JP2000339680A - 磁気テープの製造方法及び磁気テープの製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベースフィルム上に金属磁性薄膜を成膜した
時に生じるカッピングと２本シワを低減する。 【解決手段】 真空槽内で帯状のベースフィルムを冷却
キャンロールの周面に沿って走行させながら、冷却キャ
ンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を蒸
発させて、ベースフィルム８の一方の面８ａに金属磁性
薄膜Ｍａｇを成膜した後に、大気中もしくは真空中でベ
ースフィルム８の一方の面と反対側の他方の面８ｂを加
熱ロール２６に密着走行させたことを特徴とする磁気テ
ープの製造方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープの製造
方法及び磁気テープの製造装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ディジタル・ビデオ・テープレコ
ーダなどに適用される磁気テープは、高密度及び薄膜化
を達成するために、とくに、薄膜磁気テープ，垂直磁気
テープが注目されている。

【０００３】図６は斜方蒸着法を適用した一般的な薄膜
磁気テープ製造用蒸着装置の構成を示した構成図、図７
は一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置内の冷却キャ
ンロール近傍を示した斜視図、図８は一般的な薄膜磁気
テープ製造用蒸着装置によりベースフィルム上に金属磁
性薄膜を蒸着により成膜した時のフィルム位置に対する
温度を示した熱解析結果図、図９は一般的な薄膜磁気テ
ープ製造用蒸着装置によりベースフィルム上に金属磁性
薄膜を蒸着により成膜した時に生じるカッピングと２本
シワとを説明するための図である。

【０００４】図６に示した如く、斜方蒸着法を適用した
一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置（以下、装置と
記す）１の真空槽２内は真空状態に保たれている。この
真空槽２内には、供給ロール３と、巻取ロール４と、ガ
イドロール５，６と、冷却キャンロール７とが回転自在
に配置されている。

【０００５】そして、真空槽２内で、供給ロール３に巻
回した帯状のベースフィルム８は、供給側のガイドロー
ル５、冷却キャンロール７の周面、巻取側のガイドロー
ル５に沿いながら巻取ロール４に向かって矢印方向に走
行している。

【０００６】ここで、ベースフィルム８はポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを使用しており、こ
のベースフィルム８は供給ロール３にロール状に数千〜
数万ｍ巻いたものを真空槽２内にセットし、ベースフィ
ルム８の一方の面に冷却キャンロール７の下方に設置し
た後述のルツボ９から蒸発した金属磁性材料１０を連続
して１ロール蒸着を行う方法が一般的に取られている。

【０００７】即ち、冷却キャンロール７の斜め下方に
は、ルツボ材料としてＭｇＯ（マグネシア）を用いて箱
状に形成したルツボ９が設置されている。このルツボ９
内には、Ｃｏ又はＣｏＮｉなどの強磁性材料（以下、金
属磁性材料と記す）１０が収容されている。

【０００８】また、真空槽２の側壁２ａには、ルツボ９
内に収容した金属磁性材料１０を溶融して蒸発させるピ
アス型電子銃１１が取り付けられている。このピアス型
電子銃１１は、ルツボ９内の金属磁性材料１０に向かっ
て電子ビーム１２が出射されており、金属磁性材料１０
を溶融してベースフィルム８の一方の面側に蒸発させて
いる。

【０００９】また、冷却キャンロール７に沿って入射角
規制マスク部材１３がルツボ９側に向かって取り付けら
れており、この入射角規制マスク部材１３は、ベースフ
ィルム８の走行時にルツボ９から蒸着した金属磁性材料
１０のベースフィルム８に対する最大入射角θｍａｘ及
び最小入射角θｍｉｎを規制している。

【００１０】また、入射角規制マスク部材１３のうちで
最小入射角θｍｉｎ側の内側にはノズル１４が取り付け
られており、このノズル１４から酸素が蒸発した金属磁
性材料１０に向かって射出されている。

【００１１】また、ピアス型電子銃１１から出射される
電子ビーム１２は、軌道に偏向磁界を印加するための偏
向マグネット１５と、ルツボ９に近設した偏向マグネッ
ト１６とにより制御されている。従って、ルツボ９の長
手方向に電子ビーム１２を走査することによりベースフ
ィルム８の幅方向にスキャンされて、蒸発したＣｏ又は
ＣｏＮｉなどの金属磁性材料１０がベースフィルム８の
幅方向にＣｏＯ又はＣｏＮｉＯなどの金属磁性薄膜とし
て成膜され、これをベースフィルム８の長さ方向に繰り
返すことにより長尺な薄膜磁気テープ８が巻取ロール４
側に巻き取れている。

【００１２】ここで、ルツボ９から蒸発した金属磁性材
料１０をベースフィルム８上に成膜する際、ベースフィ
ルム８への耐熱性を考慮して、図７に示したように、矢
印方向に回転する冷却キャンロール７の内部には、冷却
器（図示せず）が設置され、蒸着時にベースフィルム８
の温度上昇による変形などを抑制している。そして、こ
の様な斜方蒸着方法では、冷却した回転自在な冷却キャ
ンロール７の周面にルツボ９からの金属磁性材料１０が
付着しない様に、ベースフィルム８のエッジ部分を入射
角規制マスク部材１３によって覆っており、ベースフィ
ルム８の幅寸法に対して入射角規制マスク部材１３の幅
方向の開口寸法が狭く設定されている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、斜方蒸着法
を適用した一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置１を
用いて、ルツボ９から蒸発したＣｏ又はＣｏＮｉなどの
金属磁性材料１０をベースフィルム８上に金属磁性薄膜
を薄く成膜する際に、ベースフィルム８を冷却キャンロ
ール７の周面に沿わせながら冷却キャンロール７でベー
スフィルム８を冷却しているものの、図８に示したよう
に、金属磁性材料１０の蒸着時にベースフィルム８が急
激に熱負荷を受けて金属磁性薄膜が成膜され、且つ、金
属磁性薄膜の内部応力も負荷されて、ベースフィルム８
の金属磁性薄膜形成面側の最表面のみが急激な熱収縮を
起こす。

【００１４】とくに、ベースフィルム８の走行時に張力
の加わっていないフィルム幅方向の熱収縮は大きく、図
９（ａ），（ｂ）に示したように金属磁性薄膜側が内側
に反ってベースフィルム８にカッピングが生じる。そし
て、ベースフィルム８上に金属磁性薄膜を成膜した後
に、保護膜層や潤滑層及びバックコート層等を形成し、
完成したベースフィルム８をスリッタにより所定の幅に
裁断して、磁気テープ化した時にカッピング（テープ幅
方向の反り）量が大きいことが問題であった。この際、
薄膜磁気テープに対して安定したヘッドタッチで良好な
電磁変換特性を得るために、蒸着時に生じたカッピング
量を一定値以内に抑える必要があった。

【００１５】また、近年の蒸着磁気記録テープ（ＭＥテ
ープ）では金属磁性薄膜形成後、保護膜層や潤滑層及び
バックコート層等を形成する工程が後工程としてあり、
裁断して磁気テープ化するまでの後工程でも上記フィル
ム幅方向の最表面の熱収縮は経時的に解放されて動くた
めに、図９（ｃ）に示したようにフィルム幅方向の両側
に２本シワが発生し、後工程の走行性や膜厚分布に多大
な悪影響を及ぼしていた。このため歩留まりはかなり悪
くなっていた。

【００１６】これらの問題を解決するために、ベースフ
ィルム８上に金属磁性薄膜を成膜した後、ベースフィル
ム８を加熱ロールに密着走行させることにより、ベース
フィルム８のガラス転移点Ｔｇ以上の温度で熱処理（ア
ニーリング）する方法が特開平６−２９５４３５号公報
に開示されている。しかしながら、この方法はベースフ
ィルム８の表面と加熱ロールの表面が密着走行すること
によるバンプ（密閉された気体が急激に膨張することに
よる気泡痕及び間に挟まれたゴミ等の異物やロール表面
突起の拡大痕）の発生原因にもなっていた。これらのバ
ンプは金属磁性薄膜の微小クラックを引き起こすことが
あり、これはドロップアウトの原因になっていた。また
安定したヘッドタッチで良好な電磁変換特性を得るため
には均一で微小なテープ表面粗さが求められ、これらの
不均一なバンプの発生を抑制する必要があった。

【００１７】そこで、バンプの発生を抑えたうえで２本
シワの発生を防ぎ、カッピング量を低減させることを目
的とした磁気テープの製造方法及び磁気テープの製造装
置が望まれている。

【００１８】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題に鑑み
てなされたものであり、第１の発明は、真空槽内で帯状
のベースフィルムを冷却キャンロールの周面に沿って走
行させながら、前記冷却キャンロールの下方に設置した
ルツボ内の金属磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィ
ルムの一方の面に金属磁性薄膜を成膜した後に、大気中
もしくは真空中で前記ベースフィルムの一方の面と反対
側の他方の面を加熱ロールに密着走行させたことを特徴
とする磁気テープの製造方法である。

【００１９】また、上記第１の発明の磁気テープの製造
方法において、前記ベースフィルムの他方の面を前記加
熱ロールに密着走行させる直前に、前記ベースフィルム
の他方の面の帯電圧を０Ｖ〜−５０Ｖに設定したことを
特徴とする磁気テープの製造方法である。

【００２０】また、第２の発明は、真空槽内で帯状のベ
ースフィルムを冷却キャンロールの周面に沿って走行さ
せながら、前記冷却キャンロールの下方に設置したルツ
ボ内の金属磁性材料を蒸発させて、前記ベースフィルム
の一方の面に金属磁性薄膜を成膜する手段と、前記金属
磁性薄膜を成膜した後に、大気中もしくは真空中で前記
ベースフィルムの一方の面と反対側の他方の面を密着走
行させる加熱ロールとを備えたことを特徴とする磁気テ
ープの製造装置である。

【００２１】また、上記第２の発明の磁気テープの製造
装置において、前記ベースフィルムの他方の面を前記加
熱ロールに密着走行させる直前に、前記ベースフィルム
に帯電した静電気を除電する除電機を備えたことを特徴
とする磁気テープの製造装置である。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下に本発明に係る磁気テープの
製造方法及び磁気テープの製造装置の一実施例を図１乃
至図５を参照して詳細に説明する。

【００２３】図１はベースフィルム上に金属磁性薄膜を
成膜した状態を示した図、図２は本発明に係る磁気テー
プの製造方法及び磁気テープの製造装置を説明するため
の図、図３は本発明に係る磁気テープの製造方法におい
て、実験１〜１４の実験条件を示した図、図４は本発明
に係る磁気テープの製造方法において、実験１〜１４の
実験結果を示した図、図５は本発明に係る磁気テープの
製造方法及び磁気テープの製造装置の変形例を説明する
ための図である。

【００２４】本発明に係る磁気テープの製造方法及び磁
気テープの製造装置では、先に図６で説明した一般的な
薄膜磁気テープ製造用蒸着装置を用いて、ベースフィル
ムの一方の面に金属磁性薄膜を成膜した直後に、大気中
もしくは真空中においてベースフィルムの一方の面と反
対側の他方の面（金属磁性薄膜が成膜されていない側の
面）を加熱ロールに密着走行させて加熱することを特徴
としたものである。

【００２５】尚、説明の都合上、先に従来例で説明した
一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置内の各構成部材
について同一の符号を付して適宜説明し、且つ、従来例
と異なる構成部材に新たな符号を付す共に、この実施例
では従来例と異なる点を中心に説明する。

【００２６】まず、先に図６で説明した一般的な薄膜磁
気テープ製造用蒸着装置１を用いて、図２に示したよう
にベースフィルム８の一方の面８ａに金属磁性薄膜Ｍａ
ｇを成膜する際に、冷却キャンロール７の直径は１００
０ｍｍ、冷却キャンロール７の幅は６００ｍｍ、ベース
フィルム８の幅は５６０ｍｍ、ベースフィルム８上に成
膜した金属磁性薄膜Ｍａｇの成膜幅は５４０ｍｍ、ルツ
ボ９の幅は７００ｍｍ、ルツボ９内の金属磁性材料（純
コバルトＣｏ）１０の溶融、蒸着は出力３００ｋＷの９
０゜偏向のピアス型電子銃１１を用いた。また、入射角
規制マスク部材１３は１５ｍｍ厚のステンレス製で水冷
しながら成膜エリア外周を囲んでいる。また、ルツボ９
の付近には、ピアス型電子銃１１から出射された電子ビ
ーム１２の適正な入射に必要な偏向マグネット１６を設
置した。また、ルツボ９の片端部分からは連続的に金属
磁性材料（純コバルトＣｏ）１０が一定量供給されるよ
うに供給機（図示せず）を設置した。

【００２７】ここで、真空槽２内で帯状のベースフィル
ム８を冷却キャンロール７の周面に沿って走行させなが
ら、冷却キャンロール８の下方に設置したルツボ９内の
金属磁性材料１０を蒸発させて、帯状のベースフィルム
８の一方の面８ａに金属磁性薄膜Ｍａｇを成膜するにあ
たって、入射角規制マスク部材１３の最小入射角θｍｉ
ｎ側から酸素ガス１８００ｃｃｍを導入し、金属磁性薄
膜（ＣｏＯ膜）の膜厚が０．１８μｍになるよう透過及
び反射型膜厚モニターで制御しながら、６．４μｍＰＥ
Ｔ（ポリエチレンテレフタレート）製のベースフィルム
８の一方の面８ａにＣｏＯ膜を長手方向に２０００ｍほ
ど成膜し、ＣｏＯ膜を成膜したベースフィルム８を巻取
ロール４にロール状に巻き取った直後にこの巻取ロール
４を真空槽２から大気中に取り出した。

【００２８】ここで、図２に示したように、本発明に係
る磁気テープの製造装置２０が大気中に設置されてい
る。

【００２９】上記した磁気テープの製造装置２０では、
真空槽２から取り出した巻取ロール４を供給側にセット
して供給ロール２１としている。従って、供給ロール２
１にはＣｏＯ膜（金属磁性薄膜）を成膜した直後のベー
スフィルム８がロール状に巻回されている。そして、供
給ロール２１から送り出されたベースフィルム８はガイ
ドロール２２，２３を経由して除電機２４内を通って、
この除電機２４でベースフィルム８にたまった静電気を
除去している。ここで、ベースフィルム８が除電機２４
を通過する際に、ベースフィルム８上で金属磁性薄膜Ｍ
ａｇが形成されていない他方の面８ｂ（図１）の帯電圧
を０Ｖ〜−５０Ｖに設定することにより、ベースフィル
ム８にたまった静電気を良好に除去できる。

【００３０】この後、静電気を除去したベースフィルム
８はガイドロール２５を経て直径１０００ｍｍの加熱ロ
ール２６に至る。ここで、加熱ロール２６は８０°Ｃ〜
１２０°Ｃに加熱されながら矢印方向に回転自在になっ
ており、本発明ではベースフィルム８上で金属磁性薄膜
Ｍａｇが形成されていない側の他方の面８ｂ（ベース裏
面）を加熱ロール２６に密着走行させて加熱し、ガイド
ロール２７，２８を経由してベースフィルム８を巻取ロ
ール２９に巻き取っている。

【００３１】次に、上記した磁気テープの製造装置２０
を大気中に設置して、除電機２４、加熱ロール２６を用
いて以下の実験を行った後、バンプの発生の有無及び図
９（ｃ）に示す２本シワの発生状況とベースフィルムの
熱負け状況を観察した。また、ベースフィルム８をスリ
ッターにより６．３５ｍｍ幅に裁断して図９（ａ），
（ｂ）に示すカッピング量の測定を行った。ベースフィ
ルム８上の金属磁性薄膜面側が凹状にカッピングしてい
る場合を正（＋）、凸状にカッピングしている場合を負
（−）として評価した。

【００３２】図３に示した実験条件では、ベースフィル
ム８上で金属磁性薄膜Ｍａｇが成膜されている一方の面
８ａを加熱ロール２６に密着走行させた場合を比較例
（実験１〜３）とし、ベースフィルム８上で金属磁性薄
膜Ｍａｇが成膜されていない他方の面（一方の面と反対
側の面）８ｂを加熱ロール２６に密着走行させた場合を
本発明（実験４〜１４）とし、各実験ごとに加熱ロール
２６の温度（°Ｃ）と、除電機２４の静電気量（Ｖ）と
を振って実験条件を設定した。

【００３３】＜実験１（比較例）＞加熱ロール２６の温
度を１００℃に設定し、ベースフィルム８で金属磁性薄
膜Ｍａｇが成膜されている一方の面８ａを加熱ロール２
６に密着走行させて２０００ｍを熱処理した。熱処理走
行速度は５０ｍ／ｍｉｎ．一定とした。

【００３４】＜実験２（比較例）＞加熱ロール２６の温
度を１２５℃に設定し、あとは上記実験１と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００３５】＜実験３（比較例）＞加熱ロール２６の温
度を１５０℃に設定し、あとは上記実験１と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００３６】＜実験４（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を８０℃に設定し、ベースフィルム８上で金属磁性薄
膜Ｍａｇが成膜されていない他方の面８ｂを加熱ロール
２６に密着走行して２０００ｍを熱処理した。熱処理走
行速度は５０ｍ／ｍｉｎ．一定とした。

【００３７】＜実験５（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を１００℃に設定し、あとは上記実験４と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００３８】＜実験６（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を１２０℃に設定し、あとは上記実験４と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００３９】＜実験７（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を１４０℃に設定し、あとは上記実験４と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００４０】＜実験８（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を１５０℃に設定し、あとは上記実験４と同条件で２
０００ｍを熱処理した。

【００４１】＜実験９（本発明）＞加熱ロール２６の温
度を１２０℃に設定し、あとは上記実験４と同条件で２
０００ｍを熱処理する際、図２に示すように予め設置し
ておいた除電機２４により、ベースフィルム８上で金属
磁性薄膜Ｍａｇが成膜されていない他方の面８ｂが加熱
ロール２６に密着走行する直前に、ベースフィルム８の
他方の面８ｂの帯電圧を−２００Ｖに設定して静電気を
除去した。

【００４２】＜実験１０（本発明）＞ベースフィルム８
の他方の面８ｂの帯電圧を−１００Ｖに設定して静電気
を除去した以外は、上記実験９と同条件で２０００ｍを
熱処理した。

【００４３】＜実験１１（本発明）＞ベースフィルム８
の他方の面８ｂの帯電圧を−５０Ｖに設定して静電気を
除去した以外は、上記実験９と同条件で２０００ｍを熱
処理した。

【００４４】＜実験１２（本発明）＞ベースフィルム８
の他方の面８ｂの帯電圧を−３０Ｖに設定して静電気を
除去した以外は、上記実験９と同条件で２０００ｍを熱
処理した。

【００４５】＜実験１３（本発明）＞ベースフィルム８
の他方の面８ｂの帯電圧を−１０Ｖに設定して静電気を
除去した以外は、上記実験９と同条件で２０００ｍを熱
処理した。

【００４６】＜実験１４（本発明）＞ベースフィルム８
の他方の面８ｂの帯電圧を略０Ｖに設定して静電気を除
去した以外は、上記実験９と同条件で２０００ｍを熱処
理した。

【００４７】次に、上記した実験１〜１４の実験結果に
ついて、図４を用いて説明する。

【００４８】図４に示した如く、実験１〜３の比較例、
実験４〜１４の本発明について、バンプの発生、２本シ
ワの発生、熱負け、カッピング量について観察評価し
た。この際、カッピング量は２本シワの内側の任意の箇
所（同１０チャンネル分）をそれぞれ測定した時の最大
値を示している。

【００４９】図４に示した実験結果から明らかなよう
に、ベースフィルム８の一方の面８ａに金属磁性薄膜Ｍ
ａｇを成膜した後に、金属磁性薄膜Ｍａｇを形成してい
ない他方の面８ｂを適当な温度の加熱ロール２６に密着
走行させた場合には、２本シワの発生を防ぐと共にカッ
ピング量を大幅に低減できることが判った。即ち、ベー
スフィルム８の一方の面８ａに金属磁性材料１０を蒸着
させた時に一方の面８ａに熱負荷が加わり、これにより
カッピングと、２本シワの発生が起きるが、ベースフィ
ルム８の他方の面８ｂに加熱ロール２６により適当な温
度を加えることにより、蒸着時に対して逆補正すること
になりカッピング量及び２本シワを相殺できる。

【００５０】また、ベースフィルム８の他方の面８ｂを
加熱ロール２６に密着走行させる直前に、ベースフィル
ム８の他方の面８ｂの帯電圧を０Ｖ〜−５０Ｖに設定し
て静電気除去することにより、より効果的に２本シワの
発生を防ぐと共にカッピング量を大幅低減でき、バンプ
の発生も抑制できることが判明した。

【００５１】次に、本発明に係る磁気テープの製造方法
及び磁気テープの製造装置の変形例について、図５を用
いて簡略に説明する。尚、説明の都合上、先に示した構
成部材と同一の機能を備えた構成部材には同一の符号を
付して説明する。

【００５２】図５に示した如く、本発明に係る変形例の
磁気テープの製造装置３０では、ベースフィルム８上に
金属磁性薄膜Ｍａｇを成膜した後に、真空中でベースフ
ィルム８の他方の面８ｂを加熱ロール２６に密着走行さ
せて加熱するものである。

【００５３】即ち、変形例の磁気テープの製造装置３０
は、先に図６を用いて説明した一般的な薄膜磁気テープ
製造用蒸着装置１の真空槽２内を改造して、ベースフィ
ルム８の巻取側に隔壁２ｂを設立して蒸着側と加熱側と
に２分させ、加熱側に新たに付加するものとして、巻取
側のガイドロール６により下流で図示左方にガイドロー
ル２３、除電機２４、ガイドロール２５、加熱ロール２
６、ガイドロール２７，２８、巻取ロール２９を順に配
設している。

【００５４】この変形例では、ベースフィルム８の一方
の面８ａに金属磁性薄膜Ｍａｇを成膜した直後に、ベー
スフィルム８を真空槽２内から大気中に取り出すことな
く、真空槽２内で引き続いて、除電機２４によりベース
フィルム８上で金属磁性薄膜Ｍａｇが形成されていない
他方の面８ｂ（図１）の帯電圧を０Ｖ〜−５０Ｖに設定
にして静電気を除去し、この後、静電気を除去したベー
スフィルム８の他方の面８ｂを８０°Ｃ〜１２０°Ｃに
加熱されながら矢印方向に回転自在な加熱ロール２６に
密着走行させて加熱し、ガイドロール２７，２８を経由
してベースフィルム８を巻取ロール２９に巻き取ってい
る。この方法でも先に大気中で実験した結果と同様の結
果が得られるものである。

【００５５】

【発明の効果】以上詳述した本発明に係る磁気テープの
製造方法及び磁気テープの製造装置によれば、とくに、
ベースフィルムの一方の面に金属磁性薄膜を成膜した後
に、大気中もしくは真空中でベースフィルムの一方の面
と反対側の他方の面を加熱ロールに密着走行させたた
め、バンプ発生が無く、また、２本シワの発生を防ぐと
共にカッピング量を大幅に低減でき、安定した電磁変換
特性を有する良好な磁気テープが得られる。これは最終
的には磁気テープの製品歩留まりを向上せしめ、製品の
低コスト化に大きくつながるものである。

【００５６】更に、ベースフィルムの他方の面を加熱ロ
ールに密着走行させる直前に、ベースフィルムの他方の
面の帯電圧を０Ｖ〜−５０Ｖに設定して静電気除去する
ことにより、より効果的に２本シワの発生を防ぐと共に
カッピング量を大幅低減でき、バンプの発生も抑制でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】ベースフィルム上に金属磁性薄膜を成膜した状
態を示した図である。

【図２】本発明に係る磁気テープの製造方法及び磁気テ
ープの製造装置を説明するための図である。

【図３】本発明に係る磁気テープの製造方法において、
実験１〜１４の実験条件を示した図である。

【図４】本発明に係る磁気テープの製造方法において、
実験１〜１４の実験結果を示した図である。

【図５】本発明に係る磁気テープの製造方法及び磁気テ
ープの製造装置の変形例を説明するための図である。

【図６】斜方蒸着法を適用した一般的な薄膜磁気テープ
製造用蒸着装置の構成を示した構成図である。

【図７】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置内の冷
却キャンロール近傍を示した斜視図である。

【図８】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置により
ベースフィルム上に金属磁性薄膜を蒸着により成膜した
時のフィルム位置に対する温度を示した熱解析結果図で
ある。

【図９】一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置により
ベースフィルム上に金属磁性薄膜を蒸着により成膜した
時に生じるカッピングと２本シワとを説明するための図
である。

【符号の説明】

１…一般的な薄膜磁気テープ製造用蒸着装置、２…真空
槽、７…冷却キャンロール、８…ベースフィルム、８ａ
…一方の面、８ｂ…他方の面、９…ルツボ、１０…金属
磁性材料、１１…ピアス型電子銃、１２…電子ビーム、
１３…入射角規制マスク部材、２０…本発明に係る磁気
テープの製造装置、２４…除電機、２６…加熱ロール、
３０…本発明に係る変形例の磁気テープの製造装置、Ｍ
ａｇ…金属磁性薄膜。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】真空槽内で帯状のベースフィルムを冷却キ
   ャンロールの周面に沿って走行させながら、前記冷却キ
   ャンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を
   蒸発させて、前記ベースフィルムの一方の面に金属磁性
   薄膜を成膜した後に、大気中もしくは真空中で前記ベー
   スフィルムの一方の面と反対側の他方の面を加熱ロール
   に密着走行させたことを特徴とする磁気テープの製造方
   法。
2. 【請求項２】請求項１記載の磁気テープの製造方法にお
   いて、 前記ベースフィルムの他方の面を前記加熱ロールに密着
   走行させる直前に、前記ベースフィルムの他方の面の帯
   電圧を０Ｖ〜−５０Ｖに設定したことを特徴とする磁気
   テープの製造方法。
3. 【請求項３】真空槽内で帯状のベースフィルムを冷却キ
   ャンロールの周面に沿って走行させながら、前記冷却キ
   ャンロールの下方に設置したルツボ内の金属磁性材料を
   蒸発させて、前記ベースフィルムの一方の面に金属磁性
   薄膜を成膜する手段と、 前記金属磁性薄膜を成膜した後に、大気中もしくは真空
   中で前記ベースフィルムの一方の面と反対側の他方の面
   を密着走行させる加熱ロールとを備えたことを特徴とす
   る磁気テープの製造装置。
4. 【請求項４】請求項３記載の磁気テープの製造装置にお
   いて、 前記ベースフィルムの他方の面を前記加熱ロールに密着
   走行させる直前に、前記ベースフィルムに帯電した静電
   気を除電する除電機を備えたことを特徴とする磁気テー
   プの製造装置。