JP2007507342A - ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品 - Google Patents

ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品 Download PDF

Info

Publication number
JP2007507342A
JP2007507342A JP2006532119A JP2006532119A JP2007507342A JP 2007507342 A JP2007507342 A JP 2007507342A JP 2006532119 A JP2006532119 A JP 2006532119A JP 2006532119 A JP2006532119 A JP 2006532119A JP 2007507342 A JP2007507342 A JP 2007507342A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
mixture
reactive
acrylate
nanoparticles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006532119A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007507342A5 (ja
Inventor
ジェンス, クリストフ シーズ,
グイドー, ジョセフィーナ, ウィルヘルムス メイジャース,
アツェ, ジャン ニジェンヒュイ,
エドウィン クリエ,
クリストファー, フレデリック トロンシェ,
ジョン, エドモンド サウスウェル,
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DSM IP Assets BV
Original Assignee
DSM IP Assets BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DSM IP Assets BV filed Critical DSM IP Assets BV
Publication of JP2007507342A publication Critical patent/JP2007507342A/ja
Publication of JP2007507342A5 publication Critical patent/JP2007507342A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82BNANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
    • B82B3/00Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/4584Coating or impregnating of particulate or fibrous ceramic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81Coating or impregnation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • C09D7/62Additives non-macromolecular inorganic modified by treatment with other compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/425Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a porous layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/08Ingredients agglomerated by treatment with a binding agent
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249967Inorganic matrix in void-containing component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249978Voids specified as micro
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/249921Web or sheet containing structurally defined element or component
    • Y10T428/249953Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
    • Y10T428/249978Voids specified as micro
    • Y10T428/249979Specified thickness of void-containing component [absolute or relative] or numerical cell dimension
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31909Next to second addition polymer from unsaturated monomers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855Of addition polymer from unsaturated monomers
    • Y10T428/31935Ester, halide or nitrile of addition polymer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • General Preparation And Processing Of Foods (AREA)

Abstract

本発明は、ナノ構造化および/またはナノポーラス表面の新規作製方法、ナノ構造化および/またはナノポーラス表面を有するコーティング、および、前記コーティングを含む物品に関する。本発明はまた、特に反射防止膜としての、本発明のコーティングの使用に関する。表面ナノ構造化および/またはナノポーラスコーティングの作製方法は、a)i)反応性ナノ粒子と、ii)少なくとも1種の溶媒と、iii)場合によって、少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物とを含む混合物を、前記混合物が透明基材に塗布され、その表面で硬化した後、コーティングを有さない同じ基材と比較して、400〜800nmの電磁スペクトルの少なくとも一部分について透過率を少なくとも0.5%増大させる量で基材に塗布するステップと、b)基材に塗布された前記混合物において架橋および/または重合を誘導するステップとを含む方法である。
【選択図】 なし

Description

発明の詳細な説明
本発明は、ナノ構造化および/またはナノポーラス表面の新規作製方法、ナノ構造化および/またはナノポーラス表面を有するコーティング、ならびに前記コーティングを含む物品に関する。本発明はまた、特に反射防止膜としての前記コーティングの使用に関する。
例えば、マイクロエレクトロニクス、ディスプレイ用の反射防止膜、および、超疎水性または自浄性の表面における様々な用途のための魅力のある特性を達成することが望まれているため、表面およびコーティングにおけるサイズをさらに一層小さくするための努力が、なされている。ナノ構造化された表面またはコーティングを作製するための数々の技術は2つのクラスのいずれかに適合すると見なすことができる。
第1のクラスはトップダウン法として知られており、主に、徐々に段々と小さくなるサイズをフォトリソグラフィープロセスで製造することに関連している。トップダウンリソグラフィー技術は、マイクロプロセッサー分野におけるフォトレジストについては当てはまるように、規則正しい直線的な造作物が要求される場合に特に適用される。ランダムで、不規則な構造物の製造、および、大きな表面積(dm〜m)でのこれらの技術による構造化は、極めて困難であり、時間がかかり、したがって、費用がかかる。
第2のクラスのナノ構造化技術は、いわゆるボトムアップ技術と見なすことができ、通常の場合、2つの方法で達成することができる相分離に基づいている。第1は、溶媒が蒸発しているときにおける2つの非相溶性ポリマーの相分離によってである(例えば、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレン、Steiner他、Science、第283巻、520〜522頁、1999)。その後、ナノ構造が、ポリマーのうち一つのみを溶解する選択的な溶媒によりポリマーの一つを除くことによって形成される。
第2は、相分離を、少なくとも1つの成分が架橋することができ、かつ、少なくとも1つの他の成分が架橋することができない混合物を架橋することによって誘導することができる(Ibn−ElhajおよびSchadt、Nature、第410巻、796〜799頁、2001)。混合物は、架橋する前は均質であり、相分離が、架橋した網目組織の形成時に生じる。ナノ構造が非架橋性成分の除去によって形成される。相分離は動的プロセスであるので、上記技術の両方のもとで形成されるサイズおよび分布は相分離の速度および速度論に強く依存している。温度、ならびに、光誘導による架橋の場合には、光開始剤濃度および/または放射線強度などのパラメータはすべてが、ナノ構造化されたコーティングの造作物サイズに影響を及ぼす。したがって、加工が複雑になり、再現性が不良である。また、成分の一方を除くための必要な洗浄は、大きな表面領域については特に、そのような技術の商業化における相当大きな障害である。したがって、ナノ構造化されたコーティングの製造を可能にする簡便な技術が求められている。
驚くべきことに、非常に洗練され、かつ簡便な方法が今回、表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングまたはフィルムを作製するために見出された。本発明の方法は、ナノ構造化および/またはナノポーラスコーティングの作製方法であり、
a)i)反応性の有機基をその表面に有する反応性ナノ粒子、
ii)溶媒、
iii)場合によって、少なくとも1つの重合可能な基を有し、配合物の重合後にナノ構造化表面の形成を可能にする最低限の量の化合物
を含む混合物を基材に塗布するステップと、
b)前記混合物を前記基材上で重合するステップとを含む。
驚くべきことに、少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物を全く使用しないか、または単にわずかに使用することによって、ナノ構造化された表面を有するコーティングまたはフィルムが本発明の方法により得られる。そのうえ、そのようなコーティングまたはフィルムは好都合な機械的特性を有しており、いくつかの基材に良好に接着する。そのようなコーティングまたはフィルムは様々な用途を有しており、超疎水性の性質を有するフィルムまたはコーティング、特に、反射防止特性を有するコーティングはそのような用途の1つである。
米国特許第2,601,123号から、表面反射を低下させるためのコーティングがガラス基材のコーティングについて知られている。しかしながら、このコーティングは非常に高い温度で焼結しなければならず、その結果、ポリマー基材における塗布には適していない。そのうえ、米国特許第2,601,123号は、非常に旧式かつ放棄された技術に関連する。
反射防止特性が、慎重に選択された厚さおよび屈折率をそれぞれのコーティングが有するコーティング多層系を作製することによって得られることが米国特許第5582859号から知られている。しかしながら、多層コーティングは2つの問題を欠点として有する。第1は、多層コーティングの反射防止性能が角度依存性を欠点として有するということである(D.Chen、Solar Energy Materials&Solar Cells、86(2001)、313〜336)。このことは、透過率が、垂直な角度から、傾斜した角まで変化することを意味する。第2に、精密に制御された厚さおよび光学的性質を有するそのような多層コーティングを再現可能に加工することが困難であり、したがって、費用および時間がかかる。
また、米国特許第6,455,103号では、類似する多層反射防止膜が適用されており、これは、上記で説明されたのと同じ問題をもたらす。
ドイツ国公開第19746885号では、反応性ナノ粒子を含む混合物により基材をコーティングするための方法が開示される。しかしながら、本発明の表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングをいかにして得るかを示す教示はなく、また、反射防止特性が不良である。
ステップa)における反応性ナノ粒子は常に2つ以上の反応基をその表面に有するので、ステップbにおける重合は、相互につながれたナノ粒子を含む架橋相の形成をもたらす。したがって、本明細書では、重合する、または重合の用語は、架橋する、または架橋されたと交換可能に使用され、重合可能な基は架橋基と交換可能に使用される。
本発明の文中では、表面ナノ構造化されたコーティングの用語は、ある表面粗さを有するコーティングを示し、また、そのような表面において、表面上の造作物の大きさが、個々のナノ粒子の最小断面外形寸法よりも大きいか、またはそれに等しい。好ましくは、造作物の大きさは1200nm未満であり、より好ましくは800nm未満であり、さらにより好ましくは400nm未満であり、最も好ましくは300nm未満である。コーティングにはナノサイズの空隙もまた存在してもよい。
本発明の枠組みにおいて、「ナノ粒子」という用語は、その大部分がマイクロメートルよりも小さい直径を有する粒子として定義される。本発明の枠組みにおいて、ナノ粒子は、アスペクト比(これは、直径により除された長さとして定義される)が1よりも大きいとき、細長い。反応性ナノ粒子自体の作製はこの分野では知られており、例えば、米国特許第06025455号に記載されている。本発明の方法の好ましい実施形態において、すべてのナノ粒子が反応性である。
少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物は、本明細書では、希釈剤または反応性希釈剤の両方としてもまた示される。本明細書において、硬い被膜という用語は、架橋されたポリマー状網目組織においてナノ粒子状化学種(場合により、反応性のナノ粒子状化学種)を含むコーティングを示し、この場合、反応性希釈剤の体積分率は、空隙空間および/または表面ナノ構造がコーティングに存在しないか、または少なくともほとんど存在しないような程度である。
ナノ構造化された表面を得るためには、反応性希釈剤、および、場合によって使用されるさらなる成分が、本発明の方法を用いて得られるコーティングに存在しないか、または比較的少量で存在することが重要である。多すぎる量の反応性希釈剤および場合によって使用されるさらなる成分が使用されるならば、ナノ粒子は埋め込まれ、滑らかな表面を有し、細孔を全く有さないコーティングが得られる。通常、(溶媒蒸発後の)最終的なコーティングにおける反応性希釈剤および最終的にはさらなる成分の量は、体積分率で表されるとき、1−(反応性ナノ粒子のランダム最密充填体積分率)を超え得ない。当業者は、量を変化させ、表面粗さ、または、例えば、コーティングの透過率もしくは反射のようなパラメータをこの量の関数として測定することによって、希釈剤および最終的にはさらなる添加物の量を容易に決定することができる。反応性希釈剤(または場合によって使用されるさらなる添加物)が特定の濃度を超えると、コーティングの表面粗さがなくなり、特別な反射防止特性がもはや検出されない。
さらに、本発明はまた、ナノ構造化および/またはナノポーラスコーティングを作製するための混合物、本発明の方法から得られるコーティングまたはフィルム、前記コーティングを含む物品、および前記コーティングの使用に関連する。
反応性ナノ粒子
好ましい実施形態において、本発明による混合物におけるナノ粒子の大部分は直径が400nm未満であり、より好ましくは、粒子の大部分は直径が50nm未満である。最も好ましくは、すべての粒子が50nm未満の直径を有する。好ましい実施形態において、ナノ粒子の大部分は長さが40〜300nmの範囲にある。好ましくは、使用される粒子は、最終的なコーティングの透明性に影響しない(または著しく影響しない)ような外形寸法を有する。最も好ましくは、0.1マイクロメートルの厚さでコーティングを含む透明基材の曇り度の増大が、そのようなコーティングをまだ含まない基材と比較した場合、2%未満であり、好ましくは1%未満であり、最も好ましくは0.5%未満である。
当業者には自明であるように、ナノ粒子状物質種のランダム充填密度は、ナノ粒子の形状ならびに相対的なサイズおよびサイズ分布によって決定される。したがって、表面ナノ構造および/またはナノ細孔のサイズを精密に制御するために異なる形状およびサイズのナノ粒子を使用することは好都合であろう。
好ましい実施形態において、反応性ナノ粒子はアスペクト比が1よりも大きく、より好ましくは、反応性ナノ粒子はアスペクト比(長さ/直径)が3よりも大きく、さらにより好ましくは5よりも大きく、最も好ましくは、反応性ナノ粒子はアスペクト比が10よりも大きい。細長い反応性ナノ粒子が使用されるならば、なお一層さらに改善された反射防止特性を有するコーティングを得ること、または、より大きい濃度の反応性希釈剤を使用し、これにより、より良好な機械的性質をコーティングに与えることが可能である。より好ましくは、ナノ粒子は芋虫の様である。芋虫の様なナノ粒子の主軸は湾曲している。
粒子の外形寸法を明らかにするための方法には、光学顕微鏡もしくは走査型電子顕微鏡または原子間力顕微鏡(AFM)による画像化が含まれる。
ナノ粒子の外形寸法を測定するために、粒子は、表面に薄い層で塗布される非常に希薄な混合物にされ、その結果、層のSEM写真画像において、1個のナノ粒子が個々に観測可能である。その後、無作為に選ばれた100個のナノ粒子から、それらの外形寸法が決定され、平均値が得られる。芋虫形状のナノ粒子のような、アスペクト比が1よりも大きい粒子の場合、合計長さは、写真面に投影されたときの主軸に沿って、一端から他端まで測定される。直径については、主軸に対して直交し、粒子の一方の側から他方の側まで引くことができる最長の線分が採用される。
本発明の方法において、コーティングは有機ナノ粒子または無機ナノ粒子のいずれかを含むことができる。有機ナノ粒子の例には、カーボンナノチューブまたはナノ球体がある。好ましくは、ナノ粒子は無機ナノ粒子である。好適な無機粒子は、例えば、酸化物粒子である。好ましい酸化物粒子は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムおよび酸化セリウムの群から選択される酸化物の粒子である。異なる酸化物に由来する粒子の混合物を使用すること、または、混合酸化物の粒子を使用することもまた可能である。より好ましくは、ナノ粒子は、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムまたは酸化ケイ素の粒子である。コーティングの屈折率およびコーティング/空気界面の有効屈折率は、部分的には、使用される酸化物の選択によって調節することができる。
ナノ粒子は反応性の有機基をその表面に有する。そのような反応性ナノ粒子は、さらなる非反応性の有機基を含んでもよいし、含まなくてもよい。さらなる非重合性の基を使用して、全体的な極性を調節することができ、したがって、粒子および得られるコーティングの疎水性または親水性を調節することができる。本発明の方法の好ましい実施形態において、すべてのナノ粒子が反応性ナノ粒子である。ナノ粒子の反応基、および、存在するならば、希釈剤の重合可能な基は、ホモ重合反応または共重合反応において重合し得る。そのような場合、反応基は重合可能な基である。共重合反応は、混合物において、重合し得る異なる基が存在するとき、例えば、粒子の基および反応性希釈剤の基が異なる場合に、または、そのような異なる基を含む反応性希釈剤および/または反応性粒子の混合物が使用される場合に可能である。ナノ粒子の反応基は、1つまたは複数の反応性希釈剤の重合により形成されるポリマーの網目組織と反応することもまた可能である。しかしながら、ナノ粒子が架橋相において化学的に相互につながることが重要である。
好ましくは、反応性ナノ粒子の反応基は重合可能な基である。
反応性ナノ粒子自体の作製はこの分野では知られており、例えば、米国特許第06025455号に記載されている。
基材
広範囲の様々な基材を本発明の方法において基材として使用することができる。好適な基材は、例えば、平らまたは湾曲した剛直または柔軟な基材であり、これには、例えば、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリドン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート、ポリテトラフルオロエチレン、ナイロン、ポリノルボルネン、または非晶質固体(例えば、ガラス)、または結晶性物質(例えば、ケイ素またはヒ化ガリウムなど)のフィルムが含まれる。金属性基材もまた使用することができる。ディスプレイ用途における使用のための好ましい基材は、例えば、ガラス、ポリノルボルネン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、セルローストリアセテート、ポリカーボネートおよびポリエチレンナフタレートである。
本発明の方法によって得られる自立した単層の反射防止膜は、フィルムまたはコーティングを基材上に作製し、続いて、フィルムまたはコーティングを架橋後に基材から除くことによって得ることができる。基材からのフィルムまたはコーティングの除去は、常に、架橋後に行わなければならない。
基材への混合物の塗布
混合物は、湿式コーティングデポジションの分野で知られている任意の方法によって基材に塗布することができる。好適な方法の例には、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、フローコーティング、メニスカスコーティング、キャピラリーコーティングおよびロールコーティングがある。
好ましくは、本発明による混合物は単層で塗布される。この場合、混合物をさらなるコーティング(このコーティングが本発明によるコーティングでない限り)の上に塗布してもよい。
典型的には、反応性ナノ粒子は、少なくとも1種の溶媒、ならびに、場合によっては架橋開始剤、および、場合によっては反応性希釈剤と混合され、これにより、選ばれた塗布方法を使用して基材に塗布するのに好適である混合物を作製する。
溶媒
原理的には、広範囲の様々な溶媒を使用することができる。溶媒は、塗布時すなわち溶媒が蒸発した後に、反応性ナノ粒子のランダム最密配置を容易にするために、好ましくは、反応性ナノ粒子の安定な懸濁物を形成する能力を有する。
ナノ粒子は、典型的には、懸濁物の形態で混合物に加えられる。混合物が所望の性質を有するように、懸濁物において使用されるのと同じ溶媒を使用してもよい。しかしながら、他の溶媒もまた使用することができる。
好ましくは、使用される溶媒は、混合物を基材に塗布した後で蒸発する。本発明の方法において、場合によっては混合物を基材に塗布した後で、溶媒の蒸発を助けるために真空中で加熱または処理してもよい。
好適であり得る溶媒の例には、1,4−ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、クロロホルム、クロロフェノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジクロロメタン、ジエチルアセテート、ジエチルケトン、ジメチルカーボネート、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、エタノール、エチルアセテート、m−クレゾール、モノおよびジアルキル置換グリコール、N,N−ジメチルアセトアミド、p−クロロフェノール、1,2−プロパンジオール、1−ペンタノール、1−プロパノール、2−ヘキサノン、2−メトキシエタノール、2−メチル−2−プロパノール、2−オクタノン、2−プロパノール、3−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノン、ヘキサフルオロイソプロパノール、メタノール、メチルアセテート、メチルアセトアセテート、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、n−メチルピロリドン−2、n−ペンチルアセテート、フェノール、テトラフルオロ−n−プロパノール、テトラフルオロイソプロパノール、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンならびに水がある。アルコール、ケトンおよびエステルに基づく溶媒もまた使用することができるが、アクリレート類の溶解性は高分子量アルコールに関して問題となることがある。ハロゲン化溶媒(例えば、ジクロロメタンおよびクロロホルムなど)および炭化水素(例えば、ヘキサンおよびシクロヘキサンなど)もまた好適であり得る。好ましくは、メタノール、メチルエチルケトンまたはイソプロパノールが使用される。
少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物(「希釈剤」または「反応性希釈剤」とも呼ぶ)
原理的には、広範囲の様々な物質が、反応性希釈剤として使用するために好適である。反応性ナノ粒子の相対的な量に対する反応性希釈剤の相対的な量は、ナノ構造化された表面の形成を可能にするように小さくしなければならない。表面ナノ構造および/またはナノ細孔を有するコーティングを決定する方法は、コーティングを透明基材に塗布し、架橋し、続いて透過率を測定することである。好ましくは、混合物における反応性希釈剤および場合によって使用されるさらなる成分の量は非常に低く、100〜200nmの厚さで透明基材の片面にコーティングとして塗布されたときに400〜800nmの間の少なくとも1つの波長において光の透過率を、そのようなコーティングを有さない同じ基材に対して少なくとも0.5%増大させる。好ましくは、透過率の増大は少なくとも0.75%であり、より好ましくは少なくとも1%であり、さらにより好ましくは少なくとも1.5%であり、さらにより好ましくは少なくとも2%であり、さらにより好ましくは少なくとも2.5%であり、最も好ましくは少なくとも3%である。反応性希釈剤の正確な量は、粒子サイズ、形状およびサイズ分布に依存し、したがって、正確に示すことができない。細長いナノ粒子の場合、希釈剤の量は、本発明の方法のステップa)において塗布されたが、溶媒を考慮に入れない混合物の総重量(固体の総重量)に対して40重量%未満としてもよい。好ましくは、希釈剤の量は20重量%未満である。何らかの希釈剤を使用することは必ずしも必要でないが、少なくともある量の希釈剤が存在するとき(例えば、少なくとも1重量%、より好ましくは少なくとも2重量%、さらにより好ましくは少なくとも5重量%、最も好ましくは少なくとも10重量%)、一般にコーティングの機械的性質がより良好になる。この態様に関して、細長い粒子、特にこれらの芋虫の様な細長いナノ粒子の利点が明らかになる。これは、非常に好都合な機械的性質を得るために比較的多い量の反応性希釈剤を塗布し、それにもかかわらず十分に発達したナノ構造化表面を依然として有し、これにより、例えば良好な反射防止特性をもたらすことがこれらの粒子によって可能であるからである。
前述のように、原理的には、広範囲の様々な物質が、反応性希釈剤として使用するために好適である(例えば、架橋基を有するモノマーまたはオリゴマー)。しかし、好ましくは分子あたり1つだけの架橋基を有するモノマーまたはオリゴマーを、少なくとも2つの架橋基を有する他の架橋成分との組合せで使用することができる。好ましくは、分子あたり少なくとも2つ以上の架橋基を有するモノマーまたはオリゴマーが使用される。反応性希釈剤は、ステップbにおける架橋の誘導の後で一緒になって架橋相を形成する化合物の混合物を含むこともまた可能である。そのような混合物は、自身で架橋する化合物(例えば、種々のアクリレートなど)を含むことができ、または、自身では架橋しないが、架橋反応の開始後、別の化合物との組合せで架橋相を形成する化合物(例えば、電子が多い二重結合および電子が不足している二重結合を含む共重合系など、例えばマレアート/ビニルエーテルの共重合系など)を含むことができる。
反応性希釈剤としての使用のために好適であり、かつ、分子あたり少なくとも2つの架橋基を有するモノマーの例には、(メタ)アクリロイル基を含有するモノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、リン酸モノおよびジ(メタ)アクリレート、C7〜C20のアルキルジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリシクロデカンジイルジメチルジ(メタ)アクリレートなど、および、前記モノマーのいずれかのアルコキシル化体(好ましくは、エトキシル体および/またはプロポキシル化体)、ならびに、同様に、ビスフェノールAに対するエチレンオキシド付加物またはプロピレンオキシド付加物であるジオールのジ(メタ)アクリレート、水素化ビスフェノールAに対するエチレンオキシド付加物またはプロピレンオキシド付加物であるジオールのジ(メタ)アクリレート、ジグリシジルエーテルのビスフェノールAに対する(メタ)アクリレート付加物であるエポキシ(メタ)アクリレート、ポリオキシアルキル化ビスフェノールAのジアクリレート、ならびに、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルアクリレートとイソホロンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物(HIH)、ヒドロキシエチルアクリレートとトルエンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレートとの付加物(HTH)、ならびに、アミドエステルアクリレートが含まれる。
分子あたり1つだけのの架橋基を有する好適なモノマーの例には、ビニル基を含有するモノマー、例えば、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン;イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリル酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、カプロラクトンアクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、ベータ−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、フタル酸(メタ)アクリレート、イソブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ブチルカルバミルエチル(メタ)アクリレート、n−イソプロピル(メタ)アクリルアミド フッ素化(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、セチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテルなど、ならびに、下記の式(I)によって表される化合物が含まれる。
式I
CH=C(R)−COO(RO)−R
式中、Rは水素原子またはメチル基であり;Rは、2〜8個(好ましくは2〜5個)の炭素原子を含有するアルキレン基であり;mは0〜12(好ましくは1〜8)の整数であり;Rは水素原子であるか、または、1〜12個(好ましくは1〜9個)の炭素原子を含有するアルキル基であり;あるいは、Rは、1〜2個の炭素原子を有するアルキル基で場合により置換される、4〜20個の炭素原子を有するテトラヒドロフラン基含有アルキル基であり;あるいは、Rは、メチル基で場合により置換される、4〜20個の炭素原子を有するジオキサン基含有アルキル基であり;あるいは、Rは、C〜C12アルキル基(好ましくはC〜Cアルキル基)で場合により置換される芳香族基、および、アルコキシル化された脂肪族単官能性モノマー(例えば、エトキシル化イソデシル(メタ)アクリレートおよびエトキシル化ラウリル(メタ)アクリレートなど)である。
反応性希釈剤として使用される好適なオリゴマーは、例えば、芳香族または脂肪族のウレタンアクリレート、あるいは、フェノール樹脂に基づくオリゴマー(例えば、ビスフェノルエポキシジアクリレート)、ならびに、エトキシラートで伸長された上記オリゴマー鎖のいずれかである。ウレタンオリゴマーは、例えば、ポリオール骨格(例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオールおよびアクリルポリオールなど)をベースとしてもよい。これらのポリオールは、個々または2つ以上の組合せのいずれでも使用することができる。これらのポリオールにおける構造単位の重合様式には特別な制限はない。ランダム重合、塊重合またはグラフト重合のいずれも許容され得る。ウレタンオリゴマーを形成させるための好適なポリオール、ポリイソシアネートおよびヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの例が国際特許出願公開WO00/18696(これは参考として本明細書中に組み入れられる)に開示されている。
一緒になって架橋相の形成をもたらすことができ、したがって、組合せで反応性希釈剤として使用するために好適である化合物の組合せは、例えば、エポキシと組み合わせられるカルボン酸および/またはカルボン酸無水物、ヒドロキシ化合物(特に、2−ヒドロキシアルキルアミド)と組み合わせられる酸、イソシアネート(例えば、封止処理されたイソシアネート)、ウレチジオンまたはカルボジイミドと組み合わせられるアミン、アミンまたはジシアンジアミドと組み合わせられるエポキシ、イソシアネートと組み合わせられるヒドラジンアミド、イソシアネート(例えば、封止処理イソシアネート)、ウレチジオンまたはカルボジイミドと組み合わせられるヒドロキシ化合物、無水物と組み合わせられるヒドロキシ化合物、(エーテル化)メチロールアミド(「アミノ樹脂」)と組み合わせられるヒドロキシ化合物、イソシアネートと組み合わせられるチオール、アクリレートまたは他のビニル化学種と組み合わせられるチオール(場合によってラジカル開始される)、アクリレートと組み合わせられるアセトアセテート、および、カチオン性架橋が使用されるときには、エポキシ化合物またはヒドロキシ化合物を伴うエポキシ化合物である。
反応性希釈剤として使用することができるさらなる可能な化合物は、水分硬化性のイソシアネート、アルコキシチタネート、アルコキシジルコネート、あるいは、ウレア−ホルムアルデヒド、ウレア/メラミン−ホルムアルデヒド、メラニン−ホルムアルデヒド、またはフェノール−ホルムアルデヒド(レゾール型、ノボラック型)、あるいは、ラジカル硬化性(ペルオキシド開始型または光開始型の)エチレン性不飽和の単官能性または多官能性のモノマーおよびポリマー(例えば、アクリレート、メタアクリレート、マレアート/ビニルエーテル)、あるいは、スチレンおよび/またはメタクリレートにおけるラジカル硬化性(ペルオキシド開始型または光開始型の)不飽和ポリエステル(例えば、マレイン酸ポリエステルまたはフマル酸ポリエステル)である。
架橋または重合のための方法
コーティングが形成されるように混合物を架橋させることができる架橋方法はどれも、本発明の方法において好適に使用される。架橋を開始させるための好適な方法は、例えば、電子ビーム照射、電磁放射線(紫外線、可視および近赤外線)、熱的であり、また、水分硬化性化合物が使用される場合には水分添加による方法がある。好ましい実施形態において、架橋は紫外線照射によって達成される。紫外線架橋は、フリーラジカル機構によって、またはカチオン機構によって、またはその組合せによって行うことができる。別の好ましい実施形態において、架橋は熱的に達成される。
開始剤
開始剤を、架橋反応を開始させるために混合物に存在させることができる。開始剤の量は広い範囲の中で変化させることができる。開始剤の好適な量は、例えば、架橋反応に関係する化合物の総重量に対して0超〜5重量%の間である。
紫外線架橋が架橋を開始させるために使用されるとき、混合物は、好ましくは、紫外線光開始剤を含む。光開始剤は、光を吸収すると架橋反応を開始させることできる。したがって、紫外線光開始剤はスペクトルの紫外領域の光を吸収する。任意の知られている紫外線光開始剤を本発明の方法において使用することができる。
本発明によるコーティングは任意の所望厚さで作製することができる。本発明によるコーティングは、典型的には、50nm〜数マイクロメートルの間に及ぶ厚さを有する。反射防止膜として塗布される場合、厚さは、好ましくは50〜200nmの間であり、より好ましくは100〜150nmの間である。
好ましい実施形態において、本発明によるナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのフィルムまたはコーティングは、少なくとも電磁スペクトルの可視波長の範囲について、そのようなフィルムまたはコーティングが設けられる基材の光透過率を増大させる。したがって、本発明によるコーティングは、100〜200nmの間のコーティング層厚とした基材のコーティング側について、垂直入射のもとで測定されたとき、3%未満(好ましくは2%未満、より好ましくは1.5%未満、最も好ましくは1%未満)の、400〜800nmの間の領域での少なくとも1つの波長における光の反射を示す。
良好な機械的性質ならびに反射防止性能の組合せは、平坦な基材または平坦でない基材上における機械的耐久性および反射防止性能が利点となる用途において、これらの単層反射防止性の硬い被膜の使用を可能にする。これらの用途には、自動車および飛行機のウィンドスクリーンのための反射防止膜、一般的なディスプレイ、テレビブラウン管、フレキシブルディスプレイ、ならびに、例えばめがねにおけるレンズが含まれる。反射防止膜を単層コーティングとして基材に塗布することが可能である。反射防止膜が塗布される前に、基材をさらなるコーティングでコーティングして、例えば、反射防止膜と基材との間の接着を改善することもまた可能である。少なくとも、本発明の反射防止膜の利点の1つは、反射防止特性をもたらすコーティングが単層で塗布されることを必要とするだけであるということである。
そのうえ、さらなる実施形態において、本発明による表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングは、コーティングの湿潤特性に影響を与えるために使用することができる。
一般に、疎水性の物質またはコーティングは、90°以上の水の静的接触角によって特徴づけられる。
様々な疎水性ポリマー物質(例えば、ポリ(テトラフルオロエタン)(PTFE)またはポリプロピレン(PP)など)が何十年間にわたって利用されてきている。これらの物質は、エンジニアリング材料または高度に架橋されたコーティングと比較して、不良な機械的性質だけでなく、限られた疎水性を欠点として有する。例えば、PPはおよそ100°の水の静的接触角を有し、一方PTFEは、知られている最も疎水性のポリマー物質であるが、およそ112°の水の静的接触角を有する。
いくつかの疎水性コーティングはこの分野では超疎水性コーティングとして示されている。超疎水性コーティングは、一般には、140°を超える静的水接触角によって定義される(Nun、Oles&Schleich、Macromol.Symp.、187(2002)、677〜682)。
本発明の枠組みにおいて、表面ナノ構造および/またはナノ細孔に起因する表面粗さと、極性表面化学との組合せにより、60°未満(好ましくは40°未満)の静的水接触角が達成される。逆に、ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングの表面化学が、例えばナノ粒子上の無極性の表面修飾基の存在により無極性であるならば、コーティングは静的水接触角が90°超(好ましくは120°超)であるようにもなり得る。
湿潤特性を反射防止特性と組み合わせることにより、本発明による表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのフィルムまたはコーティングは、電磁スペクトルの可視波長に対する、そのようなフィルムまたはコーティングが存在する基材の光透過率を増大させ、一方で、同時に90°(好ましくは120°、最も好ましくは140°)を超える静的水接触角を示す。
さらに、表面ナノ構造および/またはナノ細孔に起因して、他の性質、例えば、低い屈折率、低い光消散(低い光損失)、低い誘電定数、大きい相対的表面積、小さい接触面積、低い付着およびコーティング多孔性などが想定される。上記の性質に由来する用途には、下記の用途が含まれる:すべての種類のディスプレイ用途のための反射防止膜、生物学的デバイス、および、改善された湿潤特性を有する被膜;清浄が容易である自浄性のコーティング;清浄が容易である自浄性の反射防止膜;非粘着性のコーティング;半導体のための低誘電性のコーティング;光導波路のための低い消散(低い光損失)のコーティング;放出制御コーティング;硬い膜、生物学的に活性な表面、防汚性コーティングおよび抗菌性コーティング。
パターン化されたコーティング(例えば、交互に存在する疎水性領域および親水性領域)を有することが望ましいとき、これもまた、フォトリソグラフィープロセスを使用することによって、本発明の方法に従って達成することができる。したがって、ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングのパターン化が望まれる用途もまた得られる。これは、光学的特性または湿潤特性が所望されるようにパターン化されるコーティングおよび物品をもたらし得る。
好ましい実施形態において、本発明による混合物は接着促進剤を含む。接着促進剤は、本発明のコーティングとその基材との間での接着を高める。このようにして、コーティングのスクラッチ耐性もまた改善される。
当業者は、反応性ナノ粒子の表面における特定の基、反応性希釈剤および基材について好適な接着促進剤を選択する方法を知っている。
好適な接着促進剤の例には、反応性ナノ粒子の表面における基と反応することができ、かつ/または反応性希釈剤と反応することができる少なくとも1つの反応基を有し、基材との反応または物理的相互作用(例えば、H結合)が可能な少なくとも1つの反応基を有する化合物がある。
ガラス基材の場合、接着促進剤は、アクリレート、メタクリレート、またはチオール官能性トリアルコキシシラン(この場合、前記シランのトリアルコキシ基はプロポキシまたはブトキシであることができ、好ましくは、エトキシまたはメトキシである)を含んでもよいが、これらに限定されない。シラン接着促進剤の例には、γ−メルカプトプロピルメチルモノメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルモノエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−メルカプトエチルモノエトキシシラン、β−メルカプトエチルトリエトキシシラン、β−メルカプトエチルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドオキシル(glycidoxyl)プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドオキシルプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、およびγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランが含まれる。これらの化合物の市販の製造物の例には、SILAACE S310、S311、S320、S321、S330、S510、S520、S530、S610、S620、S710、S810(Chisso Corp.製)、Silquest A−174NT(OSI Specialties−Crompton Corp製)、SH6062、AY43−062、SH6020、SZ6023、SZ6030、SH6040、SH6076、SZ6083(Toray−Dow Corning Silicone Co.,Ltd.製)、KBM403、KBM503、KBM602、KBM603、KBM803、KBE903(Shin−Etsu Silicone Co.,Ltd.製)などが含まれる。また、酸性接着促進剤(例えば、アクリル酸など)を使用することができる。ホスファートエステル(例えば、UCBから得られるEb168またはEb170など)は適した接着促進剤である。
ポリマー基材(例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)および/またはセルローストリアセテート(TAC)など)に対する接着については、上記の接着促進剤が適し得るが、同様に、エポキシ官能性のアクリレート化合物またはメタクリレート化合物を用いても良好な結果が得られる。
驚くべきことに、ビニル性不飽和を含有する基材、例えば架橋されたコーティング(例えば、硬い被膜)のように、アクリレートまたはメタクリレートをベースとする基材)については、少なくとも1つのチオール基を含む化合物が接着促進剤として非常に好適であることが見出されている。そのようなチオール化合物は、分子種あたりのチオール基の数に関して、一官能性、二官能性、好ましくは三官能性、最も好ましくは四官能性であり得る。そのようなチオール化合物はさらなる反応基をチオール基の隣りに含むことができる。チオール化合物が1つだけのチオール基を含む場合、そのチオール化合物は少なくとも1つのさらなる反応基を含まなければならない。チオール化合物の例は、この分野で知られているチオール化合物のいずれでもよい。最も一般的なチオール化合物の記述を米国特許第3,661,744号の第9欄第1行〜第41行に見出すことができる(これは参考として本明細書中に組み込まれる)。ある種のポリチオール(例えば、脂肪族モノマーポリチオールなど、例えば、エタンジチオール、ヘキサメチレンジチオール、デカメチレンジチオールおよびトリレン−2,4−ジチオールなど)、および、いくつかのポリマーポリチオール(例えば、チオール末端のエチルシクロヘキシルジメルカプタンポリマーなど)、ならびに、商業的に都合よく、かつ通常的に合成される類似するポリチオールが好適である。臭気レベルが比較的低いために好まれるポリチオール化合物の例には、チオグリコール酸(HS−CHCOOH、α−メルカプトプロピオン酸(HS−CH(CH)COOH)およびβ−メルカプトプロピオン酸(HS−CHCHCOOH)と、ポリヒドロキシ化合物(グリコール、トリオール、テトラオール、ペンタオール、ヘキソールなど)とのエステルが含まれるが、それらに限定されない。好ましいポリチオールの具体的な例には、エチレングリコールビス(チオグリコラート)、エチレングリコールビス(β−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(チオグリコラート)、トリメチロールプロパントリス(β−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリトリトールテトラキス(β−メルカプトプロピオネート)(いずれも市販)が含まれるが、これらに限定されない。好ましいポリマーポリチオールの具体的な一例がポリプロピレンエーテルグリコールビス(β−メルカプトプロピオネート)であり、これは、ポリプロピレンエーテルグリコール(例えば、Pluracol P201、Wyandotte Chemical Corp.)およびβ−メルカプトプロピオン酸からエステル化によって作製される。ポリ−α−メルカプトアセテートエステルまたはポリ−β−メルカプトプロピオネートエステル(特に、トリメチロールプロパントリエステルまたはペンタエリトリトールテトラエステル)が好ましい。好適に用いることができる他のポリチオールには、アルキルチオール官能性化合物、例えば、1,2−ジメルカプトエタンおよび1,6−ジメルカプトヘキサンなどが含まれる。チオール末端のポリスルフィド樹脂もまた用いることができる。
脂肪族ジチオールの好適な例には、1,2−エタンジチオール、ブタンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,5−ペンタンジチオール、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール、ジチオエリトリトール、3,6−ジオキサ−1,8−オクタンジチオール、1,8−オクタンジチオール ヘキサンジチオール、ジチオジグリコール、ペンタンジチオール、デカンジチオール、2−メチル1,4ブタンジチオール、ビス−メルカプトエチルフェニルメタン、1,9−ノナンジチオール(1,9−ジメルカプトノナン)、グリコールジメルカプトアセテートが含まれる。
芳香族ジチオールの好適な例には、1,2−ベンゼンジチオール、1,3−ベンゼンジチオール、1,4−ベンゼンジチオール、2,4,6−トリメチル−1,3−ベンゼンジメタンチオール、ジュレン−α1,α2−ジチオール、3,4−ジメルカプトトルエン、4−メチル−1,2−ベンゼンジチオール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、4,4’−チオビスベンゼンジチオール、ビス(4−メルカプトフェニル)−2,2’−プロパン(ビスフェノールジチオール)(Meng Y.Z.、Hay.A.S.、J.of App.Polym.Sci.、第74巻、3069〜3077(1999)の方法に従って作製)が含まれる。
オリゴマージチオールの好適な例には、Shustackの米国特許第5744514号による特許に記載されるような、ヒドロキシエチルメルカプタン、ヒドロキシプロピルメルカプタン、ジメルカプトプロパン、ジメルカプトエタンの末端キャップ成分に由来する二官能性のメルカプト官能性ウレタンオリゴマーが含まれる。
好適なトリチオール官能性化合物の例には、トリメチロールエタントリス−メルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパントリス−メルカプトプロピオネート(TMPTSH)、トリメチロールエタントリス−メルカプトアセテート、およびトリメチロールプロパントリス−メルカプトアセテート、グリセロールトリ(11−メルカプトウンデカノアート)、トリメチロールプロパントリ(11−メルカプトウンデケート)が含まれる。好ましいトリチオールはトリメチロールプロパントリス(2−メルカプトプロピオネート)TMPTSHである。
好適な四官能性チオールの例には、ペンタエリトリトールテトラメルカプトプロピオネート、ペンタエリトリトールテトラメルカプトアセテート、およびペンタトリトールテトラ(11−メルカプトウンデケート)が含まれる。
5以上の官能性を有する多官能性チオールの例には、国際特許出願公開WO88/02902号の7頁に記載されるポリチオールが含まれる。
多官能性チオールは、チオアルキルカルボン酸(例えば、チオグリコール酸、メルカプトプロピオン酸)を多官能性のアルコール、アミンおよびチオールと反応することによって得ることができる。さらに、多官能性チオールは、メルカプトアルキルトリアルコキシシランをシラノール(ポリマー状シラノールまたはシリカをベースとするシラノールでもよい)と反応することによって得ることができる。
他の好適な多官能性チオールは、チオールカルボン酸(HS−R−COOH)(式中、R=アルキル基またはアリール基)(例えば、チオウンデカン酸)を使用して得られ、そのCOOH基は、多官能性である反応性のエン、アルコール、チオールまたはアミンと反応する。
接着促進剤は、溶媒が蒸発した後の混合物における固体全体の0.1〜10重量%の量で使用することができる。好ましくは、接着促進剤は5〜10重量%の量で使用される。
スクラッチ耐性のさらなる改善は、本発明による混合物が、25ミリジュール/平方メートル(mJ/m)未満の表面エネルギーを有する化合物を含む場合に得られる。表面エネルギーは、好ましくは、ASTM D2578に従って、好ましくはACCU DYNE TESTTMマーカーペンを使用して純粋な化合物について測定される。そのような化合物の一例が反応性のポリジメチルシロキサン化合物である。反応性フルオロ化合物が好ましい。様々な反応性フルオロ化合物が、例えば、米国特許第6,391,459号に記載される。フルオロ化合物はさらに、反射防止特性をあまり乱さないという利点を有する。
さらなる改善された実施形態において、基材は、第1のステップにおいて、第1のコーティング、好ましくは高度に架橋されたコーティングまたは硬い被膜でコーティングされ、第2のステップにおいて、本発明による混合物が第1のコーティングの表面に塗布される。このようにして、第1のコーティングは、本発明の混合物のための基材として作用する。この場合、第1のコーティングは好ましくはビニル性不飽和を含有し、チオール化合物は、好ましくは接着促進剤として使用される。このようにして、本発明のコーティングのさらにより良好なスクラッチ耐性が得られる。
第1のコーティングについての好適な例が、欧州特許EP−A−1276810に記載されるコーティングである。
好ましくは、第1のコーティングを塗布する第1のステップにおいて、第1のコーティングは、一部が少なくとも表面において硬化する。硬い被膜において、例えばアクリレートをベースとする樹脂系のようにラジカル硬化性の樹脂系が使用される場合、部分的な表面硬化が、好ましくは酸素の存在下での硬化によって、例えば空気雰囲気中での硬化によって得られる。このようにして、硬いコーティングと反射防止膜との間でのさらに一層改善された接着が得られ、これにより、本発明によるコーティングのスクラッチ耐性のさらに一層の改善がもたらされる。
スクラッチ耐性は、例えば赤外線ランプまたは加熱炉によって、第1のコーティングおよび本発明によるコーティングを熱処理することによってさらに一層改善させることができる。本発明によるコーティング、および、好ましくは第1のコーティングが、熱による後処理の期間中にその後の架橋のための熱開始剤を含む場合、特に、硬い被膜およびナノ構造化されたコーティングの硬化が光化学的に誘導された場合、良好な結果が得られる。当業者は、そのような熱開始剤を選択する方法を知っている。
フィルムを本発明による組成物から製造すること、および、そのようなフィルムを膜として使用することもまた可能である。
本発明によるコーティングを少なくとも1つの非架橋性化学種の逆収着のプロセスにおいて使用することもまた可能である。
ナノケイ酸塩粒子
ナノケイ酸塩粒子のMT−ST(球状粒子)およびIPA−ST−UP(細長い粒子)をNissan Chemical American Corporationから得た。これらの粒子を本発明の例示において使用した。それらの性質およびそれらの懸濁物の性質を下記の表1に示す。
Figure 2007507342

A.球状または細長いシリカナノ粒子のグラフト化
アクリレート基を含むトリメトキシシラン化合物(例えば、式IIの化合物)を、p−メトキシフェノール(アクリレート基の重合を阻害する化合物)と一緒にメチルエチルケトンにおける酸化物粒子の懸濁物に加えることによって、シリカナノ酸化物粒子に反応性有機基をグラフト化した。表2には、使用された化学物質の正確な量が示される。撹拌後、触媒量の水を混合物に加え、混合物を80℃で少なくとも3時間還流した。続いて、脱水剤として、オルトギ酸トリメチルを加えて、水をよく除去し、得られた混合物を60℃で少なくとも1時間撹拌した。グラフト化された粒子を作製するための別の方法は、アクリレート基を含むメトキシシラン化合物をp−メトキシフェノールと一緒にメタノールにおける酸化物粒子の懸濁物に加えることであった。撹拌後、MT−STナノケイ酸塩粒子については少なくとも1.5時間、IPA−ST−UPナノケイ酸塩粒子については少なくとも3時間、混合物を60℃で還流し、続いて、トリアルコキシシラン化合物を加えた。その後のトリアルコキシシランとして、メチルトリメトキシシラン、または、疎水性の無極性の表面特性が要求される場合にはペルフルオロアルキルトリアルコキシシランを使用した。60℃で少なくともさらに1時間還流した後、脱水剤を加え、得られた混合物を60℃で少なくとも1時間撹拌した。
B:基材上でのコーティングまたはフィルムの作製
様々な混合物の薄いフィルムを、下記の手順によって、顕微鏡用のスライドガラスまたはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(透過率測定用)および/またはシリコンウエハー(湿潤特性の測定および厚さ決定用)上に作製した。
1滴の混合物(混合物については表3および表4を参照のこと)を4800r.p.m.の速度でのスピンコーティングによって基材に塗布した。薄いフィルム(100〜200nm)を、10重量%未満の固形分を含有する混合物のスピンコーティングをし、その一方で、より厚い(1〜5μm)のコーティングを、約35〜50重量%の固形分を有する配合物のスピンコーティングをした(表3、表4および表5を参照のこと)。得られた湿ったフィルムを、窒素下1.7J/cmのドーズ量で、重水素ランプを使用して紫外線により架橋した。架橋された透明なコーティングの厚さをマルチスペクトル反射率計(F20、AG Electro Optics)により測定した。接触角測定用のサンプルを、接触角測定の前に70℃で1時間ポストベーク処理(すなわち、加熱)した。
C:表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングの光学的性質
表3、表4および表5に示されるような様々な配合物から、顕微鏡用スライドガラスまたはポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムのいずれかの片面または両面に、表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのフィルムまたはコーティングを、「B.基材上でのコーティングの作製」のところで記載したように作製した。スペクトルの可視領域における分光透過率をPerkin−Elmer Lambda−20 UV−Vis分光計により測定した。
D:水接触角の測定
静的接触角を、FTA(First Ten Angstroms)200装置を使用して測定した。この装置は、モーター駆動のシリンジポンプ、サンプル台およびビデオカメラからなった。このシステムとともに使用されたソフトウエアはFTA Video液滴形状分析(バージョン1.98、ビルドB)であった。
測定を行う前に、シリンジにおける水の表面張力を測定した。これは、シリンジからの液滴を分注し、次いで、その液滴がシリンジに依然として付いている間中、画像を記録することによって行われた。液滴は背後から照らされ、その結果、液滴は白色の背景に黒く現れた。ソフトウエアにより液滴の外形寸法が測定され、その外形寸法を使用して表面張力が計算された。
コーティングの静的接触角を、コーティングされた基材の表面に蒸留水の12μlの液滴を分注することによって測定した。液滴の65枚の画像を130秒間にわたって撮影した。これらの画像から、ソフトウエアは液滴のベースライン(表面)およびエッジを決定し、これらの線が交差するところで接触角が計算された。表面の異なる区域において少なくとも2つの液滴について接触角を測定し、これらの測定値の平均値が接触角として示された。様々なコーティングについての静的接触角の結果が表6に示される。接触角測定を、直接的、またはポストべーク処理後(t=0)、またはポストべーク処理後2.5日(t=2.5日)のいずれでも行った。表6の値は、様々な時間を経たサンプルの表面に液滴が置かれた100秒後の接触角である。
E.コーティングの硬度および換算弾性係数の測定
スピンコーティングされたコーティングの硬度および換算弾性係数を測定するために、3つのコーティングを上記のBに記載されるように作製した。校正されたBerkovichダイヤモンドチップを圧子として使用して、Hysitron TriboScopeを用いて、硬度の測定を行った。チップを既知の負荷によりコーティングに差し込み、コーティングにおける侵入深さを記録した。使用された典型的な負荷関数を図8に示す。これにより、力対変位のグラフが得られる。H(GPa単位)=Fmax/24.5dの関係から硬度を計算した(式中、Fmaxは加えられた最大負荷であり、dは侵入深さである)。換算弾性係数を、Er=0.5(π/24.5d1/2(δF/δd)を使用して力−変位曲線から計算した。ナノ圧痕実験に関するさらなる詳細を、F.J.Balta Calleja&S.Fakirov、Microhardness of Polymer(Cambridge Un.Press、2000)に見出すことができる。
硬度および換算弾性係数に関するナノ圧痕からの結果は、使用された圧子のチップの形状に依存することに留意しなければならない。したがって、直接的な比較は、類似する形状のチップを用いた実験設定を使用することによって行うことができるだけである。
Figure 2007507342
Figure 2007507342
Figure 2007507342
表4からのデータ(実施例7〜実施例11)は、細長いアクリル化されたナノ粒子(修飾された粒子B(Acry−IPA−ST−UP))を含み表面ナノ構造化され、かつナノポーラスのコーティングの反射防止特性に対する、反応性希釈剤(ジペンタエリトリトールペンタアクリレート)の増大量(重量%)の影響を示している。最大透過率が低下しているので、ナノ粒子に対して反応性希釈剤の相対的な重量百分率を増大させることにより、コーティングの反射防止特性が低下することが分かる。
この一連の実施例から得られた透過スペクトルを図7において見出すことができる。すべてのナノ粒子が埋め込まれる点にまで、反応性希釈剤の相対的な量が増大するならば、表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングは得られない。そのようなコーティングは反射防止性能を全くを示さないか、または極端な場合でもほとんど示さない。このことは、比較実験、すなわち図3においてスペクトル4としてその透過スペクトルを見ることができる従来の硬い被膜サンプル(100〜200nmの厚さ)による例示から分かる。この場合、顕微鏡用スライドガラス基材の透過率(図7におけるスペクトル5(94.8%))に対して、最大透過率(95%)の改善、したがって、反射防止性能の改善がほとんどない。
Figure 2007507342
表5の結果に示されるように、本発明によるコーティングの反射防止特性に対する光開始剤系の濃度の影響は全くない。このことは非常に好都合であり、本発明者らの発明による方法およびコーティングの堅牢性を示しており、その一方で既知の系はこの点に関して難点がある。
Figure 2007507342
表6に示されるように実施例1の静的水接触角は、極性アクリレートの硬いコーティングの典型的な接触角である。表面が、表面ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスである場合、静的水接触角は著しく低下する。このことは、接触角の値が50.3°であった実施例2(Acry−MT−ST)について、また、値が28.2°である実施例5(Acry−IPA−ST−UP)について当てはまる。同様に、実施例6(疎水性に修飾された反応性ナノ粒子(Acry−F−MT−ST)を疎水性の反応性希釈剤(フルオロジアクリレート)とともに含む配合物のコーティング)の静的水接触角は108.5°であり、その粗さは比較的低く、27nmであった。実施例4(Acry−F−MT−ST)(厚さ1〜5μm)および実施例3(Acry−F−MT−ST)(厚さ100〜200nm)の場合、粗さの値は増大し、したがって、静的水接触角もまた同様にそれぞれ増大した。このことは、ナノ粒子の極性に関する表面化学と、本発明の方法により得られたコーティングの粗さとの両方を制御することによって、湿潤特性もまた同様に大きく変化させることができることを明らかにしている。
Figure 2007507342

Figure 2007507342
図1は、原子間力顕微鏡(AFM)によって取得され、様々な実施例および比較実験で得られたコーティングの三次元(3D)トポグラフィーを示す。これらの画像における造作物の最大高さ(Rmax)は、画像の領域全体にわたる最大高低差として示されている。図1aは、比較実験によるコーティング(従来の硬い被膜のサンプル)の表面粗さを示す(その成分を表3の実施例1に見出すことができる)。AFM画像から推定することができるように、コーティングの表面粗さは非常に小さく、約6nmの範囲でしかなく、これは、コーティングにおいて使用されるナノ粒子の最小の外形寸法よりも十分に小さい。したがって、これは、本発明の枠組みにおいて記載されるような、ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングではない。この硬い被膜については、反応性希釈剤の相対的な体積が非常に大きいのですべてのナノ粒子が埋め込まれており、ナノ構造化され、かつ/またはナノポーラスのコーティングの形成に寄与していない。しかしながら、アクリレートコーティングでは、ナノ粒子の存在にもかかわらず、この粗さは典型的である。図1bおよび図1cは、フッ素化されたアクリレート化球状ナノケイ酸塩(修飾されたナノ粒子C)(表3、実施例3)のコーティングおよびアクリレート化された球状ナノケイ酸塩(修飾されたナノ粒子A)(表3、実施例2)のコーティングの表面トポグラフィーをそれぞれ示す。これらのコーティングの両者については、何らかの反応性希釈剤が存在しないことにより、本発明の枠組みにおいて記載されるような、ナノ構造化され、かつナノポーラスのコーティングの形成がもたらされている。同様に、図1dは、細長いアクリレート化されたナノケイ酸塩粒子(修飾されたナノ粒子B)(表4、実施例7)を、反応性希釈剤を何ら用いることなく架橋することによって形成され、約140nmの表面粗さを有するコーティングを示す。この場合もまた、反応性希釈剤が存在しないことにより、ナノ構造化され、かつナノポーラスのコーティングの形成がもたらされている。図1e(表4、実施例8)は、細長いアクリレート化されたナノケイ酸塩(修飾されたナノ粒子B)を含むコーティングの表面トポグラフィーに対する少量の反応性希釈剤(総固体の2.7重量%)の影響を示す。少量の反応性希釈剤の添加は造作物の最大高低差(Rmax)の低下を生じさせていることが分かる。しかしながら、この場合もまた、反応性希釈剤の相対的な体積は非常に低いので、含有量は1−ナノ粒子のランダム最密体積充填よりも小さく、したがって、ナノ構造化され、かつナノポーラスのコーティングを形成している。
Figure 2007507342
図2は、原子間力顕微鏡によって取得された断面トポグラフィーを示す。これらの断面について、図2に示されるRmaxは断面にわたる最大高低差である。図2aは、アクリレート化された球状ナノケイ酸塩(修飾されたナノ粒子A)(表3、実施例2)のコーティングの断面トポグラフィーを示す。この場合、表面ナノ構造(表面における粗さ)ならびにナノ細孔(より深い造作物)を見ることができる。同様に、図2bは、細長いアクリレート化されたナノケイ酸塩(修飾されたナノ粒子B)(表4、実施例7)のコーティングの断面トポグラフィーを示す。この場合もまた、表面における粗さは表面ナノ構造であり、一方で、最も深い造作物はナノ細孔と見なすことができる。空気の小さい空隙が個々のナノ粒子またはそのクラスターの間においてコーティングの大部分に存在することもまた予想される。しかしながら、これらのナノ細孔はAFMによって見ることができない。
Figure 2007507342
図3は、顕微鏡用スライドガラス基材の片面における多数の実施例コーティングおよび比較用コーティングの可視透過スペクトルを示す。スペクトル5は、コーティングされていない顕微鏡用スライドガラスのものである。スペクトル1は、固形分が3重量%の懸濁物を4800rpmでスピンコーティングして、これにより100〜200nmの範囲でのコーティング厚さがもたらされた修飾されていないMT−STナノ粒子のものである。このスペクトルは、コーティングされていない顕微鏡用スライドガラスの最大透過率(94.8%)に対して、最大透過率が約96.8%に増大しているので、修飾されていないMT−STナノケイ酸塩は反射防止特性を示すことを示している。明らかに、修飾されていないMT−STナノ粒子は反応基で表面修飾されておらず、したがって、架橋することができないので、そのようなコーティングは機械的な耐久性を有さないと考えられる。このコーティングにおいて、MT−STナノ粒子の表面は修飾されていないので、ナノ粒子間には最大の空間が存在する。これらの粒子の表面がグラフト化されると、ナノ粒子間の空間は重合可能な有機基によって部分的に満たされ、スペクトル2が得られる。
この効果もまた、表面修飾剤のメチルトリメトキシシラン基が、さらにより嵩張る基(例えば、1H,1H,2H,2H−(ペルフルオロオクチル)トリエトキシシラン(非極性表面誘導体化剤)など)で置換されるときに認めることができる(スペクトル3を参照のこと)。スペクトル4の場合、ナノ粒子間の空間が反応性希釈剤で完全に満たされ、したがって、この従来の硬い被膜は、コーティングされていない顕微鏡用スライドガラスの最大透過率(94.8%)と非常にわずかに異なる最大透過率(95.0%)を有する。
Figure 2007507342
図4は実施例7(球状粒子、スペクトル2)および実施例7(細長い粒子、スペクトル1)のコーティングの可視透過スペクトルを示す。スペクトル3は、コーティングされていない顕微鏡用スライドガラスである。細長い粒子を含むコーティングは、球状粒子を含むコーティングと比較して、さらに一層改善された反射防止特性を示すことが明瞭に示される。
Figure 2007507342
Figure 2007507342
図5および図6は、架橋されているアクリレート化された細長いナノ粒子(Acry−IPA−ST−UP、修飾された粒子B)のコーティングを伴う反射する基材(図5の場合における顕微鏡用スライドガラスおよび図6の場合におけるPETフィルム)の両面でのコーティングの影響を示す。処理されていない基材の頂面および底面はともに反射を生じさせるので、98%を超える透過率は、通常基材の両面がコーティングされている場合にだけ可能である。これらの実施例の両方の場合において、基材の両面におけるコーティングは、肉眼にはほとんど見えず、明るい光源の直接的な反射によって表面反射しか観測できない物となる。
Figure 2007507342
図7は、細長い粒子の場合、反応性希釈剤が使用されると、反射防止特性のわずかな低下しか認められないことを示している。
実施例16.硬い被膜の表面上での耐久性のある反射防止膜の作製
最初のステップにおいて、比較実験1による硬い被膜を基材に約3〜5μmの厚さに塗布し、0.75Jcm−2の総紫外線ドーズ量で空気中で硬化させる。得られた硬い被膜の表面を部分的に硬化させた。第2のステップにおいて、本発明によるコーティングを前記のようにスピンコーティングによって硬い被膜の上に100〜200nmの厚さで塗布する。
本発明による前記コーティングは下記の成分からなる:0.376g(乾燥重量)の反応性ナノ粒子(修飾された粒子B、表2)、0.061gのジペンタエリトリトールペンタアクリレート(反応性希釈剤)、0.013gのトリメチロールプロパントリ(3−メルカプトプロピオネート)(反応性希釈剤および接着促進剤)、0.8mgの没食子酸プロピル(重合禁止剤)、5.1mgのIrgacure907(光開始剤)、12.902gのメチルエチルケトン(溶媒)および1.642gのイソプロパノール(溶媒)。
その後、本発明による前記コーティングを2×1Jcm−2の総量で完全に硬化させ、続いて、赤外線ランプを使用して120℃に約1分間加熱する。得られるナノ構造化されたコーティングは、反射防止特性を保持しながら、ASTM D3363−00に従って2〜3Hの鉛筆硬度を有する。
表面が部分的に硬化している硬い被膜、多官能性チオールの添加、および、完全な紫外線硬化の後に続く加熱によるポストベーク処理の使用、すなわち、上述の複合システムの使用は、これらのステップを採用していないコーティングに対して、すべてのコーティングの機械的な耐久性を向上させている。
Figure 2007507342
Figure 2007507342
Figure 2007507342

Claims (29)

  1. a)i)反応性の有機基をその表面に有する反応性ナノ粒子、
    ii)少なくとも1種の溶媒、
    iii)場合によって、少なくとも1つの重合可能な基を有し、混合物の重合後にナノ構造および/またはナノポーラス表面の形成を可能にする最低限の量の化合物
    を含む混合物を基材に塗布するステップと、
    b)前記混合物を前記基材上で重合するステップと
    を含む、表面ナノ構造化されたおよび/またはナノポーラスのコーティングまたはフィルムの作製方法。
  2. 少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物を含む混合物が、前記混合物が透明基材の片側において100〜200nmの厚さでコーティングとして塗布された後、コーティングを有さない同じ基材と比較して、400〜800nmのスペクトルにおける少なくとも1つの波長について透過率を少なくとも0.5%増大させる量で使用される、請求項1に記載の方法。
  3. 前記反応性ナノ粒子が酸化物粒子である、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記粒子が酸化ケイ素または酸化ジルコニウムの粒子である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記反応性ナノ粒子が細長い、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記反応性ナノ粒子が5よりも大きいアスペクト比を有する、請求項5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記反応性ナノ粒子が350nm未満の長さを有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 少なくとも1つの重合可能な基を有する前記化合物がアクリレートである、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 少なくとも1つの重合可能な基を有する前記化合物が2つ以上の重合可能な基を有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の混合物。
  10. 前記重合が、紫外線を当てることで行われる、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 請求項1〜10のいずれか一項で定義される混合物。
  12. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法によって得ることができるナノ構造化されたおよび/またはナノポーラスの表面を有するコーティング。
  13. 当該コーティングの重量に対して70〜100重量%の量の反応性ナノ粒子を含有する、請求項12に記載のコーティング。
  14. 50〜200nmの厚さを有する、請求項12または13に記載のコーティング。
  15. コーティングが透明基材上に存在する場合、コーティングを有さない同じ基材と比較して400〜800nmの電磁スペクトルの少なくとも一部について透過率を少なくとも0.5%増大させる、請求項12〜14のいずれか一項に記載のコーティング。
  16. 透過率を少なくとも1%(好ましくは少なくとも2%)増大させる、請求項15に記載のコーティング。
  17. 60°未満(より好ましくは40°未満)の静的水接触角を示す、請求項12〜16のいずれか一項に記載のコーティング。
  18. 90°超(より好ましくは120°超)の静的水接触角を示す、請求項12〜16のいずれか一項に記載のコーティング。
  19. 90°超(より好ましくは120°超、最も好ましくは140°超)の接触角を示す、請求項18に記載のコーティング。
  20. 反応性ナノ粒子と、溶媒と、少なくとも1つの重合可能な基を有する化合物とを含む混合物から作製され、少なくとも1つの重合可能な基を有する前記化合物の体積分率が1−前記反応性ナノ粒子のランダム最密充填体積分率よりも小さいコーティング。
  21. 請求項12〜20のいずれか一項に記載のコーティングの反射防止膜としての使用。
  22. 請求項1〜10のいずれか一項に記載される方法によって得ることができるコーティングの膜としての使用。
  23. 少なくとも1つの非架橋性化学種の逆収着のプロセスにおける、請求項12〜20のいずれか一項に記載されるコーティングの使用。
  24. 請求項1〜10のいずれか一項に記載される方法によって得ることができるコーティングを含む物品。
  25. ディスプレイである、請求項24に記載の物品。
  26. 有機発光ダイオード(OLED)ディスプレイである、請求項25に記載の物品。
  27. 液晶ディスプレイ(LCD)用の偏光子である、請求項24に記載の物品。
  28. ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムまたはセルローストリアセテート(TAC)フィルムである、請求項24に記載の物品。
  29. 請求項28に記載の物品を備えるディスプレイ。
JP2006532119A 2003-05-20 2004-05-13 ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品 Pending JP2007507342A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US47174603P 2003-05-20 2003-05-20
EP03076510A EP1479734B1 (en) 2003-05-20 2003-05-20 Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating
EP04075534 2004-02-20
PCT/NL2004/000329 WO2004104113A1 (en) 2003-05-20 2004-05-13 Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007507342A true JP2007507342A (ja) 2007-03-29
JP2007507342A5 JP2007507342A5 (ja) 2007-06-21

Family

ID=39832562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006532119A Pending JP2007507342A (ja) 2003-05-20 2004-05-13 ナノ構造化表面の被覆方法、ナノ構造化コーティング、および該コーティングを含む物品

Country Status (13)

Country Link
US (4) US20060275595A1 (ja)
EP (2) EP1479734B1 (ja)
JP (1) JP2007507342A (ja)
KR (1) KR101114798B1 (ja)
CN (1) CN100379828C (ja)
AT (2) ATE422525T1 (ja)
DE (2) DE60326121D1 (ja)
DK (2) DK1479734T3 (ja)
ES (2) ES2321390T3 (ja)
MX (1) MXPA05012488A (ja)
PL (1) PL1625182T3 (ja)
TW (1) TWI357403B (ja)
WO (1) WO2004104113A1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008510028A (ja) * 2004-08-10 2008-04-03 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. コーティング組成物、コーティング、およびそのコーティング組成物によりコーティングされた物体
JP2011518006A (ja) * 2008-04-22 2011-06-23 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー ナノ構造形成材料を含む使い捨て物品
JP2012514239A (ja) * 2008-12-30 2012-06-21 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法
JP2012517910A (ja) * 2009-02-17 2012-08-09 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ 可撓性を有するマイクロ構造の超疎水性材料
JP2013508778A (ja) * 2009-10-24 2013-03-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 勾配低屈折率の物品及び方法
WO2013137101A1 (ja) * 2012-03-16 2013-09-19 東レ株式会社 積層フィルムおよびその製造方法
WO2013180084A1 (ja) * 2012-05-29 2013-12-05 株式会社クラレ 反射防止膜

Families Citing this family (306)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10835307B2 (en) 2001-06-12 2020-11-17 Ethicon Llc Modular battery powered handheld surgical instrument containing elongated multi-layered shaft
US8141052B2 (en) * 2003-05-09 2012-03-20 Microsoft Corporation Instrumenting software for enhanced diagnosability
EP1479734B1 (en) * 2003-05-20 2009-02-11 DSM IP Assets B.V. Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
US7189768B2 (en) * 2003-11-25 2007-03-13 3M Innovative Properties Company Solution containing surface-modified nanoparticles
US8182501B2 (en) 2004-02-27 2012-05-22 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical shears and method for sealing a blood vessel using same
US7208407B2 (en) * 2004-06-30 2007-04-24 Micron Technology, Inc. Flash memory cells with reduced distances between cell elements
ES2598134T3 (es) 2004-10-08 2017-01-25 Ethicon Endo-Surgery, Llc Instrumento ultrasónico quirúrgico
US7722951B2 (en) * 2004-10-15 2010-05-25 Georgia Tech Research Corporation Insulator coating and method for forming same
JP4938994B2 (ja) 2005-04-22 2012-05-23 ペンタックスリコーイメージング株式会社 シリカエアロゲル膜及びその製造方法
CN100483156C (zh) * 2005-05-26 2009-04-29 财团法人工业技术研究院 三维纳米多孔高分子薄膜及其制造方法
US8029871B2 (en) 2005-06-09 2011-10-04 Hoya Corporation Method for producing silica aerogel coating
JP4953426B2 (ja) * 2005-06-09 2012-06-13 ペンタックスリコーイメージング株式会社 シリカエアロゲル膜の製造方法
US20070191713A1 (en) 2005-10-14 2007-08-16 Eichmann Stephen E Ultrasonic device for cutting and coagulating
US9156004B2 (en) 2005-10-17 2015-10-13 Stc.Unm Fabrication of enclosed nanochannels using silica nanoparticles
US7825037B2 (en) * 2005-10-17 2010-11-02 Stc.Unm Fabrication of enclosed nanochannels using silica nanoparticles
GB2437728A (en) * 2005-10-17 2007-11-07 Eques Coatings Coating for Optical Discs
US10060904B1 (en) 2005-10-17 2018-08-28 Stc.Unm Fabrication of enclosed nanochannels using silica nanoparticles
JP4708965B2 (ja) * 2005-11-10 2011-06-22 キヤノン株式会社 撮像装置
US7498662B2 (en) 2005-11-18 2009-03-03 3M Innovative Properties Company Dielectric media including surface-treated metal oxide particles
US8067065B2 (en) * 2005-12-08 2011-11-29 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Fibrillar, nanotextured coating and method for its manufacture
US7621930B2 (en) 2006-01-20 2009-11-24 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasound medical instrument having a medical ultrasonic blade
EP1818694A1 (en) * 2006-02-14 2007-08-15 DSMIP Assets B.V. Picture frame with an anti reflective glass plate
US20090011222A1 (en) * 2006-03-27 2009-01-08 Georgia Tech Research Corporation Superhydrophobic surface and method for forming same
ATE446801T1 (de) * 2006-06-20 2009-11-15 Basf Se Poröses material mit nanoporöser beschichtung
US20080072956A1 (en) * 2006-09-07 2008-03-27 Guardian Industries Corp. Solar cell with antireflective coating comprising metal fluoride and/or silica and method of making same
CN101523242B (zh) * 2006-10-02 2012-08-01 旭硝子株式会社 防反射膜形成用涂料组合物及形成有防反射膜的物品
KR100793065B1 (ko) * 2006-11-10 2008-01-10 엘지전자 주식회사 반사형 편광 필름 제조 방법 및 반사형 편광 필름을 구비한액정표시장치
CN101054267B (zh) * 2007-02-02 2010-09-29 菲迪薄膜科技(广州)有限公司 一种ito薄膜的制备方法
US7767253B2 (en) * 2007-03-09 2010-08-03 Guardian Industries Corp. Method of making a photovoltaic device with antireflective coating
JP4687671B2 (ja) * 2007-03-16 2011-05-25 セイコーエプソン株式会社 半導体装置の製造方法
US8057498B2 (en) 2007-11-30 2011-11-15 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instrument blades
US8911460B2 (en) 2007-03-22 2014-12-16 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments
US8142461B2 (en) 2007-03-22 2012-03-27 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instruments
US20080234709A1 (en) * 2007-03-22 2008-09-25 Houser Kevin L Ultrasonic surgical instrument and cartilage and bone shaping blades therefor
US8226675B2 (en) * 2007-03-22 2012-07-24 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instruments
US8237047B2 (en) * 2007-05-01 2012-08-07 Guardian Industries Corp. Method of making a photovoltaic device or front substrate for use in same with scratch-resistant coating and resulting product
JP5109789B2 (ja) * 2007-05-14 2012-12-26 住友化学株式会社 多孔質フィルムの製造方法
US8741158B2 (en) 2010-10-08 2014-06-03 Ut-Battelle, Llc Superhydrophobic transparent glass (STG) thin film articles
US20080295884A1 (en) * 2007-05-29 2008-12-04 Sharma Pramod K Method of making a photovoltaic device or front substrate with barrier layer for use in same and resulting product
CN101820982A (zh) * 2007-07-25 2010-09-01 理德尔技术公司 亲水膜
US8450594B2 (en) * 2007-07-26 2013-05-28 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product and photovoltaic device comprising same
US8445774B2 (en) * 2007-07-26 2013-05-21 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same
US8348967B2 (en) * 2007-07-27 2013-01-08 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments
US8523889B2 (en) 2007-07-27 2013-09-03 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic end effectors with increased active length
US8808319B2 (en) 2007-07-27 2014-08-19 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instruments
US8882791B2 (en) 2007-07-27 2014-11-11 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments
US8430898B2 (en) 2007-07-31 2013-04-30 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments
US8512365B2 (en) 2007-07-31 2013-08-20 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instruments
US8252012B2 (en) 2007-07-31 2012-08-28 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instrument with modulator
US9044261B2 (en) 2007-07-31 2015-06-02 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Temperature controlled ultrasonic surgical instruments
US20090075092A1 (en) * 2007-09-18 2009-03-19 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same
CA2701962C (en) 2007-10-05 2016-05-31 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ergonomic surgical instruments
TWI405801B (zh) * 2007-10-19 2013-08-21 Nat Univ Tsing Hua 具有電磁波干擾遮蔽效應之多壁碳奈米管/高分子奈米複合材之製備方法
US20090101209A1 (en) * 2007-10-19 2009-04-23 Guardian Industries Corp. Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same
US10010339B2 (en) 2007-11-30 2018-07-03 Ethicon Llc Ultrasonic surgical blades
US7901423B2 (en) 2007-11-30 2011-03-08 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Folded ultrasonic end effectors with increased active length
DE102007059886B4 (de) * 2007-12-12 2014-03-06 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer reflexionsmindernden Schicht und optisches Element mit einer reflexionsmindernden Schicht
US8114472B2 (en) * 2008-01-08 2012-02-14 Guardian Industries Corp. Method of making a temperable antiglare coating, and resulting products containing the same
US20090181256A1 (en) * 2008-01-14 2009-07-16 Guardian Industries Corp. Methods of making silica-titania coatings, and products containing the same
US7754279B2 (en) * 2008-02-05 2010-07-13 Ut-Battelle, Llc Article coated with flash bonded superhydrophobic particles
US8668961B2 (en) * 2008-07-31 2014-03-11 Guardian Industries Corp. Titania coating and method of making same
US9089360B2 (en) 2008-08-06 2015-07-28 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Devices and techniques for cutting and coagulating tissue
US8058771B2 (en) 2008-08-06 2011-11-15 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic device for cutting and coagulating with stepped output
US7998572B2 (en) * 2008-08-12 2011-08-16 Caterpillar Inc. Self-lubricating coatings
US20100080957A1 (en) * 2008-10-01 2010-04-01 Integrated Surface Technologies Surface Coating
TWI382551B (zh) * 2008-11-06 2013-01-11 Ind Tech Res Inst 太陽能集光模組
TWI396729B (zh) * 2008-12-09 2013-05-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 液晶複合物的組成配方與製造方法
US10052853B2 (en) 2009-12-09 2018-08-21 Lifeport, Inc. Durable polymeric panels and devices exhibiting antiballistic capacity made therefrom
DE102009054630B4 (de) * 2008-12-15 2013-02-14 Qimonda Ag Verfahren zum Herstellen eines photovoltaisches Bauelements
KR20110110240A (ko) 2008-12-30 2011-10-06 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 반사방지 용품 및 이의 제조 방법
US20100203287A1 (en) * 2009-02-10 2010-08-12 Ngimat Co. Hypertransparent Nanostructured Superhydrophobic and Surface Modification Coatings
EP2398629A4 (en) 2009-02-17 2016-06-08 Univ Illinois METHOD FOR PRODUCING MICROSTRUCTURES
PL2403817T3 (pl) * 2009-03-06 2015-10-30 Dsm Ip Assets Bv Sposób powlekania głowicą szczelinową
US20100259823A1 (en) * 2009-04-09 2010-10-14 General Electric Company Nanostructured anti-reflection coatings and associated methods and devices
US9291752B2 (en) 2013-08-19 2016-03-22 3M Innovative Properties Company Retroreflecting optical construction
US8808811B2 (en) 2009-04-15 2014-08-19 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for a nanovoided article
BRPI1006654A2 (pt) 2009-04-15 2016-02-10 3M Innovative Properties Co construções ópticas retrorrefletoras e filmes ópticos
TWI605276B (zh) 2009-04-15 2017-11-11 3M新設資產公司 光學結構及包含該光學結構之顯示系統
WO2010120864A1 (en) * 2009-04-15 2010-10-21 3M Innovative Properties Company Optical film
US8891038B2 (en) 2009-04-15 2014-11-18 3M Innovative Properties Company Lightguide with optical film containing voids and blacklight for display system
US9464179B2 (en) 2009-04-15 2016-10-11 3M Innovative Properties Company Process and apparatus for a nanovoided article
JP5727460B2 (ja) 2009-04-15 2015-06-03 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光結合を防止するための光学フィルム
US9353268B2 (en) 2009-04-30 2016-05-31 Enki Technology, Inc. Anti-reflective and anti-soiling coatings for self-cleaning properties
US9376593B2 (en) 2009-04-30 2016-06-28 Enki Technology, Inc. Multi-layer coatings
US8864897B2 (en) 2009-04-30 2014-10-21 Enki Technology, Inc. Anti-reflective and anti-soiling coatings with self-cleaning properties
US20100298743A1 (en) * 2009-05-20 2010-11-25 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Thermally-activated coupling arrangements and methods for attaching tools to ultrasonic surgical instruments
US9700339B2 (en) 2009-05-20 2017-07-11 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Coupling arrangements and methods for attaching tools to ultrasonic surgical instruments
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
US20100314575A1 (en) * 2009-06-16 2010-12-16 Di Gao Anti-icing superhydrophobic coatings
US8650728B2 (en) * 2009-06-24 2014-02-18 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Method of assembling a transducer for a surgical instrument
US8663220B2 (en) 2009-07-15 2014-03-04 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments
US9017326B2 (en) 2009-07-15 2015-04-28 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Impedance monitoring apparatus, system, and method for ultrasonic surgical instruments
US8461744B2 (en) 2009-07-15 2013-06-11 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Rotating transducer mount for ultrasonic surgical instruments
US10172669B2 (en) 2009-10-09 2019-01-08 Ethicon Llc Surgical instrument comprising an energy trigger lockout
US9050093B2 (en) 2009-10-09 2015-06-09 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical generator for ultrasonic and electrosurgical devices
US9168054B2 (en) 2009-10-09 2015-10-27 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical generator for ultrasonic and electrosurgical devices
US11090104B2 (en) 2009-10-09 2021-08-17 Cilag Gmbh International Surgical generator for ultrasonic and electrosurgical devices
US10441345B2 (en) 2009-10-09 2019-10-15 Ethicon Llc Surgical generator for ultrasonic and electrosurgical devices
USRE47996E1 (en) 2009-10-09 2020-05-19 Ethicon Llc Surgical generator for ultrasonic and electrosurgical devices
EP2490827A4 (en) * 2009-10-24 2014-06-18 3M Innovative Properties Co PROCESS FOR AN ARTICLE WITH WASTE NANOHOLE ROOMS
WO2011050254A1 (en) 2009-10-24 2011-04-28 3M Innovative Properties Company Light source and display system incorporating same
US8617641B2 (en) * 2009-11-12 2013-12-31 Guardian Industries Corp. Coated article comprising colloidal silica inclusive anti-reflective coating, and method of making the same
JP5869494B2 (ja) 2009-12-08 2016-02-24 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 光ガイド及び低屈折率フィルムを組み込んだ光学構造体
US8579928B2 (en) 2010-02-11 2013-11-12 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Outer sheath and blade arrangements for ultrasonic surgical instruments
US8531064B2 (en) * 2010-02-11 2013-09-10 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonically powered surgical instruments with rotating cutting implement
US8382782B2 (en) * 2010-02-11 2013-02-26 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments with partially rotating blade and fixed pad arrangement
US8323302B2 (en) * 2010-02-11 2012-12-04 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Methods of using ultrasonically powered surgical instruments with rotatable cutting implements
US8469981B2 (en) 2010-02-11 2013-06-25 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Rotatable cutting implement arrangements for ultrasonic surgical instruments
US8419759B2 (en) * 2010-02-11 2013-04-16 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instrument with comb-like tissue trimming device
US9259234B2 (en) 2010-02-11 2016-02-16 Ethicon Endo-Surgery, Llc Ultrasonic surgical instruments with rotatable blade and hollow sheath arrangements
US8486096B2 (en) 2010-02-11 2013-07-16 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Dual purpose surgical instrument for cutting and coagulating tissue
US8961547B2 (en) 2010-02-11 2015-02-24 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments with moving cutting implement
US8951272B2 (en) 2010-02-11 2015-02-10 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Seal arrangements for ultrasonically powered surgical instruments
MX341955B (es) 2010-04-15 2016-09-08 3M Innovative Properties Co Articulos retrorreflectantes que incluyen areas opticamente activas y areas opticamente inactivas.
JP5997132B2 (ja) 2010-04-15 2016-09-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 再帰反射性物品及びその形成方法
WO2011129831A1 (en) 2010-04-15 2011-10-20 3M Innovative Properties Company Retroreflective articles including optically active areas and optically inactive areas
US8427747B2 (en) 2010-04-22 2013-04-23 3M Innovative Properties Company OLED light extraction films laminated onto glass substrates
CN101830098B (zh) * 2010-05-07 2012-11-21 中国人民解放军国防科学技术大学 具有超疏水表面的聚合物基复合材料及其制备方法
GB2480498A (en) 2010-05-21 2011-11-23 Ethicon Endo Surgery Inc Medical device comprising RF circuitry
US9272949B2 (en) 2010-07-09 2016-03-01 Guardian Industries Corp. Coated glass substrate with heat treatable ultraviolet blocking characteristics
US8795327B2 (en) 2010-07-22 2014-08-05 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Electrosurgical instrument with separate closure and cutting members
US9192431B2 (en) 2010-07-23 2015-11-24 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Electrosurgical cutting and sealing instrument
US9201171B2 (en) * 2010-08-02 2015-12-01 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical layered body, polarizer, and image display device
CN102373429A (zh) * 2010-08-19 2012-03-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 涂层、具有该涂层的被覆件及该被覆件的制备方法
US11292919B2 (en) 2010-10-08 2022-04-05 Ut-Battelle, Llc Anti-fingerprint coatings
US9221076B2 (en) 2010-11-02 2015-12-29 Ut-Battelle, Llc Composition for forming an optically transparent, superhydrophobic coating
WO2012064646A1 (en) * 2010-11-10 2012-05-18 3M Innovative Properties Company Hydrophobic fluorinated coatings
BR112013023128A2 (pt) 2011-03-14 2019-09-24 3M Innovative Properties Co artigos nanoestruturados
US8968293B2 (en) 2011-04-12 2015-03-03 Covidien Lp Systems and methods for calibrating power measurements in an electrosurgical generator
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
WO2012173803A1 (en) * 2011-06-15 2012-12-20 3M Innovative Properties Company Hydrophobic hydrocarbon coatings
DE102011078613A1 (de) * 2011-07-04 2013-01-10 Technische Universität München Verfahren zur Modifikation von partikulären Feststoffen durch Photopolymerisation
US9259265B2 (en) 2011-07-22 2016-02-16 Ethicon Endo-Surgery, Llc Surgical instruments for tensioning tissue
JP6199864B2 (ja) 2011-08-17 2017-09-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノ構造物品及びそれを製造するための方法
USD691265S1 (en) 2011-08-23 2013-10-08 Covidien Ag Control assembly for portable surgical device
USD687549S1 (en) 2011-10-24 2013-08-06 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instrument
US9283027B2 (en) 2011-10-24 2016-03-15 Ethicon Endo-Surgery, Llc Battery drain kill feature in a battery powered device
CN102513283B (zh) * 2011-12-14 2013-11-06 温州市汇泰隆科技有限公司 一种纳米多组喷涂流水线工艺及设备
TWI466153B (zh) 2011-12-15 2014-12-21 Ind Tech Res Inst 電容器及其製造方法
US20150017386A1 (en) * 2012-02-01 2015-01-15 3M Innovative Properties Company Nanostructured materials and methods of making the same
WO2013116103A1 (en) * 2012-02-01 2013-08-08 3M Innovative Properties Company Nanostructured materials and methods of making the same
WO2013119545A1 (en) 2012-02-10 2013-08-15 Ethicon-Endo Surgery, Inc. Robotically controlled surgical instrument
SG11201405941QA (en) * 2012-03-26 2014-10-30 3M Innovative Properties Co Article and method of making the same
CN104335078B (zh) 2012-03-26 2017-08-08 3M创新有限公司 纳米结构化材料及其制造方法
US9237921B2 (en) 2012-04-09 2016-01-19 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Devices and techniques for cutting and coagulating tissue
US9439668B2 (en) 2012-04-09 2016-09-13 Ethicon Endo-Surgery, Llc Switch arrangements for ultrasonic surgical instruments
US9226766B2 (en) 2012-04-09 2016-01-05 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Serial communication protocol for medical device
US9241731B2 (en) 2012-04-09 2016-01-26 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Rotatable electrical connection for ultrasonic surgical instruments
US9724118B2 (en) 2012-04-09 2017-08-08 Ethicon Endo-Surgery, Llc Techniques for cutting and coagulating tissue for ultrasonic surgical instruments
JP2015522945A (ja) 2012-05-16 2015-08-06 ノヴォポリマーズ エヌフェーNovopolymers N.V. 光電池モジュール用の多層封止フィルム
US20140005705A1 (en) 2012-06-29 2014-01-02 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instruments with articulating shafts
US9283045B2 (en) 2012-06-29 2016-03-15 Ethicon Endo-Surgery, Llc Surgical instruments with fluid management system
US9351754B2 (en) 2012-06-29 2016-05-31 Ethicon Endo-Surgery, Llc Ultrasonic surgical instruments with distally positioned jaw assemblies
US9326788B2 (en) 2012-06-29 2016-05-03 Ethicon Endo-Surgery, Llc Lockout mechanism for use with robotic electrosurgical device
US9393037B2 (en) 2012-06-29 2016-07-19 Ethicon Endo-Surgery, Llc Surgical instruments with articulating shafts
US9820768B2 (en) 2012-06-29 2017-11-21 Ethicon Llc Ultrasonic surgical instruments with control mechanisms
US20140005702A1 (en) 2012-06-29 2014-01-02 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic surgical instruments with distally positioned transducers
US9408622B2 (en) 2012-06-29 2016-08-09 Ethicon Endo-Surgery, Llc Surgical instruments with articulating shafts
US9198714B2 (en) 2012-06-29 2015-12-01 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Haptic feedback devices for surgical robot
US9226767B2 (en) 2012-06-29 2016-01-05 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Closed feedback control for electrosurgical device
FR2993797B1 (fr) * 2012-07-24 2014-08-29 Ecole Polytech Procede de fabrication d'une couche mince solide minerale transparente et birefringente et composant optique a couche mince solide minerale transparente et birefringente
US9771656B2 (en) 2012-08-28 2017-09-26 Ut-Battelle, Llc Superhydrophobic films and methods for making superhydrophobic films
EP2900158B1 (en) 2012-09-28 2020-04-15 Ethicon LLC Multi-function bi-polar forceps
US10201365B2 (en) 2012-10-22 2019-02-12 Ethicon Llc Surgeon feedback sensing and display methods
US9095367B2 (en) 2012-10-22 2015-08-04 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Flexible harmonic waveguides/blades for surgical instruments
US20140135804A1 (en) 2012-11-15 2014-05-15 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Ultrasonic and electrosurgical devices
EP2752386B1 (en) * 2012-12-13 2019-08-28 Guardian Glass, LLC Method of making coated article including anti-reflection coating with porosity differences in two layers, and products containing the same
US8668960B1 (en) 2013-02-08 2014-03-11 Enki Technology, Inc. Flow coating apparatus and method of coating
US10226273B2 (en) 2013-03-14 2019-03-12 Ethicon Llc Mechanical fasteners for use with surgical energy devices
US9241728B2 (en) 2013-03-15 2016-01-26 Ethicon Endo-Surgery, Inc. Surgical instrument with multiple clamping mechanisms
US9293772B2 (en) 2013-04-11 2016-03-22 Ut-Battelle, Llc Gradient porous electrode architectures for rechargeable metal-air batteries
US9814514B2 (en) 2013-09-13 2017-11-14 Ethicon Llc Electrosurgical (RF) medical instruments for cutting and coagulating tissue
US9272773B2 (en) * 2013-09-25 2016-03-01 The Boeing Company Apparatus and methods to operate laminar flow control doors
US9265926B2 (en) 2013-11-08 2016-02-23 Ethicon Endo-Surgery, Llc Electrosurgical devices
GB2521229A (en) 2013-12-16 2015-06-17 Ethicon Endo Surgery Inc Medical device
GB2521228A (en) 2013-12-16 2015-06-17 Ethicon Endo Surgery Inc Medical device
RU2564357C2 (ru) * 2013-12-26 2015-09-27 Общество с ограниченной ответственностью "Русские инновации" Композиция для получения супергидрофобного покрытия
US9795436B2 (en) 2014-01-07 2017-10-24 Ethicon Llc Harvesting energy from a surgical generator
CN111708107B (zh) 2014-02-12 2022-06-24 视觉缓解公司 易清洁涂层
US20150239773A1 (en) 2014-02-21 2015-08-27 Ut-Battelle, Llc Transparent omniphobic thin film articles
US9554854B2 (en) 2014-03-18 2017-01-31 Ethicon Endo-Surgery, Llc Detecting short circuits in electrosurgical medical devices
WO2015148312A1 (en) 2014-03-27 2015-10-01 Innosense, Llc Hydrophilic anti-fog coatings
US10463421B2 (en) 2014-03-27 2019-11-05 Ethicon Llc Two stage trigger, clamp and cut bipolar vessel sealer
US10092310B2 (en) 2014-03-27 2018-10-09 Ethicon Llc Electrosurgical devices
US9737355B2 (en) 2014-03-31 2017-08-22 Ethicon Llc Controlling impedance rise in electrosurgical medical devices
US9913680B2 (en) 2014-04-15 2018-03-13 Ethicon Llc Software algorithms for electrosurgical instruments
US20160200953A1 (en) 2014-04-18 2016-07-14 Jason Constantinou Methods and formulations for superhydrophic, self-cleaning, and icephobic polymer coatings and objects having coatings thereon
EP3131686B1 (en) * 2014-04-18 2019-07-10 University of Massachusetts Methods and formulations for durable superhydrophic, self-cleaning, and superhydrophobic polymer coatings and objects having coatings thereon
CN103936297B (zh) * 2014-05-04 2016-01-20 江南大学 一种超双疏增透玻璃表面层及其制备方法
US9598586B2 (en) 2014-07-14 2017-03-21 Enki Technology, Inc. Coating materials and methods for enhanced reliability
US9382449B2 (en) 2014-09-19 2016-07-05 Enki Technology, Inc. Optical enhancing durable anti-reflective coating
US9376589B2 (en) 2014-07-14 2016-06-28 Enki Technology, Inc. High gain durable anti-reflective coating with oblate voids
US10285724B2 (en) 2014-07-31 2019-05-14 Ethicon Llc Actuation mechanisms and load adjustment assemblies for surgical instruments
EP3015496B1 (en) * 2014-08-06 2018-12-12 Mitsubishi Chemical Corporation Coating film
US10639092B2 (en) 2014-12-08 2020-05-05 Ethicon Llc Electrode configurations for surgical instruments
US10159524B2 (en) 2014-12-22 2018-12-25 Ethicon Llc High power battery powered RF amplifier topology
SG11201706397XA (en) 2015-02-04 2017-09-28 Agency Science Tech & Res Anti-reflection coating
US10245095B2 (en) 2015-02-06 2019-04-02 Ethicon Llc Electrosurgical instrument with rotation and articulation mechanisms
WO2016145118A1 (en) 2015-03-09 2016-09-15 Vision Ease, Lp Anti-static, anti-reflective coating
US10321950B2 (en) 2015-03-17 2019-06-18 Ethicon Llc Managing tissue treatment
US10342602B2 (en) 2015-03-17 2019-07-09 Ethicon Llc Managing tissue treatment
MX393567B (es) 2015-03-18 2025-03-24 Vision Ease Lp Recubrimiento resistente al cuarteado y metodo del mismo
US10595929B2 (en) 2015-03-24 2020-03-24 Ethicon Llc Surgical instruments with firing system overload protection mechanisms
US10314638B2 (en) 2015-04-07 2019-06-11 Ethicon Llc Articulating radio frequency (RF) tissue seal with articulating state sensing
JP6803842B2 (ja) 2015-04-13 2020-12-23 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング
US10034684B2 (en) 2015-06-15 2018-07-31 Ethicon Llc Apparatus and method for dissecting and coagulating tissue
US11020140B2 (en) 2015-06-17 2021-06-01 Cilag Gmbh International Ultrasonic surgical blade for use with ultrasonic surgical instruments
US10357303B2 (en) 2015-06-30 2019-07-23 Ethicon Llc Translatable outer tube for sealing using shielded lap chole dissector
US10034704B2 (en) 2015-06-30 2018-07-31 Ethicon Llc Surgical instrument with user adaptable algorithms
US11141213B2 (en) 2015-06-30 2021-10-12 Cilag Gmbh International Surgical instrument with user adaptable techniques
US11129669B2 (en) 2015-06-30 2021-09-28 Cilag Gmbh International Surgical system with user adaptable techniques based on tissue type
US11051873B2 (en) 2015-06-30 2021-07-06 Cilag Gmbh International Surgical system with user adaptable techniques employing multiple energy modalities based on tissue parameters
US10898256B2 (en) 2015-06-30 2021-01-26 Ethicon Llc Surgical system with user adaptable techniques based on tissue impedance
US10154852B2 (en) 2015-07-01 2018-12-18 Ethicon Llc Ultrasonic surgical blade with improved cutting and coagulation features
US10194973B2 (en) 2015-09-30 2019-02-05 Ethicon Llc Generator for digitally generating electrical signal waveforms for electrosurgical and ultrasonic surgical instruments
CA3001120C (en) 2015-10-13 2023-01-03 Vision Ease, Lp Optical filter with selective transmittance and reflectance
US10595930B2 (en) 2015-10-16 2020-03-24 Ethicon Llc Electrode wiping surgical device
US10959771B2 (en) 2015-10-16 2021-03-30 Ethicon Llc Suction and irrigation sealing grasper
US10179022B2 (en) 2015-12-30 2019-01-15 Ethicon Llc Jaw position impedance limiter for electrosurgical instrument
US10959806B2 (en) 2015-12-30 2021-03-30 Ethicon Llc Energized medical device with reusable handle
US10575892B2 (en) 2015-12-31 2020-03-03 Ethicon Llc Adapter for electrical surgical instruments
US11129670B2 (en) 2016-01-15 2021-09-28 Cilag Gmbh International Modular battery powered handheld surgical instrument with selective application of energy based on button displacement, intensity, or local tissue characterization
US11229471B2 (en) 2016-01-15 2022-01-25 Cilag Gmbh International Modular battery powered handheld surgical instrument with selective application of energy based on tissue characterization
US12193698B2 (en) 2016-01-15 2025-01-14 Cilag Gmbh International Method for self-diagnosing operation of a control switch in a surgical instrument system
US10716615B2 (en) 2016-01-15 2020-07-21 Ethicon Llc Modular battery powered handheld surgical instrument with curved end effectors having asymmetric engagement between jaw and blade
US10842523B2 (en) 2016-01-15 2020-11-24 Ethicon Llc Modular battery powered handheld surgical instrument and methods therefor
US10555769B2 (en) 2016-02-22 2020-02-11 Ethicon Llc Flexible circuits for electrosurgical instrument
US10702329B2 (en) 2016-04-29 2020-07-07 Ethicon Llc Jaw structure with distal post for electrosurgical instruments
US10987156B2 (en) 2016-04-29 2021-04-27 Ethicon Llc Electrosurgical instrument with electrically conductive gap setting member and electrically insulative tissue engaging members
US10856934B2 (en) 2016-04-29 2020-12-08 Ethicon Llc Electrosurgical instrument with electrically conductive gap setting and tissue engaging members
US10646269B2 (en) 2016-04-29 2020-05-12 Ethicon Llc Non-linear jaw gap for electrosurgical instruments
US10485607B2 (en) 2016-04-29 2019-11-26 Ethicon Llc Jaw structure with distal closure for electrosurgical instruments
US10456193B2 (en) 2016-05-03 2019-10-29 Ethicon Llc Medical device with a bilateral jaw configuration for nerve stimulation
US10245064B2 (en) 2016-07-12 2019-04-02 Ethicon Llc Ultrasonic surgical instrument with piezoelectric central lumen transducer
US10893883B2 (en) 2016-07-13 2021-01-19 Ethicon Llc Ultrasonic assembly for use with ultrasonic surgical instruments
US10842522B2 (en) 2016-07-15 2020-11-24 Ethicon Llc Ultrasonic surgical instruments having offset blades
US10376305B2 (en) 2016-08-05 2019-08-13 Ethicon Llc Methods and systems for advanced harmonic energy
US10285723B2 (en) 2016-08-09 2019-05-14 Ethicon Llc Ultrasonic surgical blade with improved heel portion
USD847990S1 (en) 2016-08-16 2019-05-07 Ethicon Llc Surgical instrument
US10952759B2 (en) 2016-08-25 2021-03-23 Ethicon Llc Tissue loading of a surgical instrument
US10779847B2 (en) 2016-08-25 2020-09-22 Ethicon Llc Ultrasonic transducer to waveguide joining
US10751117B2 (en) 2016-09-23 2020-08-25 Ethicon Llc Electrosurgical instrument with fluid diverter
CN106423789B (zh) * 2016-11-01 2019-10-29 南京理工大学 一种耐久性抗冰超疏水涂层及其制备方法
US10603064B2 (en) 2016-11-28 2020-03-31 Ethicon Llc Ultrasonic transducer
US11266430B2 (en) 2016-11-29 2022-03-08 Cilag Gmbh International End effector control and calibration
US10725209B2 (en) * 2017-01-17 2020-07-28 The Penn State Research Foundation Broadband and omnidirectional polymer antireflection coatings
US11033325B2 (en) 2017-02-16 2021-06-15 Cilag Gmbh International Electrosurgical instrument with telescoping suction port and debris cleaner
US10799284B2 (en) 2017-03-15 2020-10-13 Ethicon Llc Electrosurgical instrument with textured jaws
US11497546B2 (en) 2017-03-31 2022-11-15 Cilag Gmbh International Area ratios of patterned coatings on RF electrodes to reduce sticking
US10603117B2 (en) 2017-06-28 2020-03-31 Ethicon Llc Articulation state detection mechanisms
US10820920B2 (en) 2017-07-05 2020-11-03 Ethicon Llc Reusable ultrasonic medical devices and methods of their use
US11484358B2 (en) 2017-09-29 2022-11-01 Cilag Gmbh International Flexible electrosurgical instrument
US11033323B2 (en) 2017-09-29 2021-06-15 Cilag Gmbh International Systems and methods for managing fluid and suction in electrosurgical systems
US11490951B2 (en) 2017-09-29 2022-11-08 Cilag Gmbh International Saline contact with electrodes
US11422294B2 (en) 2017-10-10 2022-08-23 Central Glass Company, Limited Durable functional coatings
EP3694815A4 (en) * 2017-10-10 2020-11-11 Central Glass Co., Ltd. IMPROVED ANTI-REFLECTIVE FUNCTIONAL COATING FOR GLAZING
WO2019079679A1 (en) * 2017-10-20 2019-04-25 Magic Leap, Inc. CONFIGURING OPTICAL LAYERS IN PRINTING LITHOGRAPHY METHODS
CN111100489B (zh) * 2018-10-26 2022-03-15 3M创新有限公司 一种离型硬涂料、一种离型膜和一种光伏组件
DE102018127854A1 (de) 2018-11-08 2020-05-14 Delo Industrie Klebstoffe Gmbh & Co. Kgaa Feuchtigkeitshärtbare Einkomponentenmasse und Verfahren zum Fügen, Vergießen und Beschichten unter Verwendung der Masse
CN109704625B (zh) * 2018-12-19 2021-06-15 科之杰新材料集团(贵州)有限公司 一种混凝土外加剂用防腐剂及其制备方法
WO2020159974A1 (en) * 2019-01-28 2020-08-06 The Chemours Company Fc, Llc Composition for manufacturing passivation layer and passivation layer using the same
US12576426B2 (en) * 2019-02-13 2026-03-17 Taisei Kako Co., Ltd. Multilayer body and method for producing multilayer body
EP3924770A4 (en) 2019-02-14 2022-04-27 Central Glass Co., Ltd. VEHICLE WINDSHIELD INTENDED FOR USE WITH A HEAD-UP DISPLAY SYSTEM
WO2020197535A1 (en) * 2019-03-22 2020-10-01 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Print treatment units
US12343063B2 (en) 2019-12-30 2025-07-01 Cilag Gmbh International Multi-layer clamp arm pad for enhanced versatility and performance of a surgical device
US11589916B2 (en) 2019-12-30 2023-02-28 Cilag Gmbh International Electrosurgical instruments with electrodes having variable energy densities
US11944366B2 (en) 2019-12-30 2024-04-02 Cilag Gmbh International Asymmetric segmented ultrasonic support pad for cooperative engagement with a movable RF electrode
US12114912B2 (en) 2019-12-30 2024-10-15 Cilag Gmbh International Non-biased deflectable electrode to minimize contact between ultrasonic blade and electrode
US11937863B2 (en) 2019-12-30 2024-03-26 Cilag Gmbh International Deflectable electrode with variable compression bias along the length of the deflectable electrode
US12262937B2 (en) 2019-12-30 2025-04-01 Cilag Gmbh International User interface for surgical instrument with combination energy modality end-effector
US12023086B2 (en) 2019-12-30 2024-07-02 Cilag Gmbh International Electrosurgical instrument for delivering blended energy modalities to tissue
US11452525B2 (en) 2019-12-30 2022-09-27 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising an adjustment system
US11723716B2 (en) 2019-12-30 2023-08-15 Cilag Gmbh International Electrosurgical instrument with variable control mechanisms
US12064109B2 (en) 2019-12-30 2024-08-20 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising a feedback control circuit
US11986201B2 (en) 2019-12-30 2024-05-21 Cilag Gmbh International Method for operating a surgical instrument
US11911063B2 (en) 2019-12-30 2024-02-27 Cilag Gmbh International Techniques for detecting ultrasonic blade to electrode contact and reducing power to ultrasonic blade
US11950797B2 (en) 2019-12-30 2024-04-09 Cilag Gmbh International Deflectable electrode with higher distal bias relative to proximal bias
US11786291B2 (en) 2019-12-30 2023-10-17 Cilag Gmbh International Deflectable support of RF energy electrode with respect to opposing ultrasonic blade
US11660089B2 (en) 2019-12-30 2023-05-30 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising a sensing system
US11779387B2 (en) 2019-12-30 2023-10-10 Cilag Gmbh International Clamp arm jaw to minimize tissue sticking and improve tissue control
US11812957B2 (en) 2019-12-30 2023-11-14 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising a signal interference resolution system
US11937866B2 (en) 2019-12-30 2024-03-26 Cilag Gmbh International Method for an electrosurgical procedure
US12076006B2 (en) 2019-12-30 2024-09-03 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising an orientation detection system
US11759251B2 (en) 2019-12-30 2023-09-19 Cilag Gmbh International Control program adaptation based on device status and user input
US12336747B2 (en) 2019-12-30 2025-06-24 Cilag Gmbh International Method of operating a combination ultrasonic / bipolar RF surgical device with a combination energy modality end-effector
US12082808B2 (en) 2019-12-30 2024-09-10 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising a control system responsive to software configurations
US12053224B2 (en) 2019-12-30 2024-08-06 Cilag Gmbh International Variation in electrode parameters and deflectable electrode to modify energy density and tissue interaction
US11696776B2 (en) 2019-12-30 2023-07-11 Cilag Gmbh International Articulatable surgical instrument
US11779329B2 (en) 2019-12-30 2023-10-10 Cilag Gmbh International Surgical instrument comprising a flex circuit including a sensor system
US11707318B2 (en) 2019-12-30 2023-07-25 Cilag Gmbh International Surgical instrument with jaw alignment features
US20230284629A1 (en) * 2020-09-28 2023-09-14 The Trustees Of Princeton University Antimicrobial and antiviral treatments of materials
NL2026856B1 (en) 2020-11-09 2022-06-27 Exa Ip Bv Photovoltaic Devices
US12471982B2 (en) 2020-12-02 2025-11-18 Cilag Gmbh International Method for tissue treatment by surgical instrument
US20240318029A1 (en) * 2020-12-28 2024-09-26 University Of Rochester Optically Clear, Stretchable, Crosslinked Thin Film Polymeric Barrier Layers Protecting Optical Devices
NL2027258B1 (en) 2020-12-31 2022-07-21 Exa Ip Bv Integrated photovoltaic roof element
CA3210159A1 (en) 2021-01-29 2022-08-04 Armonica Technologies, Inc. Enhancement structures for surface-enhanced raman scattering
US11957342B2 (en) 2021-11-01 2024-04-16 Cilag Gmbh International Devices, systems, and methods for detecting tissue and foreign objects during a surgical operation
US12508021B2 (en) 2021-11-01 2025-12-30 Cilag Gmbh International Devices, systems, and methods for detecting tissue and foreign objects during a surgical operation
CN114369960B (zh) * 2022-01-13 2023-08-29 武汉纺织大学 光固化抗菌二氧化硅涂层的制备方法及其应用
NL2031542B1 (en) 2022-04-08 2023-11-03 Exasun B V Building-integrated thermal photovoltaic building cladding system
CN114755337B (zh) * 2022-04-18 2023-01-31 河南大学 二硫键介导的光交联磁性二氧化硅亲和探针及其制备方法和应用
CN116477847A (zh) * 2022-07-12 2023-07-25 法国圣戈班玻璃公司 用于形成显示涂层的涂料组合物以及包含所述显示涂层的玻璃组件与窗体总成
DE102023124846A1 (de) 2023-09-14 2025-03-20 Phytonics GmbH Verfahren zum Aufbringen einer blendreduzierenden Beschichtung auf einem Substrat, Solarglas mit einer Beschichtung, Solarzelle und/oder Solarmodul sowie Solaranlage
CN118834022B (zh) * 2024-06-25 2025-06-03 曲靖海生润新材料有限公司 一种镀膜玻璃的生产工艺
CN120443505B (zh) * 2025-06-26 2026-01-06 枣庄美迪格新型材料科技有限公司 肤感表面高分子涂装纸的压贴平贴复合工艺

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11153703A (ja) * 1997-09-18 1999-06-08 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
JP2001163906A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜
JP2001188104A (ja) * 1999-09-29 2001-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置
JP2001526719A (ja) * 1997-05-13 2001-12-18 インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク ナノ構造の成形体および層並びにそれらを製造する方法
JP2002079600A (ja) * 2000-09-05 2002-03-19 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体
JP2002516249A (ja) * 1998-05-27 2002-06-04 インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク 多層光学システムを製造する方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2601123A (en) * 1947-04-05 1952-06-17 American Optical Corp Composition for reducing the reflection of light
US3661744A (en) * 1966-07-26 1972-05-09 Grace W R & Co Photocurable liquid polyene-polythiol polymer compositions
JPS5842001A (ja) * 1981-09-04 1983-03-11 Daicel Chem Ind Ltd プラスチツク光学部品の反射防止膜
US6391459B1 (en) * 1992-04-20 2002-05-21 Dsm N.V. Radiation curable oligomers containing alkoxylated fluorinated polyols
US5523649A (en) * 1994-11-08 1996-06-04 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Multilayer antireflective coating for video display panel
US6130152A (en) * 1995-11-16 2000-10-10 Texas Instruments Incorporated Aerogel thin film formation from multi-solvent systems
US6319852B1 (en) * 1995-11-16 2001-11-20 Texas Instruments Incorporated Nanoporous dielectric thin film formation using a post-deposition catalyst
US5744514A (en) * 1996-10-31 1998-04-28 Borden Chemical, Inc. Coated optical fibers having a reduced content of extractable and volatile material
DE19746885A1 (de) * 1997-10-23 1999-06-24 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Nanostrukturierte Formkörper und Schichten sowie Verfahren zu deren Herstellung
EP0881192B1 (en) * 1997-05-26 2002-03-27 Nissan Chemical Industries, Ltd. Process of producing hydrophobic organosilica sol
US6323255B1 (en) 1998-09-30 2001-11-27 Dsm N.V. Radiation-curable composition
JP4389315B2 (ja) * 1999-12-28 2009-12-24 Jsr株式会社 反応性粒子、これを含有する硬化性組成物及び硬化物
KR100761184B1 (ko) 2000-04-20 2007-10-04 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. 경화성 수지 조성물, 경화 필름 및 복합 제품
GB2374998B (en) 2000-05-22 2004-10-13 Nds Ltd Dynamically shifting control word
US6646080B2 (en) * 2000-09-14 2003-11-11 Dsm N.V. Coating compositions for plastic substrates
US6863518B2 (en) * 2001-02-20 2005-03-08 Q2100, Inc. Mold filing apparatus having multiple fill stations
KR100446211B1 (ko) * 2001-08-29 2004-08-30 박기용 수소이온 전도성 불소수지 멤브레인의 제조방법
EP1479734B1 (en) * 2003-05-20 2009-02-11 DSM IP Assets B.V. Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001526719A (ja) * 1997-05-13 2001-12-18 インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク ナノ構造の成形体および層並びにそれらを製造する方法
JPH11153703A (ja) * 1997-09-18 1999-06-08 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置
JP2002516249A (ja) * 1998-05-27 2002-06-04 インスティトゥート フィア ノイエ マテリアーリエン ゲマインニュッツィゲ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクタ ハフトゥンク 多層光学システムを製造する方法
JP2001188104A (ja) * 1999-09-29 2001-07-10 Fuji Photo Film Co Ltd 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置
JP2001163906A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd 低屈折率組成物、低屈折率膜、光学多層膜および反射防止膜
JP2002079600A (ja) * 2000-09-05 2002-03-19 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008510028A (ja) * 2004-08-10 2008-04-03 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. コーティング組成物、コーティング、およびそのコーティング組成物によりコーティングされた物体
JP2014012841A (ja) * 2004-08-10 2014-01-23 Dsm Ip Assets Bv コーティング組成物、コーティング、およびそのコーティング組成物によりコーティングされた物体
JP2011518006A (ja) * 2008-04-22 2011-06-23 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー ナノ構造形成材料を含む使い捨て物品
JP2012514239A (ja) * 2008-12-30 2012-06-21 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ナノ構造化物品及びナノ構造化物品の作製方法
JP2012517910A (ja) * 2009-02-17 2012-08-09 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ ユニヴァーシティー オブ イリノイ 可撓性を有するマイクロ構造の超疎水性材料
JP2013508778A (ja) * 2009-10-24 2013-03-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 勾配低屈折率の物品及び方法
WO2013137101A1 (ja) * 2012-03-16 2013-09-19 東レ株式会社 積層フィルムおよびその製造方法
JPWO2013137101A1 (ja) * 2012-03-16 2015-08-03 東レ株式会社 積層フィルムおよびその製造方法
WO2013180084A1 (ja) * 2012-05-29 2013-12-05 株式会社クラレ 反射防止膜

Also Published As

Publication number Publication date
EP1479734B1 (en) 2009-02-11
ES2327927T3 (es) 2009-11-05
US20090029145A1 (en) 2009-01-29
WO2004104113A1 (en) 2004-12-02
PL1625182T3 (pl) 2009-12-31
KR20060017610A (ko) 2006-02-24
DK1479734T3 (da) 2009-05-11
DE60326121D1 (de) 2009-03-26
US20080248312A1 (en) 2008-10-09
MXPA05012488A (es) 2006-02-22
DE602004021919D1 (de) 2009-08-20
DK1625182T3 (da) 2009-09-07
US20060019114A1 (en) 2006-01-26
TW200505810A (en) 2005-02-16
US7704608B2 (en) 2010-04-27
TWI357403B (en) 2012-02-01
ES2321390T3 (es) 2009-06-05
KR101114798B1 (ko) 2012-03-05
CN100379828C (zh) 2008-04-09
ATE435890T1 (de) 2009-07-15
EP1625182B1 (en) 2009-07-08
EP1479734A1 (en) 2004-11-24
EP1625182A1 (en) 2006-02-15
US20060275595A1 (en) 2006-12-07
CN1791646A (zh) 2006-06-21
ATE422525T1 (de) 2009-02-15
US7892606B2 (en) 2011-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1625182B1 (en) Nano-structured surface coating process, nano-structured coatings and articles comprising the coating
US20060286305A1 (en) Hydrophobic coatings comprising reactive nano-particles
KR100771739B1 (ko) 반사 방지 특성을 갖는 기계적으로 내구성인 단일 층코팅을 제조하는 방법
JP2007501891A6 (ja) 反応性ナノ粒子を含む疎水性コーティング
TWI518156B (zh) 抗反射及抗炫塗佈組成物、抗反射及抗炫薄膜以及其製備方法
JP6868103B2 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
KR101953594B1 (ko) 투명 피막 형성용 도포액 및 투명 피막부 기재
JP5815304B2 (ja) 光学薄膜形成用塗料および光学薄膜
CN1820058A (zh) 包含反应性纳米粒子的疏水涂层
JP2006022258A (ja) 組成物、成形物および硬化塗膜の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070425

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100105

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100720