JPH11190800A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH11190800A JPH11190800A JP36758597A JP36758597A JPH11190800A JP H11190800 A JPH11190800 A JP H11190800A JP 36758597 A JP36758597 A JP 36758597A JP 36758597 A JP36758597 A JP 36758597A JP H11190800 A JPH11190800 A JP H11190800A
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Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線シャッタ等といった摺動部材の摺動移
動、例えば開閉移動を長期間にわたって正常に行うこと
ができるＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 ターゲット４で発生したＸ線をＸ線窓７
を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生装置であ
る。Ｘ線窓７の周辺部分に一対の摺動部材であるＸ線シ
ャッタ９及びシャッタベース１１が設けられる。それら
の摺動部材の少なくとも一方には黒クロムメッキ処理が
施されてその表面に黒クロム被膜が形成される。あるい
は、フッ素樹脂コーティングが施されてその表面にフッ
素樹脂被膜が形成される。あるいは、黒クロムメッキが
施された上にさらにフッ素樹脂コーティングが施され、
黒クロム被膜を下地層としその上にフッ素樹脂が積層さ
れた多層被膜が形成される。黒クロム被膜等により、酸
に対する耐蝕性が向上する。
動、例えば開閉移動を長期間にわたって正常に行うこと
ができるＸ線発生装置を提供する。 【解決手段】 ターゲット４で発生したＸ線をＸ線窓７
を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生装置であ
る。Ｘ線窓７の周辺部分に一対の摺動部材であるＸ線シ
ャッタ９及びシャッタベース１１が設けられる。それら
の摺動部材の少なくとも一方には黒クロムメッキ処理が
施されてその表面に黒クロム被膜が形成される。あるい
は、フッ素樹脂コーティングが施されてその表面にフッ
素樹脂被膜が形成される。あるいは、黒クロムメッキが
施された上にさらにフッ素樹脂コーティングが施され、
黒クロム被膜を下地層としその上にフッ素樹脂が積層さ
れた多層被膜が形成される。黒クロム被膜等により、酸
に対する耐蝕性が向上する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、内部で発生したＸ
線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生
装置に関する。特に望ましくは、Ｘ線窓の周辺が冷却水
等によって冷却される構造のＸ線発生装置に関する。
線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ線発生
装置に関する。特に望ましくは、Ｘ線窓の周辺が冷却水
等によって冷却される構造のＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線を用いて試料の分析を行うＸ
線装置として種々の構造のものが知られている。このＸ
線装置には、一般に、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装
置が含まれる。Ｘ線発生装置は、一般に、図５に示すよ
うに、高真空に保持されたＸ線管球５１の内部に電子銃
５２及びターゲット５３を有する。電子銃５２は通電に
よって発熱して熱電子を放出し、その熱電子は電子銃５
２とターゲット５３との間に印加された高電圧によって
加速されてターゲット５３に衝突する。この衝突により
ターゲット５３からＸ線が放射され、放射されたそのＸ
線はＸ線窓５４を通して外部へ取り出される。
線装置として種々の構造のものが知られている。このＸ
線装置には、一般に、Ｘ線を発生するためのＸ線発生装
置が含まれる。Ｘ線発生装置は、一般に、図５に示すよ
うに、高真空に保持されたＸ線管球５１の内部に電子銃
５２及びターゲット５３を有する。電子銃５２は通電に
よって発熱して熱電子を放出し、その熱電子は電子銃５
２とターゲット５３との間に印加された高電圧によって
加速されてターゲット５３に衝突する。この衝突により
ターゲット５３からＸ線が放射され、放射されたそのＸ
線はＸ線窓５４を通して外部へ取り出される。
【０００３】Ｘ線は人体に対して非常に危険であるた
め、Ｘ線窓５４の所にはＸ線シャッタ５６が設けられ
る。Ｘ線測定等のためにＸ線が必要となる場合には矢印
Ａ’のようにＸ線シャッタ５６をスライド移動によって
開いてＸ線の通過を許容する。一方、Ｘ線が必要でない
場合には矢印ＡのようにＸ線シャッタ５６を閉じてＸ線
の通過を禁止する。
め、Ｘ線窓５４の所にはＸ線シャッタ５６が設けられ
る。Ｘ線測定等のためにＸ線が必要となる場合には矢印
Ａ’のようにＸ線シャッタ５６をスライド移動によって
開いてＸ線の通過を許容する。一方、Ｘ線が必要でない
場合には矢印ＡのようにＸ線シャッタ５６を閉じてＸ線
の通過を禁止する。
【０００４】Ｘ線シャッタ５６は、Ｘ線を十分に遮断す
る必要があることから、Ｘ線吸収の大きい材料、例えば
鉛、ヘビーメタル等といった重金属を用いて形成される
ことが多い。また、Ｘ線シャッタ５６を摺動可能に支持
するシャッタベース５７は、黄銅、ステンレス等といっ
た金属が使用されることが多い。また、Ｘ線の漏洩をよ
り完全に防ぐため、シャッタベース５７とＸ線シャッタ
５６との間の隙間はできる限り狭くする必要がある。そ
してそれと同時に、Ｘ線シャッタ５６はシャッタベース
５７の中で滑らかにスライド移動できなければならな
い。
る必要があることから、Ｘ線吸収の大きい材料、例えば
鉛、ヘビーメタル等といった重金属を用いて形成される
ことが多い。また、Ｘ線シャッタ５６を摺動可能に支持
するシャッタベース５７は、黄銅、ステンレス等といっ
た金属が使用されることが多い。また、Ｘ線の漏洩をよ
り完全に防ぐため、シャッタベース５７とＸ線シャッタ
５６との間の隙間はできる限り狭くする必要がある。そ
してそれと同時に、Ｘ線シャッタ５６はシャッタベース
５７の中で滑らかにスライド移動できなければならな
い。
【０００５】Ｘ線窓５４の周辺領域は、Ｘ線管球５１内
で発生する熱の影響を防ぐために冷却される場合が多
く、その場合には、Ｘ線窓５４の外側に管球に密着して
取り付けられたＸ線シャッタ５６も比較的に低温とな
り、その結果、Ｘ線シャッタ５６のまわりの雰囲気は結
露し易くなる。このような状態でＸ線を発生すると、放
射線、水分、Ｘ線シャッタ５６、シャッタベース５７等
が化学的に反応し、その結果、硝酸化合物が生成され
る。
で発生する熱の影響を防ぐために冷却される場合が多
く、その場合には、Ｘ線窓５４の外側に管球に密着して
取り付けられたＸ線シャッタ５６も比較的に低温とな
り、その結果、Ｘ線シャッタ５６のまわりの雰囲気は結
露し易くなる。このような状態でＸ線を発生すると、放
射線、水分、Ｘ線シャッタ５６、シャッタベース５７等
が化学的に反応し、その結果、硝酸化合物が生成され
る。
【０００６】Ｘ線シャッタ５６をヘビーメタルによって
形成し、シャッタベース５７を黄銅によって形成した場
合、分析の結果、 Ｎｉ（ＮＯ3）2６Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＮＯ3）2２Ｈ2Ｏ、Ｃｕ
2（ＯＨ）3ＮＯ3 等といった硝酸化合物が生成し、これらの生成物がＸ線
シャッタ５６及びシャッタベース５７に付着することが
わかった。このような硝酸化合物の付着が発生すると、
Ｘ線シャッタ５６のスライド移動が滑らかにできなくな
り、それ故、Ｘ線シャッタ５６によって正常なシャッタ
動作を行うことができなくなるという問題が生じる。
形成し、シャッタベース５７を黄銅によって形成した場
合、分析の結果、 Ｎｉ（ＮＯ3）2６Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＮＯ3）2２Ｈ2Ｏ、Ｃｕ
2（ＯＨ）3ＮＯ3 等といった硝酸化合物が生成し、これらの生成物がＸ線
シャッタ５６及びシャッタベース５７に付着することが
わかった。このような硝酸化合物の付着が発生すると、
Ｘ線シャッタ５６のスライド移動が滑らかにできなくな
り、それ故、Ｘ線シャッタ５６によって正常なシャッタ
動作を行うことができなくなるという問題が生じる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みて成されたものであって、Ｘ線シャッタ等とい
った摺動部材の摺動移動、例えば開閉移動を長期間にわ
たって正常に行うことができるＸ線発生装置を提供する
ことを目的とする。
点に鑑みて成されたものであって、Ｘ線シャッタ等とい
った摺動部材の摺動移動、例えば開閉移動を長期間にわ
たって正常に行うことができるＸ線発生装置を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】（１） 上記の目的を達
成するため、本発明に係るＸ線発生装置は、内部で発生
したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ
線発生装置において、上記Ｘ線窓の周辺部分に一対の摺
動部材を設け、そして、それらの摺動部材の少なくとも
一方には黒クロムメッキが施されることを特徴とする。
このように、摺動部材の少なくとも一方に黒クロムメッ
キを施してその表面に黒クロム被膜を形成しておけば、
Ｘ線発生作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物
がほとんど生成することが無くなり、その結果、摺動部
材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持すること
ができる。
成するため、本発明に係るＸ線発生装置は、内部で発生
したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り出すようにしたＸ
線発生装置において、上記Ｘ線窓の周辺部分に一対の摺
動部材を設け、そして、それらの摺動部材の少なくとも
一方には黒クロムメッキが施されることを特徴とする。
このように、摺動部材の少なくとも一方に黒クロムメッ
キを施してその表面に黒クロム被膜を形成しておけば、
Ｘ線発生作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物
がほとんど生成することが無くなり、その結果、摺動部
材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持すること
ができる。
【０００９】上記「一対の摺動部材」は、特定の形状及
び特定の用途に限られるものでなく、Ｘ線窓の近傍に配
設されるあらゆる種類の摺動部材を含むものである。こ
の一対の摺動部材として一般的に考えられるものは、Ｘ
線シャッタとそれを摺動可能に支持するシャッタベース
との組み合わせである。
び特定の用途に限られるものでなく、Ｘ線窓の近傍に配
設されるあらゆる種類の摺動部材を含むものである。こ
の一対の摺動部材として一般的に考えられるものは、Ｘ
線シャッタとそれを摺動可能に支持するシャッタベース
との組み合わせである。
【００１０】上記「黒クロムメッキ」は、従来から良く
知られている電気メッキ処理であり、例えば、所定温度
に制御したメッキ浴液の中に被メッキ材料を浸漬した状
態でその被メッキ材料に所定電圧を印加することによっ
て行われる。この黒クロムメッキは、酸化クロム（Ｃｒ
Ｏ）の還元メッキであって、 ＣｒＯ → Ｃｒ2Ｏ3 → Ｃｒ のような反応形態が生じ、被メッキ材料の表面には、Ｃ
ｒ2Ｏ3及びＣｒの両方が混在する状態の黒クロム被膜が
形成される。この被膜の存在により、希硝酸雰囲気に対
する耐蝕性が高くなり、その結果、Ｘ線照射時における
摺動部材の耐蝕性を向上させることができる。なお、黒
クロムメッキ処理のためのメッキ浴液には、一般にクロ
ム酸（ＣｒＯ）、触媒及び補助添加剤が含まれるが、具
体的な成分は特定な成分に限定されることはない。
知られている電気メッキ処理であり、例えば、所定温度
に制御したメッキ浴液の中に被メッキ材料を浸漬した状
態でその被メッキ材料に所定電圧を印加することによっ
て行われる。この黒クロムメッキは、酸化クロム（Ｃｒ
Ｏ）の還元メッキであって、 ＣｒＯ → Ｃｒ2Ｏ3 → Ｃｒ のような反応形態が生じ、被メッキ材料の表面には、Ｃ
ｒ2Ｏ3及びＣｒの両方が混在する状態の黒クロム被膜が
形成される。この被膜の存在により、希硝酸雰囲気に対
する耐蝕性が高くなり、その結果、Ｘ線照射時における
摺動部材の耐蝕性を向上させることができる。なお、黒
クロムメッキ処理のためのメッキ浴液には、一般にクロ
ム酸（ＣｒＯ）、触媒及び補助添加剤が含まれるが、具
体的な成分は特定な成分に限定されることはない。
【００１１】（２） 次に、本発明に係る他のＸ線発生
装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取
り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線窓の
周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そして、そ
れらの摺動部材の少なくとも一方にはフッ素樹脂コーテ
ィングが施されることを特徴とする。このように、摺動
部材の少なくとも一方にフッ素樹脂コーティングを施し
ておけば、Ｘ線発生作業を継続して実行した場合でも、
硝酸化合物がほとんど生成することが無くなり、その結
果、摺動部材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維
持することができる。
装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取
り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線窓の
周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そして、そ
れらの摺動部材の少なくとも一方にはフッ素樹脂コーテ
ィングが施されることを特徴とする。このように、摺動
部材の少なくとも一方にフッ素樹脂コーティングを施し
ておけば、Ｘ線発生作業を継続して実行した場合でも、
硝酸化合物がほとんど生成することが無くなり、その結
果、摺動部材の滑らかな摺動動作を長期間にわたって維
持することができる。
【００１２】上記「フッ素樹脂」としては、例えば、テ
フロン（商品名）の名前で知られているポリテトラフル
オロエチレンを用いることができる。このフッ素樹脂コ
ーティングは従来から良く知られている処理工程を実行
することによって行うことができ、例えば、 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→
乾燥→焼成 の各工程を経て完成される。塗装工程は、専用の静電塗
装ガンを用いて行うことができる。また、焼成温度は塗
装剤の種類によって異なるが、通常は、２００℃〜４０
０℃になるので、被コーティング材としてはそのような
高温に耐えることができる材料が選定される。
フロン（商品名）の名前で知られているポリテトラフル
オロエチレンを用いることができる。このフッ素樹脂コ
ーティングは従来から良く知られている処理工程を実行
することによって行うことができ、例えば、 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→
乾燥→焼成 の各工程を経て完成される。塗装工程は、専用の静電塗
装ガンを用いて行うことができる。また、焼成温度は塗
装剤の種類によって異なるが、通常は、２００℃〜４０
０℃になるので、被コーティング材としてはそのような
高温に耐えることができる材料が選定される。
【００１３】（３） 次に、本発明に係る更に他のＸ線
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒クロムメ
ッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コーティング
が施されることを特徴とする。つまりこのＸ線発生装置
では、黒クロムメッキを前処理として行い、その後にフ
ッ素樹脂コーティングを行う。
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒クロムメ
ッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コーティング
が施されることを特徴とする。つまりこのＸ線発生装置
では、黒クロムメッキを前処理として行い、その後にフ
ッ素樹脂コーティングを行う。
【００１４】黒クロムメッキ処理によって形成される黒
クロム被膜は、被メッキ素材の近傍にＣｒの粒子が存在
し、その上にＣｒ2０3の粒子が重なり合う状態となって
おり、そして、０．０５〜０．２μｍ程度の径の小粒子
が合体して、０．３〜０．６μｍ程度の径の粒子になっ
ているものと考えられる。この被膜は、比較的、ポーラ
スすなわち多孔性であり、この被膜にフッ素樹脂コーテ
ィングを行うと被膜の微孔の部分に塗装が入り込み、い
わゆる投錨効果が表れて密着性が高まり、メッキ被膜と
塗装との複合的な耐蝕性を得ることができる。この結
果、摺動部材の耐蝕性をさらに長期間にわたって高く保
持できる。
クロム被膜は、被メッキ素材の近傍にＣｒの粒子が存在
し、その上にＣｒ2０3の粒子が重なり合う状態となって
おり、そして、０．０５〜０．２μｍ程度の径の小粒子
が合体して、０．３〜０．６μｍ程度の径の粒子になっ
ているものと考えられる。この被膜は、比較的、ポーラ
スすなわち多孔性であり、この被膜にフッ素樹脂コーテ
ィングを行うと被膜の微孔の部分に塗装が入り込み、い
わゆる投錨効果が表れて密着性が高まり、メッキ被膜と
塗装との複合的な耐蝕性を得ることができる。この結
果、摺動部材の耐蝕性をさらに長期間にわたって高く保
持できる。
【００１５】（４） 次に、本発明に係る更に他のＸ線
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施されることを特徴とする。ここで、
「アモルファスクロムメッキ」は、それ自体周知のメッ
キ処理であり、メッキ液にギ酸、シュウ酸、クエン酸、
ギ酸カリ等といった有機酸を添加した状態でメッキを行
うものである。このように、摺動部材の少なくとも一方
にアモルファスクロムメッキを施しておけば、Ｘ線発生
作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとん
ど生成することが無くなり、その結果、摺動部材の滑ら
かな摺動動作を長期間にわたって維持することができ
る。
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施されることを特徴とする。ここで、
「アモルファスクロムメッキ」は、それ自体周知のメッ
キ処理であり、メッキ液にギ酸、シュウ酸、クエン酸、
ギ酸カリ等といった有機酸を添加した状態でメッキを行
うものである。このように、摺動部材の少なくとも一方
にアモルファスクロムメッキを施しておけば、Ｘ線発生
作業を継続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとん
ど生成することが無くなり、その結果、摺動部材の滑ら
かな摺動動作を長期間にわたって維持することができ
る。
【００１６】（５） 次に、本発明に係る更に他のＸ線
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。つまりこのＸ
線発生装置では、アモルファスクロムメッキを前処理と
して行い、その後にフッ素樹脂コーティングを行う。
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、上記Ｘ線
窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有し、そし
て、それらの摺動部材の少なくとも一方にはアモルファ
スクロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。つまりこのＸ
線発生装置では、アモルファスクロムメッキを前処理と
して行い、その後にフッ素樹脂コーティングを行う。
【００１７】（６） 上記の各Ｘ線発生装置は、Ｘ線窓
の周辺を冷却手段によって冷却するという構造を有する
ときに、特に有効である。Ｘ線発生装置においてＸ線窓
の周辺を冷却すると、該周辺部分に結露が生じ易く、従
って、Ｘ線シャッタ及びシャッタベース等といった摺動
部材が酸によって腐蝕し易くなる。このような状況下に
おいて本発明のように摺動部材を黒クロムメッキした
り、フッ素樹脂コーティングしたり、アモルファスクロ
ムメッキしたり、黒クロムメッキとフッ素樹脂コーティ
ングを重ねて行ったり、あるいはアモルファスクロムメ
ッキとフッ素樹脂コーティングを重ねて行ったりすれ
ば、摺動部材の腐蝕を確実に防止できる。
の周辺を冷却手段によって冷却するという構造を有する
ときに、特に有効である。Ｘ線発生装置においてＸ線窓
の周辺を冷却すると、該周辺部分に結露が生じ易く、従
って、Ｘ線シャッタ及びシャッタベース等といった摺動
部材が酸によって腐蝕し易くなる。このような状況下に
おいて本発明のように摺動部材を黒クロムメッキした
り、フッ素樹脂コーティングしたり、アモルファスクロ
ムメッキしたり、黒クロムメッキとフッ素樹脂コーティ
ングを重ねて行ったり、あるいはアモルファスクロムメ
ッキとフッ素樹脂コーティングを重ねて行ったりすれ
ば、摺動部材の腐蝕を確実に防止できる。
【００１８】（７） 次に、本発明に係る更に他のＸ線
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外
部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シ
ャッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、
上記Ｘ線シャッタはＴａ（タンタル）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）
のいずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか
１つを含む合金によって形成され、さらに上記シャッタ
ベースには黒クロムメッキが施されることを特徴とす
る。
発生装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部
へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外
部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シ
ャッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、
上記Ｘ線シャッタはＴａ（タンタル）、Ｒｈ（ロジウ
ム）、Ｉｒ（イリジウム）、Ｐｔ（白金）、Ａｕ（金）
のいずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか
１つを含む合金によって形成され、さらに上記シャッタ
ベースには黒クロムメッキが施されることを特徴とす
る。
【００１９】黒クロムメッキ、フッ素樹脂コーティン
グ、アモルファスクロムメッキ等といった被膜形成処理
が摺動部材の耐蝕性を向上させるということに関して極
めて有利であることは上記の通りであるが、本発明者の
実験によれば、一対の摺動部材に関し、それらの少なく
とも一方の素材自体をＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕの
いずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１
つを含む合金等によって形成することが、摺動部材の耐
蝕性を向上させることに関して有利であることが判明し
た。しかしながら、Ｔａ等は高価であるので一対の摺動
部材の全てをＴａ等によって形成するとＸ線発生装置が
高価になってしまうことが考えられる。これに対し、本
Ｘ線発生装置のように一方の摺動部材であるＸ線シャッ
タをＴａ等によって形成し、他方の摺動部材であるシャ
ッタベースに黒クロムメッキを施せば、それらの摺動部
材の耐蝕性を高く保持した上でそれらを安価に作製でき
る。
グ、アモルファスクロムメッキ等といった被膜形成処理
が摺動部材の耐蝕性を向上させるということに関して極
めて有利であることは上記の通りであるが、本発明者の
実験によれば、一対の摺動部材に関し、それらの少なく
とも一方の素材自体をＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕの
いずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１
つを含む合金等によって形成することが、摺動部材の耐
蝕性を向上させることに関して有利であることが判明し
た。しかしながら、Ｔａ等は高価であるので一対の摺動
部材の全てをＴａ等によって形成するとＸ線発生装置が
高価になってしまうことが考えられる。これに対し、本
Ｘ線発生装置のように一方の摺動部材であるＸ線シャッ
タをＴａ等によって形成し、他方の摺動部材であるシャ
ッタベースに黒クロムメッキを施せば、それらの摺動部
材の耐蝕性を高く保持した上でそれらを安価に作製でき
る。
【００２０】（８） 本発明に係る更に他のＸ線発生装
置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り
出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ発
散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記Ｘ
線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれか
１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。
置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り
出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ発
散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記Ｘ
線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれか
１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。
【００２１】このＸ線発生装置は、上記（７）に記載し
たＸ線発生装置に比べて、シャッタベースに加える処理
を黒クロムメッキからフッ素樹脂コーティングに代えた
ことが異なっている。このＸ線発生装置によっても、Ｘ
線シャッタ及びシャッタベースの両方をＴａ等によって
形成する場合に比べてＸ線発生装置を安価に作製でき
る。
たＸ線発生装置に比べて、シャッタベースに加える処理
を黒クロムメッキからフッ素樹脂コーティングに代えた
ことが異なっている。このＸ線発生装置によっても、Ｘ
線シャッタ及びシャッタベースの両方をＴａ等によって
形成する場合に比べてＸ線発生装置を安価に作製でき
る。
【００２２】（９） 本発明に係る更に他のＸ線発生装
置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り
出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ発
散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記Ｘ
線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれか
１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
黒クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。
置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取り
出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ発
散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタ
を摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記Ｘ
線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれか
１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含む
合金によって形成され、さらに上記シャッタベースには
黒クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コ
ーティングが施されることを特徴とする。
【００２３】このＸ線発生装置は、上記（７）及び
（８）に記載したＸ線発生装置に比べて、シャッタベー
スに黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方
の処理を行うことが異なっている。このＸ線発生装置に
よれば、黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの
相乗効果により、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースの耐
蝕性をさらに長期間にわたって高く保持できる。
（８）に記載したＸ線発生装置に比べて、シャッタベー
スに黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方
の処理を行うことが異なっている。このＸ線発生装置に
よれば、黒クロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの
相乗効果により、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースの耐
蝕性をさらに長期間にわたって高く保持できる。
【００２４】（１０） 本発明に係る更に他のＸ線発生
装置は、 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ
取り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部
へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャ
ッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上
記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいず
れか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを
含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベース
にはアモルファスクロムメッキが施されることを特徴と
する。このＸ線発生装置によれば、シャッタベースにア
モルファスクロムメッキ処理を施すことにより耐蝕性を
向上させることができ、しかも、Ｘ線シャッタ及びシャ
ッタベースの両方をＴａ等によって形成する場合に比べ
てＸ線発生装置を安価に作製できる。
装置は、 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ
取り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部
へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャ
ッタを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上
記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいず
れか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを
含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベース
にはアモルファスクロムメッキが施されることを特徴と
する。このＸ線発生装置によれば、シャッタベースにア
モルファスクロムメッキ処理を施すことにより耐蝕性を
向上させることができ、しかも、Ｘ線シャッタ及びシャ
ッタベースの両方をＴａ等によって形成する場合に比べ
てＸ線発生装置を安価に作製できる。
【００２５】（１１） 本発明に係る更に他のＸ線発生
装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取
り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ
発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッ
タを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記
Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれ
か１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含
む合金によって形成され、さらに上記シャッタベースに
はアモルファスクロムメッキが施され、さらにその上に
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。
このＸ線発生装置によれば、シャッタベースにアモルフ
ァスクロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方の
処理を行うようにしたので、アモルファスクロムメッキ
及びフッ素樹脂コーティングの相乗効果により、Ｘ線シ
ャッタ及びシャッタベースの耐蝕性をさらに長期間にわ
たって高く保持できる。
装置は、内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外部へ取
り出すようにしたＸ線発生装置において、Ｘ線が外部へ
発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッ
タを摺動可能に支持するシャッタベースとを有し、上記
Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのいずれ
か１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つを含
む合金によって形成され、さらに上記シャッタベースに
はアモルファスクロムメッキが施され、さらにその上に
フッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とする。
このＸ線発生装置によれば、シャッタベースにアモルフ
ァスクロムメッキ及びフッ素樹脂コーティングの両方の
処理を行うようにしたので、アモルファスクロムメッキ
及びフッ素樹脂コーティングの相乗効果により、Ｘ線シ
ャッタ及びシャッタベースの耐蝕性をさらに長期間にわ
たって高く保持できる。
【００２６】（１２） 上記（７）〜（１１）に記載し
た各Ｘ線発生装置は、Ｘ線窓の周辺を冷却手段によって
冷却するという構造を有するときに、特に有効である。
Ｘ線発生装置においてＸ線窓の周辺を冷却すると、該周
辺部分に結露が生じ易く、従って、Ｘ線シャッタ及びシ
ャッタベース等といった摺動部材が酸によって腐蝕し易
くなる。このような状況下において本発明のようにＸ線
シャッタをＴａ等によって形成し、シャッタベースに黒
クロムメッキ、フッ素樹脂コーティング等を施すことに
すれば、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースの腐蝕を、よ
り確実に防止できる。
た各Ｘ線発生装置は、Ｘ線窓の周辺を冷却手段によって
冷却するという構造を有するときに、特に有効である。
Ｘ線発生装置においてＸ線窓の周辺を冷却すると、該周
辺部分に結露が生じ易く、従って、Ｘ線シャッタ及びシ
ャッタベース等といった摺動部材が酸によって腐蝕し易
くなる。このような状況下において本発明のようにＸ線
シャッタをＴａ等によって形成し、シャッタベースに黒
クロムメッキ、フッ素樹脂コーティング等を施すことに
すれば、Ｘ線シャッタ及びシャッタベースの腐蝕を、よ
り確実に防止できる。
【００２７】
【発明の実施の形態】（第１実施形態）図１は、本発明
に係るＸ線発生装置の一実施形態を示している。このＸ
線発生装置は、フィラメント１及びそれを取り囲むウエ
ネルト２を含んで構成された電子銃３と、その電子銃３
に対向して配設されたターゲット４と、それらを気密に
包囲するケーシング６とを有する。ケーシング６の適所
には、Ｘ線が透過できる材料、例えばＢｅ（ベリリウ
ム）によってＸ線窓７が形成されている。また、そのＸ
線窓７の近傍には冷却水を通すための冷却水通路８が設
けられる。
に係るＸ線発生装置の一実施形態を示している。このＸ
線発生装置は、フィラメント１及びそれを取り囲むウエ
ネルト２を含んで構成された電子銃３と、その電子銃３
に対向して配設されたターゲット４と、それらを気密に
包囲するケーシング６とを有する。ケーシング６の適所
には、Ｘ線が透過できる材料、例えばＢｅ（ベリリウ
ム）によってＸ線窓７が形成されている。また、そのＸ
線窓７の近傍には冷却水を通すための冷却水通路８が設
けられる。
【００２８】ケーシング６の内部は気密に密閉され、そ
の適所には、排気ポンプを含む真空排気系（図示せず）
が接続される。そして、その真空排気系の作用により、
ケーシング６の内部が真空状態に排気される。このよう
に、ケーシング６の内部を真空に設定する理由は、ケー
シング６内での放電の発生を防止すること、フィラメン
ト１の酸化を防止すること、そして、できるだけ低いフ
ィラメント温度で十分量の電子をフィラメント１から放
出させること等のためである。
の適所には、排気ポンプを含む真空排気系（図示せず）
が接続される。そして、その真空排気系の作用により、
ケーシング６の内部が真空状態に排気される。このよう
に、ケーシング６の内部を真空に設定する理由は、ケー
シング６内での放電の発生を防止すること、フィラメン
ト１の酸化を防止すること、そして、できるだけ低いフ
ィラメント温度で十分量の電子をフィラメント１から放
出させること等のためである。
【００２９】真空雰囲気下でフィラメント１に通電が成
されると、そのフィラメント１が発熱してそこから熱電
子が放出され、その熱電子が高速でターゲット４に衝突
する。衝突した熱電子の一部はＸ線に変化してターゲッ
ト４から発散し、そのＸ線の一部がＸ線窓７を通して外
部へ取り出される。こうして取り出されるＸ線がＸ線回
折装置等といったＸ線装置に利用される。
されると、そのフィラメント１が発熱してそこから熱電
子が放出され、その熱電子が高速でターゲット４に衝突
する。衝突した熱電子の一部はＸ線に変化してターゲッ
ト４から発散し、そのＸ線の一部がＸ線窓７を通して外
部へ取り出される。こうして取り出されるＸ線がＸ線回
折装置等といったＸ線装置に利用される。
【００３０】ターゲット４に衝突した熱電子の多くの部
分は熱に変化してケーシング６を加熱する。ケーシング
６が異常に高温になると各種機器に支障が生じるので、
ケーシング６の過熱は防止すべきである。ケーシング６
の壁内に設けた冷却水通路を流れる冷却水はケーシング
６を冷却してそれが過剰に加熱されることを防止する。
分は熱に変化してケーシング６を加熱する。ケーシング
６が異常に高温になると各種機器に支障が生じるので、
ケーシング６の過熱は防止すべきである。ケーシング６
の壁内に設けた冷却水通路を流れる冷却水はケーシング
６を冷却してそれが過剰に加熱されることを防止する。
【００３１】図１において、Ｘ線窓７の外側にはＸ線シ
ャッタ９が設けられる。このＸ線シャッタ９は、シャッ
タベース１１によって矢印Ａ−Ａ’のように摺動可能に
支持される。このＸ線シャッタ９は、エアシリンダ、電
磁ソレノイド等といった動力源を含んだ駆動装置（図示
せず）に接続される。この駆動装置の働きによりＸ線シ
ャッタ９は、シャッタベース１１に対して摺動しながら
矢印Ａ’の方向へ開き移動でき、さらに矢印Ａの方向へ
閉じ移動できる。Ｘ線を取り出したいときには図２に示
すようにＸ線シャッタ９を矢印Ａ’方向へ開いてＸ線の
通過を許容し、それ以外のときには図１においてＸ線シ
ャッタ９を矢印Ａ方向へ閉じてＸ線の通過を阻止する。
ャッタ９が設けられる。このＸ線シャッタ９は、シャッ
タベース１１によって矢印Ａ−Ａ’のように摺動可能に
支持される。このＸ線シャッタ９は、エアシリンダ、電
磁ソレノイド等といった動力源を含んだ駆動装置（図示
せず）に接続される。この駆動装置の働きによりＸ線シ
ャッタ９は、シャッタベース１１に対して摺動しながら
矢印Ａ’の方向へ開き移動でき、さらに矢印Ａの方向へ
閉じ移動できる。Ｘ線を取り出したいときには図２に示
すようにＸ線シャッタ９を矢印Ａ’方向へ開いてＸ線の
通過を許容し、それ以外のときには図１においてＸ線シ
ャッタ９を矢印Ａ方向へ閉じてＸ線の通過を阻止する。
【００３２】本実施形態では、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キ処理を施す。具体的には、Ｔａ等に比べて安価な材
料、例えばステンレス鋼（ＳＵＳ）等によってＸ線シャ
ッタ９等を所定の形状に形成し、その素材に対して黒ク
ロムメッキ処理を施すことにより、その表面全域に黒ク
ロム被膜を形成する。黒クロムメッキ処理は、通常広く
行われるメッキ処理によって実行でき、例えば、クロム
酸、触媒及び補助添加剤を含むメッキ浴液中に素材を浸
漬し、さらにその素材に所定の電圧を印加することによ
って行うことができる。
ッタベース１１の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キ処理を施す。具体的には、Ｔａ等に比べて安価な材
料、例えばステンレス鋼（ＳＵＳ）等によってＸ線シャ
ッタ９等を所定の形状に形成し、その素材に対して黒ク
ロムメッキ処理を施すことにより、その表面全域に黒ク
ロム被膜を形成する。黒クロムメッキ処理は、通常広く
行われるメッキ処理によって実行でき、例えば、クロム
酸、触媒及び補助添加剤を含むメッキ浴液中に素材を浸
漬し、さらにその素材に所定の電圧を印加することによ
って行うことができる。
【００３３】黒クロムメッキ処理によってＸ線シャッタ
９等の表面に黒クロム被膜を形成すれば、Ｘ線シャッタ
９のまわりに硝酸化合物が生成すること、換言すればＸ
線シャッタ９等が腐蝕することを長期間にわたって防止
でき、従って、Ｘ線シャッタ９の開閉を長期間にわたっ
て滑らかに維持できる。
９等の表面に黒クロム被膜を形成すれば、Ｘ線シャッタ
９のまわりに硝酸化合物が生成すること、換言すればＸ
線シャッタ９等が腐蝕することを長期間にわたって防止
でき、従って、Ｘ線シャッタ９の開閉を長期間にわたっ
て滑らかに維持できる。
【００３４】（第２実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にフッ素樹脂コ
ーティングを施した。具体的には、Ｘ線シャッタ９等を
ステンレス鋼（ＳＵＳ）等によって所定の形状に形成
し、その素材に対して次のような一連の処理、すなわち 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→乾燥→焼成 ………（Ａ） の処理を実行してＸ線シャッタ９等の表面にフッ素樹脂
の被膜を形成した。なお、フッ素樹脂としてはテフロン
（商品名）を使用し、これを静電塗装ガンを用いて素材
上に塗布した。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にフッ素樹脂コ
ーティングを施した。具体的には、Ｘ線シャッタ９等を
ステンレス鋼（ＳＵＳ）等によって所定の形状に形成
し、その素材に対して次のような一連の処理、すなわち 脱脂→空焼→ブラスト→プライマー塗り→焼成→塗装→乾燥→焼成 ………（Ａ） の処理を実行してＸ線シャッタ９等の表面にフッ素樹脂
の被膜を形成した。なお、フッ素樹脂としてはテフロン
（商品名）を使用し、これを静電塗装ガンを用いて素材
上に塗布した。
【００３５】以上のようにしてテフロンコーティングし
たＸ線シャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１
の構造のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用
いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ
９を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。
また、長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベ
ース１１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生
成、すなわち腐蝕の発生は認められなかった。
たＸ線シャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１
の構造のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用
いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ
９を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。
また、長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベ
ース１１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生
成、すなわち腐蝕の発生は認められなかった。
【００３６】（第３実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キを施し、さらにその黒クロムメッキの上にフッ素樹脂
コーティングを施した。なお、この実施形態において実
行するフッ素樹脂コーティングに関しては、黒クロムメ
ッキが下地層となることから、上記（Ａ）に記載した一
連の処理においてブラスト工程及びプライマー塗り工程
を省略することができる。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方に黒クロムメッ
キを施し、さらにその黒クロムメッキの上にフッ素樹脂
コーティングを施した。なお、この実施形態において実
行するフッ素樹脂コーティングに関しては、黒クロムメ
ッキが下地層となることから、上記（Ａ）に記載した一
連の処理においてブラスト工程及びプライマー塗り工程
を省略することができる。
【００３７】以上のように、黒クロムメッキを下地層と
してそれにフッ素樹脂をコーティングして形成したＸ線
シャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１の構造
のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実
際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長
期間にわたって滑らかに開閉することができた。また、
長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベース１
１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、すな
わち腐蝕の発生は認められなかった。
してそれにフッ素樹脂をコーティングして形成したＸ線
シャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１の構造
のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実
際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長
期間にわたって滑らかに開閉することができた。また、
長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベース１
１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、すな
わち腐蝕の発生は認められなかった。
【００３８】本実施形態によれば、黒クロムメッキだけ
を行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う場合
に比べて、より長期間にわたってＸ線シャッタ９の滑ら
かな動作を維持できた。これは、黒クロムメッキのメッ
キ状態がポーラスすなわち多孔状になり、その上にフッ
素樹脂コーティングがなされることにより、Ｘ線シャッ
タ９等を形成する素材に対するフッ素樹脂コーティング
の密着性が高まること及び黒クロムメッキとフッ素樹脂
との相乗効果によって腐蝕が防止されること等が原因で
はないかと考えられる。
を行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う場合
に比べて、より長期間にわたってＸ線シャッタ９の滑ら
かな動作を維持できた。これは、黒クロムメッキのメッ
キ状態がポーラスすなわち多孔状になり、その上にフッ
素樹脂コーティングがなされることにより、Ｘ線シャッ
タ９等を形成する素材に対するフッ素樹脂コーティング
の密着性が高まること及び黒クロムメッキとフッ素樹脂
との相乗効果によって腐蝕が防止されること等が原因で
はないかと考えられる。
【００３９】（第４実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施した。具体的には、以下に示す条件の
ギ酸浴、シュウ酸浴及びクエン酸浴の各メッキ浴を用い
てメッキ処理を行って、３種類のＸ線シャッタ及びシャ
ッタベースを作製した。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施した。具体的には、以下に示す条件の
ギ酸浴、シュウ酸浴及びクエン酸浴の各メッキ浴を用い
てメッキ処理を行って、３種類のＸ線シャッタ及びシャ
ッタベースを作製した。
【００４０】 （１）ギ酸浴 ＣｒＯ3 ： １００ ｇ／ｌ Ｈ2ＳＯ4 ： ５ ｇ／ｌ ＨＣＯＯＨ： １０〜２０ ｍｌ／ｌ 浴温 ： ２０〜４０ Ａ／ｄｍ2
【００４１】 （２）シュウ酸浴 ＣｒＯ3 ： ２００ ｇ／ｌ （ＮＨ4）2ＳＯ4 ： ７５ ｇ／ｌ Ｈ2Ｃ2Ｏ4・２Ｈ2Ｏ： ６４０ ｇ／ｌ 浴温 ： ６０ ℃ 電流密度 ： １０〜２５０Ａ／ｄｍ2 ｐＨ ： ２
【００４２】 （３）クエン酸欲 ＣｒＯ3 ： ２００ ｇ／ｌ （ＮＨ4）2ＳＯ4 ： ５．３ｇ／ｌ （ＮＨ4）2ＨＣ6Ｈ5Ｏ7： ３００ ｇ／ｌ 浴温 ： ６０ ℃ 電流密度 ： １００〜２５０Ａ／ｄｍ2 ｐＨ ： ８
【００４３】以上のようにして作製した３種類のＸ線シ
ャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１の構造の
Ｘ線発生装置を作製し、それらの各Ｘ線発生装置を用い
て実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９
を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。ま
た、長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベー
ス１１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、
すなわち腐蝕の発生は認められなかった。
ャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１の構造の
Ｘ線発生装置を作製し、それらの各Ｘ線発生装置を用い
て実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９
を長期間にわたって滑らかに開閉することができた。ま
た、長期間の稼動後にＸ線シャッタ９及びシャッタベー
ス１１を分解して観察したところ、硝酸酸化物の生成、
すなわち腐蝕の発生は認められなかった。
【００４４】（第５実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施し、さらにそのアモルファスクロムメ
ッキの上にフッ素樹脂コーティングを施した。そして、
こうして作製したＸ線シャッタ９及びシャッタベース１
１を用いて図１の構造のＸ線発生装置を作製し、そのＸ
線発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行ったとこ
ろ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉す
ることができた。また、長期間の稼動後にＸ線シャッタ
９及びシャッタベース１１を分解して観察したところ、
硝酸酸化物の生成、すなわち腐蝕の発生は認められなか
った。本実施形態によれば、アモルファスクロムメッキ
だけを行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う
場合に比べて、より長期間にわたってＸ線シャッタ９の
滑らかな動作を維持できた。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９及びシャ
ッタベース１１の両方又はいずれか一方にアモルファス
クロムメッキを施し、さらにそのアモルファスクロムメ
ッキの上にフッ素樹脂コーティングを施した。そして、
こうして作製したＸ線シャッタ９及びシャッタベース１
１を用いて図１の構造のＸ線発生装置を作製し、そのＸ
線発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行ったとこ
ろ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉す
ることができた。また、長期間の稼動後にＸ線シャッタ
９及びシャッタベース１１を分解して観察したところ、
硝酸酸化物の生成、すなわち腐蝕の発生は認められなか
った。本実施形態によれば、アモルファスクロムメッキ
だけを行う場合及びフッ素樹脂コーティングだけを行う
場合に比べて、より長期間にわたってＸ線シャッタ９の
滑らかな動作を維持できた。
【００４５】（第６実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成し
た。こうして形成したＸ線シャッタ９及びシャッタベー
ス１１を用いて図１のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線
発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、
Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉するこ
とができた。また、Ｔａを用いてＸ線シャッタ９を形成
したので、黒クロムメッキ等といった後処理が不要にな
り、それ故、工程が簡単になった。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成し
た。こうして形成したＸ線シャッタ９及びシャッタベー
ス１１を用いて図１のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線
発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、
Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉するこ
とができた。また、Ｔａを用いてＸ線シャッタ９を形成
したので、黒クロムメッキ等といった後処理が不要にな
り、それ故、工程が簡単になった。
【００４６】（第７実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にフッ素樹脂コーティングを施して表面にフッ素樹脂
膜を形成した。こうして形成したＸ線シャッタ９及びシ
ャッタベース１１を用いて図１のＸ線発生装置を作製
し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行
ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らか
に開閉することができた。また、Ｔａを用いて形成した
Ｘ線シャッタ９については黒クロムメッキ等といった後
処理を行う必要が無いので、工程が簡単になった。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にフッ素樹脂コーティングを施して表面にフッ素樹脂
膜を形成した。こうして形成したＸ線シャッタ９及びシ
ャッタベース１１を用いて図１のＸ線発生装置を作製
し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線発生作業を行
ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたって滑らか
に開閉することができた。また、Ｔａを用いて形成した
Ｘ線シャッタ９については黒クロムメッキ等といった後
処理を行う必要が無いので、工程が簡単になった。
【００４７】（第８実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成
し、さらにその上にフッ素樹脂コーティングを施して表
面にフッ素樹脂膜を形成した。こうして形成したＸ線シ
ャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１のＸ線発
生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線
発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわ
たって滑らかに開閉することができた。また、Ｔａを用
いて形成したＸ線シャッタ９については黒クロムメッキ
等といった後処理を行う必要が無いので、工程が簡単に
なった。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上に黒クロムメッキ処理を施して黒クロム被膜を形成
し、さらにその上にフッ素樹脂コーティングを施して表
面にフッ素樹脂膜を形成した。こうして形成したＸ線シ
ャッタ９及びシャッタベース１１を用いて図１のＸ線発
生装置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線
発生作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわ
たって滑らかに開閉することができた。また、Ｔａを用
いて形成したＸ線シャッタ９については黒クロムメッキ
等といった後処理を行う必要が無いので、工程が簡単に
なった。
【００４８】(第９実施形態）図１に示した構造と同じ
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成した。こうして形成したＸ線シャッ
タ９及びシャッタベース１１を用いて図１のＸ線発生装
置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線発生
作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたっ
て滑らかに開閉することができた。また、Ｔａを用いて
Ｘ線シャッタ９を形成したので、黒クロムメッキ等とい
った後処理が不要になり、それ故、工程が簡単になっ
た。
構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成した。こうして形成したＸ線シャッ
タ９及びシャッタベース１１を用いて図１のＸ線発生装
置を作製し、そのＸ線発生装置を用いて実際にＸ線発生
作業を行ったところ、Ｘ線シャッタ９を長期間にわたっ
て滑らかに開閉することができた。また、Ｔａを用いて
Ｘ線シャッタ９を形成したので、黒クロムメッキ等とい
った後処理が不要になり、それ故、工程が簡単になっ
た。
【００４９】（第１０実施形態）図１に示した構造と同
じ構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成し、さらにその上にフッ素樹脂コー
ティングを施して表面にフッ素樹脂膜を形成した。こう
して形成したＸ線シャッタ９及びシャッタベース１１を
用いて図１のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置
を用いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャ
ッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉することができ
た。また、Ｔａを用いて形成したＸ線シャッタ９につい
ては黒クロムメッキ等といった後処理を行う必要が無い
ので、工程が簡単になった。
じ構造のＸ線発生装置において、Ｘ線シャッタ９をＴａ
（タンタル）によって形成した。そして、シャッタベー
ス１１をステンレス鋼によって所定形状に形成し、その
上にアモルファスクロムメッキ処理を施してアモルファ
スクロム被膜を形成し、さらにその上にフッ素樹脂コー
ティングを施して表面にフッ素樹脂膜を形成した。こう
して形成したＸ線シャッタ９及びシャッタベース１１を
用いて図１のＸ線発生装置を作製し、そのＸ線発生装置
を用いて実際にＸ線発生作業を行ったところ、Ｘ線シャ
ッタ９を長期間にわたって滑らかに開閉することができ
た。また、Ｔａを用いて形成したＸ線シャッタ９につい
ては黒クロムメッキ等といった後処理を行う必要が無い
ので、工程が簡単になった。
【００５０】（第１１実施形態）図３は、本発明に係る
Ｘ線発生装置の他の実施形態を示している。ここに示し
たＸ線発生装置が図１に示した先のＸ線発生装置と異な
る点は、図１の実施形態がスライド移動式のＸ線シャッ
タを用いたのに対して、図３の実施形態では回転移動式
のＸ線シャッタを用いたことである。具体的には、Ｘ線
窓７の所のケーシング６に円筒形状のシャッタベース２
１を固定設置し、そのシャッタベース２１の中に円柱形
状のＸ線シャッタ１９を配設する。
Ｘ線発生装置の他の実施形態を示している。ここに示し
たＸ線発生装置が図１に示した先のＸ線発生装置と異な
る点は、図１の実施形態がスライド移動式のＸ線シャッ
タを用いたのに対して、図３の実施形態では回転移動式
のＸ線シャッタを用いたことである。具体的には、Ｘ線
窓７の所のケーシング６に円筒形状のシャッタベース２
１を固定設置し、そのシャッタベース２１の中に円柱形
状のＸ線シャッタ１９を配設する。
【００５１】シャッタベース２１の中心部分にはＸ線通
過用の開口１８が形成され、一方、Ｘ線シャッタ１９の
中心部分にはＸ線通過用の直線状の貫通穴１７が形成さ
れる。Ｘ線シャッタ１９は、中心軸線Ｌを中心として回
転可能であり、図示しない駆動装置によって駆動されて
図３に示すＸ線遮断位置と、図４に示すＸ線通過位置と
の間で回転する。図３に示すＸ線遮断位置は、シャッタ
ベース２１の開口１８とＸ線シャッタ１９の貫通穴１７
とを角度的にずらせることによってもたらされる。ま
た、図４に示すＸ線通過位置は、シャッタベース２１の
開口１８とＸ線シャッタ１９の貫通穴１７とを角度的に
一致させることによってもたらされる。
過用の開口１８が形成され、一方、Ｘ線シャッタ１９の
中心部分にはＸ線通過用の直線状の貫通穴１７が形成さ
れる。Ｘ線シャッタ１９は、中心軸線Ｌを中心として回
転可能であり、図示しない駆動装置によって駆動されて
図３に示すＸ線遮断位置と、図４に示すＸ線通過位置と
の間で回転する。図３に示すＸ線遮断位置は、シャッタ
ベース２１の開口１８とＸ線シャッタ１９の貫通穴１７
とを角度的にずらせることによってもたらされる。ま
た、図４に示すＸ線通過位置は、シャッタベース２１の
開口１８とＸ線シャッタ１９の貫通穴１７とを角度的に
一致させることによってもたらされる。
【００５２】本実施形態では、一対の摺動部材としての
Ｘ線シャッタ１９及びシャッタベース２１の両方又はい
ずれか一方に黒クロムメッキ処理を施してその表面に黒
クロム被膜を形成する。また、黒クロムメッキ処理に代
えてアモルファスクロムメッキやフッ素樹脂コーティン
グを施すこともできる。また、黒クロム被膜又はアモル
ファスクロム被膜を下地層とした上でその上にフッ素樹
脂コーティングを行うこともできる。また、Ｘ線シャッ
タ１９をＴａによって形成することもできる。
Ｘ線シャッタ１９及びシャッタベース２１の両方又はい
ずれか一方に黒クロムメッキ処理を施してその表面に黒
クロム被膜を形成する。また、黒クロムメッキ処理に代
えてアモルファスクロムメッキやフッ素樹脂コーティン
グを施すこともできる。また、黒クロム被膜又はアモル
ファスクロム被膜を下地層とした上でその上にフッ素樹
脂コーティングを行うこともできる。また、Ｘ線シャッ
タ１９をＴａによって形成することもできる。
【００５３】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実
施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、上記の実施
形態ではＸ線窓７の周辺に配設される一対の摺動部材と
してＸ線シャッタ及びシャッタベースを考えたが、必要
に応じて他の摺動機構がＸ線窓７の周辺に配設される場
合には、その摺動機構に対しても本発明を適用できる。
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実
施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。例えば、上記の実施
形態ではＸ線窓７の周辺に配設される一対の摺動部材と
してＸ線シャッタ及びシャッタベースを考えたが、必要
に応じて他の摺動機構がＸ線窓７の周辺に配設される場
合には、その摺動機構に対しても本発明を適用できる。
【００５４】
【発明の効果】本発明に係るＸ線発生装置によれば、摺
動部材の少なくとも一方に黒クロムメッキを施してその
表面に黒クロム被膜を形成したので、Ｘ線発生作業を継
続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとんど生成す
ることが無くなり、その結果、摺動部材の滑らかな摺動
動作を長期間にわたって維持することができる。
動部材の少なくとも一方に黒クロムメッキを施してその
表面に黒クロム被膜を形成したので、Ｘ線発生作業を継
続して実行した場合でも、硝酸化合物がほとんど生成す
ることが無くなり、その結果、摺動部材の滑らかな摺動
動作を長期間にわたって維持することができる。
【００５５】また、黒クロムメッキ処理に代えてフッ素
樹脂コーティングを行って摺動部材の表面にフッ素樹脂
被膜を形成することによっても、摺動部材の滑らかな摺
動動作を長期間にわたって維持することができる。ま
た、黒クロムメッキを下地層としてその上にフッ素樹脂
コーティングを行えば、摺動部材の滑らかな摺動動作を
より一層長期間にわたって維持できる。
樹脂コーティングを行って摺動部材の表面にフッ素樹脂
被膜を形成することによっても、摺動部材の滑らかな摺
動動作を長期間にわたって維持することができる。ま
た、黒クロムメッキを下地層としてその上にフッ素樹脂
コーティングを行えば、摺動部材の滑らかな摺動動作を
より一層長期間にわたって維持できる。
【００５６】また、黒クロムメッキ処理に代えてアモル
ファスクロムメッキを行って摺動部材の表面にアモルフ
ァスクロム被膜を形成することによっても、摺動部材の
滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持することがで
きる。また、アモルファスクロムメッキを下地層として
その上にフッ素樹脂コーティングを行えば、摺動部材の
滑らかな摺動動作をより一層長期間にわたって維持でき
る。
ファスクロムメッキを行って摺動部材の表面にアモルフ
ァスクロム被膜を形成することによっても、摺動部材の
滑らかな摺動動作を長期間にわたって維持することがで
きる。また、アモルファスクロムメッキを下地層として
その上にフッ素樹脂コーティングを行えば、摺動部材の
滑らかな摺動動作をより一層長期間にわたって維持でき
る。
【００５７】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施形態の要部
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】図１の構造においてＸ線シャッタが開いた状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】本発明に係るＸ線発生装置の他の実施形態の要
部を示す断面図である。
部を示す断面図である。
【図４】図３の構造においてＸ線シャッタが開いた状態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図５】Ｘ線発生装置の一般的な構造を模式的に示す断
面図である。
面図である。
【符号の説明】 １ フィラメント ２ ウエネルト ３ 電子銃 ４ ターゲット ６ ケーシング ７ Ｘ線窓 ８ 冷却水通路 ９ Ｘ線シャッタ（摺動部材） １１ シャッタベース（摺動部材） １７ Ｘ線通過用貫通穴 １８ Ｘ線通過用開口 １９ Ｘ線シャッタ（摺動部材） ２１ シャッタベース（摺動部材）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 巧 東京都昭島市松原町３丁目９番12号 理学 電機株式会社拝島工場内
Claims (13)
- 【請求項１】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒
クロムメッキが施されることを特徴とするＸ線発生装
置。 - 【請求項２】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはフ
ッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とするＸ線
発生装置。 - 【請求項３】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方には黒
クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素樹脂コー
ティングが施されることを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項４】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはア
モルファスクロムメッキが施されることを特徴とするＸ
線発生装置。 - 【請求項５】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 上記Ｘ線窓の周辺部分に位置する一対の摺動部材を有
し、そして、それらの摺動部材の少なくとも一方にはア
モルファスクロムメッキが施され、さらにその上にフッ
素樹脂コーティングが施されることを特徴とするＸ線発
生装置。 - 【請求項６】 請求項１から請求項５のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、上記Ｘ
線窓の周辺を冷却する冷却手段を有することを特徴とす
るＸ線発生装置。 - 【請求項７】 請求項１から請求項６のうちの少なくと
もいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、 上記一対の摺動部材は、Ｘ線が外部へ発散するのを阻止
するＸ線シャッタと、そのＸ線シャッタを摺動可能に支
持するシャッタベースとによって構成されることを特徴
とするＸ線発生装置。 - 【請求項８】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 Ｘ線が外部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そ
のＸ線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スには黒クロムメッキが施されることを特徴とするＸ線
発生装置。 - 【請求項９】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して外
部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 Ｘ線が外部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そ
のＸ線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはフッ素樹脂コーティングが施されることを特徴と
するＸ線発生装置。 - 【請求項１０】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して
外部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 Ｘ線が外部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そ
のＸ線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スには黒クロムメッキが施され、さらにその上にフッ素
樹脂コーティングが施されることを特徴とするＸ線発生
装置。 - 【請求項１１】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して
外部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 Ｘ線が外部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そ
のＸ線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはアモルファスクロムメッキが施されることを特徴
とするＸ線発生装置。 - 【請求項１２】 内部で発生したＸ線をＸ線窓を通して
外部へ取り出すようにしたＸ線発生装置において、 Ｘ線が外部へ発散するのを阻止するＸ線シャッタと、そ
のＸ線シャッタを摺動可能に支持するシャッタベースと
を有し、 上記Ｘ線シャッタはＴａ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕのい
ずれか１つ又はそれらのうちの少なくともいずれか１つ
を含む合金によって形成され、さらに上記シャッタベー
スにはアモルファスクロムメッキが施され、さらにその
上にフッ素樹脂コーティングが施されることを特徴とす
るＸ線発生装置。 - 【請求項１３】 請求項８から請求項１２のうちの少な
くともいずれか１つに記載のＸ線発生装置において、上
記Ｘ線窓の周辺を冷却する冷却手段を有することを特徴
とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36758597A JPH11190800A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36758597A JPH11190800A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11190800A true JPH11190800A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18489682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36758597A Pending JPH11190800A (ja) | 1997-12-26 | 1997-12-26 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11190800A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012146656A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Panalytical Bv | Ｘ線シャッタ構成 |
| JP2023031125A (ja) * | 2021-08-24 | 2023-03-08 | 富士電機株式会社 | Ｘ線照射システム、ｘ線計測装置及び載置台 |
-
1997
- 1997-12-26 JP JP36758597A patent/JPH11190800A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012146656A (ja) * | 2011-01-12 | 2012-08-02 | Panalytical Bv | Ｘ線シャッタ構成 |
| EP2477191A3 (en) * | 2011-01-12 | 2014-07-02 | PANalytical B.V. | X-ray shutter arrangement |
| JP2023031125A (ja) * | 2021-08-24 | 2023-03-08 | 富士電機株式会社 | Ｘ線照射システム、ｘ線計測装置及び載置台 |
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