状構造を有していて
もよい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至２０であ
ることが好ましく、６乃至１５であることがさらに好ま
しく、６乃至１０であることが最も好ましい。アルキレ
ン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基、
ヒドロキシ、ハロゲン原子）を有していてもよい。Ｌ¹
の例を以下に示す。左側が主鎖に結合し、右側がＡｎに
結合する。ＡＬはアルキレン基、ＡＲはアリーレン基を
意味する。

【００２９】Ｌ¹¹：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−（Ｏ−ＣＯ−Ａ
Ｌ）_m1− （ｍ１は、正の整数） Ｌ¹²：−ＣＯ−Ｏ−（ＡＬ−Ｏ）_m2−ＡＲ−ＡＬ−ＡＲ
−（Ｏ−ＡＬ）_m3−（ｍ２およびｍ３は、それぞれ正の
整数） Ｌ¹³：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ¹⁴：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ− Ｌ¹⁵：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ− Ｌ¹⁶：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−

【００３０】式（VI）のＡｎのカルボン酸基、スルホン
酸基およびリン酸基は、前述した定義を有する。式（V
I）で表わされる繰り返し単位は、対応するエチレン性
不飽和モノマーの付加重合反応により得られる。対応す
るエチレン性不飽和モノマーの例には、ビス（ポリオキ
シエチレン多環フェニルエーテル）メタクリレート硫酸
エステル塩、２−スルホエチルメタクリレート、フタル
酸モノヒドロキシエチルアクリレート、アクリル酸ダイ
マー、２−アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフ
タレート、２−アクリロイルオキシプロピルハイドロジ
ェンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピルヘキ
サヒドロハイドロジェンフタレート、２−アクリロイル
オキシプロピルテトラヒドロハイドロジェンフタレー
ト、β−アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサク
シネート、β−メタクリロイルオキシエチルハイドロジ
ェンフアレート、β−メタクリロイルオキシエチルハイ
ドロジェンサクシネート、モノ（２−アクリロイルオキ
シエチル）アシッドホスフェートおよびモノ（２−メタ
クリロイルオキシエチル）アシッドホスフェートが含ま
れる。これらのアニオン性基を有するエチレン性不飽和
モノマーは、市販品を利用することもできる。

【００３１】

【化２】

【００３２】式中、Ｒ² は水素原子またはメチルであ
り、ｎは２以上の整数であり、そして、Ｌ² はｎ価の炭
化水素残基である。式（VII)において、ｎは２乃至２０
であることが好ましく、２乃至１０であることがさらに
好ましく、３乃至６であることが最も好ましい。式（VI
I)において、Ｌ² は脂肪族残基であることが好ましく、
飽和脂肪族残基であることがさらに好ましい。脂肪族残
基中にエーテル結合（−Ｏ−）が含まれていてもよい。
脂肪族残基は、分岐を有していてもよい。Ｌ² の炭素原
子数は、１乃至２０であることが好ましく、２乃至１５
であることがさらに好ましく、３乃至１０であることが
最も好ましい。式（VII)で表わされる繰り返し単位は、
対応するエチレン性不飽和モノマーの付加重合反応によ
り得られる。さらに、対応するエチレン性不飽和モノマ
ーは、Ｌ² （−ＯＨ）_n に相当する多価アルコールまた
は多価フェノール（好ましくは多価アルコール）とアク
リル酸またはメタクリル酸とのエステルである。対応す
るモノマーの例には、ネオペンチルグリコールアクリレ
ート、１，６−ヘキサンジオールアクリレート、プロピ
レングリコールジアクリレートなどのアルキレングリコ
ール、トリエチレングリコールジアクリレート、ジプロ
ピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビス
｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパ
ン、ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェ
ニル｝プロパン、トリメチロールプロパントリ（メタ）
アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アク
リレート、１，２，４−シクロヘキサンテトラメタクリ
レート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、（ジ）ペンタエリス
リトールペンタアクリレート、（ジ）ペンタエリスリト
ールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリ
スリトールトリアクリレートおよびトリペンタエリスリ
トールヘキサトリアクリレートが含まれる。これらの多
価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエス
テルも、市販品を利用することができる。

【００３３】

【化３】

【００３４】式中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³およびＲ³⁴は、そ
れぞれ、水素原子またはメチルであり、そして、Ｌ³¹お
よびＬ³²は、それぞれ、二価の連結基である。式(VIII-
ａ）および(VIII-ｂ）において、Ｌ³¹およびＬ³²は、そ
れぞれ、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン
基およびこれらの組み合わせから選ばれる二価の連結基
であることが好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、
１乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であるこ
とがさらに好ましく、１乃至１０であることが最も好ま
しい。アルキレン基は環状構造を有していてもよい。ア
リーレン基の炭素原子数は、６乃至２０であることが好
ましく、６乃至１５であることがさらに好ましく、６乃
至１０であることが最も好ましい。アルキレン基および
アリーレン基は、置換基（例、アルキル基、ヒドロキ
シ、ハロゲン原子）を有していてもよい。Ｌ³¹およびＬ
³²の例は、前述したＬ¹ の例（Ｌ¹¹〜Ｌ¹⁶）と同様であ
る。式(VIII-ａ）および(VIII-ｂ）で表わされる繰り返
し単位も、対応するエチレン性不飽和モノマーの付加重
合反応により得られる。式(VIII-ａ）に対応するエチレ
ン性不飽和モノマーの例には、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレートの６−ヘキサノリド付加物重合体と無水リ
ン酸との反応生成物、ビス（メタクリルオキシエチル）
フォスフェート、２−アクリロイルオキシエチルアシッ
ドホスフェートおよび２−メタクリロイルオキシエチル
アシッドホスフェートが含まれる。式(VIII-ｂ）に対応
するエチレン性不飽和モノマーの例には、β−アクリロ
イルオキシエチルハイドロジェンフマレートおよびβ−
アクリロイルオキシエチルハイドロジェンマレエートが
含まれる。エチレン性不飽和モノマーも、市販品を利用
することもできる。

【００３５】

【化４】

【００３６】式中、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²およびＲ⁴³は、それぞ
れ、水素原子またはメチルであり、Ｌ⁴ 、Ｌ^4aおよびＬ
^4bは、それぞれ、二価の連結基であり、そして、Ａｍ
は、アミノ基または四級アンモニウム基である。式（IX
−ａ）および（IX−ｂ）において、Ｌ⁴ 、Ｌ^4aおよびＬ
^4bは、それぞれ、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、アルキ
レン基、アリーレン基およびこれらの組み合わせから選
ばれる二価の連結基であることが好ましい。アルキレン
基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、
１乃至１５であることがさらに好ましく、１乃至１０で
あることが最も好ましい。アルキレン基は環状構造を有
していてもよい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至
２０であることが好ましく、６乃至１５であることがさ
らに好ましく、６乃至１０であることが最も好ましい。
アルキレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アル
キル基、ヒドロキシ、ハロゲン原子）を有していてもよ
い。Ｌ⁴ 、Ｌ^4aおよびＬ^4bの例を以下に示す。左側が主
鎖に結合し、右側がＡｍに結合する。ＡＬはアルキレン
基を意味する。

【００３７】Ｌ⁴¹：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ− Ｌ⁴²：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ− Ｌ⁴³：−ＡＬ−

【００３８】式（IX−ａ）および（IX−ｂ）のＡｍのア
ミノ基および四級アンモニウム基は、前述した定義を有
する。式（IX−ａ）および（IX−ｂ）で表わされる繰り
返し単位は、対応するエチレン性不飽和モノマーの付加
重合反応により得られる。式（IX−ａ）に対応するエチ
レン性不飽和モノマーの例には、ジメチルアミノエチル
アクリレート、ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ド、メタクリル酸ヒドロキシプロピルトリメチルアンモ
ニウムクロライド、メタクリル酸エチルトリメチルアン
モニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルメタクリ
ルアミドおよびメタクリルアミドプロピルトリメチルア
ンモニウムクロライドが含まれる。式（IX−ｂ）に対応
するエチレン性不飽和モノマーの例には、ジアリルジメ
チルアンモニウムクロライドが含まれる。アミノ基また
は四級アンモニウム基エチレン性不飽和モノマーも、市
販品を利用することもできる。

【００３９】

【化５】

【００４０】式中、Ｒ⁵¹は水素原子またはメチルであ
り、Ｒ⁵²は水素原子、カルボキシル、炭素原子数が１乃
至６のアルキル基またはハロゲン原子であり、そして、
Ｌ⁵ は単結合または二価の連結基である。式（Ｘ）のＲ
⁵²がカルボキシルの場合、Ｒ⁵²はベンゼン環のオルト位
に結合することが好ましい。式（Ｘ）において、Ｌ⁵
は、−ＣＯ−、−Ｏ−、アルキレン基の組み合わせから
選ばれる二価の連結基であることが好ましい。アルキレ
ン基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好まし
く、１乃至１５であることがさらに好ましく、１乃至１
０であることが最も好ましい。アルキレン基は環状構造
を有していてもよい。アルキレン基は、置換基（例、ア
ルキル基、ヒドロキシ、ハロゲン原子）を有していても
よい。Ｌ⁵ の例を以下に示す。左側が主鎖に結合し、右
側がベンゼン環に結合する。ＡＬはアルキレン基を意味
する。

【００４１】 Ｌ⁵⁰：単結合 Ｌ⁵¹：−ＣＯ−Ｏ−（ＡＬ−Ｏ）_m4− （ｍ４は正の整数） Ｌ⁵²：−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−

【００４２】式（Ｘ）で表わされる繰り返し単位は、対
応するエチレン性不飽和モノマーの付加重合反応により
得られる。対応するエチレン性不飽和モノマーの例に
は、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシポリエ
チレングリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイルオ
キシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸および２−
アクリロイルオキシエチルフタル酸が含まれる。ベンゼ
ン環を有するエチレン性不飽和モノマーも、市販品を利
用することができる。エポキシ基から誘導されるポリエ
ーテル主鎖を有するポリマーの場合は、以上の各式の繰
り返し単位のエチレン基（−ＣＨ₂ −）の左側に酸素原
子（−Ｏ−）を結合させた構造の繰り返し単位を用いれ
ばよい。架橋しているアニオン性基を有するポリマー
は、高屈折率層の塗布液（前述した無機微粒子の分散
液）にモノマーとして添加し、層の塗布と同時または塗
布後に、重合反応によって形成することが好ましい。ア
ニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子
の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマ
ーの無機微粒子に対する使用量は、１乃至５０重量％の
範囲であることが好ましく、５乃至４０重量％の範囲で
あることが好ましく、１０乃至３０重量％であることが
最も好ましい。また、アミノ基または四級アンモニウム
基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能
する。アミノ基または四級アンモニウム基を有するモノ
マーのアニオン性基を有するモノマーに対する使用量
は、３乃至３３重量％であることが好ましい。層の塗布
と同時または塗布後に、重合反応によってポリマーを形
成すれば、層の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能
させることができる。

【００４３】ポリマーの重合反応は、光重合反応または
熱重合反応を用いることができる。光重合反応が好まし
い。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ま
しい。重合開始剤には、アセトフェノン類、ベンゾイン
類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケター
ル類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合
物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、
ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香
族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例には、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセ
トフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メ
チル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェ
ノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。
ベンゾイン類には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエー
テルが含まれる。ベンゾフェノン類には、ベンゾフェノ
ン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類には、２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含
まれる。

【００４４】市販の重合開始剤を使用してもよい。重合
開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開
始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の０．２
乃至１０重量％の範囲であることが好ましい。光重合反
応によりポリマーを形成する場合、光源として低圧水銀
ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、ケミカル
ランプあるいはメタルハライドランプを用いることがで
きる。照射効率が良好な高圧水銀ランプの使用が、最も
好ましい。塗布液（モノマーを含む無機微粒子の分散
液）を加熱して、モノマー（またはオリゴマー）の重合
を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加
熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理し
てもよい。アニオン性基を有するポリマーは、架橋して
いるため分子量の規定は困難である。高屈折率層中の架
橋しているアニオン性基を有するポリマーの割合は、３
５乃至９５体積％である。架橋しているアニオン性基を
有するポリマーの割合は、４０乃至９０体積％であるこ
とが好ましく、４５乃至８０体積％であることがさらに
好ましい。高屈折率層またはその塗布液には、前述した
成分（無機微粒子、ポリマー、分散媒体、重合開始剤、
重合促進剤）以外に、重合禁止剤、レベリング剤、増粘
剤、着色防止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング
剤、帯電防止剤や接着付与剤を添加してもよい。レベリ
ング剤の例には、フッ素化アルキルエステル（例えば、
住友３Ｍ（株）のＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１）および
ポリシロキサン（例えば、General Electric（株）のＳ
Ｆ１０２３、ＳＦ１０５４、ＳＦ１０７９、Dow Cornin
g(株）のＤＣ１９０、ＤＣ２００、ＤＣ５１０、ＤＣ１
２４８、BYK Chemie（株）のＢＹＫ３００、ＢＹＫ３１
０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２２、ＢＹＫ３３０、ＢＹ
Ｋ３７０）が含まれる。

【００４５】（低屈折率層）図３は、好ましい低屈折率
層の断面模式図である。図３の低屈折率層の上側が反射
防止膜の表面であり、下側に画像表示装置またはレンズ
がある。図３に示すように、低屈折率層（１）は多孔質
層であることが好ましい。多孔質低屈折率層（１）内で
は、平均粒径が０．５乃至２００ｎｍの無機微粒子（１
１）が少なくとも２個以上（図１では３個）積み重なっ
ている。そして、無機微粒子（１１）の間に、ミクロボ
イド（１２）が形成されている。低屈折率層（１）は、
さらにポリマー（１３）を５乃至５０重量％の量で含
む。ポリマー（１３）は、無機微粒子（１１）を接着し
ているが、ミクロボイド（１２）を充填していない。図
１に示すように、ミクロボイド（１２）は、ポリマー
（１３）と無機微粒子（１１）により閉じている（開口
ではない）ことが好ましい。低屈折率層の屈折率は、
１．２０乃至１．５５である。屈折率は、１．３０乃至
１．５５であることが好ましく、１．３０乃至１．５０
であることがさらに好ましく、１．３５乃至１．４５で
あることが最も好ましい。低屈折率層の厚さは、５０乃
至４００ｎｍであることが好ましく、５０乃至２００ｎ
ｍであることがさらに好ましい。低屈折率層のヘイズ
は、３％以下であることが好ましく、２％以下であるこ
とがさらに好ましく、１％以下であることが最も好まし
い。本発明に従い改良された低屈折率層は、強度が優れ
ている。具体的な低屈折率層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛
筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上である
ことがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ま
しい。

【００４６】（低屈折率層の無機微粒子）低屈折率層の
無機微粒子の平均粒径は、０．５乃至２００ｎｍである
ことが好ましい。粒子径が増大すると前方散乱が増加
し、２００ｎｍを越えると散乱光に色付きが生じる。平
均粒径は、１乃至１００ｎｍであることがより好まし
く、３乃至７０ｎｍであることがさらに好ましく、５乃
至４０ｎｍの範囲であることが最も好ましい。無機微粒
子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ま
しい。低屈折率層の無機微粒子は、金属の酸化物、窒化
物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好まし
く、金属酸化物または金属ハロゲン化物からなることが
さらに好ましく、金属酸化物または金属フッ化物からな
ることが最も好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、
Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓ
ｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔ
ａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、
ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉ
がさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用
いてもよい。特に好ましいい無機化合物は、アルカリ金
属フッ化物（例、ＮａＦ、ＫＦ）、アルカリ土類金属フ
ッ化物（例、ＣａＦ₂ 、ＭｇＦ₂ ）および二酸化ケイ素
（ＳｉＯ₂ ）である。

【００４７】低屈折率層の無機微粒子は、非晶質である
ことが好ましい。無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭
５３−１１２７３２号、特公昭５７−９０５１号の各公
報記載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁
（1988）記載）により、分散物として直接合成すること
ができる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械
的に粉砕して分散物を得ることもできる。市販の無機微
粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。無
機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分
散した状態で使用することが好ましい。分散媒として
は、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イ
ソプロピルアルコール）およびケトン（例、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。無機
微粒子の量は、低屈折率層全量の５０乃至９５重量％で
ある。無機微粒子の量は、５０乃至９０重量％であるこ
とが好ましく、６０乃至９０重量％であることがさらに
好ましく、７０乃至９０重量％であることが最も好まし
い。

【００４８】（低屈折率層のミクロボイド）低屈折率層
では、無機微粒子を少なくとも２個以上積み重ねること
により微粒子間にミクロボイドが形成することが好まし
い。低屈折率層の空隙率は、３乃至５０体積％であるこ
とが好ましく、５乃至３５体積％であることがさらに好
ましい。なお、粒径が等しい（完全な単分散の）球状微
粒子を最密充填すると、微粒子間に２６体積％の空隙率
のボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純
立方充填すると、微粒子間に４８体積％の空隙率のボイ
ドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の粒径
にある程度の分布が存在するため、空隙率は上記よりも
低めの値となる。空隙率（ミクロボイドの大きさ）を増
加させると、低屈折率層の屈折率が低下する。本発明で
は、無機微粒子を積み重ねてミクロボイドを形成するた
め、無機微粒子の粒径を調整することで、ミクロボイド
の大きさも適度の（光を散乱せず、低屈折率層の強度に
問題が生じない）値に容易に調節できる。さらに、無機
微粒子の粒径を均一にすることで、ミクロボイドの大き
さも均一である光学的に均一な低屈折率層を得ることが
できる。これにより、低屈折率層は微視的にはミクロボ
イド含有多孔質膜であるが、光学的あるいは巨視的には
均一な膜にすることができる。ミクロボイドを形成する
ことにより、低屈折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層
を構成する微粒子とポリマーとの総屈折率和よりも低い
値になる。層の屈折率は、層の構成要素の体積当りの屈
折率の和になる。微粒子とポリマーの屈折率は１よりも
大きな値であるのに対して、空気の屈折率は１．００で
ある。そのため、ミクロボイドを形成することによっ
て、屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができ
る。ミクロボイドは、無機微粒子およびポリマーによっ
て低屈折率層内で閉じていることが好ましい。閉じてい
る空隙は、低屈折率層表面に開かれた開口と比較して、
低屈折率層表面での光の散乱が少ないとの利点がある。

【００４９】（低屈折率層のポリマー）低屈折率層は、
５乃至５０重量％の量のポリマーを含むことが好まし
い。ポリマーは、無機微粒子を接着し、ミクロボイドを
含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマ
ーの使用量は、ミクロボイドを充填することなく低屈折
率層の強度を維持できるように調整する。ポリマーの量
は、低屈折率層の全量の１０乃至３０重量％であること
が好ましい。ポリマーで無機微粒子を接着するために
は、（１）無機微粒子の表面処理剤にポリマーを結合さ
せるか、（２）無機微粒子をコアとして、その周囲にポ
リマーシェルを形成するか、あるいは（３）無機微粒子
間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ま
しい。（１）の表面処理剤に結合させるポリマーは、
（２）のシェルポリマーまたは（３）のバインダーポリ
マーであることが好ましい。（２）のポリマーは、低屈
折率層の塗布液の調製前に、無機微粒子の周囲に重合反
応により形成することが好ましい。（３）のポリマー
は、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率
層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成す
ることが好ましい。（１）〜（３）を二種類または三種
類組み合わせて、実施することが好ましく、（１）と
（３）の二種類の組み合わせ、または（１）〜（３）の
三種類の組み合わせで実施することが特に好ましい。
（１）表面処理、（２）シェルおよび（３）バインダー
について、順次説明する。

【００５０】（１）表面処理 無機微粒子には、表面処理を実施して、ポリマーとの親
和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ
放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、
カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類でき
る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学
的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カ
ップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合
物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング
剤）が好ましく用いられる。無機微粒子が二酸化ケイ素
からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理
が特に有効に実施できる。好ましいシランカップリング
剤を、下記式（XI−ａ）および（XI−ｂ）で示す。

【００５１】

【化６】

【００５２】式中、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶⁵およびＲ⁶⁶は、それぞれ
独立に、炭素原子数が１乃至１０のアルキル基、炭素原
子数が６乃至１０のアリール基、炭素原子数が２乃至１
０のアルケニル基、炭素原子数が２乃至１０のアルキニ
ル基または炭素原子数が７乃至１０のアラルキル基であ
り、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴、Ｒ⁶⁷およびＲ⁶⁸は、それぞれ独
立に、炭素原子数が１乃至６のアルキル基または炭素原
子数が２乃至６のアシル基である。式（XI−ａ）および
式（XI−ｂ）において、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶⁵およびＲ⁶⁶は、アル
キル基、アリール基、アルケニル基またはアラルキル基
であることが好ましく、アルキル基、アリール基または
アルケニル基であることがさらに好ましく、アルキル基
またはアルケニル基であることが最も好ましい。アルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基および
アラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の
例には、グリシジル基、グリシジルオキシ基、アルコキ
シ基、ハロゲン原子、アシルオキシ基（例、アクリロイ
ルオキシ、メタクリロイルオキシ）、メルカプト、アミ
ノ、カルボキシル、シアノ、イソシアナトおよびアルケ
ニルスルホニル基（例、ビニルスルホニル）が含まれ
る。式（XI−ａ）および式（XI−ｂ）において、Ｒ⁶²、
Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴、Ｒ⁶⁷およびＲ⁶⁸は、アルキル基であること
が好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよ
い。置換基の例には、アルコキシ基が含まれる。シラン
カップリング剤は、分子内に二重結合を有し、その二重
結合の反応によりポリマーと結合させることが好まし
い。二重結合は、式（XI−ａ）と式（XI−ｂ）のＲ⁶¹、
Ｒ⁶⁵またはＲ⁶⁶の置換基中に存在していることが好まし
い。特に好ましいシランカップッリング剤を、下記式(X
II−ａ）および(XII−ｂ）で示す。

【００５３】

【化７】

【００５４】式中、Ｒ⁷¹およびＲ⁷⁵は、それぞれ独立
に、水素原子またはメチルであり、Ｒ⁷⁶は、炭素原子数
が１乃至１０のアルキル基、炭素原子数が６乃至１０の
アリール基、炭素原子数が２乃至１０のアルケニル基、
炭素原子数が２乃至１０のアルキニル基または炭素原子
数が７乃至１０のアラルキル基であり、Ｒ⁷²、Ｒ⁷³、Ｒ
⁷⁴、Ｒ⁷⁷およびＲ⁷⁸は、それぞれ独立に、炭素原子数が
１乃至６のアルキル基または炭素原子数が２乃至６のア
シル基であり、Ｌ⁷¹およびＬ⁷²は、それぞれ独立に二価
の連結基である。式(XII−ｂ）において、Ｒ⁷⁶は、式
（XI−ａ）および式（XI−ｂ）のＲ⁶¹、Ｒ⁶⁵およびＲ⁶⁶
と同様の定義を有する。式(XII−ａ）式(XII−ｂ）にお
いて、Ｒ⁷²、Ｒ⁷³、Ｒ⁷⁴、Ｒ⁷⁷およびＲ⁷⁸は、式（XI−
ａ）および式（XI−ｂ）のＲ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴、Ｒ⁶⁷およ
びＲ⁶⁸と同様の定義を有する。式(XII−ａ）式(XII−
ｂ）において、Ｌ⁷¹およびＬ⁷²は、アルキレン基である
ことが好ましく、炭素原子数が１乃至１０のアルキレン
基であることがさらに好ましく、炭素原子数が１乃至６
のアルキレン基であることが最も好ましい。式（XI−
ａ）で示されるシランカップリング剤の例には、メチル
トリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチ
ルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシ
シラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシ
ラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラ
ン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−（β−グリシジルオキシエトキシ）プロピルト
リメトキシシラン、β−（３，４−エポシシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、γ−
アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−
メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシランおよびβ−シアノエチルトリエト
キシシランが含まれる。

【００５５】分子内に二重結合を有するビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、
γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランお
よびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシ
ランが好ましく、式(XII−ａ）で示されるγ−アクリロ
イルオキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−メタ
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシランが特に好
ましい。式（XI−ｂ）で示されるシランカップリング剤
の例には、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニ
ルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシ
プロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラ
ン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジ
エトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、
メチルビニルジメトキシシランおよびメチルビニルジエ
トキシシランが含まれる。分子内に二重結合を有するγ
−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチ
ルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシランお
よびメチルビニルジエトキシシランが好ましく、式(XII
−ｂ）で示されるγ−アクリロイルオキシプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピル
メチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプ
ロピルメチルジメトキシシランおよびγ−メタクリロイ
ルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好まし
い。

【００５６】二種類以上のカップリング剤を併用しても
よい。式（XI−ａ）および式（XI−ｂ）で示されるシラ
ンカップリング剤に加えて、他のシランカップリングを
用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルト
ケイ酸のアルキルエステル（例、オルトケイ酸メチル、
オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸ｎ−プロピル、オル
トケイ酸ｉ−プロピル、オルトケイ酸ｎ−ブチル、オル
トケイ酸sec-ブチル、オルトケイ酸ｔ−ブチル）および
その加水分解物が含まれる。カップリング剤による表面
処理は、無機微粒子の分散物に、カップリング剤を加
え、室温から６０℃までの温度で、数時間から１０日間
分散物を放置することにより実施できる。表面処理反応
を促進するため、無機酸（例、硫酸、塩酸、硝酸、クロ
ム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭
酸）、有機酸（例、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンス
ルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸）、またはこ
れらの塩（例、金属塩、アンモニウム塩）を、分散物に
添加してもよい。

【００５７】（２）シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは３５乃至８０重量％のフッ素原子
を含むことが好ましく、４５乃至７５重量％のフッ素原
子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリ
マーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの
重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン（例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール）、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が含まれる。フッ素原子を含むポリマーは、下記式(XII
I)で示すフッ素を含む繰り返し単位を有することが特に
好ましい。

【００５８】

【化８】

【００５９】式中、Ｒ⁸¹は、水素原子、フッ素原子また
はメチルであり、ｐは０または正の整数であり、ｎは正
の整数である。シェルを形成するポリマーは、フッ素原
子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し
単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を
含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレ
ン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例には、オレフィン（例、エチレン、プロピレン、イソ
プレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン）、アクリル酸エ
ステル（例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル
（例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
ト）、スチレンおよびその誘導体（例、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン）、ビニルエーテル（例、メチルビニルエーテル）、
ビニルエステル（例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、桂皮酸ビニル）、アクリルアミド（例、Ｎ−tertブ
チルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミ
ド）、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが含ま
れる。

【００６０】後述する（３）のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度（Ｔｇ）が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Ｔｇが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い（その結果、強度が低下する）場合がある。その場合
は、後述する（３）のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。無機微粒子の周囲にポリマーシェ
ルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェ
ル微粒子中に無機微粒子からなるコアが５乃至９０体積
％含まれていることが好ましく、１５乃至８０体積％含
まれていることがさらに好ましい。ポリマーシェルは、
ラジカル重合法により形成することが好ましい。ラジカ
ル重合法については、大津隆行・木下雅悦共著、高分子
合成の実験法、化学同人(1972)および大津隆行、講座重
合反応論１ラジカル重合（Ｉ）、化学同人(1971)に記載
がある。ラジカル重合法は、具体的には、乳化重合法ま
たは分散重合により実施することが好ましい。乳化重合
については、室井宗一、高分子ラテックスの化学、高分
子刊行会(1970)に記載がある。分散重合法については、
Barrett, Keih E.J.、Dispersion Polymerization in O
rganic Media、JOHN WILLEY & SONS(1975)に記載があ
る。

【００６１】乳化重合法に使用する重合開始剤の例に
は、無機過酸化物（例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム）、アゾニトリル化合物（例、アゾビスシアノ吉
草酸ナトリウム）、アゾアミジン化合物（例、２，２’
−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）塩酸塩）、
環状アゾアミジン化合物（例、２，２’−アゾビス〔２
−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパ
ン塩酸塩）、アゾアミド化合物（例、２，２’−アゾビ
ス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１’−ビス（ヒドロキシメ
チル）−２−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド）が
含まれる。無機過酸化物が好ましく、過硫酸カリウムお
よび過硫酸アンモニウムが特に好ましい。分散重合法に
使用する重合開始剤の例には、アゾ化合物（例、２，
２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、ジメチル−
２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ジ
メチル−２，２’−アゾビスイソブチレート）および有
機過酸化物（例、ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパ
ーオキシド、tert−ブチルパーオクトエート）が含まれ
る。分散重合法では、表面処理された無機微粒子にポリ
マー分散剤を加え、モノマーと重合開始剤を溶解し、生
成するポリマーは不溶である重合媒体中で重合反応を実
施することが好ましい。重合媒体の例には、水、アルコ
ール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、２−メトキシ−１−プロパノール、ブ
タノール、ｔ−ブタノール、ペンタノール、ネオペンタ
ノール、シクロヘキサノール、１−メトキシ−２−プロ
パノール）、メチルエチルケトン、アセトニトリル、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチルが含まれる。水、メタノ
ール、エタノールおよびイソプロパノールが好ましい。
二種類以上の重合媒体を併用してもよい。

【００６２】乳化重合法または分散重合法において、連
鎖移動剤を使用してもよい。連鎖移動剤の例には、ハロ
ゲン化炭化水素（例、四塩化炭素、四臭化炭素、二臭化
酢酸エチル、三臭化酢酸エチル、二臭化エチルベンゼ
ン、二臭化エタン、二塩化エタン）、炭化水素（例、ベ
ンゼン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン）、チ
オエーテル（例、ジアゾチオエーテル）、メルカプタン
（例、ｔ−ドデシルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカ
プタン、ヘキサデシルメルカプタン、ｎ−オクタデシル
メルカプタン、チオグリセロール），ジスルフィド
（例、ジイソプロピルザントゲンジスルフィド）、チオ
グリコール酸およびその誘導体（例、チオグリコール
酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、チオグリコ
ール酸ブチル、チオグリコール酸メトキシブチル、トリ
メチロールプロパントリス（チオグリコレート））が含
まれる。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよ
い。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子と
を併用してもよい。

【００６３】（３）バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと（メ
タ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体
（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸
−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニル
シクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルス
ルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリル
アミド）およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエー
テルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化
合物の開環重合反応により合成することが好ましい。

【００６４】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分
解した結果反応性を示すものであってもよい。前記
（２）のシェルポリマーと併用する場合、バインダーポ
リマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、シェルポリマーの
Ｔｇよりも低いことが好ましい。バインダーポリマーの
ＴｇとシェルポリマーのＴｇとの温度差は、５℃以上で
あることが好ましく、２０℃以上であることがさらに好
ましい。バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液に
モノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布
後に重合反応（必要ならばさらに架橋反応）により形成
することが好ましい。重合開始剤については、前述した
シェルポリマーの合成に用いる重合開始剤と同様であ
る。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー（例、ポリ
ビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメ
タクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセ
ルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロー
ス、ポリエステル、アルキド樹脂）を添加してもよい。

【００６５】（透明支持体）反射防止膜をＣＲＴ画像表
示面やレンズ表面に直接設ける場合を除き、反射防止膜
は透明支持体を有することが好ましい。透明支持体とし
ては、ガラス板よりもプラスチックフイルムの方が好ま
しい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロー
スエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチル
セルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロ
ース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロ
ース）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリ
エチレンナフタレートが好ましい。透明支持体の光透過
率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上で
あることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、
２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であ
ることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．
４乃至１．７であることが好ましい。透明支持体には、
赤外線吸収剤あるいは紫外線吸収剤を添加してもよい。
赤外線吸収剤の添加量は、透明支持体の０．０１乃至２
０重量％であることが好ましく、０．０５乃至１０重量
％であることがさらに好ましい。滑り剤として、不活性
無機化合物の粒子を透明支持体に添加してもよい。無機
化合物の例には、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＢａＳＯ₄ 、Ｃ
ａＣＯ₃ 、タルクおよびカオリンが含まれる。透明支持
体に、表面処理を実施してもよい。表面処理の例には、
薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫
外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラ
ズマ処理、レーザー処理、混酸処理およびオゾン酸化処
理が含まれる。グロー放電処理、紫外線照射処理、コロ
ナ放電処理および火焔処理が好ましく、グロー放電処理
と紫外線処理処理がさらに好ましい。

【００６６】［中屈折率層］図１の（ｂ）に示すよう
に、高屈折率層と透明支持体との間に中屈折率層を設け
てもよい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率
と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整す
る、中屈折率層の屈折率は、１．５５乃至１．８５であ
ることが好ましい。中屈折率層は、比較的屈折率が高い
ポリマーを用いて形成することが好ましい。屈折率が高
いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合
体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）イ
ソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレ
タンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂
環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原
子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二
重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの
重合反応によりポリマーを形成してもよい。屈折率の高
い無機微粒子を上記ポリマー中に分散してもよい。屈折
率の高い無機微粒子を用いる場合は、比較的屈折率の低
いポリマー、例えば、ビニル系ポリマー（アクリル系ポ
リマーを含む）、ポリエステル系ポリマー（アルキド系
ポリマーを含む）、セルロース系ポリマーやウレタン系
ポリマーでも、無機微粒子を安定に分散するために用い
ることができる。有機置換されたケイ素化合物を、中屈
折率層に添加してもよい。ケイ素化合物としては、低屈
折率層の無機微粒子の表面処理に使用するシランカップ
リング剤またはその加水分解物が好ましく用いられる。

【００６７】無機微粒子としては、金属（例、アルミニ
ウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモン）の酸化
物が好ましい。無機微粒子の粉末またはコロイド状分散
物を上記のポリマーまたは有機ケイ素化合物中と混合し
て、使用する。無機微粒子の平均粒径は、１０乃至２０
０ｎｍであることが好ましい。被膜形成能を有する有機
金属化合物から、中屈折率層を形成してもよい。有機金
属化合物は、適当な媒体に分散できるか、液状であるこ
とが好ましい。有機金属化合物の例には、金属アルコレ
ート（例、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ
−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−プロポキシド、チ
タンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−sec-ブト
キシド、チタンテトラ−tert−ブトキシド、アルミニウ
ムトリエトキシド、アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシ
ド、アルミニウムトリブトキシド、アンチモントリエト
キシド、アンチモントリブトキシド、ジルコニウムテト
ラエトキシド、ジルコニウムテトラ−ｉ−プロポキシ
ド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニ
ウムテトラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−se
c-ブトキシド、ジルコニウムテトラ−tert−ブトキシ
ド）、キレート化合物（例、ジ−イソプロポキシチタニ
ウムビスアセチルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウ
ムビスアセチルアセトネート、ジ−エトキシチタニウム
ビスアセチルアセトネート、ビスアセチルアセトンジル
コニウム、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテー
ト、アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセ
トアセテート、トリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノ
エチルアセトアセテート）、有機酸塩（例、炭酸ジルコ
ニールアンモニウム）およびジルコニウムを主成分とす
る活性無機ポリマーが含まれる。アルキルシリケート
類、その加水分解物および微粒子状シリカ、特にコロイ
ド状に分散したシリカゲルを中屈折率層に添加してもよ
い。中屈折率層は、高屈折率層に使用する無機微粒子と
ポリマーを用い、高屈折率層よりも屈折率を低めに調節
して形成することが特に好ましい。中屈折率層のヘイズ
は、３％以下であることが好ましい。

【００６８】（その他の層）反射防止膜には、さらに、
ハードコート層、防湿層、帯電防止層、下塗り層や保護
層を設けてもよい。ハードコート層は、透明支持体に耐
傷性を付与するために設ける。ハードコート層は、透明
支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。
ハードコート層は、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポ
リマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマーやシ
リカ系化合物を用いて形成することができる。顔料をハ
ードコート層に添加してもよい。アクリル系ポリマー
は、多官能アクリレートモノマー（例、ポリオールアク
リレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート）の重合反応により合成
することが好ましい。ウレタン系ポリマーの例には、メ
ラミンポリウレタンが含まれる。シリコン系ポリマーと
しては、シラン化合物（例、テトラアルコキシシラン、
アルキルトリアルコキシシラン）と反応性基（例、エポ
キシ、メタクリル）を有するシランカップリング剤との
共加水分解物が好ましく用いられる。二種類以上のポリ
マーを組み合わせて用いてもよい。シリカ系化合物とし
ては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。ハード
コート層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上で
ある好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、
３Ｈ以上であることが最も好ましい。透明支持体の上に
は、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑
り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁
波や赤外線を遮蔽するために設けられる。低屈折率層の
上に、保護層を設けてもよい。保護層は、滑り層または
汚れ防止層として機能する。

【００６９】滑り層に用いる滑り剤の例には、ポリオル
ガノシロキサン（例、ポリジメチルシロキサン、ポリジ
エチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメ
チルフェニルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシ
ロキサン）、天然ワックス（例、カルナウバワックス、
キャンデリラワックス、ホホバ油、ライスワックス、木
ろう、蜜ろう、ラノリン、鯨ろう、モンタンワック
ス）、石油ワックス（例、パラフィンワックス、マイク
ロクリスタリンワックス）、合成ワックス（例、ポリエ
チレンワックス、フィッシャー・トロプシュワック
ス）、高級脂肪酸アミド（例、ステアラミド、オレイン
アミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスステアラミド）、高級
脂肪酸エステル（例、ステアリン酸メチル、ステアリン
酸ブチル、グリセリンモノステアレート、ソルビタンモ
ノオレエート）、高級脂肪酸金属塩（例、ステアリン酸
亜鉛）およびフッ素含有ポリマー（パーフルオロ主鎖型
パーフルオロポリエーテル、パーフルオロ側鎖型パーフ
ルオロポリエーテル、アルコール変性パーフルオロポリ
エーテル、イソシアネート変性パーフルオロポリエーテ
ル）が含まれる。汚れ防止層には、含フッ素疎水性化合
物（例、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フ
ッ素オイル）を添加する。保護層の厚さは、反射防止機
能に影響しないようにするため、２０ｎｍ以下であるこ
とが好ましい。保護層の厚さは、２乃至２０ｎｍである
ことが好ましく、３乃至２０ｎｍであることがさらに好
ましく、５乃至１０ｎｍであることが最も好ましい。

【００７０】（反射防止膜）反射防止膜の各層は、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２
６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成す
ることができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同
時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、
同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６
５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工
学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。反射防止
膜の反射率は低いほど好ましい。具体的には４５０乃至
６５０ｎｍの波長領域での平均反射率が２％以下である
ことが好ましく、１％以下であることがさらに好まし
く、０．７％以下であることが最も好ましい。反射防止
膜（下記のアンチグレア機能がない場合）のヘイズは、
３％以下であることが好ましく、１％以下であることが
さらに好ましく、０．５％以下であることが最も好まし
い。反射防止膜の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ
以上である好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ま
しく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。反射防止膜
は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していても
よい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を
形成することにより得られる。図３に示すような微粒子
を使用した低屈折率層では、微粒子により反射防止膜の
表面に凹凸が形成できる。微粒子により得られるアンチ
グレア機能では不充分な場合は、低屈折率層、高屈折率
層、中屈折率層あるいはハードコート層に比較的大きな
粒子（粒径：５０ｎｍ乃至２μｍ）を少量（０．１乃至
５０重量％）添加してもよい。反射防止膜がアンチグレ
ア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３乃至３
０％であることが好ましく、５乃至２０％であることが
さらに好ましく、７乃至２０％であることが最も好まし
い。反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマ
ディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセ
ンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲ
Ｔ）のような画像表示装置に適用する。反射防止膜は、
高屈折率層が画像表示装置の画像表示面側になるように
配置する。反射防止膜が透明支持体を有する場合は、透
明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。反
射防止膜は、さらに、ケースカバー、光学用レンズ、眼
鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘル
メットシールドにも利用できる。

【００７１】

【実施例】［実施例１］ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０重量
部、下記のアニオン性モノマー（１）３重量部、下記の
アニオン性モノマー（２）３重量部およびメチルエチル
ケトン６４重量部を、サンドグラインダーミルにより分
散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００７２】

【化９】

【００７３】

【化１０】

【００７４】得られた分散物中の二酸化チタンの重量平
均径をコールターカウンターで評価した。結果は第１表
に示す。

【００７５】（高屈折率層用塗布液の調製）二酸化チタ
ン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）およびメチル
エチルケトンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折
率が１．７５となるように調節した。具体的には、モノ
マーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ート、アニオン性モノマー（１）およびアニオン性モノ
マー（２）の合計量）と二酸化チタンとの体積比が７
９．０／２１．０、光重合開始剤と光増感剤との重量比
が３／１、そして、光重合開始剤と光増感剤の合計量と
モノマーの合計量との重量比が６／１００になるように
調節した。

【００７６】（高屈折率層の形成）厚さ９０μｍのポリ
エチレンテレフタレートフイルムにハードコート層を設
けた。ハードコート層の上に、高屈折率層用塗布液をバ
ーコーターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が６０ｎｍの高
屈折率層を形成した。

【００７７】（低屈折率層の形成）ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）６ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガ
イギー社製）０．５ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）０．２ｇおよび酢酸エチル２０
ｇを、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１ｇを用
いて水１００ｇに乳化分散した。乳化物液とメチルメタ
クリレート（８０重量部）−ジビニルベンゼン（２５重
量部）コポリマーからなる微粒子（平均粒径：５２ｎ
ｍ）１００ｇとを混合、攪拌して、低屈折率層の塗布液
を調製した。塗布液を高屈折率層の上にワイヤーバーを
用いて厚さ１００ｎｍに塗布し、これを乾燥後、１００
℃に加熱して１２Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて１分間
紫外線照射し架橋させた。その後室温まで放冷して低屈
折率層（屈折率：１．５５）を形成した。このようにし
て、反射防止膜を作成した。反射防止膜の平均反射率
（４００乃至７００ｎｍの波長領域）を、反射率計（Ｖ
−５５０、ＡＲＶ−４７４（日本分光（株）製）で測定
した。また、反射防止膜のヘイズをヘイズメーター（Ｎ
ＤＨ−１００１ＤＰ、日本電色工業（株）製）で測定し
た。さらに、反射防止膜の強度を鉛筆硬度計（１ｋｇ荷
重）で評価した。結果は第１表に示す。

【００７８】［比較例１］実施例１のハードコート層の
上に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）を、均一に塗布し、紫外線
を照射し硬化させ、乾燥膜厚が６０ｎｍの層（屈折率：
１．５３）を形成した。その上に、実施例１と同様にし
て、低屈折率層を形成し、反射防止膜を作成して評価し
た。結果は第１表に示す。

【００７９】［比較例２］二酸化チタン（一次粒子重量
平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７０）３０重量部、
リン酸系界面活性剤（ホスファノールRD-720、東邦化学
工業（株）製）６重量部およびメチルエチルケトン６４
重量部を、サンドグラインダーミルにより分散し、二酸
化チタン分散物を調製した。二酸化チタン分散物に、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）およびメチルエチルケトンを
添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．７５と
なるように調節した。具体的には、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートと上記リン酸系界面活性剤の合
計量と二酸化チタンとの体積比が７９．０／２１．０、
光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／１、そして、
光重合開始剤と光増感剤の合計量とジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートと上記リン酸系界面活性剤の合
計量との重量比が６／１００になるように調節した。得
られた高屈折率層用塗布液を用いた以外は、実施例１と
同様にして、反射防止膜を作成して評価した。結果は第
１表に示す。

【００８０】［実施例２］実施例１と同様に、高屈折率
層を形成した。高屈折率層の上に、微細空孔（ミクロボ
イド）を有するシリコン系化合物からなる厚さ１００ｎ
ｍの低屈折率層（屈折率１．４０）を形成した。低屈折
率層に含まれる微細空孔の体積分率は、６体積％であっ
た。得られた反射防止膜を実施例１と同様に評価した。
結果は第１表に示す。

【００８１】［実施例３］実施例１と同様に、高屈折率
層を形成した。高屈折率層の上に、ヘキサフルオロイソ
プロピルメタクリレート（７５重量部）−１，４−ジビ
ニルベンゼン（２０重量部）−２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート（３重量部）−メタクリル酸（２重量部）
コポリマーの微粒子（重量平均径：３０ｎｍ）およびジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（バインダ
ー）を含む低屈折率層用塗布液（微粒子／バインダー
（重量比）＝８４／１６）（重量比）を塗布、乾燥し
て、厚さ１００ｎｍの低屈折率層（屈折率：１．４０）
を形成した。低屈折率層の微細空孔（ミクロボイド）の
体積分率は、１１体積％であった。得られた反射防止膜
を実施例１と同様に評価した。結果は第１表に示す。

【００８２】

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 番号 高屈折率層ポリマー 平均粒径 低屈折率 ヘイズ 強度 反射率 ──────────────────────────────────── 実１ アニオン性架橋 ６５ｎｍ １．５５ ０．３％ ３Ｈ ２．３％ 比１ 架橋のみ 粒子なし １．５５ ０．２％ ３Ｈ ５．２％ 比２ 架橋＋界面活性剤 ６７ｎｍ １．５５ ０．３％ Ｂ ２．３％ 実２ アニオン性架橋 ６５ｎｍ １．４０ ０．１％ ３Ｈ ０．８％ 実３ アニオン性架橋 ６５ｎｍ １．４０ ０．１％ ３Ｈ ０．８％ ──────────────────────────────────── （註） 低屈折率：低屈折率層の屈折率

【００８３】［実施例４］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例１で調製した二酸
化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）および
メチルエチルケトンを添加した。添加量は、中屈折率層
の屈折率が１．７２となるように調節した。具体的に
は、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、アニオン性モノマー（１）およびアニオ
ン性モノマー（２）の合計量）と二酸化チタンとの体積
比が８１．５／１８．５、光重合開始剤と光増感剤との
重量比が３／１、そして、光重合開始剤と光増感剤の合
計量とモノマーの合計量との重量比が６／１００になる
ように調節した。

【００８４】（中屈折率層の形成）厚さ９０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルムにハードコート層を設け
た。ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバー
コーターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７５ｎｍの中屈折
率層を形成した。

【００８５】（高屈折率層用塗布液の調製）実施例１で
調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）およびメチルエチルケトンを添加した。添加
量は、高屈折率層の屈折率が２．２０となるように調節
した。具体的には、モノマーの合計量（ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー
（１）およびアニオン性モノマー（２）の合計量）と二
酸化チタンとの体積比が４９．０／５１．０、光重合開
始剤と光増感剤との重量比が３／１、そして、光重合開
始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量との重量比
が６／１００になるように調節した。

【００８６】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外
線を照射して層を硬化させた。このようにして、厚さ
（乾燥膜厚）が８０ｎｍの高屈折率層を形成した。

【００８７】（低屈折率層の形成）実施例１と同様に、
高屈折率層の上に厚さ８０ｎｍの低屈折率層を設け、反
射防止膜を作成した。作成した反射防止膜の平均反射
率、ヘイズおよび皮膜強度を実施例１と同様に評価し
た。結果は第２表に示す。

【００８８】［比較例３］ （中屈折率層用塗布液の調製）比較例２で調製した二酸
化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）および
メチルエチルケトンを添加した。添加量は、中屈折率層
の屈折率が１．７２となるように調節した。具体的に
は、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと上記
リン酸系界面活性剤の合計量と二酸化チタンとの体積比
が８１．５／１８．５、光重合開始剤と光増感剤との重
量比が３／１、そして、光重合開始剤と光増感剤の合計
量とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと上記
リン酸系界面活性剤の合計量との重量比が６／１００に
なるように調節した。

【００８９】（中屈折率層の形成）厚さ９０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルムにハードコート層を設け
た。ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバー
コーターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７５ｎｍの中屈折
率層を形成した。

【００９０】（高屈折率層用塗布液の調製）比較例２で
調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）およびメチルエチルケトンを添加した。添加
量は、高屈折率層の屈折率が２．２０となるように調節
した。具体的には、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートと上記リン酸系界面活性剤の合計量と二酸化チ
タンとの体積比が４９．０／５１．０、光重合開始剤と
光増感剤との重量比が３／１、そして、光重合開始剤と
光増感剤の合計量とジペンタエリスリトールヘキサアク
リレートと上記リン酸系界面活性剤の合計量との重量比
が６／１００になるように調節した。

【００９１】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外
線を照射して層を硬化させた。このようにして、厚さ
（乾燥膜厚）が１１５ｎｍの高屈折率層を形成した。

【００９２】（低屈折率層の形成）実施例１と同様に、
高屈折率層の上に厚さ８０ｎｍの低屈折率層を設け、反
射防止膜を作成した。作成した反射防止膜の平均反射
率、ヘイズおよび皮膜強度を実施例１と同様に評価し
た。結果は第２表に示す。

【００９３】［実施例５］ （酸化錫分散物の調製）酸化錫（一次粒子重量平均粒
径：１０ｎｍ、屈折率：２．００）３０重量部、実施例
１で用いたアニオン性モノマー（１）３重量部、実施例
１で用いたアニオン性モノマー（２）３重量部およびメ
チルエチルケトン６４重量部を、サンドグラインダーミ
ルにより分散し、酸化錫分散物を調製した。

【００９４】（中屈折率層用塗布液の調製）酸化錫分散
物に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュ
アーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）およびメチルエチル
ケトンを添加した。添加量は、中屈折率層の屈折率が
１．７２となるように調節した。具体的には、モノマー
の合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、アニオン性モノマー（１）およびアニオン性モノマ
ー（２）の合計量）と酸化錫との体積比が５５．０／４
５．０、光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／１、
そして、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの
合計量との重量比が６／１００になるように調節した。

【００９５】（中屈折率層の形成）厚さ９０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルムにハードコート層を設け
た。ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバー
コーターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７５ｎｍの中屈折
率層を形成した。

【００９６】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７
０）３０重量部、実施例１で用いたアニオン性モノマー
（１）３重量部、実施例１で用いたアニオン性モノマー
（２）３重量部、下記のカチオン性モノマー１重量部お
よびメチルエチルケトン６３重量部を、サンドグライン
ダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製し
た。

【００９７】

【化１１】

【００９８】（高屈折率層用塗布液の調製）上記二酸化
チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリ
レート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤
（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）およびメ
チルエチルケトンを添加した。添加量は、高屈折率層の
屈折率が２．２０となるように調節した。具体的には、
モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、アニオン性モノマー（１）、アニオン性モノ
マー（２）およびカチオン性モノマーの合計量）と二酸
化チタンとの体積比が４９．０／５１．０、光重合開始
剤と光増感剤との重量比が３／１、そして、光重合開始
剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量との重量比が
６／１００になるように調節した。

【００９９】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、紫外
線を照射して層を硬化させた。このようにして、厚さ
（乾燥膜厚）が１１５ｎｍの高屈折率層を形成した。

【０１００】（低屈折率層の形成）実施例２と同様に、
高屈折率層の上に厚さ８０ｎｍの低屈折率層（屈折率：
１．４０）を設け、反射防止膜を作成した。なお、低屈
折率層の微細空孔（ミクロボイド）の体積分率は、６体
積％であった。作成した反射防止膜の平均反射率、ヘイ
ズおよび皮膜強度を実施例１と同様に評価した。結果は
第２表に示す。

【０１０１】［実施例６］実施例５と同様に、中屈折率
層および高屈折率層を形成した。実施例３と同様に、高
屈折率層の上に厚さ８０ｎｍの低屈折率層（屈折率：
１．４０）を設け、反射防止膜を作成した。なお、低屈
折率層の微細空孔（ミクロボイド）の体積分率は、１１
体積％であった。作成した反射防止膜の平均反射率、ヘ
イズおよび皮膜強度を実施例１と同様に評価した。結果
は第２表に示す。

【０１０２】［実施例７］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例１で調製した二酸
化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始
剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）および
メチルエチルケトンを添加した。添加量は、中屈折率層
の屈折率が１．７２となるように調節した。具体的に
は、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、アニオン性モノマー（１）、アニオン性
モノマー（２）およびカチオン性モノマーの合計量）と
二酸化チタンとの体積比が８１．５／１８．５、光重合
開始剤と光増感剤との重量比が３／１、そして、光重合
開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量との重量
比が６／１００になるように調節した。

【０１０３】（中屈折率層の形成）厚さ９０μｍのトリ
アセチルセルロースフイルムにハードコート層を設け
た。ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバー
コーターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７５ｎｍの中屈折
率層を形成した。

【０１０４】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、実施例５で調製した高屈折率層用塗布液をバーコー
ターで塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。この
ようにして、厚さ（乾燥膜厚）が１１５ｎｍの高屈折率
層を形成した。

【０１０５】（低屈折率層の形成）上記高屈折率層の上
に、実施例３と同様に厚さ８０ｎｍの低屈折率層（屈折
率：１．４０）を設け、反射防止膜を作成した。なお、
低屈折率層の微細空孔（ミクロボイド）の体積分率は、
１１体積％であった。作成した反射防止膜の平均反射
率、ヘイズおよび皮膜強度を実施例１と同様に評価し
た。結果は第２表に示す。

【０１０６】

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 番号 高屈折率層ポリマー 平均粒径 低屈折率 ヘイズ 強度 反射率 ──────────────────────────────────── 実４ アニオン性架橋 ６５ｎｍ １．５５ ０．５％ ３Ｈ １．１％ 比３ 架橋＋界面活性剤 ６７ｎｍ １．５５ ０．５％ Ｂ １．４％ 実５ アニオン性架橋 ６５ｎｍ １．４０ ０．５％ ３Ｈ ０．３％ 実６ 両性架橋 ６５ｎｍ １．４０ ０．５％ ３Ｈ ０．３％ 実７ 両性架橋 ６５ｎｍ １．４０ ０．５％ ３Ｈ ０．３％ ──────────────────────────────────── （註） 低屈折率：低屈折率層の屈折率

【０１０７】［実施例８］ （ハードコート層の形成）ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１２５
ｇおよびウレタンアクリレートオリゴマー（ＵＶ−６３
００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）１２５ｇを、４３
９ｇの工業用変性エタノールに溶解した。得られた溶液
に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー
社製）７．５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴ
Ｘ、日本化薬（株）製）５．０ｇを４９ｇのメチルエチ
ルケトンに溶解した溶液を加えた。混合物を攪拌した
後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過し
てハードコート層の塗布液を調製した。８０μｍの厚さ
のトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０
Ｕ、富士写真フイルム（株）製）に、上記のハードコー
ト層の塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、１２０
℃で乾燥した。次に紫外線を照射して、塗布層を硬化さ
せ、厚さ７．５μｍのハードコート層を形成した。

【０１０８】（低屈折率層用塗布液の調製）シリカ微粒
子のメタノール分散液（メタノールシリカゾル、日産化
学（株）製）２００ｇにシランカップリング剤（ＫＢＭ
−５０３、信越シリコーン（株）製）３ｇおよび０．１
Ｎ塩酸２ｇを加え、室温で５時間攪拌した後、約３日間
室温で放置して、シランカップリング処理したシリカ微
粒子の分散物を調製した。分散物１４９ｇに、イソプロ
ピルアルコール７８９ｇおよびメタノール４５０ｇを加
えた。光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）０．４５８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤ
ＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．２２９ｇを３１．６２
ｇのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、さ
らに、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）１１．４４ｇを７８．１３
ｇのイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加えた。
混合物を２０分間室温で攪拌し、孔径１μｍのポリプロ
ピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を
調製した。

【０１０９】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率：２．７
０）３０重量部、アニオン性メタクリレートモノマー
（ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量部、カチオ
ン性アクリレートモノマー（ＤＭＡＥＡ、興人（株）
製）０．３重量部およびメチルエチルケトン６５．２重
量部を、サンドグラインダーミルにより分散し、二酸化
チタン分散物を調製した。

【０１１０】（中屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１７２ｇおよびメチルエチルケトン４３ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．１８ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日
本化薬（株）製）０．０５９ｇを溶解した。さらに、二
酸化チタン分散物１５．８ｇおよびジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）３．１ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、中屈
折率層用塗布液を調製した。

【０１１１】（高屈折率層用塗布液の調製）シクロヘキ
サノン１８３ｇおよびメチルエチルケトン４６ｇに、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）
０．０８５ｇおよび光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、
日本化薬（株）製）０．０２８ｇを溶解した。さらに、
二酸化チタン分散物１７．９ｇおよびジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）１．０ｇを加え、室温で３０分間攪拌した後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、高屈
折率層用塗布液を調製した。

【０１１２】（反射防止膜の作成）ハードコート層の上
に、中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布
し、１２０℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を
硬化させ、中屈折率層（厚さ：０．０８１μｍ）を設け
た。中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液をバーコー
ターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥した後、紫外線を
照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（厚さ：０．０
５３μｍ）を設けた。高屈折率層の上に、低屈折率層用
塗布液をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥
した後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、低屈折率
層（厚さ：０．０９２μｍ）を設けた。このようにして
反射防止膜を作成した。得られた反射防止膜について、
４５０〜６５０ｎｍの波長における平均反射率および表
面の鉛筆硬度を測定した。さらに、指紋付着性を評価す
るため表面の接触角も測定した。結果は第３表に示す。

【０１１３】［実施例９］低屈折率層の厚さを０．０７
２μｍとする以外は、実施例８と同様にして、ハードコ
ート層の上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を
設けた。低屈折率層の上に、架橋性含フッ素ポリマーの
溶液を塗布し、１２０℃に加熱して含フッ素ポリマーを
架橋させ、厚さ０．０２μｍの保護層を設けた。得られ
た反射防止膜について、４５０〜６５０ｎｍの波長にお
ける平均反射率および表面の鉛筆硬度を測定した。さら
に、指紋付着性を評価するため表面の接触角も測定し
た。結果は第３表に示す。

【０１１４】

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 反射防止膜 保護層 平均反射率 鉛筆硬度 接触角 ──────────────────────────────────── 実施例８ なし ０．３５％ ２Ｈ ２８° 実施例９ あり ０．３６％ ２Ｈ １０６° ────────────────────────────────────

【０１１５】［実施例１０］ （二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：３０ｎｍ）３０．０重量部、実施例１で
用いたアニオン性モノマー（１）２．２５重量部、実施
例１で用いたアニオン性モノマー（２）２．２５重量部
およびシクロヘキサノン６５．５重量部を、サンドグラ
インダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製
した。得られた分散物中の二酸化チタンの重量平均径を
コールターカウンターで評価した。結果は第４表に示
す。

【０１１６】（高屈折率層用塗布液の調製）二酸化チタ
ン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イ
ルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カ
ヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メチルエチ
ルケトンおよびシクロヘキサノンを添加した。添加量
は、高屈折率層の屈折率が１．７５となるように調節し
た。具体的には、モノマーの合計量（ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー（１）
およびアニオン性モノマー（２）の合計量）と二酸化チ
タンとの重量比が５３．４／４６．６、光重合開始剤と
光増感剤との重量比が３／１、光重合開始剤と光増感剤
の合計量とモノマーの合計量との重量比が６／１００、
そして、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの重
量比が１／１となるように調節した。塗布液中の二酸化
チタンの分散・安定性を沈降試験により評価した。塗布
液を静置して１００時間後に、上澄み液が現れなければ
Ａ、現れればＢとした。結果は第４表に示す。

【０１１７】（高屈折率層の形成）ポリエチレンテレフ
タレートフイルムにハードコート層（エリスリトール系
多官能アクリレート、ポリエステル系多官能およびヒド
ロキシプロピル系多官能アクリレートの混合重合物）を
設けた。ハードコート層の上に、高屈折率層用塗布液を
バーコーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬
化させた。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が６０ｎ
ｍの高屈折率層を形成した。高屈折率層のヘイズをヘイ
ズメーター（ＮＤＨ−１００１ＤＰ、日本電色工業
（株）製）で測定した。また、屈折率を反射率の測定値
（Ｖー５５０，ＡＲＶ−４７４、日本分光（株）製）か
ら計算した。さらに、高屈折率層の強度を鉛筆硬度計
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００）で評価した。結果は第４表に
示す。

【０１１８】（低屈折率層用塗布液の調製）濃度３０重
量％のシリカ微粒子のメタノール分散液（メタノールシ
リカゾル、日産化学（株）製）３００ｇにシランカップ
リング剤（ＫＢＭ−５０３、信越化学工業（株）製）
４．５ｇおよび０．１Ｎ塩酸３ｇを加え、室温で５時間
攪拌した後、５日間室温で放置して、シランカップリン
グ処理したシリカ微粒子の分散物を調製した。分散物
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、イソプロピルアルコ
ールおよびジアセトンアルコールを添加して低屈折率層
用塗布液を調製した。添加量は、低屈折率層の屈折率が
１．４０となるように調節した。具体的には、表面処理
シリカ微粒子とジペンタエリスリトールヘキサアクリレ
ートとの重量比が８３．７／１６．３、光重合開始剤と
光増感剤との重量比が２／１、光重合開始剤と光増感剤
の合計量とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
との重量比が６／１００、そして、シリカ微粒子分散物
中のメタノールと、イソプロパノールとジアセトンアル
コールとの重量比が１５／６５／２０となるように調節
した。

【０１１９】（低屈折率層の形成）低屈折率層用塗布液
を高屈折率層の上に、バーコーターを用いて均一に塗布
し、紫外線照射して硬化させ、ミクロボイド含む低屈折
率層（乾燥膜厚：１００ｎｍ）を形成した。このように
して、反射防止膜を作成した。得られた反射防止膜につ
いて、ヘイズと鉛筆硬度を高屈折率層と同様に評価し
た。また、波長４５０〜６５０ｎｍにおける平均反射率
を、反射率計（Ｖ−５５０、ＡＲＶ−４７４（日本分光
（株）製）で測定した。結果を第４表に示す。

【０１２０】［比較例４］二酸化チタン（一次粒子重量
平均粒径：３０ｎｍ）３０重量部およびシクロヘキサノ
ン７０重量部を、サンドグラインダーミルにより分散
し、二酸化チタン分散物を調製した。上記二酸化チタン
分散物を用いた以外は、実施例１０と同様にして、反射
防止膜を作成し、評価した。結果は第４表に示す。

【０１２１】［比較例５］二酸化チタン（一次粒子重量
平均粒径：３０ｎｍ）３０重量部、界面活性剤（ブレノ
ールＡ−１７、吉村油化学（株）製）４．５重量部およ
びシクロヘキサノン６５．５重量部を、サンドグライン
ダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製し
た。上記二酸化チタン分散物を用い、高屈折率層用塗布
液に使用する光重合開始剤と光増感剤の合計量とジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートと上記界面活性剤
の合計量との重量比を６／１００に調節した以外は、実
施例１０と同様にして、反射防止膜を作成し、評価し
た。結果は第４表に示す。

【０１２２】［比較例６］二酸化チタン（一次粒子重量
平均粒径：３０ｎｍ）３０重量部、界面活性剤（ブレノ
ールＡ−１７、吉村油化学（株）製）１．５重量部およ
びシクロヘキサノン６８．５重量部を、サンドグライン
ダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製し
た。上記二酸化チタン分散物を用い、高屈折率層用塗布
液に使用する光重合開始剤と光増感剤の合計量とジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートと上記界面活性剤
の合計量との重量比を６／１００に調節した以外は、実
施例１０と同様にして、反射防止膜を作成し、評価し
た。結果は第４表に示す。

【０１２３】［実施例１１］二酸化チタン（一次粒子重
量平均粒径：３０ｎｍ）２０重量部、下記のアニオン性
モノマー（３）３重量部およびシクロヘキサノン７７．
０重量部を、サンドグラインダーミルにより分散し、二
酸化チタン分散物を調製した。

【０１２４】

【化１２】

【０１２５】上記二酸化チタン分散物を用いた以外は、
実施例１０と同様にして、反射防止膜を作成し、評価し
た。結果は第４表に示す。

【０１２６】［実施例１２］酸化錫（一次粒子重量平均
粒径：１０ｎｍ）３０重量部、実施例１で用いたアニオ
ン性モノマー（１）２．２５重量部、実施例１で用いた
アニオン性モノマー（２）２．２５重量部およびシクロ
ヘキサノン６５．５重量部を、サンドグラインダーミル
により分散し、酸化錫分散物を調製した。酸化錫分散物
に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰ
ＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュア
ーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メチルエチルケトン
およびシクロヘキサノンを添加した。添加量は、高屈折
率層の屈折率が１．６６となるように調節した。具体的
には、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、アニオン性モノマー（１）およびアニ
オン性モノマー（２）の合計量）と酸化錫との重量比が
３０．０／７０．０、光重合開始剤と光増感剤との重量
比が３／１、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマ
ーの合計量との重量比が６／１００、そして、メチルエ
チルケトンとシクロヘキサノンとの重量比が１／１とな
るように調節した。塗布液中の酸化錫の分散・安定性を
沈降試験により評価した。塗布液を静置して１００時間
後に、上澄み液が現れなければＡ、現れればＢとした。
結果は第４表に示す。実施例１０で作成したハードコー
ト層の上に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで均一
に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。このよう
にして、厚さ（乾燥膜厚）が６０ｎｍの高屈折率層を形
成した。高屈折率層の上に、実施例１０と同様に厚さ
（乾燥膜厚）が９５ｎｍの低屈折率層を形成した。この
ようにして反射防止膜を作成し、実施例１０と同様に評
価した。結果は第４表に示す。

【０１２７】［実施例１３］酸化錫（一次粒子重量平均
粒径：１０ｎｍ）２０重量部、下記のアニオン性モノマ
ー（４）３重量部およびシクロヘキサノン７７重量部
を、サンドグラインダーミルにより分散し、酸化錫分散
物を調製した。

【０１２８】

【化１３】

【０１２９】酸化錫分散物に、グリセロールジメタクリ
レート（ブレンマーＧＭＲ、日本油脂（株）製）、光重
合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）
製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを添
加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．６６とな
るように調節した。具体的には、モノマーの合計量（グ
リセロールジメタクリレートおよびアニオン性モノマー
（３）の合計量）と酸化錫との重量比が３０．０／７
０．０調節した以外は、実施例１２と同様に調節した。
塗布液中の酸化錫の分散・安定性を沈降試験により評価
した。塗布液を静置して１００時間後に、上澄み液が現
れなければＡ、現れればＢとした。結果は第４表に示
す。実施例１０で作成したハードコート層の上に、高屈
折率層用塗布液をバーコーターで均一に塗布し、紫外線
を照射し、さらに１００℃で１時間加熱して層を硬化さ
せた。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が６０ｎｍの
高屈折率層を形成した。高屈折率層の上に、実施例１０
と同様に厚さ（乾燥膜厚）が９５ｎｍの低屈折率層を形
成した。このようにして反射防止膜を作成し、実施例１
０と同様に評価した。結果は第４表に示す。

【０１３０】［実施例１４］酸化錫（一次粒子重量平均
粒径：１０ｎｍ）２０重量部、下記のアニオン性モノマ
ー（５）３重量部およびシクロヘキサノン７７重量部
を、サンドグラインダーミルにより分散し、酸化錫分散
物を調製した。

【０１３１】

【化１４】

【０１３２】酸化錫分散物に、下記のエポキシ化シクロ
ヘキサン系モノマー（エポリードＧＴ３００、ダイセル
化学工業（株））、下記の芳香族スルホニウム塩（光重
合開始剤）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノ
ンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．６
６となるように調節した。具体的には、モノマーの合計
量（エポキシ化シクロヘキサン系モノマーおよびアニオ
ン性モノマー（５）の合計量）と酸化錫との重量比が３
０．０／７０．０、芳香族スルホニウム塩（光重合開始
剤）とモノマーの合計量との重量比が６／１００、そし
て、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの重量比
が１／１となるように調節した。

【０１３３】

【化１５】

【０１３４】

【化１６】

【０１３５】塗布液中の酸化錫の分散・安定性を沈降試
験により評価した。塗布液を静置して１００時間後に、
上澄み液が現れなければＡ、現れればＢとした。結果は
第４表に示す。実施例１０で作成したハードコート層の
上に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで均一に塗布
し、紫外線を照射し、さらに１００℃で１時間加熱して
層を硬化させた。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が
６０ｎｍの高屈折率層を形成した。高屈折率層の上に、
実施例１０と同様に厚さ（乾燥膜厚）が９５ｎｍの低屈
折率層を形成した。このようにして反射防止膜を作成
し、実施例１０と同様に評価した。結果は第４表に示
す。

【０１３６】［実施例１５］二酸化チタン（一次粒子重
量平均粒径：３０ｎｍ）２０重量部、下記のアニオン性
モノマー（６）３重量部、ｎ−オクチルアミン０．３重
量部およびシクロヘキサノン７６．７重量部を、サンド
グラインダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を
調製した。

【０１３７】

【化１７】

【０１３８】上記の二酸化チタン分散物を用いた以外
は、実施例１０と同様にして反射防止膜を作成し、評価
した。結果は第４表に示す。

【０１３９】［実施例１６］二酸化チタン（一次粒子重
量平均粒径：３０ｎｍ）３０重量部、実施例１で用いた
アニオン性モノマー（１）２．２５重量部、実施例１で
用いたアニオン性モノマー（２）２．２５重量部、実施
例５で用いたカチオン性モノマー０．３重量部およびシ
クロヘキサノン６５．２重量部を、サンドグラインダー
ミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【０１４０】上記の二酸化チタン分散物を用いた以外
は、実施例１０と同様にして反射防止膜を作成し、評価
した。結果は第４表に示す。

【０１４１】［実施例１７］実施例１０で作成したシラ
ンカップリング剤処理したシリカ微粒子の分散物に、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、
日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキュア９０
７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥ
ＴＸ、日本化薬（株）製）、イソプロピルアルコールお
よびジアセトンアルコールを添加して低屈折率層用塗布
液を調製した。添加量は、低屈折率層の屈折率が１．５
０となるように調節した。具体的には、表面処理したシ
リカ微粒子とジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トとの重量比が５６．７／４３．３、光重合開始剤と光
増感剤との重量比が２／１、光重合開始剤と光増感剤の
合計量とジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと
の重量比が６／１００、そして、シリカ微粒子分散物中
のメタノールと、イソプロパノールとジアセトンアルコ
ールとの重量比が１５／６５／２０となるように調節し
た。低屈折率層用塗布液を実施例１０で形成した高屈折
率層の上に、バーコーターを用いて均一に塗布し、紫外
線照射して硬化させ、ミクロボイドを含まない低屈折率
層（乾燥膜厚：９５ｎｍ）を形成した。このようにし
て、反射防止膜を作成した。得られた反射防止膜につい
て、実施例１０と同様に評価した。結果を第４表に示
す。

【０１４２】［比較例７］ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）に、光
重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社
製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサ御
を添加して塗布液を調製した。添加量は、層の屈折率が
１．５３となるように調節した。具体的には、光重合開
始剤と光増感剤との重量比が３／１、そして光重合開始
剤と光増感剤の合計量とジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートとの重量比が６／１００となるように調節
した。塗布液を実施例１０で形成したハードコート層の
上に、バーコーターを用いて均一に塗布し、紫外線照射
して硬化させ、塗布層（乾燥膜厚：６０ｎｍ）を形成し
た。塗布層の上に、実施例１７と同様に低屈折率層を形
成した。このようにして、反射防止膜を作成した。得ら
れた反射防止膜について、実施例１０と同様に評価し
た。結果を第４表に示す。

【０１４３】

【表４】 第４表（高屈折率層の評価） ──────────────────────────────────── 番号 高屈折率層ポリマー 高屈折率層粒子 平均粒径 分散 ヘイズ 強度 ──────────────────────────────────── 実10 アニオン性架橋 二酸化チタン ５８ｎｍ Ａ ０．３％ ３Ｈ 比４ 架橋のみ 二酸化チタン ２５３ｎｍ Ｂ ３０％ ３Ｈ 比５ 架橋＋界面活性剤 二酸化チタン ５８ｎｍ Ａ ０．３％ ３Ｂ 比６ 架橋＋界面活性剤 二酸化チタン ２０５ｎｍ Ｂ ２７％ Ｂ 実11 アニオン性架橋 二酸化チタン ５８ｎｍ Ａ ０．３％ ３Ｈ 実12 アニオン性架橋 酸化錫 ５５ｎｍ Ａ ０．１％ ２Ｈ 実13 アニオン性架橋 酸化錫 ５５ｎｍ Ａ ０．１％ ２Ｈ 実14 アニオン性架橋 酸化錫 ５５ｎｍ Ａ ０．１％ ２Ｈ 実15 アニオン性架橋 二酸化チタン ５８ｎｍ Ａ ０．３％ ３Ｈ 実16 両性架橋 二酸化チタン ５５ｎｍ Ａ ０．２％ ３Ｈ 実17 両性架橋 二酸化チタン ５５ｎｍ Ａ ０．３％ ３Ｈ 比７ 架橋のみ なし − − ０％ ３Ｈ ────────────────────────────────────

【０１４４】

【表５】 第４表（反射防止膜の評価） ──────────────────────────────────── 番号 低屈折率層のミクロボイド ヘイズ 強度 平均反射率 ──────────────────────────────────── 実10 あり ０．４％ ３Ｈ ０．６２％ 比４ あり ２７％ ３Ｈ 測定不能 比５ あり ０．４％ ３Ｂ ０．６３％ 比６ あり ２４％ Ｂ 測定不能 実11 あり ０．３％ ３Ｈ ０．６０％ 実12 あり ０．２％ ２Ｈ ０．８５％ 実13 あり ０．２％ ２Ｈ ０．８３％ 実14 あり ０．２％ ２Ｈ ０．８２％ 実15 あり ０．４％ ３Ｈ ０．６３％ 実16 あり ０．３％ ３Ｈ ０．６０％ 実17 なし ０．３％ ３Ｈ １．３５％ 比７ なし ０．２％ ３Ｈ ４．２０％ ────────────────────────────────────

【０１４５】［実施例１８］実施例１０で作成した高屈
折率層の上に、光架橋性含フッ素ポリマーからなる乾燥
膜厚が１００ｎｍの低屈折率層（屈折率：１．４０、鉛
筆硬度：２Ｈ）を設けた。得られた反射防止膜につい
て、ヘイズ、強度（鉛筆硬度）および平均反射率を実施
例１０と同様に評価した。さらに、防汚性を評価するた
め、水の接触角も測定した。結果は第５表に示す。

【０１４６】［実施例１９］実施例１０で作成した反射
防止膜の低屈折率層の上に、含フッ素シランカップリン
グ剤を１０ｍｇ／ｍ² 塗布し、１００℃で１時間加熱し
た。得られた反射防止膜について、ヘイズ、強度（鉛筆
硬度）および平均反射率を実施例１０と同様に評価し
た。さらに、防汚性を評価するため、水の接触角も測定
した。結果は第５表に示す。

【０１４７】

【表６】 第５表 ──────────────────────────────────── 試料番号 ヘイズ 強度 平均反射率 接触角 ──────────────────────────────────── 実施例１８ ０．４％ ２Ｈ ０．６２％ １００゜ 実施例１９ ０．２％ ３Ｈ ０．６１％ １０５゜ ────────────────────────────────────

【０１４８】［実施例２０］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例１０で調製した二
酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開
始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メ
チルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを添加した。
添加量は、中屈折率層の屈折率が１．６６となるように
調節した。具体的には、モノマーの合計量（ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー
（１）およびアニオン性モノマー（２）の合計量）と二
酸化チタンとの重量比が７１．６／２８．４、光重合開
始剤と光増感剤との重量比が３／１、光重合開始剤と光
増感剤の合計量とモノマーの合計量との重量比が６／１
００、そして、メチルエチルケトンとシクロヘキサノン
との重量比が１／１となるように調節した。塗布液中の
二酸化チタンの分散・安定性を、実施例１０と同様に評
価したところ、良好な結果（Ａ）が得られた。

【０１４９】（中屈折率層の形成）実施例１０で形成し
たハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコ
ーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７９ｎｍの中
屈折率層を形成した。

【０１５０】（高屈折率層用塗布液の調製）実施例１０
で調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノ
ンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．９
５となるように調節した。具体的には、モノマーの合計
量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニ
オン性モノマー（１）およびアニオン性モノマー（２）
の合計量）と二酸化チタンとの重量比が２６．０／７
４．０、光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／１、
光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量と
の重量比が６／１００、そして、メチルエチルケトンと
シクロヘキサノンとの重量比が１／１となるように調節
した。塗布液中の二酸化チタンの分散・安定性を、実施
例１０と同様に評価したところ、良好な結果（Ａ）が得
られた。

【０１５１】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで均一に塗布
し、紫外線を照射して層を硬化させた。このようにし
て、厚さ（乾燥膜厚）が１２９ｎｍの高屈折率層を形成
した。中屈折率層と高屈折率層の積層膜について、ヘイ
ズおよび強度（鉛筆硬度）を実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１５２】（低屈折率層の形成）実施例１７で調製し
た低屈折率層用塗布液を、高屈折率層の上にバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ミクロ
ボイドを含まない厚さ（乾燥膜厚）が８５ｎｍの低屈折
率層を設けた。作成した反射防止膜のヘイズ、強度（鉛
筆硬度）および平均反射率を、実施例１０と同様に評価
した。結果は第６表に示す。

【０１５３】［比較例８］比較例５で調製した二酸化チ
タン分散物を用いて中屈折率層用塗布液と高屈折率層用
塗布液を調製し、それぞれの塗布液において、光重合開
始剤と光増感剤の合計量とジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレートと界面活性剤の合計量との重量比を６／
１００に調節した以外は、実施例２０と同様にして反射
防止膜を作成して評価した。結果は第６表に示す。

【０１５４】［実施例２１］実施例１０で調製した低屈
折率層用塗布液を、実施例２０で作成した高屈折率層の
上にバーコーターで均一に塗布し、紫外線を照射して硬
化させ、ミクロボイドを含む厚さ（乾燥膜厚）が９２ｎ
ｍの低屈折率層を設けた。作成した反射防止膜を実施例
２０と同様に評価した。結果は第６表に示す。

【０１５５】［実施例２２］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例１６で調製した二
酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開
始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メ
チルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを添加した。
添加量は、中屈折率層の屈折率が１．６６となるように
調節した。具体的には、モノマーの合計量（ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー
（１）、アニオン性モノマー（２）およびカチオン性モ
ノマーの合計量）と二酸化チタンとの重量比が７１．６
／２８．４、光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／
１、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計
量との重量比が６／１００、そして、メチルエチルケト
ンとシクロヘキサノンとの重量比が１／１となるように
調節した。塗布液中の二酸化チタンの分散・安定性を、
実施例１０と同様に評価したところ、良好な結果（Ａ）
が得られた。

【０１５６】（中屈折率層の形成）実施例１０で形成し
たハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコ
ーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７９ｎｍの中
屈折率層を形成した。

【０１５７】（高屈折率層用塗布液の調製）実施例１６
で調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノ
ンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．９
５となるように調節した。具体的には、モノマーの合計
量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニ
オン性モノマー（１）、アニオン性モノマー（２）およ
びカチオン性モノマーの合計量）と二酸化チタンとの重
量比が２６．０／７４．０、光重合開始剤と光増感剤と
の重量比が３／１、光重合開始剤と光増感剤の合計量と
モノマーの合計量との重量比が６／１００、そして、メ
チルエチルケトンとシクロヘキサノンとの重量比が１／
１となるように調節した。塗布液中の二酸化チタンの分
散・安定性を、実施例１０と同様に評価したところ、良
好な結果（Ａ）が得られた。

【０１５８】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで均一に塗布
し、紫外線を照射して層を硬化させた。このようにし
て、厚さ（乾燥膜厚）が１２９ｎｍの高屈折率層を形成
した。中屈折率層と高屈折率層の積層膜について、ヘイ
ズおよび強度（鉛筆硬度）を実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１５９】（低屈折率層の形成）実施例１０で調製し
た低屈折率層用塗布液を、高屈折率層の上にバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ミクロ
ボイドを含む厚さ（乾燥膜厚）が９２ｎｍの低屈折率層
を設けた。作成した反射防止膜のヘイズ、強度（鉛筆硬
度）および平均反射率を、実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１６０】［実施例２３］ （中屈折率層用塗布液の調製）酸化錫（一次粒子重量平
均粒径：１０ｎｍ）３０重量部、実施例１で用いたアニ
オン性モノマー（１）２．２５重量部、実施例１で用い
たアニオン性モノマー（２）２．２５重量部およびシク
ロヘキサノン６５．５重量部を、サンドグラインダーミ
ルにより分散し、酸化錫分散物を調製した。酸化錫分散
物に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｄ
ＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュ
アーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メチルエチルケト
ンおよびシクロヘキサノンを添加した。添加量は、中屈
折率層の屈折率が１．６６となるように調節した。具体
的には、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘ
キサアクリレート、アニオン性モノマー（１）およびア
ニオン性モノマー（２）の合計量）と酸化錫との重量比
が３０．０／７０．０、光重合開始剤と光増感剤との重
量比が３／１、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノ
マーの合計量との重量比が６／１００、そして、メチル
エチルケトンとシクロヘキサノンとの重量比が１／１と
なるように調節した。塗布液中の酸化錫の分散・安定性
を、実施例１０と同様に評価したところ、良好な結果
（Ａ）が得られた。

【０１６１】（中屈折率層の形成）実施例１０で作成し
たハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコ
ーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７９ｎｍの中
屈折率層を形成した。

【０１６２】（高屈折率層の形成）中屈折率層の上に、
実施例２２で調製した高屈折率層用塗布液をバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が１２９ｎｍの高屈
折率層を形成した。中屈折率層と高屈折率層の積層膜に
ついて、ヘイズおよび強度（鉛筆硬度）を実施例１０と
同様に評価した。結果は第６表に示す。

【０１６３】（低屈折率層の形成）実施例１０で調製し
た低屈折率層用塗布液を、高屈折率層の上にバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ミクロ
ボイドを含む厚さ（乾燥膜厚）が９２ｎｍの低屈折率層
を設けた。作成した反射防止膜のヘイズ、強度（鉛筆硬
度）および平均反射率を、実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１６４】［実施例２４］ （中屈折率層用塗布液の調製）実施例１６で調製した二
酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、光重合開
始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）、メ
チルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを添加した。
添加量は、中屈折率層の屈折率が１．８０となるように
調節した。具体的には、モノマーの合計量（ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー
（１）、アニオン性モノマー（２）およびカチオン性モ
ノマーの合計量）と二酸化チタンとの重量比が４５．２
／５４．８、光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／
１、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計
量との重量比が６／１００、そして、メチルエチルケト
ンとシクロヘキサノンとの重量比が１／１となるように
調節した。塗布液中の二酸化チタンの分散・安定性を、
実施例１０と同様に評価したところ、良好な結果（Ａ）
が得られた。

【０１６５】（中屈折率層の形成）実施例１０で形成し
たハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液をバーコ
ーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ
た。このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が７８ｎｍの中
屈折率層を形成した。

【０１６６】（高屈折率層用塗布液の調製）実施例１６
で調製した二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノ
ンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．９
５となるように調節した。具体的には、モノマーの合計
量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニ
オン性モノマー（１）、アニオン性モノマー（２）およ
びカチオン性モノマーの合計量）と二酸化チタンとの重
量比が２６．０／７４．０、光重合開始剤と光増感剤と
の重量比が３／１、光重合開始剤と光増感剤の合計量と
モノマーの合計量との重量比が６／１００、そして、メ
チルエチルケトンとシクロヘキサノンとの重量比が１／
１となるように調節した。塗布液中の二酸化チタンの分
散・安定性を、実施例１０と同様に評価したところ、良
好な結果（Ａ）が得られた。

【０１６７】（高屈折率層の形成）上記中屈折率層の上
に、高屈折率層用塗布液をバーコーターで均一に塗布
し、紫外線を照射して層を硬化させた。このようにし
て、厚さ（乾燥膜厚）が５８ｎｍの高屈折率層を形成し
た。中屈折率層と高屈折率層の積層膜について、ヘイズ
および強度（鉛筆硬度）を実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１６８】（低屈折率層の形成）実施例１０で調製し
た低屈折率層用塗布液を、高屈折率層の上にバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ミクロ
ボイドを含む厚さ（乾燥膜厚）が９５ｎｍの低屈折率層
を設けた。作成した反射防止膜のヘイズ、強度（鉛筆硬
度）および平均反射率を、実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１６９】［実施例２５］ （高屈折率層用塗布液の調製）二酸化チタン（一次粒子
重量平均粒径：１１０ｎｍ）２０．０重量部、実施例１
で用いたアニオン性モノマー（１）１．５重量部、実施
例１で用いたアニオン性モノマー（２）１．５重量部、
実施例５で用いたカチオン性モノマー０．２重量部およ
びシクロヘキサノン７６．８重量部を、サンドグライン
ダーミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製し
た。

【０１７０】二酸化チタン分散物に、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）
製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギ
ー社製）、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬
（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノ
ンを添加した。添加量は、高屈折率層の屈折率が１．９
５となるように調節した。具体的には、モノマーの合計
量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニ
オン性モノマー（７）およびカチオン性モノマーの合計
量）と二酸化チタンとの重量比が２６．０／７４．０、
光重合開始剤と光増感剤との重量比が３／１、光重合開
始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量との重量比
が６／１００、そして、メチルエチルケトンとシクロヘ
キサノンとの重量比が１／１となるように調節した。塗
布液中の二酸化チタンの分散・安定性を、実施例１０と
同様に評価したところ、良好な結果（Ａ）が得られた。

【０１７１】（高屈折率層の形成）実施例２２で形成し
た中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液をバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させた。
このようにして、厚さ（乾燥膜厚）が１２９ｎｍの高屈
折率層を形成した。中屈折率層と高屈折率層の積層膜に
ついて、ヘイズおよび強度（鉛筆硬度）を実施例１０と
同様に評価した。結果は第６表に示す。

【０１７２】（低屈折率層の形成）実施例１０で調製し
た低屈折率層用塗布液を、高屈折率層の上にバーコータ
ーで均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させ、ミクロ
ボイドを含む厚さ（乾燥膜厚）が９２ｎｍの低屈折率層
を設けた。作成した反射防止膜のヘイズ、強度（鉛筆硬
度）および平均反射率を、実施例１０と同様に評価し
た。結果は第６表に示す。

【０１７３】［比較例９］二酸化チタン（一次粒子重量
平均粒径：２００ｎｍ）２０．０重量部、実施例１で用
いたアニオン性モノマー（１）１．５重量部、実施例１
で用いたアニオン性モノマー（２）１．５重量部、実施
例５で用いたカチオン性モノマー０．２重量部およびシ
クロヘキサノン７６．８重量部を、サンドグラインダー
ミルにより分散し、二酸化チタン分散物を調製した。上
記二酸化チタン分散物を用いた以外は、実施例２５と同
様にして反射防止膜を作成して評価した。結果は第６表
に示す。

【０１７４】

【表７】 第６表（中屈折率層および高屈折率層の構成） ──────────────────────────────────── 試料 中屈折率層 高屈折率層 番号 バインダーポリマー 粒子 平均粒径 バインダーポリマー 粒子 平均粒径 ──────────────────────────────────── 実20 アニオン性架橋 Ｔｉ ５８ｎｍ アニオン性架橋 Ｔｉ ５８ｎｍ 比８ 架橋＋界面活性剤 Ｔｉ ５８ｎｍ 架橋＋界面活性剤 Ｔｉ ５８ｎｍ 実21 アニオン性架橋 Ｔｉ ５８ｎｍ アニオン性架橋 Ｔｉ ５８ｎｍ 実22 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 実23 アニオン性架橋 Ｓｎ ５５ｎｍ 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 実24 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 実25 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 両性架橋 Ｔｉ １１５nm 比９ 両性架橋 Ｔｉ ５５ｎｍ 両性架橋 Ｔｉ ２１５nm ────────────────────────────────────

【０１７５】

【表８】 第６表（反射防止膜の評価） ──────────────────────────────────── 試料 低屈折率層の 中／高屈折率層積層体 反射防止膜 番号 ミクロボイド ヘイズ 強度 ヘイズ 強度 平均反射率 ──────────────────────────────────── 実20 なし ０．４％ ３Ｈ ０．３％ ３Ｈ １．１５％ 比８ なし ０．４％ ４Ｂ ０．３％ ３Ｂ １．１８％ 実21 あり ０．４％ ３Ｈ ０．４％ ３Ｈ ０．３１％ 実22 あり ０．３％ ３Ｈ ０．３％ ３Ｈ ０．３２％ 実23 あり ０．３％ ３Ｈ ０．４％ ３Ｈ ０．３２％ 実24 あり ０．３％ ３Ｈ ０．３％ ３Ｈ ０．３４％ 実25 あり １．０％ ３Ｈ １．５％ ３Ｈ ０．４５％ 比９ あり １２％ ３Ｈ １０％ ３Ｈ 測定不能 ────────────────────────────────────

【０１７６】［実施例２６］実施例２４で作成した高屈
折率層の上に、光架橋性含フッ素ポリマーからなる乾燥
膜厚が９５ｎｍの低屈折率層（屈折率：１．４０、鉛筆
硬度：２Ｈ）を設けた。得られた反射防止膜について、
ヘイズ、強度（鉛筆硬度）および平均反射率を実施例１
０と同様に評価した。さらに、防汚性を評価するため、
水の接触角も測定した。結果は第７表に示す。

【０１７７】［実施例２７］実施例２３で作成した反射
防止膜の低高屈折率層の上に、含フッ素シランカップリ
ング剤を１０ｍｇ／ｍ² 塗布し、１００℃で１時間加熱
した。得られた反射防止膜について、ヘイズ、強度（鉛
筆硬度）および平均反射率を実施例１０と同様に評価し
た。さらに、防汚性を評価するため、水の接触角も測定
した。結果は第７表に示す。

【０１７８】［実施例２８］実施例２４で作成した反射
防止膜の低高屈折率層の上に、含フッ素シランカップリ
ング剤を１０ｍｇ／ｍ² 塗布し、１００℃で１時間加熱
した。得られた反射防止膜について、ヘイズ、強度（鉛
筆硬度）および平均反射率を実施例１０と同様に評価し
た。さらに、防汚性を評価するため、水の接触角も測定
した。結果は第７表に示す。

【０１７９】

【表９】 第７表 ──────────────────────────────────── 試料番号 ヘイズ 強度 平均反射率 接触角 ──────────────────────────────────── 実施例２６ ０．３％ ２Ｈ ０．３４％ １００゜ 実施例２７ ０．４％ ３Ｈ ０．３５％ １０５゜ 実施例２８ ０．３％ ３Ｈ ０．３３％ １０６゜ ────────────────────────────────────

【図面の簡単な説明】

【図１】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。

【図２】高屈折率層の断面模式図である。

【図３】低屈折率層の断面模式図である。

【符号の説明】

１ 低屈折率層 ２ 高屈折率層 ３ ハードコート層 ４ 透明支持体 ５ 中屈折率層 １１ 低屈折率層の無機微粒子 １２ 低屈折率層内のミクロボイド １３ 低屈折率層のバインダー ２１ 高屈折率層の無機微粒子 ２２ 高屈折率層のバインダー

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安田 知一 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 屈折率が１．６５乃至２．４０である高
   屈折率層と、屈折率が１．２０乃至１．５５である低屈
   折率層とを有する反射防止膜であって、高屈折率層が、
   １乃至２００ｎｍの平均粒径を有する無機微粒子を５乃
   至６５体積％および架橋しているアニオン性基を有する
   ポリマーを３５乃至９５体積％含むことを特徴とする反
   射防止膜。
2. 【請求項２】 高屈折率層のアニオン性基を有するポリ
   マーが、リン酸基またはスルホン酸基をアニオン性基と
   して有する請求項１に記載の反射防止膜。
3. 【請求項３】 高屈折率層のアニオン性基を有するポリ
   マーが、さらにアミノ基またはアンモニウム基を有する
   請求項１に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 高屈折率層の無機微粒子が、１．８０乃
   至２．８０の屈折率を有する請求項１に記載の反射防止
   膜。
5. 【請求項５】 高屈折率層が塗布により形成された層で
   あり、アニオン性基を有するポリマーが層の塗布と同時
   または塗布後に、重合反応により形成されたポリマーで
   ある請求項１に記載の反射防止膜。
6. 【請求項６】 低屈折率層が、０．５乃至２００ｎｍの
   平均粒径を有する無機微粒子を５０乃至９５重量％およ
   びポリマーを５乃至５０重量％含み、該無機微粒子を少
   なくとも２個以上積み重ねることにより微粒子間にミク
   ロボイドが形成されている層である請求項１に記載の反
   射防止膜。
7. 【請求項７】 屈折率が１．６５乃至２．４０である高
   屈折率層と、屈折率が１．２０乃至１．５５である低屈
   折率層とを有し、高屈折率層が、１乃至２００ｎｍの平
   均粒径を有する無機微粒子を５乃至６５体積％および架
   橋しているアニオン性基を有するポリマーを３５乃至９
   ５体積％含む反射防止膜を、高屈折率層が画像表示装置
   側となるように配置したことを特徴とする画像表示装
   置。