JPH11167745A - Optical information recording medium - Google Patents
Optical information recording mediumInfo
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- JPH11167745A JPH11167745A JP9347174A JP34717497A JPH11167745A JP H11167745 A JPH11167745 A JP H11167745A JP 9347174 A JP9347174 A JP 9347174A JP 34717497 A JP34717497 A JP 34717497A JP H11167745 A JPH11167745 A JP H11167745A
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- refractive index
- layer
- recording
- index layer
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 短波長でも高反射率を示し、高記録・再生コ
ントラストを得る光情報記録媒体と記録再生方法。
【解決手段】 光情報記録媒体が基板/(高屈折率層/
低屈折率層)m/記録層/(低屈折率層/高屈折率層)
p(但しm、pは積層繰り返し数)という層構成からな
り、レーザ光の照射により記録層材料の複素屈折率を変
化し情報の記録を行い、かつ下記の要件を満足する光情
報記録媒体。
(1)mは1以上、(2)高屈折率層、低屈折率層の膜
厚が、何れも再生波長において、nidi=λ0/4(ni
は高屈折率層、または低屈折率層材料の屈折率、diは
膜厚、λ0は再生波長)、(3)記録層の膜厚が再生波
長において、nSdS=(λ0/2)t(nSは記録層材料
の屈折率、dSは記録層材料の膜厚、λ0は再生波長、t
は1以上の整数)、(4)記録層材料の複素屈折率の実
部が隣接の低屈折率層材料の複素屈折率の実部より大き
い、(5)pは0または1以上。(57) [Summary] (with correction) [PROBLEMS] An optical information recording medium and a recording / reproducing method which exhibit high reflectivity even at a short wavelength and obtain high recording / reproducing contrast. SOLUTION: The optical information recording medium is a substrate / (high refractive index layer /
(Low refractive index layer) m / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer)
An optical information recording medium having a layer structure of p (where m and p are the number of laminations), recording information by changing the complex refractive index of a recording layer material by irradiating a laser beam, and satisfying the following requirements. (1) m is 1 or more, (2) high refractive index layer, the film thickness of the low refractive index layer is, in both reproduction wavelength, n i d i = λ 0 /4 (n i
The high refractive index layer or low refractive index layer material having a refractive index of, d i is the thickness, lambda 0 is reproduction wavelength), (3) the thickness of the recording layer is reproduced wavelength, n S d S = (λ 0 / 2) t (n S is the refractive index of the recording layer material, d S is the film thickness of the recording layer material, λ 0 is the reproduction wavelength, t
(4) The real part of the complex refractive index of the recording layer material is larger than the real part of the complex refractive index of the adjacent low refractive index layer material. (5) p is 0 or 1 or more.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光情報記録媒体、
およびその記録方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical information recording medium,
And its recording method.
【0002】[0002]
【従来技術】近年CD−Rが市場に登場し、その有用性
が認められつつある。CD−RはCDあるいはCD−R
OMと互換性があり、一般のCDプレーヤーやCD−R
OMドライブで再生が可能で、かつ一回だけ記録可能な
ディスクのことである。CD−Rは、CDプレーヤーや
CD−ROMドライブで再生が可能とするために、金反
射膜をつけてCDやCD−ROMと同等の高反射率を達
成させており、基板上に有機色素からなる記録層が塗布
され、次いで金の反射膜があり、その上に紫外線硬化型
樹脂である保護層が形成されて構成されているものであ
る。2. Description of the Related Art In recent years, CD-Rs have appeared on the market, and their usefulness is being recognized. CD-R is CD or CD-R
Compatible with OM, general CD player and CD-R
A disc that can be played back by the OM drive and can be recorded only once. CD-R achieves the same high reflectivity as CD and CD-ROM by applying a gold reflective film to enable reproduction by CD player and CD-ROM drive. A recording layer is applied, and then a gold reflective film is provided, on which a protective layer made of an ultraviolet curable resin is formed.
【0003】また、記録レーザ光によって記録可能とす
るために波長整合性を最適化されたシアニン系色素やフ
タロシアニン系色素、アゾ金属錯体等が記録層として用
いられ、記録前後の記録層材料の光学定数変化や基板の
変形等により記録コントラストが得られている。現在C
D−ROMからDVD−ROMへの移行に伴い、追記型
光情報記録媒体もCD−RからDVD−Rへと研究が進
んでいる。このCD系メディアからDVD系メディアへ
の移行によって、記録再生波長が780(nm)前後か
ら635〜650(nm)へと変わるが、これに対応す
るために記録層材料が変更されるが、基本的層構成自体
はCD−RとDVD−Rは同一である。Further, a cyanine-based dye, a phthalocyanine-based dye, an azo metal complex or the like whose wavelength matching property is optimized to enable recording by a recording laser beam is used as a recording layer. The recording contrast is obtained by a change in the constant or deformation of the substrate. Currently C
With the shift from D-ROMs to DVD-ROMs, research on write-once optical information recording media has been advanced from CD-Rs to DVD-Rs. The recording / reproducing wavelength changes from around 780 (nm) to 635 to 650 (nm) due to the shift from the CD-based media to the DVD-based media, and the recording layer material is changed to cope with this. The CD-R and the DVD-R have the same physical layer configuration.
【0004】青色レーザ対応の特許としては、例えば特
開平7−304256(ポルフィリン誘導体と配位能を
持つ分子構造を側鎖に有する高分子よりなる光記録媒
体)、特開平7−304257(ポルフィリン誘導体と
配位能を持つ分子化合物及び高分子よりなる光記録媒
体)が挙げられる。Patents corresponding to a blue laser include, for example, JP-A-7-304256 (optical recording medium comprising a porphyrin derivative and a polymer having a molecular structure having a coordinating ability in a side chain), and JP-A-7-304257 (porphyrin derivative). And an optical recording medium comprising a molecular compound having a coordination ability and a polymer.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】反射型光情報記録媒体
としては、その反射率は任意に設定することができる
が、高コントラストを得るためには、未記録時の反射率
が高いことが好ましい。また、読みとり専用のROM型
光情報記録媒体(CDあるいはCD−ROM等)の場合
は、できるだけドライブのコスト低減を図るためにも光
情報記録媒体の高反射率は必要とされる。また、有機系
材料の特徴を活かすには、高反射率化を図ることが最良
である。更に、追記型光情報記録媒体や書き換え型光情
報記録媒体の場合は常にROM型光情報記録媒体との互
換性が重要となるため、追記型光情報記録媒体や書き換
え型光情報記録媒体においても高反射率化は重要であ
る。The reflectivity of a reflection type optical information recording medium can be set arbitrarily. However, in order to obtain a high contrast, it is preferable that the reflectivity before recording is high. . In the case of a read-only ROM-type optical information recording medium (CD or CD-ROM, etc.), a high reflectance of the optical information recording medium is required in order to reduce drive costs as much as possible. In order to take advantage of the characteristics of the organic material, it is best to increase the reflectance. Further, in the case of a write-once optical information recording medium or a rewritable optical information recording medium, compatibility with a ROM-type optical information recording medium is always important. High reflectivity is important.
【0006】しかし、従来のROM型光情報記録媒体、
及びROM型光情報記録媒体と互換性のある光情報記録
媒体は、基板の上に記録層、反射層を主構成としてお
り、この反射層材料として金属が用いられているため、
例えばCD−R等で用いられている金では波長分散性が
600nm以下程度から顕著になり、大幅な反射率低下
が起きてしまう(図1)。例えば金では550nmで反
射率が約80%となる。したがって、金反射層を用いた
場合、基板/記録層/金反射層という構成においては、
550nm以下の波長では50%程度の反射率も困難と
なり、高反射率とは言えなくなる。金に変えてアルミニ
ウムや銀を用いることで、金よりも短波長でも反射率は
改善されるが、傾向は同じであり、短波長での低反射率
化は免れない。However, conventional ROM-type optical information recording media,
And, the optical information recording medium compatible with the ROM type optical information recording medium has a recording layer and a reflective layer on a substrate as a main component, and since a metal is used as a material of the reflective layer,
For example, in the case of gold used in a CD-R or the like, the wavelength dispersibility becomes remarkable from about 600 nm or less, and a significant decrease in reflectance occurs (FIG. 1). For example, gold has a reflectance of about 80% at 550 nm. Therefore, when a gold reflective layer is used, in the configuration of substrate / recording layer / gold reflective layer,
At a wavelength of 550 nm or less, a reflectance of about 50% becomes difficult, and it cannot be said that the reflectance is high. By using aluminum or silver instead of gold, the reflectance can be improved even at a shorter wavelength than gold, but the tendency is the same, and lower reflectance at a shorter wavelength is unavoidable.
【0007】また、金属を用いる場合は、金属の腐食
性、記録材料との化学的・物理的反応等の安定性等が問
題となる場合も多い。したがって、再生系の回路や信号
処理技術により低反射率化、低記録・再生コントラスト
が許容される場合であっても、記録・再生波長がどこに
設定されようと、高反射率で高記録・再生コントラスト
化が再生側からすれば常に要求される。また、光情報記
録媒体の高密度化は、主としてレーザ光源の短波長化に
より達成されるため、短波長領域での高反射率型光情報
記録媒体という要求が高まることは容易に想像される.
そこで本発明は、短波長においても高反射率を示し、か
つ高記録・再生コントラストを得ることができる光情報
記録媒体とその記録再生方法を提供することを目的とす
る。In the case where a metal is used, the corrosiveness of the metal and the stability of a chemical / physical reaction with the recording material are often problems. Therefore, even if a low reflectance and a low recording / reproduction contrast are allowed by the reproduction system circuit or the signal processing technology, no matter where the recording / reproduction wavelength is set, high reflection / high recording / reproduction is possible. Contrast is always required from the reproduction side. Further, since the increase in the density of the optical information recording medium is mainly achieved by shortening the wavelength of the laser light source, it is easily imagined that the demand for a high reflectance type optical information recording medium in a short wavelength region will increase.
Therefore, an object of the present invention is to provide an optical information recording medium which exhibits a high reflectance even at a short wavelength and can obtain a high recording / reproducing contrast, and a recording / reproducing method thereof.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは光情報記録
媒体として、短波長はもちろん、任意の波長で高反射率
が得られ、しかも記録も行える光情報記録媒体を鋭意研
究した結果、記録層を上述のような高反射多層膜構造体
でサンドイッチさせた構造の光情報記録媒体が、高反射
率、記録コントラストの面で非常に優れ、また実現が容
易であることを見いだし、本発明に到達することができ
た。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies on an optical information recording medium which can obtain a high reflectance at an arbitrary wavelength as well as a short wavelength and can perform recording, as an optical information recording medium. The present inventors have found that an optical information recording medium having a structure in which the recording layer is sandwiched by the high-reflection multilayer film structure as described above is very excellent in terms of high reflectivity and recording contrast and is easy to realize. Could be reached.
【0009】本発明の光情報記録媒体の大きな特徴は、
(1)従来高反射率化のために必要であった金属反射層
を用いないこと、(2)誘電体積層コーティングによる
高反射率化手法の応用として、狭帯域フィルタ構造を利
用したこと、(3)1部誘電体層に変えて記録層を用い
たこと、である。そして、本発明は、前記特徴とする構
成を採用することにより、(1)従来の金属反射層を使
用する場合には高反射率が得られない任意の波長におい
ても、高反射率型光情報記録媒体が提供され、(2)か
つ、記録によって記録層の光学定数を変化させることで
非常に高いコントラストの情報が記録・再生可能とな
る。The major feature of the optical information recording medium of the present invention is that
(1) The use of a metal reflective layer, which was conventionally required for high reflectance, (2) The use of a narrow band filter structure as an application of the high reflectance technique using a dielectric laminate coating, 3) The recording layer was used instead of the one-part dielectric layer. According to the present invention, by adopting the above-described configuration, (1) high reflectance type optical information can be obtained even at an arbitrary wavelength where high reflectance cannot be obtained when a conventional metal reflective layer is used. A recording medium is provided, and (2) information of very high contrast can be recorded / reproduced by changing the optical constant of the recording layer by recording.
【0010】また、本発明では最も適した記録層として
色素が用いられるが、この場合には色素の吸収に基づく
異常分散を用いることで、記録層を高屈折率層として
も、または低屈折率層としても用いることができる。す
なわち色素の複素屈折率の波長依存性は図2のようにな
り、吸収領域の近傍で大きく複素屈折率の実部が変化
し、吸収波長より長波長側では高い複素屈折率の実部を
有し、逆に吸収波長より短波長側では低い複素屈折率の
実部を有する。しかもこれらの高複素屈折率の実部、ま
た低複素屈折率の実部を示す波長領域では吸収係数(複
素屈折率の虚部)が小さいため、高反射率層と低反射率
層の積層体とした場合、高反射率化が十分図れる。ま
た、図2からわかるように複素屈折率の実部が高い波長
領域と低い波長領域は吸収帯のピークを中心として非常
に接近している。そのため、記録によって記録層の吸収
スペクトルが変化すれば、それにともなって複素屈折率
が大きく変化するため、大きな記録・再生コントラスト
がとれる。In the present invention, a dye is used as the most suitable recording layer. In this case, by using anomalous dispersion based on the absorption of the dye, the recording layer can be used as a high refractive index layer or a low refractive index layer. It can also be used as a layer. That is, the wavelength dependence of the complex refractive index of the dye is as shown in FIG. 2, and the real part of the complex refractive index changes largely near the absorption region, and has a high real part of the complex refractive index on the longer wavelength side than the absorption wavelength. On the other hand, on the shorter wavelength side than the absorption wavelength, it has a low complex refractive index real part. Moreover, since the absorption coefficient (imaginary part of the complex refractive index) is small in the wavelength region showing the real part of the high complex refractive index and the real part of the low complex refractive index, a laminate of the high-reflectance layer and the low-reflectance layer is small. In this case, the reflectance can be sufficiently increased. As can be seen from FIG. 2, the wavelength region where the real part of the complex refractive index is high and the wavelength region where the real part is low are very close to each other with the absorption band peak at the center. Therefore, if the absorption spectrum of the recording layer changes due to recording, the complex refractive index greatly changes accordingly, so that a large recording / reproducing contrast can be obtained.
【0011】また、従来から知られているように多層膜
の効果は、多層膜とすることで、単層膜の特性を改善し
たり、単層膜にはない特性を待たせることができるもの
である。例えば2層、3層構成の反射防止膜によって可
視域全域にわたって単層膜よりも反射率を小さくできた
り、多層反射増加膜によって特定の波長域で99%を越
える反射率を得ることができる。この多層膜の効果は電
磁場の境界条件から導いた特性マトリックスにより容易
に解析できる。特性マトリックスによる解析は、例えば
「応用光学II 鶴田匡夫著 培風館」p142等に詳細
に記載されている。例えば空気層/(高屈折率層/低屈
折率層)m/基板の構成による多層膜において、高屈折
率層材料をTiO2(550nmにおける屈折率n1=
2.40)、低屈折率層材料をMgF2(550nmに
おける屈折率n2=1.38)、基板をBSC7(55
0nmでの屈折率nS=1.52)、空気の屈折率をn0
=1.0とすると、その特性マトリックスは以下のよう
にかける。但し、N=0、1、2、3・・・・・であ
る。Further, as is conventionally known, the effect of a multi-layer film is to improve the characteristics of a single-layer film by using a multi-layer film, or to wait for characteristics that do not exist in a single-layer film. It is. For example, a two-layer or three-layer antireflection film can reduce the reflectance over the entire visible region as compared with a single-layer film, or a multilayer reflection enhancement film can provide a reflectance exceeding 99% in a specific wavelength region. The effect of this multilayer can be easily analyzed by a characteristic matrix derived from the boundary conditions of the electromagnetic field. The analysis using the characteristic matrix is described in detail, for example, in "Applied Optics II, Masao Tsuruta, Baifukan," p142. For example, in a multilayer film having the configuration of air layer / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / substrate, the material of the high refractive index layer is TiO 2 (refractive index n 1 at 550 nm = n 1 =
2.40), the material of the low refractive index layer was MgF 2 (refractive index n 2 at 550 nm = 1.38), and the substrate was BSC7 (55
The refractive index at 0 nm n s = 1.52) and the refractive index of air to n 0
If = 1.0, the characteristic matrix is applied as follows. Here, N = 0, 1, 2, 3,....
【数1】 したがってエネルギー反射率Rm+1は、(Equation 1) Therefore, the energy reflectance R m + 1 is
【数2】 となる。これを実際に計算すると図3(N=4、中心波
長λ0=550nm、各材料の波長分散性は考慮せず)
のようになる。この結果を見てもわかるように、多層膜
によって、任意の波長で膜厚を適当に選ぶことで高反射
率を得ることができる。(Equation 2) Becomes When this is actually calculated, FIG. 3 (N = 4, center wavelength λ 0 = 550 nm, wavelength dispersion of each material is not considered)
become that way. As can be seen from these results, high reflectivity can be obtained by appropriately selecting the film thickness at an arbitrary wavelength by using a multilayer film.
【0012】通常、高反射率で高コントラストを有する
光情報記録媒体の場合、記録層材料に要求される複素屈
折率の許容範囲は非常に狭く、未記録時には高反射率が
要求される時には、一般に未記録時の複素屈折率の虚部
が小さくなければならない。これはCD−RやDVD−
Rなど記録層が単層である場合には、回避できない問題
で、高反射率、ひいては高コントラストを達成するため
に、記録層材料の複素屈折率実部が大きく、複素屈折率
虚部が小さいという条件が課せられる。それによって、
記録層材料の選択の幅が非常にせばめられているのであ
る。Usually, in the case of an optical information recording medium having a high reflectance and a high contrast, the allowable range of the complex refractive index required for the recording layer material is very narrow. In general, the imaginary part of the complex refractive index before recording must be small. This is a CD-R or DVD-
When the recording layer is a single layer such as R, it is an unavoidable problem. To achieve high reflectivity and thus high contrast, the real part of the complex refractive index of the recording layer material is large and the imaginary part of the complex refractive index is small. Condition is imposed. Thereby,
The range of choice of the recording layer material is extremely limited.
【0013】一方、本発明の光情報記録媒体では、多層
膜構造であるため記録層材料の複素屈折率虚部が大きく
ても高反射率化が可能である。更に、膜厚を最適化され
た記録層を高反射型多層膜でサンドイッチさせた構造を
とっているため、非常に狭い波長域のみで反射率が激減
し、その他の波長域では高反射率が保たれた反射率スペ
クトルを有するようになるので、記録層材料の複素屈折
率が少し変化しただけでも、未記録状態の反射率スペク
トルがシフトし、非常に大きな記録コントラストを生じ
ることができる。On the other hand, since the optical information recording medium of the present invention has a multilayer structure, it is possible to increase the reflectance even if the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer material is large. Furthermore, because the recording layer optimized for film thickness is sandwiched by a high-reflection multilayer film, the reflectivity decreases sharply only in a very narrow wavelength range, and the high reflectivity in other wavelength ranges. Since the reflectance spectrum is maintained, even if the complex refractive index of the recording layer material is slightly changed, the reflectance spectrum in an unrecorded state shifts, and a very large recording contrast can be generated.
【0014】以下、本発明の光情報記録媒体で使用でき
る記録層材料について、詳しく述べる。本発明の記録層
としては例えば色素やフォトクロミック性を示す色素、
サーモクロミック性を示す化合物などが適している。フ
ォトクロミック性を示す色素の場合は、例えば光によっ
て開環、閉環反応を起こし、無色体と着色体間の変化を
起こすため、非常に大きなスペクトル変化、すなわち非
常に大きな光学定数の変化が起こるため、未記録時の高
反射率化とともに、大きな記録コントラストが得られ
る。フォトクロミック性を示す色素としては、例えばフ
ルギド類、ジアリールエテン類、アゾベンゼン類、スピ
ロビラン類、スチルベン類等があげられる。Hereinafter, the recording layer material that can be used in the optical information recording medium of the present invention will be described in detail. As the recording layer of the present invention, for example, a dye or a dye exhibiting photochromic properties,
Compounds exhibiting thermochromic properties are suitable. In the case of a dye exhibiting photochromic properties, for example, light causes a ring-opening and ring-closing reaction to cause a change between a colorless body and a colored body, so that a very large spectral change, that is, a very large change in an optical constant occurs. A large recording contrast can be obtained together with an increase in the reflectance when recording is not performed. Examples of the dye exhibiting photochromic properties include fulgides, diarylethenes, azobenzenes, spirobilanes, and stilbenes.
【0015】サーモクロミック性を示す化合物の場合
は、例えば熱によって分子集合状態の変化や構造変化を
起こすため、非常に大きなスペクトル変化、すなわち非
常に大きな光学定数の変化が起こるため、未記録時の高
反射率化とともに、大きな記録コントラストが得られ
る。サーモクロミズム性を示す化合物としては、例えば
分子の骨格の変化によるサーモクロミズム性を示す化合
物として、ビアンスロン系、ポリチオフェン誘導体、ス
ピロピラン及びメロシアニン、7貞環をもつスピロオキ
サジン、キノンとb−ヒドロキシ第二アミンとの反応生
成物、アザメチン色素、ジアザアントラセノファン等が
あげられる。また、互変異性化によるサーモクロミズム
性を示すものとして、N−サリチリデンベンジルアミン
などのアゾメチン類のケト・エノール互変異性化による
もの、酸塩基反応によりサーモクロミズム性を示すも
の、あるいは錯体形成によるサーモクロミズム性を示す
もの、分子集合状態の構造変化によるサーモクロミズム
を示すものとして、コレステリック液晶、ポリアセチレ
ン等があげられる。また、シアニン系(ポリメチン系)
色素、フタロシアニンやナフタロシニン等のテトラアザ
ポルフィリン系色素、ポルフィリン系色素等の色素も、
300〜900nmの範囲に大きな吸収を有しているの
で、安定性や生産性、波長整合性の面から、本発明に最
も適した材料の1つである。In the case of a compound exhibiting thermochromic properties, for example, a change in the state of molecular assembly or a change in structure due to heat causes a very large spectral change, that is, a very large change in the optical constant. Along with increasing the reflectance, a large recording contrast can be obtained. As the compound exhibiting thermochromism, for example, as a compound exhibiting thermochromism due to a change in molecular skeleton, bianthrone, polythiophene derivatives, spiropyran and merocyanine, spirooxazine having a 7-ring, quinone and b-hydroxy secondary amine And azamethine dyes, diazaanthracenophane and the like. Further, as those exhibiting thermochromism by tautomerization, those exhibiting keto-enol tautomerization of azomethines such as N-salicylidenebenzylamine, those exhibiting thermochromism by acid-base reaction, or complexes Cholesteric liquid crystals, polyacetylene, and the like can be given as those exhibiting thermochromism due to formation and those exhibiting thermochromism due to structural change in the state of molecular assembly. Also, cyanine (polymethine)
Dyes, tetraazaporphyrin dyes such as phthalocyanine and naphthalosinine, dyes such as porphyrin dyes,
Since it has a large absorption in the range of 300 to 900 nm, it is one of the most suitable materials for the present invention in terms of stability, productivity, and wavelength matching.
【0016】複素屈折率の実部nと虚部kはクラマース
・クローニツヒの関係で結ばれている(例えば“第3・
光の鉛筆”p243 新技術コミュニケーションズ)。The real part n and the imaginary part k of the complex refractive index are connected in a Kramers-Kronig relation (for example, “3.
Light pencil “p243 New Technology Communications”.
【数3】 (Equation 3)
【0017】すなわち上式から明らかなように、吸収ピ
ーク波長の長波長側においてnは大きく、逆に吸収ピー
ク波長の短波長側でnは小さい。また、このクラマース
・クローニッヒの関係から、吸収曲線がシャープで吸収
が強いほど、吸収ピーク近傍の長波長側ではnは大き
く、短波長側ではnは小さくなり、色素を高屈折率層と
しても低屈折率層としても利用することができる。一
方、吸収曲線が比較的ブロードな場合は、吸収ピーク近
傍でのnの変化が比較的小さいため、高屈折率層と低屈
折率層の両方の特性を持たないことになり、本発明の色
素としては好ましくない場合がある.ただし、高屈折率
層、あるは低屈折率層いづれかの作用を持たせる場合
は、吸収曲線が比較的ブロードな色素でも十分使用可能
であり、隣接する層との屈折率差が大きければよいの
で、本発明では記録層として色素化合物やフォトクロミ
ック性を示す色素化合物、あるはサーモクロミック性を
示す化合物に限定されるものでなく、記録・再生波長に
おいて、光学定数変化が生しるものであればかまわな
い。したがって、本発明では複素屈折率の変化のみでな
く、膜厚が記録によって変化するような材料であっても
よい。このような膜厚が変化する材料としては、一般的
な熱可塑性樹脂や熱硬化型樹脂、あるいはポリノルボル
ネン、ポリイソプレン、スチレン、ブタジェン共重合
体、ポリウレタン等の形状記憶樹脂を主体とするものが
あげられる。That is, as is apparent from the above equation, n is large on the long wavelength side of the absorption peak wavelength, and conversely, n is small on the short wavelength side of the absorption peak wavelength. Also, from the Kramers-Kronig relationship, the sharper the absorption curve and the stronger the absorption, the larger the n on the long wavelength side near the absorption peak, the smaller the n on the short wavelength side, and the lower the dye as a high refractive index layer. It can also be used as a refractive index layer. On the other hand, when the absorption curve is relatively broad, the change in n near the absorption peak is relatively small, so that the dye does not have characteristics of both the high refractive index layer and the low refractive index layer. May not be desirable. However, when a high-refractive-index layer or a low-refractive-index layer is used, any dye having a relatively broad absorption curve can be used satisfactorily, so long as the difference in refractive index between adjacent layers is large. However, in the present invention, the recording layer is not limited to a dye compound or a dye compound exhibiting photochromic properties, or a compound exhibiting thermochromic properties, as long as the optical constant changes at the recording / reproducing wavelength. I don't care. Therefore, in the present invention, not only a change in the complex refractive index but also a material whose film thickness changes by recording may be used. Examples of such a material whose thickness changes include those mainly made of a general thermoplastic resin or thermosetting resin, or a shape memory resin such as polynorbornene, polyisoprene, styrene, butadiene copolymer, or polyurethane. can give.
【0018】本発明では色素層が蒸着によって形成され
ることが好ましい。これは低屈折率層や高層折率層が蒸
着やスパッタ等のドライプロセスで形成されるため、色
素等の記録層材料が蒸着できれば生産性の向上が図れる
と同時に、スピンコーティング法よりも膜厚の制御が容
易になるからである。すなわち、本発明での干渉作用を
利用した多層膜構造では、各層の膜厚が非常に重要であ
るが、従来用いられているスピンコーティング法では色
素等の記録層材料を溶かす溶媒の種類や溶媒の組み合わ
せ、溶媒のロット間差、回転数や回転バターン、作業環
境の温度、湿度等によって大きく膜厚が変化してしまっ
たり、ディスク構造での内周と外周間での膜厚ばらつき
も大きく変化してしまうため、膜厚の制御が容易でな
い。他方蒸着により色素を形成させる場合は、膜厚管理
が非常に簡単になる。蒸着によって形成可能な色素は、
例えば「Reversible lasermarki
ng process in anthraquino
ne dyefilms,A.H.Sporer,AP
PLIED OPTICS/Vo1.26,No.7/
1April 1987 p1240」に記載されてい
るアントラキノン系色素などが用いることができる。但
し、本発明では、色素等の記録層材料はすべての構造の
もので蒸着できるのではないため、状況に応してスピン
コーティング法を利用することも可能である。In the present invention, the dye layer is preferably formed by vapor deposition. This is because the low refractive index layer and the high refractive index layer are formed by a dry process such as vapor deposition or sputtering. Is easy to control. That is, in the multilayer film structure utilizing the interference effect in the present invention, the thickness of each layer is very important, but in the conventionally used spin coating method, the type and solvent of the solvent that dissolves the recording layer material such as a dye are conventionally used. Film thickness, the film thickness varies greatly between the inner and outer circumferences of the disc structure, and the film thickness varies greatly depending on the combination of the solvent, the difference between the lots of the solvent, the number of rotations and the rotation pattern, the temperature and humidity of the working environment, etc. Therefore, it is not easy to control the film thickness. On the other hand, when a dye is formed by vapor deposition, the film thickness control becomes very simple. Dyes that can be formed by vapor deposition
For example, "Reversible lasermarki
ng process in anthraquino
ne dyfilms, A .; H. Sporer, AP
PLIED OPTICS / Vo1.26, No. 7 /
1April 1987 p1240 "and the like. However, in the present invention, the recording layer material such as a coloring matter cannot be deposited in all structures, and accordingly, a spin coating method can be used depending on the situation.
【0019】本発明で使用できる高屈折率層材料として
は、ZrO2(2.1)、TiO2(2.40)、ZnS
(2.32)、PbCl2等を用いることができる。低
屈折率材料としてはMgF2(1.38)、CeF
3(1.63)、A12O3(1.62)、SiO2(1.
46)、Na3AlF6(1.35)などが用いることが
できる。The high refractive index layer materials usable in the present invention include ZrO 2 (2.1), TiO 2 (2.40), ZnS
(2.32), PbCl 2 or the like can be used. MgF 2 (1.38), CeF
3 (1.63), A1 2 O 3 (1.62), SiO 2 (1.
46), Na 3 AlF 6 (1.35) and the like can be used.
【0020】《記録層》色素としては上述例に加えて、
例えばポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシ
アニン系、スクアリリウム系、コロコニウム系、ピリリ
ウム系、ナフトキノン系、アントラキノン(インダンス
レン)系、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アズ
レン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、ト
リフェノチアジン系染料、および金属錯体化合物などが
挙げられ、上記の染料を単独で用いてもよいし、2種以
上の組合わせにしてもよい。<< Recording Layer >> As the dye, in addition to the above examples,
For example, polymethine dyes, naphthalocyanine, phthalocyanine, squarylium, coroconium, pyrylium, naphthoquinone, anthraquinone (indanthrene), xanthene, triphenylmethane, azulene, tetrahydrocholine, phenanthrene, triamine Examples include phenothiazine dyes and metal complex compounds, and the above dyes may be used alone or in combination of two or more.
【0021】また上記染料中に金属、金属化合物、例え
ばIn、Te、Bi、Al、Be、TeO2、SnO、
As、Cdなどを分散混合、あるいは積層の形態で用い
ることもできる。さらに、上記染料中に高分子材料、例
えばアイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹
脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の材
料、もしくはシランカップリング剤などを分散混合して
用いてもよいし、あるいは特性改良の目的で、安定剤
(例えば遷移金属錯体)、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電
防止剤、界面活性剤、可塑剤などと一緒に用いることが
できる。Metals and metal compounds such as In, Te, Bi, Al, Be, TeO 2 , SnO,
As, Cd and the like can be used in the form of dispersion mixing or lamination. Further, various materials such as a polymer material, for example, an ionomer resin, a polyamide resin, a vinyl resin, a natural polymer, silicone, and a liquid rubber, or a silane coupling agent may be dispersed and used in the dye. It can be used together with a stabilizer (for example, a transition metal complex), a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, a plasticizer, and the like for the purpose of improving the properties.
【0022】塗布法を用いる場合には、上記染料などを
有機溶媒に溶解させて、スプレー、ローラーコーティン
グ、ディッピングおよび、スピンコーティングなどの慣
用のコーティング法、あるいは蒸着法によって行われる
が、本発明の性格上蒸着法が最も好ましい。有機溶媒と
しては、一般にメタノール、エタノール、イソプロパノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどの
アミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド
類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエー
テル類、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、トリクロロエタンなどの脂肪族ハロゲン化炭素類、
あるいは、ベンゼン、キシレン、モノクロロヘンゼン、
ジクロロベンゼンなどの芳香族類、メトキシエタノー
ル、エトキシエタノールなどのセルソルブ類、ヘキサ
ン、ペンタン、シクロへキサン、メチルシクロヘキサン
などの炭化水素類などを用いることができる。記録層の
膜厚は、記録・再生波長をλ0、記録・再生波長での複
素屈折率の実部をnとすると、ほぼnd=(λ0/2)
×t(tは1以上の整数)を満足する膜厚近傍である必
要がある。When the coating method is used, the above-mentioned dyes and the like are dissolved in an organic solvent, and the coating is performed by a conventional coating method such as spraying, roller coating, dipping, and spin coating, or by a vapor deposition method. The vapor deposition method is most preferable due to its characteristics. Examples of the organic solvent generally include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; and sulfoxides such as dimethyl sulfoxide. , Tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, carbon tetrachloride, aliphatic halogenated carbons such as trichloroethane,
Or benzene, xylene, monochlorobenzene,
Aromatic substances such as dichlorobenzene, cellsolves such as methoxyethanol and ethoxyethanol, and hydrocarbons such as hexane, pentane, cyclohexane, and methylcyclohexane can be used. The film thickness of the recording layer, the recording-reproducing wavelength lambda 0, the real part of the complex refractive index of the recording-reproducing wavelength is n, substantially nd = (λ 0/2)
It is necessary to be near the film thickness satisfying xt (t is an integer of 1 or more).
【0023】《基板》基板の必要特性としては、基板側
より記録・再生を行う場合のみ使用レーザ光に対して透
明でなければならず、記録層側から記録・再生を行う場
合は透明である必要はない。基板材料としては例えば、
ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーホ
ネート樹脂、ポリオレフイン掛脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック、あるいは
ガラス、セラミック、金属などを用いることができる。
なお、基板の表面にトラッキング用の案内溝や案内ピッ
ト、さらにアドレス信号などのプレフォーマットが形成
されていてもよい。<< Substrate >> As a necessary characteristic of the substrate, the substrate must be transparent to the laser beam used only when recording / reproducing is performed from the substrate side, and is transparent when recording / reproducing is performed from the recording layer side. No need. As the substrate material, for example,
Plastics such as polyester, acrylic resin, polyamide, polycarbonate resin, polyolefin resin, phenol resin, epoxy resin, and polyimide, glass, ceramic, and metal can be used.
Note that a guide groove or guide pit for tracking and a preformat such as an address signal may be formed on the surface of the substrate.
【0024】《中間層》下引き層等を含め基板、記録
層、保護層以外に設けられた層をここでは中間層と呼ぶ
ことにする。この中間層は(a)接着性の向上、(b)
水、またはガスなどのバリアー、(c)記録層の保存安
定性の向上、(d)反射率の向上、(e)溶剤からの基
板や記録層の保護、(f)案内溝・案内ピット・プレフ
ォーマット等の形成などを目的として使用される。前記
(a)の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂、ポリアミド材脂、ビニル系掛脂、天然樹脂、天
然高分子、シリコーン、液状ゴムなどの種々の高分子物
質、およびシランカップリング剤などを用いることがで
き、(b)および(c)の目的に対しては、上記高分子
材料以外に無機化合物、例えばSiO2、MgF2、Si
O、TiO2、ZnO、TiN、SiNなどを用いるこ
とができる。また(d)の目的に対しては金属光沢を有
する有機薄膜、例えばメチン染料、キサンテン系染料等
を用いることができ、(e)および(f)の目的に対し
ては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用
いることができる。下引き層の膜厚は、記録・再生波長
を入0、記録・再生波長での複素屈折率の実部をnとす
ると、nd=入0/4を満足する膜厚である必要があ
る。<< Intermediate Layer >> Layers provided other than the substrate, the recording layer, and the protective layer, including the undercoat layer and the like, will be referred to herein as intermediate layers. This intermediate layer has (a) improved adhesion and (b)
Water or gas barrier, (c) improvement of storage stability of recording layer, (d) improvement of reflectance, (e) protection of substrate and recording layer from solvent, (f) guide groove, guide pit, It is used for the purpose of forming a preformat or the like. For the purpose of the above (a), various polymer materials such as polymer materials, for example, ionomer resin, polyamide resin, vinyl resin, natural resin, natural polymer, silicone, liquid rubber, and silane coupling For the purposes of (b) and (c), an inorganic compound other than the above-mentioned polymer material, for example, SiO 2 , MgF 2 , Si
O, TiO 2 , ZnO, TiN, SiN and the like can be used. For the purpose (d), an organic thin film having a metallic luster such as a methine dye or a xanthene dye can be used. For the purposes (e) and (f), an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used. A resin, a thermoplastic resin, or the like can be used. The thickness of the undercoat layer, enter the recording-reproducing wavelength 0, when the real part of the complex refractive index of the recording-reproducing wavelength is n, it is necessary that a film thickness satisfying the nd = ON 0/4.
【0025】《保護層・基板表面ハードコート層》保護
層、または基板表面ハードコート層は、(a)記録層
(反射吸収層)を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、
(b)記録層(反射吸収層)の保存安定性の向上、
(c)反射率の向上等を目的として使用される。これら
の目的に対しては、前記下引き層に示した材料を用いる
ことができる。また無機材料として、SiO、SiO2
なども用いることができ、また、有機材料として、ポリ
メチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ掛
脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、セ
ルロース、脂肪族炭化水素樹脂、芳香族炭化水素樹脂、
天然ゴム、スチレンーブタジェン樹脂、クロロプレンゴ
ム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱
軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上記材料
のうち保護層、または基板表面ハードコート層に最も好
ましい物質は、生産性に優れた紫外線硬化樹脂である。<< Protective Layer / Substrate Hard Coat Layer >> The protective layer or the substrate hard coat layer (a) protects the recording layer (reflection / absorption layer) from scratches, dust, dirt, etc.
(B) improvement in storage stability of the recording layer (reflection / absorption layer),
(C) Used for the purpose of improving the reflectance. For these purposes, the materials shown in the undercoat layer can be used. As inorganic materials, SiO, SiO 2
And the like, and, as an organic material, polymethyl acrylate, polycarbonate, epoxy grease, polystyrene, polyester resin, vinyl resin, cellulose, aliphatic hydrocarbon resin, aromatic hydrocarbon resin,
Thermosoftening and heat melting resins such as natural rubber, styrene butadiene resin, chloroprene rubber, wax, alkyd resin, drying oil and rosin can also be used. Among the above materials, the most preferable substance for the protective layer or the hard coat layer on the substrate surface is an ultraviolet curable resin having excellent productivity.
【0026】保護層、または基板表面ハードコート層の
膜厚は、0.01〜30μm、好ましくは0.05〜1
0μmが適当である。本発明において、前記下引き層、
保護層、および基板表面ハードコート層には、記録層の
場合と同様に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防
止剤、界面活性剤、可塑剤等を含有させることができ
る。The thickness of the protective layer or the hard coat layer on the substrate surface is 0.01 to 30 μm, preferably 0.05 to 1 μm.
0 μm is appropriate. In the present invention, the undercoat layer,
As in the case of the recording layer, the protective layer and the substrate surface hard coat layer may contain a stabilizer, a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, a plasticizer, and the like.
【0027】《接着層》接着層は2つ以上の光情報記録
媒体を接着する場合必要となる場合がある。本発明で特
に好ましいのは、ホットメルト型(熱溶融型)接着剤、
もしくは紫外線硬化型接着剤である。紫外線硬化型接着
剤は、紫外線照射によってラジカル重合が開始して硬化
する接着剤である。その組成は、一般的に(1)アクリ
ル系オリゴマー、(2)アクリル系モノマー、(3)光
重合開始剤、(4)重合禁止剤からなるもので、オリゴ
マーはポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系ア
クリル酸エステル等で、光重合開始剤はベンゾフェノ
ン、ベンゾインエーテル等が使用できる。ホットメルト
接着剤は液状接着剤が溶剤揮散や反応によって硬化し接
着力が発現するのに対し、常温固体の熱可塑性樹脂が熱
溶融、冷却固化の物理変化で接着力が発現するものであ
る。ホットメルト接着剤は、EVA、ポリエステル系、
ポリアミド系、ポリウレタン系等を用いることができ
る。<< Adhesive Layer >> An adhesive layer may be required when two or more optical information recording media are adhered. Particularly preferred in the present invention are hot melt type (hot melt type) adhesives,
Alternatively, it is an ultraviolet curable adhesive. The ultraviolet curable adhesive is an adhesive which is cured by the initiation of radical polymerization by irradiation with ultraviolet light. The composition is generally composed of (1) an acrylic oligomer, (2) an acrylic monomer, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a polymerization inhibitor. The oligomer is a polyester-based, polyurethane-based, or epoxy-based. Benzophenone, benzoin ether and the like can be used as a photopolymerization initiator such as an acrylate ester. The hot melt adhesive is one in which a liquid adhesive is hardened by solvent volatilization or reaction and develops an adhesive force, whereas an ordinary-temperature solid thermoplastic resin develops an adhesive force by a physical change of heat melting and cooling and solidification. Hot melt adhesives are EVA, polyester,
A polyamide type, a polyurethane type, or the like can be used.
【0028】[0028]
【実施例】以下本発明の光情報記録媒体の具体的な実施
態様とその効果を説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments of the optical information recording medium of the present invention and the effects thereof will be described below.
【0029】実施例1 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:2、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図4に示す。Example 1 (1) Layer structure Substrate 1 / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) p / substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 2, lamination number p: 2 Recording / reproduction is performed from the substrate 1 side at the recording / reproduction wavelength 0 : 500 (nm) on the optical information recording medium having the above configuration.
FIG. 4 shows the results of calculating the reflectance when the complex refractive index of the unrecorded recording layer is n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0030】上記条件で構成された光情報記録媒体にお
いて、未記録時の記録層の複素屈折率をn*=2.50
−i0.1と仮定した場合の反射率の計算結果を図5
に、未記録時の記録層の複素屈折率をn*=2.50−
i0.2と仮定した場合の反射率の計算結果を図6にそ
れぞれ示した。また、図4から図6を同一図上に示した
結果を図7に示す。In the optical information recording medium constructed under the above conditions, the unrecorded recording layer has a complex refractive index of n * = 2.50.
FIG. 5 shows the calculation result of the reflectance when −i0.1 is assumed.
The complex refractive index of the unrecorded recording layer is given by n * = 2.50−
FIG. 6 shows the calculation results of the reflectance when i0.2 is assumed. FIG. 7 shows the results of FIGS. 4 to 6 shown on the same drawing.
【0031】前記結果から、記録層の複素屈折率の虚部
が非常に大きくなっても(一般的にCD−RやDVD−
Rの色素材料では複素屈折率の虚部は0.03から0.
05程度、これ以上複素屈折率の虚部が大きくなると、
反射率が大幅に低下する)高反射率が得られ、しかも大
きな反射率低下波長領域を有し、その反射率低下領域が
比較的狭い波長範囲であるため、反射率スペクトルのシ
フトにより、高反射率化と高記録コントラスト化が同時
に図れることがわかる。一方、本発明の光情報記録媒体
では、基本的に記録コントラストは反射率スペクトルの
シフトにより生じるため、記録層の複素屈折率変化で反
射率スペクトルの変化が生じなければならない。その点
で本実施例により、記録による記録層の複素屈折率虚部
の変化は、記録コントラストの面で、好ましいものでな
いことがわかる。From the above results, even if the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer becomes very large (generally, a CD-R or DVD-
For the R dye material, the imaginary part of the complex refractive index is 0.03 to 0.5.
If the imaginary part of the complex refractive index becomes larger than about 05,
High reflectivity is obtained, and the reflectivity has a large wavelength range where the reflectivity decreases. Since the reflectivity decrease region is a relatively narrow wavelength range, the reflectivity shifts to a high level. It can be seen that the efficiency and the recording contrast can be increased at the same time. On the other hand, in the optical information recording medium of the present invention, since the recording contrast is basically caused by the shift of the reflectance spectrum, the reflectance spectrum must be changed by the change of the complex refractive index of the recording layer. In this regard, according to the present example, it is understood that the change of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer due to recording is not preferable in terms of recording contrast.
【0032】実施例2 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:2、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図4に示す。Example 2 (1) Layer Structure Substrate 1 / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) p / substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 2, lamination number p: 2 Recording / reproduction is performed from the substrate 1 side at the recording / reproduction wavelength 0 : 500 (nm) on the optical information recording medium having the above configuration.
FIG. 4 shows the results of calculating the reflectance when the complex refractive index of the unrecorded recording layer is n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0033】上記条件で構成された光情報記録媒体にお
いて、記録時の記録層の複素屈折率の実部のみが変化
し、その時の記録層の複素屈折率をn*=2.25−i
0.01となった場合の反射率の計算結果を図8に、記
録時に記録層の複素屈折率の実部のみが変化し、その時
の記録層の複素屈折率がn*=2.00−i0.01と
なった場合の反射率の計算結果を図9に、記録時に記録
層の複素屈折率の実部のみが変化し、その時の記録層の
複素屈折率がn*=1.75−i0.01となった場合
の反射率の計算結果を図10に、それぞれ示した。In the optical information recording medium constructed under the above conditions, only the real part of the complex refractive index of the recording layer at the time of recording changes, and the complex refractive index of the recording layer at that time is given by n * = 2.25-i.
FIG. 8 shows the calculation result of the reflectance at 0.01, and only the real part of the complex refractive index of the recording layer changes at the time of recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time is n * = 2.00− FIG. 9 shows the calculation result of the reflectance at the time of i0.01, and only the real part of the complex refractive index of the recording layer changes during recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time is n * = 1.75− FIG. 10 shows the calculation results of the reflectance when i0.01 was obtained.
【0034】また、図4および図8から図9を同一図上
に示した結果を図11に示す。この結果から、記録層の
複素屈折率実部が少しでも変化すれば、反射率スペクト
ルのシフトが生じ、非常に大きな高記録コントラストが
得られる。また、高反射率化も十分達成されることがわ
かる。例えば、いま記録・再生波長を480nm近辺と
すると、未記録状態n*=2.50−i0.01では反
射率が80%であったものが、記録によって記録層の複
素屈折率実部が変化し、n*=2.25−i0.01と
なった場合、反射率がほぼ20%程度に低下する。FIG. 11 shows the result of FIG. 4 and FIGS. 8 to 9 shown on the same figure. From this result, if the real part of the complex refractive index of the recording layer changes even a little, the reflectance spectrum shifts, and a very large high recording contrast can be obtained. It can also be seen that high reflectance can be sufficiently achieved. For example, if the recording / reproducing wavelength is now around 480 nm, the reflectivity is 80% in the unrecorded state n * = 2.50-i0.01, but the real part of the complex refractive index of the recording layer changes by recording. However, when n * = 2.25-i0.01, the reflectance is reduced to approximately 20%.
【0035】実施例3 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の複素屈折率:n*=2.50−i0.01 (4)積層数m:2、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。Example 3 (1) Layer Structure Substrate 1 / (High refractive index layer / Low refractive index layer) m / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) p / Substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) complex refractive index of recording layer: n * = 2.50-i0.01 (4) Number of layers m: 2, number of layers p: 2 Recording / reproduction is performed from the substrate 1 side at a recording / reproduction wavelength of 0 : 500 (nm).
【0036】以上の層構成条件で、未記録時の記録層の
複素屈折率をn*=2.50−i0.01とした場合
の、500nmにおける反射率の記録層膜厚依存性を計
算した結果を図12に示す。この結果は記録層の光学的
厚さがλ0/2となる波長で反射率の最低点を持つとい
う事実を示すものである。記録層膜厚を50nmとした
時の反射率の波長依存性は図4と同様である(未記録時
の反射率スペクトル)。上記条件で構成された光情報記
録媒体において、記録時に記録層膜厚のみが変化し、そ
の時の記録層膜厚が52nmとなった場合の反射率の計
算結果を図13に、記録時に記録層膜厚のみが変化し、
その時の記録層膜厚が54nmとなった場合の反射率の
計算結果を図14に、記録時に記録層膜厚のみが変化
し、その時の記録層膜厚が56nmとなった場合の反射
率の計算結果を図に15、記録時に記録層膜厚のみが変
化し、その時の記録層膜厚が58nmとなった場合の反
射率の計算結果を図16にそれぞれ示した。また、図4
(記録層膜厚50nm)、図14(記録層膜厚54n
m)、図16(記録層膜厚58nm)を同一図上に示し
た結果を図17に示す。この結果から、記録層膜厚が少
しでも変化すれば、反射率スペクトルのシフトが生じ、
非常に大きな高記録コントラストが得られ、また、高反
射率化も十分達成されることがわかる。例えば、いま記
録・再生波長を500nm近辺とすると、未記録状態n
*=2.50−i0.01、膜厚58nmでは反射率が
90%であったものが、記録によって記録層の膜厚のみ
が変化し、50nmとなった場合、反射率がほぼ0%程
度に低下する。The dependency of the reflectance at 500 nm on the recording layer thickness when the complex refractive index of the unrecorded recording layer is n * = 2.50-i0.01 under the above-mentioned layer configuration conditions was calculated. The result is shown in FIG. This result shows the fact that with the lowest point of the reflectance at the wavelength optical thickness of the recording layer is λ 0/2. The wavelength dependence of the reflectance when the thickness of the recording layer is 50 nm is the same as that in FIG. 4 (reflectance spectrum before recording). In the optical information recording medium configured under the above conditions, only the recording layer thickness changes during recording, and the calculation result of the reflectance when the recording layer thickness becomes 52 nm at that time is shown in FIG. Only the film thickness changes,
FIG. 14 shows a calculation result of the reflectance when the recording layer thickness is 54 nm at that time. FIG. 14 shows the reflectance when the recording layer thickness changes to 56 nm at the time of recording. FIG. 15 shows the calculation results, and FIG. 16 shows the calculation results of the reflectance when only the recording layer thickness changes during recording and the recording layer thickness at that time becomes 58 nm. FIG.
(Recording layer thickness 50 nm), FIG. 14 (Recording layer thickness 54 n)
m) and FIG. 16 (recording layer thickness 58 nm) on the same drawing are shown in FIG. From this result, if the recording layer thickness changes even slightly, the reflectance spectrum shifts,
It can be seen that a very large high recording contrast is obtained, and a high reflectivity is sufficiently achieved. For example, if the recording / reproducing wavelength is near 500 nm, the unrecorded state n
* = 2.50-i0.01, the reflectance was 90% when the film thickness was 58 nm, but only the film thickness of the recording layer was changed by recording. When the film thickness was 50 nm, the reflectance was approximately 0%. To decline.
【0037】実施例4 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:2、積層数p:1 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図18に示す。Example 4 (1) Layer Structure Substrate 1 / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) p / substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 2, lamination number p: 1 Recording / reproduction is performed from the substrate 1 side at the recording / reproduction wavelength 0 : 500 (nm) on the optical information recording medium having the above configuration.
FIG. 18 shows the results of calculating the reflectance when the complex refractive index of the unrecorded recording layer is n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0038】本実施例1〜3のような層構成が対称な場
合(積層数m=P、図4)と比べると、層構成を非対称
化して層構成を単純化しても(積層数m≠p)反射率が
大幅に低下する波長域がややブロード化し、最低反射率
が若干上昇するが、基本的性能は十分満足できるもので
あることがわかる。Compared to the case where the layer configuration is symmetrical as in the first to third embodiments (the number of layers m = P, FIG. 4), even if the layer configuration is asymmetric and the layer configuration is simplified (the number of layers m ≠) p) Although the wavelength region where the reflectance is significantly reduced becomes slightly broader and the minimum reflectance is slightly increased, it can be seen that the basic performance is sufficiently satisfactory.
【0039】実施例5 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:1、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図19に示す。Example 5 (1) Layer Structure Substrate 1 / (High refractive index layer / Low refractive index layer) m / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) p / Substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 1, lamination number p: 2 Recording / reproduction is performed on the optical information recording medium having the above-described configuration from the substrate 1 side at a recording / reproduction wavelength of 0 : 500 (nm).
FIG. 19 shows the result of calculating the reflectance when the complex refractive index of the recording layer at the time of non-recording is set to n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0040】層構成が対称な場合(積層数m=P、図
4)と比べると、層構成を非対称化して層構成を単純化
しても(積層数m≠p)反射率が大幅に低下する波長域
がややブロード化し、最低反射率が若干上昇するが、基
本的性能は十分満足できるものであることがわかる。以
上対称化構成(積層数m=P=2、図4)と非対称構成
(m=2、P=1、図18)および(m=1、P=2、
図19)を同一図上に示した結果を図20に示す。As compared with the case where the layer configuration is symmetrical (the number of layers m = P, FIG. 4), even if the layer configuration is asymmetric and the layer configuration is simplified (the number of layers m ≠ p), the reflectance is significantly reduced. Although the wavelength range is slightly broadened and the minimum reflectance is slightly increased, it can be seen that the basic performance is sufficiently satisfactory. As described above, the symmetric configuration (the number of stacked layers m = P = 2, FIG. 4) and the asymmetric configuration (m = 2, P = 1, FIG. 18) and (m = 1, P = 2,
FIG. 20 shows the result of FIG. 19) shown on the same figure.
【0041】実施例6 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:1、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図19に示す。Example 6 (1) Layer structure Substrate 1 / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) p / substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 1, lamination number p: 2 Recording / reproduction is performed on the optical information recording medium having the above-described configuration from the substrate 1 side at a recording / reproduction wavelength of 0 : 500 (nm).
FIG. 19 shows the result of calculating the reflectance when the complex refractive index of the recording layer at the time of non-recording is set to n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0042】上記条件で構成された光情報記録媒体にお
いて、未記録時の記録層の複素屈折率をn*=2.50
−i0.1と仮定した場合の反射率の計算結果を図21
に、未記録時の記録層の複素屈折率をn*=2.50−
i0.2と仮定した場合の反射率の計算結果を図22に
それぞれ示した。また、図19、および図21から図2
2を同一図上に示した結果を図23に示す。この結果か
ら、記録層の複素屈折率の虚部が非常に大きくなっても
(一般的にCD−RやDVD−Rの色素材料では複素屈
折率の虚部は0.03から0.06程度、これ以上複素
屈折率の虚部が大きくなると、反射率が大幅に低下す
る)高反射率が得られ、しかも大きな反射率低下波長領
域を有し、その反射率低下領域が比較的狭い波長範囲で
あるため、反射率スペクトルのシフトにより、高反射率
化と高記録コントラスト化が同時に図れることがわか
る。一方、本発明の光情報記録媒体では、基本的に記録
コントラストは反射率スペクトルのシフトにより生しる
ため、記録層の複素屈折率変化で反射率スペクトルの変
化が生じなければならない。その点で本実施例により、
記録による記録層の複素屈折率虚部の変化は、記録コン
トラストの面で、好ましいものでないことがわかる。In the optical information recording medium constructed under the above conditions, the unrecorded recording layer has a complex refractive index of n * = 2.50.
FIG. 21 shows the calculation result of the reflectance when −i0.1 is assumed.
The complex refractive index of the unrecorded recording layer is given by n * = 2.50−
FIG. 22 shows the calculation results of the reflectance when i0.2 is assumed. 19 and FIG. 21 to FIG.
2 is shown in FIG. 23. From this result, even if the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer becomes very large (in general, the imaginary part of the complex refractive index of the dye material of CD-R or DVD-R is about 0.03 to 0.06). If the imaginary part of the complex refractive index is larger than this, the reflectance is greatly reduced.) A high reflectance is obtained, and a large wavelength region where the reflectance is reduced is relatively narrow. Therefore, it can be understood that a shift in the reflectance spectrum can simultaneously increase the reflectance and the recording contrast. On the other hand, in the optical information recording medium of the present invention, since the recording contrast is basically generated by the shift of the reflectance spectrum, the reflectance spectrum must be changed by the change of the complex refractive index of the recording layer. In this regard, according to the present embodiment,
It can be seen that the change of the imaginary part of the complex refractive index of the recording layer due to recording is not preferable in terms of recording contrast.
【0043】実施例7 (1)層構成 基板1/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層/(低
屈折率層/高屈折率層)p/基板2 (2)基板および各層の屈折率 基板 屈折率:1.52 低屈折率層の屈折率1:38(MgF2) 高屈折率層の屈折率:2.40(TiO2) (但し、低屈折率層、高屈折率層の波長依存性は考慮し
ない。) (3)各層の厚さ 低屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×1.38) 高屈折率層の膜厚:d=λ0/(4×2.40) 記録層の膜厚:d=〔λ0/(4×n)〕×tにおいて
t=2、但しnは記録層の複素屈折率実部 (4)積層数m:1、積層数p:2 前記のような構成の光情報記録媒体に基板1側から記録
・再生を記録・再生波長入0:500(nm)で行う。
以上の層構成条件で、未記録時の記録層の複素屈折率を
n*=2.50−i0.01とした場合の反射率を計算
した結果を図19に示す。Example 7 (1) Layer Structure Substrate 1 / (High refractive index layer / Low refractive index layer) m / Recording layer / (Low refractive index layer / High refractive index layer) p / Substrate 2 (2) Substrate and Refractive index of each layer Substrate Refractive index: 1.52 Refractive index of low refractive index layer 1:38 (MgF 2 ) Refractive index of high refractive index layer: 2.40 (TiO 2 ) (however, low refractive index layer, high refractive index) (3) Thickness of each layer Thickness of low refractive index layer: d = λ 0 /(4×1.38) Thickness of high refractive index layer: d = λ 0 /(4×2.40) thickness of the recording layer: d = [λ 0 / (4 × n)] × t, where t = 2, where n is the real part of the complex refractive index of the recording layer. : 1, lamination number p: 2 Recording / reproducing is performed on the optical information recording medium having the above configuration from the substrate 1 side at a recording / reproducing wavelength of 0: 500 (nm).
FIG. 19 shows the result of calculating the reflectance when the complex refractive index of the recording layer at the time of non-recording is set to n * = 2.50-i0.01 under the above-described layer configuration conditions.
【0044】上記条件で構成された光情報記録媒体にお
いて、記録時に複素屈折率の実部のみが変化し、その時
の記録層の複素屈折率がn*=2.25−i0.01と
なった場合の反射率の計算結果を図24に、記録時に複
素屈折率の実部のみが変化し、その時の記録層の複素屈
折率がn*=2.00−i0.01となった場合の反射
率の計算結果を図25に,記録時に複素屈折率の実部の
みが変化し、その時の記録層の複素屈折率がn*=1.
75−i0.01となった場合の反射率の計算結果を図
26に示した。また、図19、および図24から図25
を同一図上に示した結果を図27に示す。この結果か
ら、記録層の複素屈折率実部が少しでも変化すれば、反
射率スペクトルのシフトが生じ、非常に大きな高記録コ
ントラストが得られる。また、高反射率化も十分達成さ
れることがわかる。例えば、いま記録・再生波長を45
0nm近辺とすると、未記録状態n*=2.50−i
0.01では反射率が80%であったものが、記録によ
って記録層の複素屈折率実部が変化し、n*=2.00
−i0.01となった場合、反射率がほぼ20%程度に
低下する。In the optical information recording medium constructed under the above conditions, only the real part of the complex refractive index changes during recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time becomes n * = 2.25-i0.01. FIG. 24 shows a calculation result of the reflectance in the case where only the real part of the complex refractive index changes during recording, and the reflection when the complex refractive index of the recording layer at that time becomes n * = 2.00-i0.01. FIG. 25 shows the calculation result of the refractive index. During recording, only the real part of the complex refractive index changes, and the complex refractive index of the recording layer at that time is n * = 1.
FIG. 26 shows the calculation result of the reflectance when 75-i0.01 was obtained. FIG. 19 and FIGS.
Are shown in FIG. 27 on the same figure. From this result, if the real part of the complex refractive index of the recording layer changes even a little, the reflectance spectrum shifts, and a very large high recording contrast can be obtained. It can also be seen that high reflectance can be sufficiently achieved. For example, if the recording / reproducing wavelength is 45
Assuming that it is near 0 nm, the unrecorded state n * = 2.50-i
Although the reflectivity was 80% at 0.01, the real part of the complex refractive index of the recording layer was changed by recording, and n * = 2.00
When −i0.01, the reflectance is reduced to about 20%.
【0045】本実施例において、記録層の複素屈折率が
変化するものとしては、例えば色素の構造変化、凝集状
態変化、会合状態変化、結晶状態変化、相変化、分解、
劣化等があげられる。任意の色素等の材料が未記録時の
吸収スペクトルから記録によって短波長へ動くか、長波
長へ動くかは、材料の構造、置換基の有無、置換基の種
類、置換基の場所、置換基の大きさ等によって変わる。
これは例えば色素のH会合体は一般に短波長へ吸収スペ
クトルが動き、逆にJ会合体は長波長へ吸収スペクトル
が動き、これらの変化は置換基の種類や置換位置によっ
て決まる。会合体の形成に置換基が与える影響として
は、構造等が変わると様子も全く変わってしまうが、シ
アニン系のある構造の色素に関しては、例えば「チアシ
アニン色素の会合体形成に及ぼす置換基の影響」日本写
真学会誌 58巻4号(1995、平7)p361等に
記載されている。In the present embodiment, the complex refractive index of the recording layer may be changed, for example, by changing the structure of the dye, changing the aggregate state, changing the association state, changing the crystal state, changing the phase,
Degradation and the like. Whether a material such as a dye moves to a short wavelength or a long wavelength by recording from the absorption spectrum of the unrecorded material depends on the structure of the material, the presence or absence of the substituent, the type of the substituent, the location of the substituent, the substituent It depends on the size of
This is because, for example, the absorption spectrum of an H-aggregate of a dye generally moves to a shorter wavelength, and the absorption spectrum of a J-aggregate moves to a longer wavelength, and these changes are determined by the type and position of the substituent. The effect of the substituents on the formation of the aggregates is completely different when the structure and the like are changed. "The Photographic Society of Japan, Vol. 58, No. 4, 1995 (Heisei 7), p361.
【0046】[0046]
【効果】本発明により従来高反射率化のために必要であ
った金属反射層が不要で、金属反射層では高反射率が得
られない任意の波長においても、高反射率型光情報記録
媒体が提供され、かつ記録によって記録層の光学定数を
わずかに変化させるだけで高コントラストの情報が記録
・再生できる新規な光情報記録媒体、および光情報記録
媒体の記録方法が提供される。これによって、金属反射
膜では達成できなかった波長領域で高反射率が達成され
るとともに、高コントラストな記録が行える。また、記
録層材料に要求される光学定数限定範囲が緩和できる。According to the present invention, a metal reflective layer conventionally required for increasing the reflectance is unnecessary, and a high reflectance type optical information recording medium can be used even at an arbitrary wavelength at which a high reflectance cannot be obtained with the metal reflective layer. Is provided, and a novel optical information recording medium and a recording method for an optical information recording medium that can record and reproduce high-contrast information by slightly changing the optical constant of the recording layer by recording are provided. As a result, a high reflectance is achieved in a wavelength region that cannot be achieved by the metal reflection film, and a high-contrast recording can be performed. Further, the limited range of optical constants required for the recording layer material can be relaxed.
【図1】金反射膜の波長依存性を示す図。FIG. 1 is a diagram showing the wavelength dependence of a gold reflection film.
【図2】色素の複素屈折率の波長依存性を示す図。FIG. 2 is a diagram showing the wavelength dependence of the complex refractive index of a dye.
【図3】多層構造の反射率スペクトルの一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of a reflectance spectrum of a multilayer structure.
【図4】実施例1および2の層構成条件で、未記録時の
記録層の複素屈折率をn*=2.50−i0.01とし
た場合の反射率を計算した結果を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a result of calculating a reflectance when the complex refractive index of the recording layer before recording is set to n * = 2.50-i0.01 under the layer configuration conditions of Examples 1 and 2.
【図5】実施例1の層構成条件で、未記録時の記録層の
複素屈折率をn*=2.50−i0.1とした場合の反
射率を計算した結果を示す図。FIG. 5 is a view showing a result of calculating a reflectance when a complex refractive index of a recording layer at the time of unrecording is set to n * = 2.50-i0.1 under a layer configuration condition of Example 1.
【図6】実施例1の層構成条件で、未記録時の記録層の
複素屈折率をn*=2.50−i0.2とした場合の反
射率を計算した結果を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a result of calculating a reflectance when a complex refractive index of a recording layer at the time of unrecording is set to n * = 2.50-i0.2 under a layer configuration condition of Example 1.
【図7】図4から図6を同一図上に示した結果を示す
図。FIG. 7 is a view showing a result of showing FIGS. 4 to 6 on the same figure.
【図8】実施例2の層構成条件で、記録時に記録層の複
素屈折率の実部のみが変化し、その時の記録層の複素屈
折率がn*=2.25−i0.01となった場合の反射
率を計算した結果を示す図。FIG. 8 shows that, under the layer configuration conditions of Example 2, only the real part of the complex refractive index of the recording layer changes during recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time becomes n * = 2.25-i0.01. The figure which shows the result of having calculated the reflectance in the case of having performed.
【図9】実施例2の層構成条件で、記録時に記録層の複
素屈折率の実部のみが変化し、その時の記録層の複素屈
折率がn*=2.00−i0.01とした場合の反射率
を計算した結果を示す図。FIG. 9 shows that, under the layer configuration conditions of Example 2, only the real part of the complex refractive index of the recording layer changes during recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time is n * = 2.00-i0.01. The figure which shows the result of having calculated the reflectance in the case.
【図10】実施例2の層構成条件で、記録時に記録層の
複素屈折率の実部のみが変化し、その時の記録層の複素
屈折率がn*=1.75−i0.01とした場合の反射
率を計算した結果を示す図。FIG. 10 shows that, under the layer configuration conditions of Example 2, only the real part of the complex refractive index of the recording layer changes during recording, and the complex refractive index of the recording layer at that time is n * = 1.75-i0.01. The figure which shows the result of having calculated the reflectance in the case.
【図11】図4および図8から図9を同一図上に示した
結果を示す図。FIG. 11 is a view showing a result of showing FIGS. 4 and 8 to 9 on the same figure.
【図12】実施例3の層構成条件で、未記録時の記録層
の複素屈折率をn*=2.50−i0.01とした場合
の500nmにおける反射率の記録層膜厚依存性を計算
した結果を示す図。FIG. 12 shows the dependency of the reflectance at 500 nm on the thickness of the recording layer when the complex refractive index of the recording layer before recording is n * = 2.50-i0.01 under the layer configuration conditions of Example 3. The figure which shows the calculation result.
【図13】実施例3の層構成条件で、記録時に記録層膜
厚のみが変化し、その時の記録層膜厚が52nmになっ
た場合の計算結果を示す図。FIG. 13 is a diagram showing calculation results when only the recording layer thickness changes during recording and the recording layer thickness at that time becomes 52 nm under the layer configuration conditions of Example 3.
【図14】実施例3の層構成条件で、記録時に記録層膜
厚のみが変化し、その時の記録層膜厚が54nmになっ
た場合の反射率の計算結果を示す図。FIG. 14 is a diagram showing a calculation result of the reflectance when only the recording layer thickness changes during recording and the recording layer thickness at that time becomes 54 nm under the layer configuration conditions of Example 3.
【図15】実施例3の層構成条件で、記録時に記録層膜
厚のみが変化し、その時の記録層膜厚が56nmになっ
た場合の計算結果を示す図。FIG. 15 is a diagram showing calculation results when only the recording layer thickness changes during recording and the recording layer thickness at that time becomes 56 nm under the layer configuration conditions of Example 3.
【図16】実施例3の層構成条件で、記録時に記録層膜
厚のみが変化し、その時の記録層膜厚が58nmになっ
た場合の計算結果を示す図。FIG. 16 is a diagram showing calculation results when only the recording layer thickness changes during recording and the recording layer thickness at that time becomes 58 nm under the layer configuration conditions of Example 3.
【図17】図13(記録層膜厚50nm)、図14(記
録層膜厚54nm)および図16(記録層膜厚58n
m)同一図上に示した結果を示す図。17 (recording layer thickness 50 nm), FIG. 14 (recording layer thickness 54 nm), and FIG. 16 (recording layer thickness 58n)
m) A diagram showing the results shown on the same figure.
【図18】実施例4の層構成条件で、未記録時の記録層
の複素屈折率をn*=2.50−i0.01とした場合
の反射率を計算した結果を示す図。FIG. 18 is a diagram showing a result of calculating a reflectance when the complex refractive index of the recording layer when recording is not performed is set to n * = 2.50-i0.01 under the layer configuration conditions of Example 4.
【図19】実施例5から7の層構成条件で、未記録時の
記録層の複素屈折率をn*=2.50−i0.01とし
た場合の反射率を計算した結果を示す図。FIG. 19 is a diagram illustrating a result of calculating a reflectance when the complex refractive index of the recording layer when recording is not performed is set to n * = 2.50-i0.01 under the layer configuration conditions of Examples 5 to 7.
【図20】図4、図18および図19を同一図上に示し
た結果を示す図。FIG. 20 is a diagram showing the results of FIGS. 4, 18, and 19 shown on the same diagram.
【図21】実施例6の層構成条件で、未記録時の記録層
の複素屈折率をn*=2.50−i0.1とした場合の
反射率を計算した結果を示す図。FIG. 21 is a diagram showing a result of calculating a reflectance when a complex refractive index of a recording layer at the time of unrecording is set to n * = 2.50-i0.1 under a layer configuration condition of Example 6.
【図22】実施例6の層構成条件で、記録層の複素屈折
率をn*=2.50−i0.2とした場合の反射率を計
算した結果を示す図。FIG. 22 is a view showing the result of calculating the reflectance when the complex refractive index of the recording layer is set to n * = 2.50-i0.2 under the layer configuration conditions in Example 6.
【図23】図19、および図21から図22を同一図上
に示した結果を示す図。FIG. 23 is a diagram showing the results of FIG. 19 and FIGS. 21 to 22 shown on the same diagram.
【図24】実施例7の層構成条件で、記録時に複素屈折
率の実部のみが変化し、その時の記録層のn*=2.2
5−i0.01となった場合の反射率を計算した結果を
示す図。FIG. 24 shows that, under the layer configuration conditions of Example 7, only the real part of the complex refractive index changes during recording, and n * = 2.2 of the recording layer at that time.
The figure which shows the result of having calculated the reflectance at the time of 5-i0.01.
【図25】実施例7の層構成条件で、記録時に複素屈折
率の実部のみが変化し、その時の記録層のn*=2.0
0−i0.01となった場合の反射率を計算した結果を
示す図。FIG. 25 shows that the real part of the complex refractive index changes during recording under the layer configuration conditions of Example 7, and the recording layer at that time has n * = 2.0.
The figure which shows the result of having calculated the reflectance at the time of becoming 0-i0.01.
【図26】実施例7の層構成条件で、記録時に複素屈折
率の実部のみが変化し、その時の記録層のn*=1.7
5−i0.01となった場合の反射率を計算した結果を
示す図。FIG. 26 shows that the real part of the complex refractive index changes during recording under the layer configuration conditions of Example 7, and the recording layer at that time has n * = 1.7.
The figure which shows the result of having calculated the reflectance at the time of 5-i0.01.
【図27】図19、図24および図25を同一図上に示
した結果を示す図。FIG. 27 is a view showing a result of showing FIGS. 19, 24 and 25 on the same figure.
フロントページの続き (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 東 康弘 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内Continuing on the front page (72) Inventor Yasunobu Ueno 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Yasuhiro Higashi 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Ricoh Co., Ltd.
Claims (14)
を行う光情報記録媒体において、該光情報記録媒体が少
なくとも基板/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層
/(低屈折率層/高屈折率層)p(但しm、pは積層繰
り返し数)という層構成からなり、レーザ光の照射によ
り記録層材料の複素屈折率を変化させることで情報の記
録を行い、かつ下記の要件を満足するものであることを
特徴とする光情報記録媒体。 (1)mは1以上、(2)高屈折率層、及び低屈折率層
の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長において、ni
di=λ0/4(但しniは高屈折率層、または低屈折率
層材料の屈折率、diは高屈折率層、または低屈折率層
材料の膜厚、λ0は再生波長)、(3)記録層の膜厚が
少なくとも再生波長において、nSdS=(λ0/2)t
(但しnSは記録層材料の屈折率、dSは記録層材料の膜
厚、λ0は再生波長、tは1以上の整数)、(4)記録
層材料の複素屈折率の実部が隣接する低屈折率層材料の
複素屈折率の実部より大きい、(5)pは0または1以
上。1. An optical information recording medium for recording and reproducing information by irradiating a laser beam, wherein the optical information recording medium has at least a substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low It has a layer configuration of refractive index layer / high refractive index layer) p (where m and p are the number of laminations), records information by changing the complex refractive index of the recording layer material by irradiating laser light, and An optical information recording medium which satisfies the following requirements. (1) m is 1 or more, and (2) the thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer are at least n i at least at the reproduction wavelength.
d i = λ 0/4 (where n i is the high refractive index layer or low refractive index layer refractive index of the material, d i is the high refractive index layer or low refractive index layer thickness of the material,, lambda 0 is reproduction wavelength ), (3) the thickness of the recording layer is at least reproducing wavelength, n S d S = (λ 0/2) t
(Where n S is the refractive index of the recording layer material, d S is the film thickness of the recording layer material, λ 0 is the reproduction wavelength, and t is an integer of 1 or more), and (4) the real part of the complex refractive index of the recording layer material is (5) p is 0 or 1 or more, which is larger than the real part of the complex refractive index of the adjacent low refractive index layer material.
を行う光情報記録媒体において、該光情報記録媒体が少
なくとも基板/(高屈折率層/低屈折率層)m/高屈折
率層/記録層/高屈折率層/(低屈折率層/高屈折率
層)p(但しm、pは積層繰り返し数)という層構成か
らなり、レーザ光の照射により記録層材料の複素屈折率
を変化させることで情報の記録を行い、かつ下記の要件
を満足するものであることを特徴とする光情報記録媒
体。 (1)mは1以上、(2)高屈折率層、及び低屈折率層
の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長において、ni
di=λ0/4(但しniは高屈折率層、または低屈折率
層材料の屈折率、diは高屈折率層、または低屈折率層
材料の膜厚、λ0は再生波長)、(3)記録層の膜厚が
少なくとも再生波長において、nSdS=(λ0/2)t
(但しnSは記録層材料の屈折率、dSは記録層材料の膜
厚、λ0は再生波長、tは1以上の整数)、(4)記録
層材料の複素屈折率の実部が隣接する高屈折率層材料の
複素屈折率の実部より小さい、(5)pは0または1以
上。2. An optical information recording medium for recording and reproducing information by irradiating a laser beam, wherein the optical information recording medium is at least a substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / high refractive index layer / It has a layer structure of recording layer / high refractive index layer / (low refractive index layer / high refractive index layer) p (where m and p are the number of repeated layers), and changes the complex refractive index of the recording layer material by laser light irradiation. An optical information recording medium, which records information by satisfying the following requirements. (1) m is 1 or more, and (2) the thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer are at least n i at least at the reproduction wavelength.
d i = λ 0/4 (where n i is the high refractive index layer or low refractive index layer refractive index of the material, d i is the high refractive index layer or low refractive index layer thickness of the material,, lambda 0 is reproduction wavelength ), (3) the thickness of the recording layer is at least reproducing wavelength, n S d S = (λ 0/2) t
(Where n S is the refractive index of the recording layer material, d S is the film thickness of the recording layer material, λ 0 is the reproduction wavelength, and t is an integer of 1 or more), and (4) the real part of the complex refractive index of the recording layer material is (5) p is 0 or 1 or more, which is smaller than the real part of the complex refractive index of the adjacent high refractive index layer material.
を行う光情報記録媒体において、該光情報記録媒体が少
なくとも基板/(高屈折率層/低屈折率層)m/記録層
/(低屈折率層/高屈折率層)p(但しm、pは積層繰
り返し数)という層構成からなり、レーザ光の照射によ
り記録層材料の膜厚を変化させることで情報の記録を行
い、かつ下記の要件を満足するものであることを特徴と
する光情報記録媒体。 (1)mは1以上、(2)高屈折率層、及び低屈折率層
の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長において、ni
di=λ0/4(但しniは高屈折率層、または低屈折率
層材料の屈折率、diは高屈折率層、または低屈折率層
材料の膜厚、λ0は再生波長)、(3)記録層の膜厚が
少なくとも再生波長において、nSdS=(λ0/2)t
(但しnSは記録層材料の屈折率、dSは記録層材料の膜
厚、λ0は再生波長、tは1以上の整数)、(4)記録
層材料の複素屈折率の実部が隣接する低屈折率層材料の
複素屈折率の実部より大きい、(5)pは0または1以
上。3. An optical information recording medium for recording and reproducing information by irradiating a laser beam, wherein the optical information recording medium is at least a substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / recording layer / (low It has a layer structure of refractive index layer / high refractive index layer) p (where m and p are the number of repetitions of lamination). Information is recorded by changing the film thickness of the recording layer material by irradiating a laser beam. An optical information recording medium characterized by satisfying the following requirements. (1) m is 1 or more, and (2) the thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer are at least n i at least at the reproduction wavelength.
d i = λ 0/4 (where n i is the high refractive index layer or low refractive index layer refractive index of the material, d i is the high refractive index layer or low refractive index layer thickness of the material,, lambda 0 is reproduction wavelength ), (3) the thickness of the recording layer is at least reproducing wavelength, n S d S = (λ 0/2) t
(Where n S is the refractive index of the recording layer material, d S is the film thickness of the recording layer material, λ 0 is the reproduction wavelength, and t is an integer of 1 or more), and (4) the real part of the complex refractive index of the recording layer material is (5) p is 0 or 1 or more, which is larger than the real part of the complex refractive index of the adjacent low refractive index layer material.
を行う光情報記録媒体において、該光情報記録媒体が少
なくとも基板/(高屈折率層/低屈折率層)m/高屈折
率層/記録層/高屈折率層/(低屈折率層/高屈折率
層)p(但しm、pは積層繰り返し数)という層構成か
らなり、レーザ光の照射により記録層材料の膜厚を変化
させることで情報の記録を行い、かつ下記の要件を満足
するものであることを特徴とする光情報記録媒体。 (1)mは1以上、(2)高屈折率層、及び低屈折率層
の膜厚が、いずれも少なくとも再生波長において、ni
di=λ0/4(但しniは高屈折率層、または低屈折率
層材料の屈折率、diは高屈折率層、または低屈折率層
材料の膜厚、λ0は再生波長)、(3)記録層の膜厚が
少なくとも再生波長において、nSdS=(λ0/2)t
(但しnSは記録層材料の屈折率、dSは記録層材料の膜
厚、λ0は再生波長、tは1以上の整数)、(4)記録
層材料の複素屈折率の実部が隣接する高屈折率層材料の
複素屈折率の実部より小さい、(5)pは0または1以
上。4. An optical information recording medium for recording and reproducing information by irradiating a laser beam, wherein the optical information recording medium is at least a substrate / (high refractive index layer / low refractive index layer) m / high refractive index layer / It has a layer structure of recording layer / high-refractive-index layer / (low-refractive-index layer / high-refractive-index layer) p (where m and p are the number of times of lamination), and changes the film thickness of the recording layer material by irradiating a laser beam. An optical information recording medium, which records information by satisfying the following requirements. (1) m is 1 or more, and (2) the thicknesses of the high refractive index layer and the low refractive index layer are at least n i at least at the reproduction wavelength.
d i = λ 0/4 (where n i is the high refractive index layer or low refractive index layer refractive index of the material, d i is the high refractive index layer or low refractive index layer thickness of the material,, lambda 0 is reproduction wavelength ), (3) the thickness of the recording layer is at least reproducing wavelength, n S d S = (λ 0/2) t
(Where n S is the refractive index of the recording layer material, d S is the film thickness of the recording layer material, λ 0 is the reproduction wavelength, and t is an integer of 1 or more), and (4) the real part of the complex refractive index of the recording layer material is (5) p is 0 or 1 or more, which is smaller than the real part of the complex refractive index of the adjacent high refractive index layer material.
項1、2、3または4に記載の光情報記録媒体。5. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the main component of the recording layer is a dye compound.
性を示す色素化合物である請求項5に記載の光情報記録
媒体。6. The optical information recording medium according to claim 5, wherein the dye compound of the recording layer is a dye compound exhibiting photochromic properties.
示す化合物である請求項1、2、3または4に記載の光
情報記録媒体。7. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the main component of the recording layer is a compound exhibiting thermochromism.
れものである請求項5、6または7記載の光情報記録媒
体。8. The optical information recording medium according to claim 5, wherein the main component of the recording layer is formed by a vapor deposition method.
反射率より低下するものである請求項1、2、3、4、
5、6、7または8記載の光情報記録媒体。9. The recording method according to claim 1, wherein the reflectance of the recording layer is lower than that of the unrecorded state by recording.
The optical information recording medium according to 5, 6, 7 or 8.
る請求項1、2、3、4、5、6、7、8または9記載
の光情報記録媒体。10. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the information reproduction wavelength is 550 nm or less.
たは10記載の光情報記録媒体にレーザ光を照射し、記
録層材料の複素屈折率を変化させることで情報の記録を
行うことを特徴とする光情報記録媒体の記録方法。11. Recording of information by irradiating the optical information recording medium of claim 1, 2, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 with a laser beam to change the complex refractive index of the recording layer material. Recording method for an optical information recording medium.
たは10記載の光情報記録媒体にレーザ光を照射し、記
録層材料の膜厚を変化させることで情報の記録を行うこ
とを特徴とする光情報記録媒体の記録方法。12. Recording of information by irradiating the optical information recording medium according to claim 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 with a laser beam and changing the film thickness of the recording layer material. Recording method for an optical information recording medium.
時の反射率より低下させる請求項11または12記載の
光情報記録媒体の記録方法。13. The recording method for an optical information recording medium according to claim 11, wherein the reflectance of the recording layer material at the time of recording is lower than the reflectance at the time of non-recording.
長で行う請求項11、12または13記載の光情報記録
媒体の記録方法。14. The recording method for an optical information recording medium according to claim 11, wherein information is recorded at a recording wavelength of 550 nm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347174A JPH11167745A (en) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | Optical information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9347174A JPH11167745A (en) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | Optical information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167745A true JPH11167745A (en) | 1999-06-22 |
Family
ID=18388426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9347174A Pending JPH11167745A (en) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | Optical information recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11167745A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003036632A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-05-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium and its manufacturing method |
-
1997
- 1997-12-02 JP JP9347174A patent/JPH11167745A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003036632A1 (en) * | 2001-10-19 | 2003-05-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium and its manufacturing method |
| US6933031B2 (en) | 2001-10-19 | 2005-08-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium and its manufacturing method |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040518 |