JPH11156355A - フッ素含有水の処理方法 - Google Patents
フッ素含有水の処理方法Info
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- JPH11156355A JPH11156355A JP32168197A JP32168197A JPH11156355A JP H11156355 A JPH11156355 A JP H11156355A JP 32168197 A JP32168197 A JP 32168197A JP 32168197 A JP32168197 A JP 32168197A JP H11156355 A JPH11156355 A JP H11156355A
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- JP
- Japan
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- fluorine
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- concentration
- water
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- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体工場や液晶工場などから排出される低濃
度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水を処理し、フッ素
を再資源化が容易な高純度のフッ化カルシウムとして効
率よく回収することができるフッ素含有水の処理方法を
提供する。 【解決手段】低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水
を処理する方法において、低濃度フッ素含有水をイオン
交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液と高濃
度フッ素含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充填塔に
通水することによりフッ素回収処理を行うことを特徴と
するフッ素含有水の処理方法。
度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水を処理し、フッ素
を再資源化が容易な高純度のフッ化カルシウムとして効
率よく回収することができるフッ素含有水の処理方法を
提供する。 【解決手段】低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水
を処理する方法において、低濃度フッ素含有水をイオン
交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液と高濃
度フッ素含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充填塔に
通水することによりフッ素回収処理を行うことを特徴と
するフッ素含有水の処理方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フッ素含有水の処
理方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、半導体工
場や液晶工場などから排出される低濃度フッ素含有水と
高濃度フッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化可能な
フッ化カルシウムとして効率よく回収することができる
フッ素含有水の処理方法に関する。
理方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、半導体工
場や液晶工場などから排出される低濃度フッ素含有水と
高濃度フッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化可能な
フッ化カルシウムとして効率よく回収することができる
フッ素含有水の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体工場や液晶工場などにおいては、
多量のフッ化水素酸（ＨＦ）、フッ化アンモニウム（Ｎ
Ｈ4Ｆ）水溶液、酸性フッ化アンモニウム（ＮＨ4Ｈ
Ｆ2）水溶液などの薬液を用い、シリコンウェハーなど
のエッチングを行っている。工程としては、薬液による
エッチングを行ったのち、超純水による洗浄を行うた
め、エッチング工程においてはフッ素を高濃度に含有す
る排水が発生し、超純水による洗浄工程においてはフッ
素を低濃度に含有する排水が発生する。このような高濃
度フッ素含有水と低濃度フッ素含有水を効率よく処理す
るために、従来よりさまざまな検討がなされてきた。例
えば、クリーンテクノロジー、第６巻、第１号、３５〜
３７頁（１９９６年）には、フッ素含有排水を濃厚系と
希薄系に分離し、濃厚系フッ素含有排水についてフッ素
回収処理を行い、そのフッ素回収処理の処理水と希薄系
フッ素含有排水を合わせて、凝集沈殿法により処理する
方法が示されている。しかし、この方法によっては、濃
厚系フッ素含有排水のフッ素はフッ素回収処理により回
収することができるが、希薄系フッ素含有排水は汚泥発
生量が多い凝集沈殿法により処理する必要があり、希薄
系フッ素含有排水中のフッ素については、資源化可能な
フッ化カルシウムなどの形態で回収することはできなか
った。また、特開平５−９２１８７号公報には、低濃度
フッ素含有水と高濃度フッ素含有水が排出される系にお
いて、低濃度フッ素含有水をフッ素吸着樹脂と接触させ
てフッ素を除去し、フッ素吸着樹脂の再生廃液を高濃度
フッ素含有水と合わせ、カルシウム化合物を加えて凝集
処理し固液分離するフッ素含有水の処理方法が提案され
ている。この方法によれば、フッ素含有水の効率的な処
理を行うことができるが、高濃度フッ素含有汚泥が発生
する。このために、半導体工場や液晶工場などから排出
される低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水からな
る２系統以上のフッ素含有水を合理的に処理して、フッ
素を再資源化可能な形態で効率よく回収することができ
るフッ素含有水の処理方法が求められていた。
多量のフッ化水素酸（ＨＦ）、フッ化アンモニウム（Ｎ
Ｈ4Ｆ）水溶液、酸性フッ化アンモニウム（ＮＨ4Ｈ
Ｆ2）水溶液などの薬液を用い、シリコンウェハーなど
のエッチングを行っている。工程としては、薬液による
エッチングを行ったのち、超純水による洗浄を行うた
め、エッチング工程においてはフッ素を高濃度に含有す
る排水が発生し、超純水による洗浄工程においてはフッ
素を低濃度に含有する排水が発生する。このような高濃
度フッ素含有水と低濃度フッ素含有水を効率よく処理す
るために、従来よりさまざまな検討がなされてきた。例
えば、クリーンテクノロジー、第６巻、第１号、３５〜
３７頁（１９９６年）には、フッ素含有排水を濃厚系と
希薄系に分離し、濃厚系フッ素含有排水についてフッ素
回収処理を行い、そのフッ素回収処理の処理水と希薄系
フッ素含有排水を合わせて、凝集沈殿法により処理する
方法が示されている。しかし、この方法によっては、濃
厚系フッ素含有排水のフッ素はフッ素回収処理により回
収することができるが、希薄系フッ素含有排水は汚泥発
生量が多い凝集沈殿法により処理する必要があり、希薄
系フッ素含有排水中のフッ素については、資源化可能な
フッ化カルシウムなどの形態で回収することはできなか
った。また、特開平５−９２１８７号公報には、低濃度
フッ素含有水と高濃度フッ素含有水が排出される系にお
いて、低濃度フッ素含有水をフッ素吸着樹脂と接触させ
てフッ素を除去し、フッ素吸着樹脂の再生廃液を高濃度
フッ素含有水と合わせ、カルシウム化合物を加えて凝集
処理し固液分離するフッ素含有水の処理方法が提案され
ている。この方法によれば、フッ素含有水の効率的な処
理を行うことができるが、高濃度フッ素含有汚泥が発生
する。このために、半導体工場や液晶工場などから排出
される低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水からな
る２系統以上のフッ素含有水を合理的に処理して、フッ
素を再資源化可能な形態で効率よく回収することができ
るフッ素含有水の処理方法が求められていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、半導体工場
や液晶工場などから排出される低濃度フッ素含有水と高
濃度フッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化が容易な
高純度のフッ化カルシウムとして効率よく回収すること
ができるフッ素含有水の処理方法を提供することを目的
としてなされたものである。
や液晶工場などから排出される低濃度フッ素含有水と高
濃度フッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化が容易な
高純度のフッ化カルシウムとして効率よく回収すること
ができるフッ素含有水の処理方法を提供することを目的
としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、排出されるフッ素
含有水を濃厚系と希薄系に分離し、低濃度フッ素含有水
をイオン交換装置に通水し、そのイオン交換装置を再生
する際に排出されるフッ素を高濃度に含有する再生廃液
を高濃度フッ素含有水に混合し、炭酸カルシウム充填塔
に通水することにより、フッ素を高純度のフッ化カルシ
ウムとして簡便かつ容易に回収し得ることを見いだし
て、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。す
なわち、本発明は、低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素
含有水を処理する方法において、低濃度フッ素含有水を
イオン交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液
と高濃度フッ素含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充
填塔に通水することによりフッ素回収処理を行うことを
特徴とするフッ素含有水の処理方法を提供するものであ
る。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、排出されるフッ素
含有水を濃厚系と希薄系に分離し、低濃度フッ素含有水
をイオン交換装置に通水し、そのイオン交換装置を再生
する際に排出されるフッ素を高濃度に含有する再生廃液
を高濃度フッ素含有水に混合し、炭酸カルシウム充填塔
に通水することにより、フッ素を高純度のフッ化カルシ
ウムとして簡便かつ容易に回収し得ることを見いだし
て、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。す
なわち、本発明は、低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素
含有水を処理する方法において、低濃度フッ素含有水を
イオン交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液
と高濃度フッ素含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充
填塔に通水することによりフッ素回収処理を行うことを
特徴とするフッ素含有水の処理方法を提供するものであ
る。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のフッ素含有水の処理方法
は、低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水を処理す
る方法において、低濃度フッ素含有水をイオン交換装置
に通水し、該イオン交換装置の再生廃液と高濃度フッ素
含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充填塔に通水する
ことによりフッ素回収処理を行うものである。半導体工
場などにおいては、多量のフッ化水素酸（ＨＦ）、フッ
化アンモニウム（ＮＨ4Ｆ）、酸性フッ化アンモニウム
（ＮＨ4ＨＦ2）などの薬液を用い、シリコンウェハーな
どのエッチングを行う。工程としては、薬液によるエッ
チングを行ったのち、超純水による洗浄を行うため、排
液は、エッチング工程で発生する高濃度フッ素含有水と
洗浄工程で発生する低濃度フッ素含有水に分けることが
できる。
は、低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水を処理す
る方法において、低濃度フッ素含有水をイオン交換装置
に通水し、該イオン交換装置の再生廃液と高濃度フッ素
含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充填塔に通水する
ことによりフッ素回収処理を行うものである。半導体工
場などにおいては、多量のフッ化水素酸（ＨＦ）、フッ
化アンモニウム（ＮＨ4Ｆ）、酸性フッ化アンモニウム
（ＮＨ4ＨＦ2）などの薬液を用い、シリコンウェハーな
どのエッチングを行う。工程としては、薬液によるエッ
チングを行ったのち、超純水による洗浄を行うため、排
液は、エッチング工程で発生する高濃度フッ素含有水と
洗浄工程で発生する低濃度フッ素含有水に分けることが
できる。
【０００６】図１は、本発明のフッ素含有水の処理方法
の一態様の工程系統図である。低濃度フッ素含有水のフ
ッ素濃度は、通常１００mg／リットル程度又はそれ以下
であり、上記のフッ素化合物以外のものとして硝酸や酢
酸などが含まれる場合もあるが、その他のイオンなどの
混合は少ない。本発明方法においては、低濃度フッ素含
有水を、必要に応じて低濃度フッ素含有水貯槽１に貯留
したのち、ポンプによりイオン交換装置２に通水してフ
ッ素イオンを除去する。使用するイオン交換装置は、陰
イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔であることが好
ましい。イオン交換装置に通水して得られる処理水に
は、フッ素イオンやその他のイオンは少なく、処理水の
電気伝導率は低いので、必要に応じて処理水貯槽３に貯
留し、低純水などとして再利用することができる。本発
明方法においては、イオン交換装置を用いているので、
フッ素以外のイオンを除去することができ、処理水を再
利用する際に有用である。陰イオン交換樹脂は、適宜イ
オン交換処理を停止して、再生液槽４より水酸化ナトリ
ウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などの再生液をポン
プにより通液して定期的に再生を行う。この際に発生す
る再生廃液にはフッ素が高濃度で含まれており、濃縮さ
れたフッ素を含む溶液が得られる。フッ素を高濃度に含
む再生廃液は、再生廃液貯槽５に貯留したのち、ポンプ
により高濃度フッ素含有水貯槽６に送って、高濃度フッ
素含有水と合わせて混合する。
の一態様の工程系統図である。低濃度フッ素含有水のフ
ッ素濃度は、通常１００mg／リットル程度又はそれ以下
であり、上記のフッ素化合物以外のものとして硝酸や酢
酸などが含まれる場合もあるが、その他のイオンなどの
混合は少ない。本発明方法においては、低濃度フッ素含
有水を、必要に応じて低濃度フッ素含有水貯槽１に貯留
したのち、ポンプによりイオン交換装置２に通水してフ
ッ素イオンを除去する。使用するイオン交換装置は、陰
イオン交換樹脂を充填したイオン交換塔であることが好
ましい。イオン交換装置に通水して得られる処理水に
は、フッ素イオンやその他のイオンは少なく、処理水の
電気伝導率は低いので、必要に応じて処理水貯槽３に貯
留し、低純水などとして再利用することができる。本発
明方法においては、イオン交換装置を用いているので、
フッ素以外のイオンを除去することができ、処理水を再
利用する際に有用である。陰イオン交換樹脂は、適宜イ
オン交換処理を停止して、再生液槽４より水酸化ナトリ
ウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などの再生液をポン
プにより通液して定期的に再生を行う。この際に発生す
る再生廃液にはフッ素が高濃度で含まれており、濃縮さ
れたフッ素を含む溶液が得られる。フッ素を高濃度に含
む再生廃液は、再生廃液貯槽５に貯留したのち、ポンプ
により高濃度フッ素含有水貯槽６に送って、高濃度フッ
素含有水と合わせて混合する。
【０００７】本発明方法においては、高濃度フッ素含有
水と上記のイオン交換装置の再生廃液の混合液につい
て、炭酸カルシウム充填塔に通水することによりフッ素
回収処理を行う。炭酸カルシウム充填塔に充填する炭酸
カルシウムは、粒径０.１〜０.５mmの粒状炭酸カルシウ
ムであることが好ましい。イオン交換装置の再生廃液と
混合された高濃度フッ素含有水は、高濃度フッ素含有水
貯槽６より、ポンプにより炭酸カルシウム充填塔７へ通
水する。炭酸カルシウム充填塔における通水の方向には
特に制限はなく、上向流、下向流のいずれともすること
ができるが、通水工程での粒子固着を防ぐためには、上
向流で通水することが好ましい。また、通水速度（Ｌ
Ｖ）は２０ｍ／ｈ以上とすることが好ましく、このため
に、中間タンク８と循環ポンプ９を設けて循環通水する
ことができる。炭酸カルシウム充填塔に通水して得られ
る処理水中のフッ素濃度は、通常数十mg／リットル程度
まで低下しているので、処理水貯槽１０に貯留し、必要
に応じてさらに高次処理を行って再利用することができ
る。フッ素回収処理に炭酸カルシウム充填塔を用いる
と、凝集処理したフッ化カルシウムには含まれていたシ
リカなどの不純物の量を低減することができ、さらに高
純度のフッ化カルシウムを得ることができる。
水と上記のイオン交換装置の再生廃液の混合液につい
て、炭酸カルシウム充填塔に通水することによりフッ素
回収処理を行う。炭酸カルシウム充填塔に充填する炭酸
カルシウムは、粒径０.１〜０.５mmの粒状炭酸カルシウ
ムであることが好ましい。イオン交換装置の再生廃液と
混合された高濃度フッ素含有水は、高濃度フッ素含有水
貯槽６より、ポンプにより炭酸カルシウム充填塔７へ通
水する。炭酸カルシウム充填塔における通水の方向には
特に制限はなく、上向流、下向流のいずれともすること
ができるが、通水工程での粒子固着を防ぐためには、上
向流で通水することが好ましい。また、通水速度（Ｌ
Ｖ）は２０ｍ／ｈ以上とすることが好ましく、このため
に、中間タンク８と循環ポンプ９を設けて循環通水する
ことができる。炭酸カルシウム充填塔に通水して得られ
る処理水中のフッ素濃度は、通常数十mg／リットル程度
まで低下しているので、処理水貯槽１０に貯留し、必要
に応じてさらに高次処理を行って再利用することができ
る。フッ素回収処理に炭酸カルシウム充填塔を用いる
と、凝集処理したフッ化カルシウムには含まれていたシ
リカなどの不純物の量を低減することができ、さらに高
純度のフッ化カルシウムを得ることができる。
【０００８】炭酸カルシウム充填塔は２塔以上設けて直
列に連結し、第１塔より最終塔まで順次通水することが
好ましい。第１塔の炭酸カルシウムが、フッ素と反応し
て完全にフッ化カルシウムとなるまで第１塔より通水を
行う。第１塔の炭酸カルシウムが完全にフッ化カルシウ
ムになったとき、第１塔のフッ化カルシウムを抜き出し
た後に新しい炭酸カルシウムを充填し、最終塔として設
置するいわゆるメリーゴーランド運転を行うことによ
り、高純度のフッ化カルシウムを回収することができ
る。本発明方法によれば、炭酸カルシウム充填塔におい
て、フッ素含有水中のフッ素イオンと炭酸カルシウムを
反応させることにより、純度が９０〜９８％以上のフッ
化カルシウムを回収することができ、フッ素源として資
源利用価値の大きいフッ化カルシウムを得ることができ
る。
列に連結し、第１塔より最終塔まで順次通水することが
好ましい。第１塔の炭酸カルシウムが、フッ素と反応し
て完全にフッ化カルシウムとなるまで第１塔より通水を
行う。第１塔の炭酸カルシウムが完全にフッ化カルシウ
ムになったとき、第１塔のフッ化カルシウムを抜き出し
た後に新しい炭酸カルシウムを充填し、最終塔として設
置するいわゆるメリーゴーランド運転を行うことによ
り、高純度のフッ化カルシウムを回収することができ
る。本発明方法によれば、炭酸カルシウム充填塔におい
て、フッ素含有水中のフッ素イオンと炭酸カルシウムを
反応させることにより、純度が９０〜９８％以上のフッ
化カルシウムを回収することができ、フッ素源として資
源利用価値の大きいフッ化カルシウムを得ることができ
る。
【０００９】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例１ 半導体工場より排出された低濃度フッ素含有水と高濃度
フッ素含有水の処理を行った。低濃度フッ素含有水のフ
ッ素濃度は１００mg／リットルであり、高濃度フッ素含
有水のフッ素濃度は５,０００mg／リットルであった。
低濃度フッ素含有水を、陰イオン交換樹脂［栗田工業
(株)、ＥＸ−ＡＧ］５リットルを充填したカラムに、２
５リットル／ｈの通水速度で４０時間通水を行ったの
ち、水酸化ナトリウム水溶液を用いて陰イオン交換樹脂
の再生を行った。発生した再生廃液の量は２５リットル
であり、フッ素濃度は２,０００mg／リットルであっ
た。この再生廃液２５リットルを、高濃度フッ素濃厚水
７５リットルと混合し、粒径が０.３２mmの炭酸カルシ
ウム５０ｇを充填したカラムを３塔直列に連結した炭酸
カルシウム充填塔に、０.１リットル／ｈの流速で通水
した。４日間連続通水したのち、得られた９.６リット
ルの処理水についてフッ素濃度の分析を行ったところ、
３０mg／リットルであった。また、第１塔の充填物につ
いて乾燥したのち化学分析を行ったところ、純度９８.
０重量％のフッ化カルシウムであった。 比較例１ 実施例１で用いた低濃度フッ素含有水を、フッ素吸着樹
脂［旭硝子(株)、ＲＥＡＤ−Ｆ］５リットルを充填した
カラムに、２５リットル／ｈの流速で４０時間通水を行
ったのち、水酸化ナトリウム水溶液を用いてフッ素吸着
樹脂の再生を行った。発生した再生廃液の量は２５リッ
トルであり、フッ素濃度は２,０００mg／リットルであ
った。この再生廃液２５リットルと高濃度フッ素濃厚水
７５リットルを反応槽に入れて混合し、水酸化カルシウ
ム２,４００ｇを添加して１時間撹拌した。得られた白
色懸濁液を沈殿槽に移して固液分離を行った。上澄水の
フッ素濃度は３０mg／リットルであり、乾燥した汚泥は
純度７０.０重量％のフッ化カルシウムであった。実施
例１及び比較例１の結果を、第１表に示す。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限
定されるものではない。 実施例１ 半導体工場より排出された低濃度フッ素含有水と高濃度
フッ素含有水の処理を行った。低濃度フッ素含有水のフ
ッ素濃度は１００mg／リットルであり、高濃度フッ素含
有水のフッ素濃度は５,０００mg／リットルであった。
低濃度フッ素含有水を、陰イオン交換樹脂［栗田工業
(株)、ＥＸ−ＡＧ］５リットルを充填したカラムに、２
５リットル／ｈの通水速度で４０時間通水を行ったの
ち、水酸化ナトリウム水溶液を用いて陰イオン交換樹脂
の再生を行った。発生した再生廃液の量は２５リットル
であり、フッ素濃度は２,０００mg／リットルであっ
た。この再生廃液２５リットルを、高濃度フッ素濃厚水
７５リットルと混合し、粒径が０.３２mmの炭酸カルシ
ウム５０ｇを充填したカラムを３塔直列に連結した炭酸
カルシウム充填塔に、０.１リットル／ｈの流速で通水
した。４日間連続通水したのち、得られた９.６リット
ルの処理水についてフッ素濃度の分析を行ったところ、
３０mg／リットルであった。また、第１塔の充填物につ
いて乾燥したのち化学分析を行ったところ、純度９８.
０重量％のフッ化カルシウムであった。 比較例１ 実施例１で用いた低濃度フッ素含有水を、フッ素吸着樹
脂［旭硝子(株)、ＲＥＡＤ−Ｆ］５リットルを充填した
カラムに、２５リットル／ｈの流速で４０時間通水を行
ったのち、水酸化ナトリウム水溶液を用いてフッ素吸着
樹脂の再生を行った。発生した再生廃液の量は２５リッ
トルであり、フッ素濃度は２,０００mg／リットルであ
った。この再生廃液２５リットルと高濃度フッ素濃厚水
７５リットルを反応槽に入れて混合し、水酸化カルシウ
ム２,４００ｇを添加して１時間撹拌した。得られた白
色懸濁液を沈殿槽に移して固液分離を行った。上澄水の
フッ素濃度は３０mg／リットルであり、乾燥した汚泥は
純度７０.０重量％のフッ化カルシウムであった。実施
例１及び比較例１の結果を、第１表に示す。
【００１０】
【表１】
【００１１】第１表の結果から、低濃度フッ素含有水を
イオン交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液
と高濃度フッ素含有水を合わせて炭酸カルシウム充填塔
に通水する簡便な本発明方法により、再生廃液と高濃度
フッ素含有水の混合液にカルシウム化合物を添加して凝
集、固液分離する従来の方法と同等の水質を有する処理
水と、さらに高い純度を有するフッ化カルシウムが得ら
れることが分かる。
イオン交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液
と高濃度フッ素含有水を合わせて炭酸カルシウム充填塔
に通水する簡便な本発明方法により、再生廃液と高濃度
フッ素含有水の混合液にカルシウム化合物を添加して凝
集、固液分離する従来の方法と同等の水質を有する処理
水と、さらに高い純度を有するフッ化カルシウムが得ら
れることが分かる。
【００１２】
【発明の効果】本発明方法によれば、半導体工場や液晶
工場などから排出される低濃度フッ素含有水と高濃度フ
ッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化が容易な純度の
高いフッ化カルシウムとして効率よく回収することがで
きる。
工場などから排出される低濃度フッ素含有水と高濃度フ
ッ素含有水を処理し、フッ素を再資源化が容易な純度の
高いフッ化カルシウムとして効率よく回収することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のフッ素含有水の処理方法の一
態様の工程系統図である。
態様の工程系統図である。
１ 低濃度フッ素含有水貯槽 ２ イオン交換装置 ３ 処理水貯槽 ４ 再生液槽 ５ 再生廃液貯槽 ６ 高濃度フッ素含有水貯槽 ７ 炭酸カルシウム充填塔 ８ 中間タンク ９ 循環ポンプ １０ 処理水貯槽
Claims (1)
- 【請求項１】低濃度フッ素含有水と高濃度フッ素含有水
を処理する方法において、低濃度フッ素含有水をイオン
交換装置に通水し、該イオン交換装置の再生廃液と高濃
度フッ素含有水とを合わせて、炭酸カルシウム充填塔に
通水することによりフッ素回収処理を行うことを特徴と
するフッ素含有水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32168197A JPH11156355A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | フッ素含有水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32168197A JPH11156355A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | フッ素含有水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11156355A true JPH11156355A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18135243
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32168197A Pending JPH11156355A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | フッ素含有水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11156355A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006061779A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Japan Organo Co Ltd | 排水の処理分別方法および装置 |
| JP2012200687A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | ケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法 |
| KR20150138461A (ko) * | 2014-05-29 | 2015-12-10 | 방산테크놀로지(주) | 에칭공정에서 발생하는 폐수에 함유된 불소성분의 회수방법 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP32168197A patent/JPH11156355A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006061779A (ja) * | 2004-08-25 | 2006-03-09 | Japan Organo Co Ltd | 排水の処理分別方法および装置 |
| JP2012200687A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Kurita Water Ind Ltd | ケイフッ化水素酸含有廃液の処理方法 |
| KR20150138461A (ko) * | 2014-05-29 | 2015-12-10 | 방산테크놀로지(주) | 에칭공정에서 발생하는 폐수에 함유된 불소성분의 회수방법 |
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