JPH11190800A - X-ray generation device - Google Patents
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- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 86
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 72
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 19
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 10
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 21
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 nitric acid compound Chemical class 0.000 description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 8
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 8
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 6
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 5
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 3
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 229910018590 Ni(NO3)2-6H2O Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019788 craving Nutrition 0.000 description 1
- BFMYDTVEBKDAKJ-UHFFFAOYSA-L disodium;(2',7'-dibromo-3',6'-dioxido-3-oxospiro[2-benzofuran-1,9'-xanthene]-4'-yl)mercury;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(Br)=C([O-])C([Hg])=C1OC1=C2C=C(Br)C([O-])=C1 BFMYDTVEBKDAKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、内部で発生したX
線をX線窓を通して外部へ取り出すようにしたX線発生
装置に関する。特に望ましくは、X線窓の周辺が冷却水
等によって冷却される構造のX線発生装置に関する。The present invention relates to an internally generated X.
The present invention relates to an X-ray generator configured to take out rays through an X-ray window to the outside. More preferably, the present invention relates to an X-ray generator having a structure in which the periphery of the X-ray window is cooled by cooling water or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、X線を用いて試料の分析を行うX
線装置として種々の構造のものが知られている。このX
線装置には、一般に、X線を発生するためのX線発生装
置が含まれる。X線発生装置は、一般に、図5に示すよ
うに、高真空に保持されたX線管球51の内部に電子銃
52及びターゲット53を有する。電子銃52は通電に
よって発熱して熱電子を放出し、その熱電子は電子銃5
2とターゲット53との間に印加された高電圧によって
加速されてターゲット53に衝突する。この衝突により
ターゲット53からX線が放射され、放射されたそのX
線はX線窓54を通して外部へ取り出される。2. Description of the Related Art Conventionally, X-rays for analyzing a sample using X-rays are known.
Various types of wire devices are known. This X
X-ray devices generally include an X-ray generator for generating X-rays. The X-ray generator generally has an electron gun 52 and a target 53 inside an X-ray tube 51 held in a high vacuum, as shown in FIG. The electron gun 52 generates heat when energized and emits thermoelectrons.
It is accelerated by the high voltage applied between the target 2 and the target 53 and collides with the target 53. X-rays are emitted from the target 53 due to this collision, and the emitted X-rays
The rays are extracted to the outside through the X-ray window 54.
【0003】X線は人体に対して非常に危険であるた
め、X線窓54の所にはX線シャッタ56が設けられ
る。X線測定等のためにX線が必要となる場合には矢印
A’のようにX線シャッタ56をスライド移動によって
開いてX線の通過を許容する。一方、X線が必要でない
場合には矢印AのようにX線シャッタ56を閉じてX線
の通過を禁止する。[0003] Since X-rays are extremely dangerous to the human body, an X-ray shutter 56 is provided at the X-ray window 54. When X-rays are required for X-ray measurement or the like, the X-ray shutter 56 is opened by sliding movement as indicated by an arrow A 'to allow passage of the X-rays. On the other hand, when X-rays are not required, the X-ray shutter 56 is closed as shown by arrow A to prohibit the passage of X-rays.
【0004】X線シャッタ56は、X線を十分に遮断す
る必要があることから、X線吸収の大きい材料、例えば
鉛、ヘビーメタル等といった重金属を用いて形成される
ことが多い。また、X線シャッタ56を摺動可能に支持
するシャッタベース57は、黄銅、ステンレス等といっ
た金属が使用されることが多い。また、X線の漏洩をよ
り完全に防ぐため、シャッタベース57とX線シャッタ
56との間の隙間はできる限り狭くする必要がある。そ
してそれと同時に、X線シャッタ56はシャッタベース
57の中で滑らかにスライド移動できなければならな
い。Since the X-ray shutter 56 needs to sufficiently block X-rays, it is often formed of a material having a large X-ray absorption, for example, a heavy metal such as lead or heavy metal. The shutter base 57 that slidably supports the X-ray shutter 56 is often made of a metal such as brass or stainless steel. Further, in order to more completely prevent the leakage of X-rays, it is necessary to make the gap between the shutter base 57 and the X-ray shutter 56 as narrow as possible. At the same time, the X-ray shutter 56 must be able to slide smoothly within the shutter base 57.
【0005】X線窓54の周辺領域は、X線管球51内
で発生する熱の影響を防ぐために冷却される場合が多
く、その場合には、X線窓54の外側に管球に密着して
取り付けられたX線シャッタ56も比較的に低温とな
り、その結果、X線シャッタ56のまわりの雰囲気は結
露し易くなる。このような状態でX線を発生すると、放
射線、水分、X線シャッタ56、シャッタベース57等
が化学的に反応し、その結果、硝酸化合物が生成され
る。[0005] The area around the X-ray window 54 is often cooled in order to prevent the influence of heat generated in the X-ray tube 51. The attached X-ray shutter 56 also has a relatively low temperature, and as a result, the atmosphere around the X-ray shutter 56 is easily dewed. When X-rays are generated in such a state, radiation, moisture, the X-ray shutter 56, the shutter base 57, and the like chemically react, and as a result, a nitric acid compound is generated.
【0006】X線シャッタ56をヘビーメタルによって
形成し、シャッタベース57を黄銅によって形成した場
合、分析の結果、 Ni(NO3)26H2O、Ni(NO3)22H2O、Cu
2(OH)3NO3 等といった硝酸化合物が生成し、これらの生成物がX線
シャッタ56及びシャッタベース57に付着することが
わかった。このような硝酸化合物の付着が発生すると、
X線シャッタ56のスライド移動が滑らかにできなくな
り、それ故、X線シャッタ56によって正常なシャッタ
動作を行うことができなくなるという問題が生じる。[0006] The X-ray shutter 56 formed by heavy metal, if the shutter base 57 is formed by brass, results of the analysis, Ni (NO 3) 2 6H 2 O, Ni (NO 3) 2 2H 2 O, Cu
It was found that nitrate compounds such as 2 (OH) 3 NO 3 were generated, and these products adhered to the X-ray shutter 56 and the shutter base 57. When such nitrate compound adhesion occurs,
The slide movement of the X-ray shutter 56 cannot be performed smoothly, and therefore, there arises a problem that the X-ray shutter 56 cannot perform a normal shutter operation.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みて成されたものであって、X線シャッタ等とい
った摺動部材の摺動移動、例えば開閉移動を長期間にわ
たって正常に行うことができるX線発生装置を提供する
ことを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and has been made in view of the fact that the sliding movement of a sliding member such as an X-ray shutter, for example, the opening and closing movement can be normally performed for a long period of time. It is an object of the present invention to provide an X-ray generator capable of performing the operation.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】(1) 上記の目的を達
成するため、本発明に係るX線発生装置は、内部で発生
したX線をX線窓を通して外部へ取り出すようにしたX
線発生装置において、上記X線窓の周辺部分に一対の摺
動部材を設け、そして、それらの摺動部材の少なくとも
一方には黒クロムメッキが施されることを特徴とする。
このように、摺動部材の少なくとも一方に黒クロムメッ
キを施してその表面に黒クロム被膜を形成しておけば、
X線発生作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物
がほとんど生成することが無くなり、その結果、摺動部
材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持すること
ができる。Means for Solving the Problems (1) In order to achieve the above object, an X-ray generator according to the present invention is designed to take out X-rays generated inside to the outside through an X-ray window.
In the X-ray generator, a pair of sliding members are provided around the X-ray window, and at least one of the sliding members is plated with black chrome.
In this way, if at least one of the sliding members is subjected to black chrome plating and a black chrome coating is formed on the surface,
Even when the X-ray generation operation is continuously performed, the nitric acid compound is hardly generated, and as a result, the sliding operation of the sliding member can be maintained for a long period of time.
【0009】上記「一対の摺動部材」は、特定の形状及
び特定の用途に限られるものでなく、X線窓の近傍に配
設されるあらゆる種類の摺動部材を含むものである。こ
の一対の摺動部材として一般的に考えられるものは、X
線シャッタとそれを摺動可能に支持するシャッタベース
との組み合わせである。The above-mentioned "pair of sliding members" is not limited to a specific shape and a specific application, but includes all kinds of sliding members disposed near the X-ray window. What is generally considered as this pair of sliding members is X
This is a combination of a linear shutter and a shutter base that slidably supports the linear shutter.
【0010】上記「黒クロムメッキ」は、従来から良く
知られている電気メッキ処理であり、例えば、所定温度
に制御したメッキ浴液の中に被メッキ材料を浸漬した状
態でその被メッキ材料に所定電圧を印加することによっ
て行われる。この黒クロムメッキは、酸化クロム(Cr
O)の還元メッキであって、 CrO → Cr2O3 → Cr のような反応形態が生じ、被メッキ材料の表面には、C
r2O3及びCrの両方が混在する状態の黒クロム被膜が
形成される。この被膜の存在により、希硝酸雰囲気に対
する耐蝕性が高くなり、その結果、X線照射時における
摺動部材の耐蝕性を向上させることができる。なお、黒
クロムメッキ処理のためのメッキ浴液には、一般にクロ
ム酸(CrO)、触媒及び補助添加剤が含まれるが、具
体的な成分は特定な成分に限定されることはない。The above-mentioned "black chromium plating" is a well-known electroplating process. For example, the material to be plated is immersed in a plating bath solution controlled at a predetermined temperature. This is performed by applying a predetermined voltage. This black chrome plating is made of chromium oxide (Cr
O) reduction plating, where a reaction form such as CrO → Cr 2 O 3 → Cr occurs, and the surface of the material to be plated has C
A black chromium film in which both r 2 O 3 and Cr are mixed is formed. The presence of this coating increases the corrosion resistance to a dilute nitric acid atmosphere, and as a result, the corrosion resistance of the sliding member during X-ray irradiation can be improved. The plating bath for black chromium plating generally contains chromic acid (CrO), a catalyst and an auxiliary additive, but specific components are not limited to specific components.
【0011】(2) 次に、本発明に係る他のX線発生
装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部へ取
り出すようにしたX線発生装置において、上記X線窓の
周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そして、そ
れらの摺動部材の少なくとも一方にはフッ素樹脂コーテ
ィングが施されることを特徴とする。このように、摺動
部材の少なくとも一方にフッ素樹脂コーティングを施し
ておけば、X線発生作業を継続して実行した場合でも、
硝酸化合物がほとんど生成することが無くなり、その結
果、摺動部材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維
持することができる。(2) Next, another X-ray generating apparatus according to the present invention is an X-ray generating apparatus in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. It has a pair of sliding members located at the portion, and at least one of the sliding members is coated with a fluororesin. In this way, if at least one of the sliding members is coated with the fluororesin, even when the X-ray generation operation is continuously performed,
Almost no nitric acid compound is generated, and as a result, the smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a long period of time.
【0012】上記「フッ素樹脂」としては、例えば、テ
フロン(商品名)の名前で知られているポリテトラフル
オロエチレンを用いることができる。このフッ素樹脂コ
ーティングは従来から良く知られている処理工程を実行
することによって行うことができ、例えば、 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→
乾燥→焼成 の各工程を経て完成される。塗装工程は、専用の静電塗
装ガンを用いて行うことができる。また、焼成温度は塗
装剤の種類によって異なるが、通常は、200℃〜40
0℃になるので、被コーティング材としてはそのような
高温に耐えることができる材料が選定される。As the "fluororesin", for example, polytetrafluoroethylene known under the name of Teflon (trade name) can be used. This fluororesin coating can be performed by performing a conventionally well-known processing step. For example, degreasing → air baking → blast → primer coating → baking → painting →
It is completed through each process of drying → firing. The coating step can be performed using a dedicated electrostatic coating gun. The firing temperature varies depending on the type of the coating agent, but is usually from 200 ° C to 40 ° C.
Since the temperature is 0 ° C., a material that can withstand such a high temperature is selected as the material to be coated.
【0013】(3) 次に、本発明に係る更に他のX線
発生装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部
へ取り出すようにしたX線発生装置において、上記X線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒クロムメ
ッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コーティング
が施されることを特徴とする。つまりこのX線発生装置
では、黒クロムメッキを前処理として行い、その後にフ
ッ素樹脂コーティングを行う。(3) Next, still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. It has a pair of sliding members located at the peripheral portion, and at least one of the sliding members is coated with black chrome plating, and is further coated with a fluororesin coating thereon. In other words, in this X-ray generator, black chrome plating is performed as a pretreatment, and thereafter, fluororesin coating is performed.
【0014】黒クロムメッキ処理によって形成される黒
クロム被膜は、被メッキ素材の近傍にCrの粒子が存在
し、その上にCr203の粒子が重なり合う状態となって
おり、そして、0.05〜0.2μm程度の径の小粒子
が合体して、0.3〜0.6μm程度の径の粒子になっ
ているものと考えられる。この被膜は、比較的、ポーラ
スすなわち多孔性であり、この被膜にフッ素樹脂コーテ
ィングを行うと被膜の微孔の部分に塗装が入り込み、い
わゆる投錨効果が表れて密着性が高まり、メッキ被膜と
塗装との複合的な耐蝕性を得ることができる。この結
果、摺動部材の耐蝕性をさらに長期間にわたって高く保
持できる。[0014] Black chromium coating formed by black chromium plating treatment, there is Cr particles in the vicinity of the plating material, and a state in which particles of Cr 2 0 3 thereon overlap and 0. It is considered that small particles having a diameter of about 0.5 to 0.2 μm are united to form particles having a diameter of about 0.3 to 0.6 μm. This film is relatively porous, that is, porous, and when this film is coated with a fluororesin, the coating penetrates into the micropores of the film, so-called anchor effect appears, and the adhesion increases, and the plating film and the coating The composite corrosion resistance can be obtained. As a result, the corrosion resistance of the sliding member can be kept higher for a longer period.
【0015】(4) 次に、本発明に係る更に他のX線
発生装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部
へ取り出すようにしたX線発生装置において、上記X線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施されることを特徴とする。ここで、
「アモルファスクロムメッキ」は、それ自体周知のメッ
キ処理であり、メッキ液にギ酸、シュウ酸、クエン酸、
ギ酸カリ等といった有機酸を添加した状態でメッキを行
うものである。このように、摺動部材の少なくとも一方
にアモルファスクロムメッキを施しておけば、X線発生
作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとん
ど生成することが無くなり、その結果、摺動部材の滑ら
かな摺動動作を長期間にわたって維持することができ
る。(4) Another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. It has a pair of sliding members located at the peripheral portion, and at least one of the sliding members is provided with amorphous chrome plating. here,
"Amorphous chrome plating" is a plating process known per se, and formic acid, oxalic acid, citric acid,
Plating is performed in a state where an organic acid such as potassium formate is added. If amorphous chrome plating is applied to at least one of the sliding members as described above, even when the X-ray generation operation is continuously performed, almost no nitric acid compound is generated. A smooth sliding operation can be maintained for a long time.
【0016】(5) 次に、本発明に係る更に他のX線
発生装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部
へ取り出すようにしたX線発生装置において、上記X線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。つまりこのX
線発生装置では、アモルファスクロムメッキを前処理と
して行い、その後にフッ素樹脂コーティングを行う。(5) Still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. It has a pair of sliding members located at a peripheral portion, and at least one of the sliding members is coated with amorphous chrome plating and further coated with a fluororesin. In other words, this X
In the line generator, amorphous chromium plating is performed as a pretreatment, and thereafter, a fluorine resin coating is performed.
【0017】(6) 上記の各X線発生装置は、X線窓
の周辺を冷却手段によって冷却するという構造を有する
ときに、特に有効である。X線発生装置においてX線窓
の周辺を冷却すると、該周辺部分に結露が生じ易く、従
って、X線シャッタ及びシャッタベース等といった摺動
部材が酸によって腐蝕し易くなる。このような状況下に
おいて本発明のように摺動部材を黒クロムメッキした
り、フッ素樹脂コーティングしたり、アモルファスクロ
ムメッキしたり、黒クロムメッキとフッ素樹脂コーティ
ングを重ねて行ったり、あるいはアモルファスクロムメ
ッキとフッ素樹脂コーティングを重ねて行ったりすれ
ば、摺動部材の腐蝕を確実に防止できる。(6) Each of the above X-ray generators is particularly effective when it has a structure in which the periphery of the X-ray window is cooled by cooling means. When the periphery of the X-ray window is cooled in the X-ray generator, dew condensation is likely to occur in the peripheral portion, and therefore, sliding members such as the X-ray shutter and the shutter base are easily corroded by acid. Under such circumstances, the sliding member is black chrome-plated, fluororesin-coated, amorphous chrome-plated, black chrome-plated and fluororesin-coated, or amorphous chrome-plated as in the present invention. If the coating is performed with a fluorine resin coating, corrosion of the sliding member can be reliably prevented.
【0018】(7) 次に、本発明に係る更に他のX線
発生装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部
へ取り出すようにしたX線発生装置において、X線が外
部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そのX線シ
ャッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、
上記X線シャッタはTa(タンタル)、Rh(ロジウ
ム)、Ir(イリジウム)、Pt(白金)、Au(金)
のいずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか
1つを含む合金によって形成され、さらに上記シャッタ
ベースには黒クロムメッキが施されることを特徴とす
る。(7) Next, still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. An X-ray shutter that prevents divergence, and a shutter base that slidably supports the X-ray shutter,
The X-ray shutter is Ta (tantalum), Rh (rhodium), Ir (iridium), Pt (platinum), Au (gold)
Or an alloy containing at least one of the above, and the shutter base is plated with black chrome.
【0019】黒クロムメッキ、フッ素樹脂コーティン
グ、アモルファスクロムメッキ等といった被膜形成処理
が摺動部材の耐蝕性を向上させるということに関して極
めて有利であることは上記の通りであるが、本発明者の
実験によれば、一対の摺動部材に関し、それらの少なく
とも一方の素材自体をTa、Rh、Ir、Pt、Auの
いずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1
つを含む合金等によって形成することが、摺動部材の耐
蝕性を向上させることに関して有利であることが判明し
た。しかしながら、Ta等は高価であるので一対の摺動
部材の全てをTa等によって形成するとX線発生装置が
高価になってしまうことが考えられる。これに対し、本
X線発生装置のように一方の摺動部材であるX線シャッ
タをTa等によって形成し、他方の摺動部材であるシャ
ッタベースに黒クロムメッキを施せば、それらの摺動部
材の耐蝕性を高く保持した上でそれらを安価に作製でき
る。As described above, it is extremely advantageous that a film forming treatment such as black chromium plating, fluororesin coating, amorphous chromium plating, etc. can improve the corrosion resistance of the sliding member. According to the method, at least one of the pair of sliding members is made of at least one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au or at least one of them.
It has been found that forming with an alloy or the like containing one is advantageous in improving the corrosion resistance of the sliding member. However, since Ta and the like are expensive, it is conceivable that if all of the pair of sliding members are made of Ta or the like, the X-ray generator becomes expensive. On the other hand, if the X-ray shutter, which is one of the sliding members, is made of Ta or the like as in the present X-ray generator, and the shutter base, which is the other sliding member, is plated with black chrome, these sliding members can be slid. The members can be manufactured at low cost while keeping the corrosion resistance of the members high.
【0020】(8) 本発明に係る更に他のX線発生装
置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部へ取り
出すようにしたX線発生装置において、X線が外部へ発
散するのを阻止するX線シャッタと、そのX線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記X
線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのいずれか
1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。(8) Still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. An X-ray shutter for blocking the X-ray shutter, and a shutter base for slidably supporting the X-ray shutter.
The linear shutter is made of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au or an alloy containing at least one of them, and the shutter base is further provided with a fluororesin coating. And
【0021】このX線発生装置は、上記(7)に記載し
たX線発生装置に比べて、シャッタベースに加える処理
を黒クロムメッキからフッ素樹脂コーティングに代えた
ことが異なっている。このX線発生装置によっても、X
線シャッタ及びシャッタベースの両方をTa等によって
形成する場合に比べてX線発生装置を安価に作製でき
る。This X-ray generator differs from the X-ray generator described in (7) in that the processing applied to the shutter base is changed from black chrome plating to fluororesin coating. With this X-ray generator, X
An X-ray generator can be manufactured at lower cost than when both the line shutter and the shutter base are formed of Ta or the like.
【0022】(9) 本発明に係る更に他のX線発生装
置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部へ取り
出すようにしたX線発生装置において、X線が外部へ発
散するのを阻止するX線シャッタと、そのX線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記X
線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのいずれか
1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
黒クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。(9) Still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. An X-ray shutter for blocking the X-ray shutter, and a shutter base for slidably supporting the X-ray shutter.
The linear shutter is made of one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them, and the shutter base is plated with black chrome, and furthermore, A fluororesin coating.
【0023】このX線発生装置は、上記(7)及び
(8)に記載したX線発生装置に比べて、シャッタベー
スに黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方
の処理を行うことが異なっている。このX線発生装置に
よれば、黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの
相乗効果により、X線シャッタ及びシャッタベースの耐
蝕性をさらに長期間にわたって高く保持できる。The X-ray generator differs from the X-ray generators described in (7) and (8) in that both black chrome plating and fluororesin coating are performed on the shutter base. . According to this X-ray generator, the corrosion resistance of the X-ray shutter and the shutter base can be kept higher for a longer period of time due to the synergistic effect of the black chrome plating and the fluororesin coating.
【0024】(10) 本発明に係る更に他のX線発生
装置は、 内部で発生したX線をX線窓を通して外部へ
取り出すようにしたX線発生装置において、X線が外部
へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そのX線シャ
ッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上
記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのいず
れか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つを
含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベース
にはアモルファスクロムメッキが施されることを特徴と
する。このX線発生装置によれば、シャッタベースにア
モルファスクロムメッキ処理を施すことにより耐蝕性を
向上させることができ、しかも、X線シャッタ及びシャ
ッタベースの両方をTa等によって形成する場合に比べ
てX線発生装置を安価に作製できる。(10) Still another X-ray generator according to the present invention is an X-ray generator in which internally generated X-rays are extracted to the outside through an X-ray window. X-ray shutter that blocks the X-ray shutter, and a shutter base that slidably supports the X-ray shutter, wherein the X-ray shutter is any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or any of them. The shutter base is made of an alloy containing at least one of them, and the shutter base is plated with amorphous chrome. According to this X-ray generator, the corrosion resistance can be improved by subjecting the shutter base to amorphous chrome plating. A line generator can be manufactured at low cost.
【0025】(11) 本発明に係る更に他のX線発生
装置は、内部で発生したX線をX線窓を通して外部へ取
り出すようにしたX線発生装置において、X線が外部へ
発散するのを阻止するX線シャッタと、そのX線シャッ
タを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記
X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのいずれ
か1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つを含
む合金によって形成され、さらに上記シャッタベースに
はアモルファスクロムメッキが施され、さらにその上に
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。
このX線発生装置によれば、シャッタベースにアモルフ
ァスクロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方の
処理を行うようにしたので、アモルファスクロムメッキ
及びフッ素樹脂コーティングの相乗効果により、X線シ
ャッタ及びシャッタベースの耐蝕性をさらに長期間にわ
たって高く保持できる。(11) Still another X-ray generating apparatus according to the present invention is an X-ray generating apparatus in which X-rays generated inside are extracted to the outside through an X-ray window. X-ray shutter that blocks the X-ray shutter, and a shutter base that slidably supports the X-ray shutter, wherein the X-ray shutter is any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or any of them. The shutter base is made of an alloy containing at least one of them, and the shutter base is further provided with an amorphous chrome plating, and a fluororesin coating is further provided thereon.
According to this X-ray generator, both the amorphous chromium plating and the fluororesin coating are performed on the shutter base. Therefore, the synergistic effect of the amorphous chrome plating and the fluororesin coating causes the corrosion resistance of the X-ray shutter and the shutter base. Properties can be kept high for a longer period of time.
【0026】(12) 上記(7)〜(11)に記載し
た各X線発生装置は、X線窓の周辺を冷却手段によって
冷却するという構造を有するときに、特に有効である。
X線発生装置においてX線窓の周辺を冷却すると、該周
辺部分に結露が生じ易く、従って、X線シャッタ及びシ
ャッタベース等といった摺動部材が酸によって腐蝕し易
くなる。このような状況下において本発明のようにX線
シャッタをTa等によって形成し、シャッタベースに黒
クロムメッキ、フッ素樹脂コーティング等を施すことに
すれば、X線シャッタ及びシャッタベースの腐蝕を、よ
り確実に防止できる。(12) Each of the X-ray generators described in (7) to (11) is particularly effective when it has a structure in which the periphery of the X-ray window is cooled by cooling means.
When the periphery of the X-ray window is cooled in the X-ray generator, dew condensation is likely to occur in the peripheral portion, and therefore, sliding members such as the X-ray shutter and the shutter base are easily corroded by acid. Under such circumstances, if the X-ray shutter is formed of Ta or the like as in the present invention and the shutter base is provided with black chrome plating, fluororesin coating or the like, corrosion of the X-ray shutter and the shutter base can be further reduced. It can be reliably prevented.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】(第1実施形態)図1は、本発明
に係るX線発生装置の一実施形態を示している。このX
線発生装置は、フィラメント1及びそれを取り囲むウエ
ネルト2を含んで構成された電子銃3と、その電子銃3
に対向して配設されたターゲット4と、それらを気密に
包囲するケーシング6とを有する。ケーシング6の適所
には、X線が透過できる材料、例えばBe(ベリリウ
ム)によってX線窓7が形成されている。また、そのX
線窓7の近傍には冷却水を通すための冷却水通路8が設
けられる。(First Embodiment) FIG. 1 shows an embodiment of an X-ray generator according to the present invention. This X
The line generator includes an electron gun 3 including a filament 1 and a Wehnelt 2 surrounding the filament 1, and the electron gun 3.
And a casing 6 that hermetically surrounds them. An X-ray window 7 is formed at an appropriate position of the casing 6 with a material that can transmit X-rays, for example, Be (beryllium). Also, the X
A cooling water passage 8 for passing cooling water is provided near the line window 7.
【0028】ケーシング6の内部は気密に密閉され、そ
の適所には、排気ポンプを含む真空排気系(図示せず)
が接続される。そして、その真空排気系の作用により、
ケーシング6の内部が真空状態に排気される。このよう
に、ケーシング6の内部を真空に設定する理由は、ケー
シング6内での放電の発生を防止すること、フィラメン
ト1の酸化を防止すること、そして、できるだけ低いフ
ィラメント温度で十分量の電子をフィラメント1から放
出させること等のためである。The inside of the casing 6 is hermetically sealed, and a vacuum evacuation system (not shown) including an evacuation pump is provided at an appropriate position.
Is connected. And, by the action of the evacuation system,
The inside of the casing 6 is evacuated to a vacuum. As described above, the reason why the inside of the casing 6 is set to a vacuum is to prevent the occurrence of discharge in the casing 6, to prevent the oxidation of the filament 1, and to generate a sufficient amount of electrons at the lowest possible filament temperature. This is for releasing from the filament 1 or the like.
【0029】真空雰囲気下でフィラメント1に通電が成
されると、そのフィラメント1が発熱してそこから熱電
子が放出され、その熱電子が高速でターゲット4に衝突
する。衝突した熱電子の一部はX線に変化してターゲッ
ト4から発散し、そのX線の一部がX線窓7を通して外
部へ取り出される。こうして取り出されるX線がX線回
折装置等といったX線装置に利用される。When a current is applied to the filament 1 in a vacuum atmosphere, the filament 1 generates heat and emits thermoelectrons therefrom. The thermoelectrons collide with the target 4 at high speed. Some of the colliding thermoelectrons are converted into X-rays and diverge from the target 4, and some of the X-rays are extracted to the outside through the X-ray window 7. The X-rays thus extracted are used for an X-ray device such as an X-ray diffraction device.
【0030】ターゲット4に衝突した熱電子の多くの部
分は熱に変化してケーシング6を加熱する。ケーシング
6が異常に高温になると各種機器に支障が生じるので、
ケーシング6の過熱は防止すべきである。ケーシング6
の壁内に設けた冷却水通路を流れる冷却水はケーシング
6を冷却してそれが過剰に加熱されることを防止する。Most of the thermoelectrons that have collided with the target 4 are converted into heat and heat the casing 6. If the casing 6 becomes unusually high temperature, various devices will be affected.
Overheating of the casing 6 should be prevented. Casing 6
The cooling water flowing through the cooling water passage provided in the wall cools the casing 6 to prevent it from being excessively heated.
【0031】図1において、X線窓7の外側にはX線シ
ャッタ9が設けられる。このX線シャッタ9は、シャッ
タベース11によって矢印A−A’のように摺動可能に
支持される。このX線シャッタ9は、エアシリンダ、電
磁ソレノイド等といった動力源を含んだ駆動装置(図示
せず)に接続される。この駆動装置の働きによりX線シ
ャッタ9は、シャッタベース11に対して摺動しながら
矢印A’の方向へ開き移動でき、さらに矢印Aの方向へ
閉じ移動できる。X線を取り出したいときには図2に示
すようにX線シャッタ9を矢印A’方向へ開いてX線の
通過を許容し、それ以外のときには図1においてX線シ
ャッタ9を矢印A方向へ閉じてX線の通過を阻止する。In FIG. 1, an X-ray shutter 9 is provided outside the X-ray window 7. The X-ray shutter 9 is slidably supported by a shutter base 11 as indicated by an arrow AA ′. The X-ray shutter 9 is connected to a driving device (not shown) including a power source such as an air cylinder and an electromagnetic solenoid. By the operation of the driving device, the X-ray shutter 9 can open and move in the direction of arrow A ′ while sliding with respect to the shutter base 11, and can further close and move in the direction of arrow A. When X-rays are to be taken out, the X-ray shutter 9 is opened in the direction of arrow A 'as shown in FIG. 2 to allow the passage of X-rays, and otherwise, the X-ray shutter 9 is closed in the direction of arrow A in FIG. Blocks the passage of X-rays.
【0032】本実施形態では、X線シャッタ9及びシャ
ッタベース11の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キ処理を施す。具体的には、Ta等に比べて安価な材
料、例えばステンレス鋼(SUS)等によってX線シャ
ッタ9等を所定の形状に形成し、その素材に対して黒ク
ロムメッキ処理を施すことにより、その表面全域に黒ク
ロム被膜を形成する。黒クロムメッキ処理は、通常広く
行われるメッキ処理によって実行でき、例えば、クロム
酸、触媒及び補助添加剤を含むメッキ浴液中に素材を浸
漬し、さらにその素材に所定の電圧を印加することによ
って行うことができる。In this embodiment, black chrome plating is applied to both or one of the X-ray shutter 9 and the shutter base 11. Specifically, the X-ray shutter 9 and the like are formed in a predetermined shape using a material that is inexpensive compared to Ta or the like, for example, stainless steel (SUS) or the like, and the material is subjected to a black chrome plating process. A black chrome coating is formed on the entire surface. The black chrome plating process can be performed by a plating process that is generally performed widely, for example, by immersing a material in a plating bath solution containing chromic acid, a catalyst and auxiliary additives, and further applying a predetermined voltage to the material. It can be carried out.
【0033】黒クロムメッキ処理によってX線シャッタ
9等の表面に黒クロム被膜を形成すれば、X線シャッタ
9のまわりに硝酸化合物が生成すること、換言すればX
線シャッタ9等が腐蝕することを長期間にわたって防止
でき、従って、X線シャッタ9の開閉を長期間にわたっ
て滑らかに維持できる。If a black chromium film is formed on the surface of the X-ray shutter 9 or the like by black chrome plating, a nitric acid compound is generated around the X-ray shutter 9, in other words, X
Corrosion of the X-ray shutter 9 and the like can be prevented for a long period of time, so that the opening and closing of the X-ray shutter 9 can be smoothly maintained for a long period of time.
【0034】(第2実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9及びシャ
ッタベース11の両方又はいずれか一方にフッ素樹脂コ
ーティングを施した。具体的には、X線シャッタ9等を
ステンレス鋼(SUS)等によって所定の形状に形成
し、その素材に対して次のような一連の処理、すなわち 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→乾燥→焼成 ………(A) の処理を実行してX線シャッタ9等の表面にフッ素樹脂
の被膜を形成した。なお、フッ素樹脂としてはテフロン
(商品名)を使用し、これを静電塗装ガンを用いて素材
上に塗布した。(Second Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG. 1, both or one of the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 is coated with a fluororesin. Specifically, the X-ray shutter 9 and the like are formed into a predetermined shape by stainless steel (SUS) or the like, and the material is subjected to a series of processes as follows: degreasing → air baking → blasting → primer coating → baking. → Coating → Drying → Firing (A) The coating of fluororesin was formed on the surface of the X-ray shutter 9 and the like by executing the processing of (A). Note that Teflon (trade name) was used as the fluororesin, and this was applied to the material using an electrostatic coating gun.
【0035】以上のようにしてテフロンコーティングし
たX線シャッタ9及びシャッタベース11を用いて図1
の構造のX線発生装置を作製し、そのX線発生装置を用
いて実際にX線発生作業を行ったところ、X線シャッタ
9を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。
また、長期間の稼動後にX線シャッタ9及びシャッタベ
ース11を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生
成、すなわち腐蝕の発生は認められなかった。Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 coated with Teflon as described above, FIG.
An X-ray generator having the above structure was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator. As a result, the X-ray shutter 9 could be smoothly opened and closed for a long period of time.
Further, when the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 were disassembled and observed after the operation for a long time, generation of nitrate oxide, that is, generation of corrosion was not recognized.
【0036】(第3実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9及びシャ
ッタベース11の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キを施し、さらにその黒クロムメッキの上にフッ素樹脂
コーティングを施した。なお、この実施形態において実
行するフッ素樹脂コーティングに関しては、黒クロムメ
ッキが下地層となることから、上記(A)に記載した一
連の処理においてブラスト工程及びプライマー塗り工程
を省略することができる。(Third Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG. 1, both or one of the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 is plated with black chrome, and A fluororesin coating was applied on the plating. In addition, regarding the fluororesin coating performed in this embodiment, since the black chrome plating serves as the underlayer, the blast step and the primer coating step can be omitted in the series of processing described in (A) above.
【0037】以上のように、黒クロムメッキを下地層と
してそれにフッ素樹脂をコーティングして形成したX線
シャッタ9及びシャッタベース11を用いて図1の構造
のX線発生装置を作製し、そのX線発生装置を用いて実
際にX線発生作業を行ったところ、X線シャッタ9を長
期間にわたって滑らかに開閉することができた。また、
長期間の稼動後にX線シャッタ9及びシャッタベース1
1を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、すな
わち腐蝕の発生は認められなかった。As described above, an X-ray generator having the structure shown in FIG. 1 is manufactured using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11, which are formed by coating black chrome plating as a base layer and coating it with a fluorine resin. When the X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator, the X-ray shutter 9 could be smoothly opened and closed for a long period of time. Also,
X-ray shutter 9 and shutter base 1 after long-term operation
When No. 1 was decomposed and observed, no formation of nitrate oxide, that is, no occurrence of corrosion was observed.
【0038】本実施形態によれば、黒クロムメッキだけ
を行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う場合
に比べて、より長期間にわたってX線シャッタ9の滑ら
かな動作を維持できた。これは、黒クロムメッキのメッ
キ状態がポーラスすなわち多孔状になり、その上にフッ
素樹脂コーティングがなされることにより、X線シャッ
タ9等を形成する素材に対するフッ素樹脂コーティング
の密着性が高まること及び黒クロムメッキとフッ素樹脂
との相乗効果によって腐蝕が防止されること等が原因で
はないかと考えられる。According to the present embodiment, the smooth operation of the X-ray shutter 9 can be maintained for a longer period of time than when only the black chrome plating is performed and when only the fluororesin coating is performed. This is because the plating state of the black chrome plating becomes porous, that is, the fluororesin coating is applied thereon, so that the adhesion of the fluororesin coating to the material forming the X-ray shutter 9 and the like is increased, and It is considered that corrosion may be prevented by a synergistic effect of the chromium plating and the fluororesin, or the like.
【0039】(第4実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9及びシャ
ッタベース11の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施した。具体的には、以下に示す条件の
ギ酸浴、シュウ酸浴及びクエン酸浴の各メッキ浴を用い
てメッキ処理を行って、3種類のX線シャッタ及びシャ
ッタベースを作製した。(Fourth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG. 1, amorphous chrome plating is applied to both or one of the X-ray shutter 9 and the shutter base 11. Specifically, three types of X-ray shutters and shutter bases were manufactured by performing plating using each of a plating bath of a formic acid bath, an oxalic acid bath, and a citric acid bath under the following conditions.
【0040】 (1)ギ酸浴 CrO3 : 100 g/l H2SO4 : 5 g/l HCOOH: 10〜20 ml/l 浴温 : 20〜40 A/dm2 (1) Formic acid bath CrO 3 : 100 g / l H 2 SO 4 : 5 g / l HCOOH: 10 to 20 ml / l Bath temperature: 20 to 40 A / dm 2
【0041】 (2)シュウ酸浴 CrO3 : 200 g/l (NH4)2SO4 : 75 g/l H2C2O4・2H2O: 640 g/l 浴温 : 60 ℃ 電流密度 : 10〜250A/dm2 pH : 2(2) Oxalic acid bath CrO 3 : 200 g / l (NH 4 ) 2 SO 4 : 75 g / l H 2 C 2 O 4 .2H 2 O: 640 g / l Bath temperature: 60 ° C. Current density : 10 to 250 A / dm 2 pH: 2
【0042】 (3)クエン酸欲 CrO3 : 200 g/l (NH4)2SO4 : 5.3g/l (NH4)2HC6H5O7: 300 g/l 浴温 : 60 ℃ 電流密度 : 100〜250A/dm2 pH : 8(3) Citric acid craving CrO 3 : 200 g / l (NH 4 ) 2 SO 4 : 5.3 g / l (NH 4 ) 2 HC 6 H 5 O 7 : 300 g / l Bath temperature: 60 ° C. Current density: 100 to 250 A / dm 2 pH: 8
【0043】以上のようにして作製した3種類のX線シ
ャッタ9及びシャッタベース11を用いて図1の構造の
X線発生装置を作製し、それらの各X線発生装置を用い
て実際にX線発生作業を行ったところ、X線シャッタ9
を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。ま
た、長期間の稼動後にX線シャッタ9及びシャッタベー
ス11を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、
すなわち腐蝕の発生は認められなかった。An X-ray generator having the structure shown in FIG. 1 is manufactured by using the three types of X-ray shutters 9 and the shutter base 11 manufactured as described above, and an X-ray is actually generated by using each of these X-ray generators. When the X-ray shutter 9
Could be opened and closed smoothly over a long period of time. Further, when the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 were disassembled and observed after a long-term operation, formation of nitrate oxide,
That is, no occurrence of corrosion was observed.
【0044】(第5実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9及びシャ
ッタベース11の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施し、さらにそのアモルファスクロムメ
ッキの上にフッ素樹脂コーティングを施した。そして、
こうして作製したX線シャッタ9及びシャッタベース1
1を用いて図1の構造のX線発生装置を作製し、そのX
線発生装置を用いて実際にX線発生作業を行ったとこ
ろ、X線シャッタ9を長期間にわたって滑らかに開閉す
ることができた。また、長期間の稼動後にX線シャッタ
9及びシャッタベース11を分解して観察したところ、
硝酸酸化物の生成、すなわち腐蝕の発生は認められなか
った。本実施形態によれば、アモルファスクロムメッキ
だけを行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う
場合に比べて、より長期間にわたってX線シャッタ9の
滑らかな動作を維持できた。(Fifth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG. 1, an amorphous chromium plating is applied to both or one of the X-ray shutter 9 and the shutter base 11, and the amorphous chromium is further applied. A fluororesin coating was applied on the plating. And
X-ray shutter 9 and shutter base 1 thus manufactured
1 to manufacture an X-ray generator having the structure shown in FIG.
When the X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator, the X-ray shutter 9 could be smoothly opened and closed for a long period of time. When the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 were disassembled and observed after a long-term operation,
No nitrate oxide formation, that is, no corrosion was observed. According to the present embodiment, the smooth operation of the X-ray shutter 9 can be maintained for a longer period of time than when only the amorphous chrome plating is performed and when only the fluororesin coating is performed.
【0045】(第6実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9をTa
(タンタル)によって形成した。そして、シャッタベー
ス11をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成し
た。こうして形成したX線シャッタ9及びシャッタベー
ス11を用いて図1のX線発生装置を作製し、そのX線
発生装置を用いて実際にX線発生作業を行ったところ、
X線シャッタ9を長期間にわたって滑らかに開閉するこ
とができた。また、Taを用いてX線シャッタ9を形成
したので、黒クロムメッキ等といった後処理が不要にな
り、それ故、工程が簡単になった。(Sixth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as the structure shown in FIG.
(Tantalum). Then, the shutter base 11 was formed in a predetermined shape from stainless steel, and black chrome plating was performed thereon to form a black chrome coating. Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 thus formed, the X-ray generator of FIG. 1 was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator.
The X-ray shutter 9 could be opened and closed smoothly over a long period of time. Further, since the X-ray shutter 9 is formed using Ta, post-processing such as black chrome plating is not required, and therefore, the process is simplified.
【0046】(第7実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9をTa
(タンタル)によって形成した。そして、シャッタベー
ス11をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にフッ素樹脂コーティングを施して表面にフッ素樹脂
膜を形成した。こうして形成したX線シャッタ9及びシ
ャッタベース11を用いて図1のX線発生装置を作製
し、そのX線発生装置を用いて実際にX線発生作業を行
ったところ、X線シャッタ9を長期間にわたって滑らか
に開閉することができた。また、Taを用いて形成した
X線シャッタ9については黒クロムメッキ等といった後
処理を行う必要が無いので、工程が簡単になった。(Seventh Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG.
(Tantalum). Then, the shutter base 11 was formed in a predetermined shape from stainless steel, and a fluororesin coating was applied thereon to form a fluororesin film on the surface. Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 thus formed, the X-ray generator of FIG. 1 was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator. It could be opened and closed smoothly over the period. In addition, since the X-ray shutter 9 formed using Ta does not need to perform post-processing such as black chrome plating, the process is simplified.
【0047】(第8実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9をTa
(タンタル)によって形成した。そして、シャッタベー
ス11をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成
し、さらにその上にフッ素樹脂コーティングを施して表
面にフッ素樹脂膜を形成した。こうして形成したX線シ
ャッタ9及びシャッタベース11を用いて図1のX線発
生装置を作製し、そのX線発生装置を用いて実際にX線
発生作業を行ったところ、X線シャッタ9を長期間にわ
たって滑らかに開閉することができた。また、Taを用
いて形成したX線シャッタ9については黒クロムメッキ
等といった後処理を行う必要が無いので、工程が簡単に
なった。(Eighth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG.
(Tantalum). Then, the shutter base 11 was formed in a predetermined shape from stainless steel, black chrome plating was performed thereon to form a black chrome coating, and further a fluororesin coating was applied thereon to form a fluororesin film on the surface. . Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 thus formed, the X-ray generator of FIG. 1 was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator. It could be opened and closed smoothly over the period. In addition, since the X-ray shutter 9 formed using Ta does not need to perform post-processing such as black chrome plating, the process is simplified.
【0048】(第9実施形態)図1に示した構造と同じ
構造のX線発生装置において、X線シャッタ9をTa
(タンタル)によって形成した。そして、シャッタベー
ス11をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成した。こうして形成したX線シャッ
タ9及びシャッタベース11を用いて図1のX線発生装
置を作製し、そのX線発生装置を用いて実際にX線発生
作業を行ったところ、X線シャッタ9を長期間にわたっ
て滑らかに開閉することができた。また、Taを用いて
X線シャッタ9を形成したので、黒クロムメッキ等とい
った後処理が不要になり、それ故、工程が簡単になっ
た。(Ninth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG.
(Tantalum). Then, the shutter base 11 was formed in a predetermined shape from stainless steel, and an amorphous chrome plating process was performed thereon to form an amorphous chrome coating. Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 thus formed, the X-ray generator of FIG. 1 was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator. It could be opened and closed smoothly over the period. Further, since the X-ray shutter 9 is formed using Ta, post-processing such as black chrome plating is not required, and therefore, the process is simplified.
【0049】(第10実施形態)図1に示した構造と同
じ構造のX線発生装置において、X線シャッタ9をTa
(タンタル)によって形成した。そして、シャッタベー
ス11をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成し、さらにその上にフッ素樹脂コー
ティングを施して表面にフッ素樹脂膜を形成した。こう
して形成したX線シャッタ9及びシャッタベース11を
用いて図1のX線発生装置を作製し、そのX線発生装置
を用いて実際にX線発生作業を行ったところ、X線シャ
ッタ9を長期間にわたって滑らかに開閉することができ
た。また、Taを用いて形成したX線シャッタ9につい
ては黒クロムメッキ等といった後処理を行う必要が無い
ので、工程が簡単になった。(Tenth Embodiment) In an X-ray generator having the same structure as that shown in FIG.
(Tantalum). Then, the shutter base 11 was formed into a predetermined shape with stainless steel, an amorphous chrome plating process was performed thereon to form an amorphous chrome film, and a fluororesin coating was further formed thereon to form a fluororesin film on the surface. . Using the X-ray shutter 9 and the shutter base 11 thus formed, the X-ray generator of FIG. 1 was manufactured, and an X-ray generation operation was actually performed using the X-ray generator. It could be opened and closed smoothly over the period. In addition, since the X-ray shutter 9 formed using Ta does not need to perform post-processing such as black chrome plating, the process is simplified.
【0050】(第11実施形態)図3は、本発明に係る
X線発生装置の他の実施形態を示している。ここに示し
たX線発生装置が図1に示した先のX線発生装置と異な
る点は、図1の実施形態がスライド移動式のX線シャッ
タを用いたのに対して、図3の実施形態では回転移動式
のX線シャッタを用いたことである。具体的には、X線
窓7の所のケーシング6に円筒形状のシャッタベース2
1を固定設置し、そのシャッタベース21の中に円柱形
状のX線シャッタ19を配設する。(Eleventh Embodiment) FIG. 3 shows another embodiment of the X-ray generator according to the present invention. The difference between the X-ray generator shown here and the previous X-ray generator shown in FIG. 1 is that the embodiment of FIG. 1 uses a slide-movable X-ray shutter, whereas the embodiment of FIG. In the embodiment, a rotationally movable X-ray shutter is used. Specifically, a cylindrical shutter base 2 is provided on a casing 6 at an X-ray window 7.
1 is fixedly installed, and a cylindrical X-ray shutter 19 is disposed in a shutter base 21 thereof.
【0051】シャッタベース21の中心部分にはX線通
過用の開口18が形成され、一方、X線シャッタ19の
中心部分にはX線通過用の直線状の貫通穴17が形成さ
れる。X線シャッタ19は、中心軸線Lを中心として回
転可能であり、図示しない駆動装置によって駆動されて
図3に示すX線遮断位置と、図4に示すX線通過位置と
の間で回転する。図3に示すX線遮断位置は、シャッタ
ベース21の開口18とX線シャッタ19の貫通穴17
とを角度的にずらせることによってもたらされる。ま
た、図4に示すX線通過位置は、シャッタベース21の
開口18とX線シャッタ19の貫通穴17とを角度的に
一致させることによってもたらされる。An X-ray passing opening 18 is formed in the center of the shutter base 21, while a linear through hole 17 for X-ray passing is formed in the center of the X-ray shutter 19. The X-ray shutter 19 is rotatable about a center axis L, and is driven by a driving device (not shown) to rotate between an X-ray blocking position shown in FIG. 3 and an X-ray passing position shown in FIG. The X-ray blocking position shown in FIG.
And by shifting the angle angularly. The X-ray passing position shown in FIG. 4 is provided by making the opening 18 of the shutter base 21 and the through hole 17 of the X-ray shutter 19 coincide with each other in angle.
【0052】本実施形態では、一対の摺動部材としての
X線シャッタ19及びシャッタベース21の両方又はい
ずれか一方に黒クロムメッキ処理を施してその表面に黒
クロム被膜を形成する。また、黒クロムメッキ処理に代
えてアモルファスクロムメッキやフッ素樹脂コーティン
グを施すこともできる。また、黒クロム被膜又はアモル
ファスクロム被膜を下地層とした上でその上にフッ素樹
脂コーティングを行うこともできる。また、X線シャッ
タ19をTaによって形成することもできる。In this embodiment, the X-ray shutter 19 and / or the shutter base 21 serving as a pair of sliding members are subjected to black chrome plating to form a black chrome coating on the surface. Amorphous chrome plating or fluororesin coating may be applied instead of black chrome plating. Alternatively, a black chromium film or an amorphous chromium film may be used as a base layer, and a fluororesin coating may be applied thereon. Further, the X-ray shutter 19 can be formed of Ta.
【0053】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実
施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、上記の実施
形態ではX線窓7の周辺に配設される一対の摺動部材と
してX線シャッタ及びシャッタベースを考えたが、必要
に応じて他の摺動機構がX線窓7の周辺に配設される場
合には、その摺動機構に対しても本発明を適用できる。(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to those embodiments, but falls within the scope of the invention described in the claims. Various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, an X-ray shutter and a shutter base are considered as a pair of sliding members disposed around the X-ray window 7. In the case of being disposed in the periphery, the present invention can be applied to the sliding mechanism.
【0054】[0054]
【発明の効果】本発明に係るX線発生装置によれば、摺
動部材の少なくとも一方に黒クロムメッキを施してその
表面に黒クロム被膜を形成したので、X線発生作業を継
続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとんど生成す
ることが無くなり、その結果、摺動部材の滑らかな摺動
動作を長期間にわたって維持することができる。According to the X-ray generation apparatus of the present invention, at least one of the sliding members is coated with black chrome and a black chrome coating is formed on the surface of the sliding member, so that the X-ray generation operation can be performed continuously. Even in this case, almost no nitric acid compound is generated, and as a result, the smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a long period of time.
【0055】また、黒クロムメッキ処理に代えてフッ素
樹脂コーティングを行って摺動部材の表面にフッ素樹脂
被膜を形成することによっても、摺動部材の滑らかな摺
動動作を長期間にわたって維持することができる。ま
た、黒クロムメッキを下地層としてその上にフッ素樹脂
コーティングを行えば、摺動部材の滑らかな摺動動作を
より一層長期間にわたって維持できる。In addition, a smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a long period of time by forming a fluororesin coating on the surface of the sliding member by performing a fluorine resin coating instead of the black chrome plating treatment. Can be. Further, if the fluorochrome resin coating is performed thereon using black chrome plating as a base layer, the smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a longer period of time.
【0056】また、黒クロムメッキ処理に代えてアモル
ファスクロムメッキを行って摺動部材の表面にアモルフ
ァスクロム被膜を形成することによっても、摺動部材の
滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持することがで
きる。また、アモルファスクロムメッキを下地層として
その上にフッ素樹脂コーティングを行えば、摺動部材の
滑らかな摺動動作をより一層長期間にわたって維持でき
る。In addition, the smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a long time by forming an amorphous chrome coating on the surface of the sliding member by performing amorphous chrome plating instead of the black chrome plating process. Can be. Further, if a fluorine resin coating is applied thereon using amorphous chrome plating as a base layer, the smooth sliding operation of the sliding member can be maintained for a longer period of time.
【0057】[0057]
【図1】本発明に係るX線発生装置の一実施形態の要部
を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a main part of an embodiment of an X-ray generator according to the present invention.
【図2】図1の構造においてX線シャッタが開いた状態
を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a state where an X-ray shutter is opened in the structure of FIG. 1;
【図3】本発明に係るX線発生装置の他の実施形態の要
部を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a main part of another embodiment of the X-ray generator according to the present invention.
【図4】図3の構造においてX線シャッタが開いた状態
を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a state where an X-ray shutter is opened in the structure of FIG. 3;
【図5】X線発生装置の一般的な構造を模式的に示す断
面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a general structure of an X-ray generator.
【符号の説明】 1 フィラメント 2 ウエネルト 3 電子銃 4 ターゲット 6 ケーシング 7 X線窓 8 冷却水通路 9 X線シャッタ(摺動部材) 11 シャッタベース(摺動部材) 17 X線通過用貫通穴 18 X線通過用開口 19 X線シャッタ(摺動部材) 21 シャッタベース(摺動部材)[Description of Signs] 1 Filament 2 Wehnelt 3 Electron gun 4 Target 6 Casing 7 X-ray window 8 Cooling water passage 9 X-ray shutter (sliding member) 11 Shutter base (sliding member) 17 X-ray passing through hole 18 X Line passage opening 19 X-ray shutter (sliding member) 21 Shutter base (sliding member)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 巧 東京都昭島市松原町3丁目9番12号 理学 電機株式会社拝島工場内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takumi Tamura 3-9-1, Matsubara-cho, Akishima-shi, Tokyo Inside the Haijima Plant of Rigaku Denki Co., Ltd.
Claims (13)
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 上記X線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒
クロムメッキが施されることを特徴とするX線発生装
置。1. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside through an X-ray window, comprising: a pair of sliding members located at a peripheral portion of the X-ray window; An X-ray generator characterized in that at least one of the sliding members is coated with black chrome.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 上記X線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはフ
ッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とするX線
発生装置。2. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside through an X-ray window, comprising: a pair of sliding members located at a peripheral portion of the X-ray window; Wherein at least one of the sliding members is coated with a fluororesin.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 上記X線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒
クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コー
ティングが施されることを特徴とするX線発生装置。3. An X-ray generating apparatus for taking out X-rays generated inside through an X-ray window, comprising a pair of sliding members located at a peripheral portion of the X-ray window. An X-ray generator, wherein at least one of the sliding members is coated with black chrome and further coated with a fluororesin.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 上記X線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはア
モルファスクロムメッキが施されることを特徴とするX
線発生装置。4. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside to the outside through an X-ray window, comprising: a pair of sliding members located at a peripheral portion of the X-ray window; Wherein at least one of the sliding members is coated with amorphous chrome plating.
Line generator.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 上記X線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはア
モルファスクロムメッキが施され、さらにその上にフッ
素樹脂コーティングが施されることを特徴とするX線発
生装置。5. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside through an X-ray window, comprising a pair of sliding members located at a peripheral portion of the X-ray window. An X-ray generator, wherein at least one of the sliding members is coated with amorphous chrome, and further coated with a fluororesin.
もいずれか1つに記載のX線発生装置において、上記X
線窓の周辺を冷却する冷却手段を有することを特徴とす
るX線発生装置。6. The X-ray generating apparatus according to claim 1, wherein said X-ray generation device
An X-ray generator comprising cooling means for cooling the periphery of a line window.
もいずれか1つに記載のX線発生装置において、 上記一対の摺動部材は、X線が外部へ発散するのを阻止
するX線シャッタと、そのX線シャッタを摺動可能に支
持するシャッタベースとによって構成されることを特徴
とするX線発生装置。7. The X-ray generator according to claim 1, wherein the pair of sliding members prevent the X-ray from diverging to the outside. An X-ray generator comprising: a shutter; and a shutter base slidably supporting the X-ray shutter.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 X線が外部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そ
のX線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのい
ずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スには黒クロムメッキが施されることを特徴とするX線
発生装置。8. An X-ray generator for extracting X-rays generated inside to the outside through an X-ray window, comprising: an X-ray shutter for preventing X-rays from diverging to the outside; and sliding the X-ray shutter. A shutter base movably supported, wherein the X-ray shutter is formed of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them; An X-ray generator, wherein a black chrome plating is applied to a shutter base.
部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 X線が外部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そ
のX線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのい
ずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはフッ素樹脂コーティングが施されることを特徴と
するX線発生装置。9. An X-ray generator for extracting X-rays generated inside to the outside through an X-ray window, comprising: an X-ray shutter for preventing X-rays from diverging to the outside; A shutter base movably supported, wherein the X-ray shutter is formed of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them; An X-ray generator, wherein a shutter base is coated with a fluororesin.
外部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 X線が外部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そ
のX線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのい
ずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スには黒クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素
樹脂コーティングが施されることを特徴とするX線発生
装置。10. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside to the outside through an X-ray window, comprising: an X-ray shutter for preventing X-rays from diverging to the outside; A shutter base movably supported, wherein the X-ray shutter is formed of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them; An X-ray generator, wherein a black chrome plating is applied to a shutter base, and a fluororesin coating is applied thereon.
外部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 X線が外部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そ
のX線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのい
ずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはアモルファスクロムメッキが施されることを特徴
とするX線発生装置。11. An X-ray generator for taking out X-rays generated inside through an X-ray window, comprising: an X-ray shutter for preventing X-rays from diverging to the outside; A shutter base movably supported, wherein the X-ray shutter is formed of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them; An X-ray generator, wherein an amorphous chrome plating is applied to a shutter base.
外部へ取り出すようにしたX線発生装置において、 X線が外部へ発散するのを阻止するX線シャッタと、そ
のX線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記X線シャッタはTa、Rh、Ir、Pt、Auのい
ずれか1つ又はそれらのうちの少なくともいずれか1つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはアモルファスクロムメッキが施され、さらにその
上にフッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とす
るX線発生装置。12. An X-ray generator for extracting X-rays generated inside to the outside through an X-ray window, comprising: an X-ray shutter for preventing X-rays from diverging to the outside; A shutter base movably supported, wherein the X-ray shutter is formed of any one of Ta, Rh, Ir, Pt, and Au, or an alloy containing at least one of them; An X-ray generator, wherein an amorphous chrome plating is applied to a shutter base, and a fluororesin coating is further applied thereon.
くともいずれか1つに記載のX線発生装置において、上
記X線窓の周辺を冷却する冷却手段を有することを特徴
とするX線発生装置。13. The X-ray generator according to claim 8, further comprising a cooling unit configured to cool a periphery of the X-ray window. apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36758597A JPH11190800A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | X-ray generation device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36758597A JPH11190800A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | X-ray generation device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11190800A true JPH11190800A (en) | 1999-07-13 |
Family
ID=18489682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36758597A Pending JPH11190800A (en) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | X-ray generation device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11190800A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012146656A (en) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Panalytical Bv | X-ray shutter arrangement |
| JP2023031125A (en) * | 2021-08-24 | 2023-03-08 | 富士電機株式会社 | X-ray irradiation system, x-ray measurement device and mounting table |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP36758597A patent/JPH11190800A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012146656A (en) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Panalytical Bv | X-ray shutter arrangement |
| EP2477191A3 (en) * | 2011-01-12 | 2014-07-02 | PANalytical B.V. | X-ray shutter arrangement |
| JP2023031125A (en) * | 2021-08-24 | 2023-03-08 | 富士電機株式会社 | X-ray irradiation system, x-ray measurement device and mounting table |
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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