JPH11160832A - 写真フィルムベース - Google Patents
写真フィルムベースInfo
- Publication number
- JPH11160832A JPH11160832A JP10270016A JP27001698A JPH11160832A JP H11160832 A JPH11160832 A JP H11160832A JP 10270016 A JP10270016 A JP 10270016A JP 27001698 A JP27001698 A JP 27001698A JP H11160832 A JPH11160832 A JP H11160832A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film base
- pxe
- sps
- weight
- photographic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920010524 Syndiotactic polystyrene Polymers 0.000 claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 32
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 description 3
- UHPJWJRERDJHOJ-UHFFFAOYSA-N ethene;naphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound C=C.C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 UHPJWJRERDJHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000005691 oxidative coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000036314 physical performance Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000001757 thermogravimetry curve Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 充分な剛性及び引き裂き強さを保持しなが
ら、カール及びコアセットをとる傾向の少ないフィルム
ベースを開発する。 【解決手段】 本発明の非常に有用な写真フィルムベー
スは、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とポ
リキシリリデンエーテル（ＰＸＥ）との特定の比率の混
和性ブレンドから成る。このフィルムベースを用いて製
造した写真要素は、シンジオタクチックポリスチレン
（ＳＰＳ）フィルムベースを用いて製造した写真要素よ
りもコアセット及び後加工カールを受けるおそれが少な
い。
ら、カール及びコアセットをとる傾向の少ないフィルム
ベースを開発する。 【解決手段】 本発明の非常に有用な写真フィルムベー
スは、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とポ
リキシリリデンエーテル（ＰＸＥ）との特定の比率の混
和性ブレンドから成る。このフィルムベースを用いて製
造した写真要素は、シンジオタクチックポリスチレン
（ＳＰＳ）フィルムベースを用いて製造した写真要素よ
りもコアセット及び後加工カールを受けるおそれが少な
い。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリマーの新規ブ
レンドから製造された新規写真フィルムベースに関し、
このフィルムベースは写真要素用ベースとして有用であ
る。
レンドから製造された新規写真フィルムベースに関し、
このフィルムベースは写真要素用ベースとして有用であ
る。
【０００２】
【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真要素は、支持体
上に塗布された１層またはそれ以上の感光層を含んで成
る。代表的には、支持体は通常フィルムベースと称され
る透明または半透明フィルムのシートである。写真要素
用の一般的なフィルムベース材料は、セルローストリア
セテート及びポリ（エチレンテレフタレート）である。
これらの材料は、写真の用途に適する性質を有する。よ
り最近は、以前よりもしっかりフィルムを巻くことが必
要な、直径がより小さいカートリッジ中で使用するよう
に作られた写真要素用のフィルムベースとしてポリ（エ
チレンナフタレート）の使用が提案されている。従来の
３５mmフィルムスプールは直径が約１１mmであるが、提
案されたフィルムカートリッジ用のスプールは直径が７
mmまたはそれ以下と小さい。このことは、米国特許第
５，２９４，４７３号及び第５，３６８，９９７号中で
論じられている。これらの特許は、ポリ（エチレンナフ
タレート）がセルローストリアセテートまたはポリ（エ
チレンテレフタレート）よりも高い剛性を有し、コアセ
ットをとる傾向が少ないことを示唆している。
上に塗布された１層またはそれ以上の感光層を含んで成
る。代表的には、支持体は通常フィルムベースと称され
る透明または半透明フィルムのシートである。写真要素
用の一般的なフィルムベース材料は、セルローストリア
セテート及びポリ（エチレンテレフタレート）である。
これらの材料は、写真の用途に適する性質を有する。よ
り最近は、以前よりもしっかりフィルムを巻くことが必
要な、直径がより小さいカートリッジ中で使用するよう
に作られた写真要素用のフィルムベースとしてポリ（エ
チレンナフタレート）の使用が提案されている。従来の
３５mmフィルムスプールは直径が約１１mmであるが、提
案されたフィルムカートリッジ用のスプールは直径が７
mmまたはそれ以下と小さい。このことは、米国特許第
５，２９４，４７３号及び第５，３６８，９９７号中で
論じられている。これらの特許は、ポリ（エチレンナフ
タレート）がセルローストリアセテートまたはポリ（エ
チレンテレフタレート）よりも高い剛性を有し、コアセ
ットをとる傾向が少ないことを示唆している。
【０００３】ポリ（エチレンナフタレート）から製造さ
れたフィルムのカール及びコアセットの利点を実現する
ためには、相当時間高温でフィルムをアニールする必要
がある。その場合でも、コアセット及びカールの特性は
望ましいと言えるほどは優れていない。
れたフィルムのカール及びコアセットの利点を実現する
ためには、相当時間高温でフィルムをアニールする必要
がある。その場合でも、コアセット及びカールの特性は
望ましいと言えるほどは優れていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って、改良された物
理的性質を有するフィルムベースが提供されれば望まし
いであろう。特に、充分な剛性及び引き裂き強さを保持
しながら、カール及びコアセットをとる傾向の少ないフ
ィルムベースが得られれば望ましいであろう。さらに、
より緩和な条件を用いてアニールできるこのようなフィ
ルムベースが得られれば望ましいであろう。
理的性質を有するフィルムベースが提供されれば望まし
いであろう。特に、充分な剛性及び引き裂き強さを保持
しながら、カール及びコアセットをとる傾向の少ないフ
ィルムベースが得られれば望ましいであろう。さらに、
より緩和な条件を用いてアニールできるこのようなフィ
ルムベースが得られれば望ましいであろう。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、シンジオ
タクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とポリキシリリデン
エーテルＰＸＥとの新規のブレンドから生成されるフィ
ルムベースが、フィルムベースを写真フィルムにとって
特に有利なものとするような多数の有用な性質を有する
ことを見出した。
タクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とポリキシリリデン
エーテルＰＸＥとの新規のブレンドから生成されるフィ
ルムベースが、フィルムベースを写真フィルムにとって
特に有利なものとするような多数の有用な性質を有する
ことを見出した。
【０００６】１つの側面において、本発明は、５０〜９
５重量％のシンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
と５０〜５重量％のポリキシリリデンエーテル、ＰＸＥ
との混和性ブレンドから成る写真フィルムベースであ
る。
５重量％のシンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）
と５０〜５重量％のポリキシリリデンエーテル、ＰＸＥ
との混和性ブレンドから成る写真フィルムベースであ
る。
【０００７】別の側面において、本発明は、５０〜９５
重量％のシンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）と
５０〜５重量％のポリキシリリデンエーテル（ＰＸＥ）
との混和性ブレンドから成るフィルムベースに、少なく
とも１層の写真層を支持させてなるハロゲン化銀写真要
素である。
重量％のシンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）と
５０〜５重量％のポリキシリリデンエーテル（ＰＸＥ）
との混和性ブレンドから成るフィルムベースに、少なく
とも１層の写真層を支持させてなるハロゲン化銀写真要
素である。
【０００８】本発明は、写真要素への使用に望ましい特
性を有するフィルムベースを提供する。これらは、コア
セットが低く、後加工カールが少なく、剛性に優れ、且
つ引き裂き強さが適度である。さらに、これらの特性
は、アニールを必要とせずに、または比較的短時間のア
ニールによって得られる。本発明のフィルムベースは小
直径のカートリッジ、例えば、直径が３〜１２．５mmの
範囲のカートリッジへの使用を可能とするようなコアセ
ット特性を有する。
性を有するフィルムベースを提供する。これらは、コア
セットが低く、後加工カールが少なく、剛性に優れ、且
つ引き裂き強さが適度である。さらに、これらの特性
は、アニールを必要とせずに、または比較的短時間のア
ニールによって得られる。本発明のフィルムベースは小
直径のカートリッジ、例えば、直径が３〜１２．５mmの
範囲のカートリッジへの使用を可能とするようなコアセ
ット特性を有する。
【０００９】
【発明の実施の形態】シンジオタクチックポリスチレン
（ＳＰＳと略称することもある）はこれまでは、磁気記
録及び再生テープ用の支持体として使用されてきた。Ｓ
ＰＳはそれ以前に既に例えば、米国特許第５，１８８，
９３０号、同第５，４７６，８９９号及び同第５，１６
６，２３８号（参照することよって本明細書中に取り入
れる）において写真フィルム用の支持体としての使用が
提案されていた。これらの特許は、ＳＰＳのコポリマー
及びＳＰＳとポリキシリリデンオキシド、ＰＸＥ以外の
他のコポリマーとのブレンドを概略的に述べている。
（ＳＰＳと略称することもある）はこれまでは、磁気記
録及び再生テープ用の支持体として使用されてきた。Ｓ
ＰＳはそれ以前に既に例えば、米国特許第５，１８８，
９３０号、同第５，４７６，８９９号及び同第５，１６
６，２３８号（参照することよって本明細書中に取り入
れる）において写真フィルム用の支持体としての使用が
提案されていた。これらの特許は、ＳＰＳのコポリマー
及びＳＰＳとポリキシリリデンオキシド、ＰＸＥ以外の
他のコポリマーとのブレンドを概略的に述べている。
【００１０】本発明のポリマーブレンドに使用するＳＰ
Ｓはこの先行技術、例えば、米国特許第４，９４６，８
９７号及び第５，１０９，０６８号（参照することによ
って本明細書中に取り入れる）に記載されているのと同
一のポリマーであることができる。これらの特許及び刊
行物は本発明のブレンドを記載していないし、それらが
写真フィルムベースとしての使用に適していることも示
唆していない。この先行技術はいずれも、ＳＰＳとＰＸ
Ｅとのこのようなブレンドが特性の改良されたフィルム
ベースを提供することを示唆していないことは言うまで
もなく、ＳＰＳをＰＸＥとブレンドすることが、ブレン
ドから製造されたフィルムベースのコアセット及び後加
工カール特性に影響を与えるということも示唆していな
い。
Ｓはこの先行技術、例えば、米国特許第４，９４６，８
９７号及び第５，１０９，０６８号（参照することによ
って本明細書中に取り入れる）に記載されているのと同
一のポリマーであることができる。これらの特許及び刊
行物は本発明のブレンドを記載していないし、それらが
写真フィルムベースとしての使用に適していることも示
唆していない。この先行技術はいずれも、ＳＰＳとＰＸ
Ｅとのこのようなブレンドが特性の改良されたフィルム
ベースを提供することを示唆していないことは言うまで
もなく、ＳＰＳをＰＸＥとブレンドすることが、ブレン
ドから製造されたフィルムベースのコアセット及び後加
工カール特性に影響を与えるということも示唆していな
い。
【００１１】本発明のブレンドは好ましくは以下の物理
的特性を有する。即ち、９５℃より高いＴｇ；３５０kg
／mm2 より高い引っ張り弾性率；８０％より大きい光透
過率；及び３％未満の曇り度（ｈａｚｅ）。これらの特
性の測定方法は、以下の実施例中に記載する。
的特性を有する。即ち、９５℃より高いＴｇ；３５０kg
／mm2 より高い引っ張り弾性率；８０％より大きい光透
過率；及び３％未満の曇り度（ｈａｚｅ）。これらの特
性の測定方法は、以下の実施例中に記載する。
【００１２】ＳＰＳとＰＸＥの相対比率は、使用するＰ
ＸＥの違いならびにブレンド中の他の成分の有無によっ
て若干変動し得るが、本発明のブレンド中のＳＰＳ及び
ＰＸＥの好ましい比率は、ＳＰＳが５０〜９５重量％及
びＰＸＥが５〜５０重量％、好ましくＳＰＳが５０〜９
０重量％及びＰＸＥが１０〜５０重量％である。引き裂
き強さ及びコアセットの特性に関しては、最も好ましい
比率は、ＳＰＳが５０〜６５重量％及びＰＸＥが５０〜
３５重量％である。製造性の特性に関しては、最も好ま
しい比率はＳＰＳが７５〜９０重量％及びＰＸＥが２５
〜１０重量％である。ＰＸＥの比率を増大させると、引
っ張り弾性率が低下し、ブレンドの結晶化度が低下し且
つブレンドから形成されるシートはより伸張しにくくな
るということを本発明者らは見出した。好ましいのはＳ
ＰＳまたはＳＰＳとパラメチルスチレンとのコポリマー
である。
ＸＥの違いならびにブレンド中の他の成分の有無によっ
て若干変動し得るが、本発明のブレンド中のＳＰＳ及び
ＰＸＥの好ましい比率は、ＳＰＳが５０〜９５重量％及
びＰＸＥが５〜５０重量％、好ましくＳＰＳが５０〜９
０重量％及びＰＸＥが１０〜５０重量％である。引き裂
き強さ及びコアセットの特性に関しては、最も好ましい
比率は、ＳＰＳが５０〜６５重量％及びＰＸＥが５０〜
３５重量％である。製造性の特性に関しては、最も好ま
しい比率はＳＰＳが７５〜９０重量％及びＰＸＥが２５
〜１０重量％である。ＰＸＥの比率を増大させると、引
っ張り弾性率が低下し、ブレンドの結晶化度が低下し且
つブレンドから形成されるシートはより伸張しにくくな
るということを本発明者らは見出した。好ましいのはＳ
ＰＳまたはＳＰＳとパラメチルスチレンとのコポリマー
である。
【００１３】本発明のポリマーブレンド中に使用するＳ
ＰＳは、好ましくは分子量が１０，０００〜３００，０
００である。本発明のポリマーブレンド中に使用するＳ
ＰＳは、好ましくは約９５〜１００℃より高いガラス転
移温度（Ｔｇ）を有する。Ｃ 13ＮＭＲスペクトルによっ
て測定されるＳＰＳの立体規則性はラセミジアド（ｒａ
ｃｅｍｉｃ ｄｙａｄｓ）が２５〜７５％であるべきで
ある。シンジオタクチックポリスチレンとアルキルスチ
レン、ハロゲン化スチレン、ハロゲン化アルキルスチレ
ン、アルコキシスチレンとのコポリマーはまた、フィル
ムベースとして有効である。ポリスチレン及びｐ−メチ
ルスチレンは好ましい実施態様である。
ＰＳは、好ましくは分子量が１０，０００〜３００，０
００である。本発明のポリマーブレンド中に使用するＳ
ＰＳは、好ましくは約９５〜１００℃より高いガラス転
移温度（Ｔｇ）を有する。Ｃ 13ＮＭＲスペクトルによっ
て測定されるＳＰＳの立体規則性はラセミジアド（ｒａ
ｃｅｍｉｃ ｄｙａｄｓ）が２５〜７５％であるべきで
ある。シンジオタクチックポリスチレンとアルキルスチ
レン、ハロゲン化スチレン、ハロゲン化アルキルスチレ
ン、アルコキシスチレンとのコポリマーはまた、フィル
ムベースとして有効である。ポリスチレン及びｐ−メチ
ルスチレンは好ましい実施態様である。
【００１４】ポリキシリリデンエーテル（ＰＸＥ）は米
国特許第３，３０６，８７４号（参照することによって
本明細書に取り入れる）に記載された酸化カップリング
によって製造される。ＰＸＥと従来のポリスチレンとの
ブレンドは、米国特許第３，３８３，４３５号（参照す
ることによって本明細書に取り入れる）に記載されてい
る。好ましくは、ＰＸＥは測定された分子量が１０，０
００〜１００，０００であり、塩化メチレン中の極限粘
度数が０．３〜１．０dL／ｇである。
国特許第３，３０６，８７４号（参照することによって
本明細書に取り入れる）に記載された酸化カップリング
によって製造される。ＰＸＥと従来のポリスチレンとの
ブレンドは、米国特許第３，３８３，４３５号（参照す
ることによって本明細書に取り入れる）に記載されてい
る。好ましくは、ＰＸＥは測定された分子量が１０，０
００〜１００，０００であり、塩化メチレン中の極限粘
度数が０．３〜１．０dL／ｇである。
【００１５】本発明中で使用するＰＸＥは好ましくはガ
ラス転移温度（Ｔｇ）が約２２０℃である。さらに、Ｐ
ＸＥはＳＰＳと混和性でなければならない。「混和性」
とは、２種のポリマーのブレンドが１つのガラス転移温
度（Ｔｇ）を有し且つブレンドから製造される写真フィ
ルムベースが透明であることを意味する。ＰＸＥは、Ｇ
ｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｏ
ｎｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｖｅ．，Ｐｉｔｔｓｆｉｅ
ｌｄ，ＭＡ ０１２０１から商品名Ｂｌｅｎｄｅｘ（商
標）で市販されている。
ラス転移温度（Ｔｇ）が約２２０℃である。さらに、Ｐ
ＸＥはＳＰＳと混和性でなければならない。「混和性」
とは、２種のポリマーのブレンドが１つのガラス転移温
度（Ｔｇ）を有し且つブレンドから製造される写真フィ
ルムベースが透明であることを意味する。ＰＸＥは、Ｇ
ｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｏ
ｎｅ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ａｖｅ．，Ｐｉｔｔｓｆｉｅ
ｌｄ，ＭＡ ０１２０１から商品名Ｂｌｅｎｄｅｘ（商
標）で市販されている。
【００１６】ＰＸＥとポリマー、例えばＳＰＳとをブレ
ンドすることについては米国特許第５，１０９，０６８
号に概略記載されている。ブレンドから形成されたシー
トは伸張しにくくなるので、シートをより製造しにくく
なる。ＰＸＥの比率を約５％未満に低下させると、ブレ
ンドの物理的性能における改良はわずかになる。好まし
くは、ＰＸＥの比率は１０〜５０重量％である。最も好
ましくはＰＸＥの比率は１０〜２５重量％である。
ンドすることについては米国特許第５，１０９，０６８
号に概略記載されている。ブレンドから形成されたシー
トは伸張しにくくなるので、シートをより製造しにくく
なる。ＰＸＥの比率を約５％未満に低下させると、ブレ
ンドの物理的性能における改良はわずかになる。好まし
くは、ＰＸＥの比率は１０〜５０重量％である。最も好
ましくはＰＸＥの比率は１０〜２５重量％である。
【００１７】ポリマーブレンドは、当業者に公知の配合
技術を用いてＳＰＳとＰＸＥとを合することによって製
造できる。フィルムベースは、当業者に公知の技術によ
ってポリマーブレンドから製造する。これらの技術は、
Ｓｃｈｒａｄｅｒの米国特許第４，１４１，７３５号に
詳述されており、その開示を、参照することによって本
明細書中に取り入れる。フィルムベースは、厚さ５０〜
２００マイクロメーター、好ましくは厚さ７０〜１１０
マイクロメーターの平面シートと理解される。
技術を用いてＳＰＳとＰＸＥとを合することによって製
造できる。フィルムベースは、当業者に公知の技術によ
ってポリマーブレンドから製造する。これらの技術は、
Ｓｃｈｒａｄｅｒの米国特許第４，１４１，７３５号に
詳述されており、その開示を、参照することによって本
明細書中に取り入れる。フィルムベースは、厚さ５０〜
２００マイクロメーター、好ましくは厚さ７０〜１１０
マイクロメーターの平面シートと理解される。
【００１８】代表的な操作において、フィルムベースは
温度２９０〜３２０℃においてポリマーブレンドをシー
ト押出ダイから押出し、そして溶融シートを温度６０〜
１２０℃の冷却ロール上に流延することによって形成す
る。次いで、流延シートを最初の横方向の寸法の２〜５
倍に二軸延伸する。延伸は１００〜１８０℃の範囲の温
度で行うことができる。二軸延伸後、フィルムベースは
２００〜２５０℃において０．１〜１０秒間ヒートセッ
トする。フィルムベースをアニールすべき場合には、５
０℃〜ポリマーブレンドのＴｇの範囲の温度で０．１〜
１０００時間アニールすることができる。小直径フィル
ムカートリッジに有用なコアセット特性を有するフィル
ムベースは、本発明の好ましいブレンドを用いて、約８
０〜１３５℃の温度において約２〜１６８時間アニール
することによって得ることができる。
温度２９０〜３２０℃においてポリマーブレンドをシー
ト押出ダイから押出し、そして溶融シートを温度６０〜
１２０℃の冷却ロール上に流延することによって形成す
る。次いで、流延シートを最初の横方向の寸法の２〜５
倍に二軸延伸する。延伸は１００〜１８０℃の範囲の温
度で行うことができる。二軸延伸後、フィルムベースは
２００〜２５０℃において０．１〜１０秒間ヒートセッ
トする。フィルムベースをアニールすべき場合には、５
０℃〜ポリマーブレンドのＴｇの範囲の温度で０．１〜
１０００時間アニールすることができる。小直径フィル
ムカートリッジに有用なコアセット特性を有するフィル
ムベースは、本発明の好ましいブレンドを用いて、約８
０〜１３５℃の温度において約２〜１６８時間アニール
することによって得ることができる。
【００１９】本発明のポリマーブレンドから製造したフ
ィルムベースは、写真要素用のフィルム支持体に通常見
られる他の成分を含むことができる。これらの例として
は、色素、滑剤、有機及び無機材料の粒子、例えば、ガ
ラスビーズが挙げられる。これらについては、Ｒｅｓｅ
ａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ１
９９５，Ｉｔｅｍ ３７０３８，７９〜１１４ページ；
Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｓｅｐｔｅ
ｍｂｅｒ １９９６，Ｉｔｅｍ ３８９５７，５９１〜
６３９ページ（参照することによって本明細書中に取り
入れる）により詳細に記載されている。
ィルムベースは、写真要素用のフィルム支持体に通常見
られる他の成分を含むことができる。これらの例として
は、色素、滑剤、有機及び無機材料の粒子、例えば、ガ
ラスビーズが挙げられる。これらについては、Ｒｅｓｅ
ａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ１
９９５，Ｉｔｅｍ ３７０３８，７９〜１１４ページ；
Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ，Ｓｅｐｔｅ
ｍｂｅｒ １９９６，Ｉｔｅｍ ３８９５７，５９１〜
６３９ページ（参照することによって本明細書中に取り
入れる）により詳細に記載されている。
【００２０】本発明のポリマーブレンドから製造される
フィルムベースは、写真要素に使用されるフィルム支持
体上に通常に見られる層を支持できる。これらの例とし
ては、写真要素に通常見られるような、磁気記録層、他
の層と支持体との間の下塗り層、感光層、中間層及び上
塗り層が挙げられる。これらの層は、前に引用したＲｅ
ｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ ３７
０３８及び３８９５７に引用された参考文献中に記載さ
れた、当業界で公知の技術によって適用できる。
フィルムベースは、写真要素に使用されるフィルム支持
体上に通常に見られる層を支持できる。これらの例とし
ては、写真要素に通常見られるような、磁気記録層、他
の層と支持体との間の下塗り層、感光層、中間層及び上
塗り層が挙げられる。これらの層は、前に引用したＲｅ
ｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ ３７
０３８及び３８９５７に引用された参考文献中に記載さ
れた、当業界で公知の技術によって適用できる。
【００２１】本発明の写真要素中に使用できる磁気記録
層は、米国特許第３，７８２，９４７号；第４，２７
９，９４５号；第５，１４７，７６８号：第５，２５
２，４４１号；第５，２５４，４４９号；第５，３９
５，７４３号；第５，３９７，８２６号；第５，４１
３，９０２号；第５，４２７，９００号；第５，４３
２，０５０号；第５，４３４，０３７号；第５，４３
６，１２０号；ＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅ
Ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９９２，Ｉｔｅｍ ３４３９
０，８６９ページ以下及び発明協会技報Ｎｏ．９４−６
０２３（１９９４年３月１５日、発明協会（日本）発
行）に記載されている（これらを参照することによって
本明細書中に取り入れる）。
層は、米国特許第３，７８２，９４７号；第４，２７
９，９４５号；第５，１４７，７６８号：第５，２５
２，４４１号；第５，２５４，４４９号；第５，３９
５，７４３号；第５，３９７，８２６号；第５，４１
３，９０２号；第５，４２７，９００号；第５，４３
２，０５０号；第５，４３４，０３７号；第５，４３
６，１２０号；ＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅ
Ｎｏｖｅｍｂｅｒ １９９２，Ｉｔｅｍ ３４３９
０，８６９ページ以下及び発明協会技報Ｎｏ．９４−６
０２３（１９９４年３月１５日、発明協会（日本）発
行）に記載されている（これらを参照することによって
本明細書中に取り入れる）。
【００２２】本発明の写真要素は、前に引用したＲｅｓ
ｅａｒｃｈ ＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＩｔｅｍ ３７０３
８及び３８９５７に示された構造及び成分を有すること
ができ、前に引用したＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏ
ｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ ３７０３８及び３８９５７に記載
されたものを含む公知の技術及び組成物を用いて画像を
形成するように露光し且つ処理することができる。
ｅａｒｃｈ ＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＩｔｅｍ ３７０３
８及び３８９５７に示された構造及び成分を有すること
ができ、前に引用したＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏ
ｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ ３７０３８及び３８９５７に記載
されたものを含む公知の技術及び組成物を用いて画像を
形成するように露光し且つ処理することができる。
【００２３】以下の実施例は本発明をさらに説明するた
めのもので、本発明の範囲を以下の実施例に限定するも
のでないことはいうまでもない。実施例１ ＳＰＳ及び表１に示した割合のＳＰＳとＰＸＥとのブレ
ンドから形成したシートは、以下のようにして調製し、
評価した：
めのもので、本発明の範囲を以下の実施例に限定するも
のでないことはいうまでもない。実施例１ ＳＰＳ及び表１に示した割合のＳＰＳとＰＸＥとのブレ
ンドから形成したシートは、以下のようにして調製し、
評価した：
【００２４】インヘレント粘度０．６９dL／ｇの純粋な
シンジオタクチックポリスチレン（組成物１と表示）
を、二軸スクリュー押出機中で、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌ
ｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｏｎｅ Ｐｌａｓｔｉ
ｃｓ Ａｖｅ，Ｐｉｏｔｔｓｆｉｅｌｄ，ＭＡ ０１２
０１によって販売されているＰＸＥ２０重量％とブレン
ドして、ＳＰＳ／ＰＸＥ ８０／２０のブレンドを形成
した。
シンジオタクチックポリスチレン（組成物１と表示）
を、二軸スクリュー押出機中で、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌ
ｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｏｎｅ Ｐｌａｓｔｉ
ｃｓ Ａｖｅ，Ｐｉｏｔｔｓｆｉｅｌｄ，ＭＡ ０１２
０１によって販売されているＰＸＥ２０重量％とブレン
ドして、ＳＰＳ／ＰＸＥ ８０／２０のブレンドを形成
した。
【００２５】組成物は、シート押出ダイを通して押出
し、冷却ロール上に厚さ１．１mmに流延した。流延シー
トを３．５×３．５の比で二軸延伸し、次いで、ヒート
セットして、本発明に有用なフィルムベースを生成し
た。得られたフィルムを、コアセット及び引っ張り特性
ならびに光学的性質について以下に記載したようにして
評価した。結果を以下の表１に報告する。
し、冷却ロール上に厚さ１．１mmに流延した。流延シー
トを３．５×３．５の比で二軸延伸し、次いで、ヒート
セットして、本発明に有用なフィルムベースを生成し
た。得られたフィルムを、コアセット及び引っ張り特性
ならびに光学的性質について以下に記載したようにして
評価した。結果を以下の表１に報告する。
【００２６】ガラス転移温度：各組成物のサンプルを、
示差走査熱量計（ＤＳＣ；Ｎｏｒｗａｌｋ，ＣＴのＰｅ
ｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒから市販）中で約２０℃から３０
０℃まで１０℃／分で加熱し、次いで、冷却して２０℃
までもどし、最後に３００℃まで１０℃／分で再加熱し
た。報告したＴｇは第１のサーモグラムの第１の転移の
中点温度である。
示差走査熱量計（ＤＳＣ；Ｎｏｒｗａｌｋ，ＣＴのＰｅ
ｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒから市販）中で約２０℃から３０
０℃まで１０℃／分で加熱し、次いで、冷却して２０℃
までもどし、最後に３００℃まで１０℃／分で再加熱し
た。報告したＴｇは第１のサーモグラムの第１の転移の
中点温度である。
【００２７】引っ張り特性：前に調製した各フィルムか
ら、１５０mm×１５mmの縦方向のストリップ５個と幅方
向のストリップ５個を切り取った。Ｓｉｎｔｅｃｈ引っ
張り試験機（Ｓｉｎｔｅｃｈ Ｉｎｃ．３７８ Ｐａｇ
ｅ Ｓｔ., Ｓｔｏｕｇｈｔｏｎ，ＭＡ ０２０７２か
ら入手可能）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ８８２に従って代
表的な引っ張り特性を測定した。測定した特性（及び表
２に報告する単位）は次の通りである：引っ張り弾性率
（kg／mm2)、降伏応力（kg／mm2)、破断応力（kg／mm2)
及び破断伸び率（％）。
ら、１５０mm×１５mmの縦方向のストリップ５個と幅方
向のストリップ５個を切り取った。Ｓｉｎｔｅｃｈ引っ
張り試験機（Ｓｉｎｔｅｃｈ Ｉｎｃ．３７８ Ｐａｇ
ｅ Ｓｔ., Ｓｔｏｕｇｈｔｏｎ，ＭＡ ０２０７２か
ら入手可能）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ８８２に従って代
表的な引っ張り特性を測定した。測定した特性（及び表
２に報告する単位）は次の通りである：引っ張り弾性率
（kg／mm2)、降伏応力（kg／mm2)、破断応力（kg／mm2)
及び破断伸び率（％）。
【００２８】引き裂き強さ：前に調製した各フィルムベ
ースから、７５mm×２５mmの縦方向のストリップ５個と
幅方向のストリップ５個を切り取り、ＡＳＴＭ Ｄ１９
３８に従って試験した。引き裂き強さは、引き裂きを伝
播させるのに必要な力（ｇ）として報告する。
ースから、７５mm×２５mmの縦方向のストリップ５個と
幅方向のストリップ５個を切り取り、ＡＳＴＭ Ｄ１９
３８に従って試験した。引き裂き強さは、引き裂きを伝
播させるのに必要な力（ｇ）として報告する。
【００２９】光学的性質：曇り度及び光透過率は共に、
ＢＹＫ−Ｇａｒｄｅｎｅｒ ＸＬ−２１１ハゼオメータ
ー（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｅｎｅｒ Ｉｎｃ., ２４３５
Ｌｉｎｄｅｎ Ｌａ., Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｉｎｇｓ，
ＭＤ ２０９１０から入手可能）を用いて、ＡＳＴＭ
Ｄ１００３−６１の方法に従って測定した。
ＢＹＫ−Ｇａｒｄｅｎｅｒ ＸＬ−２１１ハゼオメータ
ー（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｅｎｅｒ Ｉｎｃ., ２４３５
Ｌｉｎｄｅｎ Ｌａ., Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｉｎｇｓ，
ＭＤ ２０９１０から入手可能）を用いて、ＡＳＴＭ
Ｄ１００３−６１の方法に従って測定した。
【００３０】コアセット（ＣＳ）：以下に示した各試験
に関して、前に調製した各フィルムベースから、１５０
mm×３５mmの縦方向のストリップ６個を切り取った。ス
トリップを一晩、２１℃／相対湿度５０％において状態
調整し、それらのカールをＡＮＳＩ Ｐ４１．２９−１
９８５の試験法Ａに従って試験した。結果を１／Ｒ，ｍ
-1（Ｒカールしたフィルムの曲率半径である）で報告す
る。コアセット試験では、以下の巻き取り条件を用い
た：ＣＳＩフィルムベースを、直径７mmのコア上に８０
℃／５０％ＲＨで２時間保持した（１／ｍ）。
に関して、前に調製した各フィルムベースから、１５０
mm×３５mmの縦方向のストリップ６個を切り取った。ス
トリップを一晩、２１℃／相対湿度５０％において状態
調整し、それらのカールをＡＮＳＩ Ｐ４１．２９−１
９８５の試験法Ａに従って試験した。結果を１／Ｒ，ｍ
-1（Ｒカールしたフィルムの曲率半径である）で報告す
る。コアセット試験では、以下の巻き取り条件を用い
た：ＣＳＩフィルムベースを、直径７mmのコア上に８０
℃／５０％ＲＨで２時間保持した（１／ｍ）。
【００３１】 表１ SPS/PXE SPS/PXE SPS7/PXE SPS/PXE SPS/PXE SPS7 80/20 70/30 80/20 60/40 50/50 引張り弾性率 370 390 380 390 450 341 （kg/mm2） 降伏応力 700 850 850 800 730 610 （kg/mm2） 破断応力 770 1000 1000 950 703 626 （kg/mm2） 破断伸び率 39 40 28 34 20 10 （％） 引き裂き強さ 22 6 8 7 84 115 （ｇ） 曇り度 3.2 3.9 5.5 0.9 1.2 1.1 （％） 光透過率 86.1 84.7 83.3 88.6 78 87.6 （％） Tg（℃） 97 102 130 102 140 150 コアセット(1/m) アニールなし >197 188 182 >197 167 160 アニール 173 119 139 152 97 98
【００３２】
【発明の効果】表１に報告した結果から、高い引っ張り
弾性率、優れた引き裂き強さ及び優れた光学的性質を保
持しながら、コアセットの改良が得られたことがわか
る。本発明を、特にそのいくつかの好ましい実施態様に
関して詳述したが、本発明の精神及び範囲内において変
更及び修正が可能なことを理解されたい。
弾性率、優れた引き裂き強さ及び優れた光学的性質を保
持しながら、コアセットの改良が得られたことがわか
る。本発明を、特にそのいくつかの好ましい実施態様に
関して詳述したが、本発明の精神及び範囲内において変
更及び修正が可能なことを理解されたい。
【００３３】以下に、本発明の好ましい追加の態様を列
挙する。 １．シンジオタクチックポリスチレン５０〜９０重量％
とポリキシリリデンエーテル５０〜１０重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ２．シンジオタクチックポリスチレン５０〜６５重量％
とポリキシリリデンエーテル５０〜３５重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ３．シンジオタクチックポリスチレン７５〜９０重量％
とポリキシリリデンエーテル２５〜１０重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ４．前記ポリマーブレンドが１２５℃より高いＴｇ及び
３５０kg／mm2 より高い引っ張り弾性率を有する請求項
１に記載の写真フィルムベース。 ５．５０℃〜ポリマーブレンドのＴｇの範囲の温度にお
いて０．１〜１０００時間アニールされた請求項１に記
載の写真フィルムベース。
挙する。 １．シンジオタクチックポリスチレン５０〜９０重量％
とポリキシリリデンエーテル５０〜１０重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ２．シンジオタクチックポリスチレン５０〜６５重量％
とポリキシリリデンエーテル５０〜３５重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ３．シンジオタクチックポリスチレン７５〜９０重量％
とポリキシリリデンエーテル２５〜１０重量％との混和
性ブレンドを含んでなる請求項１に記載の写真フィルム
ベース。 ４．前記ポリマーブレンドが１２５℃より高いＴｇ及び
３５０kg／mm2 より高い引っ張り弾性率を有する請求項
１に記載の写真フィルムベース。 ５．５０℃〜ポリマーブレンドのＴｇの範囲の温度にお
いて０．１〜１０００時間アニールされた請求項１に記
載の写真フィルムベース。
【００３４】６．５０〜９５重量％のシンジオタクチッ
クポリスチレンと５０〜５重量％のポリキシリリデンエ
ーテルとの混和性ブレンドを含むフィルムベースに、少
なくとも１層の写真層を支持させてなるハロゲン化銀写
真要素。 ７．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン５０〜９０重量％とポリキシリリデンエーテル５０
〜１０重量％との混和性ブレンドを含んでなる前記６項
に記載の写真要素。 ８．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン５０〜６５重量％とポリキシリリデンエーテル５０
〜３５重量％とのブレンドを含んでなる前記６項に記載
の写真要素。 ９．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン７５〜９０重量％とポリキシリリデンエーテル２５
〜１０重量％とのブレンドを含んでなる前記６項に記載
の写真要素。 １０．前記フィルムベースが磁気記録層を支持する前記
６項に記載の写真要素。 １１．前記フィルムベースが８０％より大きい光透過率
及び３％未満の曇り度を有する前記６項に記載の写真要
素。
クポリスチレンと５０〜５重量％のポリキシリリデンエ
ーテルとの混和性ブレンドを含むフィルムベースに、少
なくとも１層の写真層を支持させてなるハロゲン化銀写
真要素。 ７．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン５０〜９０重量％とポリキシリリデンエーテル５０
〜１０重量％との混和性ブレンドを含んでなる前記６項
に記載の写真要素。 ８．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン５０〜６５重量％とポリキシリリデンエーテル５０
〜３５重量％とのブレンドを含んでなる前記６項に記載
の写真要素。 ９．前記フィルムベースがシンジオタクチックポリスチ
レン７５〜９０重量％とポリキシリリデンエーテル２５
〜１０重量％とのブレンドを含んでなる前記６項に記載
の写真要素。 １０．前記フィルムベースが磁気記録層を支持する前記
６項に記載の写真要素。 １１．前記フィルムベースが８０％より大きい光透過率
及び３％未満の曇り度を有する前記６項に記載の写真要
素。
Claims (1)
- 【請求項１】 ５０〜９５重量％のシンジオタクチック
ポリスチレンと５０〜５重量％のポリキシリリデンエー
テルとの混和性ブレンドを含んでなる写真フィルムベー
ス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/936,564 US5916740A (en) | 1997-09-24 | 1997-09-24 | Photographic film base and photographic elements |
| US08/936564 | 1997-09-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11160832A true JPH11160832A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=25468816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10270016A Pending JPH11160832A (ja) | 1997-09-24 | 1998-09-24 | 写真フィルムベース |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5916740A (ja) |
| EP (1) | EP0905559A1 (ja) |
| JP (1) | JPH11160832A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024171278A1 (ja) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | 王子ホールディングス株式会社 | コンデンサ用途に好適な二軸延伸フィルム |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE635349A (ja) * | 1962-07-24 | |||
| NL141540B (nl) * | 1965-01-06 | 1974-03-15 | Gen Electric | Werkwijze voor het bereiden van een polystyreen bevattend polymeermengsel, dat tot voortbrengsels met een grote buig- en treksterkte kan worden verwerkt, alsmede dergelijke voortbrengsels. |
| DE1815870C3 (de) * | 1967-12-26 | 1973-12-20 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit verbessertem Schichtträger |
| DE2121763A1 (de) * | 1970-05-04 | 1971-12-02 | Eastman Kodak Co | Verfahren zur Herstellung von als Schichtträger für strahlungsempfindliche photographische Aufzeichnungsmaterialien geeigneten Folien |
| US4141735A (en) * | 1975-03-31 | 1979-02-27 | Eastman Kodak Company | Process for reducing core-set curling tendency and core-set curl of polymeric film elements |
| US5166238A (en) * | 1986-09-22 | 1992-11-24 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Styrene-based resin composition |
| IT1223326B (it) * | 1987-10-28 | 1990-09-19 | Montedipe Spa | Composizioni termoplastiche a base di polimeri sindiotattici dello stirene e polifenileneteri |
| US5109068A (en) * | 1988-08-31 | 1992-04-28 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Styrene-based polymer composition, stretched molding thereof and process for producing the same |
| US5476899A (en) * | 1989-09-14 | 1995-12-19 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Process for produce a readily slidable film |
| US5188930A (en) * | 1989-10-18 | 1993-02-23 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Photographic film of syndiotactic styrene polymer |
| JP2543809B2 (ja) * | 1992-08-18 | 1996-10-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポリエステル系写真用支持体 |
| EP0615160A1 (en) * | 1993-03-11 | 1994-09-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material |
| US5582964A (en) * | 1994-04-14 | 1996-12-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographic material having a syndiotactic styrenic polymer containing support |
| EP0706082A1 (en) * | 1994-10-06 | 1996-04-10 | Konica Corporation | A silver halide photographic light-sensitive material |
| US5773125A (en) * | 1994-12-20 | 1998-06-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Syndiotactic styrenic polymer film, process for the preparation of the same and photographic material |
| US5705328A (en) * | 1995-08-30 | 1998-01-06 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
| JPH0990561A (ja) * | 1995-09-26 | 1997-04-04 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1997
- 1997-09-24 US US08/936,564 patent/US5916740A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-09-12 EP EP98203057A patent/EP0905559A1/en not_active Withdrawn
- 1998-09-24 JP JP10270016A patent/JPH11160832A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2024171278A1 (ja) * | 2023-02-14 | 2024-08-22 | 王子ホールディングス株式会社 | コンデンサ用途に好適な二軸延伸フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5916740A (en) | 1999-06-29 |
| EP0905559A1 (en) | 1999-03-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5925507A (en) | Photographic film base and photographic elements | |
| EP0786495B1 (en) | Thermoplastic polyester resin stretched film | |
| EP0568268A2 (en) | Support for photographic material | |
| US5599658A (en) | Photographic film-base and photographic elements | |
| US6558884B1 (en) | Photographic film base comprising a poly(ethylene terephthalate)-based material | |
| JPH11160832A (ja) | 写真フィルムベース | |
| US6737226B1 (en) | Process for making polyester photographic film base and photographic element comprising said base | |
| JP3318230B2 (ja) | ポリエチレンナフタレート共重合体からなる写真フイルム用ベースフイルム | |
| JP2006215064A (ja) | 位相差フィルム | |
| US6727052B1 (en) | Multilayer photographic film and an imaging element made of said base | |
| JP4082662B2 (ja) | 熱収縮性積層フィルム | |
| US6555303B1 (en) | Photographic film base comprising a poly(ethylene terephthalate)-based material | |
| JPS626511B2 (ja) | ||
| JP3429546B2 (ja) | ポリエステルフィルム及び写真用支持体 | |
| JP3041376B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| JP3390795B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| JP3042021B2 (ja) | 非晶ポリオレフィンフィルム | |
| JP2001030350A (ja) | 二軸配向ポリエステルフィルム | |
| JP3627190B2 (ja) | ポリエステルフィルムおよび写真感光材料 | |
| JP3493207B2 (ja) | 写真用支持体 | |
| TW201925340A (zh) | 熱收縮聚酯膜 | |
| JPH115854A (ja) | ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムとその製造法 | |
| JP3295344B2 (ja) | ポリエチレンナフタレート共重合体からなる写真用二軸配向フイルム | |
| JP2004315654A (ja) | ポリエステルフィルム、その製造方法、それを用いた写真感光材料及びその製造方法 | |
| JP2004330629A (ja) | 積層ポリエステルフィルム及びハロゲン化銀写真感光材料 |