JPH11172003A - Method for producing crosslinked polycarbonate resin, crosslinked polycarbonate resin, and electrophotographic photoreceptor - Google Patents
Method for producing crosslinked polycarbonate resin, crosslinked polycarbonate resin, and electrophotographic photoreceptorInfo
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- JPH11172003A JPH11172003A JP34305797A JP34305797A JPH11172003A JP H11172003 A JPH11172003 A JP H11172003A JP 34305797 A JP34305797 A JP 34305797A JP 34305797 A JP34305797 A JP 34305797A JP H11172003 A JPH11172003 A JP H11172003A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気・電子機器、光学機器などの分野で
有用性の高い架橋ボリカーボネート樹脂の製造に際し、
架橋工程においてボリカーボネート樹脂の性能低下を招
かない効果的な架橋を行い、殊に耐摩耗性に優れた成形
体を得ることのできる架橋ボリカーボネート樹脂の製造
方法と、その製法によって得られた架橋ボリカーボネー
ト樹脂、並びにこの架橋ボリカーボネート樹脂を用いた
耐久性に優れた電子写真感光体を提供する。
【解決手段】 炭素−炭素不飽和結合を有するボリカー
ボネート樹脂を、分子内に珪素−水素結合を2つ以上持
つ珪素化合物によりヒドロシリル化する架橋ボリカーボ
ネート樹脂の製造方法、及び該方法により得られる架橋
ボリカーボネート樹脂、並びに該架橋ボリカーボネート
樹脂を含有する感光層を導電性基体上に設けてなる電子
写真感光体。(57) [Summary] [PROBLEMS] To produce a crosslinked polycarbonate resin having high utility in fields such as electric / electronic equipment and optical equipment,
In the cross-linking step, a method for producing a cross-linked polycarbonate resin capable of performing effective cross-linking without deteriorating the performance of the polycarbonate resin and obtaining a molded article particularly excellent in abrasion resistance, and the cross-linking obtained by the manufacturing method Provided are a polycarbonate resin and an electrophotographic photoreceptor having excellent durability using the crosslinked polycarbonate resin. SOLUTION: A method for producing a crosslinked polycarbonate resin in which a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is hydrosilylated with a silicon compound having two or more silicon-hydrogen bonds in a molecule, and a crosslinkable resin obtained by the method An electrophotographic photoreceptor comprising a photosensitive substrate containing a polycarbonate resin and a crosslinked polycarbonate resin on a conductive substrate.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、機械的性質や光学
的性質、電子写真特性に優れた架橋ポリカーボネート樹
脂を製造する方法、およびその方法で製造された架橋ポ
リカーボネート樹脂に関するものである。また、本発明
は、この架橋ポリカーボネート樹脂を感光層中のバイン
ダー樹脂として含有する耐久性に優れた電子写真感光体
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a crosslinked polycarbonate resin having excellent mechanical properties, optical properties and electrophotographic properties, and a crosslinked polycarbonate resin produced by the method. The present invention also relates to a highly durable electrophotographic photosensitive member containing the crosslinked polycarbonate resin as a binder resin in a photosensitive layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】ポリカーボネート樹脂は、機械的性質や
熱的性質、電気的性質に優れていることから、様々な産
業分野において成形品の素材に用いられてきた。近年、
さらにこのポリカーボネート樹脂の光学的性質などをも
併せて利用した機能的な製品の分野においても多用され
ている。このような用途分野の拡大に伴って、ポリカー
ボネート樹脂に対する要求性能も多様化している。この
ような要請に応えるためには、従来から用いられてきた
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンや
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンなどを原料とするポリカーボネート樹脂のみでは充分
な対応ができないことがあることから、様々な化学構造
を有するポリカーボネート樹脂が提案されてきている。
しかしながら、各種の用途毎に特有の要求特性があるこ
とから、それら要請を満足する性能を具備するポリカー
ボネート樹脂の開発が求められている。2. Description of the Related Art Polycarbonate resins have been used as materials for molded articles in various industrial fields because of their excellent mechanical properties, thermal properties and electrical properties. recent years,
Further, they are also frequently used in the field of functional products utilizing the optical properties of the polycarbonate resin. With the expansion of such application fields, the required performance for the polycarbonate resin has been diversified. In order to respond to such a demand, it is necessary to use only a conventionally used polycarbonate resin made from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, or the like alone. Because of insufficient support, polycarbonate resins having various chemical structures have been proposed.
However, since there are specific characteristics required for various applications, development of a polycarbonate resin having performance satisfying those requirements is required.
【0003】このような機能的な製品として、ポリカー
ボネート樹脂を有機電荷発生材料や電荷輸送材料用のバ
インダー樹脂とする感光層を導電性基体上に形成した有
機電子写真感光体がある。この電子写真感光体として
は、従来、セレンやα−シリコンなどの無機光導電性材
料を用いたものが使用されていたが、最近では、前記有
機電子写真感光体の性能が向上したことから、その使用
割合が拡大している。As such a functional product, there is an organic electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer using a polycarbonate resin as a binder resin for an organic charge generation material or a charge transport material is formed on a conductive substrate. As the electrophotographic photoreceptor, conventionally, one using an inorganic photoconductive material such as selenium or α-silicon has been used, but recently, since the performance of the organic electrophotographic photoreceptor has been improved, Its use rate is expanding.
【0004】この有機電子写真感光体には、適用される
電子写真プロセスに応じて、所定の感度や電気特性、光
学特性を備えていることが要求される。この電子写真感
光体は、その感光層の表面に、コロナ帯電、トナー現
像、紙への転写、クリーニング処理などの操作が繰返し
行われるため、これら操作を行う度に電気的、機械的な
外力が加えられる。したがって、長期間にわたって電子
写真の画質を維持するためには、電子写真感光体の表面
に設けた感光層に、これら外力に対する耐久性が要求さ
れる。[0004] The organic electrophotographic photosensitive member is required to have predetermined sensitivity, electrical characteristics, and optical characteristics according to the electrophotographic process to be applied. In this electrophotographic photoreceptor, since operations such as corona charging, toner development, transfer to paper, and cleaning are repeatedly performed on the surface of the photosensitive layer, an electric or mechanical external force is applied each time these operations are performed. Added. Therefore, in order to maintain the image quality of electrophotography over a long period of time, the photosensitive layer provided on the surface of the electrophotographic photoreceptor is required to have durability against these external forces.
【0005】このような要請に応えるため、有機電子写
真感光体のバインダー樹脂としては、感光層に用いる電
荷輸送物質との相溶性がよく光学特性も良好なポリカー
ボネート樹脂が使用されてきた。しかしながら、従来、
このポリカーボネート樹脂として、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンや、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどを原料とする
ものが使用されてきたが、耐久性の点で充分に満足でき
なかった。このようなことから、例えば特開平4−29
1348号公報では、バインダー樹脂として炭素−炭素
不飽和結合を有する架橋性のポリカーボネート樹脂を用
い、これを含む感光層を導電性基体に塗布した後に、該
架橋性ポリカーボネート樹脂を架橋させた電子写真感光
体が提案されている。ところで、この場合、該架橋性ポ
リカーボネート樹脂にラジカル開始剤を加えて架橋反応
を行うので、ここで発生したラジカルにより、ポリカー
ボネート樹脂の分子鎖が切断を受けたり、化学変化を受
けて黄変することがあるという問題がある。また、ここ
で発生したラジカルにより、このバインダー樹脂に含有
させてある電荷輸送物質が化学変化を受けて、その性能
の低下を招くという問題もある。したがって、これら分
子切断や化学変化に伴う電子写真感光体の性能や耐久性
の低下のため、充分に満足できるには至っていなかっ
た。In order to meet such demands, as a binder resin for an organic electrophotographic photoreceptor, a polycarbonate resin having good compatibility with a charge transporting material used in a photosensitive layer and excellent optical characteristics has been used. However, conventionally,
As the polycarbonate resin, 2,2-bis (4-
Hydroxyphenyl) propane and 2,2-bis (4-
Although materials using hydroxyphenyl) cyclohexane as a raw material have been used, they have not been sufficiently satisfactory in terms of durability. For this reason, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-29
No. 1348 discloses an electrophotographic method in which a crosslinkable polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is used as a binder resin, a photosensitive layer containing the same is applied to a conductive substrate, and then the crosslinkable polycarbonate resin is crosslinked. The body has been proposed. By the way, in this case, since a crosslinking reaction is performed by adding a radical initiator to the crosslinkable polycarbonate resin, the radicals generated here may cause a molecular chain of the polycarbonate resin to be cut or yellowed due to a chemical change. There is a problem that there is. There is also a problem that the charge transport material contained in the binder resin undergoes a chemical change due to the radicals generated here, thereby lowering its performance. Therefore, the performance and durability of the electrophotographic photoreceptor have been reduced due to the molecular cleavage or chemical change, so that they have not been sufficiently satisfactory.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の事情
に基づいてなされてものであり、光学的性質や機械的性
質、ことに耐摩耗性に優れた成形品を得ることのできる
架橋ポリカーボネート樹脂とその製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。さらに、この架橋ポリカー
ボネート樹脂を有機電子写真感光体用のバインダー樹脂
として用いた耐久性に優れた電子写真感光体を提供する
ことを目的とするものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances, and is intended to provide a crosslinked polycarbonate capable of obtaining a molded article having excellent optical properties, mechanical properties, and especially abrasion resistance. An object of the present invention is to provide a resin and a method for producing the resin. It is another object of the present invention to provide an electrophotographic photoreceptor having excellent durability using the crosslinked polycarbonate resin as a binder resin for an organic electrophotographic photoreceptor.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決するために、鋭意研究を重ねた結果、炭素−炭素不
飽和結合を有するポリカーボネート樹脂に、分子内に2
つ以上の珪素−水素結合を有する珪素化合物を反応させ
ヒドロシリル化した架橋ポリカーボネート樹脂が、光学
的性質や機械的性質、ことに耐摩耗性に優れたものであ
ることを見出した。さらに、この架橋ポリカーボネート
樹脂を有機電子写真感光体用のバインダー樹脂に用いる
と、耐久性に優れた電子写真感光体が得られることを見
出し、これら知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond has two carbon atoms per molecule.
It has been found that a crosslinked polycarbonate resin obtained by reacting a silicon compound having one or more silicon-hydrogen bonds and hydrosilylating is excellent in optical properties, mechanical properties, and especially abrasion resistance. Furthermore, they have found that when this crosslinked polycarbonate resin is used as a binder resin for an organic electrophotographic photosensitive member, an electrophotographic photosensitive member having excellent durability can be obtained, and the present invention has been completed based on these findings.
【0008】すなわち、本発明の要旨は、下記のとおり
である。 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂を、遷移金属触媒、塩基系触媒およびラジカル化学
種から選択される1種または2種以上の物質の存在下
に、同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ珪素化
合物と反応させてヒドロシリル化することを特徴とする
架橋ポリカーボネート樹脂の製造方法。 (2)前記炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネ
ート樹脂が、下記の一般式〔1〕で表される繰返し単位
(1)、または一般式〔1〕で表される繰返し単位
(1)および一般式〔2〕で表される繰返し単位(2)
を有するポリカーボネート樹脂である上記(1)記載の
架橋ポリカーボネート樹脂の製造方法。That is, the gist of the present invention is as follows. (1) A polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is converted into silicon-hydrogen in the same molecule in the presence of one or more substances selected from a transition metal catalyst, a base catalyst and a radical chemical species. A method for producing a crosslinked polycarbonate resin, comprising reacting with a silicon compound having two or more bonds for hydrosilylation. (2) The above-mentioned polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond comprises a repeating unit (1) represented by the following general formula [1] or a repeating unit (1) represented by the following general formula [1] and Repeating unit (2) represented by formula [2]
The method for producing a crosslinked polycarbonate resin according to the above (1), which is a polycarbonate resin having the following.
【0009】[0009]
【化6】 Embedded image
【0010】〔式〔1〕中、Ar1 は、[In the formula [1], Ar 1 is
【0011】[0011]
【化7】 Embedded image
【0012】(式〔1a〕中のX1 は、単結合、−O
−、−CO−、−S−、−SO−、−SO2 −、−CR
3 R4 −(ただし、R3 、R4 は各々独立に水素原子、
炭素数1〜12のアルキル基、トリフルオロメチル基ま
たは炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基
である)、炭素数5〜12の置換もしくは無置換のシク
ロアルキリデン基、炭素数2〜12の置換もしくは無置
換のα,ω−アルキレン基、9,9−フルオレニリデン
基、1,8−メンタンジイル基、2,8−メンタンジイ
ル基、置換もしくは無置換のピラジリデン基、炭素数6
〜12の置換もしくは無置換のアリーレン基または下記
一般式〔3〕、(X 1 in the formula [1a] is a single bond, -O
-, - CO -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - CR
3 R 4 — (where R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom,
An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a trifluoromethyl group or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms), a substituted or unsubstituted cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms, 12 substituted or unsubstituted α, ω-alkylene groups, 9,9-fluorenylidene group, 1,8-menthanediyl group, 2,8-menthanediyl group, substituted or unsubstituted pyradylidene group, 6 carbon atoms
To 12 substituted or unsubstituted arylene groups or the following general formula [3],
【0013】[0013]
【化8】 Embedded image
【0014】(式〔3〕中のR5 は、各々独立に水素原
子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜
12のアルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置
換のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素
数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で
あり、tは0〜6の整数である)で表される基であり、
式〔1a〕〜〔1c〕中のAは、−(CH2 )h −、−
O−(CH2 )h −、−CO−(CH2 )h −、−CO
O−(CH2 )h −で表される基(ただしhは0〜6の
整数である)であり、FGは、エチニル基またはビニル
基であり、p1 、p2 は0〜4の整数(ただしp1 +p
2 は1〜8の整数である)であり、qは1または2であ
り、sは1〜6の整数であり、式〔1d〕中のYは少な
くとも1つの炭素−炭素不飽和結合を持つ炭素数2〜1
2の鎖状または環状の炭化水素基を置換基として有する
炭素数5〜12のシクロアルキリデン基であり、式〔1
a〕〜〔1g〕中のR1 は、水素原子、ハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、
炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭
素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換も
しくは無置換のアリールオキシ基であり、R2 はR1 と
同一の基であるがR2 同士が炭素数1〜10の炭化水素
基で結合されていてもよく、式〔1e〕中のcは0また
は1であり、式〔1f〕〔1g〕中のeは1〜200の
整数であり、かつd+eの合計が1〜200の整数であ
り、rは各々独立に0〜4の整数であり、tは各々独立
に0〜6の整数であり、gは0〜200の整数である)
で表される二価の基であり、一般式〔2〕中のAr
2 は、(R 5 in the formula [3] is each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group,
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms; Which is an integer of)
A in the formula [1a] - [1c] is, - (CH 2) h - , -
O- (CH 2) h -, - CO- (CH 2) h -, - CO
O- (CH 2 ) h — (where h is an integer of 0 to 6), FG is an ethynyl group or a vinyl group, p 1 and p 2 are integers of 0 to 4 (However, p 1 + p
2 is an integer of 1 to 8), q is 1 or 2, s is an integer of 1 to 6, and Y in the formula [1d] has at least one carbon-carbon unsaturated bond. 2 to 1 carbon atoms
A cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms and having a chain or cyclic hydrocarbon group of 2 as a substituent;
R 1 in a] ~ [1g] is a hydrogen atom, a halogen atom,
A trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms,
A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and R 2 is the same group as R 1 However, R 2 may be bonded to each other by a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, c in the formula [1e] is 0 or 1, and e in the formula [1f] [1g] is 1 to 200 is an integer, and the sum of d + e is an integer of 1 to 200, r is each independently an integer of 0 to 4, t is each independently an integer of 0 to 6, and g is 0 to 200. Is an integer of
Which is a divalent group represented by the general formula [2]
2 is
【0015】[0015]
【化9】 Embedded image
【0016】(式〔2a〕〜〔2d〕中のX2 、R6 、
r、t、gは、前記X1 、R1 、r、t、gと同じ意味
を有し、kは0〜6の整数である)で表される基であ
る。〕 (3)前記同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ
珪素化合物が、下記一般式〔4a〕〜〔4f〕で表され
るものである上記(1)または(2)記載の架橋ポリカ
ーボネートの製造方法。(X 2 , R 6 in the formulas [2a] to [2d],
r, t, and g have the same meanings as X 1 , R 1 , r, t, and g, and k is an integer of 0 to 6. (3) The crosslink according to the above (1) or (2), wherein the silicon compound having two or more silicon-hydrogen bonds in the same molecule is represented by the following general formulas [4a] to [4f]. Method for producing polycarbonate.
【0017】[0017]
【化10】 Embedded image
【0018】〔式〔4a〕〜〔4f〕中のR7 は、前記
R1 と同じ意味を有し、iは0〜200の整数であり、
nは2〜100の整数でかつn+mが2〜200の整数
であり、u+vが0〜200の整数であり、wは0〜6
の整数である。〕 (4)前記遷移金属触媒が、鉄触媒、ルテニウム触媒、
コバルト触媒、ロジウム触媒、イリジウム触媒、ニッケ
ル触媒、パラジウム触媒および白金触媒から選択される
1種または2種以上の触媒である上記(1)〜(3)の
いずれかに記載の架橋ポリカーボネートの製造方法。 (5)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂を、遷移金属触媒、塩基系触媒およびラジカル化学
種から選択される1種または2種以上の物質の存在下
に、同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ珪素化
合物を反応させてヒドロシリル化してなる架橋ポリカー
ボネート樹脂。 (6)導電性基体上に少なくとも感光層を有する電子写
真感光体において、該感光層に上記(5)記載の架橋ポ
リカーボネート樹脂を含有していることを特徴とする電
子写真感光体。[In the formulas [4a] to [4f], R 7 has the same meaning as R 1 , i is an integer of 0 to 200,
n is an integer of 2 to 100, n + m is an integer of 2 to 200, u + v is an integer of 0 to 200, and w is 0 to 6
Is an integer. (4) The transition metal catalyst is an iron catalyst, a ruthenium catalyst,
The method for producing a crosslinked polycarbonate according to any one of the above (1) to (3), which is one or more catalysts selected from a cobalt catalyst, a rhodium catalyst, an iridium catalyst, a nickel catalyst, a palladium catalyst, and a platinum catalyst. . (5) A polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is converted into silicon-hydrogen in the same molecule in the presence of one or more substances selected from transition metal catalysts, base catalysts and radical chemical species. A crosslinked polycarbonate resin obtained by reacting a silicon compound having two or more bonds to form a hydrosilylation reaction. (6) An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the photosensitive layer contains the crosslinked polycarbonate resin described in (5) above.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】本発明の架橋ポリカーボネート樹
脂は、炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂に、同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ珪
素化合物を反応させることによって製造することができ
る。ここで用いる炭素−炭素不飽和結合を有するポリカ
ーボネート樹脂としては、ポリカーボネート樹脂を構成
する繰返し単位として、その主鎖、側鎖あるいは末端に
炭素−炭素不飽和結合を有するものであればよく、単独
重合体であっても共重合体であってもよい。また、その
重合体鎖は、直鎖状、分岐状、環状のいずれの構造を有
するものであってもよく、さらに、合成時に末端停止剤
や分岐剤を用いることにより、特殊な末端構造や特殊な
分岐構造が導入されたものであってもよい。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The crosslinked polycarbonate resin of the present invention is produced by reacting a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond with a silicon compound having two or more silicon-hydrogen bonds in the same molecule. Can be. The polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond used herein may be any one having a carbon-carbon unsaturated bond in its main chain, side chain or terminal as a repeating unit constituting the polycarbonate resin. It may be a union or a copolymer. The polymer chain may have any of a linear, branched, or cyclic structure, and further has a special terminal structure or special structure by using a terminal stopper or a branching agent during synthesis. A branching structure may be introduced.
【0020】このような炭素−炭素不飽和結合を有する
ポリカーボネート樹脂を製造する方法については、例え
ば、炭酸エステル形成性化合物としてホスゲンなどを用
い、適当な酸結合剤の存在下に、炭素−炭素不飽和結合
を持つ二価フェノールを単独で、あるいは炭素−炭素不
飽和結合を持つ二価フェノールと炭素−炭素不飽和結合
を持たない二価フェノールとを反応させる方法、あるい
は、炭酸エステル形成性化合物としてビスアリールカー
ボネートを用い、エステル交換反応を行う方法などを採
用すればよい。この炭素−炭素不飽和結合を持つ二価フ
ェノールは、1種単独でも2種以上を併用してもよく、
また炭素−炭素不飽和結合を持たない二価フェノールに
ついても1種単独でも2種以上を併用してもよい。これ
ら反応は、必要に応じて末端停止剤および/または分岐
剤の存在下で行われる。As for the method of producing such a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond, for example, phosgene or the like is used as a carbonate-forming compound, and a carbon-carbon unsaturated bond is formed in the presence of a suitable acid binder. A method of reacting a dihydric phenol having a saturated bond alone or a method of reacting a dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond with a dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond, or as a carbonate-forming compound. A transesterification method using bisaryl carbonate may be employed. The dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond may be used alone or in combination of two or more.
As for the dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination. These reactions are carried out in the presence of a terminal terminator and / or a branching agent as required.
【0021】この炭素−炭素不飽和結合を持つ二価フェ
ノールとしては、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−
ジビニルビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−3,
3’−ジアリルビフェニル、3,3’,5,5’−テト
ラアリル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、ビス
(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメ
タン、1,1−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)エタン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キシフェニル)エタン、1,1−ビス(3−アリル−4
−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2
−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−ビニル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ
−5−フェニルフェニル)プロパン、2,2−ビス〔3
−(3−ブテニル)−4−ヒドロキシフェニル〕プロパ
ン、2,2−ビス〔3−(4−ペンテニル)−4−ヒド
ロキシフェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(5−
ヘキセニル)−4−ヒドロキシフェニル〕プロパン、2
−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3−アリル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジアリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、3,3−ビス(3−ビニル−4−ヒド
ロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、1,1−ビス
(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキ
シフェニル)エーテル、ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キシフェニル)エーテル、ビス(3−ビニル−4−ヒド
ロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−アリル−4−
ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−ビニル−
4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−ア
リル−4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス
(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビ
ス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、
3,3’−ジビニル−4,4’−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシ
ベンゾフェノン、4,4’−ジヒドロキシベンザルアセ
トフェノン、9,9−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキ
シフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アリル−
4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
フルオレン、1,3−ビス〔2−(3−アリル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピル〕ベンゼン、1,4−ビス
〔2−(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ
ル〕ベンゼン、1,3−ジヒドロキシ−4−アリルベン
ゼン、4,4’−ジヒドロキシ−3−アリルビフェニ
ル、2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレ
ン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,6
−ヘプタジエン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3−ブテン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−プロペン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)−2−ビニルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−2−アリルシクロヘキサ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−
(1−シクロヘキセニル)シクロヘキサン、さらに次式
で表される化合物などが挙げられる。The dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond includes 4,4'-dihydroxy-3,3'-
Divinyl biphenyl, 4,4'-dihydroxy-3,
3'-diallylbiphenyl, 3,3 ', 5,5'-tetraallyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) Methane, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 1,1-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1, , 1-bis (3-allyl-4
-Hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 2,2
-Bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-vinyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) Propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)
Propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-phenylphenyl) propane, 2,2-bis [3
-(3-butenyl) -4-hydroxyphenyl] propane, 2,2-bis [3- (4-pentenyl) -4-hydroxyphenyl] propane, 2,2-bis [3- (5-
Hexenyl) -4-hydroxyphenyl] propane, 2
-(4-hydroxyphenyl) -2- (3-allyl-4
-Hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,
5-diallyl-4-hydroxyphenyl) propane,
2,2-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl)
Butane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) butane, 3,3-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ) Pentane, 1,1-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) ether, Bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl)
Hydroxyphenyl) sulfide, bis (3-vinyl-
4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfone,
3,3′-divinyl-4,4′-dihydroxybenzophenone, 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybenzophenone, 4,4′-dihydroxybenzalacetophenone, 9,9-bis (3-vinyl- 4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-allyl-
4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)
Fluorene, 1,3-bis [2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propyl] benzene, 1,4-bis [2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propyl] benzene, 1,3- Dihydroxy-4-allylbenzene, 4,4'-dihydroxy-3-allylbiphenyl, 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) -1,6
-Heptadiene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-butene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-propene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-vinyl Cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-allylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-
Examples thereof include (1-cyclohexenyl) cyclohexane, and a compound represented by the following formula.
【0022】[0022]
【化11】 Embedded image
【0023】これら二価フェノールの中でも、好ましい
ものとしては、3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒド
ロキシビフェニル、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリ
ル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、
2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレン、
1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン、2−アリル−1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4’−ジヒドロ
キシベンザルアセトフェノンなどが挙げられる。Of these dihydric phenols, preferred are 3,3'-diallyl-4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane,
2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene,
1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl)
Cyclohexane, 2-allyl-1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4′-dihydroxybenzalacetophenone, and the like.
【0024】また、前記の炭素−炭素不飽和結合を持た
ない二価フェノールとしては、例えば、4,4’−ジヒ
ドロキシビフェニル、3,3’−ジフルオロ−4,4’
−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシ−
3,3’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジヒドロキ
シ−2,2’−ジメチルビフェニル、4,4’−ジヒド
ロキシ−3,3’−ジシクロヘキシルビフェニルなどの
4,4’−ジヒドロキシビフェニル類;ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)フェニルメタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、ビス(3−ノニル−4−ヒドロキ
シフェニル)メタン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−
4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−
4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−フルオロ
−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタ
ン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、2−ヒド
ロキシフェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビ
ス(2−ヒドロキシ−4メチルフェニル)メタン、ビス
(2−ヒドロキシ−4−メチル−6−tert−ブチル
フェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−4,6−ジ
メチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)−1−フェニルエタン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニ
ル)−1−フェニルエタン、2−(4−ヒドロキシ−3
−メチルフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル)
−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−tert−
ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタ
ン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フルオロ−4−
ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(2−ヒド
ロキシ−4−メチルフェニル)エタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス
(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−sec
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−
4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3
−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,
2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチ
ルフェニル)プロパン、1,1−ビス(2−tert−
ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジフルオロフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5−
クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−4−s
ec−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−
ヒドロキシ−4,6−ジメチルフェニル)プロパン、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,
2−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチル
プロパン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−
ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2−メチルプロパ
ン、1,1−ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−tert
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタ
ン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−
tert−ペンチルフェニル)ブタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ブタ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモ
フェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−3−メチルブタン、3,3−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ヘプタン、2,2−ビス(2−te
rt−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)
ヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オ
クタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノナ
ン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デカン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキ
シ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、1,
1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニ
ル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−フェニル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒド
ロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキ
サンなどのビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類;ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3−フ
ルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エーテルなどのビス
(4−ヒドロキシフェニル)エーテル類;ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)スルフィドなどのビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)スルフィド類;ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)スルホキシド、ビス(3−メチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホキシドなどのビス(4−ヒド
ロキシフェニル)スルホキシド類;ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−4−ヒドロ
キシフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−ヒ
ドロキシフェニル)スルホンなどのビス(4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン類;4,4’−ジヒドロキシベン
ゾフェノンなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)ケト
ン類;9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(3−フェニル−4−
ヒドロキシフェニル)フルオレンなどのビス(ヒドロキ
シフェニル)フルオレン類;4,4”−ジヒドロキシ−
p−ターフェニルなどのジヒドロキシ−p−ターフェニ
ル類;4,4’’’−ジヒドロキシ−p−クォーターフ
ェニルなどのジヒドロキシ−p−クォーターフェニル
類;2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ピラジ
ン、2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,6
−ジメチルピラジン、2,5−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2,6−ジエチルピラジンなどのビス(ヒド
ロキシフェニル)ピラジン類;1,8−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メンタン、2,8−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)メンタン、1,8−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)メンタン、1,8−ビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メンタンな
どのビス(ヒドロキシフェニル)メンタン類;1,4−
ビス〔2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピ
ル〕ベンゼン、1,3−ビス〔2−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−2−プロピル〕ベンゼンなどのビス〔2−
(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼン
類;1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒド
ロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、
2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキ
シナフタレンなどのジヒドロキシナフタレン類;レゾル
シン、ヒドロキノン、カテコールなどのジヒドロキシベ
ンゼン類;α,ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサ
ン、α,ω−ビス〔3−(2−ヒドロキシフェニル)プ
ロピル〕ポリジメチルシロキサンなどのポリシロキサン
類;1,1,8,8−テトラヒドロ−1,8−ジヒドロ
キシパーフルオロオクタン、1,1,6,6−テトラヒ
ドロ−1,6−ジヒドロキシパーフルオロヘキサンなど
のジヒドロパーフルオロアルカン類などが挙げられる。Examples of the dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond include, for example, 4,4'-dihydroxybiphenyl and 3,3'-difluoro-4,4 '
-Dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxy-
4,4′-dihydroxybiphenyls such as 3,3′-dimethylbiphenyl, 4,4′-dihydroxy-2,2′-dimethylbiphenyl, 4,4′-dihydroxy-3,3′-dicyclohexylbiphenyl; bis ( 4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-nonyl-4-hydroxyphenyl) Methane, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-dibromo-
4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-chloro-
4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-ter
t-butyl-4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2-hydroxyphenyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-hydroxy-4methylphenyl) methane, bis (2-hydroxyphenyl) methane -4-methyl-6-tert-butylphenyl) methane, bis (2-hydroxy-4,6-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,2-bis (4- Hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -1-phenylethane,
1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1-phenylethane, 2- (4-hydroxy-3
-Methylphenyl) -2- (4-hydroxyphenyl)
-1-phenylethane, 1,1-bis (2-tert-
Butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 1-phenyl-1,1-bis (3-fluoro-4-
(Hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2, 2-bis (2-methyl-4-hydroxyphenyl) propane,
2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl)
Propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-sec
-Butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2
-Bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-
4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3
-Fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,
2-bis (3-bromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 1,1-bis (2-tert-
Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-
3,5-difluorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxy-5-
Chlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (2-hydroxy-4-s
ec-butylphenyl) propane, 2,2-bis (2-
(Hydroxy-4,6-dimethylphenyl) propane,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,
2- (3-methyl-4-hydroxyphenyl) butane 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-
Hydroxy-5-methylphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-butyl-4-hydroxy-5-
Methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-tert
-Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-
tert-pentylphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) butane, 2,2-bis ( 4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 3,3-bis (4
-Hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (4-
Hydroxyphenyl) hexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 2,2-bis (2-te
rt-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)
Heptane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) nonane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) decane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis ( 4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclohexane, 1,
1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-phenyl-4
-Hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethyl Bis (hydroxyphenyl) alkanes such as cyclohexane; bis (4-hydroxyphenyl) ethers such as bis (4-hydroxyphenyl) ether and bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) ether; bis (4-hydroxyphenyl) ) Sulfide, bis (3-methyl-4)
Bis (4-hydroxyphenyl) sulfides such as -hydroxyphenyl) sulfide; bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxides such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide and bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfoxide; Bis (4-hydroxyphenyl) sulfones such as bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone; 4,4 ′ Bis (4-hydroxyphenyl) ketones such as -dihydroxybenzophenone; 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-phenyl-4-
Bis (hydroxyphenyl) fluorenes such as hydroxyphenyl) fluorene; 4,4 "-dihydroxy-
dihydroxy-p-terphenyls such as p-terphenyl; dihydroxy-p-quarterphenyls such as 4,4 '''-dihydroxy-p-quarterphenyl; 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) pyrazine; 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) -3,6
Bis (hydroxyphenyl) pyrazines such as -dimethylpyrazine, 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) -2,6-diethylpyrazine; 1,8-bis (4-hydroxyphenyl) menthane, 2,8-bis (4-hydroxyphenyl) menthane, 1,8-bis (3-methyl-
4-hydroxyphenyl) menthane, 1,8-bis (4
Bis (hydroxyphenyl) menthanes such as -hydroxy-3,5-dimethylphenyl) menthane; 1,4-
Bis [2- (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] benzene and bis [2- (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] benzene
(4-hydroxyphenyl) -2-propyl] benzenes; 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene,
Dihydroxynaphthalenes such as 2,6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene; dihydroxybenzenes such as resorcin, hydroquinone and catechol; α, ω-dihydroxypolydimethylsiloxane, α, ω-bis [3- (2- Polysiloxanes such as hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane; 1,1,8,8-tetrahydro-1,8-dihydroxyperfluorooctane, 1,1,6,6-tetrahydro-1,6-dihydroxyperfluoro And dihydroperfluoroalkanes such as hexane.
【0025】これら各種の二価フェノール類の中でも、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フ
ェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メ
チルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキ
シ−3−フェニルフェニル)プロパン、4,4’−ジヒ
ドロキシビフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
スルホン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、3,3−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)ペンタン、9,9−ビス(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフェニル)フルオレン、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エーテル、4,4’−ジヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メ
トキシフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフル
オロプロパン、α,ω−ビス〔3−(2−ヒドロキシフ
ェニル)プロピル〕ポリジメチルシロキサン、レゾルシ
ン、2,7−ジヒドロキシナフタレンなどが好ましく、
特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
が好ましい。Among these various dihydric phenols,
2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane,
1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3 -Methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) propane, 4,4'-dihydroxybiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl)
Sulfone, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene , Bis (4-hydroxyphenyl) ether, 4,4′-dihydroxybenzophenone, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, α , Ω-bis [3- (2-hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane, resorcinol, 2,7-dihydroxynaphthalene and the like are preferable,
Particularly, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is preferable.
【0026】前記末端停止剤としては、一価のカルボン
酸とその誘導体や、一価のフェノールを用いることがで
きる。例えば、p−tert−ブチル−フェノール、p
−フェニルフェノール、p−クミルフェノール、p−パ
ーフルオロノニルフェノール、p−(パーフルオロノニ
ルフェニル)フェノール、p−(パーフルオロキシルフ
ェニル)フェノール、p−tert−パーフルオロブチ
ルフェノール、1−(P−ヒドロキシベンジル)パーフ
ルオロデカン、p−〔2−(1H,1H−パーフルオロ
トリドデシルオキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロピル〕フェノール、3,5−ビス(パー
フルオロヘキシルオキシカルボニル)フェノール、p−
ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、p−(1
H,1H−パーフルオロオクチルオキシ)フェノール、
2H,2H,9H−パーフルオロノナン酸、1,1,
1,3,3,3−テトラフロロ−2−プロパノールなど
が好適に用いられる。これら末端停止剤の添加割合は、
共重合組成比として、1〜30モル%、さらに好ましく
は1〜10モル%であり、この割合が30モル%を超え
ると機械的強度の低下を招くことがあり、1モル%未満
であると成形性の低下を招くことがある。As the terminal terminator, a monovalent carboxylic acid and its derivative or a monovalent phenol can be used. For example, p-tert-butyl-phenol, p
-Phenylphenol, p-cumylphenol, p-perfluorononylphenol, p- (perfluorononylphenyl) phenol, p- (perfluoroxylphenyl) phenol, p-tert-perfluorobutylphenol, 1- (P-hydroxy Benzyl) perfluorodecane, p- [2- (1H, 1H-perfluorotridodecyloxy) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] phenol, 3,5-bis (perfluorohexyl) Oxycarbonyl) phenol, p-
Perfluorododecyl hydroxybenzoate, p- (1
H, 1H-perfluorooctyloxy) phenol,
2H, 2H, 9H-perfluorononanoic acid, 1,1,
1,3,3,3-tetrafluoro-2-propanol and the like are preferably used. The addition ratio of these terminal stoppers is
The copolymer composition ratio is from 1 to 30 mol%, more preferably from 1 to 10 mol%. If this ratio exceeds 30 mol%, the mechanical strength may decrease. In some cases, the moldability may be reduced.
【0027】また、分岐剤の具体例としては、フロログ
リシン、ピロガロール、4,6−ジメチル−2,4,6
−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−2−ヘプテン、
2,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキ
シフェニル)−3−ヘプテン、2,4−ジメチル−2,
4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、
1,3,5−トリス(2−ヒドロキシフェニル)ベンゼ
ン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゼン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン、トリス(4−ヒドロキシフェニル)フェニ
ルメタン、2,2−ビス〔4,4−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)シクロヘキシル〕プロパン、2,4−ビス
〔2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピ
ル〕フェノール、2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−
メチルベンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−
ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシフ
ェニル)プロパン、テトラキス(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタン、テトラキス〔4−(4−ヒドロキシフェニ
ルイソプロピル)フェノキシ〕メタン、2,4−ジヒド
ロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、3,3−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−オ
キソ−2,3−ジヒドロインドール、3,3−ビス(4
−ヒドロキシアリール)オキシインドール、5−クロロ
イサチン、5,7−ジクロロイサチン、5−ブロモイサ
チンなどが挙げられる。Specific examples of the branching agent include phloroglysin, pyrogallol, 4,6-dimethyl-2,4,6
-Tris (4-hydroxyphenyl) -2-heptene,
2,6-dimethyl-2,4,6-tris (4-hydroxyphenyl) -3-heptene, 2,4-dimethyl-2,
4,6-tris (4-hydroxyphenyl) heptane,
1,3,5-tris (2-hydroxyphenyl) benzene, 1,3,5-tris (4-hydroxyphenyl) benzene, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) ethane, tris (4-hydroxy Phenyl) phenylmethane, 2,2-bis [4,4-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] propane, 2,4-bis [2-bis (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] phenol, 2, 6-bis (2-hydroxy-5-
Methylbenzyl) -4-methylphenol, 2- (4-
(Hydroxyphenyl) -2- (2,4-dihydroxyphenyl) propane, tetrakis (4-hydroxyphenyl) methane, tetrakis [4- (4-hydroxyphenylisopropyl) phenoxy] methane, 2,4-dihydroxybenzoic acid, trimesic acid , Cyanuric acid, 3,3-
Bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-oxo-2,3-dihydroindole, 3,3-bis (4
-Hydroxyaryl) oxindole, 5-chloroisatin, 5,7-dichloroisatin, 5-bromoisatin and the like.
【0028】これら分岐剤の添加量は、共重合組成比で
30モル%以下、好ましくは5モル%以下であり、これ
が30モル%を超えると成形性の低下を招くことがあ
る。炭酸エステル形成性化合物としては、ホスゲンなど
の各種ジハロゲン化カルボニルや、クロロホーメートな
どのハロホーメート、炭酸エステル化合物などを用い、
酸結合剤の存在下に重縮合を行う反応は、通常、溶媒中
で行う。ホスゲンなどのガス状の炭酸エステル形成性化
合物を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好
適に採用できる。この炭酸エステル形成性化合物の使用
割合は、反応の化学量論比(当量)を考慮して適宜調整
すればよい。The addition amount of these branching agents is 30 mol% or less, preferably 5 mol% or less in terms of the copolymer composition ratio, and if it exceeds 30 mol%, the moldability may be lowered. Examples of the carbonate-forming compound include various carbonyl halides such as phosgene, haloformates such as chloroformate, and carbonate compounds.
The reaction of performing polycondensation in the presence of an acid binder is usually performed in a solvent. When a gaseous carbonate-forming compound such as phosgene is used, a method of blowing it into the reaction system can be suitably employed. The proportion of the carbonate-forming compound used may be appropriately adjusted in consideration of the stoichiometric ratio (equivalent) of the reaction.
【0029】酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム
などのアルカリ金属水酸化物や、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、ピリジンなどの有
機塩基、あるいはこれらの混合物を用いることができ
る。この酸結合剤の使用割合も反応の化学量論比(当
量)を考慮して適宜調整すればよい。具体的には、原料
の二価フェノールの水酸基1モル当たり、1当量もしく
はそれより過剰量、好ましくは1〜5当量の酸結合剤を
使用すればよい。Examples of the acid binder include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and cesium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and organic compounds such as pyridine. A base or a mixture thereof can be used. The proportion of the acid binder used may be appropriately adjusted in consideration of the stoichiometric ratio (equivalent) of the reaction. Specifically, one equivalent or more, preferably 1 to 5 equivalents of an acid binder may be used per 1 mol of hydroxyl groups of the starting dihydric phenol.
【0030】ここで用いる溶媒としては、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素や、塩化メチレン、クロロ
ホルム、1.1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエ
タン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−ト
リクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタ
ン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロ
ロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、
アセトフェノンなどが好適なものとして挙げられる。こ
れら溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組
み合わせて用いてもよい。さらに、互いに混ざり合わな
い2種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行ってもよい。Examples of the solvent used herein include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, methylene chloride, chloroform, 1.1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,1 Halogenated hydrocarbons such as 2-trichloroethane, 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane and chlorobenzene;
Preferred examples include acetophenone. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, an interfacial polycondensation reaction may be performed using two kinds of solvents that are not mixed with each other.
【0031】また、前記触媒としては、トリメチルアミ
ンや、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−
ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルア
ニリンなどの三級アミン、トリメチルベンジルアンモニ
ウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロ
ライド、トリブチルベンジルアンモニウムクロライド、
トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、テトラブ
チルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイドなどの四級アンモニウム塩、テトラブチル
ホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブ
ロマイドなどの四級ホスホニウム塩などが好適である。As the catalyst, trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-
Dimethylcyclohexylamine, pyridine, tertiary amines such as dimethylaniline, trimethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, tributylbenzylammonium chloride,
Quaternary ammonium salts such as trioctylmethylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride and tetrabutylammonium bromide, and quaternary phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium chloride and tetrabutylphosphonium bromide are preferred.
【0032】さらに、所望により、この反応系に亜硫酸
ナトリウムやハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を
少量添加してもよい。つぎに、前記重縮合反応を行う際
の反応条件については、反応温度は、通常、0〜150
℃、好ましくは5〜40℃であり、反応圧力は減圧、常
圧、加圧のいずれでもよいが、通常は常圧もしくは反応
系の自圧程度の加圧下に行うことができる。反応時間に
ついては、反応温度により左右されるが、0.5分間〜
10時間、好ましくは1分間〜2時間程度である。Further, if desired, a small amount of an antioxidant such as sodium sulfite or hydrosulfide may be added to the reaction system. Next, regarding the reaction conditions when performing the polycondensation reaction, the reaction temperature is usually 0 to 150.
° C, preferably 5 to 40 ° C, and the reaction pressure may be any of reduced pressure, normal pressure, and pressurized pressure. However, the reaction can be usually performed under normal pressure or a pressure of about the self-pressure of the reaction system. The reaction time depends on the reaction temperature, but is 0.5 minutes to
It is 10 hours, preferably about 1 minute to 2 hours.
【0033】得られるポリカーボネート樹脂の分子量の
調節をするには、例えば前記反応条件の選択、前記末端
停止剤や分岐剤の使用量の増減などにより行うことがで
きる。また、場合によっては、得られた重合体に適宜物
理的処理(混合、分画など)および/または化学的処理
(ポリマー反応、部分分解処理など)を施して所望の分
子量範囲のものを得るようにしてもよい。The molecular weight of the obtained polycarbonate resin can be adjusted by, for example, selecting the reaction conditions and increasing or decreasing the amount of the terminal terminating agent or the branching agent. In some cases, the obtained polymer is appropriately subjected to physical treatment (mixing, fractionation, etc.) and / or chemical treatment (polymer reaction, partial decomposition treatment, etc.) to obtain a polymer having a desired molecular weight range. It may be.
【0034】このポリカーボネート樹脂の製造法は、様
々な態様で実施可能であり、例えば炭素−炭素不飽和結
合を有する二価フェノールおよび/または炭素−炭素不
飽和結合を有さない二価フェノールとホスゲンなどを反
応させて、ポリカーボネートオリゴマーを製造し、つい
でこのポリカーボネートオリゴマーに、上記の炭素−炭
素不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または炭
素−炭素不飽和結合を有さない二価フェノールを、前記
溶媒および酸結合剤のアルカリ水溶液の混合液の存在下
に反応させる方法を採用してもよい。また、前記の炭素
−炭素不飽和結合を有する二価フェノールおよび/また
は炭素−炭素不飽和結合を有さない二価フェノールとホ
スゲンを、前記溶媒とアルカリ水溶液との混合液中で反
応させる方法を採用してもよい。通常は、前者の、予め
ポリカーボネートオリゴマーを製造する方法が効率的で
あることから好ましい。The process for producing the polycarbonate resin can be carried out in various modes, for example, a dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or a dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond and phosgene. To produce a polycarbonate oligomer. Then, the above-mentioned dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or the dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond is added to the polycarbonate oligomer. A method in which the reaction is carried out in the presence of a mixture of a solvent and an aqueous alkali solution of an acid binder may be employed. Further, a method of reacting the above-mentioned dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond with phosgene in a mixed solution of the above-mentioned solvent and an aqueous alkali solution is provided. May be adopted. Usually, the former method of previously producing a polycarbonate oligomer is preferred because it is efficient.
【0035】ポリカーボネートオリゴマーを製造するに
は、まず、アルカリ水溶液に炭素−炭素不飽和結合を有
する二価フェノールおよび/または炭素−炭素不飽和結
合を有さない二価フェノール(必要に応じて分岐剤を含
めて)を溶解し、二価フェノールのアルカリ水溶液を調
製する。ついで、このアルカリ水溶液と塩化メチレンな
どの有機溶媒との混合液に、ホスゲンを導入して反応さ
せ、炭素−炭素不飽和結合を有する二価フェノールおよ
び/または炭素−炭素不飽和結合を有さない二価フェノ
ールのポリカーボネートオリゴマーを合成する。つい
で、反応溶液を水相と有機相とに分離し、ポリカーボネ
ートオリゴマーを含む有機相を得る。この際、アルカリ
水溶液のアルカリ濃度は、1〜15重量%の範囲が好ま
しく、また有機相と水相との容積比は、10:1〜1:
10、好ましくは5:1〜1:5の範囲である。反応温
度は、冷却下に通常0〜70℃、好ましくは5〜65℃
であり、反応時間は15分間〜4時間、好ましくは30
分間〜3時間程度である。このようにして得られるポリ
カーボネートオリゴマーの平均分子量は2000以下、
重合度は,通常20以下、好ましくは2〜10量体のも
のである。To produce a polycarbonate oligomer, first, a dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or a dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond (optionally, a branching agent ) To prepare an alkaline aqueous solution of a dihydric phenol. Subsequently, phosgene is introduced into a mixture of the aqueous alkali solution and an organic solvent such as methylene chloride to cause a reaction, and a dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or having no carbon-carbon unsaturated bond is used. A polycarbonate oligomer of a dihydric phenol is synthesized. Next, the reaction solution is separated into an aqueous phase and an organic phase to obtain an organic phase containing a polycarbonate oligomer. At this time, the alkali concentration of the aqueous alkali solution is preferably in the range of 1 to 15% by weight, and the volume ratio of the organic phase to the aqueous phase is 10: 1 to 1:
10, preferably in the range of 5: 1 to 1: 5. The reaction temperature is usually 0 to 70 ° C under cooling, preferably 5 to 65 ° C.
And the reaction time is 15 minutes to 4 hours, preferably 30 minutes.
Minutes to 3 hours. The average molecular weight of the polycarbonate oligomer thus obtained is 2,000 or less,
The polymerization degree is usually 20 or less, preferably 2 to 10 mer.
【0036】このようにして得られるポリカーボネート
オリゴマーを含む有機相に、前記炭素−炭素不飽和結合
を有する二価フェノールおよび/または炭素−炭素不飽
和結合を有さない二価フェノールを加えて反応させる。
反応温度は、通常10〜50℃、好ましくは20〜40
℃であり、反応時間は、通常30分間〜2時間程度であ
る。この反応にあたって、炭素−炭素不飽和結合を有す
る二価フェノールおよび/または炭素−炭素不飽和結合
を有さない二価フェノールは有機溶媒溶液および/また
はアルカリ水溶液として添加するのが望ましい。その添
加順序については、特に制限はない。。なお、触媒、末
端停止剤および分岐剤などは、上記の製造法において、
必要に応じ、ポリカーボネートオリゴマーの製造時、そ
の後の高分子量化の反応時のいずれか、またはその両方
において添加して用いることができる。The thus obtained divalent phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or the dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond is added to the organic phase containing the polycarbonate oligomer thus obtained, and reacted. .
The reaction temperature is usually 10 to 50 ° C, preferably 20 to 40 ° C.
° C, and the reaction time is usually about 30 minutes to 2 hours. In this reaction, the dihydric phenol having a carbon-carbon unsaturated bond and / or the dihydric phenol having no carbon-carbon unsaturated bond is desirably added as an organic solvent solution and / or an alkaline aqueous solution. There is no particular limitation on the order of addition. . In addition, the catalyst, the terminal stopper, the branching agent, and the like in the above-described production method,
If necessary, it can be used during the production of the polycarbonate oligomer, during the subsequent reaction for increasing the molecular weight, or both.
【0037】このようにして得られる炭素−炭素不飽和
結合を有するポリカーボネート樹脂は、前記一般式
〔1〕で表される繰返し単位(1)からなる単独重合体
あるいは前記一般式〔1〕で表される繰返し単位(1)
および一般式〔2〕で表される繰返し単位(2)とから
なる共重合体である。これら式〔1〕および〔2〕で表
されるポリカーボネート樹脂について、さらに具体的に
述べると、前記式〔1〕〜〔4f〕において示すX1 〜
X2 、R1 〜R6 が表わす炭素数1〜10のアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、t−
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル
基などが挙げられ、また炭素数6〜12のアリール基と
しては、フェニル基、トリル基、スチリル基、ビフェニ
リル基、ナフチル基などが挙げられ、炭素数1〜12の
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキ
シ基、2−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキ
シ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチル
オキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシ
ルオキシ基、ドデシルオキシ基などが挙げられ、炭素数
6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基とし
ては、フェノキシ基、トリルオキシ基、スチリルオキシ
基、ナフチルオキシ基、ビフェニルオキシ基などが挙げ
られる。また、Yが表わす少なくとも1つの炭素−炭素
不飽和結合を持つ炭素数2〜12の鎖状または環状の炭
化水素基を置換基として有する炭素数5〜12のシクロ
アルキリデン基としては、2−ビニル−1,1−シクロ
ヘキシリデン基、2−アリル−1,1−シクロヘキシリ
デン基、2−(1−シクロヘキセニル)−1,1−シク
ロヘキシリデン基、2−ビニル−1,1−シクロペンチ
リデン基、2−アリル−1,1−シクロペンチリデン
基、2−(1−シクロヘキセニル)−1,1−シクロペ
ンチリデン基などが挙げられる。The polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond obtained in this manner may be a homopolymer composed of the repeating unit (1) represented by the general formula (1) or a resin represented by the general formula (1). Repeating unit (1)
And a repeating unit (2) represented by the general formula [2]. More specifically, with respect to the polycarbonate resins represented by the formulas [1] and [2], X 1 to X 4 shown in the above formulas [1] to [4f]
Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by X 2 and R 1 to R 6 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a 2-butyl group and a t-
Butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, etc., and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms includes phenyl group, tolyl group, styryl Group, biphenylyl group, naphthyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a 2-butoxy group and a t-butoxy group. Group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group and the like, and substituted or unsubstituted aryloxy having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the group include a phenoxy group, a tolyloxy group, a styryloxy group, and a naphthyloxy group. Group, biphenyl oxy group. The cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms and having as a substituent a chain or cyclic hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms having at least one carbon-carbon unsaturated bond represented by Y is 2-vinyl. -1,1-cyclohexylidene group, 2-allyl-1,1-cyclohexylidene group, 2- (1-cyclohexenyl) -1,1-cyclohexylidene group, 2-vinyl-1,1-cyclo Examples include a pentylidene group, a 2-allyl-1,1-cyclopentylidene group, and a 2- (1-cyclohexenyl) -1,1-cyclopentylidene group.
【0038】前記炭素−炭素不飽和結合を有するポリカ
ーボネート樹脂が、前記繰返し単位(1)と繰返し単位
(2)からなる共重合体である場合には、繰返し単位
(1)のモル比〔(1)/((1)+(2))〕が、
0.01以上、好ましくは0.05〜0.3である。こ
のモル比が、0.01未満では、これを架橋させた際の
架橋密度が低く、機械的強度の向上効果の発現が充分に
得られないことがある。When the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is a copolymer composed of the repeating unit (1) and the repeating unit (2), the molar ratio of the repeating unit (1) [(1 ) / ((1) + (2))]
It is 0.01 or more, preferably 0.05 to 0.3. If the molar ratio is less than 0.01, the crosslink density at the time of crosslinking is low, and the effect of improving the mechanical strength may not be sufficiently exhibited.
【0039】また、このポリカーボネート樹脂には、本
発明の目的達成を阻害しない範囲でこれら繰返し単位
(1)および(2)のほか、前記式〔2〕、〔3〕で規
定した以外の構造単位を有するポリカーボネート単位
や、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリ
シロキサン構造を有する単位を含有しているものであっ
てもよい。In addition to the repeating units (1) and (2), structural units other than those defined by the above formulas (2) and (3) may be used in the polycarbonate resin so long as the object of the present invention is not impaired. Or a unit having a polyester unit, a unit having a polyester, polyurethane, polyether, or polysiloxane structure.
【0040】そして、このポリカーボネート樹脂は、塩
化メチレンを溶媒とする0.5g/デシリットルの濃
度、20℃の温度で測定した還元粘度〔ηSP/c〕が
0.01〜10デシリットル/gであるものが好まし
い。この還元粘度〔ηSP/c〕が、0.01デシリット
ル/g未満であると、架橋後の機械的強度が充分でない
ことがある。また、10デシリットル/gを超えるもの
では成形加工性が充分でないことがあり、また、溶液と
した際の粘度が上昇して、後述の電子写真感光体のバイ
ンダー樹脂として用いる際には、塗工液の塗布による電
子写真感光体の製造が困難になることがある。This polycarbonate resin has a reduced viscosity [η SP / c] of 0.01 to 10 deciliter / g measured at a temperature of 20 ° C. at a concentration of 0.5 g / deciliter using methylene chloride as a solvent. Are preferred. If the reduced viscosity [η SP / c] is less than 0.01 deciliter / g, the mechanical strength after crosslinking may not be sufficient. If the amount exceeds 10 deciliters / g, the moldability may not be sufficient, and the viscosity of the solution may increase. The production of an electrophotographic photoreceptor by application of a liquid may be difficult.
【0041】本発明の方法においては、前記炭素−炭素
不飽和結合を有するポリカーボネート樹脂を、遷移金属
触媒、塩基系触媒およびラジカル化学種から選択される
1種または2種以上の物質の存在下、同一分子内に珪素
−水素結合を2つ以上持つ珪素化合物と反応させてヒド
ロシリル化する。ここで用いる珪素化合物は、前記式
〔4a〕〜〔4f〕で表される化合物であり、具体的な
化合物としては、例えばジメチルシラン、ジエチルシラ
ン、ジフェニルシラン、1,1,3,3−テトラメチル
ジシロキサン、1,1,3,3−テトラフェニルジシロ
キサン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルトリシ
ロキサン、1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメ
チルテトラシロキサン、1,1,1,3,5,7,7,
7−オクタメチルテトラシロキサン、1,4−ビス(ジ
メチルシリル)ベンゼン、1,3−ビス(ジメチルシリ
ル)ベンゼン、1,1,3,3−テトラメチルジシラザ
ン、1,2−ビス(1,1,3,3−テトラメチルジシ
ロキサニル)エタン、α,ω−ジヒドロポリジメチルシ
ロキサン、ポリフェニルメチルハイドロジェンシロキサ
ン、メチルトリス(ジメチルシロキシ)シランなどが挙
げられる。In the method of the present invention, the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is treated in the presence of one or more substances selected from transition metal catalysts, base catalysts and radical chemical species. Hydrosilylation is carried out by reacting with a silicon compound having two or more silicon-hydrogen bonds in the same molecule. The silicon compound used here is a compound represented by the formulas [4a] to [4f], and specific compounds include, for example, dimethylsilane, diethylsilane, diphenylsilane, 1,1,3,3-tetra Methyldisiloxane, 1,1,3,3-tetraphenyldisiloxane, 1,1,3,3,5,5-hexamethyltrisiloxane, 1,1,3,3,5,5,7,7- Octamethyltetrasiloxane, 1,1,1,3,5,7,7,
7-octamethyltetrasiloxane, 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene, 1,3-bis (dimethylsilyl) benzene, 1,1,3,3-tetramethyldisilazane, 1,2-bis (1, 1,3,3-tetramethyldisiloxanyl) ethane, α, ω-dihydropolydimethylsiloxane, polyphenylmethylhydrogensiloxane, methyltris (dimethylsiloxy) silane and the like.
【0042】これらシラン化合物の添加量については、
前記ポリカーボネート樹脂中の炭素−炭素不飽和結合の
モル数に対して、シラン化合物中の珪素−水素結合のモ
ル数が0.01〜100当量、好ましくは0.5〜2当
量の範囲となる配合比を選定するのがよい。この配合比
が0.01当量未満となる添加量では、ポリカーボネー
ト樹脂の架橋による機械的物性の向上が不充分であり、
また、100当量を超える配合比で添加すると、過剰に
存在するシラン化合物の一部がポリカーボネート結合と
反応してその重合体鎖が切断されるようになり、架橋に
伴う機械的物性の向上効果が低減することがある。With respect to the addition amount of these silane compounds,
Formulation in which the number of moles of silicon-hydrogen bonds in the silane compound is in the range of 0.01 to 100 equivalents, preferably 0.5 to 2 equivalents, based on the number of moles of carbon-carbon unsaturated bonds in the polycarbonate resin. It is good to choose a ratio. If the compounding ratio is less than 0.01 equivalent, the mechanical properties are not sufficiently improved by the crosslinking of the polycarbonate resin,
In addition, when added at a compounding ratio exceeding 100 equivalents, a part of the silane compound present in excess reacts with the polycarbonate bond to cause the polymer chain to be cut, and the effect of improving the mechanical properties accompanying the crosslinking is reduced. May be reduced.
【0043】また、前記ヒドロシリル化反応に用いる触
媒としては、上記のとおり遷移金属触媒、塩基系触媒お
よびラジカル化学種を用いることができるが、これらの
中でも、遷移金属触媒が反応の収率、副反応の少なさな
らびに触媒添加量の少なさから最も好ましい。この遷移
金属触媒の中ても、周期律表の第VII族〜第X族の遷
移金属触媒が好ましく、具体的には、鉄触媒〔Fe(C
O)5 〕、ルテニウム触媒〔RuCl3 〕、コバルト触
媒〔Co2 (CO)8 〕、ロジウム触媒〔(Ph3 P)
3 RhCl、(Rh(C2 H4 )2 Cl)2 〕、イリジ
ウム触媒〔IrCl3 〕、ニッケル触媒〔(Ph3 P)
2 Ni、(Ph3 P)2 NiCl2 〕、パラジウム触媒
〔(Ph3 P)4 Pd、(Ph3 P)2 PdCl2 〕、
白金触媒〔H2 PtCl6 ・6H2 O、(Ph3 P)4
Pt、(Pt(C2 H4 )Cl2)2 、(Ph3 P)2
PtCl2 、Pt(C2 H4 )(Ph3 P)Cl2 、
(PhCN)2 PtCl2 、K2 PtCl4 、Pt−A
l2 O3 、Pt−C、白金−1,1,3,3−テトラメ
チル−1,3−ジビニルジシロキサン錯体、白金カルボ
ニル錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体〕
などが挙げられる。これらの中でも、Speier触媒
(H2 PtCl6 ・6H2 O−イソプロパノール溶液)
および白金−1,1,3,3−テトラメチル−1,3−
ジビニルジシロキサン錯体がとくに好ましい。As the catalyst used for the hydrosilylation reaction, a transition metal catalyst, a base catalyst and a radical chemical species can be used as described above. It is most preferable because the reaction is small and the amount of catalyst added is small. Among these transition metal catalysts, transition metal catalysts of Groups VII to X of the periodic table are preferable, and specifically, an iron catalyst [Fe (C
O) 5 ], ruthenium catalyst [RuCl 3 ], cobalt catalyst [Co 2 (CO) 8 ], rhodium catalyst [(Ph 3 P)
3 RhCl, (Rh (C 2 H 4 ) 2 Cl) 2 ], iridium catalyst [IrCl 3 ], nickel catalyst [(Ph 3 P)
2 Ni, (Ph 3 P) 2 NiCl 2 ], palladium catalyst [(Ph 3 P) 4 Pd, (Ph 3 P) 2 PdCl 2 ],
Platinum catalyst [H 2 PtCl 6 · 6H 2 O , (Ph 3 P) 4
Pt, (Pt (C 2 H 4 ) Cl 2 ) 2 , (Ph 3 P) 2
PtCl 2 , Pt (C 2 H 4 ) (Ph 3 P) Cl 2 ,
(PhCN) 2 PtCl 2 , K 2 PtCl 4 , Pt-A
l 2 O 3, Pt-C , platinum-1,1,3,3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane complex, a platinum carbonyl complex, a platinum - cyclovinylmethylsiloxane complex]
And the like. Among these, Speier catalyst (H 2 PtCl 6 · 6H 2 O- isopropanol solution)
And platinum-1,1,3,3-tetramethyl-1,3-
Divinyldisiloxane complexes are particularly preferred.
【0044】また、塩基系触媒としては、例えばトリメ
チルアミンやトリエチルアミンなどの各種トリアルキル
アミンを用いることができる。さらに、ラジカル化学種
としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、2,4
−ジクロロベンゾイルパーオキシド、アゾビスイソブチ
ロニトリルなどのパーオキサイドを用いることができ
る。As the base catalyst, for example, various trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine can be used. Further, as the radical species, for example, benzoyl peroxide, 2,4
-Peroxides such as dichlorobenzoyl peroxide and azobisisobutyronitrile can be used.
【0045】そして、これら触媒の添加量は、前記ポリ
カーボネート樹脂の炭素−炭素不飽和結合に対し、1w
tPPM〜1wt%、好ましくは100〜1000wt
PPMの範囲において、反応性を考慮して適宜選択す
る。この触媒の添加量が、1wtPPM未満であると反
応速度が遅く、架橋反応が進行しないことがある。また
これが1wt%を超えると得られる製品が着色するおそ
れがあるので、上記範囲内とするのが適当である。The addition amount of these catalysts is 1 w / w carbon-carbon unsaturated bond of the polycarbonate resin.
tPPM〜1 wt%, preferably 100-1000 wt
In the range of PPM, it is appropriately selected in consideration of reactivity. If the amount of the catalyst is less than 1 wt PPM, the reaction rate is low and the crosslinking reaction may not proceed. If the content exceeds 1% by weight, the obtained product may be colored. Therefore, it is appropriate to set the content within the above range.
【0046】さらに、この反応時の温度は、20〜20
0℃、好ましくは50〜150℃において行うのが適し
ている。反応温度を20℃よりも低くすると、反応速度
が低下し、またこれを200℃以上で行ってもそれに見
合う効果はなく、かえって不経済である。反応時間につ
いては、1秒間〜24時間、好ましくは1分間〜12時
間である。この反応時間を1秒間未満としたのでは充分
に反応が進行しないことがあり、また24時間を超える
時間をかけるのは経済的でない。Further, the temperature during the reaction is from 20 to 20.
It is suitable to carry out at 0 ° C, preferably at 50-150 ° C. If the reaction temperature is lower than 20 ° C., the reaction rate is reduced, and if the reaction is carried out at 200 ° C. or higher, there is no effect corresponding thereto, and it is rather uneconomical. The reaction time is 1 second to 24 hours, preferably 1 minute to 12 hours. If the reaction time is less than 1 second, the reaction may not proceed sufficiently, and it is not economical to spend more than 24 hours.
【0047】このようにして得られる本発明の架橋ポリ
カーボネート樹脂は、例えば、前記同一分子内に珪素−
水素結合を2つ以上持つ珪素化合物において、1つの珪
素−水素結合が、前記炭素−炭素不飽和結合を有するポ
リカーボネート樹脂の分子鎖中の炭素−炭素不飽和結合
と結合し、また、2つ目以降の珪素−水素結合が、別の
ポリカーボネート分子鎖中の炭素−炭素不飽和結合と結
合した形態の結合部位を有し、このような結合部位が数
多くのポリカーボネート分子鎖の間に形成されている。The crosslinked polycarbonate resin of the present invention thus obtained is, for example, silicon-containing in the same molecule.
In a silicon compound having two or more hydrogen bonds, one silicon-hydrogen bond is bonded to a carbon-carbon unsaturated bond in the molecular chain of the polycarbonate resin having the carbon-carbon unsaturated bond, and Subsequent silicon-hydrogen bonds have a bonding site in the form of bonding to a carbon-carbon unsaturated bond in another polycarbonate molecular chain, and such a bonding site is formed between many polycarbonate molecular chains. .
【0048】本発明の架橋ポリカーボネート樹脂の架橋
構造は、架橋に用いる炭素−炭素不飽和結合を有するポ
リカーボネート樹脂の化学構造、とくに不飽和結合のポ
リカーボネート分子鎖への結合部位とその数、前記珪素
化合物の化学構造によって、様々な形態を有するものと
なっている。本発明の架橋ポリカーボネート樹脂の構造
について、具体例を示すと、たとえば下記のものがあ
る。The cross-linked structure of the cross-linked polycarbonate resin of the present invention includes the chemical structure of the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond used for cross-linking, in particular, the bonding site and the number of the unsaturated bond to the polycarbonate molecular chain, Have various forms depending on the chemical structure of Specific examples of the structure of the crosslinked polycarbonate resin of the present invention include the following.
【0049】[0049]
【化12】 Embedded image
【0050】[0050]
【化13】 Embedded image
【0051】[0051]
【化14】 Embedded image
【0052】[0052]
【化15】 Embedded image
【0053】[0053]
【化16】 Embedded image
【0054】[0054]
【化17】 Embedded image
【0055】[0055]
【化18】 Embedded image
【0056】〔上記式中、Ar2 、X1 、R1 、R2 、
p、q、r、s、c、d、e、tは、前記式〔1〕〜
〔2d〕におけるものと同じ意味を有し、Wは、[Wherein Ar 2 , X 1 , R 1 , R 2 ,
p, q, r, s, c, d, e, and t are represented by the formulas [1] to [1].
Has the same meaning as in [2d], wherein W is
【0057】[0057]
【化19】 Embedded image
【0058】(式中、R7 、i、m、n、t、u、v、
wは、前記式〔2d〕〜〔4f〕におけるものと同じ意
味を有する)で表される基である。〕 このようにして反応させてヒドロシリル化した本発明の
架橋ポリカーボネート樹脂は、高い透明性を保持してい
るので、高度の透明性の要求される素材に適している。
また、耐熱性や耐衝撃性、耐摩耗性などの機械的性質、
さらに電気絶縁性に優れていることから、このような諸
性質を兼ね備えていることが要求される電気機器、電子
機器、光学機器などの構成部材や部品、自動車部品、金
属あるいは木工製品のコート材、塗料など広い産業分野
において、有用性の高い素材として利用することができ
る。(Where R 7 , i, m, n, t, u, v,
w is a group represented by the above formulas [2d] to [4f]. The crosslinked polycarbonate resin of the present invention reacted and hydrosilylated in this manner retains high transparency and is suitable for a material requiring high transparency.
In addition, mechanical properties such as heat resistance, impact resistance, and wear resistance,
In addition, because of its excellent electrical insulation properties, components and parts of electrical equipment, electronic equipment, optical equipment, etc., which are required to have these various properties, automotive parts, coating materials for metal or woodwork products It can be used as a highly useful material in a wide range of industrial fields such as paints.
【0059】つぎに、本発明の電子写真感光体は、導電
性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、そ
の感光層が上記架橋ポリカーボネート樹脂を含有する表
面層を有するものである。本発明の電子写真感光体は、
このような感光層が導電性基体上に形成されたものであ
る限り、その構造に特に制限はなく、単層型、積層型な
どの公知の種々の形式の電子写真感光体はもとより、ど
のようなものとしてもよい。通常は、感光層が少なくと
も1層の電荷発生層と、表面層を形成する少なくとも1
層の電荷輸送層を有する積層型電子写真感光体が好まし
く、少なくとも1層の電荷輸送層中に、上記架橋ポリカ
ーボネート樹脂がバインダー樹脂としておよび/または
前記表面層として用いられていることが好ましい。Next, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer provided on a conductive substrate, wherein the photosensitive layer has a surface layer containing the above-mentioned crosslinked polycarbonate resin. is there. The electrophotographic photoreceptor of the present invention is
As long as such a photosensitive layer is formed on a conductive substrate, its structure is not particularly limited, and various types of known electrophotographic photoreceptors such as a single layer type and a multilayer type may be used. It may be good. Usually, the photosensitive layer has at least one charge generation layer and at least one charge-forming layer forming a surface layer.
A layered electrophotographic photoreceptor having a charge transport layer is preferable, and the crosslinked polycarbonate resin is preferably used as a binder resin and / or as the surface layer in at least one charge transport layer.
【0060】本発明の電子写真感光体において、上記架
橋ポリカーボネート樹脂をバインダー樹脂として用いる
場合、この架橋ポリカーボネート樹脂を1種のみまたは
2種以上を組合せて用いてもよいし、また、所望に応じ
て本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカー
ボネート樹脂などの樹脂成分と併用してもよい。本発明
の電子写真感光体に用いられる導電性基体としては、公
知のものなど各種のものを使用することができ、具体的
には、アルミニウムやニッケル、クロム、パラジウム、
チタン、モリブデン、インジウム、金、白金、銀、銅、
亜鉛、真鍮、ステンレス、酸化鉛、酸化錫、酸化インジ
ウム、ITOもしくはグラファイトからなる板やドラ
ム、シート、ならびに蒸着、スパッタリング、塗布など
によりコーティングするなどして導電処理したガラス、
布、紙もしくはプラスチックのフィルム、シートおよび
シームレスベルト、ならびにアルミニウムなどの金属箔
を積層したプラスチックのフィルム、シートおよびシー
ムレスベルトならびに金属板のフィルム状シートおよび
シームレスベルト、ならびに電極酸化などにより金属酸
化処理した金属ドラムなどを使用することができる。When the crosslinked polycarbonate resin is used as a binder resin in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, the crosslinked polycarbonate resin may be used alone or in combination of two or more. You may use together with other resin components, such as a polycarbonate resin, as long as the objective of this invention is not obstructed. As the conductive substrate used in the electrophotographic photoreceptor of the present invention, various types such as known ones can be used, and specifically, aluminum, nickel, chromium, palladium,
Titanium, molybdenum, indium, gold, platinum, silver, copper,
Plates, drums and sheets made of zinc, brass, stainless steel, lead oxide, tin oxide, indium oxide, ITO or graphite, and glass that has been subjected to conductive treatment by coating by vapor deposition, sputtering, coating, etc.
Fabric, paper or plastic films, sheets and seamless belts, and plastic films, sheets and seamless belts laminated with metal foils such as aluminum and film-like sheets and seamless belts of metal plates, and metal oxidation treatments such as electrode oxidation A metal drum or the like can be used.
【0061】積層型電子写真感光体の電荷発生層は、少
なくとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生
層はその下地となる基体上に、真空蒸着法や化学蒸着
法、スパッタリング法によって、電荷発生物質の層を形
成するか、またはその下地となる層上に電荷発生物質を
バインダー樹脂を用いて結着してなる層を形成せしめる
ことによって得ることができる。バインダー樹脂を用い
る電荷発生層の形成方法としては公知の方法など、各種
の方法を使用することができるが、通常、たとえば、電
荷発生物質をバインダー樹脂と共に適当な溶媒により分
散もしくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に
塗布し、乾燥せしめる方法が好適に用いられる。このよ
うにして得られる電荷発生層の厚さは、0.01〜2.
0ミクロン、好ましくは0.1〜0.8ミクロンであ
る。電荷発生層はの厚さを0.01ミクロン未満にする
と均一な厚さに層を形成することが困難であり、また、
2.0ミクロンを超えると電子写真特性の低下を招くこ
とがあるからである。The charge generation layer of the multi-layer type electrophotographic photoreceptor contains at least a charge generation substance, and the charge generation layer is formed on a base substrate by a vacuum evaporation method, a chemical evaporation method, or a sputtering method. It can be obtained by forming a layer of a charge generating substance or by forming a layer formed by binding the charge generating substance on a layer serving as a base using a binder resin. As a method for forming the charge generation layer using a binder resin, various methods such as a known method can be used, and usually, for example, a coating liquid in which a charge generation material is dispersed or dissolved in a suitable solvent together with a binder resin. Is applied onto a predetermined base layer and dried. The thickness of the charge generation layer thus obtained is 0.01 to 2.
0 microns, preferably 0.1-0.8 microns. When the thickness of the charge generation layer is less than 0.01 μm, it is difficult to form a layer with a uniform thickness, and
If it exceeds 2.0 microns, the electrophotographic characteristics may be deteriorated.
【0062】ここで用いる電荷発生物質としては、公知
の各種のものを使用することができる。具体的な化合物
としては、非晶性セレンや三方晶セレンなどのセレン単
体、テルル単体、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合
金などのセレン合金、As2Se3 などのセレン化合物
もしくはセレン含有組成物、酸化亜鉛、、硫化カドミウ
ム、硫化アンチモン、硫化亜鉛、CdS−Seなどの合
金、第12族および第16族元素からなる無機材料、酸
化チタンなどの酸化物系半導体、アモルファスシリコン
などのシリコン系材料、τ型無金属フタロシアニン、χ
型無金属フタロシアニンなどの無金属フタロシアニン顔
料、α型銅フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ
型銅フタロシアニン、ε型銅フタロシアニン、X型銅フ
タロシアニン、A型チタニルフタロシアニン、B型チタ
ニルフタロシアニン、C型チタニルフタロシアニン、D
型チタニルフタロシアニン、E型チタニルフタロシアニ
ン、F型チタニルフタロシアニン、G型チタニルフタロ
シアニン、H型チタニルフタロシアニン、K型チタニル
フタロシアニン、L型チタニルフタロシアニン、M型チ
タニルフタロシアニン、N型チタニルフタロシアニン、
Y型チタニルフタロシアニン、オキソチタニルフタロシ
アニン、X線回折図におけるブラック角2θが27.3
±0.2度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシア
ニンなどの金属フタロシアニン顔料、シアニン染料、ア
ントラセン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノ
ン顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔
料、ピリリウム染料、スクェアリウム顔料、アントアン
トロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオ
インジゴ顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン
顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、ア
ズレニウム染料、トリアリールメタン染料、キサンチン
染料、チアジン染料、チアピリリウム染料、ポリビニル
カルバゾール、ビスベンゾイミダゾール顔料などが挙げ
られる。これら化合物は、1種単独で、あるいは2種以
上のものを混合して、電荷発生物質として用いることが
できる。As the charge generating substance used here, various known substances can be used. Specific compounds include selenium alone such as amorphous selenium and trigonal selenium, tellurium alone, selenium alloys such as selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, selenium compounds such as As 2 Se 3 or selenium-containing compositions , Zinc oxide, cadmium sulfide, antimony sulfide, zinc sulfide, alloys such as CdS-Se, inorganic materials composed of Group 12 and 16 elements, oxide-based semiconductors such as titanium oxide, and silicon-based materials such as amorphous silicon , Τ-type metal-free phthalocyanine, χ
Metal-free phthalocyanine pigments such as type-free metal phthalocyanine, α-type copper phthalocyanine, β-type copper phthalocyanine, γ
Type copper phthalocyanine, ε type copper phthalocyanine, X type copper phthalocyanine, A type titanyl phthalocyanine, B type titanyl phthalocyanine, C type titanyl phthalocyanine, D
Type titanyl phthalocyanine, E type titanyl phthalocyanine, F type titanyl phthalocyanine, G type titanyl phthalocyanine, H type titanyl phthalocyanine, K type titanyl phthalocyanine, L type titanyl phthalocyanine, M type titanyl phthalocyanine, N type titanyl phthalocyanine,
Y-type titanyl phthalocyanine, oxo titanyl phthalocyanine, having a black angle 2θ of 27.3 in the X-ray diffraction pattern
Metal phthalocyanine pigments such as titanyl phthalocyanine showing a strong diffraction peak at ± 0.2 degrees, cyanine dyes, anthracene pigments, bisazo pigments, pyrene pigments, polycyclic quinone pigments, quinacridone pigments, indigo pigments, perylene pigments, pyrylium dyes, squarium Pigments, anthantrone pigments, benzimidazole pigments, azo pigments, thioindigo pigments, quinoline pigments, lake pigments, oxazine pigments, dioxazine pigments, triphenylmethane pigments, azurenium dyes, triarylmethane dyes, xanthine dyes, thiazine dyes, thiapyrylium dyes, Examples thereof include polyvinyl carbazole and bisbenzimidazole pigments. These compounds can be used alone or as a mixture of two or more kinds as a charge generating substance.
【0063】これら電荷発生物質のなかでも、次の一般
式で表される化合物が好適なものとして挙げられる。Among these charge generating substances, the compounds represented by the following general formulas are preferred.
【0064】[0064]
【化20】 Embedded image
【0065】〔式中、Z1 〜Z4 は、各々独立にピロー
ル環上の2個の炭素原子と共に、置換基を有していても
よい芳香族炭化水素環もしくは複素環を形成することが
できる原子団を表し、Mは2個の水素原子または配位子
を有していてもよい金属原子もしくは金属化合物を表わ
す。〕[Wherein, Z 1 to Z 4 each independently form an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring which may have a substituent together with two carbon atoms on the pyrrole ring. And M represents two hydrogen atoms or a metal atom or a metal compound which may have a ligand. ]
【0066】[0066]
【化21】 Embedded image
【0067】〔式中、Ar6 は、芳香族炭化水素環もし
くは複素環を含んでいてもよい共役系を有するt価の残
基を表し、tは1以上の正数であり、Cpは芳香族系水
酸基を有するカップラー残基を表し、tが2以上の場
合、各Cpは同一であっても異なっていてもよい。〕[Wherein, Ar 6 represents a t-valent residue having a conjugated system which may contain an aromatic hydrocarbon ring or a heterocyclic ring, t is a positive number of 1 or more, and Cp is an aromatic group. Represents a coupler residue having a group-based hydroxyl group, and when t is 2 or more, each Cp may be the same or different. ]
【0068】[0068]
【化22】 Embedded image
【0069】〔式中、X2 〜X5 は、各々独立に、酸素
原子、硫黄原子、セレン原子を表し、RP 、RQ は、炭
素数1〜12のアルキル基もしくはアリール基を表し、
X2 またはX3 とRP 、X4 またはX5 とRQ とで置換
基を有していてもよい複素環を形成していてもよい。〕 そして、フルオレン系ジスアゾ顔料としては、つぎの化
合物がある。[Wherein, X 2 to X 5 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom; R P and R Q each represent an alkyl group or an aryl group having 1 to 12 carbon atoms;
X 2 or X 3 and R P , X 4 or X 5 and R Q may form a heterocyclic ring which may have a substituent. The following compounds are examples of fluorene-based disazo pigments.
【0070】[0070]
【化23】 Embedded image
【0071】[0071]
【化24】 Embedded image
【0072】[0072]
【化25】 Embedded image
【0073】また、ペリレン系顔料としては、次の化合
物がある。The following compounds are used as perylene pigments.
【0074】[0074]
【化26】 Embedded image
【0075】[0075]
【化27】 Embedded image
【0076】多環キノン顔料としては、次の化合物があ
る。The polycyclic quinone pigment includes the following compounds.
【0077】[0077]
【化28】 Embedded image
【0078】アントアントロン顔料としては、次の化合
物がある。The following compounds are examples of anthantrone pigments.
【0079】[0079]
【化29】 Embedded image
【0080】ジベンズピレンキノン顔料としては、次の
化合物がある。As the dibenzopyrene quinone pigment, there are the following compounds.
【0081】[0081]
【化30】 Embedded image
【0082】ピラントロン顔料としては、次の化合物が
ある。As the pyranthrone pigment, there are the following compounds.
【0083】[0083]
【化31】 Embedded image
【0084】また、電荷発生層に用いるバインダー樹脂
としては、特に制限はなく、公知の各種のものを使用す
ることができる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポ
リウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミ
ド、ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹
脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン−塩化ビニル共
重合体、メタクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合
体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコ
ーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−
ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹
脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート
樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイ
ン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロー
ス、ニトロセルロース、カルボキシ−メチルセルロー
ス、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレ
ン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリ
スチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリ
チオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレー
ト、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、ポ
リエステルアクリレートなどが挙げられる。上記電荷発
生層におけるバインダー樹脂として、本発明の架橋ポリ
カーボネート樹脂を使用することもできる。The binder resin used for the charge generation layer is not particularly limited, and various known resins can be used. Specifically, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetal, alkyd resin, acrylic resin, polyacrylonitrile, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, phenol resin, polyamide, polyketone, Polyacrylamide, butyral resin, polyester resin, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, methacrylic resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone Resin, silicone-alkyd resin, phenol-
Formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, melamine resin, polyether resin, benzoguanamine resin, epoxy acrylate resin, urethane acrylate resin, poly-N-vinyl carbazole, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polysulfone, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, Nitrocellulose, carboxy-methylcellulose, vinylidene chloride polymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyltoluene-styrene copolymer, soybean oil-modified alkyd resin, nitrated polystyrene, polymethylstyrene, polyisoprene, polythiocarbonate, poly Arylate, polyhaloarylate, polyallyl ether, polyvinyl acrylate, polyester acrylate And the like. As the binder resin in the charge generation layer, the crosslinked polycarbonate resin of the present invention can also be used.
【0085】つぎに、電荷輸送層は、下地となる層(例
えば電荷発生層)上に、電荷輸送物質をバインダー樹脂
で結着してなる層を形成することによって得ることがで
きる。この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法
などの各種の方式を使用することができるが、通常、電
荷輸送物質を本発明における架橋前のポリカーボネート
樹脂と共に、適当な溶媒に分散もしくは溶解した塗工液
を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥させる方式な
どが使用される。電荷輸送層形成に用いられる電荷輸送
物質とポリカーボネート樹脂との配合割合は、好ましく
は重量比で20:80〜80:20、さらに好ましくは
30:70〜70:30である。Next, the charge transport layer can be obtained by forming a layer formed by binding a charge transport substance with a binder resin on a layer serving as a base (for example, a charge generation layer). As a method for forming the charge transport layer, various methods such as a known method can be used, and usually, the charge transport material is dispersed or dissolved in an appropriate solvent together with the polycarbonate resin before crosslinking in the present invention. A method in which a coating liquid is applied on a predetermined base layer and dried is used. The compounding ratio of the charge transport material and the polycarbonate resin used for forming the charge transport layer is preferably 20:80 to 80:20, more preferably 30:70 to 70:30 by weight.
【0086】この電荷輸送層において、上記ポリカーボ
ネート樹脂は、1種単独で用いることもできるし、また
2種以上を混合して用いることもできる。また、本発明
の目的達成を阻害しない範囲で前記電荷発生層に用いら
れるバインダー樹脂として挙げたような樹脂を、上記ポ
リカーボネート樹脂と併用することもできる。このよう
にして形成される電荷輸送層の厚さは、5〜100ミク
ロン、好ましくは10〜30ミクロンである。この厚さ
が5ミクロン未満にすると初期電位が低くなり、100
ミクロンを超えると電子写真特性が低下することがあ
る。In the charge transport layer, the above-mentioned polycarbonate resins can be used alone or as a mixture of two or more. Further, the resins listed as the binder resin used in the charge generation layer may be used in combination with the polycarbonate resin as long as the object of the present invention is not hindered. The thickness of the charge transport layer thus formed is 5-100 microns, preferably 10-30 microns. If the thickness is less than 5 microns, the initial potential will be low,
If it exceeds micron, electrophotographic properties may be deteriorated.
【0087】前記電荷輸送物質としては、公知の各種の
化合物を使用することができる。このような化合物とし
ては、カルバゾール化合物、インドール化合物、イミダ
ゾール化合物、オキサゾール化合物、ピラゾール化合
物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チア
ジアゾール化合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合
物、芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物、スチル
ベン化合物、フルオレノン化合物、キノン化合物、キノ
ジメタン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合
物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビス
イミダゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチ
アゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリ
ン化合物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フ
ェナジン化合物、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルア
クリジン、ポリ−9−ビニルフェニルアントラセン、ピ
レン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹
脂、あるいはこれら構造を主鎖や側鎖に有する重合体な
どが好適に用いられる。これら化合物は、1種単独で使
用してもよいし、2種以上を併用してもよい。As the charge transport material, various known compounds can be used. Such compounds include carbazole compounds, indole compounds, imidazole compounds, oxazole compounds, pyrazole compounds, oxadiazole compounds, pyrazoline compounds, thiadiazole compounds, aniline compounds, hydrazone compounds, aromatic amine compounds, aliphatic amine compounds, stilbene Compound, fluorenone compound, quinone compound, quinodimethane compound, thiazole compound, triazole compound, imidazolone compound, imidazolidine compound, bisimidazolidine compound, oxazolone compound, benzothiazole compound, benzimidazole compound, quinazoline compound, benzofuran compound, acridine compound, phenazine Compound, poly-N-vinylcarbazole, polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polyvinyla Lysine, poly-9-vinylphenyl anthracene, pyrene - formaldehyde resin, ethylcarbazole resin, or the like polymers having these structures in the main chain or side chain is preferably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
【0088】これら化合物としては、次の一般式で表さ
れるものが好適に使用できる。As these compounds, those represented by the following general formula can be suitably used.
【0089】[0089]
【化32】 Embedded image
【0090】〔式中、Ar1 〜Ar3 は、各々独立に、
炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基、炭
素数7〜13の置換もしくは無置換のアラルキル基、炭
素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、多環
式炭化水素基、置換もしくは無置換の縮合多環式炭化水
素基、複素環式基、多環系複素環式基、縮合多環系複素
環式基を表し、Ar1 とAr2 、Ar2 とAr3 、Ar
3 とAr1 とで環を形成していてもよい。〕[Wherein Ar 1 to Ar 3 are each independently
A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a polycyclic hydrocarbon group, Or represents an unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon group, heterocyclic group, polycyclic heterocyclic group, fused polycyclic heterocyclic group, Ar 1 and Ar 2 , Ar 2 and Ar 3 , Ar
3 and Ar 1 may form a ring. ]
【0091】[0091]
【化33】 Embedded image
【0092】〔式中、RA 〜RD は、各々独立にシアノ
基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アシル基、ヒドロ
キシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
リールアミノ基、アラルキルアミノ基、炭素数1〜10
の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数7〜13の
置換もしくは無置換のアラルキル基、炭素数6〜12の
置換もしくは無置換のアリール基、多環式炭化水素基、
置換もしくは無置換の縮合多環式炭化水素基、複素環式
基、多環系複素環式基、縮合多環系複素環式基を表し、
A〜Dは各々0〜5の整数である。〕[Wherein R A to R D each independently represent a cyano group, a halogen atom, a carboxyl group, an acyl group, a hydroxyl group, a nitro group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, an aralkylamino group, Carbon number 1-10
A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a polycyclic hydrocarbon group,
Represents a substituted or unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon group, a heterocyclic group, a polycyclic heterocyclic group, a fused polycyclic heterocyclic group,
A to D are each an integer of 0 to 5. ]
【0093】[0093]
【化34】 Embedded image
【0094】〔式中、Ar1 、Ar2 は、各々独立に水
素原子、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキ
ル基、炭素数7〜13の置換もしくは無置換のアラルキ
ル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール
基、多環式炭化水素基、置換もしくは無置換の縮合多環
式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基、縮合多
環系複素環式基を表し、Ar1 とAr2 は環を形成して
いてもよい。RA は、前記式[Wherein Ar 1 and Ar 2 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, 6 to 12 substituted or unsubstituted aryl groups, polycyclic hydrocarbon groups, substituted or unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon groups, heterocyclic groups, polycyclic heterocyclic groups, fused polycyclic hetero groups It represents a cyclic group, and Ar 1 and Ar 2 may form a ring. R A is the above formula
〔9〕におけるRA と同一
の意味を有し、RB は、エチレン基またはエチニレン基
を表し、Eは0〜4の整数である。〕Have the same meanings as R A in [9], R B represents an ethylene group or an ethynylene group, E is an integer of 0-4. ]
【0095】[0095]
【化35】 Embedded image
【0096】〔式中、Ar1 、Ar2 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 は環を形成していてもよい。RA は、前記式[Wherein Ar 1 and Ar 2 are the same as those of the above formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 may form a ring. R A is the above formula
〔9〕に
おけるR A と同一の意味を有し、RF 、RG は各々独立
に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキ
ル基を表し、Eは0〜4の整数である。〕In [9]
R in AHas the same meaning asF, RGAre independent
A hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl having 1 to 6 carbon atoms
And E is an integer of 0-4. ]
【0097】[0097]
【化36】 Embedded image
【0098】〔式中、Ar1 〜Ar5 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar6 、Ar
7 は、各々独立に炭素数1〜6の置換もしくは無置換の
アルキレン基、あるいは炭素数6〜12の置換もしくは
無置換のアリール化合物、多環式炭化水素、置換もしく
は無置換の縮合多環式炭化水素、複素環化合物、多環系
複素環化合物、縮合多環系複素環化合物の2価残基を表
し、Ar1 とAr2 、Ar 3 とAr4 とは、環を形成し
ていてもよい。〕[Wherein, Ar1~ ArFiveIs the above formula [1
0]1Has the same meaning as6, Ar
7Are each independently a substituted or unsubstituted C 1 -C 6
Alkylene group, or substitution of 6 to 12 carbon atoms or
Unsubstituted aryl compounds, polycyclic hydrocarbons, substituted or unsubstituted
Is an unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon, heterocyclic compound, polycyclic system
Shows divalent residues of heterocyclic compounds and condensed polycyclic heterocyclic compounds.
And Ar1And ArTwo, Ar ThreeAnd ArFourMeans a ring
May be. ]
【0099】[0099]
【化37】 Embedded image
【0100】〔式中、Ar1 〜Ar4 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 、Ar3 とAr4 とは、環を形成していてもよい。R
H 、RIは、前記式[In the formula, Ar 1 to Ar 4 are the same as those in the formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 , Ar 3 and Ar 4 may form a ring. R
H and RI are the above formulas
〔9〕におけるRA と同一の意味を
有し、E、Fは、各々独立に0〜4の整数である。〕It has the same meaning as RA in [9], and E and F are each independently an integer of 0 to 4. ]
【0101】[0101]
【化38】 Embedded image
【0102】〔式中、Ar1 〜Ar4 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 、Ar3 とAr4 とは、環を形成していてもよい。R
A 〜RCは、前記式[Wherein, Ar 1 to Ar 4 represent the above-mentioned formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 , Ar 3 and Ar 4 may form a ring. R
A to R C are the above formulas
〔9〕におけるRA と同一の意味を
有し、E〜Gは、各々独立に0〜4の整数である。X1
は、−O−、−S−、−Se−、−Te−、−CRJ R
K−、−SiRJ RK −、−NRJ −、−PRJ −(た
だし、RJ 、RK は、各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキ
ルアミノ基、炭素数1〜10の置換もしくは無置換のア
ルキル基、炭素数7〜13の置換もしくは無置換のアラ
ルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリ
ール基、多環式炭化水素基、置換もしくは無置換の縮合
多環式炭化水素基、複素環式基、多環系複素環式基、縮
合多環系複素環式基を表す)を表わす。〕It has the same meaning as R A in [9], and E to G are each independently an integer of 0 to 4. X 1
Is -O-, -S-, -Se-, -Te-, -CR J R
K -, - SiR J R K -, - NR J -, - PR J - ( provided that, R J, R K are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkylamino group, an arylamino group, aralkylamino group A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group having 7 to 13 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, a polycyclic hydrocarbon group, Substituted or unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon group, heterocyclic group, polycyclic heterocyclic group, or fused polycyclic heterocyclic group). ]
【0103】[0103]
【化39】 Embedded image
【0104】〔式中、Ar1 、Ar2 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 は、環を形成していてもよい。RA は、前記式[In the formula, Ar 1 and Ar 2 are the same as those in the formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 may form a ring. R A is the above formula
〔9〕
におけるRA と同一の意味を有し、Aは0〜5の整数で
ある。〕[9]
Has the same meaning as RA in A, and A is an integer of 0 to 5. ]
【0105】[0105]
【化40】 Embedded image
【0106】〔式中、Ar1 〜Ar5 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、RA 、R
B は、前記式[Wherein Ar 1 to Ar 5 are the same as those of the above formula [1]
0] has the same meaning as Ar 1 in R 1 , R A , R
B is the above formula
〔9〕におけるRA と同一の意味を有し、
Ar1 とAr 2 、Ar3 とAr4 とは、環を形成してい
てもよい。〕R in [9]AHas the same meaning as
Ar1And Ar Two, ArThreeAnd ArFourIs a ring
You may. ]
【0107】[0107]
【化41】 Embedded image
【0108】〔式中、Ar1 は、前記式〔10〕におけ
るAr1 と同一の意味を有し、RA 〜RC は、前記式
[0108] wherein, Ar 1 has the same meaning as Ar 1 in formula (10), R A to R C is the formula
〔9〕におけるRA と同一の意味を有し、nは0または
1であり、A〜Cは0〜5の整数である。〕It has the same meaning as R A in [9], n is 0 or 1, and A to C are integers of 0 to 5. ]
【0109】[0109]
【化42】 Embedded image
【0110】〔式中、Ar1 〜Ar3 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、RA 〜R
C は、前記式[Wherein, Ar 1 to Ar 3 represent the above-mentioned formula [1]
0] has the same meaning as Ar 1 in R A to R
C is the above formula
〔9〕におけるRA と同一の意味(ただ
し、RB は水素原子であってもよい)を有し、nは0ま
たは1であり、Eは0〜4の整数、Hは0〜3の整数で
ある。〕It has the same meaning as R A in [9] (where R B may be a hydrogen atom), n is 0 or 1, E is an integer of 0 to 4, and H is 0 to 3. It is an integer. ]
【0111】[0111]
【化43】 Embedded image
【0112】〔式中、Ar1 、Ar2 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 は、環を形成していてもよい。〕[Wherein Ar 1 and Ar 2 are the same as those of the above formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 may form a ring. ]
【0113】[0113]
【化44】 Embedded image
【0114】〔式中、Ar1 〜Ar3 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar1 とAr
2 は、環を形成していてもよい。〕[In the formula, Ar 1 to Ar 3 are the same as those in the formula [1]
Have the same meaning as Ar 1 in 0], Ar 1 and Ar
2 may form a ring. ]
【0115】[0115]
【化45】 Embedded image
【0116】〔式中、RA 〜RD 、RI 、RJ は、前記
式[Wherein R A to R D , R I and R J represent the above formulas
〔9〕におけるRA と同一の意味を有し、A〜D、
I、Jは、各々独立に0〜5の整数である。〕Has the same meaning as R A in [9], and A to D;
I and J are each independently an integer of 0 to 5. ]
【0117】[0117]
【化46】 Embedded image
【0118】〔式中、Ar1 〜Ar4 は、前記式〔1
0〕におけるAr1 と同一の意味を有し、Ar6 は、炭
素数1〜6の置換もしくは無置換のアルキレン基、ある
いは炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール化
合物、多環式炭化水素、置換もしくは無置換の縮合多環
式炭化水素、複素環化合物、多環系複素環化合物、縮合
多環系複素環化合物の2価残基を表し、Ar1 とA
r2 、、Ar3 とAr4 とは環を形成していてもよく、
nは0または1である。〕[In the formula, Ar 1 to Ar 4 are the same as those in the formula [1]
0] has the same meaning as Ar 1 and Ar 6 is a substituted or unsubstituted alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl compound having 6 to 12 carbon atoms, polycyclic carbon Hydrogen, a divalent residue of a substituted or unsubstituted fused polycyclic hydrocarbon, a heterocyclic compound, a polycyclic heterocyclic compound, a fused polycyclic heterocyclic compound, and Ar 1 and A
r 2 , Ar 3 and Ar 4 may form a ring,
n is 0 or 1. ]
【0119】[0119]
【化47】 Embedded image
【0120】〔式中、RL 〜RO は、前記式[Wherein R L to R O represent the above formula
〔9〕にお
けるRA と同一の意味を有する。」 具体的には、つぎに示すような化合物が用いられる。It has the same meaning as RA in [9]. Specifically, the following compounds are used.
【0121】[0121]
【化48】 Embedded image
【0122】[0122]
【化49】 Embedded image
【0123】[0123]
【化50】 Embedded image
【0124】[0124]
【化51】 Embedded image
【0125】[0125]
【化52】 Embedded image
【0126】[0126]
【化53】 Embedded image
【0127】[0127]
【化54】 Embedded image
【0128】[0128]
【化55】 Embedded image
【0129】[0129]
【化56】 Embedded image
【0130】[0130]
【化57】 Embedded image
【0131】[0131]
【化58】 Embedded image
【0132】[0132]
【化59】 Embedded image
【0133】[0133]
【化60】 Embedded image
【0134】[0134]
【化61】 Embedded image
【0135】[0135]
【化62】 Embedded image
【0136】[0136]
【化63】 Embedded image
【0137】[0137]
【化64】 Embedded image
【0138】[0138]
【化65】 Embedded image
【0139】[0139]
【化66】 Embedded image
【0140】[0140]
【化67】 Embedded image
【0141】[0141]
【化68】 Embedded image
【0142】[0142]
【化69】 Embedded image
【0143】[0143]
【化70】 Embedded image
【0144】[0144]
【化71】 Embedded image
【0145】[0145]
【化72】 Embedded image
【0146】[0146]
【化73】 Embedded image
【0147】[0147]
【化74】 Embedded image
【0148】[0148]
【化75】 Embedded image
【0149】[0149]
【化76】 Embedded image
【0150】[0150]
【化77】 Embedded image
【0151】[0151]
【化78】 Embedded image
【0152】[0152]
【化79】 Embedded image
【0153】[0153]
【化80】 Embedded image
【0154】[0154]
【化81】 Embedded image
【0155】[0155]
【化82】 Embedded image
【0156】[0156]
【化83】 Embedded image
【0157】[0157]
【化84】 Embedded image
【0158】[0158]
【化85】 Embedded image
【0159】[0159]
【化86】 Embedded image
【0160】[0160]
【化87】 Embedded image
【0161】[0161]
【化88】 Embedded image
【0162】[0162]
【化89】 Embedded image
【0163】[0163]
【化90】 Embedded image
【0164】[0164]
【化91】 Embedded image
【0165】[0165]
【化92】 Embedded image
【0166】[0166]
【化93】 Embedded image
【0167】本発明の電子写真感光体においては、前記
導電性基体と感光層との間に、通常使用されるような下
引き層を設けることができる。この下引き層としては、
酸化チタンや酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン
酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シリ
カ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化イン
ジウム、酸化珪素などの微粒子、ポリアミド樹脂、フェ
ノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミ
ン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロー
ス、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラール樹脂などの成分を使用することができ
る。また、この下引き層に用いる樹脂として、前記バイ
ンダー樹脂を用いてもよいし、本発明のポリカーボネー
ト樹脂を用いてもよい。これら微粒子や樹脂は単独また
は種々混合して用いることができる。これらの混合物と
して用いる場合には、無機質微粒子と樹脂を併用する
と、平滑性のよい皮膜が形成されることから好適であ
る。In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, an undercoat layer as generally used can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. As this undercoat layer,
Fine particles of titanium oxide, aluminum oxide, zirconia, titanic acid, zirconic acid, lanthanum lead, titanium black, silica, lead titanate, barium titanate, tin oxide, indium oxide, silicon oxide, polyamide resin, phenolic resin, casein, Components such as melamine resin, benzoguanamine resin, polyurethane resin, epoxy resin, cellulose, nitrocellulose, polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral resin can be used. As the resin used for the undercoat layer, the binder resin described above or the polycarbonate resin of the present invention may be used. These fine particles and resins can be used alone or in various mixtures. When used as a mixture of these, it is preferable to use inorganic fine particles and a resin in combination, since a film with good smoothness is formed.
【0168】この下引き層の厚みは、0.01〜10ミ
クロン、好ましくは0.01〜1ミクロンである。この
厚みが0.01ミクロン未満であると、下引き層を均一
に形成することが困難であり、また10ミクロンを超え
ると電子写真特性が低下することがある。また、前記導
電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公
知のブロッキング層を設けることができる。このブロッ
キング層としては、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂
を用いることができる。また本発明のポリカーボネート
樹脂を用いてもよい。このブロッキング層の厚みは、
0.01〜20ミクロン、好ましくは0.1〜10ミク
ロンである。この厚みが0.01ミクロン未満である
と、ブロッキング層を均一に形成することが困難であ
り、また20ミクロンを超えると電子写真特性が低下す
ることがある。The undercoat layer has a thickness of 0.01 to 10 microns, preferably 0.01 to 1 micron. If the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to form the undercoat layer uniformly, and if it exceeds 10 μm, the electrophotographic properties may be degraded. In addition, a known blocking layer, which is generally used, can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. As this blocking layer, a resin of the same type as the binder resin described above can be used. Further, the polycarbonate resin of the present invention may be used. The thickness of this blocking layer is
It is between 0.01 and 20 microns, preferably between 0.1 and 10 microns. If the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to form the blocking layer uniformly, and if it exceeds 20 μm, the electrophotographic properties may deteriorate.
【0169】さらに、本発明の電子写真感光体には、感
光層の上に、保護層を積層してもよい。この保護層に
は、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることが
できる。また、本発明のポリカーボネート樹脂を用いる
ことが特に好ましい。この保護層の厚みは、0.01〜
20ミクロン、好ましくは0.1〜10ミクロンであ
る。そして、この保護層には、前記電荷発生物質、電荷
輸送物質、添加剤、金属やその酸化物、窒化物、塩、合
金、カーボンブラック、有機導電性化合物などの導電性
材料を含有していてもよい。Further, in the electrophotographic photosensitive member of the present invention, a protective layer may be laminated on the photosensitive layer. For this protective layer, the same kind of resin as the binder resin described above can be used. It is particularly preferable to use the polycarbonate resin of the present invention. The thickness of this protective layer is 0.01 to
It is 20 microns, preferably 0.1 to 10 microns. The protective layer contains the charge generating substance, the charge transporting substance, an additive, and a conductive material such as a metal and its oxide, nitride, salt, alloy, carbon black, and organic conductive compound. Is also good.
【0170】さらに、この電子写真感光体の性能向上の
ために、前記電荷発生層および電荷輸送層には、結合
剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御
剤、分光感度増感剤(増感染料)を添加してもよい。ま
た、繰返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の
低下、感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸
化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、レベリング剤な
どの添加剤を添加することができる。Further, in order to improve the performance of the electrophotographic photoreceptor, a binder, a plasticizer, a curing catalyst, a fluidity-imparting agent, a pinhole controlling agent, a spectral sensitivity-enhancing agent were added to the charge generation layer and the charge transport layer. A sensitizer (sensitizing dye) may be added. Additives such as various chemical substances, antioxidants, surfactants, anti-curl agents, and leveling agents are used to prevent increase in residual potential, decrease in charge potential, and decrease in sensitivity to repeated use. Can be added.
【0171】前記結合剤としては、シリコーン樹脂、ポ
リアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、
エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリ
アクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソブ
レン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリ
クロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチル
セルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フ
ェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル/
塩化ビニル共重合樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂
などが挙げられる。また、熱および/または光硬化性樹
脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常の
状態で皮膜を形成し得る樹脂であれば、特に制限はな
い。Examples of the binder include silicone resin, polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin,
Epoxy resin, polyketone resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polymethacrylate resin, polyacrylamide resin, polybutadiene resin, polyisobrene resin, melamine resin, benzoguanamine resin, polychloroprene resin, polyacrylonitrile resin, ethylcellulose resin, nitrocellulose resin, urea resin, Phenol resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral resin, formal resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate /
Examples thereof include a vinyl chloride copolymer resin and a polyester carbonate resin. Also, heat and / or light curable resins can be used. In any case, there is no particular limitation as long as the resin is electrically insulating and can form a film in a normal state.
【0172】この結合剤は電荷輸送物質に対して、5〜
200重量%の配合割合で添加することが好ましく、1
0〜100重量%がより好ましい。この結合剤の配合割
合が5重量%未満では感光層の皮膜が不均一になりやす
く、画質が劣る傾向があり、200重量%を超えると感
度が低下し、残留電位が高くなる傾向がある。前記可塑
剤の具体例としては、ビフェニル、塩化ビフェニル、o
−ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフ
タレン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ
オクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレー
ト、トリフェニルフォスフェート、ジイソブチルアジペ
ート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ラウ
リル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリコレート、
ジメチルグリコールフタレート、メチルナフタレン、ベ
ンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、フルオ
ロ炭化水素などが挙げられる。This binder is used in an amount of 5 to 5% with respect to the charge transport material.
Preferably, it is added in a blending ratio of 200% by weight.
0-100% by weight is more preferred. If the amount of the binder is less than 5% by weight, the coating of the photosensitive layer tends to be non-uniform and the image quality tends to be poor. If it exceeds 200% by weight, the sensitivity tends to decrease and the residual potential tends to increase. Specific examples of the plasticizer include biphenyl, biphenyl chloride, o
-Terphenyl, halogenated paraffin, dimethyl naphthalene, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethylene glycol phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, butyl laurate, methyl phthalyl ethyl glycolate,
Examples include dimethyl glycol phthalate, methyl naphthalene, benzophenone, polypropylene, polystyrene, fluorohydrocarbon and the like.
【0173】前記硬化触媒の具体例としては、メタンス
ルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフ
タレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤とし
ては、モダフロー、アクロナール4Fなどが挙げられ、
ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタ
レートが挙げられる。これら可塑剤や硬化触媒、流動付
与剤、ピンホール制御剤は、前記電荷輸送物質に対し
て、5重量%以下で用いることが好ましい。Specific examples of the curing catalyst include methanesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, and the like. Examples of the fluidity-imparting agent include Modaflow and Acronal 4F.
Examples of the pinhole control agent include benzoin and dimethyl phthalate. These plasticizers, curing catalysts, fluidity-imparting agents, and pinhole controlling agents are preferably used in an amount of 5% by weight or less based on the charge transport material.
【0174】また、分光感度増感剤としては、増感染料
を用いる場合には,例えばメチルバイオレット、クリス
タルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルーな
どのトリフェニルメタン系染料、エリスロシン、ローダ
ミンB、ローダミン3R、アクリジンオレンジ、フラペ
オシンなどのアクリジン染料、メチレンブルー、メチレ
ングリーンなどのチアジン染料、カプリブルー、メルド
ラブルーなどのオキサジン染料、シアニン染料、メロシ
アニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染料、チオ
ピリリュウム塩染料などが適している。When a sensitizing dye is used as the spectral sensitivity sensitizer, for example, triphenylmethane dyes such as methyl violet, crystal violet, night blue and Victoria blue, erythrosine, rhodamine B, rhodamine 3R, Suitable are acridine dyes such as acridine orange and flapeosin, thiazine dyes such as methylene blue and methylene green, oxazine dyes such as capri blue and meldra blue, cyanine dyes, merocyanine dyes, styryl dyes, pyrylium salt dyes, and thiopyrium salt dyes. .
【0175】感光層には、感度の向上、残留電位の減
少、反復使用時の疲労低減などの目的で、電子受容性物
質を添加することができる。その具体例としては、無水
コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、
無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ
無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、
テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o
−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、1,3,
5−トリニトロベンゼン、p−ニトロベンゾニトリル、
ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニ
ル、ブロマニル、ベンゾキノン、2,3−ジクロロベン
ゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフト
キノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノ
ン、1−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノ
ン、4−ニトロベンゾフェノン、4,4’−ジニトロベ
ンゾフェノン、4−ニトロベンザルマロンジニトリル、
α−シアノ−β−(p−シアノフェニル)アクリル酸エ
チル、9−アントラセニルメチルマロンジニトリル、1
−シアノ−(p−ニトロフェニル)−2−(p−クロロ
フェニル)エチレン、2,7−ジニトロフルオレノン、
2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7
−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレニリデン−
(ジシアノメチレンマロノニトリル)、ポリニトロ−9
−フルオレニリデン−(ジシアノメチレンマロノジニト
リル)、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ
安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ
安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサ
リチル酸、フタル酸、メリット酸などの電子親和力の大
きい化合物が好ましい。これら化合物は電荷発生層、電
荷輸送層のいずれに加えてもよく、その配合割合は、電
荷発生物質または電荷輸送物質に対して0.01〜20
0重量%、好ましくは0.1〜50重量%である。An electron-accepting substance can be added to the photosensitive layer for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, and reducing fatigue during repeated use. Specific examples thereof include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride,
Phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 3-nitrophthalic anhydride, 4-nitrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, melitic anhydride,
Tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o
-Dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3
5-trinitrobenzene, p-nitrobenzonitrile,
Picryl chloride, quinone chlorimide, chloranil, bromanyl, benzoquinone, 2,3-dichlorobenzoquinone, dichlorodicyanoparabenzoquinone, naphthoquinone, diphenoquinone, tropoquinone, anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, dinitroanthraquinone, 4-nitrobenzophenone, 4,4 '-Dinitrobenzophenone, 4-nitrobenzalmalone dinitrile,
ethyl α-cyano-β- (p-cyanophenyl) acrylate, 9-anthracenylmethylmalondinitrile, 1
-Cyano- (p-nitrophenyl) -2- (p-chlorophenyl) ethylene, 2,7-dinitrofluorenone,
2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7
-Tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidene-
(Dicyanomethylene malononitrile), polynitro-9
-Fluorenylidene- (dicyanomethylenemalonodinitrile), picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitrosalicylic acid Compounds having a high electron affinity, such as phthalic acid, phthalic acid and melitic acid are preferred. These compounds may be added to any of the charge generation layer and the charge transport layer, and the compounding ratio is 0.01 to 20 with respect to the charge generation substance or the charge transport substance.
0% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight.
【0176】また、表面性の改良のため、四フッ化エチ
レン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレ
ン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化
ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそ
れらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いても
よい。これら表面改質剤の配合割合は、前記バインダー
樹脂に対して、0.1〜60重量%、好ましくは5〜4
0重量%である。この配合割合が0.1重量%より少な
いと、表面耐久性、表面エネルギー低下などの表面改質
が充分でなく、60重量%より多いと、電子写真特性の
低下を招くことがある。For improving the surface properties, ethylene tetrafluoride resin, ethylene trifluoride chloride resin, ethylene tetrafluoride hexafluoropropylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, difluoride dichloride Ethylene resins, their copolymers, and fluorine-based graft polymers may be used. The mixing ratio of these surface modifiers is 0.1 to 60% by weight, preferably 5 to 4% by weight, based on the binder resin.
0% by weight. If the content is less than 0.1% by weight, surface modification such as surface durability and surface energy reduction is not sufficient, and if it is more than 60% by weight, electrophotographic properties may be deteriorated.
【0177】前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェ
ノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒン
ダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、
有機リン酸系酸化防止剤などが好ましい。これら酸化防
止剤の配合割合は、前記電荷輸送物質に対して、通常、
0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜2重量%で
ある。Examples of the antioxidant include a hindered phenol antioxidant, an aromatic amine antioxidant, a hindered amine antioxidant, a sulfide antioxidant,
Organic phosphoric acid antioxidants are preferred. The mixing ratio of these antioxidants is usually
It is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight.
【0178】ヒンダードフェノール系の酸化防止剤とし
ては、以下の例がある。Examples of the hindered phenol-based antioxidants include the following.
【0179】[0179]
【化94】 Embedded image
【0180】[0180]
【化95】 Embedded image
【0181】[0181]
【化96】 Embedded image
【0182】また、芳香族アミン系の酸化防止剤として
は、以下の例がある。The following are examples of the aromatic amine antioxidant.
【0183】[0183]
【化97】 Embedded image
【0184】また、ヒンダードアミン系の酸化防止剤と
しては、以下の例がある。Examples of hindered amine antioxidants include the following.
【0185】[0185]
【化98】 Embedded image
【0186】また、スルフィド系の酸化防止剤として
は、以下の例がある。Examples of the sulfide antioxidants include the following.
【0187】[0187]
【化99】 Embedded image
【0188】有機リン系の酸化防止剤としては、以下の
例がある。Examples of the organic phosphorus antioxidants include the following.
【0189】[0189]
【化100】 Embedded image
【0190】さらに、ヒンダードフェノール構造単位と
ヒンダードアミン構造単位とを同一分子内に有する酸化
防止剤としては、以下の例がある。Further, examples of the antioxidant having a hindered phenol structural unit and a hindered amine structural unit in the same molecule include the following.
【0191】[0191]
【化101】 Embedded image
【0192】これら酸化防止剤は、1種単独で用いても
よく、2種以上を混合して用いてもよい、そして、これ
らは前記感光層のほか、表面保護層や下引き層、ブロッ
キング層に添加してもよい。前記電荷発生層、電荷輸送
層の形成の際に用いる溶媒としては、例えばベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼンなどの芳香族系溶
媒や、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ンなどのケトン類、メタノール、エタノール、イソプロ
パノールなどのアルコール類、酢酸エチル、エチルセロ
ソルブなどのエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、
ジクロロメタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエー
テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ジエチルホルムアミドなどが挙げられる。これら溶
媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用
いてもよい。These antioxidants may be used alone or in a combination of two or more. These may be used in addition to the photosensitive layer, a surface protective layer, an undercoat layer, and a blocking layer. May be added. As the solvent used in forming the charge generation layer and the charge transport layer, for example, benzene,
Aromatic solvents such as toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, ethyl acetate and esters such as ethyl cellosolve, carbon tetrachloride, chloroform,
Examples thereof include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and tetrachloroethane, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, and diethylformamide. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.
【0193】つぎに、前記電荷輸送層を形成する方法と
しては、前記電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂の
形成に用いる前記炭素−炭素不飽和結合を有するポリカ
ーボネート樹脂および前記珪素化合物ならびに前記触媒
を溶媒に分散または溶解させてなる塗工液を調製し、こ
れを所定の下地となる例えば前記電荷発生層の上に塗工
し、前記ポリカーボネート樹脂中の炭素−炭素不飽和結
合をヒドロシリル化して、重合体鎖が架橋化したポリカ
ーボネート樹脂がバインダー樹脂として電荷輸送物質と
共存する形態の電荷輸送層を形成する。ここで、前記触
媒は、塗工液中には添加することなく電荷輸送層を形成
した後に、これを添加してもよい。Next, as a method of forming the charge transport layer, the charge transport material, the additive, the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond used for forming the binder resin, the silicon compound, and the catalyst are used. A coating solution prepared by dispersing or dissolving in a solvent is prepared, and this is coated on, for example, the charge generation layer serving as a predetermined base, and the carbon-carbon unsaturated bonds in the polycarbonate resin are hydrosilylated, A charge-transporting layer is formed in a form in which a polycarbonate resin having a crosslinked polymer chain coexists with a charge-transporting substance as a binder resin. Here, the catalyst may be added after forming the charge transport layer without being added to the coating liquid.
【0194】前記塗工液を調製する方法としては、前記
の調合原料をボールミル、超音波、ペイントシェーカ
ー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライタ
ーなどを用いて、分散あるいは溶解させることができ
る。このようにして得られた塗工液を塗工する方法につ
いては、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレ
ー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、スプ
レーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコー
ター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレー
ド塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工
法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工
法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などが採用でき
る。As a method for preparing the coating liquid, the above-mentioned prepared raw material can be dispersed or dissolved using a ball mill, ultrasonic wave, paint shaker, red devil, sand mill, mixer, attritor, or the like. The method of applying the coating liquid obtained in this manner includes dip coating, electrostatic coating, powder coating, spray coating, roll coating, applicator coating, spray coater coating, and bar coating. Coater coating method, roll coater coating method, dip coater coating method, doctor blade coating method, wire bar coating method, knife coater coating method, attritor coating method, spinner coating method, bead coating method, blade coating method, curtain coating method, etc. Can be adopted.
【0195】また、単層型電子写真感光体の感光層の形
成は、前記の電荷輸送物質、電荷輸送物質、添加剤、バ
インダー樹脂の形成に用いる炭素−炭素不飽和結合を有
するポリカーボネート樹脂、珪素化合物、触媒を溶媒に
分散または溶解した溶液を所定の下地となる基体上に塗
布し、前記ポリカーボネート樹脂中の炭素−炭素不飽和
結合をヒドロシリル化することにより行われる。この場
合の塗工液を調製やその塗工法、添加剤などに関して
は、上記積層型電子写真感光体の感光層の形成の場合と
同様である。さらに、この単層型電子写真感光体におい
ても、上記と同様に下引き層、ブロッキング層、表面保
護層を設けてもよい。これら層の形成にも、本発明の架
橋ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。The photosensitive layer of the single-layer type electrophotographic photosensitive member is formed by the above-mentioned charge transporting material, charge transporting material, additive, polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond used for forming the binder resin, silicon resin, or the like. This is carried out by applying a solution in which a compound or a catalyst is dispersed or dissolved in a solvent to a predetermined base, and hydrosilylating carbon-carbon unsaturated bonds in the polycarbonate resin. The preparation of the coating liquid in this case, its coating method, additives and the like are the same as in the case of the formation of the photosensitive layer of the laminated electrophotographic photosensitive member. Further, in this single-layer type electrophotographic photoreceptor, an undercoat layer, a blocking layer, and a surface protective layer may be provided in the same manner as described above. It is preferable to use the crosslinked polycarbonate resin of the present invention also for forming these layers.
【0196】単層型電子写真感光体における感光層の厚
さは、5〜100ミクロン、好ましくは8〜50ミクロ
ンであり、これが5ミクロン未満であると初期電位が低
くなりやすく、100ミクロンを超えると電子写真特性
が低下することがある。この単層型電子写真感光体の製
造に用いられる電荷発生物質:バインダー樹脂の比率
は、重量比で1:99〜30:70、好ましくは3:9
7〜15:85である。また、電荷輸送物質:バインダ
ー樹脂の比率は、重量比で10:90〜80:20、好
ましくは30:70〜70:30である。The thickness of the photosensitive layer in the single-layer type electrophotographic photosensitive member is 5 to 100 μm, preferably 8 to 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, the initial potential tends to be low, and the thickness exceeds 100 μm. And the electrophotographic characteristics may be reduced. The ratio of the charge generating substance to the binder resin used in the production of this single-layer type electrophotographic photoreceptor is 1:99 to 30:70, preferably 3: 9 by weight.
7 to 15:85. The ratio of the charge transporting material to the binder resin is 10:90 to 80:20 by weight, preferably 30:70 to 70:30.
【0197】つぎに、上記のように塗工して形成した塗
膜中の炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂と珪素化合物との反応を行うが、この場合の反応温
度は20〜200℃、好ましくは50〜150℃であ
り、反応時間は1秒間〜24時間、好ましくは1分間〜
12時間である。このようにして得られる本発明の電子
写真感光体は、優れた耐摩耗性を有し、長期間にわたっ
て優れた耐刷性および電子写真特性を維持する感光体で
あり、複写機(モノクロ、マルチカラー、フルカラー;
アナログ、デジタル)プリンター(レーザー、LED、
液晶シャッター)、ファクシミリ、製版機などの各種の
電子写真分野に好適に用いられる。Next, the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond in the coating film formed by coating as described above is reacted with a silicon compound. In this case, the reaction temperature is 20 to 200 ° C. , Preferably 50 to 150 ° C, and the reaction time is 1 second to 24 hours, preferably 1 minute to
12 hours. The electrophotographic photoreceptor of the present invention thus obtained is a photoreceptor having excellent abrasion resistance and maintaining excellent printing durability and electrophotographic characteristics over a long period of time. Color, full color;
Analog, digital) printer (laser, LED,
It is suitably used in various electrophotographic fields such as a liquid crystal shutter, a facsimile, and a plate making machine.
【0198】また、本発明の電子写真感光体を使用する
にあたっては、帯電には、コロナ放電(コロトロン、ス
コロトロン)、接触帯電(帯電ロール、帯電ブラシ)な
どが用いられる。また、露光には、ハロゲンランプや蛍
光ランプ、レーザー(半導体、He−Ne)、LED、
感光体内部露光方式のいずれを採用してもよい。現像に
は、カスケード現像、二成分磁気ブラシ現像、一成分絶
縁トナー現像、一成分導電トナー現像などの乾式現像方
式や湿式現像方式が用いられる。転写には、コロナ転
写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法や、圧力
転写法、粘着転写法が用いられる。定着には、熱ローラ
定着、ラジアントフラッシュ定着、オープン定着、圧力
定着などが用いられる。さらに、クリーニング・除電に
は、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブ
ラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリ
ーナーなどが用いられる。When using the electrophotographic photoreceptor of the present invention, corona discharge (corotron, scorotron), contact charging (charging roll, charging brush) and the like are used for charging. For the exposure, halogen lamps, fluorescent lamps, lasers (semiconductors, He-Ne), LEDs,
Any of the photoconductor internal exposure methods may be employed. For development, a dry development method or a wet development method such as cascade development, two-component magnetic brush development, one-component insulating toner development, or one-component conductive toner development is used. For the transfer, an electrostatic transfer method such as corona transfer, roller transfer, or belt transfer, a pressure transfer method, or an adhesive transfer method is used. For fixing, heat roller fixing, radiant flash fixing, open fixing, pressure fixing and the like are used. Further, a brush cleaner, a magnetic brush cleaner, an electrostatic brush cleaner, a magnetic roller cleaner, a blade cleaner, and the like are used for cleaning and static elimination.
【0199】[0199]
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに具体的
に説明する。 実施例1 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン74
gを、6重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液550ミ
リリットルに溶解した溶液に、塩化メチレン250ミリ
リットルを加えて攪拌しながら、冷却下、該溶液にホス
ゲンガスを950ミリリットル/分間の割合で15分間
吹き込んだ。ついで、この反応液を静置して有機層を分
離し、重合度が2〜4であり、分子末端がクロロホーメ
ート基であるポリカーボネートオリゴマーの塩化メチレ
ン溶液を得た。The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane 74
g in a solution of 550 ml of a 6% by weight aqueous sodium hydroxide solution, 250 ml of methylene chloride was added, and while stirring, phosgene gas was blown into the solution at a rate of 950 ml / min for 15 minutes while cooling. . Then, the reaction solution was allowed to stand, and the organic layer was separated to obtain a methylene chloride solution of a polycarbonate oligomer having a degree of polymerization of 2 to 4 and a molecular terminal having a chloroformate group.
【0200】このポリカーボネートオリゴマーの塩化メ
チレン溶液200ミリリットルに、塩化メチレンを加え
て全量を450ミリリットルとした後、これに、2,2
−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ブロパ
ン20.6gを、8重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶
液150ミリリットルと混合し、さらに分子量調節剤と
してp−tertーブチルフェノール2.0gを加え
た。つぎに、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒と
して7重量%濃度のトリエチルアミン水溶液を2ミリリ
ットル加え、28℃において、攪拌下に1.5時間反応
した。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン1リット
ルで希釈し、ついで、水1.5リットルで2回、0.0
1規定濃度の塩酸1リットルで1回、さらに水1リット
ルで2回の順で洗浄した後、有機層をメタノール中に投
入し、析出した固体を濾過して乾燥することにより、ポ
リカーボネート樹脂を得た。上記で得られたポリカーボ
ネート樹脂につき、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.
5g/デシリットルの溶液の20℃で測定(以下の実施
例も同一条件において測定)した還元粘度〔ηsp/
c〕は、0.89デシリットル/gであった。還元粘度
の測定は、離合社製の自動粘度測定装置VMR−042
を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計(RM
型)で測定した。また、このポリカーボネート樹脂につ
いて測定した1 H−NMRスペクトルにおいては、3.
5ppmおよび5.1ppmにアリル基に基づく吸収ピ
ークが認められ、また7〜8ppmに全芳香族に基づく
吸収ピークが認められ、これらの強度比より、〔a〕
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由
来する繰返し単位と、〔b〕2,2−ビス(3−アリル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し
単位との共重合組成を算出した結果、〔a〕:〔b〕=
0.85:0.15であった。To 200 ml of a methylene chloride solution of this polycarbonate oligomer, methylene chloride was added to make a total amount of 450 ml.
20.6 g of -bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane was mixed with 150 ml of an 8% by weight aqueous sodium hydroxide solution, and 2.0 g of p-tert-butylphenol was further added as a molecular weight regulator. Next, while vigorously stirring this mixture, 2 ml of a 7% by weight aqueous solution of triethylamine was added as a catalyst, and the mixture was reacted at 28 ° C. with stirring for 1.5 hours. After completion of the reaction, the reaction product was diluted with 1 liter of methylene chloride, and then diluted twice with 1.5 liter of water for 0.02.
After washing once with 1 liter of 1N hydrochloric acid and then twice with 1 liter of water, the organic layer is poured into methanol, and the precipitated solid is filtered and dried to obtain a polycarbonate resin. Was. The polycarbonate resin obtained above had a concentration of 0.1 using methylene chloride as a solvent.
The reduced viscosity [ηsp / of the solution of 5 g / deciliter measured at 20 ° C. (measured under the same conditions in the following examples)
c] was 0.89 deciliter / g. The measurement of the reduced viscosity is performed by an automatic viscosity measuring device VMR-042 manufactured by Rigosha
Ubbelohde improved viscometer for automatic viscosity (RM
(Type). In the 1 H-NMR spectrum measured for this polycarbonate resin, 3.
Absorption peaks based on allyl groups were observed at 5 ppm and 5.1 ppm, and absorption peaks based on wholly aromatics were observed at 7 to 8 ppm.
Calculate the copolymer composition of the repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and the repeating unit derived from [b] 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane As a result, [a]: [b] =
0.85: 0.15.
【0201】(2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 次に、上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂0.
5gおよび珪素化合物として1,4−ビス(ジメチルシ
リル)ベンゼン0.065gを、塩化メチレン5ミリリ
ットルに溶解し、これに触媒として白金−1,1,3,
3−テトラメチルジビニルジシロキサン錯体0.002
gのキシレン溶液(濃度:5重量%)を添加し、これを
ポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、アプリケ
ーターを用いてキャスト製膜した。ついで、これを1時
間風乾した後、120℃に昇温して、常圧で2時間反応
させ、さらに120℃、1mmHgの条件で12時間乾
燥することにより、ヒドロシリル化によって架橋された
ポリカーボネート樹脂のフィルムを得た。(2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin Next, the polycarbonate resin obtained in the above (1) was prepared in 0.1%.
5 g and 0.065 g of 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene as a silicon compound were dissolved in 5 ml of methylene chloride, and platinum-1,1,3,3 was used as a catalyst.
3-tetramethyldivinyldisiloxane complex 0.002
g of a xylene solution (concentration: 5% by weight) was added, and this was cast-formed on a polyethylene terephthalate film using an applicator. Then, this was air-dried for 1 hour, heated to 120 ° C., reacted at normal pressure for 2 hours, and further dried at 120 ° C. and 1 mmHg for 12 hours to obtain a polycarbonate resin crosslinked by hydrosilylation. A film was obtained.
【0202】ここで得られた架橋ポリカーボネート樹脂
について、赤外線吸収スペクトル分析を行った結果、架
橋反応を行う前の同分析において認められていた164
0cm-1のビニル基の伸縮に基づく吸収が消失してお
り、このことから架橋反応を行う前のポリカーボネート
樹脂に存在していたアリル基が架橋反応により飽和し
て、トリメチレン結合に変化したと考えられる。したが
って、この架橋ポリカーボネート樹脂の化学構造は、下
記のとおりであると認められた。The crosslinked polycarbonate resin thus obtained was subjected to infrared absorption spectroscopy analysis.
The absorption due to the expansion and contraction of the vinyl group at 0 cm -1 disappeared, which suggests that the allyl group present in the polycarbonate resin before the crosslinking reaction was saturated by the crosslinking reaction and changed to a trimethylene bond. Can be Therefore, it was recognized that the chemical structure of this crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0203】[0203]
【化102】 Embedded image
【0204】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂フィル
ムについては、その透明性を評価するため可視光線の光
線透過率を測定するとともに、スガ試験機社製のスガ摩
耗試験機NUS−ISO−3型を用いて、耐摩耗性の評
価試験をした。摩耗試験の条件としては、500gの荷
重をかけた摩耗紙(スガ試験機社製;粒径3ミクロンの
アルミナ粒子を含有)上で、試料を2000回往復運動
させた後の試料の重量減少量を測定する方法を採用し
た。これら結果を第1表に示す。第1表中の透明性の欄
に、○印が表示してあるものは、350〜600nmの
波長域の全域における光線透過率が90%以上であった
ことを示し、×印が表示してあるものは、350〜60
0nmの波長域において光線透過率が90%未満の波長
域があったことを示す。(3) Evaluation of Crosslinked Polycarbonate For the crosslinked polycarbonate resin film obtained in the above (2), the transmittance of visible light was measured in order to evaluate the transparency, and a Suga tester manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. was measured. An abrasion resistance evaluation test was performed using a wear tester NUS-ISO-3 type. The conditions of the abrasion test were as follows: a sample was reciprocated 2,000 times on abraded paper (manufactured by Suga Test Instruments; containing alumina particles having a particle diameter of 3 microns) with a load of 500 g, and the weight loss of the sample was measured. Was adopted. The results are shown in Table 1. In the transparency column in Table 1, a mark with a circle indicates that the light transmittance in the entire wavelength range of 350 to 600 nm was 90% or more, and a mark with a cross was displayed. Some are 350-60
This indicates that there was a wavelength range where the light transmittance was less than 90% in the wavelength range of 0 nm.
【0205】実施例2 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンに代えて、3,3’−ジアリ
ル−4,4’−ジヒドロキシビフェニル17.8gを用
いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹
脂を得た。得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度
〔ηsp/c〕は、0.86デシリットル/gであっ
た。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結果、
3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸
収ピークと、7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収
ピークとの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共
重合組成を算出した結果、〔a〕2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、
〔b〕3,3’−ジアリル−4,4’−ジヒドロキシビ
フェニルに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕=
0.85:0.15であった。Example 2 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond In place of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 3,3 A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1, except that 17.8 g of '-diallyl-4,4'-dihydroxybiphenyl was used. The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.86 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum,
As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio between the absorption peaks based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups and the absorption peak based on 7 to 8 ppm total aromatic hydrogen, [a] 2 A repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane;
[B] a repeating unit derived from 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybiphenyl is represented by [a]: [b] =
0.85: 0.15.
【0206】(2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであると
認められた。(2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was found to be as follows.
【0207】[0207]
【化103】 Embedded image
【0208】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1.
【0209】実施例3 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン87gを用い、2,2−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代
えて、9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)フルオレン30.7gを用いた他
は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得
た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度
〔ηsp/c〕は、0.85デシリットル/gであっ
た。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結果、
3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸
収ピーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく
吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の
共重合組成を算出した結果、〔a〕1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに由来する繰返し
単位と、〔b〕9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)フルオレンに由来する繰返
し単位とが、〔a〕:〔b〕=0.80:0.20であ
った。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。Example 3 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) cyclohexane 87 g, and instead of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxy-5) was used.
A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 30.7 g of (-methylphenyl) fluorene was used. The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.85 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum,
As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peaks based on allyl groups of 3.5 ppm and 5.1 ppm and the absorption peaks based on wholly aromatic hydrogen of 7 to 8 ppm, [a] 1, 1-bis (4-
A repeating unit derived from (hydroxyphenyl) cyclohexane and a repeating unit derived from [b] 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) fluorene are represented by [a]: [b] = 0.80: 0.20. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0210】[0210]
【化104】 Embedded image
【0211】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1.
【0212】実施例4 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて2,2−ビス(3−メチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロパン83gを用い、2,2−
ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン
に代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
1−フェニルエタン12.8gおよび2,7−ジヒドロ
キシ−3,6−ジアリルナフタレン5.5gを用いた他
は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得
た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度
〔ηsp/c〕は、0.83デシリットル/gであっ
た。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結果、
3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸
収ピークと、1.7ppmの2,2−ビス(3−メチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピー
クおよび7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピー
クの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組
成を算出した結果、〔a〕2,2−ビス(3−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単
位と、〔b〕1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−1−フェニルエタンに由来する繰返し単位、および
〔c〕2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタ
レンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:
〔c〕=0.85:0.10:0.05であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。Example 4 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 2,2-bis (3- Methyl-4-
2,3- (hydroxyphenyl) propane
Instead of bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl)-
A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1, except that 12.8 g of 1-phenylethane and 5.5 g of 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene were used. The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.83 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum,
The absorption peaks based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups and the absorption peak based on 1.7 ppm 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane and 7-8 ppm total aromatic hydrogen As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peaks based on [a] 2,2-bis (3-methyl-
A repeating unit derived from 4-hydroxyphenyl) propane, and [b] 1,1-bis (4-hydroxyphenyl)
A repeating unit derived from -1-phenylethane and [c] a repeating unit derived from 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene are represented by [a]: [b]:
[C] = 0.85: 0.10: 0.05. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin A silicon compound was reacted with the polycarbonate resin obtained in (1) in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0213】[0213]
【化105】 Embedded image
【0214】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1.
【0215】実施例5 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて1,1,1,3,3,3−ヘキサ
フルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン109gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス
(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニニル)プロパン
6.5gおよび1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン17.4gを用いた他
は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得
た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度
〔ηsp/c〕は、0.78デシリットル/gであっ
た。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結果、
3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸
収ピークと、6.8ppmの2,2−ビス(3−フェニ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピ
ーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収
ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重
合組成を算出した結果、〔a〕1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕2,2
−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンに由来する繰返し単位、および〔c〕1,1−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕
=0.80:0.05:0.15であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。Example 5 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 1,1,1,3,3 Using 109 g of 3,3-hexafluoro-2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4) was used.
Instead of -hydroxyphenyl) propane, 6.5 g of 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane and 17.4 g of 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane were used. Other than the above, a polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1. The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.78 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum,
3.5 ppm and 5.1 ppm absorption peaks based on allyl groups, 6.8 ppm absorption peaks based on 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, and 7-8 ppm wholly aromatic hydrogen As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peak based on [a] 1,1,1,3,3,3
A repeating unit derived from hexafluoro-2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and [b] 2,2
A repeating unit derived from -bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane and [c] a repeating unit derived from 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane are represented by [a] : [B]: [c]
= 0.80: 0.05: 0.15. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0216】[0216]
【化106】 Embedded image
【0217】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例6 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて3,3−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−プロペン73gを用い、2,2−ビス
(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代
えてビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン
23.6gおよび下記シリコーン変性ビスフェノール1
gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネ
ート樹脂を得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 6 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) in place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1 Using 73 g of -1-propene, 23.6 g of bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane instead of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane and the following silicone-modified bisphenol 1
A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that g was used.
【0218】[0218]
【化107】 Embedded image
【0219】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.85デシリットル/gで
あった。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結
果、5ppmのビニル基に基づく吸収ピークと、0pp
mの上記シリコーン変性ビスフェノールに基づく吸収ピ
ーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収
ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重
合組成を算出した結果、〔a〕3,3−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−1−プロペンに由来する繰返し単位
と、〔b〕ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニル
メタンに由来する繰返し単位、および〔c〕上記シリコ
ーン変性ビスフェノールに由来する繰返し単位とが、
〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.85:0.149:0.
001であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。[0219] The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.85 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, an absorption peak based on a vinyl group of 5 ppm and 0 pp
As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peak based on the above-mentioned silicone-modified bisphenol and the absorption peak based on wholly aromatic hydrogen of 7 to 8 ppm, [a] 3,3-bis ( A repeating unit derived from 4-hydroxyphenyl) -1-propene, [b] a repeating unit derived from bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, and [c] a repeating unit derived from the silicone-modified bisphenol,
[A]: [b]: [c] = 0.85: 0.149: 0.
001. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0220】[0220]
【化108】 Embedded image
【0221】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例7 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて4,4’−ジヒドロキシベンザル
アセトフェノン〔別名;4,4’−ジヒドロキシカルコ
ン〕78gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロパンに代えて4,4’−ジヒド
ロキシベンゾフェノン9.4gおよび4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルエーテル4.6gを用いた他は、実施
例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 7 (1) Production of Polycarbonate Resin Having Carbon-Carbon Unsaturated Bond 4,4′-Dihydroxybenzalacetophenone [alias] in place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1 4,4'-dihydroxychalcone], 9.4 g of 4,4'-dihydroxybenzophenone and 4,4'-dihydroxydiphenyl ether in place of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4.6 g was used.
【0222】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.84デシリットル/gで
あった。また、このポリカーボネート樹脂の共重合組成
は、〔a〕4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノンに由
来する繰返し単位と、〔b〕4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルエーテルに由来する繰返し単位、および〔c〕
4,4’−ジヒドロキシベンザルアセトフェノンに由来
する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.1
0:0.005:0.85であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。この架橋ポリカー
ボネート樹脂の赤外線吸収スペクトル分析の結果では、
架橋させる前のポリカーボネート樹脂に認められたビニ
ル基の伸縮に基づく1620cm-1の吸収が消失したこ
とから、この架橋ポリカーボネート樹脂の化学構造は、
下記のとおりであると認められた。The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.84 deciliter / g. Further, the copolymer composition of the polycarbonate resin includes (a) a repeating unit derived from 4,4′-dihydroxybenzophenone, (b) a repeating unit derived from 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, and (c)
The repeating unit derived from 4,4′-dihydroxybenzalacetophenone is [a]: [b]: [c] = 0.1
0: 0.005: 0.85. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. In the result of infrared absorption spectrum analysis of this crosslinked polycarbonate resin,
Since the absorption at 1620 cm −1 based on the expansion and contraction of the vinyl group observed in the polycarbonate resin before crosslinking has disappeared, the chemical structure of this crosslinked polycarbonate resin is
It was found that:
【0223】[0223]
【化109】 Embedded image
【0224】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例8 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンに代えて1,3−ビス〔2−(4−ヒドロ
キシフェニル)プロピル〕ベンゼン112gを用い、
2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパンに代えて4,4’−ジヒドロキシスルホン8.
5gおよび2−アリル−1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン10.5gを用いた他は実施
例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 8 (1) Production of Polycarbonate Resin Having Carbon-Carbon Unsaturated Bond Instead of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 1,3-bis [2- (4- Hydroxyphenyl) propyl] benzene 112 g,
2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl)
7. 4,4'-dihydroxysulfone instead of propane
A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 5 g and 2-allyl-1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane 10.5 g were used.
【0225】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.78デシリットル/gで
あった。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結
果、3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づ
く吸収ピークと、1.7ppmの1,3−ビス(2−
(4−ヒドロキシフェニル)プロピル)ベンゼンに基づ
く吸収ピークおよび7〜8ppmの全芳香族水素に基づ
く吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂
の共重合組成を算出した結果、〔a〕1,3−ビス〔2
−(4−ヒドロキシフェニル)プロピル〕ベンゼンに由
来する繰返し単位と、〔b〕4,4’−ジヒドロキシス
ルホンに由来する繰返し単位、および〔c〕2−アリル
−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:
〔c〕=0.80:0.10:0.10であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。[0225] The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.78 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, an absorption peak based on an allyl group at 3.5 ppm and 5.1 ppm and a 1,3-bis (2-
As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peak based on (4-hydroxyphenyl) propyl) benzene and the absorption peak based on 7 to 8 ppm of total aromatic hydrogen, [a] 1,3- Screw [2
A repeating unit derived from-(4-hydroxyphenyl) propyl] benzene, a repeating unit derived from [b] 4,4'-dihydroxysulfone, and [c] 2-allyl-1,1-bis (4-hydroxy A repeating unit derived from phenyl) cyclohexane is represented by [a]: [b]:
[C] = 0.80: 0.10: 0.10. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0226】[0226]
【化110】 Embedded image
【0227】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例9 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンに代えて4,4’−ジヒドロ
キシビフェニル12.3gおよび下記シリコーン変性ビ
スフェノール10gを用いた他は、実施例1と同様にし
てポリカーボネート樹脂を得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 9 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond 4,4′-dihydroxybiphenyl is used in place of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1. A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1, except that 12.3 g and 10 g of the following silicone-modified bisphenol were used.
【0228】[0228]
【化111】 Embedded image
【0229】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.78デシリットル/gで
あった。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結
果、0ppmに上記シリコーン変性ビスフェノールに基
づく吸収ピークと、1.7ppmの2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピークおよ
び7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークの強
度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算
出した結果、〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕4,
4’−ジヒドロキシビフェニルに由来する繰返し単位、
および〔c〕上記シリコーン変性ビスフェノ−ルに由来
する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.8
5:0.14:0.01であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.78 deciliter / g. Further, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, it was found that the absorption peak based on the silicone-modified bisphenol was 0 ppm and the 2,2-bis (4-
As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peak based on (hydroxyphenyl) propane and the absorption peak based on total aromatic hydrogen of 7 to 8 ppm, [a] 2,2-bis (4-hydroxy A repeating unit derived from phenyl) propane;
A repeating unit derived from 4′-dihydroxybiphenyl,
And [c] the repeating unit derived from the silicone-modified bisphenol is [a]: [b]: [c] = 0.8
5: 0.14: 0.01. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0230】[0230]
【化112】 Embedded image
【0231】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例10 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン16.7
gおよび下記シリコーン化合物20gを用いた他は、実
施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂を得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 10 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond Instead of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 2,2-bis (3 −
Phenyl-4-hydroxyphenyl) propane 16.7
g and the following silicone compound 20 g, and a polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1.
【0232】[0232]
【化113】 Embedded image
【0233】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.78デシリットル/gで
あった。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結
果、0ppmに上記シリコーン化合物に基づく吸収ピー
クと、1.7ppmの2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパンに基づく吸収ピークおよび6.8pp
mの2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパンに基づく吸収ピークの強度比から、この
ポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、
〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ンに由来する繰返し単位と、〔b〕2,2−ビス(3−
フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来す
る繰返し単位、および〔c〕上記シリコーン化合物に由
来する繰返し単位とが〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.8
5:0.10:0.05であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.78 deciliter / g. Further, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, the absorption peak based on the silicone compound at 0 ppm, the absorption peak based on 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane at 1.7 ppm, and 6.8 pp
As a result of calculating the copolymer composition of the polycarbonate resin from the intensity ratio of the absorption peak based on m of 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane,
[A] a repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and [b] a 2,2-bis (3-
[A]: [b]: [c] = 0.8. The repeating unit derived from phenyl-4-hydroxyphenyl) propane and [c] the repeating unit derived from the silicone compound
5: 0.10: 0.05. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0234】[0234]
【化114】 Embedded image
【0235】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例11 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン5.2gを用い、かつ、
分子量調節剤として用いたp−tert−ブチルフェノ
ールに代えて2−アリルフェノール11.8gを用いた
ほかは、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂を
得た。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 11 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In place of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 2,2-bis (4 −
(5.2 g of hydroxyphenyl) propane, and
A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1, except that 11.8 g of 2-allylphenol was used instead of p-tert-butylphenol used as a molecular weight regulator.
【0236】ここで得られたポリカーボネート樹脂の還
元粘度〔ηsp/c〕は、0.18デシリットル/gで
あった。また、1 H−NMRスペクトルを測定した結
果、3.5ppmと5.1ppmのアリル基に基づく吸
収ピークと、1.7ppmの2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンに基づく吸収ピークの強度比か
ら、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した
結果、〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕2−アリルフ
ェノールに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕=
0.82:0.18であった。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得られたポリカーボネート樹脂に対し、実
施例1の(2)と同様にして珪素化合物を反応させ、架
橋ポリカーボネート樹脂を製造した。得られた架橋ポリ
カーボネート樹脂の化学構造は、下記のとおりであっ
た。The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.18 deciliter / g. In addition, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, the intensity of the absorption peak based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl group and the intensity of the absorption peak based on 1.7 ppm 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane were measured. As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the ratio, [a] 2,2-bis (4-hydroxyphenyl)
The repeating unit derived from propane and the repeating unit derived from [b] 2-allylphenol are represented by [a]: [b] =
0.82: 0.18. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin The polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with a silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. The chemical structure of the obtained crosslinked polycarbonate resin was as follows.
【0237】[0237]
【化115】 Embedded image
【0238】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例12 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、ジフェニルシラン
0.12gを反応させ、架橋ポリカーボネート樹脂を製
造した。このようにして得られた架橋ポリカーボネート
樹脂は、下記の構造を有するものであった。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 12 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin 0.12 g of diphenylsilane was reacted with 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in (1) in the same manner as in (2) of Example 1 to produce a crosslinked polycarbonate resin. . The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0239】[0239]
【化116】 Embedded image
【0240】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例13 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、1,1,3,3−
テトラメチルジシロキサン0.09gを反応させ、架橋
ポリカーボネート樹脂を製造した。このようにして得ら
れた架橋ポリカーボネート樹脂は、下記の構造を有する
ものであった。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 13 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin To 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1), in the same manner as in (2) of Example 1, 1,1,3,3-
0.09 g of tetramethyldisiloxane was reacted to produce a crosslinked polycarbonate resin. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0241】[0241]
【化117】 Embedded image
【0242】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例14 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、1,1,3,3,
5,5−ヘキサメチルトリシロキサン0.14gを反応
させ、架橋ポリカーボネート樹脂を製造した。このよう
にして得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、下記の構
造を有するものであった。(3) Evaluation of Crosslinked Polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 14 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin To 1,5,3,3, in the same manner as in (2) of Example 1, with respect to 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1).
0.14 g of 5,5-hexamethyltrisiloxane was reacted to produce a crosslinked polycarbonate resin. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0243】[0243]
【化118】 Embedded image
【0244】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例15 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、1,1,1,3,
5,7,7,7−オクタメチルテトラシロキサン0.1
95gを反応させ、架橋ポリカーボネート樹脂を製造し
た。このようにして得られた架橋ポリカーボネート樹脂
は、下記の構造を有するものであった。(3) Evaluation of Crosslinked Polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 15 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin To 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1), in the same manner as in (2) of Example 1, 1,1,1,3,3
5,7,7,7-octamethyltetrasiloxane 0.1
95 g were reacted to produce a crosslinked polycarbonate resin. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0245】[0245]
【化119】 Embedded image
【0246】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例16 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして下記に示す珪素化合
物0.045gを反応させ、架橋ポリカーボネート樹脂
を製造した。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 16 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of Crosslinked Polycarbonate Resin 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1) was reacted with 0.045 g of the following silicon compound in the same manner as in (2) of Example 1 to obtain a crosslinked polycarbonate resin. Manufactured.
【0247】[0247]
【化120】 Embedded image
【0248】このようにして得られた架橋ポリカーボネ
ート樹脂は、下記の構造を有するものであった。The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0249】[0249]
【化121】 Embedded image
【0250】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例17 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、1,1,3,3−
テトラメチルジシラザン0.09gを反応させ、架橋ポ
リカーボネート樹脂を製造した。このようにして得られ
た架橋ポリカーボネート樹脂は、下記の構造を有するも
のであった。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 17 (1) Production of polycarbonate resin having carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin To 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1), in the same manner as in (2) of Example 1, 1,1,3,3-
0.09 g of tetramethyldisilazane was reacted to produce a crosslinked polycarbonate resin. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0251】[0251]
【化122】 Embedded image
【0252】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。 実施例18 (1)炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂の製造 実施例2と同様にして、ポリカーボネート樹脂を製造し
た。 (2)架橋ポリカーボネート樹脂の製造 上記(1)で得たポリカーボネート樹脂0.5gに対
し、実施例1の(2)と同様にして、1,2−ビス
(1,1,3,3−テトラメチルジシロキサニル)エタ
ン0.095gを反応させ、架橋ポリカーボネート樹脂
を製造した。このようにして得られた架橋ポリカーボネ
ート樹脂は、下記の構造を有するものであった。(3) Evaluation of Crosslinked Polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1. Example 18 (1) Production of a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin was produced. (2) Production of crosslinked polycarbonate resin To 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in the above (1), in the same manner as in (2) of Example 1, 1,2-bis (1,1,3,3-tetra 0.095 g of methyldisiloxanyl) ethane was reacted to produce a crosslinked polycarbonate resin. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained had the following structure.
【0253】[0253]
【化123】 Embedded image
【0254】(3)架橋ポリカーボネートの評価 上記(2)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂につ
き、実施例1の(3)と同様にして、透明性および耐摩
耗性の評価をした。結果を第1表に示す。(3) Evaluation of crosslinked polycarbonate The transparency and abrasion resistance of the crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (2) were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1. The results are shown in Table 1.
【0255】比較例1 前述の特開平4−29314号公報記載の実施例と同じ
方法により、ポリカーボネート樹脂を製造し、架橋処理
した後、得られた架橋ポリカーボネート樹脂の透明性お
よび耐摩耗性の評価をした。すなわち、攪拌機と温度
計、ガス導入管および還流冷却器を備えた三つ口フラス
コに、乾燥窒素ガスを流しながら濃度48.5重量%の
水酸化ナトリウム水溶液53.7重量部、水230.8
重量部、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒトロキシフ
ェニル)プロパン31.4重量部、1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン27.3重量部を
仕込んで溶解した。この溶液を20℃に冷却し、攪拌し
ながらホスゲンガス26.2重量部を1時間かけて徐々
に導入した。ついで、濃度48.5重量%の水酸化ナト
リウム水溶液8.4重量部を加え、さらに反応停止剤と
してp−tert−ブチルフェノール0.61重量部を
加え、30℃で1時間重合反応を続けた。反応終了後、
塩化メチレン層を分離して塩酸酸性にした後、水洗して
溶存塩類を除去した。その後、塩化メチレンを蒸発して
固体を得た。この重合体の還元粘度は1.2デシリット
ル/gであった。Comparative Example 1 A polycarbonate resin was produced and cross-linked by the same method as that described in the above-mentioned JP-A-4-29314, and the transparency and abrasion resistance of the obtained cross-linked polycarbonate resin were evaluated. Did. That is, while flowing dry nitrogen gas into a three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a gas inlet tube and a reflux condenser, 53.7 parts by weight of a 48.5% by weight aqueous sodium hydroxide solution and 230.8 parts by weight of water were added.
Parts by weight, 31.4 parts by weight of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxylphenyl) propane, 1,1-bis (4-
27.3 parts by weight of (hydroxyphenyl) cyclohexane was charged and dissolved. The solution was cooled to 20 ° C., and 26.2 parts by weight of phosgene gas was gradually introduced over 1 hour while stirring. Next, 8.4 parts by weight of a 48.5% by weight aqueous solution of sodium hydroxide was added, and 0.61 part by weight of p-tert-butylphenol was further added as a reaction terminator. The polymerization reaction was continued at 30 ° C. for 1 hour. After the reaction,
The methylene chloride layer was separated and acidified with hydrochloric acid, and then washed with water to remove dissolved salts. Thereafter, the methylene chloride was evaporated to obtain a solid. The reduced viscosity of this polymer was 1.2 deciliter / g.
【0256】つぎに、このポリカーボネート樹脂0.5
gと、架橋剤としてペンタエリスリトールテトラキス
(3−メルカプトプロピオネート)0.05gおよびイ
ルガキュアー907(チバガイギー社製)0.005g
とを、塩化メチレン5ミリリットルに溶解させた。この
溶液を厚み250ミクロンのポリエチレンテレフタレー
トフィルムの上に、アプリケーターを用いてキャスト製
膜した。さらに、これを1時間風乾した後、120℃、
1mmHgにおいて12時間乾燥した。得られたサンプ
ルに、80w/cm2 の高圧水銀灯を5秒間照射して、
架橋ポリカーボネート樹脂のフィルムを得た。このよう
にして得られた架橋ポリカーボネート樹脂につき、前記
実施例1の(3)と同様に透明性および耐摩耗性の評価
をした。結果を第1表に示す。Next, the polycarbonate resin 0.5
g, 0.05 g of pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) as a crosslinking agent and 0.005 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba-Geigy)
Was dissolved in 5 ml of methylene chloride. This solution was cast on a 250 micron thick polyethylene terephthalate film using an applicator. Furthermore, after air-drying this for 1 hour,
Dry at 1 mmHg for 12 hours. The obtained sample was irradiated with a high pressure mercury lamp of 80 w / cm 2 for 5 seconds,
A film of a crosslinked polycarbonate resin was obtained. The transparency and abrasion resistance of the thus obtained crosslinked polycarbonate resin were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1 above. The results are shown in Table 1.
【0257】比較例2 上記比較例1において得られた架橋処理を施す前のポリ
カーボネート樹脂0.5gとアゾビスイソブチロニトリ
ル0.025gを、塩化メチレン5ミリリットルに加え
て溶解し、塗工液とした。この塗工液を、厚み250ミ
クロンのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ア
プリケーターを用いてキャスト製膜した。つぎに、これ
を140℃において1時間加熱することにより、架橋反
応を行い、ついで、120℃、1mmHgにおいて12
時間乾燥することによって、架橋ポリカーボネート樹脂
フィルムを得た。このようにして得られた架橋ポリカー
ボネート樹脂につき、前記実施例1の(3)と同様に透
明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示
す。Comparative Example 2 0.5 g of the polycarbonate resin and 0.025 g of azobisisobutyronitrile obtained in Comparative Example 1 before the crosslinking treatment were added to 5 ml of methylene chloride and dissolved. And This coating solution was cast into a film on a 250 micron thick polyethylene terephthalate film using an applicator. Next, this was heated at 140 ° C. for 1 hour to carry out a crosslinking reaction.
By drying for a time, a crosslinked polycarbonate resin film was obtained. The transparency and abrasion resistance of the thus obtained crosslinked polycarbonate resin were evaluated in the same manner as in (3) of Example 1 above. The results are shown in Table 1.
【0258】比較例3 原料の二価フェノールとして2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンを用いて製造した還元粘度0.
77デシリットル/gのポリカーボネート樹脂を、塩化
メチレンに溶解させた後、キャスト法により製膜した。Comparative Example 3 A reduced viscosity of 0.2 produced by using 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane as a raw material dihydric phenol was 0.1.
After 77 deciliter / g of polycarbonate resin was dissolved in methylene chloride, a film was formed by a casting method.
【0259】このようにして得られた架橋ポリカーボネ
ート樹脂につき、前記実施例1の(3)と同様に透明性
および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。The transparency and abrasion resistance of the thus obtained crosslinked polycarbonate resin were evaluated in the same manner as in Example 1 (3). The results are shown in Table 1.
【0260】[0260]
【表1】 [Table 1]
【0261】[0261]
【表2】 [Table 2]
【0262】実施例19 導電性基体としてアルミニウム金属を蒸着したポリエチ
レンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その表面に、
電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して積層型感光層を
形成した電子写真感光体を製造した。電荷発生物質とし
てオキソチタニウムフタロシアニン0.5重量部を用
い、バインダー樹脂としてはブチラール樹脂0.5重量
部を用いた。これらを溶媒の塩化メチレン19重量部に
加え、ボールミルにて分散し、この分散液をバーコータ
ーにより、前記導電性基体フィルム表面に塗工し、乾燥
させることにより、膜厚約0.5ミクロンの電荷発生層
を形成した。Example 19 A polyethylene terephthalate resin film on which aluminum metal was deposited was used as a conductive substrate.
An electrophotographic photoreceptor having a laminated photosensitive layer formed by sequentially laminating a charge generation layer and a charge transport layer was manufactured. 0.5 parts by weight of oxotitanium phthalocyanine was used as the charge generating substance, and 0.5 parts by weight of butyral resin was used as the binder resin. These were added to 19 parts by weight of methylene chloride as a solvent, dispersed by a ball mill, and the dispersion was applied to the surface of the conductive substrate film by a bar coater and dried to obtain a film having a thickness of about 0.5 μm. A charge generation layer was formed.
【0263】つぎに、電荷輸送物質として4−ジベンジ
ルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド−1,1−ジフ
ェニルヒドラゾン0.5gを用い、バインダー樹脂とし
て前記実施例1の(1)で得られた炭素−炭素不飽和結
合を有するポリカーボネート樹脂0.5gと、珪素化合
物として1,4−ビス(ジメチルシリル)ベンゼン0.
065gを用いた。これに、触媒として白金−シクロビ
ニルメチルシロキサン錯体0.002gのキシレン溶液
(白金濃度3.5重量%)と溶媒の塩化メチレン5ミリ
リットルに加えて溶解させ、塗工液とした。この塗工液
をアプリケーターにより、上記電荷発生層の上に塗布
し、乾燥させた。つぎに、この塗膜に、120℃、常
圧、4時間の加熱処理を施し、塗膜中の炭素−炭素不飽
和結合を有するポリカーボネート樹脂の架橋反応を行っ
た。このようにして、塩化メチレン不溶成分(架橋ポリ
カーボネート樹脂)を含有する厚さ約20ミクロンの電
荷輸送層を形成し、ひきつづいて120℃、1mmHg
で12時間乾燥した。この電荷輸送層の形成の過程にお
いて、その塗工液の塗布、乾燥、架橋に至るまで、ポリ
カーボネート樹脂の結晶化による透明性の低下は見られ
なかった。Next, 0.5 g of 4-dibenzylamino-2-methylbenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone was used as a charge transporting substance, and the carbon resin obtained in (1) of Example 1 was used as a binder resin. 0.5 g of a polycarbonate resin having a carbon unsaturated bond and 1,4-bis (dimethylsilyl) benzene 0.1 as a silicon compound.
065 g was used. To this was added a solution of 0.002 g of platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex as a catalyst in a xylene solution (platinum concentration: 3.5% by weight) and 5 ml of methylene chloride as a solvent, and dissolved to obtain a coating liquid. The coating liquid was applied on the charge generation layer by an applicator and dried. Next, this coating film was subjected to a heat treatment at 120 ° C. and normal pressure for 4 hours to carry out a crosslinking reaction of the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond in the coating film. In this manner, a charge transporting layer containing a methylene chloride-insoluble component (crosslinked polycarbonate resin) having a thickness of about 20 μm was formed.
For 12 hours. In the process of forming the charge transport layer, no reduction in transparency due to crystallization of the polycarbonate resin was observed until the coating liquid was applied, dried, and crosslinked.
【0264】ついで、このようにして得られた電子写真
感光体の電子写真特性の評価を行った。その評価試験装
置としては、株式会社川口電機製作所製の静電気帯電試
験装置EPA−8100を用い、−6kvでコロナ放電
を行った際の初期表面電位、10ルックス光照射から5
秒後の残留電位、半減露光量(E1/2 )の測定を行っ
た。これらの測定結果を第2表に示す。また、この電子
写真感光体の耐久性を評価するため、感光層の耐摩耗性
試験を実施した。試験機としては、スガ試験機株式会社
製のスガ摩耗試験機NUS−ISO−3型を用い、摩耗
試験の条件として、500gの荷重をかけた摩耗紙(粒
径3μm のアルミナ粒子を含有)を感光層表面と接触さ
せて2000回の往復運動を行い、重量減少量の測定を
した。この結果を第2表に示す。Next, the electrophotographic characteristics of the thus obtained electrophotographic photosensitive member were evaluated. As an evaluation test apparatus, an electrostatic charging test apparatus EPA-8100 manufactured by Kawaguchi Electric Machinery Co., Ltd. was used, and the initial surface potential when corona discharge was performed at -6 kv, and 5 lux from 10 lux light irradiation.
The residual potential after half a second and the half-life exposure amount (E 1/2 ) were measured. Table 2 shows the measurement results. Further, in order to evaluate the durability of the electrophotographic photosensitive member, a wear resistance test of the photosensitive layer was performed. As a test machine, a Suga abrasion tester NUS-ISO-3 type manufactured by Suga Test Machine Co., Ltd. was used, and as a condition of the abrasion test, a worn paper (containing alumina particles having a particle diameter of 3 μm) with a load of 500 g was applied. The reciprocating motion was performed 2000 times in contact with the surface of the photosensitive layer, and the weight loss was measured. Table 2 shows the results.
【0265】実施例20〜36 電荷輸送層のバインダー樹脂として、実施例2〜18に
記載の炭素−炭素不飽和結合を有するポリカーボネート
樹脂と分子内に2つ以上の珪素−水素結合を持つ化合物
の組合せをそれぞれ使用した他は、いずれも実施例19
と同様にして、電子写真感光体を製造し評価した。これ
ら評価結果を第2表に示す。Examples 20 to 36 As the binder resin for the charge transport layer, the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond described in Examples 2 to 18 and the compound having two or more silicon-hydrogen bonds in the molecule were used. Example 19 except that each combination was used.
In the same manner as in the above, an electrophotographic photosensitive member was manufactured and evaluated. Table 2 shows the evaluation results.
【0266】比較例4 導電性基体と電荷発生層の構成および電荷輸送層の電荷
輸送物質は実施例1と同一物質を同量で用い、電荷輸送
層のバインダー樹脂として、前記比較例1において製造
した未架橋ポリカーボネート樹脂0.5gおよび架橋剤
を記載順にそれぞれ0.05g、0.005gを塩化メ
チレン5ミリリットルに溶解して塗工液とし、架橋条件
を80w/cm2 の高圧水銀灯による5秒間の照射とし
た他は、実施例19と同様にして、電子写真感光体を製
造し評価した。その結果を第2表に示す。Comparative Example 4 The structure of the conductive substrate and the charge generating layer and the same amount of the charge transporting substance as those of Example 1 were used as the charge transporting substance of the charge transporting layer. The uncrosslinked polycarbonate resin (0.5 g) and the crosslinking agent (0.05 g and 0.005 g, respectively) were dissolved in 5 ml of methylene chloride in the stated order to prepare a coating solution, and the crosslinking conditions were 80 w / cm 2 for 5 seconds using a high-pressure mercury lamp. An electrophotographic photosensitive member was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 19 except that irradiation was performed. Table 2 shows the results.
【0267】比較例5 上記比較例4における架橋剤に代えてアゾビスイソブチ
ロニトリル0.025gを用い、さらに架橋条件を14
0℃、1時間とした他は、実施例19と同様にして、電
子写真感光体を製造し評価した。その結果を第2表に示
す。Comparative Example 5 In place of the crosslinking agent in Comparative Example 4, 0.025 g of azobisisobutyronitrile was used.
An electrophotographic photosensitive member was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 19 except that the temperature was changed to 0 ° C. for 1 hour. Table 2 shows the results.
【0268】比較例6 電荷輸送層のバインダー樹脂として、1,1−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンを原料とするポ
リカーボネート樹脂(還元粘度;0.77デシリットル
/g)を使用した他は、実施例19と同様にして、電子
写真感光体を製造し評価をした。その結果を第2表に示
す。Comparative Example 6 As a binder resin for the charge transport layer, 1,1-bis (4
An electrophotographic photoreceptor was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 19, except that a polycarbonate resin (reduced viscosity; 0.77 deciliter / g) using (-hydroxyphenyl) cyclohexane as a raw material was used. Table 2 shows the results.
【0269】[0269]
【表3】 [Table 3]
【0270】[0270]
【表4】 [Table 4]
【0271】[0271]
【発明の効果】本発明の方法によれば、電気機器や電子
機器、自動車部品、コート材、塗料などの分野において
有用性の高い架橋ポリカーボネート樹脂を、架橋工程に
おいてポリカーボネート樹脂の劣化を招く分子切断や化
学変化を伴うことのない、分子内に2つ以上の珪素−水
素結合を有する珪素化合物によるポリカーボネート樹脂
中の炭素−炭素不飽和結合のヒドロシリル化により架橋
することによって、光学的性質および機械的性質とくに
耐摩耗性に優れた架橋ポリカーボネート樹脂を製造する
ことができる。According to the method of the present invention, a crosslinked polycarbonate resin having high utility in the fields of electric equipment, electronic equipment, automobile parts, coating materials, paints, and the like can be cut by molecular cutting which causes deterioration of the polycarbonate resin in the crosslinking step. Optical and mechanical properties by crosslinking by hydrosilylation of carbon-carbon unsaturated bonds in a polycarbonate resin with a silicon compound having two or more silicon-hydrogen bonds in the molecule without causing chemical or chemical changes. A crosslinked polycarbonate resin having excellent properties, especially excellent abrasion resistance, can be produced.
【0272】また、本発明の電子写真感光体は、感光層
のバインダー樹脂として上記架橋ポリカーボネート樹脂
を用いていることから、とくに感光層表面の耐摩耗性が
向上し、耐久性に優れている。Further, the electrophotographic photoreceptor of the present invention uses the above-mentioned crosslinked polycarbonate resin as a binder resin for the photosensitive layer, so that the abrasion resistance of the surface of the photosensitive layer is particularly improved and the durability is excellent.
Claims (6)
ボネート樹脂を、遷移金属触媒、塩基系触媒およびラジ
カル化学種から選択される1種または2種以上の物質の
存在下に、同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ
珪素化合物と反応させてヒドロシリル化することを特徴
とする架橋ポリカーボネート樹脂の製造方法。1. A method for preparing a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond in the same molecule in the presence of one or more substances selected from a transition metal catalyst, a base catalyst and a radical species. -A method for producing a crosslinked polycarbonate resin, which comprises reacting with a silicon compound having two or more hydrogen bonds for hydrosilylation.
カーボネート樹脂が、下記の一般式〔1〕で表される繰
返し単位(1)、または一般式〔1〕で表される繰返し
単位(1)および一般式〔2〕で表される繰返し単位
(2)を有するポリカーボネート樹脂である請求項1記
載の架橋ポリカーボネート樹脂の製造方法。 【化1】 〔式〔1〕中、Ar1 は、 【化2】 (式〔1a〕中のX1 は、単結合、−O−、−CO−、
−S−、−SO−、−SO2 −、−CR3 R4 −(ただ
し、R3 、R4 は各々独立に水素原子、炭素数1〜12
のアルキル基、トリフルオロメチル基または炭素数6〜
12の置換もしくは無置換のアリール基である)、炭素
数5〜12の置換もしくは無置換のシクロアルキリデン
基、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のα,ω−ア
ルキレン基、9,9−フルオレニリデン基、1,8−メ
ンタンジイル基、2,8−メンタンジイル基、置換もし
くは無置換のピラジリデン基、炭素数6〜12の置換も
しくは無置換のアリーレン基または下記一般式〔3〕、 【化3】 (式〔3〕中のR5 は、各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキ
ル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール
基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の
置換もしくは無置換のアリールオキシ基であり、tは0
〜6の整数である)で表される基であり、式〔1a〕〜
〔1c〕中のAは、−(CH2 )h −、−O−(C
H2 )h −、−CO−(CH2 )h −、−COO−(C
H2 )h −で表される基(ただしhは0〜6の整数であ
る)であり、FGは、エチニル基またはビニル基であ
り、p1 、p2 は0〜4の整数(ただしp1 +p2 は1
〜8の整数である)であり、qは1または2であり、s
は1〜6の整数であり、式〔1d〕中のYは少なくとも
1つの炭素−炭素不飽和結合を持つ炭素数2〜12の鎖
状または環状の炭化水素基を置換基として有する炭素数
5〜12のシクロアルキリデン基であり、式〔1a〕〜
〔1g〕中のR1 は、水素原子、ハロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数
6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数1
〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換もしくは
無置換のアリールオキシ基であり、R2 はR1 と同一の
基であるがR2 同士が炭素数1〜10の炭化水素基で結
合されていてもよく、式〔1e〕中のcは0または1で
あり、式〔1f〕〔1g〕中のeは1〜200の整数で
あり、かつd+eの合計が1〜200の整数であり、r
は各々独立に0〜4の整数であり、tは各々独立に0〜
6の整数であり、gは各々独立に0〜200の整数であ
る)で表される二価の基であり、一般式〔2〕中のAr
2 は、 【化4】 (式〔2a〕〜〔2d〕中のX2 、R6 、r、t、g
は、前記X1 、R1 、r、t、gと同じ意味を有し、k
は0〜6の整数である)で表される基である。〕2. The repeating unit (1) represented by the following general formula [1] or the repeating unit (1) represented by the general formula [1], wherein the polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is: The method for producing a crosslinked polycarbonate resin according to claim 1, which is a polycarbonate resin having a repeating unit (2) represented by the general formula [2]. Embedded image [In the formula [1], Ar 1 is (X 1 in the formula [1a] is a single bond, -O-, -CO-,
—S—, —SO—, —SO 2 —, —CR 3 R 4 — (where R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom,
An alkyl group, a trifluoromethyl group or a carbon number of 6 to
A substituted or unsubstituted aryl group having 12 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted cycloalkylidene group having 5 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted α, ω-alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, 9,9- A fluorenylidene group, a 1,8-menthanediyl group, a 2,8-menthanediyl group, a substituted or unsubstituted pyradylidene group, a substituted or unsubstituted arylene group having 6 to 12 carbon atoms, or a compound represented by the following general formula [3]: (R 5 in the formula [3] is independently a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms or a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms;
Which is an integer of from 1 to 6, and a group represented by formula [1a] to
A in [1c] is-(CH 2 ) h- , -O- (C
H 2) h -, - CO- (CH 2) h -, - COO- (C
H 2 ) a group represented by h − (where h is an integer of 0 to 6), FG is an ethynyl group or a vinyl group, and p 1 and p 2 are integers of 0 to 4 (p. 1 + p 2 1
And q is 1 or 2, and s
Is an integer of 1 to 6, and Y in the formula [1d] has 5 carbon atoms having a chain or cyclic hydrocarbon group having 2 to 12 carbon atoms having at least one carbon-carbon unsaturated bond as a substituent. ~ 12 cycloalkylidene groups represented by the formula [1a] ~
R 1 in [1g] is a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
A substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, and R 2 is the same group as R 1 , but R 2 is bonded by a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. C in the formula [1e] is 0 or 1, e in the formula [1f] [1g] is an integer of 1 to 200, and the sum of d + e is an integer of 1 to 200. Yes, r
Are each independently an integer from 0 to 4, and t is each independently 0 to 4
6 is an integer of 6, and g is each independently an integer of 0 to 200).
2 is (X 2 , R 6 , r, t, g in the formulas [2a] to [2d]
Has the same meaning as X 1 , R 1 , r, t, and g, and k
Is an integer of 0 to 6). ]
以上持つ珪素化合物が、下記一般式〔4a〕〜〔4f〕
で表される化合物である請求項1または2記載の架橋ポ
リカーボネートの製造方法。 【化5】 〔式〔4a〕〜〔4f〕中のR7 は、前記R1 と同じ意
味を有し、iは0〜200の整数であり、nは2〜10
0の整数でかつn+mが2〜200の整数であり、u+
vが0〜200の整数であり、wは0〜6の整数であ
る〕3. The silicon compounds having two or more silicon-hydrogen bonds in the same molecule are represented by the following general formulas [4a] to [4f].
The method for producing a crosslinked polycarbonate according to claim 1 or 2, which is a compound represented by the formula: Embedded image [R 7 in the formulas [4a] to [4f] has the same meaning as R 1 , i is an integer of 0 to 200, and n is 2 to 10
An integer of 0 and n + m is an integer of 2 to 200;
v is an integer of 0 to 200, and w is an integer of 0 to 6]
ム触媒、コバルト触媒、ロジウム触媒、イリジウム触
媒、ニッケル触媒、パラジウム触媒および白金触媒から
選択される1種または2種以上の触媒である請求項1〜
3のいずれかに記載の架橋ポリカーボネートの製造方
法。4. The catalyst according to claim 1, wherein the transition metal catalyst is one or more selected from an iron catalyst, a ruthenium catalyst, a cobalt catalyst, a rhodium catalyst, an iridium catalyst, a nickel catalyst, a palladium catalyst and a platinum catalyst. 1 to
3. The method for producing a crosslinked polycarbonate according to any one of 3.
ボネート樹脂を、遷移金属触媒、塩基系触媒およびラジ
カル化学種から選択される1種または2種以上の物質の
存在下に、同一分子内に珪素−水素結合を2つ以上持つ
珪素化合物と反応させてヒドロシリル化してなる架橋ポ
リカーボネート樹脂。5. A method for preparing a polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond in the same molecule in the presence of one or more substances selected from a transition metal catalyst, a base catalyst and a radical chemical species. A crosslinked polycarbonate resin which is hydrosilylated by reacting with a silicon compound having two or more hydrogen bonds.
る電子写真感光体において、該感光層に請求項5記載の
架橋ポリカーボネート樹脂を含有していることを特徴と
する電子写真感光体。6. An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the photosensitive layer contains the crosslinked polycarbonate resin according to claim 5.
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| JP34305797A JP3955373B2 (en) | 1997-12-12 | 1997-12-12 | Method for producing crosslinked polycarbonate resin, crosslinked polycarbonate resin and electrophotographic photoreceptor |
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