JPH11191720A - 弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ - Google Patents

弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ

Info

Publication number
JPH11191720A
JPH11191720A JP35831997A JP35831997A JPH11191720A JP H11191720 A JPH11191720 A JP H11191720A JP 35831997 A JP35831997 A JP 35831997A JP 35831997 A JP35831997 A JP 35831997A JP H11191720 A JPH11191720 A JP H11191720A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
saw
electrode finger
electrode
surface acoustic
acoustic wave
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP35831997A
Other languages
English (en)
Inventor
Ikuo Ohara
郁夫 尾原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP35831997A priority Critical patent/JPH11191720A/ja
Publication of JPH11191720A publication Critical patent/JPH11191720A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】圧電基板上に形成されたSAW装置のΔfを個
々のSAW装置毎に調整可能とし、SAWフィルタの通
過帯域特性や減衰特性等を改善する。 【解決手段】圧電基板の主面に少なくとも一対のIDT
電極30を形成して成るSAW装置D1であって、前記
IDT電極30の電極指30aの長さをw1 、前記電極
指30a先端と相対するIDT電極30のバスバー30
cとの間隔をw2 とした場合、0.04≦w2 /w1 ≦
0.20であり、かつ前記間隔部に前記バスバー30c
より小電極指30bを突設させた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話やセルラ
ー電話等の通信機器に内蔵される共振子や周波数帯域フ
ィルタとして使用される弾性表面波装置及び弾性表面波
フィルタに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の弾性表面波(Surface Acoustic W
ave で、以下、SAWと略す)装置Dを図3に示す。同
図において、35はAl等から成り櫛歯状電極のIDT
(Inter Digital Transducer)電極、35aはIDT電
極35の電極指、35bは電極指35aを複数本設ける
ための共通電極であるバスバー、36はIDT電極35
のSAW伝搬路の両端に配置されSAWを効率良く共振
させる反射器、w1 は電極指35aの長さ、w2 は電極
指35aと相手側のバスバー35bとの間隔である。
尚、これらの部品はLiTaO3 等の圧電基板(図示せ
ず)上に形成されるものであり、また電極指35aの対
数は数10〜数100対、反射器36の電極指の本数は
数10〜数100本に及ぶため、同図では簡略化して描
いてある。
【0003】また、図5に、従来の3段のラダー型(梯
子型)SAWフィルタF1の回路図を示す。このラダー
型SAWフィルタF1は、圧電基板1上において直列S
AW共振子2a〜2cと並列SAW共振子3a〜3cと
を交互に接続して構成する。尚、同図において、4は直
列SAW共振子2a〜2cと並列SAW共振子3a〜3
cを接続する配線パターン、5は外部の駆動回路等と接
続するためのワイヤーである。
【0004】上記SAW装置(SAW共振子)Dは、図
4に示すように、周波数によってインピーダンスが極小
になる共振周波数(fr)10と、逆にインピーダンス
が極大になる反共振周波数(fa)11を併せ持つ2重
共振特性を示す。同図において、9はSAW共振子のイ
ンピーダンス|Z|−周波数特性(以下、インピーダン
ス特性という)、12は等価容量である。そして、上記
ラダー型SAWフィルタF1については、図6に示すよ
うに、直列SAW共振子2a〜2cの共振周波数7aと
並列SAW共振子3a〜3cの反共振周波数8bとが交
差しない程度に近づけて設定することにより、これらの
周波数近傍を通過帯域7fとする帯域通過フィルタを構
成できることが提案されている(特開平6−23268
2号公報参照)。
【0005】尚、図6において、7は直列SAW共振子
2a〜2cのインピーダンス特性、7bは直列SAW共
振子2a〜2cの反共振周波数、7cは後述するように
本発明により急峻性を改善された場合の直列SAW共振
子2a〜2cの反共振周波数である。また、8は並列S
AW共振子3a〜3cのインピーダンス特性、8aは並
列SAW共振子3a〜3cの共振周波数、8cは後述す
るように本発明により急峻性を改善された場合の並列S
AW共振子3a〜3cの共振周波数である。
【0006】そして、携帯電話等の通信機器用のSAW
フィルタにおいては、要求仕様によりSAW共振子のイ
ンピーダンス特性を最適に設計する。SAW共振子のイ
ンピーダンス特性を決定付ける代表的なパラメータとし
て、共振周波数fr、反共振周波数fa、Δf=fa−
fr及び等価容量があり、これらのパラメータはSAW
共振子のIDT電極35の設計により調整でき、frは
IDT電極35の電極指35aピッチ、等価容量は電極
指35aの交差幅(w1 −w2 )と電極指35aの対数
によって制御できる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、faは
主として圧電基板1の電気機械結合係数によって決定さ
れるため、IDT電極35の材質及び膜厚を決定すると
ほぼ決まってしまい、圧電基板1上の個々のSAW共振
子毎にfaを自由に設定できないという問題があった。
従って、SAWフィルタの通過帯域幅を変化させようと
すると、圧電基板1の材質又はウェハの結晶方位の変更
によって解決する必要が生じていた。また、SAWフィ
ルタの通過帯域幅が決定すると、減衰傾度(減衰帯域幅
/通過帯域幅)を改善する方法はなかった。
【0008】上記の通り、従来のラダー型SAWフィル
タや格子型SAWフィルタでは、SAW共振子のΔfは
使用する圧電基板1の電気機械結合係数によって定ま
る。このため、同一圧電基板1上に形成された複数のS
AW共振子は、絶対値は異なるものの夫々同等のインピ
ーダンス特性及びΔfを持つ結果となる。
【0009】故に、このようなSAW共振子により構成
するSAWフィルタでは、減衰傾度が限定され、目的と
する通過帯域特性及び減衰特性の両方を満足することは
困難であった。また、近年、SAWフィルタのような周
波数制御用の電子部品に対する性能向上の要求は強く、
例えば図6の点線に示すように、SAWフィルタの通過
帯域幅を変えずに減衰特性を急峻にするといった必要が
生じている。
【0010】従って、本発明は上記事情に鑑みて完成さ
れたものであり、その目的は同一の圧電基板上に形成さ
れたSAW装置(SAW共振子)のΔfを個々のSAW
装置毎に調整可能とし、SAWフィルタの通過帯域特性
や減衰特性等を改善することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の弾性表面波装置
は、圧電基板の主面に少なくとも一組の櫛歯状電極を形
成して成る弾性表面波装置であって、前記櫛歯状電極の
電極指の長さをw1 、前記電極指先端と相対するバスバ
ーとの間隔をw2 とした場合、0.04≦w2/w1 ≦
0.20とし、かつ前記間隔部に前記電極指先端と相対
するバスバーより小電極指を突設させたことを特徴とす
る。
【0012】本発明において、好ましくは、前記小電極
指は、前記バスバーから前記電極指先端方向に向けて先
細り状となっている。
【0013】また、本発明の弾性表面波フィルタは、同
一の圧電基板上において複数の弾性表面波装置を接続し
て成る梯子型弾性表面波フィルタ又は平衡型弾性表面波
フィルタであって、前記弾性表面波装置の少なくとも1
個が上記の弾性表面波装置であることを特徴とする。
【0014】本発明は上記構成により、以下のような効
果を奏する。圧電基板用のリチウムタンタレート(Li
TaO3 )単結晶やリチウムニオベート(LiNb
O3 )単結晶の場合、IDT電極の電極指の交差部と非
交差部(小電極指部)では、明らかに電気機械結合係数
k2 が異なる。そして、開口率(w2 /w1 ×100
%)を変化させることにより、電極指部の電気機械結合
係数k2 は小電極指部の影響を受け減少する。
【0015】ここで、開口率とΔfの関係を図8に示
す。開口率4%未満ではΔfの変化率が大きく設計上の
自由度は大きいが、製造偏差が通過帯域に与える影響が
甚大であるため無視できないばかりでなく、フォトリソ
グラフィー法等による微細加工の歩留りが急激に劣化す
る。例えば、950MHzのリチウムタンタレート単結
晶で考察すると、SAW波長λは約3.7μm、電極指
の交差幅(w1 −w2 )は10λ程度が適当である場合
が多く、開口率4%は約0.15μmとなるため、この
精度未満ではフォトリソグラフィー法による正確な形成
が困難である。一方、開口率が20%を超えると、Δf
の変化が飽和する。
【0016】また、図3のSAW装置Dにおいて、外部
より高周波信号が入力されることにより電極指35a部
に擬似SAWを生じるが、この擬似SAWは電極指35
a中央部のSAW伝搬軸から拡散し、間隔w2 部を伝搬
する波が発生する。尚、前記間隔w2 部に相当する電極
指35a部を電極指首部(非交差部)という。この電極
指首部は、電極指35a部に比して電極面積が小さいた
め、電極指首部を伝搬するSAWと、電極指35a中央
部(交差部)を伝搬するSAWとで、速度差が生じる。
これにより電気機械結合孫数k2 が小さくなった場合と
同じ現象を示し、Δfが小さくなる。
【0017】SAW共振子の共振特性は、電極指35a
部のSAWと電極指首部のSAWとの合成特性となるた
め、開口率を調整することでΔfをコントロールでき
る。また、開口率を比較的大きくした場合、フォトリソ
グラフィー工程における前記電極指首部での露光量が大
きくなり、所謂ハレーションにより前記電極指首部の線
幅が設定値よりも細くなるという問題が生じる。この場
合、細くなった部分の電気抵抗が増大するため、挿入損
失の増加や耐電力性(信頼性)の低下を招くことにな
る。
【0018】そこで、開口率を変更した場合に、電極指
首部の線幅減少を防ぐため、間隔w2 部にバスバーより
突設されかつ電極指35aに接しない小電極指を設け
る。このとき、小電極指の形状を電極指35aと同様の
方形状とすると、上記速度差が小さくなりΔfの制御が
難しくなる。従って、小電極指を、バスバーから電極指
35a先端に向かうにつれて先細り状、換言すると線幅
が狭くなるように形成することで、上記速度差を失うこ
となく、電極指首部の線幅の細線化を防ぐことができ
る。
【0019】本発明のSAWフィルタは、図6に示すよ
うに、例えば1個のSAW共振子のΔfを小さくするこ
とにより、このSAW共振子の共振周波数frから反共
振周波数fa迄のインピーダンス特性は、他のSAW共
振子に比して急激に変化することとなる。その結果、S
AWフィルタの特性は、通過帯域7f幅を維持したまま
減衰傾度が急峻になる。より具体的には、図7に示すよ
うに、SAWフィルタの減衰極が24aから24bに移
動するため、減衰量を20aから20bにできる。尚、
同図において、19は通過帯域、20は減衰域である。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明のSAW装置について以下
に説明する。図1と図2は本発明によるSAW装置D
1,D2の基本構成の平面図である。図1において、3
0はIDT電極、30aは電極指、30bは小電極指、
30cはバスバー、31は反射器である。電極指30a
の長さをw1 、電極指30a先端と相対するIDT電極
30のバスバー30cとの間隔をw2 とした場合、0.
04≦w2 /w1 ≦0.20であり、前記間隔部におい
てバスバー30cより突設された小電極指30bを設け
る。
【0021】図1の例では、小電極指30bが三角形状
とされており、点線部で示すように小電極指30bの底
辺部を幅広にしたり、小電極指30bを曲線的に形成し
てもよい。図2の例は、小電極指30bbが2つの三角
形状部から成り、3つ以上に分割してもよい。
【0022】本発明において、小電極指先端と電極指3
5a先端との間隔は0.15λ〜0.35λが好まし
く、0.15λ未満ではフォトリソグラフィー法等によ
る微細加工の歩留りが急激に劣化する。また、0.35
λを超えると電極指35aと小電極指の間隔が広がるた
めハレーションによる細線化が顕著になる。
【0023】また、小電極指の面積は、小電極指が方形
状の場合(図1の一点鎖線部)と比較して、その50%
〜150%(図1の点線部)とするのがよく、50%未
満では小電極指を施す効果、つまりハレーションによる
細線化を抑制する効果が低下し、150%を超えるとΔ
fを制御することが困難になる。
【0024】図5のラダー型SAWフィルタF1に本発
明を適用した場合について、以下に説明する。直列SA
W共振子2b,2cの2個について、図1のように構成
する。図6は、ラダー型SAWフィルタF1の通過帯域
の周波数特性(上側のグラフ)と、SAW共振子のイン
ピーダンス特性(上側のグラフ)を示す。直列SAW共
振子2aのインピーダンス特性7は、w2 /w1 を従来
より大きくしたことによりΔfが減少し、共振周波数7
aを保持したまま反共振周波数7bが低周波側に移動し
7cとなる。このインピーダンス特性の変化に対応し
て、SAWフィルタF1の通過帯域の周波数特性は高域
側の減衰特性が急峻になる。
【0025】また、並列SAW共振子3bのインピーダ
ンス特性8は、w2 /w1 を従来より大きくしたことに
よりΔfが減少し、反共振周波数8bを保持して、共振
周波数8aが高周波側に移動し8cとなる。このインピ
ーダンス特性の変化に対応して、SAWフィルタF1の
通過帯域の周波数特性は低域側の減衰特性が急峻に変化
する。
【0026】このようなw2 /w1 の調整によって得ら
れるΔfの変化幅は、42°Yカット−X伝搬のLiT
aO3 単結晶から成る圧電基板1で決まるΔfに対して
約10%であり、SAWフィルタの減衰特性の急峻度を
十分に改善することができる。
【0027】具体的には、900MHz帯のSAWフィ
ルタF1について、本発明の2個のSAW共振子2b,
2cの電極指30aは、86対と94対、電極指30a
の長さw1 は共に10λ、電極指30aの材質は蒸着法
により成膜したAlを用い、電極指30aの厚みは共に
410nm、間隔w2 はw1 の12.5%に共に設定し
た。また、電極指30a幅及び電極指30a間隔は夫々
約1μmである。図11に改善前の信号レベルの周波数
特性を、図12に本発明によって得られた周波数持性を
示す。本発明により減衰特性が改善されている。
【0028】図9に本発明による対称格子状の平衡型
(ブリッジ型)SAWフィルタF2の回路図を示す。直
列腕に接続された2個のSAW共振子40,41につい
て、本発明を適用している。尚、同図において、42,
43は並列腕に接続された2個のSAW共振子、45
a,45bは入力端子、46a,46bは出力端子であ
る。
【0029】図10に、平衡型SAWフィルタF2の通
過帯域の周波数特性と、SAW共振子40〜43のイン
ピーダンス特性を示す。SAW共振子40のインピーダ
ンス特性17は、w2 /w1 を従来より大きくしたこと
によりΔfが減少し、共振周波数17aを保持したまま
反共振周波数17bが低周波側に移動し17cとなる。
このインピーダンス特性の変化に対応して、SAWフィ
ルタF2の通過帯域17fの周波数特性は高域側の減衰
特性が急峻になる。
【0030】また、SAW腕共振子42,43のインピ
ーダンス特性18は、w2 /w1 を従来より大きくした
ことによりΔfが減少し、反共振周波数18bを保持し
て、共振周波数18aが高周波側に移動し18cとな
る。このインピーダンス特性の変化に対応して、SAW
フィルタF2の通過帯域17fの周波数特性は低域側の
減衰特性が急峻になる。
【0031】このようなw2 /w1 の調整によって得ら
れるΔfの変化幅は、ラダー型SAWフィルタF1と同
様、42°Yカット−X伝搬のLiTaO3 単結晶から
成る圧電基板1で決まるΔfに対して約10%であり、
SAWフィルタの減衰特性の急峻度を十分に改善するこ
とができる。
【0032】具体的には、900MHz帯のSAWフィ
ルタF2について、本発明の2個のSAW共振子40,
41の電極指30aは、60対と60対、電極指30a
の長さw1 は共に15λ、電極の材質は蒸着法により成
膜したAlを用い、電極指30aの厚みは共に410n
m、間隔w2 はw1 の12.0%に共に設定した。ま
た、電極指30a幅及び電極指30a間隔は夫々約1μ
mである。図13に改善前の信号レベルの周波数特性
を、図14に本発明によって得られた周波数持性を示
す。本発明により減衰特性が改善されている。
【0033】本発明において、IDT電極30はAlあ
るいはAl合金(Al−Cu系,Al−Ti系等)から
なり、特にAlが励振効率が高く、材料コストが低いた
め好ましい。また、IDT電極30は蒸着法、スパッタ
リング法又はCVD法等の薄膜形成法により形成する。
【0034】そして、IDT電極30の電極指30aの
対数は50〜200程度、電極指30aの線幅は0.1
〜10.0μm程度、電極指30aの間隔は0.1〜1
0.0μm程度、電極指30aの開口幅(交差幅)は1
0〜100μm程度、IDT電極30aの厚みは0.2
〜0.4μm程度とすることが、SAW共振子あるいは
SAWフィルタとしての所期の特性を得るうえで好適で
ある。また、IDT電極30aの電極指間に酸化亜鉛,
酸化アルミニウム等の圧電材料を成膜すれば、SAWの
共振効率が向上し好適である。
【0035】圧電基板としては、36°±10°Yカッ
ト−X伝搬のLiTaO3 単結晶、64°Yカット−X
伝搬のLiNbO3 単結晶、45°Xカット−Z伝搬の
LiB4 O7 単結晶等が、電気機械結合係数が大きく且
つ群遅延時間温度係数が小さいため好ましく、特に電気
機械結合係数の大きな36°±10°Yカット−X伝搬
のLiTaO3 単結晶が良い。また、結晶Y軸方向にお
けるカット角は36°±10°の範囲内であれば良く、
その場合十分な圧電特性が得られる。圧電基板の厚みは
0.1〜0.5mm程度がよく、0.1mm未満では圧
電基板が脆くなり、0.5mm超では材料コストが大き
くなる。
【0036】かくして、本発明のSAW装置は、IDT
電極の電極指の開口率(w2 /w1×100%)を調整
することによりΔfを制御できるとともに、フォトリソ
グラフィー工程でIDT電極を形成する際に電極指首部
が細線化するのを防止でき、また、本発明のSAW装置
でSAWフィルタを構成した場合、通過帯域端部の減衰
特性が改善されるという作用効果を有する。
【0037】更には、本発明のSAWフィルタにおい
て、0.04≦w2 /w1 ≦0.20とし小電極指を設
けたSAW装置を少なくとも1個有していればよく、勿
論全てのSAW装置を上記構成としてもよい。また、圧
電基板の両主面(表裏面)にSAW装置又はSAWフィ
ルタを設けても構わない。
【0038】尚、本発明は上記実施形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を変更しない範囲内で種々の
変更は何等差し支えない。
【0039】
【発明の効果】本発明は、IDT電極の電極指の長さを
w1 、電極指先端と相対するIDT電極のバスバーとの
間隔をw2 とした場合、0.04≦w2 /w1 ≦0.2
0であり、前記間隔部において前記バスバーより小電極
指を突設させたことにより、SAW装置のΔfを制御で
きるとともに、フォトリソグラフィー工程でIDT電極
を形成する際に電極指首部が細線化するのを防止でき、
また、SAWフィルタを構成した場合、通過帯域端部の
減衰特性が改善される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のSAW装置D1の基本構成の平面図で
ある。
【図2】本発明のSAW装置D2の基本構成の平面図で
ある。
【図3】従来のSAW装置Dの基本構成の平面図であ
る。
【図4】従来のSAW装置Dのインピーダンス特性のグ
ラフである。
【図5】本発明を適用できるラダー型SAWフィルタF
1の回路図である。
【図6】ラダー型SAWフィルタF1の通過帯域の周波
数特性のグラフと、直列SAW共振子及び並列SAW共
振子のインピーダンス特性のグラフである。
【図7】ラダー型SAWフィルタF1の通過帯域端部の
減衰特性改善について説明するためのグラフである。
【図8】本発明のSAW装置の開口率とΔfとの関係を
示すグラフである。
【図9】本発明による平衡型SAWフィルタF2の回路
図である。
【図10】平衡型SAWフィルタF2の通過帯域の周波
数特性のグラフと、直列腕に接続されたSAW共振子及
び並列腕に接続されたSAW共振子のインピーダンス特
性のグラフである。
【図11】従来のラダー型SAWフィルタF1の通過帯
域の周波数特性のグラフである。
【図12】本発明によるラダー型SAWフィルタF1の
通過帯域の周波数特性のグラフである。
【図13】従来の平衡型SAWフィルタF2の通過帯域
の周波数特性のグラフである。
【図14】本発明による平衡型SAWフィルタF2の通
過帯域の周波数特性のグラフである。
【符号の説明】
1:圧電基板 2a:直列SAW共振子 2b:直列SAW共振子 2c:直列SAW共振子 3a:並列SAW共振子 3b:並列SAW共振子 3c:並列SAW共振子 4:配線パターン 5:ワイヤー 7:直列SAW共振子のインピーダンス特性 7a:共振周波数 7b:反共振周波数 7c:反共振周波数 8:並列SAW共振子のインピーダンス特性 8a:共振周波数 8b:反共振周波数 8c:共振周波数 9:SAW共振子のインピーダンス特性 30:IDT電極 30a:電極指 30b:小電極指 30c:バスバー 31:反射器

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧電基板の主面に少なくとも一組の櫛歯状
    電極を形成して成る弾性表面波装置であって、前記櫛歯
    状電極の電極指の長さをw1 、前記電極指先端と相対す
    るバスバーとの間隔をw2 とした場合、0.04≦w2
    /w1 ≦0.20とし、かつ前記間隔部に前記電極指先
    端と相対するバスバーより小電極指を突設させたことを
    特徴とする弾性表面波装置。
  2. 【請求項2】前記小電極指は、前記バスバーから前記電
    極指先端方向に向けて先細り状となっている請求項1記
    載の弾性表面波装置。
  3. 【請求項3】同一の圧電基板上において複数の弾性表面
    波装置を接続して成る梯子型弾性表面波フィルタ又は平
    衡型弾性表面波フィルタであって、前記弾性表面波装置
    の少なくとも1個が請求項1又は2の弾性表面波装置で
    あることを特徴とする弾性表面波フィルタ。
JP35831997A 1997-12-25 1997-12-25 弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ Pending JPH11191720A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35831997A JPH11191720A (ja) 1997-12-25 1997-12-25 弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35831997A JPH11191720A (ja) 1997-12-25 1997-12-25 弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11191720A true JPH11191720A (ja) 1999-07-13

Family

ID=18458690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35831997A Pending JPH11191720A (ja) 1997-12-25 1997-12-25 弾性表面波装置及び弾性表面波フィルタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11191720A (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004328196A (ja) * 2003-04-23 2004-11-18 Fujitsu Media Device Kk 弾性表面波デバイス
US6903626B2 (en) 2001-12-14 2005-06-07 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave element and duplexer having the same
EP1548936A1 (en) * 2003-12-24 2005-06-29 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave filter
US6946931B2 (en) 2001-12-21 2005-09-20 Fujitsu Limited Surface acoustic wave resonator and surface acoustic wave filter
US6989724B2 (en) 2003-05-19 2006-01-24 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface acoustic wave device and communication device
JP2006186435A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Kyocera Corp 弾性表面波装置
WO2006078001A1 (ja) * 2005-01-21 2006-07-27 National University Corporation Chiba University 弾性表面波装置
JP2007068107A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Kyocera Corp 弾性表面波素子及び通信装置
JP2007081469A (ja) * 2005-09-09 2007-03-29 Kyocera Corp 弾性表面波素子及び通信装置
US7215224B2 (en) 2001-04-09 2007-05-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface acoustic wave filter, surface acoustic wave device and communication device
JP4853520B2 (ja) * 2006-10-31 2012-01-11 株式会社村田製作所 弾性表面波フィルタ装置及びデュプレクサ
JP2019021997A (ja) * 2017-07-12 2019-02-07 京セラ株式会社 弾性波素子、分波器および通信装置
WO2025198519A3 (en) * 2024-03-18 2025-11-13 Rf360 Singapore Pte. Ltd. High q electroacoustic resonator

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7215224B2 (en) 2001-04-09 2007-05-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface acoustic wave filter, surface acoustic wave device and communication device
US6903626B2 (en) 2001-12-14 2005-06-07 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave element and duplexer having the same
US6946931B2 (en) 2001-12-21 2005-09-20 Fujitsu Limited Surface acoustic wave resonator and surface acoustic wave filter
JP2004328196A (ja) * 2003-04-23 2004-11-18 Fujitsu Media Device Kk 弾性表面波デバイス
US7170371B2 (en) * 2003-04-23 2007-01-30 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave device with a thicker partial bus bar area and optimal bus bar to electrode tip gap
US6989724B2 (en) 2003-05-19 2006-01-24 Murata Manufacturing Co., Ltd. Surface acoustic wave device and communication device
EP1548936A1 (en) * 2003-12-24 2005-06-29 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave filter
US7385468B2 (en) 2003-12-24 2008-06-10 Fujitsu Media Devices Limited Surface acoustic wave filter
JP2006186435A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Kyocera Corp 弾性表面波装置
JPWO2006078001A1 (ja) * 2005-01-21 2008-06-19 国立大学法人 千葉大学 弾性表面波装置
WO2006078001A1 (ja) * 2005-01-21 2006-07-27 National University Corporation Chiba University 弾性表面波装置
US8106726B2 (en) 2005-01-21 2012-01-31 National University Corporation Chiba University Elastic surface wave device comprising dummy electrodes
JP2007068107A (ja) * 2005-09-02 2007-03-15 Kyocera Corp 弾性表面波素子及び通信装置
JP2007081469A (ja) * 2005-09-09 2007-03-29 Kyocera Corp 弾性表面波素子及び通信装置
JP4853520B2 (ja) * 2006-10-31 2012-01-11 株式会社村田製作所 弾性表面波フィルタ装置及びデュプレクサ
JP2019021997A (ja) * 2017-07-12 2019-02-07 京セラ株式会社 弾性波素子、分波器および通信装置
WO2025198519A3 (en) * 2024-03-18 2025-11-13 Rf360 Singapore Pte. Ltd. High q electroacoustic resonator
US12609671B2 (en) 2024-03-18 2026-04-21 Rf360 Singapore Pte. Ltd. High Q electroacoustic resonator

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102652395B (zh) 天线共用器
KR100346805B1 (ko) 탄성표면파장치
JP6415469B2 (ja) 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ並びに弾性波共振器の製造方法
JP4552931B2 (ja) 弾性波デバイスおよびそれを用いた移動体通信機器並びにセンサー
JP3301399B2 (ja) 弾性表面波装置
EP0734120B1 (en) Surface acoustic wave resonator filter
JPWO2017073425A1 (ja) 弾性波共振子、弾性波フィルタ、分波器、通信装置および弾性波共振子の設計方法
JP3228223B2 (ja) 弾性表面波フィルタ
JP3353742B2 (ja) 表面波共振子、表面波装置、通信機装置
JP3391309B2 (ja) 表面波装置及び通信機装置
US20210408999A1 (en) Elastic wave device, splitter, and communication apparatus
JP2018196028A (ja) 弾性波フィルタおよびマルチプレクサ
JPH09298446A (ja) 弾性表面波装置及びその設計方法
JPH11312951A (ja) 弾性表面波フィルタ
JP3204112B2 (ja) 弾性表面波共振子フィルタ
JPH11163664A (ja) 弾性表面波フィルタ
JP2002232264A (ja) 弾性表面波フィルタ
JPH11186867A (ja) 弾性表面波装置
JPH1022765A (ja) 弾性表面波共振子及び共振子型フィルタ
JP2001345675A (ja) 弾性表面波フィルタ
US20230117944A1 (en) Bonded substrate and its manufacturing method
JPH10261935A (ja) 弾性表面波素子
JPH08265099A (ja) 共振器型弾性表面波フィルタ
JPH10335965A (ja) 弾性表面波フィルタ
JPH10303697A (ja) 弾性表面波フィルタ