JPH11157126A - 画像形成方法と画像形成装置 - Google Patents
画像形成方法と画像形成装置Info
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- JPH11157126A JPH11157126A JP9329806A JP32980697A JPH11157126A JP H11157126 A JPH11157126 A JP H11157126A JP 9329806 A JP9329806 A JP 9329806A JP 32980697 A JP32980697 A JP 32980697A JP H11157126 A JPH11157126 A JP H11157126A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の方法に比べ格段に高画質を実現でき
る。 【解決手段】 光導電性を有する静電潜像保持部材２１
と、レーザ光源５０ａ，５０ｂより発生するレーザービ
ームによって静電潜像保持部材２１に画像情報に対応し
た静電潜像を形成する静電潜像形成手段２３とを備え、
静電潜像の電位を検出する潜像電位検出手段２４と、レ
ーザ光源５０ａ，５０ｂにより形成した静電潜像の潜像
電位検出手段２４による検出結果が規定潜像電位に一致
するようにレーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調
整するレーザ出力調整手段２９とを有する。これによ
り、光路中の光学系、静電潜像保持部材２１の製造ばら
つき、経年変化による特性劣化等の誤差要因を含んで、
レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルの調整を行うこ
とができるので、レーザ光源間、経年変化によるばらつ
きのない安定した高画質を実現できる。
る。 【解決手段】 光導電性を有する静電潜像保持部材２１
と、レーザ光源５０ａ，５０ｂより発生するレーザービ
ームによって静電潜像保持部材２１に画像情報に対応し
た静電潜像を形成する静電潜像形成手段２３とを備え、
静電潜像の電位を検出する潜像電位検出手段２４と、レ
ーザ光源５０ａ，５０ｂにより形成した静電潜像の潜像
電位検出手段２４による検出結果が規定潜像電位に一致
するようにレーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調
整するレーザ出力調整手段２９とを有する。これによ
り、光路中の光学系、静電潜像保持部材２１の製造ばら
つき、経年変化による特性劣化等の誤差要因を含んで、
レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルの調整を行うこ
とができるので、レーザ光源間、経年変化によるばらつ
きのない安定した高画質を実現できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、複写機、ファク
シミリ、プリンタなどの電子写真プロセスを用いる画像
形成方法と画像形成装置に関するものである。
シミリ、プリンタなどの電子写真プロセスを用いる画像
形成方法と画像形成装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子写真画像形成装置は、光導電性を有
する静電潜像保持部材に帯電、露光して静電潜像を形成
し、これに一定の帯電量をもった現像部材を静電気力に
より付着させることによって可視像化する装置である。
近年、オフィスのアメニティ化及びパーソナルコンピュ
ータの普及に伴って、電子写真画像形成装置の市場は、
拡大し成熟してきており、今後益々高速で高画質が要求
されるようになると考えられる。
する静電潜像保持部材に帯電、露光して静電潜像を形成
し、これに一定の帯電量をもった現像部材を静電気力に
より付着させることによって可視像化する装置である。
近年、オフィスのアメニティ化及びパーソナルコンピュ
ータの普及に伴って、電子写真画像形成装置の市場は、
拡大し成熟してきており、今後益々高速で高画質が要求
されるようになると考えられる。
【０００３】以下、図面を参照しながら、従来の電子写
真画像形成装置について説明する。図６は従来の電子写
真画像形成装置の概略を示す断面図、図７は複数のレー
ザ光源を有する静電潜像形成手段を説明するための概念
図である。図６に示すように、従来の電子写真画像形成
装置は、略中央に配置された光導電性の静電潜像保持部
材２１の周りに、帯電ユニット２２、静電潜像形成手段
２３、現像ユニット２５、転写ユニット２６、定着ユニ
ット２７、クリーニングユニット２８を備えている。光
導電性の静電潜像保持部材２１は、帯電ユニット２２に
より暗所において一様に帯電され、静電潜像形成手段２
３により画像情報に応じた静電潜像４１が形成され、現
像ユニット２５により静電潜像４１の電位に応じて現像
部材画像４２が形成され、転写ユニット２６により静電
潜像保持部材２１に付着した現像部材画像４２が用紙３
５に転写され用紙３５に付着した現像部材画像４３が形
成され、定着ユニット２７により現像部材３２が定着さ
れ用紙画像４４が形成され、クリーニングユニット２８
により静電潜像保持部材２１を再利用できるように、除
電及び残留した現像部材が除去される。以上のプロセス
手順に従って画像形成が連続的に行われる。
真画像形成装置について説明する。図６は従来の電子写
真画像形成装置の概略を示す断面図、図７は複数のレー
ザ光源を有する静電潜像形成手段を説明するための概念
図である。図６に示すように、従来の電子写真画像形成
装置は、略中央に配置された光導電性の静電潜像保持部
材２１の周りに、帯電ユニット２２、静電潜像形成手段
２３、現像ユニット２５、転写ユニット２６、定着ユニ
ット２７、クリーニングユニット２８を備えている。光
導電性の静電潜像保持部材２１は、帯電ユニット２２に
より暗所において一様に帯電され、静電潜像形成手段２
３により画像情報に応じた静電潜像４１が形成され、現
像ユニット２５により静電潜像４１の電位に応じて現像
部材画像４２が形成され、転写ユニット２６により静電
潜像保持部材２１に付着した現像部材画像４２が用紙３
５に転写され用紙３５に付着した現像部材画像４３が形
成され、定着ユニット２７により現像部材３２が定着さ
れ用紙画像４４が形成され、クリーニングユニット２８
により静電潜像保持部材２１を再利用できるように、除
電及び残留した現像部材が除去される。以上のプロセス
手順に従って画像形成が連続的に行われる。
【０００４】次に、静電潜像形成手段２３を図７で説明
する。複数のレーザ光源５０ａ，５０ｂより発生するレ
ーザビームは、コリメータレンズ５１ａ，５１ｂ、レー
ザビーム合成器５２、ポリゴンミラー５３、ｆθレンズ
５４を経て静電潜像保持部材２１上を主走査方向（Ｍｓ
方向）に走査される。従来、レーザ光源の出力レベルの
ばらつきに対しては、レーザ光源５０ａ，５０ｂの光量
を検出してレーザ駆動回路５５ａ，５５ｂにフィードバ
ックすることで、レーザ光源の光量が規定値になるよう
に出力レベルを調整している。
する。複数のレーザ光源５０ａ，５０ｂより発生するレ
ーザビームは、コリメータレンズ５１ａ，５１ｂ、レー
ザビーム合成器５２、ポリゴンミラー５３、ｆθレンズ
５４を経て静電潜像保持部材２１上を主走査方向（Ｍｓ
方向）に走査される。従来、レーザ光源の出力レベルの
ばらつきに対しては、レーザ光源５０ａ，５０ｂの光量
を検出してレーザ駆動回路５５ａ，５５ｂにフィードバ
ックすることで、レーザ光源の光量が規定値になるよう
に出力レベルを調整している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなレーザ光源の出力レベルの調整手段を複数のレー
ザ光源５０ａ，５０ｂを用いた画像形成装置に適用する
場合、各レーザ光源５０ａ，５０ｂの光量が規定値にな
るように調整しても、レーザ光源５０ａ，５０ｂから静
電潜像保持部材２１までの光路中には、コリメータレン
ズ５１ａ，５１ｂ等の光学系があり、静電潜像保持部材
２１の表面でのレーザビームの出力レベルは必ずしも規
定値とはならない。また、静電潜像保持部材２１の製造
ばらつき、静電潜像保持部材２１の経年変化による光導
電特性の劣化のため、レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力
を規定値に調整しても、静電潜像保持部材２１に形成さ
れる潜像電位は必ずしも規定電位とはならない。このた
め、形成される画像も一定とはならず、画像不良が発生
しやすいという問題がある。
ようなレーザ光源の出力レベルの調整手段を複数のレー
ザ光源５０ａ，５０ｂを用いた画像形成装置に適用する
場合、各レーザ光源５０ａ，５０ｂの光量が規定値にな
るように調整しても、レーザ光源５０ａ，５０ｂから静
電潜像保持部材２１までの光路中には、コリメータレン
ズ５１ａ，５１ｂ等の光学系があり、静電潜像保持部材
２１の表面でのレーザビームの出力レベルは必ずしも規
定値とはならない。また、静電潜像保持部材２１の製造
ばらつき、静電潜像保持部材２１の経年変化による光導
電特性の劣化のため、レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力
を規定値に調整しても、静電潜像保持部材２１に形成さ
れる潜像電位は必ずしも規定電位とはならない。このた
め、形成される画像も一定とはならず、画像不良が発生
しやすいという問題がある。
【０００６】したがって、この発明の目的は、前記課題
に鑑み、従来の方法に比べ格段に高画質を実現できる画
像形成方法と画像形成装置を提供することである。
に鑑み、従来の方法に比べ格段に高画質を実現できる画
像形成方法と画像形成装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の画像形成
方法は、レーザ光源より発生するレーザービームによっ
て静電潜像保持部材に画像情報に対応した静電潜像を形
成する画像形成方法であって、前記レーザ光源により形
成される静電潜像の潜像電位を検出し、この潜像電位が
規定潜像電位に一致するようにレーザ光源の出力レベル
を調整することを特徴とする。
方法は、レーザ光源より発生するレーザービームによっ
て静電潜像保持部材に画像情報に対応した静電潜像を形
成する画像形成方法であって、前記レーザ光源により形
成される静電潜像の潜像電位を検出し、この潜像電位が
規定潜像電位に一致するようにレーザ光源の出力レベル
を調整することを特徴とする。
【０００８】このように、レーザ光源により形成した静
電潜像の潜像電位を検出し、この潜像電位が規定潜像電
位に一致するようにレーザ光源の出力レベルを調整する
ので、静電潜像保持部材に形成される潜像電位は必ず規
定潜像電位となり、光路中の光学系、静電潜像保持部材
の製造ばらつき、経年変化による特性劣化等の誤差要因
があっても、ばらつきのない安定した高画質を実現でき
る。
電潜像の潜像電位を検出し、この潜像電位が規定潜像電
位に一致するようにレーザ光源の出力レベルを調整する
ので、静電潜像保持部材に形成される潜像電位は必ず規
定潜像電位となり、光路中の光学系、静電潜像保持部材
の製造ばらつき、経年変化による特性劣化等の誤差要因
があっても、ばらつきのない安定した高画質を実現でき
る。
【０００９】請求項２記載の画像形成装置は、光導電性
を有する静電潜像保持部材と、レーザ光源より発生する
レーザービームによって静電潜像保持部材に画像情報に
対応した静電潜像を形成する静電潜像形成手段とを備え
た画像形成装置であって、静電潜像の電位を検出する潜
像電位検出手段と、レーザ光源により形成した静電潜像
の潜像電位検出手段による検出結果が規定潜像電位に一
致するようにレーザ光源の出力レベルを調整するレーザ
出力調整手段とを有することを特徴とする。
を有する静電潜像保持部材と、レーザ光源より発生する
レーザービームによって静電潜像保持部材に画像情報に
対応した静電潜像を形成する静電潜像形成手段とを備え
た画像形成装置であって、静電潜像の電位を検出する潜
像電位検出手段と、レーザ光源により形成した静電潜像
の潜像電位検出手段による検出結果が規定潜像電位に一
致するようにレーザ光源の出力レベルを調整するレーザ
出力調整手段とを有することを特徴とする。
【００１０】このように、静電潜像形成手段によってレ
ーザ光源を動作させ静電潜像保持部材に静電潜像を形成
し、潜像電位検出手段による検出結果が規定潜像電位に
一致するようにレーザ出力調整手段によってレーザ光源
の出力レベルを調整することで、光路中の光学系、静電
潜像保持部材の製造ばらつき、経年変化による特性劣化
等の誤差要因を含んで、レーザ光源の出力レベルの調整
を行うことができるので、レーザ光源間、経年変化によ
るばらつきのない安定した高画質を実現できる。
ーザ光源を動作させ静電潜像保持部材に静電潜像を形成
し、潜像電位検出手段による検出結果が規定潜像電位に
一致するようにレーザ出力調整手段によってレーザ光源
の出力レベルを調整することで、光路中の光学系、静電
潜像保持部材の製造ばらつき、経年変化による特性劣化
等の誤差要因を含んで、レーザ光源の出力レベルの調整
を行うことができるので、レーザ光源間、経年変化によ
るばらつきのない安定した高画質を実現できる。
【００１１】請求項３記載の画像形成装置は、請求項２
において、レーザ出力調整手段は、潜像電位検出手段に
よる検出結果に対応して、レーザ光源のスポット径を調
整するレーザスポット径調整手段を有する。このよう
に、レーザ出力調整手段は、潜像電位検出手段による検
出結果に対応して、レーザ光源のスポット径を調整する
レーザスポット径調整手段を有するので、このレーザス
ポット径調整手段によりレーザ光源の出力レベルを調整
することができる。
において、レーザ出力調整手段は、潜像電位検出手段に
よる検出結果に対応して、レーザ光源のスポット径を調
整するレーザスポット径調整手段を有する。このよう
に、レーザ出力調整手段は、潜像電位検出手段による検
出結果に対応して、レーザ光源のスポット径を調整する
レーザスポット径調整手段を有するので、このレーザス
ポット径調整手段によりレーザ光源の出力レベルを調整
することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】この発明の第１の実施の形態を図
１〜図３に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の
形態の画像形成装置の概略を示す断面図であり、実施の
形態としてのデジタル複写機の画像形成に深く関連する
構造物のみを示している。図２は第１の実施の形態の静
電潜像形成手段を説明するための概念図であり、図３は
レーザ光源の出力レベル調整動作を示すフローチャート
である。図１において、この実施の形態のデジタル複写
機は、略中央に配置された光導電性の静電潜像保持部材
２１の周りに、帯電ユニット２２、静電潜像形成手段２
３、潜像電位検出手段２４、現像ユニット２５、転写ユ
ニット２６、定着ユニット２７、クリーニングユニット
２８、レーザ出力調整手段２９を備えている。図２にお
いて、静電潜像形成手段２３は、複数のレーザ光源５０
ａ，５０ｂ、コリメータレンズ５１ａ，５１ｂ、レーザ
ビーム合成器５２、ポリゴンミラー５３、ｆθレンズ５
４を備えている。レーザ出力調整手段２９は、レーザ駆
動回路５５ａ，５５ｂ、レーザ光源制御手段５６、ＣＰ
Ｕ５７を備えている。
１〜図３に基づいて説明する。図１はこの発明の実施の
形態の画像形成装置の概略を示す断面図であり、実施の
形態としてのデジタル複写機の画像形成に深く関連する
構造物のみを示している。図２は第１の実施の形態の静
電潜像形成手段を説明するための概念図であり、図３は
レーザ光源の出力レベル調整動作を示すフローチャート
である。図１において、この実施の形態のデジタル複写
機は、略中央に配置された光導電性の静電潜像保持部材
２１の周りに、帯電ユニット２２、静電潜像形成手段２
３、潜像電位検出手段２４、現像ユニット２５、転写ユ
ニット２６、定着ユニット２７、クリーニングユニット
２８、レーザ出力調整手段２９を備えている。図２にお
いて、静電潜像形成手段２３は、複数のレーザ光源５０
ａ，５０ｂ、コリメータレンズ５１ａ，５１ｂ、レーザ
ビーム合成器５２、ポリゴンミラー５３、ｆθレンズ５
４を備えている。レーザ出力調整手段２９は、レーザ駆
動回路５５ａ，５５ｂ、レーザ光源制御手段５６、ＣＰ
Ｕ５７を備えている。
【００１３】光導電性の静電潜像保持部材２１は、帯電
ユニット２２により暗所において一様に帯電され、静電
潜像形成手段２３により画像情報に応じた光エネルギー
分布４０が行われて静電潜像４１が形成される。現像ユ
ニット２５はスリーブ３４を有し、現像部材３２及びキ
ャリア３３を供給する。この現像ユニット２５により静
電潜像４１の電位に応じて現像部材画像４２が形成さ
れ、転写ユニット２６により静電潜像保持部材２１に付
着した現像部材画像４２が用紙３５に転写され用紙３５
に付着した現像部材画像４３が形成され、定着ユニット
２７により現像部材３２が定着され用紙画像４４が形成
され、クリーニングユニット２８により静電潜像保持部
材２１を再利用できるように、除電及び残留した現像部
材３２が除去される。以上のプロセス手順に従って画像
形成が連続的に行われる。
ユニット２２により暗所において一様に帯電され、静電
潜像形成手段２３により画像情報に応じた光エネルギー
分布４０が行われて静電潜像４１が形成される。現像ユ
ニット２５はスリーブ３４を有し、現像部材３２及びキ
ャリア３３を供給する。この現像ユニット２５により静
電潜像４１の電位に応じて現像部材画像４２が形成さ
れ、転写ユニット２６により静電潜像保持部材２１に付
着した現像部材画像４２が用紙３５に転写され用紙３５
に付着した現像部材画像４３が形成され、定着ユニット
２７により現像部材３２が定着され用紙画像４４が形成
され、クリーニングユニット２８により静電潜像保持部
材２１を再利用できるように、除電及び残留した現像部
材３２が除去される。以上のプロセス手順に従って画像
形成が連続的に行われる。
【００１４】静電潜像形成手段２３は、複数のレーザ光
源５０ａ，５０ｂより発生するレーザビームによって静
電潜像保持部材２１に静電潜像４１を形成する構成であ
り、この発明の特徴であるレーザ出力調整手段２９を含
んでいる。レーザビーム３１は、コリメータレンズ５１
ａ，５１ｂ、レーザビーム合成器５２、ポリゴンミラー
５３、ｆθレンズ５４を経て静電潜像保持部材２１上を
主走査方向（Ｍｓ方向）に走査される。
源５０ａ，５０ｂより発生するレーザビームによって静
電潜像保持部材２１に静電潜像４１を形成する構成であ
り、この発明の特徴であるレーザ出力調整手段２９を含
んでいる。レーザビーム３１は、コリメータレンズ５１
ａ，５１ｂ、レーザビーム合成器５２、ポリゴンミラー
５３、ｆθレンズ５４を経て静電潜像保持部材２１上を
主走査方向（Ｍｓ方向）に走査される。
【００１５】レーザ出力調整手段２９は、ＣＰＵ５７の
指令により各レーザ駆動回路５５ａ，５５ｂを制御しレ
ーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調整する。この
場合、ＣＰＵ５７からレーザ光源制御手段５６に、レー
ザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベル調整用の画像情報
と、各レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを示す信
号が出力される。レーザ光源制御手段５６で、各レーザ
光源５０ａ，５０ｂの出力を制御し、制御信号を各レー
ザ駆動回路５５ａ，５５ｂに出力する。これにより、そ
の信号に対応した出力レベルのレーザビームが、レーザ
光源５０ａ，５０ｂにより発生する。
指令により各レーザ駆動回路５５ａ，５５ｂを制御しレ
ーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調整する。この
場合、ＣＰＵ５７からレーザ光源制御手段５６に、レー
ザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベル調整用の画像情報
と、各レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを示す信
号が出力される。レーザ光源制御手段５６で、各レーザ
光源５０ａ，５０ｂの出力を制御し、制御信号を各レー
ザ駆動回路５５ａ，５５ｂに出力する。これにより、そ
の信号に対応した出力レベルのレーザビームが、レーザ
光源５０ａ，５０ｂにより発生する。
【００１６】レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルの
調整動作について、図３に基づいて説明する。まず、潜
像電位の目標となる規定潜像電位、例えば負帯電の場合
を想定して−１００Ｖを入力し（ステップ６１）、最初
に調整するレーザ光源、例えばレーザ光源５０ａを選択
し（ステップ６２）、レーザ光源５０ａの出力レベルに
初期値、例えば０．１ｍＷを与える（ステップ６３）。
次に、選択したレーザ光源５０ａのみ駆動し（ステップ
６４）、レーザ光源５０ａの出力レベル調整用の画像情
報に基づいて静電潜像保持部材２１上を走査し、静電潜
像４１を形成する（ステップ６５）。静電潜像４１の電
位は、例えば電位センサである潜像電位検出手段２４
で、例えば−２００Ｖと検出され（ステップ６７）、Ｃ
ＰＵ５７に入力される。検出した潜像電位と規定潜像電
位を比較し（ステップ６８）、一致していない場合はＣ
ＰＵ５７がレーザ光源５０ａの出力レベルを変化させる
指令を出す（ステップ７１）。例えば、レーザ光源５０
ａの出力レベル０．１ｍＷ、検出した潜像電位−２００
Ｖ、規定潜像電位−１００Ｖの場合、ＣＰＵ５７はレー
ザ光源の出力レベルを上げる指令、例えば０．２ｍＷと
いう指令を出す。レーザ光源制御手段５６、レーザ駆動
回路５５ａにより、レーザ光源５０ａのみ駆動され、再
度、静電潜像４１を形成し、潜像電位が検出される。レ
ーザ光源５０ａによる潜像電位が規定電位に一致するま
で、潜像電位を形成、検出してレーザ光源５０ａの出力
レベルの調整を行う。レーザ光源５０ａの出力レベルの
調整が完了したら（ステップ６９）、次に、次のレーザ
光源を選択し（ステップ７２）、例えばレーザ光源５０
ｂを選択し、同様にレーザ光源５０ｂの出力レベルに初
期値を与え、選択したレーザ光源５０ｂのみ駆動し、検
出した潜像電位が規定潜像電位に一致するまで、潜像電
位を形成、検出してレーザ光源５０ｂの出力レベルの調
整を行う。この操作をレーザ光源の数だけ繰り返し、各
レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調整し決定す
る（ステップ７０）。
調整動作について、図３に基づいて説明する。まず、潜
像電位の目標となる規定潜像電位、例えば負帯電の場合
を想定して−１００Ｖを入力し（ステップ６１）、最初
に調整するレーザ光源、例えばレーザ光源５０ａを選択
し（ステップ６２）、レーザ光源５０ａの出力レベルに
初期値、例えば０．１ｍＷを与える（ステップ６３）。
次に、選択したレーザ光源５０ａのみ駆動し（ステップ
６４）、レーザ光源５０ａの出力レベル調整用の画像情
報に基づいて静電潜像保持部材２１上を走査し、静電潜
像４１を形成する（ステップ６５）。静電潜像４１の電
位は、例えば電位センサである潜像電位検出手段２４
で、例えば−２００Ｖと検出され（ステップ６７）、Ｃ
ＰＵ５７に入力される。検出した潜像電位と規定潜像電
位を比較し（ステップ６８）、一致していない場合はＣ
ＰＵ５７がレーザ光源５０ａの出力レベルを変化させる
指令を出す（ステップ７１）。例えば、レーザ光源５０
ａの出力レベル０．１ｍＷ、検出した潜像電位−２００
Ｖ、規定潜像電位−１００Ｖの場合、ＣＰＵ５７はレー
ザ光源の出力レベルを上げる指令、例えば０．２ｍＷと
いう指令を出す。レーザ光源制御手段５６、レーザ駆動
回路５５ａにより、レーザ光源５０ａのみ駆動され、再
度、静電潜像４１を形成し、潜像電位が検出される。レ
ーザ光源５０ａによる潜像電位が規定電位に一致するま
で、潜像電位を形成、検出してレーザ光源５０ａの出力
レベルの調整を行う。レーザ光源５０ａの出力レベルの
調整が完了したら（ステップ６９）、次に、次のレーザ
光源を選択し（ステップ７２）、例えばレーザ光源５０
ｂを選択し、同様にレーザ光源５０ｂの出力レベルに初
期値を与え、選択したレーザ光源５０ｂのみ駆動し、検
出した潜像電位が規定潜像電位に一致するまで、潜像電
位を形成、検出してレーザ光源５０ｂの出力レベルの調
整を行う。この操作をレーザ光源の数だけ繰り返し、各
レーザ光源５０ａ，５０ｂの出力レベルを調整し決定す
る（ステップ７０）。
【００１７】以上のように、例えばレーザ光源が半導体
レーザである場合に、静電潜像形成手段２３によって各
レーザ光源５０ａ，５０ｂを単独で動作させ静電潜像保
持部材２１に静電潜像４１を形成し、潜像電位検出手段
２４による検出結果より、各レーザ光源５０ａ，５０ｂ
により形成された静電潜像４１の電位が一致するように
レーザ出力調整手段２９によってレーザ光源５０ａ，５
０ｂの出力レベルを調整することで、光路中の光学系、
静電潜像保持部材２１の製造ばらつき、経年変化による
特性劣化等の誤差要因を含んでレーザ光源の出力レベル
の調整が行われるので、各レーザ光源間、経年変化によ
るばらつきのない安定した高画質を実現できる。
レーザである場合に、静電潜像形成手段２３によって各
レーザ光源５０ａ，５０ｂを単独で動作させ静電潜像保
持部材２１に静電潜像４１を形成し、潜像電位検出手段
２４による検出結果より、各レーザ光源５０ａ，５０ｂ
により形成された静電潜像４１の電位が一致するように
レーザ出力調整手段２９によってレーザ光源５０ａ，５
０ｂの出力レベルを調整することで、光路中の光学系、
静電潜像保持部材２１の製造ばらつき、経年変化による
特性劣化等の誤差要因を含んでレーザ光源の出力レベル
の調整が行われるので、各レーザ光源間、経年変化によ
るばらつきのない安定した高画質を実現できる。
【００１８】この発明の第２の実施の形態を図４および
図５に基づいて説明する。図４はこの発明の第２の実施
の形態の画像形成装置の静電潜像形成手段を説明する説
明図であり、図５はスリットの動作を示すスリット動作
説明図である。この画像形成装置の概略は第１の実施の
形態で示した図１と同様であり、また画像形成の手順は
第１の実施の形態で示した図３と同様であるが、レーザ
出力調整手段２９において、スリット５８ａ，５８ｂ、
スリット駆動回路５９ａ，５９ｂ、レーザスポット径制
御手段６０が設けてある。
図５に基づいて説明する。図４はこの発明の第２の実施
の形態の画像形成装置の静電潜像形成手段を説明する説
明図であり、図５はスリットの動作を示すスリット動作
説明図である。この画像形成装置の概略は第１の実施の
形態で示した図１と同様であり、また画像形成の手順は
第１の実施の形態で示した図３と同様であるが、レーザ
出力調整手段２９において、スリット５８ａ，５８ｂ、
スリット駆動回路５９ａ，５９ｂ、レーザスポット径制
御手段６０が設けてある。
【００１９】レーザスポット径制御手段６０は、ＣＰＵ
５７からの指令により各スリット駆動回路５９ａ，５９
ｂを制御しスリット幅を制御する。ＣＰＵ５７からレー
ザスポット径制御手段６０に、レーザ光源調整用の画像
情報と、各レーザ光源のスポット径レベルを示す信号が
出力される。レーザスポット径制御手段６０で、各レー
ザ光源５０ａ，５０ｂのスリット幅を制御し、制御信号
を各スリット駆動回路５９ａ，５９ｂに出力する。その
信号に対応したスリット幅が、スリット５８ａ，５８ｂ
により実現される。
５７からの指令により各スリット駆動回路５９ａ，５９
ｂを制御しスリット幅を制御する。ＣＰＵ５７からレー
ザスポット径制御手段６０に、レーザ光源調整用の画像
情報と、各レーザ光源のスポット径レベルを示す信号が
出力される。レーザスポット径制御手段６０で、各レー
ザ光源５０ａ，５０ｂのスリット幅を制御し、制御信号
を各スリット駆動回路５９ａ，５９ｂに出力する。その
信号に対応したスリット幅が、スリット５８ａ，５８ｂ
により実現される。
【００２０】次に、スリット５８ａ，５８ｂの動作につ
いて図５に基づき説明する。スリット５８ａ，５８ｂ
は、電気信号により部分的にレーザビームの透過率が変
化することでその開口率が変化する。例えば、図５に示
すように液晶素子である電気光学素子により構成され、
レーザビーム透過部分Ａとレーザビーム非透過部分Ｂの
占める割合によりスリット５８の開口率が変化する。図
５（ａ）のようにスリット５８の開口率が大きい場合
は、電気光学素子のレーザビーム透過部分Ａが広くなり
スリット幅が大きくなる。図５（ｂ）のようにスリット
５８の開口率が小さい場合は、電気光学素子のレーザビ
ーム透過部分Ａが狭くなりスリット幅が小さくなる。ス
リット幅の調整は、第１の実施の形態で説明したよう
に、単独のレーザ光源のみ駆動し、静電潜像保持部材２
１に潜像電位を形成し、潜像電位検出手段２４による潜
像電位の検出結果が規定潜像電位に一致するまで、潜像
電位を形成、検出してスリット幅を調整し、レーザスポ
ット径を調整する。この操作をレーザ光源の数だけ繰り
返し、各スリット５８ａ，５８ｂを調整し、各レーザス
ポット径を決定する。
いて図５に基づき説明する。スリット５８ａ，５８ｂ
は、電気信号により部分的にレーザビームの透過率が変
化することでその開口率が変化する。例えば、図５に示
すように液晶素子である電気光学素子により構成され、
レーザビーム透過部分Ａとレーザビーム非透過部分Ｂの
占める割合によりスリット５８の開口率が変化する。図
５（ａ）のようにスリット５８の開口率が大きい場合
は、電気光学素子のレーザビーム透過部分Ａが広くなり
スリット幅が大きくなる。図５（ｂ）のようにスリット
５８の開口率が小さい場合は、電気光学素子のレーザビ
ーム透過部分Ａが狭くなりスリット幅が小さくなる。ス
リット幅の調整は、第１の実施の形態で説明したよう
に、単独のレーザ光源のみ駆動し、静電潜像保持部材２
１に潜像電位を形成し、潜像電位検出手段２４による潜
像電位の検出結果が規定潜像電位に一致するまで、潜像
電位を形成、検出してスリット幅を調整し、レーザスポ
ット径を調整する。この操作をレーザ光源の数だけ繰り
返し、各スリット５８ａ，５８ｂを調整し、各レーザス
ポット径を決定する。
【００２１】以上のように、静電潜像形成手段２３によ
って各レーザ光源５０ａ，５０ｂを単独で動作させ静電
潜像保持部材２１に静電潜像４１を形成し、潜像電位検
出手段２４による検出結果より、各レーザ光源５０ａ，
５０ｂにより形成された静電潜像４１の電位が一致する
ようにレーザ出力調整手段２９によってスリット５８
ａ，５８ｂを調整しレーザスポット径を調整すること
で、光路中の光学系、静電潜像保持部材２１の製造ばら
つき、経年変化による特性劣化等の誤差要因を含んでレ
ーザスポット径の調整が行われるので、各レーザ光源
間、経年変化によるばらつきのない安定した高画質を実
現できる。
って各レーザ光源５０ａ，５０ｂを単独で動作させ静電
潜像保持部材２１に静電潜像４１を形成し、潜像電位検
出手段２４による検出結果より、各レーザ光源５０ａ，
５０ｂにより形成された静電潜像４１の電位が一致する
ようにレーザ出力調整手段２９によってスリット５８
ａ，５８ｂを調整しレーザスポット径を調整すること
で、光路中の光学系、静電潜像保持部材２１の製造ばら
つき、経年変化による特性劣化等の誤差要因を含んでレ
ーザスポット径の調整が行われるので、各レーザ光源
間、経年変化によるばらつきのない安定した高画質を実
現できる。
【００２２】なお、上記の実施の形態では、二つのレー
ザ光源からなる画像形成手段により形成される潜像電位
を均一になるようにレーザ光源の出力レベルあるいはレ
ーザスポット径を調整する場合を例として述べたが、一
つまたは三つ以上のレーザ光源からなる画像形成装置で
あっても、同様に各レーザ光源の出力レベルあるいはレ
ーザスポット径の調整に適用できる。
ザ光源からなる画像形成手段により形成される潜像電位
を均一になるようにレーザ光源の出力レベルあるいはレ
ーザスポット径を調整する場合を例として述べたが、一
つまたは三つ以上のレーザ光源からなる画像形成装置で
あっても、同様に各レーザ光源の出力レベルあるいはレ
ーザスポット径の調整に適用できる。
【００２３】また、上記の実施の形態では、静電潜像保
持部材に帯電ユニットで負帯電する場合を例として述べ
たが、正帯電する場合の画像形成装置にも適用できる。
また、上記の実施の形態では、デジタル複写機を例とし
て述べたが、この発明はこれに限らず、例えばレーザプ
リンタのように、電子写真プロセスを用いる画像形成装
置にも適用できる。
持部材に帯電ユニットで負帯電する場合を例として述べ
たが、正帯電する場合の画像形成装置にも適用できる。
また、上記の実施の形態では、デジタル複写機を例とし
て述べたが、この発明はこれに限らず、例えばレーザプ
リンタのように、電子写真プロセスを用いる画像形成装
置にも適用できる。
【００２４】
【発明の効果】この発明の画像形成方法によれば、レー
ザ光源により形成した静電潜像の潜像電位を検出し、こ
の潜像電位が規定潜像電位に一致するようにレーザ光源
の出力レベルを調整するので、静電潜像保持部材に形成
される潜像電位は必ず規定潜像電位となり、光路中の光
学系、静電潜像保持部材の製造ばらつき、経年変化によ
る特性劣化等の誤差要因があっても、ばらつきのない安
定した高画質を実現できる。
ザ光源により形成した静電潜像の潜像電位を検出し、こ
の潜像電位が規定潜像電位に一致するようにレーザ光源
の出力レベルを調整するので、静電潜像保持部材に形成
される潜像電位は必ず規定潜像電位となり、光路中の光
学系、静電潜像保持部材の製造ばらつき、経年変化によ
る特性劣化等の誤差要因があっても、ばらつきのない安
定した高画質を実現できる。
【００２５】この発明の画像形成装置によれば、静電潜
像形成手段によってレーザ光源を動作させ静電潜像保持
部材に静電潜像を形成し、潜像電位検出手段による検出
結果が規定潜像電位に一致するようにレーザ出力調整手
段によってレーザ光源の出力レベルを調整することで、
光路中の光学系、静電潜像保持部材の製造ばらつき、経
年変化による特性劣化等の誤差要因を含んで、レーザ光
源の出力レベルの調整を行うことができるので、レーザ
光源間、経年変化によるばらつきのない安定した高画質
を実現できる。
像形成手段によってレーザ光源を動作させ静電潜像保持
部材に静電潜像を形成し、潜像電位検出手段による検出
結果が規定潜像電位に一致するようにレーザ出力調整手
段によってレーザ光源の出力レベルを調整することで、
光路中の光学系、静電潜像保持部材の製造ばらつき、経
年変化による特性劣化等の誤差要因を含んで、レーザ光
源の出力レベルの調整を行うことができるので、レーザ
光源間、経年変化によるばらつきのない安定した高画質
を実現できる。
【００２６】請求項３では、レーザ出力調整手段は、潜
像電位検出手段による検出結果に対応して、レーザ光源
のスポット径を調整するレーザスポット径調整手段を有
するので、このレーザスポット径調整手段によりレーザ
光源の出力レベルを調整することができる。
像電位検出手段による検出結果に対応して、レーザ光源
のスポット径を調整するレーザスポット径調整手段を有
するので、このレーザスポット径調整手段によりレーザ
光源の出力レベルを調整することができる。
【図１】この発明の実施の形態の画像形成装置の概略を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】この発明の第１の実施の形態における静電潜像
形成手段を説明する説明図である。
形成手段を説明する説明図である。
【図３】この発明の実施の形態において出力レベルの調
整動作を説明するフローチャートである。
整動作を説明するフローチャートである。
【図４】この発明の第２の実施の形態における静電潜像
形成手段を説明する説明図である。
形成手段を説明する説明図である。
【図５】この発明の第２の実施の形態においてスリット
の動作を示す説明図である。
の動作を示す説明図である。
【図６】従来の画像形成装置の概略を示す断面図であ
る。
る。
【図７】従来における静電潜像形成手段を説明する説明
図である。
図である。
２１ 静電潜像保持部材 ２２ 帯電ユニット ２３ 静電潜像形成手段 ２４ 潜像電位検出手段 ２５ 現像ユニット ２６ 転写ユニット ２７ 定着ユニット ２８ クリーニングユニット ２９ レーザ出力調整手段 ３０ 電荷 ３１ 静電潜像形成手段より発生するレーザビーム ３２ 現像部材 ３３ キャリア ３４ スリーブ ３５ 用紙 ４０ 光エネルギー分布 ４１ 静電潜像 ４２ 現像部材画像 ４３ 現像部材画像 ４４ 用紙画像 ５０ａ，５０ｂ レーザ光源 ５１ａ，５１ｂ コリメータレンズ ５２ レーザビーム合成器 ５３ ポリゴンミラー ５４ ｆθレンズ ５５ａ，５５ｂ レーザ駆動回路 ５６ レーザ光源制御手段 ５７ ＣＰＵ ５８ａ，５８ｂ スリット ５９ａ，５９ｂ スリット駆動回路
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光源より発生するレーザービーム
によって静電潜像保持部材に画像情報に対応した静電潜
像を形成する画像形成方法であって、前記レーザ光源に
より形成される静電潜像の潜像電位を検出し、この潜像
電位が規定潜像電位に一致するようにレーザ光源の出力
レベルを調整することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項２】 光導電性を有する静電潜像保持部材と、
レーザ光源より発生するレーザービームによって前記静
電潜像保持部材に画像情報に対応した静電潜像を形成す
る静電潜像形成手段とを備えた画像形成装置であって、
前記静電潜像の電位を検出する潜像電位検出手段と、前
記レーザ光源により形成した静電潜像の前記潜像電位検
出手段による検出結果が規定潜像電位に一致するように
前記レーザ光源の出力レベルを調整するレーザ出力調整
手段とを有することを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項３】 レーザ出力調整手段は、潜像電位検出手
段による検出結果に対応して、レーザ光源のスポット径
を調整するレーザスポット径調整手段を有する請求項２
記載の画像形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9329806A JPH11157126A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 画像形成方法と画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9329806A JPH11157126A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 画像形成方法と画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11157126A true JPH11157126A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18225464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9329806A Pending JPH11157126A (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | 画像形成方法と画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11157126A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191191B1 (en) * | 1997-06-09 | 2001-02-20 | Kuraray Co., Ltd. | Polymerizable dental composition |
| US6339441B2 (en) * | 1998-12-15 | 2002-01-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic apparatus with plural beam exposure controlled according to detected potential |
| JP2009042606A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Ricoh Co Ltd | 静電潜像評価方法及び静電潜像評価装置 |
-
1997
- 1997-12-01 JP JP9329806A patent/JPH11157126A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6191191B1 (en) * | 1997-06-09 | 2001-02-20 | Kuraray Co., Ltd. | Polymerizable dental composition |
| US6339441B2 (en) * | 1998-12-15 | 2002-01-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic apparatus with plural beam exposure controlled according to detected potential |
| JP2009042606A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Ricoh Co Ltd | 静電潜像評価方法及び静電潜像評価装置 |
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