JPH11190902A - 平版印刷版の作製方法及びヒートモード記録平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
- Printing Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を
有し、保存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル
記録をすることができるヒートモード記録平版印刷版及
び平版印刷版の作製方法を提供すること。 【解決手段】 支持体上にo−キノンジアジド化合物と
赤外吸収物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモ
ード記録平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光また
は加熱した後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて
現像する平版印刷版の作製方法及び支持体上(a)o−
キノンジアジド化合物及び(b)分子内に窒素原子を含
有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオー
ルニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素ま
たはメルカプトナフトール錯塩色素を含有する画像形成
層を設けたヒートモード記録平版印刷版。
有し、保存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル
記録をすることができるヒートモード記録平版印刷版及
び平版印刷版の作製方法を提供すること。 【解決手段】 支持体上にo−キノンジアジド化合物と
赤外吸収物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモ
ード記録平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光また
は加熱した後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて
現像する平版印刷版の作製方法及び支持体上(a)o−
キノンジアジド化合物及び(b)分子内に窒素原子を含
有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオー
ルニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素ま
たはメルカプトナフトール錯塩色素を含有する画像形成
層を設けたヒートモード記録平版印刷版。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザーを用いてデジ
タル記録をすることができるヒートモード記録平版印刷
版及び平版印刷版の作製方法に関する。
タル記録をすることができるヒートモード記録平版印刷
版及び平版印刷版の作製方法に関する。
【0002】
【発明の背景】近年、レーザーを用いてデジタル的に像
を形成し平版印刷版を作製することが行われてきてい
る。例えば、WO96/20429号には、ナフトキノ
ンジアジドとフェノール樹脂のエステルまたはo−キノ
ンジアジドエステル化物とフェノール樹脂の混合物を支
持体上に塗設したヒートモード記録平版印刷版を、紫外
線にて全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光
し、レーザー露光部以外を現像液にて除去するヒートモ
ード記録方法が記載されている。
を形成し平版印刷版を作製することが行われてきてい
る。例えば、WO96/20429号には、ナフトキノ
ンジアジドとフェノール樹脂のエステルまたはo−キノ
ンジアジドエステル化物とフェノール樹脂の混合物を支
持体上に塗設したヒートモード記録平版印刷版を、紫外
線にて全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光
し、レーザー露光部以外を現像液にて除去するヒートモ
ード記録方法が記載されている。
【0003】この画像形成プロセスの原理は、WO96
/20429号の2頁に記載されているが、o−キノン
ジアジド化合物が紫外線で露光されるとインデンカルボ
ン酸になり、加熱されると、現像液に不溶化する現象を
利用したものである。
/20429号の2頁に記載されているが、o−キノン
ジアジド化合物が紫外線で露光されるとインデンカルボ
ン酸になり、加熱されると、現像液に不溶化する現象を
利用したものである。
【0004】また、特開平7−43894号公報には、
o−キノンジアジド化合物と、分子中に窒素を含有する
特定の化学構造を有し、極大吸収波長が680〜125
0nmにあるシアニン系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリウム系色素、クロコニウム系色素、キノン系色
素、チアジン系色素、キサンテン系色素から選ばれた、
o−キノンジアジド化合物の光反応生成物と加熱により
反応してアルカリ不溶物を形成させる添加物を含有する
組成物を支持体上に設けた画像形成材料に活性光線を用
いて全面露光し、赤外レーザービームを照射し、アルカ
リ性現像液を用いてレーザービームの非照射領域を除去
し、画像を形成する方法が記載されている。
o−キノンジアジド化合物と、分子中に窒素を含有する
特定の化学構造を有し、極大吸収波長が680〜125
0nmにあるシアニン系色素、アズレニウム系色素、ス
クワリウム系色素、クロコニウム系色素、キノン系色
素、チアジン系色素、キサンテン系色素から選ばれた、
o−キノンジアジド化合物の光反応生成物と加熱により
反応してアルカリ不溶物を形成させる添加物を含有する
組成物を支持体上に設けた画像形成材料に活性光線を用
いて全面露光し、赤外レーザービームを照射し、アルカ
リ性現像液を用いてレーザービームの非照射領域を除去
し、画像を形成する方法が記載されている。
【0005】しかし、これらの方法で作成した平版印刷
版は、非画像部に残膜が生じ易く、また、色素残りが発
生し易いため、印刷時に非画像部が汚れ易いという欠点
を有していた。特に、全面露光した後、現像するまでに
時間がかかると、非画像部の汚れが顕著となる。また、
特に、特開平7−43894号公報に記載の赤外吸収色
素は、非画像部に強い色素残りを起すという欠点を有し
ている。
版は、非画像部に残膜が生じ易く、また、色素残りが発
生し易いため、印刷時に非画像部が汚れ易いという欠点
を有していた。特に、全面露光した後、現像するまでに
時間がかかると、非画像部の汚れが顕著となる。また、
特に、特開平7−43894号公報に記載の赤外吸収色
素は、非画像部に強い色素残りを起すという欠点を有し
ている。
【0006】また、赤外線及び紫外線により記録可能な
材料として、米国特許第5,340,699号明細書に
は、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外
線吸収色素からなり、露光部が硬化して現像液に不溶と
なり、画像部となる組成物が記載されているが、保存性
が悪いという欠点を有していた。
材料として、米国特許第5,340,699号明細書に
は、酸発生剤、レゾール樹脂、ノボラック樹脂及び赤外
線吸収色素からなり、露光部が硬化して現像液に不溶と
なり、画像部となる組成物が記載されているが、保存性
が悪いという欠点を有していた。
【0007】そこで、本発明者が検討したところ、o−
キノンジアジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像
形成層を有するヒートモード記録平版印刷版において
は、紫外線にて行う全面露光の前に、レーザー光にて走
査露光することにより上記の欠点が解消できることが判
明した。また、画像形成層に分子内に窒素原子を含有し
ないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオールニ
ッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素、メル
カプトナフトール錯塩色素から選ばれた赤外吸収色素を
含有させることにより、上記従来のように、紫外線にて
全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光し、レー
ザー露光部以外を現像液にて除去して画像を形成した場
合においても、上記の欠点が解消できることが判明し
た。
キノンジアジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像
形成層を有するヒートモード記録平版印刷版において
は、紫外線にて行う全面露光の前に、レーザー光にて走
査露光することにより上記の欠点が解消できることが判
明した。また、画像形成層に分子内に窒素原子を含有し
ないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオールニ
ッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色素、メル
カプトナフトール錯塩色素から選ばれた赤外吸収色素を
含有させることにより、上記従来のように、紫外線にて
全面露光した後、赤外線レーザーにて画像露光し、レー
ザー露光部以外を現像液にて除去して画像を形成した場
合においても、上記の欠点が解消できることが判明し
た。
【0008】
【本発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、
印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を有し、保
存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル記録をす
ることができるヒートモード記録平版印刷版及び平版印
刷版の作製方法を提供することにある。
印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を有し、保
存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル記録をす
ることができるヒートモード記録平版印刷版及び平版印
刷版の作製方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 (1)支持体上にo−キノンジアジド化合物と赤外吸収
物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモード記録
平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光または加熱し
た後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像する
ことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 (2)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂が含
有されていることを特徴とする上記(1)に記載の平版
印刷版の作製方法。 (3)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
が含有されていることを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の平版印刷版の作製方法。 (4)支持体上に(a)o−キノンジアジド化合物及び
(b)分子内に窒素原子を含有しないピリリウム色素、
チオピリリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メル
カプトフェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩
色素から選ばれた少なくとも1つの赤外吸収色素を含有
する画像形成層を設けたことを特徴とするヒートモード
記録平版印刷版。 (5)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂を含
有させたことを特徴とする上記(4)に記載のヒートモ
ード記録平版印刷版。 (6)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
を含有させたことを特徴とする上記(4)または(5)
に記載のヒートモード記録平版印刷版。 (7)上記(4)〜(6)のいずれかに記載のヒートモ
ード記録平版印刷版を、紫外線による全面露光及び像様
のレーザー光露光または加熱をし、水系現像液にて現像
することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 によって達成された。
物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモード記録
平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光または加熱し
た後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像する
ことを特徴とする平版印刷版の作製方法。 (2)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂が含
有されていることを特徴とする上記(1)に記載の平版
印刷版の作製方法。 (3)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
が含有されていることを特徴とする上記(1)または
(2)に記載の平版印刷版の作製方法。 (4)支持体上に(a)o−キノンジアジド化合物及び
(b)分子内に窒素原子を含有しないピリリウム色素、
チオピリリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メル
カプトフェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩
色素から選ばれた少なくとも1つの赤外吸収色素を含有
する画像形成層を設けたことを特徴とするヒートモード
記録平版印刷版。 (5)画像形成層に、フェノール性OH基含有樹脂を含
有させたことを特徴とする上記(4)に記載のヒートモ
ード記録平版印刷版。 (6)画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合物、イ
ミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チ
オ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合
物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの化合物
を含有させたことを特徴とする上記(4)または(5)
に記載のヒートモード記録平版印刷版。 (7)上記(4)〜(6)のいずれかに記載のヒートモ
ード記録平版印刷版を、紫外線による全面露光及び像様
のレーザー光露光または加熱をし、水系現像液にて現像
することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 によって達成された。
【0010】以下に本発明を詳細に説明する。
【0011】先ず、本発明の支持体上にo−キノンジア
ジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像形成層を塗
設してなるヒートモード記録平版印刷版について説明す
る。
ジド化合物と赤外吸収物質とを含有する画像形成層を塗
設してなるヒートモード記録平版印刷版について説明す
る。
【0012】上記赤外線吸収剤としては、波長700n
m以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、
磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤外線
吸収剤は700〜1200nmに吸収ピークを有し、ピ
ークでのモル吸光係数εが105以上である赤外吸収色
素である。
m以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、
磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤外線
吸収剤は700〜1200nmに吸収ピークを有し、ピ
ークでのモル吸光係数εが105以上である赤外吸収色
素である。
【0013】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間CT色素、アミニウム色素、ジイモニウム色素、ピ
リリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプト
フェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素等
が挙げられるが、赤外吸収色素として、分子内に窒素原
子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、
チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩
色素、メルカプトナフトール錯塩色素を用いた場合、像
様にレーザー光にて露光した後、紫外線にて全面露光
し、水系現像液にて現像したときばかりでなく、従来の
ように、紫外線にて全面露光した後、赤外線レーザーに
て画像露光し、レーザー露光部以外を現像液にて除去し
たときでも、従来のヒートモード記録平版印刷版におけ
る欠点を改善することができるので好ましい。
素、スクアリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間CT色素、アミニウム色素、ジイモニウム色素、ピ
リリウム色素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプト
フェノール錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素等
が挙げられるが、赤外吸収色素として、分子内に窒素原
子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、
チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩
色素、メルカプトナフトール錯塩色素を用いた場合、像
様にレーザー光にて露光した後、紫外線にて全面露光
し、水系現像液にて現像したときばかりでなく、従来の
ように、紫外線にて全面露光した後、赤外線レーザーに
て画像露光し、レーザー露光部以外を現像液にて除去し
たときでも、従来のヒートモード記録平版印刷版におけ
る欠点を改善することができるので好ましい。
【0014】上記赤外吸収色素としては、更に、特開昭
63−139191号公報、同64−33547号公
報、特開平1−160683号公報、同1−28075
0号公報、同1−293342号公報、同2−2074
号公報、同3−26593号公報、同3−30991号
公報、同3−34891号公報、同3−36093号公
報、同3−36094号公報、同3−36095号公
報、同3−42281号公報、同3−103476号公
報等に記載の化合物が挙げられる。
63−139191号公報、同64−33547号公
報、特開平1−160683号公報、同1−28075
0号公報、同1−293342号公報、同2−2074
号公報、同3−26593号公報、同3−30991号
公報、同3−34891号公報、同3−36093号公
報、同3−36094号公報、同3−36095号公
報、同3−42281号公報、同3−103476号公
報等に記載の化合物が挙げられる。
【0015】赤外線吸収剤としては、下記一般式(1)
で表されるシアニン染料が好ましく用いられる。
で表されるシアニン染料が好ましく用いられる。
【0016】
【化1】 一般式(1)において、(X)は、分子の電荷を相殺す
るのに必要なイオンを表し、nは、分子の総電荷を中和
させるのに必要な数を表す。分子内塩を形成している場
合、nは0である。対イオンの例としては、Cl-、B
r-、ClO - 4、BF - 4、t−ブチルトリフェニルホ
ウ素等のアルキルホウ素等が挙げられる。
るのに必要なイオンを表し、nは、分子の総電荷を中和
させるのに必要な数を表す。分子内塩を形成している場
合、nは0である。対イオンの例としては、Cl-、B
r-、ClO - 4、BF - 4、t−ブチルトリフェニルホ
ウ素等のアルキルホウ素等が挙げられる。
【0017】一般式(1)において、Aは炭素原子数が
5ないし13の共役炭素原子を表す。共役炭素原子にお
いて、炭素原子数は、画像露光の光源として赤外線を放
射するレーザーが使用される場合、該レーザーの発信波
長に合わせて有効な数を選択することが好ましい。例え
ば、発信波長1060nmのYAGレーザーを使用する
場合は、炭素数が9〜13の共役炭素原子が好ましい。
この共役炭素原子は水素原子または任意の置換基を有し
ている。また、共役結合部分は置換基により環を形成さ
せてもよい。
5ないし13の共役炭素原子を表す。共役炭素原子にお
いて、炭素原子数は、画像露光の光源として赤外線を放
射するレーザーが使用される場合、該レーザーの発信波
長に合わせて有効な数を選択することが好ましい。例え
ば、発信波長1060nmのYAGレーザーを使用する
場合は、炭素数が9〜13の共役炭素原子が好ましい。
この共役炭素原子は水素原子または任意の置換基を有し
ている。また、共役結合部分は置換基により環を形成さ
せてもよい。
【0018】一般式(1)において、Z1で形成される
環及びZ2で形成される環は縮合環を有していてもよ
く、また、任意の置換基を有することができる。置換基
としてハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、
炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−SO3M及び一C
OOM(Mは水素原子又はアルカリ金属原子)から選ば
れる基が好ましい。
環及びZ2で形成される環は縮合環を有していてもよ
く、また、任意の置換基を有することができる。置換基
としてハロゲン原子、炭素原子数1〜5のアルキル基、
炭素原子数1〜5のアルコキシ基、−SO3M及び一C
OOM(Mは水素原子又はアルカリ金属原子)から選ば
れる基が好ましい。
【0019】Y1及びY2は任意の置換基を表し、好まし
い置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基もし
くはアルコキシ基;−〔(CH2)n−O〕k−(CH2)
mOR(n及びmは各々1〜3の整数、kは0又は1、
Rは炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。);−R−
SO3M(Rは炭素原子数1〜5のアルキレン基、Mは
アルカリ金属原子を表す。);−R−COOM(Rは炭
素原子数1〜5のアルキレン基、Mはアルカリ金属原子
を表す。)が挙げられる。Y1及びY2は、感度及び現像
性の点から、分子内塩を形成する上記−R−SO3M又
は−R−COOMであることが好ましい。
い置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基もし
くはアルコキシ基;−〔(CH2)n−O〕k−(CH2)
mOR(n及びmは各々1〜3の整数、kは0又は1、
Rは炭素原子数1〜5のアルキル基を表す。);−R−
SO3M(Rは炭素原子数1〜5のアルキレン基、Mは
アルカリ金属原子を表す。);−R−COOM(Rは炭
素原子数1〜5のアルキレン基、Mはアルカリ金属原子
を表す。)が挙げられる。Y1及びY2は、感度及び現像
性の点から、分子内塩を形成する上記−R−SO3M又
は−R−COOMであることが好ましい。
【0020】一般式(1)で表されるシアニン色素は、
画像露光の光源として半導体レーザーを使用する場合は
750〜900nmにおいて、YAGレーザーを使用す
る場合は900〜1200nmにおいて吸収ピークを示
し、ε>1×105のモル吸光係数を有するものが好ま
しい。
画像露光の光源として半導体レーザーを使用する場合は
750〜900nmにおいて、YAGレーザーを使用す
る場合は900〜1200nmにおいて吸収ピークを示
し、ε>1×105のモル吸光係数を有するものが好ま
しい。
【0021】本発明において、赤外線吸収剤の添加量
は、0.5〜15重量%の範囲が好ましい。添加量が1
5重量%を越えると非画像部(露光部)の現像性が低下
し、0.5重量%未満では画像部の耐現像性が低下す
る。
は、0.5〜15重量%の範囲が好ましい。添加量が1
5重量%を越えると非画像部(露光部)の現像性が低下
し、0.5重量%未満では画像部の耐現像性が低下す
る。
【0022】本発明に好ましく用いられる赤外線吸収剤
(一般式(1)で表されるシアニン色素を含む)の代表
的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されない。
(一般式(1)で表されるシアニン色素を含む)の代表
的具体例を以下に挙げるが、これらに限定されない。
【0023】
【化2】
【0024】
【化3】
【0025】
【化4】
【0026】
【化5】
【0027】
【化6】
【0028】
【化7】
【0029】
【化8】
【0030】
【化9】
【0031】
【化10】
【0032】
【化11】
【0033】
【化12】
【0034】
【化13】
【0035】
【化14】
【0036】
【化15】
【0037】これらの色素は公知の方法によって合成す
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
ることができるが、下記のような市販品を用いることも
できる。
【0038】日本化薬:IR750(アントラキノン
系);IRG002、IRG003(アミニウム系);
IR820(ポリメチン系);IRG022、IRG0
33(ジイモニウム系);CY−2,CY−4、CY−
9,CY−20 三井東圧:KIR103、SIR103(フタロシアニ
ン系);KIR101、SIR114(アントラキノン
系);PA1001、PA1005、PA1006、S
IR128(金属錯体系) 大日本インキ化学:Fastogen blue812
0 みどり化学:MIR−101、MIR−1011、MI
R−1021 日本感光色素:NKX−113(例示化合物1−52)
(金属錯体系)、NK−3508(例示化合物1−5
3),NK3509(例示化合物1−54),NK−3
519(例示化合物1−55)(ピリリウム系)、NK
−2545(シアニン系) その他、住友化学、富士写真フィルム等の各社からも市
販されている。
系);IRG002、IRG003(アミニウム系);
IR820(ポリメチン系);IRG022、IRG0
33(ジイモニウム系);CY−2,CY−4、CY−
9,CY−20 三井東圧:KIR103、SIR103(フタロシアニ
ン系);KIR101、SIR114(アントラキノン
系);PA1001、PA1005、PA1006、S
IR128(金属錯体系) 大日本インキ化学:Fastogen blue812
0 みどり化学:MIR−101、MIR−1011、MI
R−1021 日本感光色素:NKX−113(例示化合物1−52)
(金属錯体系)、NK−3508(例示化合物1−5
3),NK3509(例示化合物1−54),NK−3
519(例示化合物1−55)(ピリリウム系)、NK
−2545(シアニン系) その他、住友化学、富士写真フィルム等の各社からも市
販されている。
【0039】次に、o−キノンジアジド化合物について
説明する。
説明する。
【0040】o−キノンジアジド化合物とは、分子中に
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、本発明
で使用することができるo−キノンジアジド化合物とし
ては、例えば、o−ナフトキノンジアジド化合物、例え
ば、o−ナフトキノンジアジドスルホン酸とフェノール
類及びアルデヒド又はケトンとの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物等が挙げられる。
o−キノンジアジド基を有する化合物であって、本発明
で使用することができるo−キノンジアジド化合物とし
ては、例えば、o−ナフトキノンジアジド化合物、例え
ば、o−ナフトキノンジアジドスルホン酸とフェノール
類及びアルデヒド又はケトンとの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物等が挙げられる。
【0041】上記フェノール類及びアルデヒドまたはケ
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
トンとの重縮合樹脂におけるフェノール類としては、例
えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、
p−クレゾール、3,5−キシレノール、カルバクロー
ル、チモール等の一価フェノール、カテコール、レゾル
シン、ヒドロキノン等の二価フェノール、ピロガロー
ル、フロログルシン等の三価フェノール等が挙げられ
る。アルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、
ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンアルデ
ヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうちで好
ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒドで
ある。ケトンとしては、例えば、アセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
【0042】フェノール類及びアルデヒドまたはケトン
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
との重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0043】前記o−ナフトキノンジアジド化合物にお
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
いて、フェノール類のOH基に対するo−ナフトキノン
ジアジドスルホン酸の縮合率(OH基1個に対する反応
率)は、15%〜80%が好ましく、より好ましくは2
0%〜45%である。
【0044】更に、本発明に用いられるo−キノンジア
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
ジド化合物としては、特開昭58−43451号公報に
記載の以下の化合物も挙げることができる。即ち、例え
ば、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2−ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの
公知の1,2−キノンジアジド化合物、更に具体的に
は、ジェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト−センシ
ティブ・システムズ」(Light-Sensitive Systems)第
339〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー・
アンド・サンズ(John Willey & Sons)社(ニューヨー
ク)やダブリュー・エス・ディ・フォレスト(W.S.De F
orest)著「フォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(McGraw Hill)社
(ニューヨーク)に記載されている1,2−ベンゾキノ
ンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、1,
2,1′,2′−ジ−(ベンゾキノンジアジド−4−ス
ルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2−ベンゾ
キノンジアジド−4−(N−エチル−N−β−ナフチ
ル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5
−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′
−アゾ−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−アニリ
ン、2′−(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,
4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4,
4′−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、1,
2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン酸1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガリ
ン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなど
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
【0045】本発明において、o−キノンジアジド化合
物としては、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸エステル化合物よりも1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸エステル化合物の方が好ましい。
物としては、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸エステル化合物よりも1,2−ナフトキノンジア
ジド−4−スルホン酸エステル化合物の方が好ましい。
【0046】本発明において、o−キノンジアジド化合
物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以
上を組合せて用いてもよい。
物は、上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以
上を組合せて用いてもよい。
【0047】o−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。
中に占める割合は、5〜60重量%が好ましく、特に好
ましいのは、10〜50重量%である。
【0048】本発明の画像形成層には結合剤を用いるこ
とができる。結合剤としては、例えば、高分子量結合剤
を用いることができる。高分子量結合剤としては、例え
ば、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン単位を有する
重合体、下記一般式(4)で表される構造単位を有する
重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げることがで
きる。
とができる。結合剤としては、例えば、高分子量結合剤
を用いることができる。高分子量結合剤としては、例え
ば、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン単位を有する
重合体、下記一般式(4)で表される構造単位を有する
重合体、その他公知のアクリル樹脂等を挙げることがで
きる。
【0049】
【化16】
【0050】[式中、R1及びR2は、それぞれ水素原
子、アルキル基、カルボン酸基を表し、R3は、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、R4は、水素原
子、アルキル基、アリール基を表す。
子、アルキル基、カルボン酸基を表し、R3は、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基を表し、R4は、水素原
子、アルキル基、アリール基を表す。
【0051】Yは、置換基を有してもよいアリーレン基
を表す。
を表す。
【0052】Xは、窒素原子とアリーレン基の炭素原子
とを連結する2価の有機基を表し、nは0〜5の整数を
表す。] ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール・ホルム
アルデヒド樹樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、特開昭55−57841号公報に記載されているよ
うなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮
合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載され
ているようなp−置換フェノールとフェノールもしくは
クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が
挙げられる。
とを連結する2価の有機基を表し、nは0〜5の整数を
表す。] ノボラック樹脂としては、例えば、フェノール・ホルム
アルデヒド樹樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹
脂、特開昭55−57841号公報に記載されているよ
うなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮
合体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載され
ているようなp−置換フェノールとフェノールもしくは
クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が
挙げられる。
【0053】ヒドロキシスチレン単位を有する重合体と
しては、例えば、特公昭52−41050号公報に記載
されているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレ
ン共重合体などを挙げることができる。
しては、例えば、特公昭52−41050号公報に記載
されているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレ
ン共重合体などを挙げることができる。
【0054】前記一般式(4)で表される構造単位を有
する重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有す
る単独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量
体の不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造
単位1種以上とを組み合わせた共重合体である。
する重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有す
る単独重合体、あるいは該構造単位と他のビニル系単量
体の不飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造
単位1種以上とを組み合わせた共重合体である。
【0055】一般式(4)において、R1及びR2で表さ
れるアルキル基としては、例えば、メチル基やエチル基
が挙げられる。R1及びR2として好ましいのは、水素原
子である。
れるアルキル基としては、例えば、メチル基やエチル基
が挙げられる。R1及びR2として好ましいのは、水素原
子である。
【0056】R3で表されるハロゲン原子としては、例
えば、塩素原子、臭素原子が挙げられ、アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。R3
として好ましいのは、水素原子又はメチル基である。
えば、塩素原子、臭素原子が挙げられ、アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。R3
として好ましいのは、水素原子又はメチル基である。
【0057】R4で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル基やエチル基が挙げられ、アリール基として
は、例えば、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。
ば、メチル基やエチル基が挙げられ、アリール基として
は、例えば、フェニル基又はナフチル基が挙げられる。
【0058】Yは置換基を有してもよいアリーレン基を
表すが、アリーレン基としては、フェニレン基又はナフ
チレン基が挙げられる。該アリーレン基が有する置換基
としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、カルボン酸基、メトキ
シ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、スルホン
酸基、シアノ基、ニトロ基、アシル基等が挙げられる。
Yとして好ましいのは、置換基を有しないか、あるいは
メチル基で置換されたアリーレン基である。
表すが、アリーレン基としては、フェニレン基又はナフ
チレン基が挙げられる。該アリーレン基が有する置換基
としては、メチル基、エチル基等のアルキル基、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、カルボン酸基、メトキ
シ基、エトキシ基等のアルコキシ基、水酸基、スルホン
酸基、シアノ基、ニトロ基、アシル基等が挙げられる。
Yとして好ましいのは、置換基を有しないか、あるいは
メチル基で置換されたアリーレン基である。
【0059】Xで表される窒素原子と芳香族炭素原子と
を連結する2価の有機基としては、例えば、酸素原子が
挙げられる。nは、好ましくは0である。
を連結する2価の有機基としては、例えば、酸素原子が
挙げられる。nは、好ましくは0である。
【0060】一般式(4)で表される構造単位を有する
重合体は、さらに具体的には、例えば、次の(a)〜
(h)で表されホモ重合体あるいはランダム共重合体の
如き共重合体る。
重合体は、さらに具体的には、例えば、次の(a)〜
(h)で表されホモ重合体あるいはランダム共重合体の
如き共重合体る。
【0061】
【化17】
【0062】(a)〜(h)において、R5〜R9は、そ
れぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子を表し、X
は、アルキル基、ハロゲン原子を表す。また、m、n、
l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を表す。
れぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子を表し、X
は、アルキル基、ハロゲン原子を表す。また、m、n、
l、k及びsはそれぞれの構造単位のモル%を表す。
【0063】本発明の画像形成層に用いる結合剤として
は、ヒドロキシスチレン単位を有する重合体や一般式
(4)で表される構造単位を有する重合体のように、フ
ェノール性OH基を有する樹脂が好ましい。特に、フェ
ノール性のOH基を有する樹脂は、キノンジアジド化合
物と組み合わせると、露光溶解度差がつき易い。
は、ヒドロキシスチレン単位を有する重合体や一般式
(4)で表される構造単位を有する重合体のように、フ
ェノール性OH基を有する樹脂が好ましい。特に、フェ
ノール性のOH基を有する樹脂は、キノンジアジド化合
物と組み合わせると、露光溶解度差がつき易い。
【0064】ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン単位
を有する重合休、一般式(4)で表される構造単位を有
する重合体、アクリル樹脂は併用することもできる。
を有する重合休、一般式(4)で表される構造単位を有
する重合体、アクリル樹脂は併用することもできる。
【0065】更に、本発明の画像形成層には、該画像形
成層の感脂性を向上させるために親油性の樹脂を添加す
ることができる。
成層の感脂性を向上させるために親油性の樹脂を添加す
ることができる。
【0066】親油性の樹脂としては、例えば、特開昭5
0−125806号公報に記載されているような、炭素
数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類とア
ルデヒドの縮合物、例えば、t−ブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
0−125806号公報に記載されているような、炭素
数3〜15のアルキル基で置換されたフェノール類とア
ルデヒドの縮合物、例えば、t−ブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。
【0067】本発明の画像形成層には、感度を向上する
ために、アミン化合物、スピロ化合物、イミダゾール化
合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チオ尿素及びこ
れらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合物、アミド化
合物から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有させる
ことが好ましい。
ために、アミン化合物、スピロ化合物、イミダゾール化
合物、4級アンモニウム化合物、尿素,チオ尿素及びこ
れらの誘導体、酸性染料、ピリジン環化合物、アミド化
合物から選ばれた少なくとも1つの化合物を含有させる
ことが好ましい。
【0068】アミン化合物としては、トリエタノールア
ミン、ジエチルアニリン、ヘキサメチレンテトラミン等
が挙げられる。
ミン、ジエチルアニリン、ヘキサメチレンテトラミン等
が挙げられる。
【0069】スピロ化合物としては、スピロ[3.5]
ノナン、スピロジシクロペンタン等が挙げられる。
ノナン、スピロジシクロペンタン等が挙げられる。
【0070】イミダゾール化合物としては、イミダゾー
ル、1−メチルイミダゾール、1,3−ジメチルイミダ
ゾール等が挙げられる。
ル、1−メチルイミダゾール、1,3−ジメチルイミダ
ゾール等が挙げられる。
【0071】4級アンモニウム化合物としては、テトラ
アルキルアンモニウム化合物、トリアルキルアリールア
ンモニウム化合物等が挙げられる。
アルキルアンモニウム化合物、トリアルキルアリールア
ンモニウム化合物等が挙げられる。
【0072】尿素、チオ尿素及びこれらの誘導体として
は、特開平2−141751号公報に記載されているよ
うな、尿素、エチル尿素、ジメチロール尿素、チオ尿
素、エチレン尿素等が挙げられる。
は、特開平2−141751号公報に記載されているよ
うな、尿素、エチル尿素、ジメチロール尿素、チオ尿
素、エチレン尿素等が挙げられる。
【0073】酸性染料としては、特開平2−14175
2号公報に記載されているような、アゾ染料、アントラ
キノン染料、カルボニウム染料等が挙げられる。
2号公報に記載されているような、アゾ染料、アントラ
キノン染料、カルボニウム染料等が挙げられる。
【0074】ピリジン環化合物としては、特開平2−1
41753号公報に記載されているような、ピリジン、
2−メチルピリジン、2−エチルピリジン等が挙げられ
る。
41753号公報に記載されているような、ピリジン、
2−メチルピリジン、2−エチルピリジン等が挙げられ
る。
【0075】アミド化合物としては、アセトアミド、p
−アミノアセトアニリド等が挙げられる。
−アミノアセトアニリド等が挙げられる。
【0076】本発明の画像形成層には、必要に応じて、
上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有させることがで
きる。
上記以外の色素、顔料、増感剤等を含有させることがで
きる。
【0077】本発明のヒートモード記録平版印刷版は、
前記各成分を溶解する溶媒に溶解させ、これらを適当な
支持体の表面に塗布し、乾燥することにより得ることが
できる。
前記各成分を溶解する溶媒に溶解させ、これらを適当な
支持体の表面に塗布し、乾燥することにより得ることが
できる。
【0078】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独であるいは2種以上混合して使用する。
【0079】塗布方法としては、従来公知の方法、例え
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布を用いることができる。塗布量は用途により異なる
が、例えば、固形分として0.5〜5.0g/m2が好
ましい。
ば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン
塗布を用いることができる。塗布量は用途により異なる
が、例えば、固形分として0.5〜5.0g/m2が好
ましい。
【0080】支持体としては、アルミニウム、亜鉛、
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等を用いることがで
きる。
鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケ
ル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属
板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が塗
布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、親
水化処理したプラスチックフィルム等を用いることがで
きる。
【0081】支持体には、砂目立て処理、陽極酸化処理
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等を施したアル
ミニウム板(合金板を含む。)を用いることが好まし
い。これらの処理には公知の方法を適用することができ
る。
及び必要に応じて封孔処理等の表面処理等を施したアル
ミニウム板(合金板を含む。)を用いることが好まし
い。これらの処理には公知の方法を適用することができ
る。
【0082】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独であるいは組合わせて用いることができ
る。
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独であるいは組合わせて用いることができ
る。
【0083】電解によるエッチングは、リン酸、硫酸、
塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した
浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じて
アルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を
行い中和して水洗する。
塩酸、硝酸等の無機の酸を単独ないし2種以上混合した
浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応じて
アルカリあるいは酸の水溶液によってデスマット処理を
行い中和して水洗する。
【0084】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム醸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
することにより行われる。形成された陽極酸化被膜量
は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは1
0〜40mg/dm2であり、特に好ましくは25〜4
0mg/dm2である。陽極酸化被膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:
35ml、酸化クロム(IV):20gを1lの水に溶解
して作製)に浸漬し、陽極酸化被膜を溶解し、陽極酸化
被膜を溶解する前及び溶解した後の重量変化を測定して
求めることができる。
ロム醸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
することにより行われる。形成された陽極酸化被膜量
は、1〜50mg/dm2が適当であり、好ましくは1
0〜40mg/dm2であり、特に好ましくは25〜4
0mg/dm2である。陽極酸化被膜量は、例えば、ア
ルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リン酸85%液:
35ml、酸化クロム(IV):20gを1lの水に溶解
して作製)に浸漬し、陽極酸化被膜を溶解し、陽極酸化
被膜を溶解する前及び溶解した後の重量変化を測定して
求めることができる。
【0085】封孔処理には、沸騰水処理、水蒸気処理、
ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例
として挙げられる。
ケイ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例
として挙げられる。
【0086】更に、アルミニウム支持体に対して、水溶
性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶
液による下引き処理を施すこともできる。
性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶
液による下引き処理を施すこともできる。
【0087】本発明の平版印刷版の作製方法において
は、ヒートモード記録平版印刷版は、像様にレーザー光
にて露光または加熱した後、紫外線にて全面露光し、水
系現像液にて現像される。
は、ヒートモード記録平版印刷版は、像様にレーザー光
にて露光または加熱した後、紫外線にて全面露光し、水
系現像液にて現像される。
【0088】レーザー光源としては、半導体レーザー、
He−Neレーザー、YAGレーザー、炭酸ガスレーザ
ー等が挙げられる。出力は50mW以上が適当であり、
好ましくは100mW以上である。
He−Neレーザー、YAGレーザー、炭酸ガスレーザ
ー等が挙げられる。出力は50mW以上が適当であり、
好ましくは100mW以上である。
【0089】照射されたレーザー光は、光−熱変換され
画像形成層を加熱する。レーザー光にての走査露光に代
えて、サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱
し、画像を形成することも可能である。
画像形成層を加熱する。レーザー光にての走査露光に代
えて、サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱
し、画像を形成することも可能である。
【0090】赤外吸収物質として、分子内に窒素原子を
含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオ
ールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色
素、メルカプトナフトール錯塩色素から選ばれた少なく
とも1つの赤外吸収色素を用いたヒートモード記録平版
印刷版にあっては、像様にレーザー光にて露光した後、
紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像して画像を
形成してもよいが、紫外線にて全面露光した後に、像様
にレーザー光にて露光し、水系現像液にて現像して画像
を形成してもよい。また、レーザー光での露光に代え、
サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱し、画像
を形成してもよい。
含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色素、チオ
ールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール錯塩色
素、メルカプトナフトール錯塩色素から選ばれた少なく
とも1つの赤外吸収色素を用いたヒートモード記録平版
印刷版にあっては、像様にレーザー光にて露光した後、
紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現像して画像を
形成してもよいが、紫外線にて全面露光した後に、像様
にレーザー光にて露光し、水系現像液にて現像して画像
を形成してもよい。また、レーザー光での露光に代え、
サーマルプリンターなどを用いて画像様に加熱し、画像
を形成してもよい。
【0091】紫外線での全面露光に用いる光源として
は、水銀灯などを用いることができる。
は、水銀灯などを用いることができる。
【0092】本発明のヒートモード記録平版印刷版の現
像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像液が
好適である。水系アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。水系アルカリ現
像液における上記アルカリ金属塩の濃度は、0.05〜
20重量%の範囲が好適であり、より好ましくは、0.
1〜10重量%である。
像に用いられる現像液としては、水系アルカリ現像液が
好適である。水系アルカリ現像液としては、例えば、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等の
アルカリ金属塩の水溶液が挙げられる。水系アルカリ現
像液における上記アルカリ金属塩の濃度は、0.05〜
20重量%の範囲が好適であり、より好ましくは、0.
1〜10重量%である。
【0093】現像液には、必要に応じて、アニオン性界
面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、アルコール
等の有機溶剤を加えることができる。
面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、アルコール
等の有機溶剤を加えることができる。
【0094】有機溶剤としては、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。
ル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベンジ
ンアルコール、n−プロピルアルコール等が有用であ
る。
【0095】
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。
【0096】実施例1 支持体の作成 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質
H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間脱
脂処理を行った後、0.5モル/lの塩酸水溶液中で温
度;25℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;3
0秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、5
%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマット
処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、電
流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の条件で陽極
酸化処理を行った。更に、30℃の熱水で20秒間、熱
水封孔処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。
H16)を5%苛性ソーダ水溶液中で60℃で1分間脱
脂処理を行った後、0.5モル/lの塩酸水溶液中で温
度;25℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;3
0秒の条件で電解エッチング処理を行った。次いで、5
%苛性ソーダ水溶液中で60℃、10秒間のデスマット
処理を施した後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、電
流密度;3A/dm2、処理時間;1分間の条件で陽極
酸化処理を行った。更に、30℃の熱水で20秒間、熱
水封孔処理を行い、アルミニウム支持体を作製した。
【0097】このアルミニウム支持体に、下記組成の塗
布液を乾燥膜厚が2g/m2になるように塗布し、90
℃で1分間乾燥し、ヒートモード記録平版印刷版試料1
を作製した。
布液を乾燥膜厚が2g/m2になるように塗布し、90
℃で1分間乾燥し、ヒートモード記録平版印刷版試料1
を作製した。
【0098】 〈塗布液組成〉 p−クレゾールノボラック樹脂と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ クロライドとのエステル化物(エステル化率50%) 34重量部 フェノール、m−クレゾール、p−クレゾール(5:57:38)とホルムア ルデヒドとの共重縮合樹脂(Mw3700) 73重量部 アクリル樹脂(バインダーA) 15重量部
【0099】
【化18】
【0100】 ピリリウム色素(例示化合物1−53) 12重量部 メチルセロソルブ 906重量部 また、ピリリウム色素(NK−3508、日本感光色
素社製)(例示化合物1−53)に代え、ピリリウム色
素(NK−3509、日本感光色素社製)(例示化合
物1−54)、ピリリウム色素(NK−3519、日
本感光色素社製)(例示化合物1−55)、金属錯体色
素(NKX−113、日本感光色素社製)(例示化合物
1−52)、アミニウム色素(NK−2545、東京
工芸大製)(例示化合物1−51)、アミニウム色素
(IRG−002、日本化薬社製)、ジイモニウム色素
(IRG−022、日本化薬社製)、シアニン色素
(CY−10、日本化薬社製)、シアニン色素(CY
−17、日本化薬社製)、シアニン色素(NK−20
14、日本感光色素社製)、シアニン色素(NK−2
612、日本感光色素社製)、ピリリウム色素(NK
−3027、日本感光色素社製)、ピリリウム色素
(NK−2674、日本感光色素社製)を用いた以外は
ヒートモード記録平版印刷版試料1と同様にして、ヒー
トモード記録平版印刷版試料2〜13を作製した。ま
た、ピリリウム色素を削除した以外はヒートモード記
録平版印刷版試料1と同様にして、ヒートモード記録平
版印刷版試料14を作製した。
素社製)(例示化合物1−53)に代え、ピリリウム色
素(NK−3509、日本感光色素社製)(例示化合
物1−54)、ピリリウム色素(NK−3519、日
本感光色素社製)(例示化合物1−55)、金属錯体色
素(NKX−113、日本感光色素社製)(例示化合物
1−52)、アミニウム色素(NK−2545、東京
工芸大製)(例示化合物1−51)、アミニウム色素
(IRG−002、日本化薬社製)、ジイモニウム色素
(IRG−022、日本化薬社製)、シアニン色素
(CY−10、日本化薬社製)、シアニン色素(CY
−17、日本化薬社製)、シアニン色素(NK−20
14、日本感光色素社製)、シアニン色素(NK−2
612、日本感光色素社製)、ピリリウム色素(NK
−3027、日本感光色素社製)、ピリリウム色素
(NK−2674、日本感光色素社製)を用いた以外は
ヒートモード記録平版印刷版試料1と同様にして、ヒー
トモード記録平版印刷版試料2〜13を作製した。ま
た、ピリリウム色素を削除した以外はヒートモード記
録平版印刷版試料1と同様にして、ヒートモード記録平
版印刷版試料14を作製した。
【0101】各試料に使用した色素は、表1に示すとお
りである。
りである。
【0102】
【表1】 得られた試料1〜14について、表2に示す画像形成プ
ロセスにて画像を形成し、平版印刷版を作製し、下記評
価方法により、細線再現性、A2露光時間、印刷汚れ、
保存性を評価した。得られた結果を表2に示す。
ロセスにて画像を形成し、平版印刷版を作製し、下記評
価方法により、細線再現性、A2露光時間、印刷汚れ、
保存性を評価した。得られた結果を表2に示す。
【0103】
【表2】
【0104】《画像形成プロセスにおける条件》 〈YAGレーザー露光〉YAGレーザー(波長1060
nm、出力500mW)を用い、2000dpiで露光
した。 〈半導体レーザー露光〉半導体レーザー(波長830n
m、出力150mW)を用い、2000dpiで露光し
た。
nm、出力500mW)を用い、2000dpiで露光
した。 〈半導体レーザー露光〉半導体レーザー(波長830n
m、出力150mW)を用い、2000dpiで露光し
た。
【0105】〈全面露光〉4kWメタルハライドランプ
で50cmの距離から20秒間露光した。 〈現像〉 現像液;コニカPS版現像液SDR−1の6倍希釈液 現像条件;27℃、25秒(水洗15秒) 〈加熱〉赤外線ヒーターを用い、120℃で30秒間熱
処理した。
で50cmの距離から20秒間露光した。 〈現像〉 現像液;コニカPS版現像液SDR−1の6倍希釈液 現像条件;27℃、25秒(水洗15秒) 〈加熱〉赤外線ヒーターを用い、120℃で30秒間熱
処理した。
【0106】《細線再現性、A2露光時間、印刷汚れ、
保存性の評価方法》 〈細線再現性〉再現できる線幅の内、4μm〜50μm
の細線で評価した。 〈A2露光時間〉A2サイズの試料を、半導体レーザー
は外面走査式の露光機で、YAGレーザーは内面走査式
の露光機で要する時間。
保存性の評価方法》 〈細線再現性〉再現できる線幅の内、4μm〜50μm
の細線で評価した。 〈A2露光時間〉A2サイズの試料を、半導体レーザー
は外面走査式の露光機で、YAGレーザーは内面走査式
の露光機で要する時間。
【0107】〈印刷汚れ〉画像を形成した試料を印刷機
にかけ印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下
記の評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている
にかけ印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下
記の評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている
【0108】〈保存性〉55℃で3日間保存した試料を
用いて画像を形成し、画像を形成した試料を印刷機にか
け印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下記の
評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている
用いて画像を形成し、画像を形成した試料を印刷機にか
け印刷し、非画像部の汚れを目視により観察し、下記の
評価基準で評価した。 ○ ;非画像部に汚れなし ○△;非画像部の汚れはかなり注意してみなければわか
らない △ ;非画像部の汚れが明らかにわかる △×;非画像部がかなり汚れている × ;印刷物の全面が汚れている
【0109】
【発明の効果】本発明の平版印刷版の作製方法によれ
ば、印刷時に非画像部の汚れがない平版印刷版を得るこ
とができる。また、本発明の画像形成層に分子内に窒素
原子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色
素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール
錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素を含有させた
ヒートモード記録平版印刷版は、画像形成方法にかかわ
りなく、印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を
有し、保存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル
記録をすることができる平版印刷版を得ることができ
る。
ば、印刷時に非画像部の汚れがない平版印刷版を得るこ
とができる。また、本発明の画像形成層に分子内に窒素
原子を含有しないピリリウム色素、チオピリリウム色
素、チオールニッケル錯塩色素、メルカプトフェノール
錯塩色素、メルカプトナフトール錯塩色素を含有させた
ヒートモード記録平版印刷版は、画像形成方法にかかわ
りなく、印刷時に非画像部の汚れがなく、優れた感度を
有し、保存性も良好であり、レーザーを用いてデジタル
記録をすることができる平版印刷版を得ることができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/38 511 G03F 7/38 511
Claims (7)
- 【請求項1】支持体上にo−キノンジアジド化合物と赤
外吸収物質とを含有する画像形成層を設けたヒートモー
ド記録平版印刷版を、像様にレーザー光にて露光または
加熱した後、紫外線にて全面露光し、水系現像液にて現
像することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 - 【請求項2】画像形成層に、フェノール性OH基含有樹
脂が含有されていることを特徴とする請求項1に記載の
平版印刷版の作製方法。 - 【請求項3】画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合
物、イミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿
素,チオ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン
環化合物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの
化合物が含有されていることを特徴とする請求項1また
は2に記載の平版印刷版の作製方法。 - 【請求項4】支持体上、(a)o−キノンジアジド化合
物及び(b)分子内に窒素原子を含有しないピリリウム
色素、チオピリリウム色素、チオールニッケル錯塩色
素、メルカプトフェノール錯塩色素、メルカプトナフト
ール錯塩色素から選ばれた少なくとも1つの赤外吸収色
素を含有する画像形成層を設けたことを特徴とするヒー
トモード記録平版印刷版。 - 【請求項5】画像形成層中に、フェノール性OH基含有
樹脂を含有させたことを特徴とする請求項4に記載のヒ
ートモード記録平版印刷版。 - 【請求項6】画像形成層に、アミン化合物、スピロ化合
物、イミダゾール化合物、4級アンモニウム化合物、尿
素,チオ尿素及びこれらの誘導体、酸性染料、ピリジン
環化合物、アミド化合物から選ばれた少なくとも1つの
化合物を含有させたことを特徴とする請求項4または5
に記載のヒートモード記録平版印刷版。 - 【請求項7】請求項4〜6のいずれかに記載のヒートモ
ード記録平版印刷版を、紫外線による全面露光及び像様
のレーザー光露光または加熱をし、水系現像液にて現像
することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36614797A JPH11190902A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 平版印刷版の作製方法及びヒートモード記録平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36614797A JPH11190902A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 平版印刷版の作製方法及びヒートモード記録平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11190902A true JPH11190902A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18486039
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36614797A Pending JPH11190902A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 平版印刷版の作製方法及びヒートモード記録平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11190902A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6599676B2 (en) | 2002-01-03 | 2003-07-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Process for making thermal negative printing plate |
| US6677106B2 (en) | 2002-01-03 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions |
| WO2012127946A1 (ja) * | 2011-03-18 | 2012-09-27 | イーストマン コダック カンパニー | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP36614797A patent/JPH11190902A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6599676B2 (en) | 2002-01-03 | 2003-07-29 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Process for making thermal negative printing plate |
| US6677106B2 (en) | 2002-01-03 | 2004-01-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and equipment for using photo- or thermally imagable, negatively working patterning compositions |
| WO2012127946A1 (ja) * | 2011-03-18 | 2012-09-27 | イーストマン コダック カンパニー | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
| JP2012194500A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-11 | Eastman Kodak Co | ポジ型平版印刷版原版及びその製版方法 |
| CN103430098A (zh) * | 2011-03-18 | 2013-12-04 | 伊斯曼柯达公司 | 正型平版印刷版原版及其制版方法 |
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