JPH11167744A - Optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording medium

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Publication number
JPH11167744A
JPH11167744A JP9347173A JP34717397A JPH11167744A JP H11167744 A JPH11167744 A JP H11167744A JP 9347173 A JP9347173 A JP 9347173A JP 34717397 A JP34717397 A JP 34717397A JP H11167744 A JPH11167744 A JP H11167744A
Authority
JP
Japan
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refractive index
layer
recording
index layer
optical information
Prior art date
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Pending
Application number
JP9347173A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noboru Sasa
登 笹
Tsutomu Sato
勉 佐藤
Tatsuya Tomura
辰也 戸村
Yasunobu Ueno
泰伸 植野
Yasuhiro Azuma
康弘 東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP9347173A priority Critical patent/JPH11167744A/en
Publication of JPH11167744A publication Critical patent/JPH11167744A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium which exhibits a high reflectivity even at a short wavelength and makes it possible to obtain a high recording and reproducing contrast and recording and reproducing method therefor. SOLUTION: This optical information recording medium allows recording and reproducing of information by irradiation with a laser beam and has the layer constitution consisting of a substrate/recording layer/(low-refractive index layer/high-refractive index layer) m (where m is the number of lamination). The recording and reproducing are executed with this recording medium from its substrate side. The recording medium described above is characterized in that (1) m is >=1 and (2) all of the film thickness of the recording layer, the low-refractive index layer and the high-refractive index layer are n1 d1 =λ0 /4 (where n1 is the refractive index of the respective layer materials; d1 is the film thickness of the respective layer materials and λ0 is a recording and reproducing wavelength) at least at the reproduction wavelength.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体、
およびその記録方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical information recording medium,
And its recording method.

【0002】[0002]

【従来技術】近年CD−Rが市場に登場し、その有用性
が認められつつある。CD−RはCDあるいはCD−R
OMと互換性があり、一般のCDプレーヤーやCD−R
OMドライブで再生が可能で、かつ一回だけ記録可能な
ディスクのことである。CD−Rは、CDプレーヤーや
CD−ROMドライブで再生が可能とするために、金反
射膜をつけてCDやCD−ROMと同等の高反射率を達
成させており、基板上に有機色素からなる記録層が塗布
され、次いで金の反射膜があり、その上に紫外線硬化型
樹脂である保護層が形成されて構成されているものであ
る。
2. Description of the Related Art In recent years, CD-Rs have appeared on the market, and their usefulness is being recognized. CD-R is CD or CD-R
Compatible with OM, general CD player and CD-R
A disc that can be played back by the OM drive and can be recorded only once. CD-R achieves the same high reflectivity as CD and CD-ROM by applying a gold reflective film to enable reproduction by CD player and CD-ROM drive. A recording layer is applied, and then a gold reflective film is provided, on which a protective layer made of an ultraviolet curable resin is formed.

【0003】また、記録レーザ光によって記録可能とす
るために波長整合性を最適化されたシアニン系色素やフ
タロシアニン系色素、アゾ金属錯体等が記録層として用
いられ、記録前後の記録層材料の光学定数変化や基板の
変形等により記録コントラストが得られている。現在C
D−ROMからDVD−ROMへの移行に伴い、追記型
光情報記録媒体もCD−RからDVD−Rへと研究が進
んでいる。このCD系メディアからDVD系メディアへ
の移行によって、記録再生波長が780(nm)前後か
ら635〜650(nm)へと変わるが、これに対応す
るために記録層材料が変更されるが、基本的層構成自体
はCD−RとDVD−Rは同一である。
Further, a cyanine-based dye, a phthalocyanine-based dye, an azo metal complex or the like whose wavelength matching property is optimized to enable recording by a recording laser beam is used as a recording layer. The recording contrast is obtained by a change in the constant or deformation of the substrate. Currently C
With the shift from D-ROMs to DVD-ROMs, research on write-once optical information recording media has been advanced from CD-Rs to DVD-Rs. The recording / reproducing wavelength changes from around 780 (nm) to 635 to 650 (nm) due to the shift from the CD-based media to the DVD-based media, and the recording layer material is changed to cope with this. The CD-R and the DVD-R have the same physical layer configuration.

【0004】青色レーザ対応の特許としては、例えば特
開平7−304256(ポルフィリン誘導体と配位能を
持つ分子構造を側鎖に有する高分子よりなる光記録媒
体)、特開平7−304257(ポルフィリン誘導体と
配位能を持つ分子化合物及び高分子よりなる光記録媒
体)が挙げられる。
Patents corresponding to a blue laser include, for example, JP-A-7-304256 (optical recording medium comprising a porphyrin derivative and a polymer having a molecular structure having a coordinating ability in a side chain), and JP-A-7-304257 (porphyrin derivative). And an optical recording medium comprising a molecular compound having a coordination ability and a polymer.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】反射型光情報記録媒体
としては、その反射率は任意に設定することができる
が、高コントラストを得るためには、未記録時の反射率
が高いことが好ましい。また、読みとり専用のROM型
光情報記録媒体(CDあるいはCD−ROM等)の場合
は、できるだけドライブのコスト低減を図るためにも光
情報記録媒体の高反射率は必要とされる。また、有機系
材料の特徴を活かすには、高反射率化を図ることが最良
である。更に、追記型光情報記録媒体や書き換え型光情
報記録媒体の場合は常にROM型光情報記録媒体との互
換性が重要となるため、追記型光情報記録媒体や書き換
え型光情報記録媒体においても高反射率化は重要であ
る。
The reflectivity of a reflection type optical information recording medium can be set arbitrarily. However, in order to obtain a high contrast, it is preferable that the reflectivity before recording is high. . In the case of a read-only ROM-type optical information recording medium (CD or CD-ROM, etc.), a high reflectance of the optical information recording medium is required in order to reduce drive costs as much as possible. In order to take advantage of the characteristics of the organic material, it is best to increase the reflectance. Further, in the case of a write-once optical information recording medium or a rewritable optical information recording medium, compatibility with a ROM-type optical information recording medium is always important. High reflectivity is important.

【0006】しかし、従来のROM型光情報記録媒体、
及びROM型光情報記録媒体と互換性のある光情報記録
媒体は、基板の上に記録層、反射層を主構成としてお
り、この反射層材料として金属が用いられているため、
例えばCD−R等で用いられている金では波長分散性が
600nm以下程度から顕著になり、大幅な反射率低下
が起きてしまう(図1)。例えば金では550nmで反
射率が約80%となる。したがって、金反射層を用いた
場合、基板/記録層/金反射層という構成においては、
550nm以下の波長では50%程度の反射率も困難と
なり、高反射率とは言えなくなる。金に変えてアルミニ
ウムや銀を用いることで、金よりも短波長でも反射率は
改善されるが、傾向は同じであり、短波長での低反射率
化は免れない。
However, conventional ROM-type optical information recording media,
And, the optical information recording medium compatible with the ROM type optical information recording medium has a recording layer and a reflective layer on a substrate as a main component, and since a metal is used as a material of the reflective layer,
For example, in the case of gold used in a CD-R or the like, the wavelength dispersibility becomes remarkable from about 600 nm or less, and a significant decrease in reflectance occurs (FIG. 1). For example, gold has a reflectance of about 80% at 550 nm. Therefore, when a gold reflective layer is used, in the configuration of substrate / recording layer / gold reflective layer,
At a wavelength of 550 nm or less, a reflectance of about 50% becomes difficult, and it cannot be said that the reflectance is high. By using aluminum or silver instead of gold, the reflectance can be improved even at a shorter wavelength than gold, but the tendency is the same, and lower reflectance at a shorter wavelength is unavoidable.

【0007】また、金属を用いる場合は、金属の腐食
性、記録材料との化学的・物理的反応等の安定性等が問
題となる場合も多い。したがって、再生系の回路や信号
処理技術により低反射率化、低記録・再生コントラスト
が許容される場合であっても、記録・再生波長がどこに
設定されようと、高反射率で高記録・再生コントラスト
化が再生側からすれば常に要求される。また、光情報記
録媒体の高密度化は、主としてレーザ光源の短波長化に
より達成されるため、短波長領域での高反射率型光情報
記録媒体という要求が高まることは容易に想像される.
そこで本発明は、短波長においても高反射率を示し、か
つ高記録・再生コントラストを得ることができる光情報
記録媒体とその記録再生方法を提供することを目的とす
る。
In the case where a metal is used, the corrosiveness of the metal and the stability of a chemical / physical reaction with the recording material are often problems. Therefore, even if a low reflectance and a low recording / reproduction contrast are allowed by the reproduction system circuit or the signal processing technology, no matter where the recording / reproduction wavelength is set, high reflection / high recording / reproduction is possible. Contrast is always required from the reproduction side. Further, since the increase in the density of the optical information recording medium is mainly achieved by shortening the wavelength of the laser light source, it is easily imagined that the demand for a high reflectance type optical information recording medium in a short wavelength region will increase.
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical information recording medium which exhibits a high reflectance even at a short wavelength and can obtain a high recording / reproducing contrast, and a recording / reproducing method thereof.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らは光情報記録
媒体として、短波長はもちろん、任意の波長で高反射率
が得られ、しかも記録も行える光情報記録媒体を鋭意研
究した結果、後に実施例等で詳述するような記録層を高
反射多層膜中に含ませた構造の光情報記録媒体が、高反
射率、記録コントラストの面で非常に優れ、また実現が
容易であることを見いだし、本発明に到達することがで
きた。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies on an optical information recording medium which can obtain a high reflectance at an arbitrary wavelength as well as a short wavelength and can perform recording, as an optical information recording medium. An optical information recording medium having a structure in which a recording layer is included in a high-reflection multilayer film, which will be described in detail in Examples later, is extremely excellent in terms of high reflectance and recording contrast, and is easy to realize. And found that the present invention can be achieved.

【0009】本発明の光情報記録媒体の大きな特徴は、
(1)従来高反射率化のために必要であった金属反射層
を用いないこと、(2)誘電体積層コーティングによる
高反射率化手法の応用として、一部誘電体層に変えて記
録層を用いたこと、である。そして、本発明は、前記特
徴とする構成を採用することにより、(1)従来の金属
反射層を使用する場合には高反射率が得られない任意の
波長においても、高反射率型光情報記録媒体が提供さ
れ、(2)かつ、記録によって記録層の光学定数を変化
させることで非常に高いコントラストの情報が記録・再
生可能となる。
The major feature of the optical information recording medium of the present invention is that
(1) Do not use a metal reflective layer which has been conventionally required for high reflectivity. (2) As an application of a high reflectivity method using a dielectric laminate coating, a recording layer is partially replaced with a dielectric layer. Was used. According to the present invention, by adopting the above-described configuration, (1) high reflectance type optical information can be obtained even at an arbitrary wavelength where high reflectance cannot be obtained when a conventional metal reflective layer is used. A recording medium is provided, and (2) information of very high contrast can be recorded / reproduced by changing the optical constant of the recording layer by recording.

【0010】また、本発明では最も適した記録層として
色素が用いられるが、この場合には色素の吸収に基づく
異常分散を用いることで、記録層を高屈折率層として
も、または低屈折率層としても用いることができる。す
なわち色素の複素屈折率の波長依存性は図2のようにな
り、吸収領域の近傍で大きく複素屈折率の実部が変化
し、吸収波長より長波長側では高い複素屈折率の実部を
有し、逆に吸収疲長より短波長側では低い複素屈折率の
実部を有する。しかもこれらの高複素屈折率の実部、ま
た低複素屈折率の実部を示す波長領域では吸収係数(複
素屈折率の虚部)が小さいため、高反射率層と低反射率
層の積層体とした場合、高反射率化が十分図れる。ま
た、図2からわかるように複素屈折率の実部が高い波長
領域と低い波長領域は吸収帯のピークを中心として非常
に接近している。そのため、記録によって記録層の吸収
スペクトルが変化すれば、それにともなって複素屈折率
が大きく変化するため、大きな記録・再生コントラスト
がとれる。
In the present invention, a dye is used as the most suitable recording layer. In this case, by using anomalous dispersion based on the absorption of the dye, the recording layer can be used as a high refractive index layer or a low refractive index layer. It can also be used as a layer. That is, the wavelength dependence of the complex refractive index of the dye is as shown in FIG. 2, and the real part of the complex refractive index changes largely near the absorption region, and has a high real part of the complex refractive index on the longer wavelength side than the absorption wavelength. Conversely, on the shorter wavelength side than the absorption fatigue length, it has a real part with a low complex refractive index. Moreover, since the absorption coefficient (imaginary part of the complex refractive index) is small in the wavelength region showing the real part of the high complex refractive index and the real part of the low complex refractive index, a laminate of the high-reflectance layer and the low-reflectance layer is small. In this case, the reflectance can be sufficiently increased. As can be seen from FIG. 2, the wavelength region where the real part of the complex refractive index is high and the wavelength region where the real part is low are very close to each other with the absorption band peak at the center. Therefore, if the absorption spectrum of the recording layer changes due to recording, the complex refractive index greatly changes accordingly, so that a large recording / reproducing contrast can be obtained.

【0011】また、従来から知られているように多層膜
の効果は、多層膜とすることで、単層膜の特性を改善し
たり、単層膜にはない特性を持たせることができるもの
である。例えば2層、3層構成の反射防止膜によって可
視域全域にわたって単層膜よりも反射率を小さくできた
り、多層反射増加膜によって特定の波長域で99%を越
える反射率を得ることができる。この多層膜の効果は電
磁場の境界条件から導いた特性マトリックスにより容易
に解析できる。特性マトリックスによる解析は、例えば
「応用光学II 鶴田匡夫著 培風館」p142等に詳細
に記載されている。例えば空気層/(高屈折率層/低屈
折率層)m/基板の構成による多層膜において、高屈折
率層材料をTiO2(550nmにおける屈折率n1
2.40)、低屈折率層材料をMgF2(550nmに
おける屈折率n2=1.38)、基板をBSC7(55
0nmでの屈折率nS=1.52)、空気の屈折率をn0
=1.0とすると、その特性マトリックスは以下のよう
にかける。但し、N=0、1、2、3・・・・・であ
る。
Further, as is conventionally known, the effect of a multilayer film is to improve the characteristics of a single-layer film or to provide characteristics that a single-layer film does not have by using a multilayer film. It is. For example, a two-layer or three-layer antireflection film can reduce the reflectance over the entire visible region as compared with a single-layer film, or a multilayer reflection enhancement film can provide a reflectance exceeding 99% in a specific wavelength region. The effect of this multilayer can be easily analyzed by a characteristic matrix derived from the boundary conditions of the electromagnetic field. The analysis using the characteristic matrix is described in detail, for example, in "Applied Optics II, Masao Tsuruta, Baifukan," p142. For example, in a multilayer film having the configuration of air layer / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / substrate, the material of the high refractive index layer is TiO 2 (refractive index n 1 at 550 nm = n 1 =
2.40), the material of the low refractive index layer was MgF 2 (refractive index n 2 at 550 nm = 1.38), and the substrate was BSC7 (55
The refractive index at 0 nm n s = 1.52) and the refractive index of air to n 0
If = 1.0, the characteristic matrix is applied as follows. Here, N = 0, 1, 2, 3,....

【数1】 したがってエネルギー反射率Rm+1は、(Equation 1) Therefore, the energy reflectance R m + 1 is

【数2】 となる。これを実際に計算すると図58のようになる。
この結果を見てもわかるように、多層膜によって、任意
の波長で膜厚を適当に選ぶことで高反射率を得ることが
できる。
(Equation 2) Becomes This is actually calculated as shown in FIG.
As can be seen from these results, high reflectivity can be obtained by appropriately selecting the film thickness at an arbitrary wavelength by using a multilayer film.

【0012】以下、本発明の光情報記録媒体で使用でき
る記録層材料について、詳しく述べる。記録層としては
非常に広い範囲の材料が使用でき、しかも従来から光デ
ィスクとして利用されているフタロシアニンやテトラア
ザポルフィリン、アゾ金属錯体、フォトクロミック性を
示す色素、サーモクロミック性を示す化合物等が本発明
における記録層として適しており、中でも色素やフォト
クロミック性を示す色素やサーモクロミック性を示す化
合物が最も優れた材料である。フォトクロミック性を示
す色素の場合は、例えば光によって開環、閉環反応を起
こし、無色体と着色体間の変化を起こすため、非常に大
きなスペクトル変化、すなわち非常に大きな光学定数の
変化が起こるため、未記録時の高反射率化とともに、大
きな記録コントラストが得られる。フォトクロミック性
を示す色素としては、例えばフルギド類、ジアリールエ
テン類、アゾベンゼン類、スピロビラン類、スチルベン
類等があげられる。
Hereinafter, the recording layer material that can be used in the optical information recording medium of the present invention will be described in detail. For the recording layer, a very wide range of materials can be used, and phthalocyanine and tetraazaporphyrin, azo metal complexes, dyes exhibiting photochromic properties, compounds exhibiting thermochromic properties, etc. conventionally used as optical discs in the present invention. Dyes, dyes exhibiting photochromic properties, and compounds exhibiting thermochromic properties are among the most excellent materials, which are suitable as recording layers. In the case of a dye exhibiting photochromic properties, for example, light causes a ring-opening and ring-closing reaction to cause a change between a colorless body and a colored body, so that a very large spectral change, that is, a very large change in an optical constant occurs. A large recording contrast can be obtained together with an increase in the reflectance when recording is not performed. Examples of the dye exhibiting photochromic properties include fulgides, diarylethenes, azobenzenes, spirobilanes, and stilbenes.

【0013】サーモクロミック性を示す化合物の場合
は、例えば熱によって分子集合状態の変化や構造変化を
起こすため、非常に大きなスペクトル変化、すなわち非
常に大きな光学定数の変化が起こるため、未記録時の高
反射率化とともに、大きな記録コントラストが得られ
る。サーモクロミック性を示す化合物としては、例えば
分子の骨格の変化によるサーモクロミック性を示す化合
物として、ビアンスロン系、ポリチオフェン誘導体、ス
ピロピラン及びメロシアニン、7貞環をもつスピロオキ
サジン、キノンとb−ヒドロキシ第二アミンとの反応生
成物、アザメチン色素、ジアザアントラセノファン等が
あげられる。また、互変異性化によるサーモクロミック
性を示すものとして、N−サリチリデンベンジルアミン
などのアゾメチン類のケト・エノール互変異性化による
もの、酸塩基反応によりサーモクロミック性を示すも
の、あるいは錯体形成によるサーモクロミック性を示す
もの、分子集合状態の構造変化によるサーモクロミック
を示すものとして、コレステリック液晶、ポリアセチレ
ン等があげられる。また、シアニン系(ポリメチン系)
色素、フタロシアニンやナフタロシニン等のテトラアザ
ポルフィリン系色素、ポルフィリン系色素等の色素も、
300〜900nmの範囲に大きな吸収を有しているの
で、安定性や生産性、波長整合性の面から、本発明に最
も適した材料の1つである。
In the case of a compound exhibiting thermochromic properties, for example, a change in the state of molecular assembly or a change in structure due to heat causes a very large change in the spectrum, that is, a very large change in the optical constant. Along with increasing the reflectance, a large recording contrast can be obtained. Examples of the compound exhibiting thermochromic properties include, for example, compounds exhibiting thermochromic properties due to changes in the molecular skeleton, such as bianthrone, polythiophene derivatives, spiropyran and merocyanine, spirooxazine having a 7-ring, quinone and b-hydroxy secondary amine. And azamethine dyes, diazaanthracenophane and the like. Further, as those exhibiting thermochromic properties due to tautomerization, those due to keto-enol tautomerization of azomethines such as N-salicylidenebenzylamine, those exhibiting thermochromic properties due to acid-base reaction, or complexes Cholesteric liquid crystals, polyacetylene, and the like can be given as examples of those exhibiting thermochromic properties due to formation and those exhibiting thermochromic effects due to structural changes in the state of molecular assembly. Also, cyanine (polymethine)
Dyes, tetraazaporphyrin dyes such as phthalocyanine and naphthalosinine, dyes such as porphyrin dyes,
Since it has a large absorption in the range of 300 to 900 nm, it is one of the most suitable materials for the present invention in terms of stability, productivity, and wavelength matching.

【0014】複素屈折率の実部nと虚部kはクラマース
・クローニツヒの関係で結ばれている(例えば“第3・
光の鉛筆”p243 新技術コミュニケーションズ)。
The real part n and the imaginary part k of the complex refractive index are connected in a Kramers-Kronig relation (for example, “3rd.
Light pencil “p243 New Technology Communications”.

【数3】 (Equation 3)

【0015】すなわち上式から明らかなように、吸収ピ
ーク波長の長波長側においてnは大きく、逆に吸収ピー
ク波長の短波長側でnは小さい。また、このクラマース
・クローニッヒの関係から、吸収曲線がシャープで吸収
が強いほど、吸収ピーク近傍の長波長側ではnは大き
く、短波長側ではnは小さくなり、色素を高屈折率層と
しても低屈折率層としても利用することができる。一
方、吸収曲線が比較的ブロードな場合は、吸収ピーク近
傍でのnの変化が比較的小さいため、高屈折率層と低屈
折率層の両方の特性を持たないことになり、本発明の色
素としては好ましくない場合がある.ただし、高屈折率
層、あるいは低屈折率層のいづれかの作用を持たせる場
合は吸収曲線が比較的ブロードな色素でも十分使用可能
であり、隣接する層との屈折率差が大きければよいの
で、本発明では記録層として色素化合物やフォトクロミ
ック性を示す色素化合物、あるいはサーモクロミック性
を示す化合物に限定されるものでなく、記録・再生波長
において、光学定数変化が生じるものであればかまわな
い。したがって、本発明では複素屈折率の変化のみでな
く、膜厚が記録によって変化するような材料であっても
よい。このような膜厚が変化する材料としては、一般的
な熱可塑性樹脂や熱硬化型樹脂、あるいはポリノルボル
ネン、ポリイソプレン、スチレン、ブタジエン共重合
体、ポリウレタン等の形状記憶樹脂を主体とするものが
あげられる。
That is, as is apparent from the above equation, n is large on the long wavelength side of the absorption peak wavelength, and conversely, n is small on the short wavelength side of the absorption peak wavelength. Also, from the Kramers-Kronig relationship, the sharper the absorption curve and the stronger the absorption, the larger the n on the long wavelength side near the absorption peak, the smaller the n on the short wavelength side, and the lower the dye as a high refractive index layer. It can also be used as a refractive index layer. On the other hand, when the absorption curve is relatively broad, the change in n near the absorption peak is relatively small, so that the dye does not have characteristics of both the high refractive index layer and the low refractive index layer. May not be desirable. However, if a high refractive index layer or a low refractive index layer has any effect, it is sufficient to use a dye having a relatively broad absorption curve, and the refractive index difference between adjacent layers should be large. In the present invention, the recording layer is not limited to a dye compound, a dye compound exhibiting photochromic properties, or a compound exhibiting thermochromic properties, as long as the optical constant changes at the recording / reproducing wavelength. Therefore, in the present invention, not only a change in the complex refractive index but also a material whose film thickness changes by recording may be used. As such a material whose film thickness changes, a material mainly composed of a general thermoplastic resin or a thermosetting resin, or a shape memory resin such as polynorbornene, polyisoprene, styrene, butadiene copolymer, or polyurethane is used. can give.

【0016】本発明では色素層が蒸着によって形成され
ることが好ましい。これは低屈折率層や高屈折率層が蒸
着やスパッタ等のドライプロセスで形成されるため、色
素等の記録層材料が蒸着できれば生産性の向上が図れる
と同時に、スピンコーティング法よりも膜厚の制御が容
易になるからである。すなわち、本発明での干渉作用を
利用した多層膜構造では、各層の膜厚が非常に重要であ
るが、従来用いられているスピンコーティング法では色
素等の記録層材料を溶かす溶媒の種類や溶媒の組み合わ
せ、溶媒のロット間差、回転数や回転バターン、作業環
境の温度、湿度等によって大きく膜厚が変化してしまっ
たり、ディスク構造での内周と外周間での膜厚ばらつき
も大きく変化してしまうため、膜厚の制御が容易でな
い。他方蒸着により色素を形成させる場合は、膜厚管理
が非常に簡単になる。蒸着によって形成可能な色素は、
例えば「Reversible lasermarki
ng process in anthraquino
ne dyefilms,A.H.Sporer,AP
PLIED OPTICS/Vo1.26,No.7/
1 April 1987 p1240」に記載されて
いるアントラキノン系色素などが用いることができる。
但し、本発明では、色素等の記録層材料はすべての構造
のもので蒸着できるのではないため、状況に応じてスピ
ンコーティング法を利用することも可能である。
In the present invention, the dye layer is preferably formed by vapor deposition. This is because the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer are formed by a dry process such as vapor deposition or sputtering. Is easy to control. That is, in the multilayer film structure utilizing the interference effect in the present invention, the thickness of each layer is very important, but in the conventionally used spin coating method, the type and solvent of the solvent that dissolves the recording layer material such as a dye are conventionally used. Film thickness, the film thickness varies greatly between the inner and outer circumferences of the disc structure, and the film thickness varies greatly depending on the combination of the solvent, the difference between the lots of the solvent, the number of rotations and the rotation pattern, the temperature and humidity of the working environment, etc. Therefore, it is not easy to control the film thickness. On the other hand, when a dye is formed by vapor deposition, the film thickness control becomes very simple. Dyes that can be formed by vapor deposition
For example, "Reversible lasermarki
ng process in anthraquino
ne dyfilms, A .; H. Sporer, AP
PLIED OPTICS / Vo1.26, No. 7 /
1 April 1987, p. 1240 ”and the like.
However, in the present invention, the recording layer material such as the coloring matter cannot be vapor-deposited in all structures, so that a spin coating method can be used depending on the situation.

【0017】本発明で使用できる高屈折率層材料として
は、ZrO2(2.1)、TiO2(2.40)、ZnS
(2.32)、PbCl2(2.20)等を用いること
ができる。低屈折率層材料としてはMgF2(1.3
8)、CeF3(1.63)、A123(1.62)、
SiO2(1.46)、Na3AlF6(1.35)など
が用いることができる。
The high refractive index layer material usable in the present invention includes ZrO 2 (2.1), TiO 2 (2.40), ZnS
(2.32), PbCl 2 (2.20) and the like can be used. As the material of the low refractive index layer, MgF 2 (1.3
8), CeF 3 (1.63) , A1 2 O 3 (1.62),
SiO 2 (1.46), Na 3 AlF 6 (1.35) and the like can be used.

【0018】《記録層》色素としては上述例に加えて、
例えばポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシ
アニン系、スクアリリウム系、コロコニウム系、ピリリ
ウム系、ナフトキノン系、アントラキノン(インダンス
レン)系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズ
レン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、ト
リフェノチアジン系染料、および金属錯体化合物などが
挙げられ、上記の染料を単独で用いてもよいし、2種以
上の組合わせにしてもよい。また上記染料中に金属、金
属化合物、例えばIn、Te、Bi、Al、Be、Te
2、SnO、As、Cdなどを分散混合、あるいは積
層の形態で用いることもできる。さらに、上記染料中に
高分子材料、例えばアイオノマー樹脂、ポリアミド系樹
脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム
などの種々の材料、もしくはシランカップリング剤など
を分散混合して用いてもよいし、あるいは特性改良の目
的で、安定剤(例えば遷移金属錯体)、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などと一緒
に用いることができる。
<< Recording Layer >> As the dye, in addition to the above examples,
For example, polymethine dyes, naphthalocyanine, phthalocyanine, squarylium, coroconium, pyrylium, naphthoquinone, anthraquinone (indanthrene), xanthene, triphenylmethane, azulene, tetrahydrocholine, phenanthrene, triamine Examples include phenothiazine dyes and metal complex compounds, and the above dyes may be used alone or in combination of two or more. In addition, metals and metal compounds such as In, Te, Bi, Al, Be, and Te are contained in the dye.
O 2 , SnO, As, Cd and the like can be used in the form of dispersion mixing or lamination. Further, various materials such as a polymer material, for example, an ionomer resin, a polyamide resin, a vinyl resin, a natural polymer, silicone, and a liquid rubber, or a silane coupling agent may be dispersed and used in the dye. It can be used together with a stabilizer (for example, a transition metal complex), a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, a plasticizer, and the like for the purpose of improving the properties.

【0019】塗布法を用いる場合には、上記染料などを
有機溶媒に溶解させて、スプレー、ローラーコーティン
グ、ディッピングおよび、スピンコーティングなどの慣
用のコーティング法、あるいは蒸着法によって行われる
が、本発明の性格上蒸着法が最も好ましい。有機溶媒と
しては、一般にメタノール、エタノール、イソプロパノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの
アミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエー
テル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭素類、
あるいは、ベンゼン、キシレン、モノクロロヘンゼン、
ジクロロベンゼンなどの芳香族類、メトキシエタノー
ル、エトキシエタノールなどのセルソルブ類、ヘキサ
ン、ペンタン、シクロへキサン、メチルシクロヘキサン
などの炭化水素類などを用いることができる。記録層の
膜厚は、記録・再生波長をλ0、記録・再生波長での複
素屈折率の実部をnとすると、ほぼnd=λ0/4を満
足する膜厚近傍である必要がある。(吸収係数が0でな
いため、nd=λ0/4から最適膜厚が若干ずれる可能
性がある)。
When the coating method is used, the dye or the like is dissolved in an organic solvent, and the coating is performed by a conventional coating method such as spraying, roller coating, dipping and spin coating, or by a vapor deposition method. The vapor deposition method is most preferable due to its characteristics. Examples of the organic solvent generally include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. , Tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, carbon tetrachloride, aliphatic halogenated carbons such as trichloroethane,
Or benzene, xylene, monochlorobenzene,
Aromatic substances such as dichlorobenzene, cellsolves such as methoxyethanol and ethoxyethanol, and hydrocarbons such as hexane, pentane, cyclohexane, and methylcyclohexane can be used. The film thickness of the recording layer is 0 recording and reproducing wavelength lambda, when the real part of the complex refractive index of the recording-reproducing wavelength is n, there must be a film thickness near to satisfy nearly nd = λ 0/4 . (Since the absorption coefficient is not 0, the optimum film thickness from nd = λ 0/4 may deviate slightly).

【0020】《基板》基板の必要特性としては、基板側
より記録・再生を行う場合のみ使用レーザ光に対して透
明でなければならず、記録層側から記録・再生を行う場
合は透明である必要はない。基板材料としては例えば、
ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーホ
ネート樹脂、ポリオレフイン掛脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック、あるいは
ガラス、セラミック、金属などを用いることができる。
なお、基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピッ
ト、さらにアドレス信号などのプレフォーマットが形成
されていてもよい。
<< Substrate >> The required characteristics of the substrate are that it must be transparent to the laser beam used only when recording / reproducing from the substrate side, and transparent when recording / reproducing from the recording layer side. No need. As the substrate material, for example,
Plastics such as polyester, acrylic resin, polyamide, polycarbonate resin, polyolefin resin, phenol resin, epoxy resin, and polyimide, glass, ceramic, and metal can be used.
Note that a guide groove or guide pit for tracking and a preformat such as an address signal may be formed on the surface of the substrate.

【0021】《中間層》下引き層等を含め基板、記録
層、保護層以外に設けられた層をここでは中間層と呼ぶ
ことにする。この中間層は(a)接着性の向上、(b)
水、またはガスなどのバリアー、(c)記録層の保存安
定性の向上、(d)反射率の向上、(e)溶剤からの基
板や記録層の保護、(f)案内溝・案内ピット・プレフ
ォーマット等の形成などを目的として使用される。前記
(a)の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド材脂、ビニル系掛脂、天然樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子物
質、およびシランカップリング剤などを用いることがで
き、(b)および(c)の目的に対しては、上記高分子
材料以外に無機化合物、例えばSiO2、MgF2、Si
O、TiO2、ZnO、TiN、SiNなどを用いるこ
とができる。また(d)の目的に対しては金属光沢を有
する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系染料等
を用いることができ、(e)および(f)の目的に対し
ては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用
いることができる。下引き層の膜厚は、記録・再生波長
を入0、記録・再生波長での複素屈折率の実部をnとす
ると、nd=入0/4を満足する膜厚である必要があ
る。
<< Intermediate Layer >> Layers provided other than the substrate, the recording layer, and the protective layer, including the undercoat layer and the like, will be referred to herein as intermediate layers. This intermediate layer has (a) improved adhesion and (b)
Water or gas barrier, (c) improvement of storage stability of recording layer, (d) improvement of reflectance, (e) protection of substrate and recording layer from solvent, (f) guide groove, guide pit, It is used for the purpose of forming a preformat or the like. For the purpose of the above (a), various polymer materials such as polymer materials, for example, ionomer resin, polyamide resin, vinyl resin, natural resin, natural polymer, silicone, liquid rubber, and silane coupling For the purposes of (b) and (c), an inorganic compound other than the above-mentioned polymer material, for example, SiO 2 , MgF 2 , Si
O, TiO 2 , ZnO, TiN, SiN and the like can be used. For the purpose (d), an organic thin film having a metallic luster such as a methine dye or a xanthene dye can be used. For the purposes (e) and (f), an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used. A resin, a thermoplastic resin, or the like can be used. The thickness of the undercoat layer, enter the recording-reproducing wavelength 0, when the real part of the complex refractive index of the recording-reproducing wavelength is n, it is necessary that a film thickness satisfying the nd = ON 0/4.

【0022】《保護層・基板表面ハードコート層》保護
層、または基板表面ハードコート層は、(a)記録層
(反射吸収層)を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、
(b)記録層(反射吸収層)の保存安定性の向上、
(c)反射率の向上等を目的として使用される。これら
の目的に対しては、前記下引き層に示した材料を用いる
ことができる。また無機材料として、SiO、SiO2
なども用いることができ、また、有機材料として、ポリ
メチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ掛
脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セ
ルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、
天然ゴム、スチレンーブタジェン樹脂、クロロプレンゴ
ム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱
軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上記材料
のうち保護層、または基板表面ハードコート層に最も好
ましい物質は、生産性に優れた紫外線硬化樹脂である.
<< Protective Layer / Substrate Hard Coat Layer >> The protective layer or the substrate surface hard coat layer (a) protects the recording layer (reflection / absorption layer) from scratches, dust, dirt, etc.
(B) improvement in storage stability of the recording layer (reflection / absorption layer),
(C) Used for the purpose of improving the reflectance. For these purposes, the materials shown in the undercoat layer can be used. As inorganic materials, SiO, SiO 2
And the like, and, as an organic material, polymethyl acrylate, polycarbonate, epoxy grease, polystyrene, polyester resin, vinyl resin, cellulose, aliphatic hydrocarbon resin, aromatic hydrocarbon resin,
Thermosoftening and heat melting resins such as natural rubber, styrene butadiene resin, chloroprene rubber, wax, alkyd resin, drying oil and rosin can also be used. Among the above materials, the most preferable substance for the protective layer or the hard coat layer on the substrate surface is an ultraviolet curable resin having excellent productivity.

【0023】保護層、または基板表面ハードコート層の
膜厚は、入射面と反対側にある場合は、0.01〜30
μm、好ましくは0.05〜10μmが適当であり、入
射面側にある場合は、記録・再生波長を入0、記録.再
生波長での複素屈折率の実部をnとすると、nd=入0
/4を満足する膜厚である必要かある。本発明におい
て、前記下引き層、保護層、および基板表面ハードコー
ト層には、記録層の場合と同様に、安定剤、分散剤、難
燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有
させることができる。
The thickness of the protective layer or the hard coat layer on the substrate surface is 0.01 to 30 when it is on the side opposite to the incident surface.
[mu] m, preferably is suitably 0.05 to 10 [mu] m, when in the incident plane side, entering the recording-reproducing wavelength 0, recording. Assuming that the real part of the complex refractive index at the reproduction wavelength is n, nd = 0
It is necessary that the film thickness satisfies / 4. In the present invention, the undercoat layer, the protective layer, and the substrate surface hard coat layer each include a stabilizer, a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, and a plasticizer, as in the case of the recording layer. Etc. can be contained.

【0024】《接着層》接着層は2つ以上の光情報記録
媒体を接着する場合必要となる場合がある。本発明で特
に好ましいのは、ホットメルト型(熱溶融型)接着剤、
もしくは紫外線硬化型接着剤である。紫外線硬化型接着
剤は、紫外線照射によってラジカル重合が開始して硬化
する接着剤である。その組成は、一般的に(1)アクリ
ル系オリゴマー、(2)アクリル系モノマー、(3)光
重合開始剤、(4)重合禁止剤からなるもので、オリゴ
マーはポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系ア
クリル酸エステル等で、光重合開始剤はヘンゾフェノ
ン、へンゾインエーテル等が使用できる。ホットメルト
接着剤は液状接着剤が溶剤揮散や反応によって硬化し接
着力が発現するのに対し、常温固体の熱可塑性樹脂が熱
溶融、冷却固化の物理変化で接着力が発現するものであ
る。ホットメルト接着剤は、EVA、ポリエステル系、
ポリアミド系、ポリウレタン系等を用いることができ
る。
<< Adhesive Layer >> An adhesive layer may be required when two or more optical information recording media are adhered. Particularly preferred in the present invention are hot melt type (hot melt type) adhesives,
Alternatively, it is an ultraviolet curable adhesive. The ultraviolet curable adhesive is an adhesive which is cured by the initiation of radical polymerization by irradiation with ultraviolet light. The composition is generally composed of (1) an acrylic oligomer, (2) an acrylic monomer, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a polymerization inhibitor. The oligomer is a polyester-based, polyurethane-based, or epoxy-based. Acrylic esters and the like, and photopolymerization initiators such as benzophenone and benzoin ether can be used. The hot melt adhesive is one in which a liquid adhesive is hardened by solvent volatilization or reaction and develops an adhesive force, whereas an ordinary-temperature solid thermoplastic resin develops an adhesive force by a physical change of heat melting and cooling and solidification. Hot melt adhesives are EVA, polyester,
A polyamide type, a polyurethane type, or the like can be used.

【0025】[0025]

【実施例】以下本発明の光情報記録媒体の具体的な実施
態様とその効果を説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments of the optical information recording medium of the present invention and the effects thereof will be described below.

【0026】実施例1 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 1 (1) Layer structure Substrate / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / air layer (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 1 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above configuration
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0027】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図3、未記録時
と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図4
のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを仮定
し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求めたも
のである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
5に示す。この結果から550nm近傍(550nm以
下)の波長領域で高反射率で、かつ高記録コンストラス
トを有する光情報記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in the unrecorded state and in the recording state is shown in FIG. Fig. 4 Dependency
(The complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig.) The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n ( λ 0 )]. FIG. 5 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm (550 nm or less) and having a high recording contrast.

【0028】実施例2 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 2 (1) Layer structure Substrate / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / air layer (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers m: 2
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0029】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図3、未記録時
と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図4
のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを仮定
し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求めたも
のである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
6に示す。この結果から550nm近傍(550nm以
下)の波長領域で高反射率で、かつ高記録コンストラス
トを有する光情報記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in the unrecorded state and in the recording state is shown in FIG. Fig. 4 Dependency
(The complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig.) The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n ( λ 0 )]. FIG. 6 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm (550 nm or less) and having a high recording contrast.

【0030】実施例3 (1)層構成 基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低屈
折率層/高屈折率層)r/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 3 (1) Layer Structure Substrate / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Air layer (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers p: 1 Number of stacked layers r: 1 A substrate is provided on the optical information recording medium having the above-described configuration. Record from the side
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0031】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図7、未記録時
と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図8
のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを仮定
し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求めたも
のである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
9に示す。この結果から520nm近傍の波長領域で高
反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報記
録媒体が提供できる。
FIG. 7 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. Figure 8 shows dependencies
(The complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig.) The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n ( λ 0 )]. FIG. 9 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 520 nm and a high recording contrast.

【0032】実施例4 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 4 (1) Layer Structure Substrate / Recording Layer / (Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer) m / Air Layer (2) Refractive Index of Substrate, Air Layer and Each Layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 1 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above configuration
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0033】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図10、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
11のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
12に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state is shown in FIG. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 11 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 12 shows the result of calculating the reflectivity at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0034】実施例5 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 5 (1) Layer Structure Substrate / Recording Layer / (Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer) m / Air Layer (2) Refractive Index of Substrate, Air Layer and Each Layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers m: 2
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0035】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図10、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
11のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
13に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state is shown in FIG. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 11 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 13 shows the results of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0036】実施例6 (1)層構成 基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低屈
折率層/高屈折率層)r/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:0 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 6 (1) Layer structure Substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) p / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) r / air layer (2) substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1 Number of layers r: 0 Substrate on optical information recording medium having the above configuration Record from the side
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0037】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図14、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
15のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
16に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the unrecorded and recorded layers of the recording layer is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 15 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 16 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0038】実施例7 (1)層構成 基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低屈
折率層/高屈折率層)r/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 7 (1) Layer structure Substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) p / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) r / air layer (2) substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers p: 1 Number of stacked layers r: 1 A substrate is provided on the optical information recording medium having the above-described configuration. Record from the side
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0039】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図14、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
15のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
17に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 15 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 17 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0040】実施例8 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 8 (1) Layer Structure Substrate / Recording Layer / (Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer) m / Air Layer (2) Refractive Index of Substrate, Air Layer and Each Layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 1 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above configuration
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0041】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図18、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
19のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
20に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in the unrecorded state and in the recorded state is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 19 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is determined from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 20 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0042】実施例9 (1)層構成 基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 9 (1) Layer Structure Substrate / Recording Layer / (Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer) m / Air Layer (2) Refractive Index of Substrate, Air Layer and Each Layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers m: 2
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0043】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図18、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
19のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
21に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer during non-recording and during recording is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 19 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is determined from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 21 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0044】実施例10 (1)層構成 基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低屈
折率層/高屈折率層)r/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:0 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 10 (1) Layer Structure Substrate / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Air layer (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1 Number of layers r: 0 Substrate on optical information recording medium having the above configuration Record from the side
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0045】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図22、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
23のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
24に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 23 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 24 shows the result of calculating the reflectivity at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0046】実施例11 (1)層構成 基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低屈
折率層/高屈折率層)r/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 11 (1) Layer Structure Substrate / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Air layer (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers p: 1 Number of stacked layers r: 1 A substrate is provided on the optical information recording medium having the above-described configuration. Record from the side
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0047】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図22、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
23のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
25に示す。この結果から520nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer during non-recording and during recording is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 23 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 25 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 520 nm and a high recording contrast.

【0048】実施例12 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 12 (1) Layer structure Air layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 1 Recording / reproducing recording / reproducing on optical information recording medium having the above configuration from the air layer side 0 : 550 (nm) Do with.

【0049】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図26、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
27のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
28に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 26 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 27 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 28 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0050】実施例13 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 13 (1) Layer structure Air layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 2 Recording / reproduction is performed on the optical information recording medium having the above configuration from the air layer side. Recording / reproduction wavelength input 0 : 550 (nm) Do with.

【0051】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図26、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
27のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
29に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer during non-recording and during recording is shown in FIG. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 27 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 29 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0052】実施例14 (1)層構成 空気層/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)r/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 14 (1) Layer structure Air layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Substrate (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1 Number of layers r: 1 Air is applied to the optical information recording medium having the above configuration. Recording and reproduction are performed from the layer side at a recording and reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0053】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図30、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
31のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
32に示す。この結果から520nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the unrecorded and recorded layers of the recording layer is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 31 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 32 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 520 nm and a high recording contrast.

【0054】実施例15 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 15 (1) Layer structure Air layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 1 Recording / reproducing recording / reproducing on optical information recording medium having the above configuration from the air layer side 0 : 550 (nm) Do with.

【0055】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図33、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
34のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
35に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 33 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer configuration conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 34 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the Kramers-Kronig relation.) The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 35 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0056】実施例16 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 16 (1) Layer structure Air layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 2 Recording / reproduction is performed on the optical information recording medium having the above configuration from the air layer side. Recording / reproduction wavelength input 0 : 550 (nm) Do with.

【0057】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図33、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
34のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
36に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 33 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 34 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the Kramers-Kronig relation.) The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 36 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0058】実施例17 (1)層構成 空気層/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)r/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:0 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 17 (1) Layer structure Air layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Substrate (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1 Number of layers r: 0 Air is applied to the optical information recording medium having the above configuration. Recording and reproduction are performed from the layer side at a recording and reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0059】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図37、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
38のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
39に示す。この結果から530nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 37 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 38 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 39 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 530 nm and a high recording contrast.

【0060】実施例18 (1)層構成 空気層/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)r/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1 積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 18 (1) Layer structure Air layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Substrate (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1 Number of layers r: 1 Air is applied to the optical information recording medium having the above configuration. Recording and reproduction are performed from the layer side at a recording and reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0061】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図37、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
38のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
40に示す。この結果から540nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 37 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 38 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 40 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 540 nm and a high recording contrast.

【0062】実施例19 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 19 (1) Layer Structure Air Layer / Recording Layer / (Low Refractive Index Layer / High Refractive Index Layer) m / Substrate (2) Refractive Index of Substrate, Air Layer and Each Layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 1 Recording / reproducing recording / reproducing on optical information recording medium having the above configuration from the air layer side 0 : 550 (nm) Do with.

【0063】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図41、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
42のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
43に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer during non-recording and during recording is shown in FIG. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 42 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 43 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0064】実施例20 (1)層構成 空気層/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)m/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 20 (1) Layer structure Air layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refractive index: 1.52 Refractive index of air layer: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer and high refractive index layer (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of laminations m: 2 Recording / reproduction is performed on the optical information recording medium having the above configuration from the air layer side. Recording / reproduction wavelength input 0 : 550 (nm) Do with.

【0065】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図41、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
42のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
44に示す。この結果から550nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer at the time of non-recording and at the time of recording is shown in FIG. The dependency was tentatively determined as shown in FIG. 42 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 44 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From these results, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 550 nm and a high recording contrast.

【0066】実施例21 (1)層構成 空気層/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)r/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1、積層数r:0 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 21 (1) Layer structure Air layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Substrate (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers p: 1, number of layers r: 0 Recording / reproduction is performed from the air layer side at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0067】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図45、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
46のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
47に示す。この結果から530nm(530nm)近
傍の波長領域で高反射率で、かつ高記録コンストラスト
を有する光情報記録媒体が提供できる。
FIG. 45 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 46 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 47 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 530 nm (530 nm) and a high recording contrast.

【0068】実施例22 (1)層構成 空気層/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)r/基板 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数p:1、積層数r:1 前記のような構成の光情報記録媒体に空気層側から記録
・再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 22 (1) Layer structure Air layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) p / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) r / Substrate (2) Substrate, air Refractive index of layers and each layer Substrate refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Low refractive index layer refractive index 1:38 (MgF 2 ) High refractive index layer refractive index: 2.40 (TiO 2 ) (However, the wavelength dependence of the low refractive index layer and the high refractive index layer is not considered.) (3) Thickness of the substrate and each layer Thickness of the substrate: Thickness of the low refractive index layer: d = λ 0 / (4 × 1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of stacked layers p: 1, number of stacked layers r: 1 For the optical information recording medium having the above configuration. Recording / reproduction is performed from the air layer side at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0069】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図45、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
46のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
48に示す。この結果から530nm(530nm)近
傍の波長領域で高反射率で、かつ高記録コンストラスト
を有する光情報記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the unrecorded and recorded layers of the recording layer is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 46 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 48 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 530 nm (530 nm) and a high recording contrast.

【0070】実施例23 (1)層構成 基板/高屈折率層/記録層/(高屈折率層/低屈折率
層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 23 (1) Layer structure Substrate / high refractive index layer / recording layer / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / air layer (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1: 38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) High refractive index Layer thickness: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 2 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above-described configuration.
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0071】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図49、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
50のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
51に示す。この結果から500nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer during non-recording and during recording is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 50 (this complex refractive index is assumed to be an arbitrary k, and n is determined from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 51 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 500 nm and a high recording contrast.

【0072】実施例24 (1)層構成 基板/高屈折率層/記録層/(高屈折率層/低屈折率
層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 24 (1) Layer structure Substrate / high refractive index layer / recording layer / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / air layer (2) substrate, air layer and refractive index of each layer substrate refraction Refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1: 38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) High refractive index Layer thickness: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 2 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above-described configuration.
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0073】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図52、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
53のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
54に示す。この結果から500nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
Under the above-mentioned layer configuration conditions, the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in the unrecorded state and in the recorded state is shown in FIG. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 53 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 54 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 500 nm and a high recording contrast.

【0074】実施例25 (1)層構成 基板/高屈折率層/記録層/(高屈折率層/低屈折率
層)m/空気層 (2)基板、空気層および各層の屈折率 基板屈折率:1.52 空気層屈折率:1.0 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)基板および各層の厚さ 基板の厚さ: 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) (4)積層数m:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板側から記録・
再生を記録・再生波長入0:550(nm)で行う。
Example 25 (1) Layer Structure Substrate / High refractive index layer / Recording layer / (High refractive index layer / Low refractive index layer) m / Air layer (2) Refractive index of substrate, air layer and each layer Substrate refraction Refractive index: 1.52 Air layer refractive index: 1.0 Refractive index of low refractive index layer 1: 38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, (3) Thickness of substrate and each layer Thickness of substrate: Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) High refractive index Layer thickness: d = λ 0 /(4×2.40) (4) Number of layers m: 2 Recording / recording from the substrate side on the optical information recording medium having the above-described configuration.
Reproduction is performed at a recording / reproduction wavelength of 0 : 550 (nm).

【0075】以上の層構成条件で、未記録時と記録時の
記録層の複素屈折率虚部の波長依存性を図55、未記録
時と記録時の記録層の複素屈折率実部の波長依存性を図
56のように仮決定した(この複素屈折率は任意のkを
仮定し、クラマース・クローニッヒの関係からnを求め
たものである。) 記録層の膜厚はd=λ0/〔4×n(λ0)〕である。前
記条件で記録時と未記録時の反射率を計算した結果を図
57に示す。この結果から500nm近傍の波長領域で
高反射率で、かつ高記録コンストラストを有する光情報
記録媒体が提供できる。
FIG. 55 shows the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer between the unrecorded state and the recorded state under the above-mentioned layer structure conditions. The dependence was tentatively determined as shown in FIG. 56 (this complex refractive index is obtained by assuming an arbitrary k and n is obtained from the relationship of Kramers-Kronig). The film thickness of the recording layer is d = λ 0 / [4 × n (λ 0 )]. FIG. 57 shows the result of calculating the reflectance at the time of recording and at the time of non-recording under the above conditions. From this result, it is possible to provide an optical information recording medium having a high reflectance in a wavelength region near 500 nm and a high recording contrast.

【0076】上記実施例中、実施例1〜22は記録層を
高屈折率層として用いた例、実施例23〜25は記録層
を低屈折率層として用いた場合である。但しこれらの結
果は本実施例の1例にすぎず、本実施例では任意の複素
屈折率を仮定しているため、未記録時反射率や記録再生
コントラストは更に向上する可能性がある。本実施例に
おいて、未記録時の吸収スペクトルから長波長側へスペ
クトルが移動するものとしては、例えば色素の構造変
化、凝集状態変化、会合状態変化、結晶状態変化、相変
化等があげられる。一方、未記録時の吸収スペクトルか
ら短波長側へスペクトルが移動するものとしても、同様
に例えば色素の構造変化、凝集状態変化、会合状態変
化、結晶状態変化、相変化等があげられる。
In the above examples, Examples 1 to 22 are examples in which the recording layer is used as a high refractive index layer, and Examples 23 to 25 are cases in which the recording layer is used as a low refractive index layer. However, these results are merely examples of the present embodiment, and since an arbitrary complex refractive index is assumed in the present embodiment, the unrecorded reflectance and the recording / reproducing contrast may be further improved. In this embodiment, examples of the shift of the spectrum from the unrecorded absorption spectrum to the longer wavelength side include a change in the structure of the dye, a change in the aggregation state, a change in the association state, a change in the crystal state, and a phase change. On the other hand, when the spectrum shifts from the unrecorded absorption spectrum to the shorter wavelength side, similarly, for example, a change in the structure of the dye, a change in the aggregation state, a change in the association state, a change in the crystal state, a phase change, and the like can be given.

【0077】任意の色素等の材料が未記録時の吸収スペ
クトルから記録によって短波長へ動くか、長波長へ動く
かは、材料の構造、置換基の有無、置換基の種類、置換
基の場所、置換基の大きさ等によって変わる。これは例
えば色素のH会合体は一般に短波長へ吸収スペクトルが
動き、逆にJ会合体は長波長へ吸収スペクトルが動き、
これらの変化は置換基の種類や置換位置によって決ま
る。会合体の形成に置換基が与える影響としては、構造
等が変わると様子も全く変わってしまぅが、シアニン系
のある構造の色素に関しては、例えば「チアシアニン色
素の会合体形成に及ぼす置換基の影響」日本写真学会
誌、58巻4号(1995、平7)p361等に記載さ
れている。本発明では記録層材料を低屈折率層として
も、高屈折率層としても用いることができ、更に積層構
造とすることによって、記録層材料に必要とされる複素
屈折率の範囲が非常に緩和されるため、材料の選定範囲
も非常に広がることになる。これはいくつかの任意の複
素屈折率を仮定した実施例において、高反射率、高記録
コントラスト化が達成されていることからも明らかであ
る。
Whether an arbitrary material such as a dye moves to a short wavelength or a long wavelength by recording from an absorption spectrum at the time of unrecording depends on the structure of the material, the presence or absence of the substituent, the type of the substituent, and the location of the substituent. And the size of the substituent. This is because, for example, the absorption spectrum of an H-aggregate of a dye generally moves to a short wavelength, and the absorption spectrum of a J-aggregate moves to a long wavelength.
These changes are determined by the type and position of the substituent. The effect of substituents on the formation of aggregates is completely different when the structure and the like change.However, for dyes having a cyanine-based structure, for example, `` Substituents affecting aggregate formation of thiacyanine dyes Impact ", Photographic Society of Japan, vol. 58, No. 4, 1995 (Heisei 7), p.361. In the present invention, the recording layer material can be used as both a low refractive index layer and a high refractive index layer. Further, by forming a laminated structure, the range of the complex refractive index required for the recording layer material is greatly relaxed. As a result, the range of material selection is greatly expanded. This is clear from the fact that high reflectance and high recording contrast are achieved in some examples assuming an arbitrary complex refractive index.

【0078】[0078]

【効果】本発明により、従来高反射率化のために必要で
あった金属反射届が不要で、金属反射層では高反射率が
得られない波長においても、高反射率型光情報記録媒体
が提供され、かつ記録によって記録層の光学定数を変化
させることで高コントラストの情報が記録・再生できる
新規な光情報記録媒体、および光情報記録媒体の記録方
法が提供される。これによって、金属反射膜では達成で
きなかった波長領域で高反射率が達成されるとともに、
高コントラストな記録が行える。
According to the present invention, a high reflectance type optical information recording medium can be provided even at a wavelength at which a high reflectance cannot be obtained with a metal reflection layer, because the metal reflection layer which was conventionally required for increasing the reflectance is not required. Provided is a novel optical information recording medium that can record and reproduce high-contrast information by changing an optical constant of a recording layer by recording, and a recording method of the optical information recording medium. This achieves high reflectivity in the wavelength range that could not be achieved with a metal reflective film,
High-contrast recording can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】金反射膜の波長依存性を示す図。FIG. 1 is a diagram showing the wavelength dependence of a gold reflection film.

【図2】色素の複素屈折率の波長依存性を示す図。FIG. 2 is a diagram showing the wavelength dependence of the complex refractive index of a dye.

【図3】実施例1、2における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 1 and 2.

【図4】実施例1、2における記録層複素屈折率実部の
波長依存性を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 1 and 2.

【図5】実施例1における未記録時と記録時の反射率を
示す図。
FIG. 5 is a diagram showing the reflectance when recording is not performed and when recording is performed in the first embodiment.

【図6】実施例2における未記録時と記録時の反射率を
示す図。
FIG. 6 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed according to the second embodiment.

【図7】実施例3における記録層複素屈折率虚部の波長
依存性を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 3.

【図8】実施例3における記録層複素屈折率実部の波長
依存性を示す図。
FIG. 8 is a diagram showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Example 3.

【図9】実施例3における未記録時と記録時の反射率を
示す図。
FIG. 9 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed according to a third embodiment.

【図10】実施例4、5における記録層複素屈折率虚部
の波長依存性を示す図。
FIG. 10 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 4 and 5.

【図11】実施例4、5における記録層複素屈折率実部
の波長依存性を示す図。
FIG. 11 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 4 and 5.

【図12】実施例4における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 12 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed according to a fourth embodiment.

【図13】実施例5における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 13 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed according to a fifth embodiment.

【図14】実施例6、7における記録層複素屈折率虚部
の波長依存性を示す図。
FIG. 14 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 6 and 7.

【図15】実施例6、7における記録層夜素屈折率実部
の波長依存性を示す図。
FIG. 15 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the refractive index of the recording layer in Examples 6 and 7.

【図16】実施例6における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 16 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed according to a sixth embodiment.

【図17】実施例7における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 17 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed according to a seventh embodiment.

【図18】実施例8、9における記録層複素屈折率虚部
の波長依存性を示す図。
FIG. 18 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 8 and 9.

【図19】実施例8、9における記録層複素屈折率実部
の波長依存性を示す図。
FIG. 19 is a diagram showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 8 and 9.

【図20】実施例8における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 20 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed in Example 8.

【図21】実施例9における未記録時と記録時の反射率
を示す図。
FIG. 21 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed according to a ninth embodiment.

【図22】実施例10、11における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 22 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 10 and 11.

【図23】実施例10、11における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 23 is a diagram showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 10 and 11.

【図24】実施例10における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 24 is a diagram showing the reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 10.

【図25】実施例11における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 25 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed in the eleventh embodiment.

【図26】実施例12、13における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 26 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 12 and 13.

【図27】実施例12、13における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 27 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 12 and 13.

【図28】実施例12における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 28 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 12.

【図29】実施例13における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 29 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed according to a thirteenth embodiment.

【図30】実施例14における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 30 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 14.

【図31】実施例14における記録層複素屈折率実部の
波長依存性を示す図。
FIG. 31 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Example 14.

【図32】実施例14における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 32 is a diagram illustrating reflectances when recording is not performed and when recording is performed in Example 14.

【図33】実施例15、16における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 33 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 15 and 16.

【図34】実施例15、16における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 34 is a diagram showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 15 and 16.

【図35】実施例15における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 35 is a diagram showing reflectances when recording is not performed and when recording is performed in Example 15.

【図36】実施例16における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 36 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 16.

【図37】実施例17、18における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 37 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 17 and 18.

【図38】実施例17、18における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 38 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 17 and 18.

【図39】実施例17における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 39 is a diagram showing the reflectance at the time of non-recording and at the time of recording in Example 17.

【図40】実施例18における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 40 is a graph showing the reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 18.

【図41】実施例19、20における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 41 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 19 and 20.

【図42】実施例19、20における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 42 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 19 and 20.

【図43】実施例19における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 43 is a diagram showing reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 19.

【図44】実施例20における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 44 is a graph showing the reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 20.

【図45】実施例21、22における記録層複素屈折率
虚部の波長依存性を示す図。
FIG. 45 is a diagram showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 21 and 22.

【図46】実施例21、22における記録層複素屈折率
実部の波長依存性を示す図。
FIG. 46 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Examples 21 and 22.

【図47】実施例21における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 47 is a diagram showing the reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 21.

【図48】実施例22における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 48 is a graph showing reflectances when recording is not performed and when recording is performed in Example 22.

【図49】実施例23における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 49 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 23.

【図50】実施例23における記録層複素屈折率実部の
波長依存性を示す図。
FIG. 50 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Example 23.

【図51】実施例23における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 51 is a graph showing reflectances when recording is not performed and when recording is performed in Example 23.

【図52】実施例24における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 52 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 24.

【図53】実施例24における記録層複素屈折率実部の
波長依存性を示す図。
FIG. 53 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Example 24.

【図54】実施例24における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 54 is a diagram illustrating reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 24.

【図55】実施例25における記録層複素屈折率虚部の
波長依存性を示す図。
FIG. 55 is a graph showing the wavelength dependence of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer in Example 25.

【図56】実施例25における記録層複素屈折率実部の
波長依存性を示す図。
FIG. 56 is a graph showing the wavelength dependence of the real part of the complex refractive index of the recording layer in Example 25.

【図57】実施例25における未記録時と記録時の反射
率を示す図。
FIG. 57 is a diagram showing reflectance when recording is not performed and when recording is performed in Example 25.

【図58】多膜層の積層数による反射率の変化を示す
図。
FIG. 58 is a diagram showing a change in reflectance depending on the number of stacked multilayer layers.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

R 反射率 n 複素屈折率の実部 k 複素屈折率の虚部 A 未記録状態 B 記録状態 R reflectance n real part of complex refractive index k imaginary part of complex refractive index A unrecorded state B recorded state

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11B 7/24 533 G11B 7/24 533L 533N 7/00 7/00 Q (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 東 康弘 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G11B 7/24 533 G11B 7/24 533L 533N 7/00 7/00 Q (72) Inventor Yasunobu Ueno 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. 6 Inside Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhiro Higashi 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Inside Ricoh Co., Ltd.

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、基板/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)
m(但し、mは積層数)という層構成を有し、かつ記録
・再生が基板側から行われる光情報記録媒体において、
(1)mは1以上、(2)記録層、低屈折率層、高屈折
率層の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長において、
ii=入0/4(但しniは各層材料の屈折率、di
各層材料の膜厚、入0は記録再生波長)であることを特
傲とする光情報記録媒体。
1. Recording / reproduction of information is possible by irradiation of a laser beam, and a substrate / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer)
m (where m is the number of layers) and an optical information recording medium in which recording / reproduction is performed from the substrate side.
(1) m is 1 or more, and (2) the thicknesses of the recording layer, the low refractive index layer, and the high refractive index layer are all at least at the reproduction wavelength.
n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material, the thickness of d i are each material, input 0 is the recording and reproducing wavelength) optical information recording medium according to Toku傲that it is.
【請求項2】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、基板/(高屈折率層/低屈折率層)p/記録
層/(低屈折率層/高屈折率層)r(但し、p、rは積
層数)という層構成を有し、かつ記録・再生が基板側か
ら行われる光情報記録媒体において、(1)pは1以
上、rは0または1以上、(2)記録層、低屈折率層、
高屈折率層の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長にお
いて、nii=入0/4(但しniは各層材料の屈折率、
iは各層材料の膜厚、入0は記録再生波長)であること
を特傲とする光情報記録媒体。
2. Recording and reproduction of information are possible by irradiation of a laser beam, and a substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) p / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) r ( However, in an optical information recording medium having a layer configuration of (p and r are the number of laminations) and recording / reproducing is performed from the substrate side, (1) p is 1 or more, r is 0 or 1 or more, and (2) Recording layer, low refractive index layer,
Thickness of the high refractive index layer, in either at least reproduction wavelength, n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material,
The film thickness of d i are each material, the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項3】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、基板/高屈折率層/記録層/(高屈折率層/
低屈折率層)m(但し、mは積層数)という層構成を有
し、かつ記録・再生が基板側から行われる光情報記録媒
体において、(1)mは1以上、(2)記録層、低屈折
率層、高屈折率層の膜厚が、いずれも少なくとも再生波
長において、nii=入0/4(但しniは各層材料の屈
折率、diは各層材料の膜厚、入0は記録再生波長)であ
ることを特傲とする光情報記録媒体。
3. Recording and reproduction of information can be performed by irradiating a laser beam, and a substrate / high refractive index layer / recording layer / (high refractive index layer /
(1) m is 1 or more, and (2) the recording layer , low refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer, in either at least reproduction wavelength, of n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material, d i is each material thickness the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項4】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、低屈折率層/記録層/(低屈折率層/高屈折
率層)m/基板(但し、mは積層数)という層構成を有
し、かつ記録・再生が低屈折率層側から行われる光情報
記録媒体において、(1)mは1以上、(2)記録層、
低屈折率層、高屈折率層の膜厚が、いずれも少なくとも
再生波長において、nii=入0/4(但しniは各層材
料の屈折率、diは各層材料の膜厚、入0は記録再生波
長)であることを特傲とする光情報記録媒体。
4. Recording and reproduction of information are possible by irradiation with a laser beam, and it is referred to as low refractive index layer / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) m / substrate (where m is the number of layers). In an optical information recording medium having a layer structure and recording / reproducing is performed from the low refractive index layer side, (1) m is 1 or more;
Low refractive index layer, the film thickness of the high refractive index layer, in either at least reproduction wavelength, of n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material, d i is each material thickness, the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項5】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、高屈折率層/記録層/(高屈折率層/低屈折
率層)m/基板(但し、mは積層数)という層構成を有
し、かつ記録・再生が高屈折率層側から行われる光情報
記録媒体において、(1)mは1以上、(2)記録層、
低屈折率層、高屈折率層の膜厚が、いずれも少なくとも
再生波長において、nii=入0/4(但しniは各層材
料の屈折率、diは各層材料の膜厚、入0は記録再生波
長)であることを特傲とする光情報記録媒体。
5. Recording and reproduction of information are possible by irradiation of a laser beam, and a high refractive index layer / recording layer / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / substrate (where m is the number of layers). In an optical information recording medium having a layer configuration and recording / reproducing is performed from the high refractive index layer side, (1) m is 1 or more;
Low refractive index layer, the film thickness of the high refractive index layer, in either at least reproduction wavelength, of n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material, d i is each material thickness, the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項6】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、(高屈折率層/低屈折率層)p/記録層/
(低屈折率層/高屈折率層)r/基板(但し、p、rは
積層数)という層構成を有し、かつ記録・再生が基板側
から行われる光情報記録媒体において、(1)pは1以
上、rは0または1以上、(2)記録層、低屈折率層、
高屈折率層のいずれの膜厚が、少なくとも再生波長にお
いて、nii=入0/4(但しniは各層材料の屈折率、
iは各層材料の膜厚、入0は記録再生波長)であること
を特傲とする光情報記録媒体。
6. Recording / reproduction of information is possible by irradiating a laser beam, and (high refractive index layer / low refractive index layer) p / recording layer /
(1) In an optical information recording medium having a layer structure of (low refractive index layer / high refractive index layer) r / substrate (where p and r are the number of laminations) and recording / reproducing is performed from the substrate side, p is 1 or more, r is 0 or 1 or more, (2) a recording layer, a low refractive index layer,
Any of the thickness of the high refractive index layer is, at least in reproduction wavelength, n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material,
The film thickness of d i are each material, the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項7】 レーザ光の照射により情報の記録、再生
が可能で、(低屈折率層/高屈折率層)p/記録層/
(高屈折率層/低屈折率層)r/基板(但し、p、rは
積層数)という層構成を有し、かつ記録・再生が低屈折
率層側から行われる光情報記録媒体において、(1)p
は1以上、rは0または1以上、(2)記録層、低屈折
率層、高屈折率層の膜厚が、いずれも少なくとも再生波
長において、nii=入0/4(但しniは各層材料の屈
折率、diは各層材料の膜厚、入0は記録再生波長)であ
ることを特傲とする光情報記録媒体。
7. Recording and reproduction of information can be performed by irradiating a laser beam, and (low refractive index layer / high refractive index layer) p / recording layer /
An optical information recording medium having a layer structure of (high refractive index layer / low refractive index layer) r / substrate (where p and r are the number of layers) and recording / reproducing is performed from the low refractive index layer side, (1) p
One or more, r is 0 or 1 or more, (2) recording layer, a low refractive index layer, the film thickness of the high refractive index layer, in either at least reproduction wavelength, n i d i = input 0/4 (where n i is the refractive index of each layer material, the thickness of d i are each material, the optical information recording medium according to Toku傲that input 0 is the recording and reproducing wavelength).
【請求項8】 複素屈折率の実部、複素屈折率の虚部あ
るいは膜厚の光学定数、または前記3つの光学定数のう
ちの2以上の光学定数の変化を生じさせることができる
ものであることを特徴とする光情報記録媒体。
8. An optical constant of a real part of a complex refractive index, an imaginary part of a complex refractive index or an optical constant of a film thickness, or a change of two or more optical constants among the three optical constants. An optical information recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 光学定数変化により記録時の反射率が未
記録時の反射率より低下することを特徴とする請求項
1、2、3、4、5、6、7または8記載の光情報記録
媒体。
9. The optical information according to claim 1, wherein the reflectance at the time of recording is lower than the reflectance at the time of non-recording due to a change in an optical constant. recoding media.
【請求項10】 少なくとも再生波長が550nm以下
である請求項1、2、3、4、5、6、7、8または9
記載の光情報記録媒体。
10. The method according to claim 1, wherein the reproduction wavelength is at least 550 nm or less.
The optical information recording medium according to the above.
【請求項11】 記録層の主成分が色素化合物であるこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9または10記載の光情報記録媒体。
11. The recording layer according to claim 1, wherein the main component is a dye compound.
11. The optical information recording medium according to 8, 9, or 10.
【請求項12】 色素化合物がフォトクロミック性を示
す色素化合物であることを特徴とする請求項11記載の
光情報記録媒体。
12. The optical information recording medium according to claim 11, wherein the dye compound is a dye compound exhibiting photochromic properties.
【請求項13】 色素化合物が蒸着方法により形成され
ていることを特徴とする請求項11または12記載の光
情報記録媒体。
13. The optical information recording medium according to claim 11, wherein the dye compound is formed by a vapor deposition method.
【請求項14】 記録層の主成分がサーモクロミック性
を示す化合物であることを特徴とする請求項1、2、
3、4、5、6、7、8、9または10記載の光情報記
録媒体。
14. The method according to claim 1, wherein a main component of the recording layer is a compound exhibiting thermochromic properties.
The optical information recording medium according to 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10.
【請求項15】 サーモクロミック性を示す化合物が蒸
着方法により形成されたものであることを特徴とする請
求項14記載の光情報記録媒体。
15. The optical information recording medium according to claim 14, wherein the compound exhibiting thermochromic properties is formed by a vapor deposition method.
【請求項16】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8、9、10、11、12、13、14または15記載
の光情報記録媒体に、レーザ光を照射することにより記
録層の複素屈折率の実部、複素屈折率の虚部あるいは膜
厚の光学定数、または前記3つの光学定数のうちの2以
上の光学定数の変化を生じさせることを特徴とする光情
報記録媒体の記録方法。
16. The method of claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7,
By irradiating the optical information recording medium described in 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14 or 15 with a laser beam, the real part of the complex refractive index of the recording layer, the imaginary part of the complex refractive index, or the film thickness of the film thickness is reduced. A method of recording an optical information recording medium, wherein a change in an optical constant or an optical constant of two or more of the three optical constants is caused.
【請求項17】 光学定数変化により記録時の反射率を
未記録時の反射率より低下させることを特徴とする請求
項16記載の光情報記録媒体の記録方法。
17. The recording method for an optical information recording medium according to claim 16, wherein the reflectance at the time of recording is made lower than the reflectance at the time of non-recording by changing the optical constant.
【請求項18】 再生波長が550nm以下であること
を特徴とする請求項16または17記載の光情報記録媒
体の記録方法。
18. The recording method for an optical information recording medium according to claim 16, wherein a reproduction wavelength is 550 nm or less.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101146674B1 (en) 2010-08-05 2012-05-23 삼성에스디아이 주식회사 Window with Variable Light Transmittance

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