JPH1119663A - 有機物の除去方法 - Google Patents
有機物の除去方法Info
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- JPH1119663A JPH1119663A JP17965397A JP17965397A JPH1119663A JP H1119663 A JPH1119663 A JP H1119663A JP 17965397 A JP17965397 A JP 17965397A JP 17965397 A JP17965397 A JP 17965397A JP H1119663 A JPH1119663 A JP H1119663A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 原水を酸化剤の存在下で加熱処理して原水中
のＴＯＣ成分を分解した後、脱イオン処理することによ
り原水中の有機物を除去する方法において、酸化剤の添
加量を低減する。 【解決手段】 原水に酸素と、酸化剤として過硫酸及び
／又は過硫酸塩とを添加する。 【効果】 過硫酸塩等を用いる加熱分解法においては、
理論量よりも少ない過硫酸塩の添加で十分にＴＯＣを加
熱分解できる。これは、溶存酸素に起因し、原水中に酸
素を添加して溶存酸素を高めることで、過硫酸塩等の添
加量を低減して低コストで効率的な処理を行うことがで
きる。
のＴＯＣ成分を分解した後、脱イオン処理することによ
り原水中の有機物を除去する方法において、酸化剤の添
加量を低減する。 【解決手段】 原水に酸素と、酸化剤として過硫酸及び
／又は過硫酸塩とを添加する。 【効果】 過硫酸塩等を用いる加熱分解法においては、
理論量よりも少ない過硫酸塩の添加で十分にＴＯＣを加
熱分解できる。これは、溶存酸素に起因し、原水中に酸
素を添加して溶存酸素を高めることで、過硫酸塩等の添
加量を低減して低コストで効率的な処理を行うことがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は有機物の除去方法に
係り、特に、超純水又は超純水製造工程におけるＴＯＣ
（全有機体炭素）除去効率を大幅に改善した有機物の除
去方法に関する。
係り、特に、超純水又は超純水製造工程におけるＴＯＣ
（全有機体炭素）除去効率を大幅に改善した有機物の除
去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】主に半導体基板や液晶基板の洗浄用に用
いられる超純水の製造において、ＴＯＣの除去は他の不
純物（微粒子、イオンなど）の除去と同様に極めて重要
である。また、特に、半導体基板や液晶基板の洗浄、リ
ンス排水の回収・再利用を行う場合、バクテリアファウ
リングから処理装置を守り、安定運転を続ける上でも、
他のユニット装置による不純物除去の前段でＴＯＣを低
減しておくことは、極めて重要である。
いられる超純水の製造において、ＴＯＣの除去は他の不
純物（微粒子、イオンなど）の除去と同様に極めて重要
である。また、特に、半導体基板や液晶基板の洗浄、リ
ンス排水の回収・再利用を行う場合、バクテリアファウ
リングから処理装置を守り、安定運転を続ける上でも、
他のユニット装置による不純物除去の前段でＴＯＣを低
減しておくことは、極めて重要である。
【０００３】このため、目標水準までＴＯＣを低減させ
た処理水を得るべく、２段式逆浸透膜分離処理やイオン
交換塔を併用した低圧紫外線酸化処理、生物処理などが
行われている。また、処理コストを低減し、より一層の
ＴＯＣ低減を図るために、本出願人により、酸化剤を併
用した加熱分解型のＴＯＣ除去方法が出願されている
（国際公開Ｗ０９４／１８１２７号公報）。本方式によ
ると、数ｐｐｍオーダーのＴＯＣを含む原水を１段階の
処理で数ｐｐｂ−ＴＯＣにまで高度に処理することがで
きる。本出願人はまた、このＴＯＣ除去法で用いる酸化
剤としては過硫酸又は過硫酸塩が最適であること、そし
てその添加量は原水中のＴＯＣ１重量部当たりＳ2 Ｏ8
2- 換算で２０〜４５重量部とするのが適当であること
を確認し、先に特許出願を行った（特開平８−１７３９
７８号公報）。
た処理水を得るべく、２段式逆浸透膜分離処理やイオン
交換塔を併用した低圧紫外線酸化処理、生物処理などが
行われている。また、処理コストを低減し、より一層の
ＴＯＣ低減を図るために、本出願人により、酸化剤を併
用した加熱分解型のＴＯＣ除去方法が出願されている
（国際公開Ｗ０９４／１８１２７号公報）。本方式によ
ると、数ｐｐｍオーダーのＴＯＣを含む原水を１段階の
処理で数ｐｐｂ−ＴＯＣにまで高度に処理することがで
きる。本出願人はまた、このＴＯＣ除去法で用いる酸化
剤としては過硫酸又は過硫酸塩が最適であること、そし
てその添加量は原水中のＴＯＣ１重量部当たりＳ2 Ｏ8
2- 換算で２０〜４５重量部とするのが適当であること
を確認し、先に特許出願を行った（特開平８−１７３９
７８号公報）。
【０００４】この加熱分解法によるＴＯＣの除去方式に
おいては、 (a) 簡単な装置でＴＯＣを低レベルにまで除去でき
る。 (b) 原水のＴＯＣ濃度に応じて、酸化剤添加量を調整
するだけで対応できる。 (c) 加熱工程があるので、菌の繁殖を防止し、また、
栄養源である有機物が減少し、バクテリアファウリング
を軽減できる。といった優れた利点がある。
おいては、 (a) 簡単な装置でＴＯＣを低レベルにまで除去でき
る。 (b) 原水のＴＯＣ濃度に応じて、酸化剤添加量を調整
するだけで対応できる。 (c) 加熱工程があるので、菌の繁殖を防止し、また、
栄養源である有機物が減少し、バクテリアファウリング
を軽減できる。といった優れた利点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の加熱分解法では、ＴＯＣ１ｐｐｍ程度の原水を処理
する場合にはさほど問題とはならないが、ＴＯＣ４〜５
ｐｐｍ或いはそれ以上の原水を対象とした場合には、酸
化剤添加量を相当に多くしないと目標水質までＴＯＣを
低減することができなかった。
来の加熱分解法では、ＴＯＣ１ｐｐｍ程度の原水を処理
する場合にはさほど問題とはならないが、ＴＯＣ４〜５
ｐｐｍ或いはそれ以上の原水を対象とした場合には、酸
化剤添加量を相当に多くしないと目標水質までＴＯＣを
低減することができなかった。
【０００６】この方法で添加された酸化剤、例えば、過
硫酸ナトリウムは、ＴＯＣ成分の分解反応後、硫酸と硫
酸ナトリウムとなって存在するため、加熱分解装置の後
段で除去する必要がある。このため、多量の酸化剤を必
要とすることは、薬剤コストの高騰のみならず、後段設
備の負荷の増大の問題も引き起こすこととなる。
硫酸ナトリウムは、ＴＯＣ成分の分解反応後、硫酸と硫
酸ナトリウムとなって存在するため、加熱分解装置の後
段で除去する必要がある。このため、多量の酸化剤を必
要とすることは、薬剤コストの高騰のみならず、後段設
備の負荷の増大の問題も引き起こすこととなる。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、原水
を酸化剤の存在下で加熱処理して原水中のＴＯＣ成分を
分解した後、脱イオン処理することにより原水中の有機
物を除去する方法において、酸化剤の使用量を大幅に低
減する有機物の除去方法を提供することを目的とする。
を酸化剤の存在下で加熱処理して原水中のＴＯＣ成分を
分解した後、脱イオン処理することにより原水中の有機
物を除去する方法において、酸化剤の使用量を大幅に低
減する有機物の除去方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の有機物の除去方
法は、原水を酸化剤の存在下で加熱処理して原水中のＴ
ＯＣ成分を分解した後、脱イオン処理することにより原
水中の有機物を除去する方法において、原水に酸素と、
酸化剤として過硫酸及び／又は過硫酸塩とを添加した
後、加熱処理することを特徴とする。なお、以下におい
て、過硫酸塩と過硫酸とを「過硫酸塩等」と称する場合
がある。
法は、原水を酸化剤の存在下で加熱処理して原水中のＴ
ＯＣ成分を分解した後、脱イオン処理することにより原
水中の有機物を除去する方法において、原水に酸素と、
酸化剤として過硫酸及び／又は過硫酸塩とを添加した
後、加熱処理することを特徴とする。なお、以下におい
て、過硫酸塩と過硫酸とを「過硫酸塩等」と称する場合
がある。
【０００９】原水中のＴＯＣ成分がすべてイソプロピル
アルコール（ＩＰＡ：Ｃ3 Ｈ7 ＯＨ，このＩＰＡは、半
導体洗浄廃水を回収し、これを原水として純水を得る場
合に洗浄廃水に含まれている代表的な物質である。）で
あることを想定し、これを過硫酸塩としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ
8 を用いて加熱分解法で処理する場合、次のような反応
式に従って分解反応が起こる。
アルコール（ＩＰＡ：Ｃ3 Ｈ7 ＯＨ，このＩＰＡは、半
導体洗浄廃水を回収し、これを原水として純水を得る場
合に洗浄廃水に含まれている代表的な物質である。）で
あることを想定し、これを過硫酸塩としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ
8 を用いて加熱分解法で処理する場合、次のような反応
式に従って分解反応が起こる。
【００１０】C3H7OH＋9Na2S2O8＋9H2 O →3CO2＋4H2 O
＋9Na2SO4 ＋9H2 SO4 上記反応式より明らかなように、１モルのＩＰＡ（３モ
ルの炭素）に対して９モルのＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 が必要であ
る。これを濃度で表すと、１ｐｐｍのＴＯＣの酸化分解
には５９．５ｐｐｍのＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 （Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 で
あれば６７．５ｐｐｍ）を要することとなる。従って、
ＴＯＣ１ｍｇ／Ｌ当り、過硫酸塩７０ｍｇ／Ｌ程度の添
加が好ましいと考えられている。
＋9Na2SO4 ＋9H2 SO4 上記反応式より明らかなように、１モルのＩＰＡ（３モ
ルの炭素）に対して９モルのＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 が必要であ
る。これを濃度で表すと、１ｐｐｍのＴＯＣの酸化分解
には５９．５ｐｐｍのＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 （Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 で
あれば６７．５ｐｐｍ）を要することとなる。従って、
ＴＯＣ１ｍｇ／Ｌ当り、過硫酸塩７０ｍｇ／Ｌ程度の添
加が好ましいと考えられている。
【００１１】しかしながら、通常の加熱分解処理におい
ては、１ｐｐｍのＴＯＣに対し、５９．５ｐｐｍより低
いおおよそ３０ｐｐｍ程度のＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 （即ち、上
述の理論量の５０％程度）を添加すれば、良好な処理水
が得られる。
ては、１ｐｐｍのＴＯＣに対し、５９．５ｐｐｍより低
いおおよそ３０ｐｐｍ程度のＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 （即ち、上
述の理論量の５０％程度）を添加すれば、良好な処理水
が得られる。
【００１２】本発明者らは、この加熱分解法により、処
理水中のＴＯＣを数十ｐｐｂレベル以下に低減させるた
めの過硫酸塩等の必要添加量／原水のＴＯＣ比について
より詳細に検討を行ったところ、この比は一定ではな
く、原水中のＴＯＣ濃度がある範囲以上に上昇すると増
加し、単位量のＴＯＣを分解するために多くの過硫酸塩
等の添加が必要になることを確認した。この現象につい
て、更に鋭意解析を行った結果、加熱分解法によるＴＯ
Ｃ分解では、酸化剤としての過硫酸塩等だけでなく原水
中の溶存酸素も寄与していることを見出した。
理水中のＴＯＣを数十ｐｐｂレベル以下に低減させるた
めの過硫酸塩等の必要添加量／原水のＴＯＣ比について
より詳細に検討を行ったところ、この比は一定ではな
く、原水中のＴＯＣ濃度がある範囲以上に上昇すると増
加し、単位量のＴＯＣを分解するために多くの過硫酸塩
等の添加が必要になることを確認した。この現象につい
て、更に鋭意解析を行った結果、加熱分解法によるＴＯ
Ｃ分解では、酸化剤としての過硫酸塩等だけでなく原水
中の溶存酸素も寄与していることを見出した。
【００１３】この知見をもとに、本発明者らは、原水中
のＴＯＣの加熱分解処理においては、原水の溶存酸素濃
度を予め高めることによって、過硫酸塩等の必要添加量
／原水のＴＯＣ比を、低濃度ＴＯＣの原水の処理の場合
と同等に保つことができ、従来に比べ過硫酸塩等の添加
量を大幅に低減できることを見出し、本発明を完成し
た。
のＴＯＣの加熱分解処理においては、原水の溶存酸素濃
度を予め高めることによって、過硫酸塩等の必要添加量
／原水のＴＯＣ比を、低濃度ＴＯＣの原水の処理の場合
と同等に保つことができ、従来に比べ過硫酸塩等の添加
量を大幅に低減できることを見出し、本発明を完成し
た。
【００１４】このような本発明の方法は、特に、ＴＯＣ
が４〜５ｐｐｍ或いはそれ以上の、比較的ＴＯＣ濃度の
高い原水の処理に有効であるが、ＴＯＣ１〜２ｐｐｍ程
度の原水であっても過硫酸塩等の必要添加量を有効に低
減できる。
が４〜５ｐｐｍ或いはそれ以上の、比較的ＴＯＣ濃度の
高い原水の処理に有効であるが、ＴＯＣ１〜２ｐｐｍ程
度の原水であっても過硫酸塩等の必要添加量を有効に低
減できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
を参照して詳細に説明する。
を参照して詳細に説明する。
【００１６】図１は本発明の有機物の除去方法の酸素添
加手段の実施の形態を示す系統図である。
加手段の実施の形態を示す系統図である。
【００１７】本発明の有機物の除去方法においては、必
要に応じて前処理を施した原水に、酸素と、酸化剤とし
て過硫酸塩等を添加して加熱分解処理した後、脱イオン
処理し、更に必要に応じて後処理する。なお、酸素は、
加熱分解処理で酸化剤が消費される前に添加すれば良
く、酸化剤添加の前後どちらでも良い。
要に応じて前処理を施した原水に、酸素と、酸化剤とし
て過硫酸塩等を添加して加熱分解処理した後、脱イオン
処理し、更に必要に応じて後処理する。なお、酸素は、
加熱分解処理で酸化剤が消費される前に添加すれば良
く、酸化剤添加の前後どちらでも良い。
【００１８】原水としては、一般に半導体又は液晶洗浄
工程からの回収水、工水、市水、井水及びこれらを混合
したものが用いられ、半導体洗浄工程からの回収水につ
いては、適当な前処理工程を経た後、加熱分解処理工程
に導入するのが好ましい。
工程からの回収水、工水、市水、井水及びこれらを混合
したものが用いられ、半導体洗浄工程からの回収水につ
いては、適当な前処理工程を経た後、加熱分解処理工程
に導入するのが好ましい。
【００１９】前処理工程としては、原水水質に応じて任
意の手段を設けることができ、例えば、凝集、濾過、浮
上、吸着、イオン交換などの手段を採用することができ
る。具体的な前処理工程としては、次の(i) 〜(iii) が
挙げられる。特に、半導体洗浄工程からの回収水につい
ては、下記(iii) の前処理により、活性炭吸着塔で含有
されるＨ2 Ｏ2 を除去した後、強アニオン交換塔でフッ
素の除去を行って加熱分解処理工程に導入するのが好ま
しい。
意の手段を設けることができ、例えば、凝集、濾過、浮
上、吸着、イオン交換などの手段を採用することができ
る。具体的な前処理工程としては、次の(i) 〜(iii) が
挙げられる。特に、半導体洗浄工程からの回収水につい
ては、下記(iii) の前処理により、活性炭吸着塔で含有
されるＨ2 Ｏ2 を除去した後、強アニオン交換塔でフッ
素の除去を行って加熱分解処理工程に導入するのが好ま
しい。
【００２０】(i) 凝集・加圧浮上・濾過装置 (ii) イオン交換塔 (iii) 活性炭吸着塔→アニオン交換塔 本発明において、原水に酸素を添加して、溶存酸素濃度
を高める方法としては、例えば、次のような方法が挙げ
られる。
を高める方法としては、例えば、次のような方法が挙げ
られる。
【００２１】即ち、一般に、水の飽和溶存酸素濃度は常
温で８ｐｐｍ程度であることは周知の事実であるが、こ
れは窒素（及び他の微量成分）との混合系である空気成
分と平衡状態における溶存酸素濃度である。従って、何
らかの手段によって原水と接する気体の酸素分圧を高め
れば、溶存酸素濃度は８ｐｐｍ以上に容易に高めること
ができる。また、加熱分解装置へ原水を送水するポンプ
の出口側（反応装置側）では、原水は加圧されているの
で、大気圧下での溶解度以上に気体を溶解することがで
きる。この高圧部に、酸素又は空気を圧入することによ
っても、原水の溶存酸素濃度を高めることができる。な
お、酸素又は空気は必ずしも完全に原水中に溶解してい
る必要はない。即ち、加熱分解装置内で未溶解のまま残
る気体中の酸素は、加熱分解反応中の溶存酸素の消費と
並行して水に溶解していき、溶存酸素濃度を保つ効果を
持つ。
温で８ｐｐｍ程度であることは周知の事実であるが、こ
れは窒素（及び他の微量成分）との混合系である空気成
分と平衡状態における溶存酸素濃度である。従って、何
らかの手段によって原水と接する気体の酸素分圧を高め
れば、溶存酸素濃度は８ｐｐｍ以上に容易に高めること
ができる。また、加熱分解装置へ原水を送水するポンプ
の出口側（反応装置側）では、原水は加圧されているの
で、大気圧下での溶解度以上に気体を溶解することがで
きる。この高圧部に、酸素又は空気を圧入することによ
っても、原水の溶存酸素濃度を高めることができる。な
お、酸素又は空気は必ずしも完全に原水中に溶解してい
る必要はない。即ち、加熱分解装置内で未溶解のまま残
る気体中の酸素は、加熱分解反応中の溶存酸素の消費と
並行して水に溶解していき、溶存酸素濃度を保つ効果を
持つ。
【００２２】従って、本発明において、原水に酸素を添
加する手段としては、例えば、次のＩ−VIの方法が挙げ
られる。なお、下記Ｉ−VIは、本発明に係る酸素添加手
段の一例を示すものであり、本発明は何らこれらの方法
に限定されるものではない。 Ｉ 図１（ａ）に示す如く、原水を処理槽１に導入し
て、酸素又は酸素富化空気をバブリングする方法。この
原水は、その後ポンプ２により、酸化剤添加後、加熱分
解反応器３に導入される。
加する手段としては、例えば、次のＩ−VIの方法が挙げ
られる。なお、下記Ｉ−VIは、本発明に係る酸素添加手
段の一例を示すものであり、本発明は何らこれらの方法
に限定されるものではない。 Ｉ 図１（ａ）に示す如く、原水を処理槽１に導入し
て、酸素又は酸素富化空気をバブリングする方法。この
原水は、その後ポンプ２により、酸化剤添加後、加熱分
解反応器３に導入される。
【００２３】II 図１（ｂ）に示す如く、原水を気体透
過膜モジュール４に導入し、このモジュール４で酸素又
は酸素富化空気を注入する方法。この原水は、その後ポ
ンプ２により、酸化剤添加後、加熱分解反応器３に導入
される。
過膜モジュール４に導入し、このモジュール４で酸素又
は酸素富化空気を注入する方法。この原水は、その後ポ
ンプ２により、酸化剤添加後、加熱分解反応器３に導入
される。
【００２４】なお、上記Ｉ，IIの手段に先立ち、真空脱
気や気体透過膜モジュールによる減圧膜脱気等で、原水
中の全溶存気体（特に溶存窒素）濃度を減少させておく
ことも、酸素溶解効率を高める上で効果的である。ま
た、気体透過膜モジュールの気相部を減圧しつつ酸素を
供給する方法も、予備処理として適当である。これらの
方法は、反応器３への送水ポンプ２の上流側での処理に
適当である。
気や気体透過膜モジュールによる減圧膜脱気等で、原水
中の全溶存気体（特に溶存窒素）濃度を減少させておく
ことも、酸素溶解効率を高める上で効果的である。ま
た、気体透過膜モジュールの気相部を減圧しつつ酸素を
供給する方法も、予備処理として適当である。これらの
方法は、反応器３への送水ポンプ２の上流側での処理に
適当である。
【００２５】III 図１（ｃ）に示す如く、原水を加熱
分解反応器３に導入するポンプ２の出口側でコンプレッ
サー等で原水に圧縮空気等の酸素含有ガスを注入する方
法。 IV 原水を加熱分解反応器３に導入するポンプ２の入口
側の配管にエゼクター等を使って常圧又は加圧の空気又
は酸素を吸い込ませる方法。 Ｖ 加熱分解反応部を多段式にし、各段の中間部を大気
開放型にして溶存酸素を増加させる方法。 VI 上記Ｖの方法で、各段の中間部において前記Ｉ又は
IIを行う方法。
分解反応器３に導入するポンプ２の出口側でコンプレッ
サー等で原水に圧縮空気等の酸素含有ガスを注入する方
法。 IV 原水を加熱分解反応器３に導入するポンプ２の入口
側の配管にエゼクター等を使って常圧又は加圧の空気又
は酸素を吸い込ませる方法。 Ｖ 加熱分解反応部を多段式にし、各段の中間部を大気
開放型にして溶存酸素を増加させる方法。 VI 上記Ｖの方法で、各段の中間部において前記Ｉ又は
IIを行う方法。
【００２６】本発明において、原水への酸素の添加量
は、原水中のＴＯＣ濃度や酸化剤添加量の低減割合、目
標とする処理水ＴＯＣ、その他の諸条件により異なる
が、ＴＯＣ成分としてＩＰＡを対象とした時のＴＯＣ４
ｐｐｍ以上の原水の場合、原水中の溶存酸素濃度を大気
との平衡状態の飽和濃度である８ｐｐｍ以上（過飽和）
とすることができるような添加量とするのが好ましい。
この溶存酸素濃度が８ｐｐｍ未満では、本発明による酸
化剤低減効果が十分に得られない。酸素添加量は、酸素
添加後の原水の溶存酸素濃度を溶存酸素濃度計で測定
し、この測定値に基いて上記溶存酸素濃度となるように
制御してもよい。
は、原水中のＴＯＣ濃度や酸化剤添加量の低減割合、目
標とする処理水ＴＯＣ、その他の諸条件により異なる
が、ＴＯＣ成分としてＩＰＡを対象とした時のＴＯＣ４
ｐｐｍ以上の原水の場合、原水中の溶存酸素濃度を大気
との平衡状態の飽和濃度である８ｐｐｍ以上（過飽和）
とすることができるような添加量とするのが好ましい。
この溶存酸素濃度が８ｐｐｍ未満では、本発明による酸
化剤低減効果が十分に得られない。酸素添加量は、酸素
添加後の原水の溶存酸素濃度を溶存酸素濃度計で測定
し、この測定値に基いて上記溶存酸素濃度となるように
制御してもよい。
【００２７】本発明において、酸化剤としては、パーオ
キシ二硫酸ナトリウム（Ｎａ2 Ｓ2Ｏ8 ）、パーオキシ
二硫酸カリウム（Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 ）、パーオキシ二硫酸ア
ンモニウム（（ＮＨ4 ）2 Ｓ2 Ｏ8 ）等の過硫酸塩や過
硫酸（Ｈ2 Ｓ2 Ｏ8 ）が挙げられるが、Ｎａ2 Ｓ
2 Ｏ8 ，Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 などの過硫酸塩が好適である。
キシ二硫酸ナトリウム（Ｎａ2 Ｓ2Ｏ8 ）、パーオキシ
二硫酸カリウム（Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 ）、パーオキシ二硫酸ア
ンモニウム（（ＮＨ4 ）2 Ｓ2 Ｏ8 ）等の過硫酸塩や過
硫酸（Ｈ2 Ｓ2 Ｏ8 ）が挙げられるが、Ｎａ2 Ｓ
2 Ｏ8 ，Ｋ2 Ｓ2 Ｏ8 などの過硫酸塩が好適である。
【００２８】酸化剤としての過硫酸塩等の添加量は、上
記酸素添加による原水中の溶存酸素濃度等によっても異
なるが、原水中のＴＯＣ１重量部当りＳ2 Ｏ8 2- として
１５〜３５重量部の範囲とするのが好ましい。ＴＯＣ１
重量部当りのＳ2 Ｏ8 2- 換算の過硫酸塩等の添加量がこ
の範囲よりも少ないと、酸化剤が不足し、ＴＯＣが多く
残留し、逆にこの範囲より多いと、酸化剤が過剰とな
り、後段の装置に負荷をかけ、後段装置からＴＯＣ成分
を溶出させるなどの不具合を生じる。
記酸素添加による原水中の溶存酸素濃度等によっても異
なるが、原水中のＴＯＣ１重量部当りＳ2 Ｏ8 2- として
１５〜３５重量部の範囲とするのが好ましい。ＴＯＣ１
重量部当りのＳ2 Ｏ8 2- 換算の過硫酸塩等の添加量がこ
の範囲よりも少ないと、酸化剤が不足し、ＴＯＣが多く
残留し、逆にこの範囲より多いと、酸化剤が過剰とな
り、後段の装置に負荷をかけ、後段装置からＴＯＣ成分
を溶出させるなどの不具合を生じる。
【００２９】本発明では、特に、ＴＯＣ成分としてＩＰ
Ａを対象とした場合のＴＯＣ４ｐｐｍ以上の原水に対
し、溶存酸素濃度が８ｐｐｍ以上となるように酸素を添
加した後、ＴＯＣ１重量部当りＳ2 Ｏ8 2- ２０〜３５重
量部となるように過硫酸塩等を添加するのが好ましい。
Ａを対象とした場合のＴＯＣ４ｐｐｍ以上の原水に対
し、溶存酸素濃度が８ｐｐｍ以上となるように酸素を添
加した後、ＴＯＣ１重量部当りＳ2 Ｏ8 2- ２０〜３５重
量部となるように過硫酸塩等を添加するのが好ましい。
【００３０】本発明において酸化剤添加後の加熱分解処
理における加熱温度は、９０℃以上、特に１１０〜１５
０℃とするのが好ましく、また、加熱分解反応時間は、
加熱温度や原水ＴＯＣや溶存酸素濃度及び酸化剤の添加
量によっても異なるが、通常の場合１〜１５分とするの
が好ましい。
理における加熱温度は、９０℃以上、特に１１０〜１５
０℃とするのが好ましく、また、加熱分解反応時間は、
加熱温度や原水ＴＯＣや溶存酸素濃度及び酸化剤の添加
量によっても異なるが、通常の場合１〜１５分とするの
が好ましい。
【００３１】この加熱分解処理に際しては、触媒として
白金担持触媒、白金メッキ触媒等の白金系の酸化触媒に
接触させても良い。
白金担持触媒、白金メッキ触媒等の白金系の酸化触媒に
接触させても良い。
【００３２】なお、加熱分解処理のｐＨ条件について
は、特に調整の必要はないが、酸性側の方がＴＯＣが分
解し易い。通常、中性の原水に過硫酸塩等を添加すると
ＴＯＣ成分の酸化分解もしくは酸化剤の自己分解によ
り、Ｈ2 ＳＯ4 が生成され、ｐＨは酸性側となるので、
特にｐＨ調整の必要はない。
は、特に調整の必要はないが、酸性側の方がＴＯＣが分
解し易い。通常、中性の原水に過硫酸塩等を添加すると
ＴＯＣ成分の酸化分解もしくは酸化剤の自己分解によ
り、Ｈ2 ＳＯ4 が生成され、ｐＨは酸性側となるので、
特にｐＨ調整の必要はない。
【００３３】加熱分解処理水は、次いで、脱イオン処理
に供するが、この脱イオン処理に先立ち、必要に応じ
て、酸化剤除去処理を行う。
に供するが、この脱イオン処理に先立ち、必要に応じ
て、酸化剤除去処理を行う。
【００３４】即ち、加熱分解工程における過剰の酸化剤
が加熱分解処理水中に含有されて脱イオン処理工程に流
入すると、脱イオン処理工程の逆浸透膜やイオン交換樹
脂を酸化劣化させ、劣化した樹脂の溶出によるＴＯＣの
増加や装置寿命の低減等の問題を生じる。
が加熱分解処理水中に含有されて脱イオン処理工程に流
入すると、脱イオン処理工程の逆浸透膜やイオン交換樹
脂を酸化劣化させ、劣化した樹脂の溶出によるＴＯＣの
増加や装置寿命の低減等の問題を生じる。
【００３５】本発明においては、酸化剤としての過硫酸
塩等の添加量が少ないことから、加熱分解処理水中に含
まれる過硫酸塩等の量は少なく、従って、酸化剤除去処
理は必ずしも必要とされないが、酸化剤除去処理を行う
ことにより、酸化剤による脱イオン処理工程への影響を
確実に防止することができる。
塩等の添加量が少ないことから、加熱分解処理水中に含
まれる過硫酸塩等の量は少なく、従って、酸化剤除去処
理は必ずしも必要とされないが、酸化剤除去処理を行う
ことにより、酸化剤による脱イオン処理工程への影響を
確実に防止することができる。
【００３６】この酸化剤除去処理手段としては、活性炭
及び／又は適当な触媒を充填した充填塔を採用すること
ができる。
及び／又は適当な触媒を充填した充填塔を採用すること
ができる。
【００３７】活性炭としては、粒状、粉状、繊維状のい
ずれでも良いが、特に粒状か繊維状のものが通水効率の
面で有利である。活性炭のタイプ（ヤシガラ系、石炭
系、その他）には特に制限はない。一方、触媒として
は、一般に用いられている白金系、パラジウム系のもの
など、多様なものを用いることができる。
ずれでも良いが、特に粒状か繊維状のものが通水効率の
面で有利である。活性炭のタイプ（ヤシガラ系、石炭
系、その他）には特に制限はない。一方、触媒として
は、一般に用いられている白金系、パラジウム系のもの
など、多様なものを用いることができる。
【００３８】上記活性炭及び触媒は、そのいずれか一方
を用いるだけでも目的は達せられるが、場合によって、
両者を併用しても良い。その他、酸化剤除去手段として
は、紫外線照射も採用可能である。
を用いるだけでも目的は達せられるが、場合によって、
両者を併用しても良い。その他、酸化剤除去手段として
は、紫外線照射も採用可能である。
【００３９】酸化剤除去処理条件は、加熱分解処理水中
に残留する過硫酸塩等が、後段の脱イオン処理工程のイ
オン交換樹脂や逆浸透膜を酸化劣化させない程度の、十
分低濃度にまで除去できるような条件であれば良く、加
熱分解処理水中の残留過硫酸塩等の濃度や、酸化剤除去
工程の仕様、即ち、活性炭や触媒の形状、粒径、充填量
等によって適宜決定される。例えば、１０ｐｐｍの残留
Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ5 を含む加熱分解処理水を、２０／４０メ
ッシュの粒状活性炭充填塔で処理する場合、ＳＶ＝４０
ｈｒ-1程度以下とするのが好ましい。
に残留する過硫酸塩等が、後段の脱イオン処理工程のイ
オン交換樹脂や逆浸透膜を酸化劣化させない程度の、十
分低濃度にまで除去できるような条件であれば良く、加
熱分解処理水中の残留過硫酸塩等の濃度や、酸化剤除去
工程の仕様、即ち、活性炭や触媒の形状、粒径、充填量
等によって適宜決定される。例えば、１０ｐｐｍの残留
Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ5 を含む加熱分解処理水を、２０／４０メ
ッシュの粒状活性炭充填塔で処理する場合、ＳＶ＝４０
ｈｒ-1程度以下とするのが好ましい。
【００４０】なお、加熱分解処理水は、通常ｐＨ４以下
の酸性であるので、このような残留酸化剤除去装置を腐
食から保護するために、加熱分解処理工程と酸化剤除去
工程との間にｐＨ調整のためのアルカリ注入手段を設
け、酸性水を中和した後、酸化剤除去工程に導入するの
が好ましい。
の酸性であるので、このような残留酸化剤除去装置を腐
食から保護するために、加熱分解処理工程と酸化剤除去
工程との間にｐＨ調整のためのアルカリ注入手段を設
け、酸性水を中和した後、酸化剤除去工程に導入するの
が好ましい。
【００４１】本発明において、脱イオン処理手段として
は、イオン交換塔、逆浸透膜分離装置等を必要に応じて
組み合せて用いることができる。即ち、例えば、イオン
交換塔→逆浸透膜分離装置、逆浸透膜分離装置→イオン
交換塔、或いは、逆浸透膜分離装置→逆浸透膜分離装置
とすることができる。
は、イオン交換塔、逆浸透膜分離装置等を必要に応じて
組み合せて用いることができる。即ち、例えば、イオン
交換塔→逆浸透膜分離装置、逆浸透膜分離装置→イオン
交換塔、或いは、逆浸透膜分離装置→逆浸透膜分離装置
とすることができる。
【００４２】また、後処理手段としては、要求される処
理水水質に応じて、任意の手段を採用することができ、
紫外線酸化による殺菌、ＴＯＣ分解、或いは、イオン交
換、逆浸透膜分離、精密濾過膜分離、限外濾過膜分離装
置等、一般には超純水製造における二次純水製造工程
（サブシステム）に相当する工程、即ち、低圧紫外線照
射装置（有機物分解）→混床式イオン交換塔（非再生型
イオン交換器：分解生成物の除去）→限外濾過膜分離装
置（イオン交換塔から流出するイオン交換樹脂の微粒子
の分離）が採用される。
理水水質に応じて、任意の手段を採用することができ、
紫外線酸化による殺菌、ＴＯＣ分解、或いは、イオン交
換、逆浸透膜分離、精密濾過膜分離、限外濾過膜分離装
置等、一般には超純水製造における二次純水製造工程
（サブシステム）に相当する工程、即ち、低圧紫外線照
射装置（有機物分解）→混床式イオン交換塔（非再生型
イオン交換器：分解生成物の除去）→限外濾過膜分離装
置（イオン交換塔から流出するイオン交換樹脂の微粒子
の分離）が採用される。
【００４３】脱イオン処理工程及び後処理工程の具体例
としては、次の(i) 〜(v) が挙げられる。
としては、次の(i) 〜(v) が挙げられる。
【００４４】(i) 脱炭酸塔→アニオン交換塔→逆浸透
膜分離装置→二次純水製造工程 (ii) 逆浸透膜分離装置→低圧逆浸透膜分離装置→二次
純水製造工程 (iii) カチオン交換塔→脱炭酸塔→アニオン交換塔→逆
浸透膜分離装置→二次純水製造工程 (iv) 弱アニオン交換塔→強カチオン交換塔→強アニオ
ン交換塔→二次純水製造工程 (v) 逆浸透膜分離装置→イオン交換塔（混床式イオン
交換塔又は（強カチオン交換塔→強アニオン交換塔））
→二次純水製造工程 これら脱イオン処理工程及び後処理工程の装置は予め加
熱処理によりＴＯＣ成分を除去している上に、酸化剤と
しての過硫酸塩等の添加量も少ないため、負荷が軽減さ
れ、小容量小型装置を採用できる。
膜分離装置→二次純水製造工程 (ii) 逆浸透膜分離装置→低圧逆浸透膜分離装置→二次
純水製造工程 (iii) カチオン交換塔→脱炭酸塔→アニオン交換塔→逆
浸透膜分離装置→二次純水製造工程 (iv) 弱アニオン交換塔→強カチオン交換塔→強アニオ
ン交換塔→二次純水製造工程 (v) 逆浸透膜分離装置→イオン交換塔（混床式イオン
交換塔又は（強カチオン交換塔→強アニオン交換塔））
→二次純水製造工程 これら脱イオン処理工程及び後処理工程の装置は予め加
熱処理によりＴＯＣ成分を除去している上に、酸化剤と
しての過硫酸塩等の添加量も少ないため、負荷が軽減さ
れ、小容量小型装置を採用できる。
【００４５】このような本発明の有機物の除去方法は、
特に、ＴＯＣ４〜５ｐｐｍ、或いはそれ以上の比較的Ｔ
ＯＣ濃度の高い水を処理する場合に有効で、顕著な酸化
剤の必要添加量の低減効果を得ることができるが、ＴＯ
Ｃ１ｐｐｍ程度の原水であっても酸化剤添加量の低減効
果を十分に得ることができる。
特に、ＴＯＣ４〜５ｐｐｍ、或いはそれ以上の比較的Ｔ
ＯＣ濃度の高い水を処理する場合に有効で、顕著な酸化
剤の必要添加量の低減効果を得ることができるが、ＴＯ
Ｃ１ｐｐｍ程度の原水であっても酸化剤添加量の低減効
果を十分に得ることができる。
【００４６】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００４７】実施例１，２、比較例１ 有機系排水の模擬液として、試薬特級のＩＰＡを超純水
に溶解した水を原水とし、酸化剤としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ8
を用い、ＴＯＣの加熱分解実験を行った。
に溶解した水を原水とし、酸化剤としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ8
を用い、ＴＯＣの加熱分解実験を行った。
【００４８】反応温度を１３０℃、反応時間を５分間、
原水ＴＯＣを９ｐｐｍに固定し、下記の溶存酸素濃度条
件で、処理水のＴＯＣを２０ｐｐｂ以下にするために必
要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量及び原水ＴＯＣに対するＮａ
2 Ｓ2 Ｏ8 注入量の割合を調べ、結果を表１に示した。
原水ＴＯＣを９ｐｐｍに固定し、下記の溶存酸素濃度条
件で、処理水のＴＯＣを２０ｐｐｂ以下にするために必
要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量及び原水ＴＯＣに対するＮａ
2 Ｓ2 Ｏ8 注入量の割合を調べ、結果を表１に示した。
【００４９】溶存酸素濃度条件 比較例１：溶存酸素無調整（溶存酸素濃度７．２ｐｐ
ｍ） 実施例１：酸素バブリングにより原水の溶存酸素濃度を
１２ｐｐｍに高めた 実施例２：酸素バブリングにより原水の溶存酸素濃度を
２４．５ｐｐｍに高めた
ｍ） 実施例１：酸素バブリングにより原水の溶存酸素濃度を
１２ｐｐｍに高めた 実施例２：酸素バブリングにより原水の溶存酸素濃度を
２４．５ｐｐｍに高めた
【００５０】
【表１】
【００５１】表１より明らかなように、バブリングによ
って原水の溶存酸素濃度を高めることによって、酸化剤
の必要量を低減できる。特に、実施例２では、溶存酸素
無処理の比較例１の場合に比べて約３１％もの酸化剤の
低減が図れる。
って原水の溶存酸素濃度を高めることによって、酸化剤
の必要量を低減できる。特に、実施例２では、溶存酸素
無処理の比較例１の場合に比べて約３１％もの酸化剤の
低減が図れる。
【００５２】実施例３〜６、比較例２〜５ 基板洗浄薬液に由来する数種類の有機物を含む実際の排
水を原水とし、酸化剤としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 を用い、Ｔ
ＯＣの加熱分解実験を行った。
水を原水とし、酸化剤としてＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 を用い、Ｔ
ＯＣの加熱分解実験を行った。
【００５３】反応温度を１３０℃、反応時間を５分間と
し、表２に示すＴＯＣの原水を、下記溶存酸素濃度条件
で処理する場合の、処理水のＴＯＣを２０ｐｐｂ以下に
するために必要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量及び原水ＴＯＣ
に対するＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量の割合を調べ、結果を表
２に示した。
し、表２に示すＴＯＣの原水を、下記溶存酸素濃度条件
で処理する場合の、処理水のＴＯＣを２０ｐｐｂ以下に
するために必要なＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量及び原水ＴＯＣ
に対するＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 注入量の割合を調べ、結果を表
２に示した。
【００５４】溶存酸素濃度条件 比較例２〜５：溶存酸素無調整（溶存酸素濃度７．０ｐ
ｐｍ） 実施例３〜６：加圧ポンプ出口と反応器の間にコンプレ
ッサーによる加圧空気（０．８ＭＰａ）を、原水１容量
に対し０．５容量（常圧換算）定量注入した（溶存酸素
過飽和とした）。
ｐｍ） 実施例３〜６：加圧ポンプ出口と反応器の間にコンプレ
ッサーによる加圧空気（０．８ＭＰａ）を、原水１容量
に対し０．５容量（常圧換算）定量注入した（溶存酸素
過飽和とした）。
【００５５】
【表２】
【００５６】表２より明らかなように、加圧空気を注入
し、原水の溶存酸素濃度を高めることによって、溶存酸
素無処理の場合に比べて９〜４５％の酸化剤が低減でき
た。また、溶存酸素濃度増加による必要酸化剤添加量低
減の効果は、原水ＴＯＣ濃度が高いときほど顕著であっ
たが、ＴＯＣ濃度の低い原水に対しても、効果を発揮す
ることが確認できた。
し、原水の溶存酸素濃度を高めることによって、溶存酸
素無処理の場合に比べて９〜４５％の酸化剤が低減でき
た。また、溶存酸素濃度増加による必要酸化剤添加量低
減の効果は、原水ＴＯＣ濃度が高いときほど顕著であっ
たが、ＴＯＣ濃度の低い原水に対しても、効果を発揮す
ることが確認できた。
【００５７】実施例７ 図２に示す純水製造システムにより、下記原水を通水処
理した。
理した。
【００５８】原水：原水１（ＩＰＡ溶解超純水，ＴＯ
Ｃ：２０．２ｐｐｍ）と原水２（厚木市水，ＴＯＣ：
０．８ｐｐｍ）とを原水１：原水２＝１：２の割合で混
合した水（ＴＯＣ：７ｐｐｍ，ＤＯ：７．０ｐｐｍ） 本実施例のシステムでは、原水を加温熱交換器１１で加
熱した後、酸素を注入し、次いで、酸化剤としてＮａ2
Ｓ2 Ｏ8 を添加し、加熱分解反応器１２でＴＯＣの加熱
分解を行う。加熱分解処理水は、次いで冷却熱交換器１
３で冷却した後、中和用のＮａＯＨを添加し、活性炭塔
１４で残留Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ8 の除去を行う。次いで、流量
調整用のタンク１５を経て逆浸透膜分離装置１６、イオ
ン交換塔１７に順次通水して処理水を得た。各部の仕様
及び処理条件は下記の通りである。なお、図２中、カッ
コ内の数値は、各部の通水流量である。また、〜は
サンプリングポイントを示す。
Ｃ：２０．２ｐｐｍ）と原水２（厚木市水，ＴＯＣ：
０．８ｐｐｍ）とを原水１：原水２＝１：２の割合で混
合した水（ＴＯＣ：７ｐｐｍ，ＤＯ：７．０ｐｐｍ） 本実施例のシステムでは、原水を加温熱交換器１１で加
熱した後、酸素を注入し、次いで、酸化剤としてＮａ2
Ｓ2 Ｏ8 を添加し、加熱分解反応器１２でＴＯＣの加熱
分解を行う。加熱分解処理水は、次いで冷却熱交換器１
３で冷却した後、中和用のＮａＯＨを添加し、活性炭塔
１４で残留Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ8 の除去を行う。次いで、流量
調整用のタンク１５を経て逆浸透膜分離装置１６、イオ
ン交換塔１７に順次通水して処理水を得た。各部の仕様
及び処理条件は下記の通りである。なお、図２中、カッ
コ内の数値は、各部の通水流量である。また、〜は
サンプリングポイントを示す。
【００５９】酸素注入量：酸素注入後の溶存酸素濃度１
５ｐｐｍ Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ8 添加量：２１７ｐｐｍ 加熱分解反応器： 反応器容量＝１０リットル 反応温度＝１３０℃ 平均滞留時間＝５分間 活性炭塔： 活性炭＝栗田工業（株）製「クリコールＷＧ−１６０
２０／４０」を３リットル充填 ＳＶ＝４０ｈｒ-1 逆浸透膜分離装置： 装置＝日東電工（株）製「ＮＴＵ ７２９ ＨＲＳ２」 透過水回収率＝７０％ イオン交換塔： イオン交換樹脂＝三菱化学（株）製「ダイヤイオンＳＭ
Ｎ−ＵＰ」（強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオ
ン交換樹脂との混合品）を５００ｍｌ充填 ＳＶ＝２９．４ｈｒ-1 各部で採取した水の水質を分析し、結果を表３に示し
た。
５ｐｐｍ Ｎａ2 Ｓ2 Ｏ8 添加量：２１７ｐｐｍ 加熱分解反応器： 反応器容量＝１０リットル 反応温度＝１３０℃ 平均滞留時間＝５分間 活性炭塔： 活性炭＝栗田工業（株）製「クリコールＷＧ−１６０
２０／４０」を３リットル充填 ＳＶ＝４０ｈｒ-1 逆浸透膜分離装置： 装置＝日東電工（株）製「ＮＴＵ ７２９ ＨＲＳ２」 透過水回収率＝７０％ イオン交換塔： イオン交換樹脂＝三菱化学（株）製「ダイヤイオンＳＭ
Ｎ−ＵＰ」（強酸性カチオン交換樹脂と強塩基性アニオ
ン交換樹脂との混合品）を５００ｍｌ充填 ＳＶ＝２９．４ｈｒ-1 各部で採取した水の水質を分析し、結果を表３に示し
た。
【００６０】比較例６ 酸素の注入を行わなかったこと以外は実施例７と全く同
様にして処理を行い、結果を表３に示した。
様にして処理を行い、結果を表３に示した。
【００６１】
【表３】
【００６２】表３より、酸素を注入した実施例７ではＴ
ＯＣ１重量部に対するＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 添加量がＳ2 Ｏ8
2- 換算で約２５重量部の加熱分解処理で、ＴＯＣの極
めて少ない純水が得られることが明らかである。これに
対して、酸素を注入していない比較例６では、酸化剤が
不足するため、十分なＴＯＣ除去を行えない。
ＯＣ１重量部に対するＮａ2 Ｓ2 Ｏ8 添加量がＳ2 Ｏ8
2- 換算で約２５重量部の加熱分解処理で、ＴＯＣの極
めて少ない純水が得られることが明らかである。これに
対して、酸素を注入していない比較例６では、酸化剤が
不足するため、十分なＴＯＣ除去を行えない。
【００６３】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の有機物の除
去方法によれば、ＴＯＣの加熱分解に当り、酸化剤とし
ての過硫酸塩等の添加量を低減して低コストで効率的な
処理を行うことができる。また、過硫酸塩等の添加量が
少ないことから、結果として、過剰の過硫酸塩等による
加熱分解処理後の脱イオン処理工程への影響が防止され
ると共に、添加した過硫酸塩等に由来する加熱分解処理
水中の硫酸塩及び硫酸濃度が低いことから、脱イオン処
理工程の装置規模の縮小を図ることもできる。
去方法によれば、ＴＯＣの加熱分解に当り、酸化剤とし
ての過硫酸塩等の添加量を低減して低コストで効率的な
処理を行うことができる。また、過硫酸塩等の添加量が
少ないことから、結果として、過剰の過硫酸塩等による
加熱分解処理後の脱イオン処理工程への影響が防止され
ると共に、添加した過硫酸塩等に由来する加熱分解処理
水中の硫酸塩及び硫酸濃度が低いことから、脱イオン処
理工程の装置規模の縮小を図ることもできる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機物の除去方法の酸素添加手段の実
施の形態を示す系統図である。
施の形態を示す系統図である。
【図２】実施例７における純水製造システムを示すフロ
ーチャートである。
ーチャートである。
１ 処理槽 ２ ポンプ ３ 加熱分解反応器 ４ 気体透過膜モジュール １１ 加温熱交換器 １２ 加熱分解反応器 １３ 冷却熱交換器 １４ 活性炭塔 １５ タンク １６ 逆浸透膜分離装置 １７ イオン交換塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森田 博志 東京都新宿区西新宿３丁目４番７号 栗田 工業株式会社内 (72)発明者 小畠 嘉修 東京都新宿区西新宿３丁目４番７号 栗田 工業株式会社内 (72)発明者 三輪 良平 東京都新宿区西新宿３丁目４番７号 栗田 工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 原水を酸化剤の存在下で加熱処理して原
水中のＴＯＣ成分を分解した後、脱イオン処理すること
により原水中の有機物を除去する方法において、 原水に酸素と、酸化剤として過硫酸及び／又は過硫酸塩
とを添加した後、加熱処理することを特徴とする有機物
の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17965397A JP3858359B2 (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 有機物の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17965397A JP3858359B2 (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 有機物の除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1119663A true JPH1119663A (ja) | 1999-01-26 |
| JP3858359B2 JP3858359B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=16069544
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17965397A Expired - Lifetime JP3858359B2 (ja) | 1997-07-04 | 1997-07-04 | 有機物の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3858359B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007103516A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-19 | Kurita Water Ind Ltd | 硫酸リサイクル型洗浄システム |
| JP2008246387A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Kurita Water Ind Ltd | 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 |
| US7560033B2 (en) | 2004-10-13 | 2009-07-14 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Multi-functional oxidizing composition |
| CN111735676A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-10-02 | 东莞市依科净化材料科技有限公司 | 一种toc测定取样棉签的处理方法 |
| CN114560572A (zh) * | 2022-02-27 | 2022-05-31 | 四川大学 | 基于移动曝气帷幕缓解复杂流场河道网箱内水体过饱和tdg的装置及方法 |
| WO2022264479A1 (ja) * | 2021-06-17 | 2022-12-22 | オルガノ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
-
1997
- 1997-07-04 JP JP17965397A patent/JP3858359B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN117425623A (zh) * | 2021-06-17 | 2024-01-19 | 奥加诺株式会社 | 纯水制造装置和纯水制造方法 |
| CN114560572A (zh) * | 2022-02-27 | 2022-05-31 | 四川大学 | 基于移动曝气帷幕缓解复杂流场河道网箱内水体过饱和tdg的装置及方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3858359B2 (ja) | 2006-12-13 |
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