JPH11198537A - 感熱破壊型パターン形成用複合体 - Google Patents
感熱破壊型パターン形成用複合体Info
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- JPH11198537A JPH11198537A JP361898A JP361898A JPH11198537A JP H11198537 A JPH11198537 A JP H11198537A JP 361898 A JP361898 A JP 361898A JP 361898 A JP361898 A JP 361898A JP H11198537 A JPH11198537 A JP H11198537A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 感熱破壊により不可視の情報パターンの記録
が可能なカード等の複合体、感熱破壊による不可視の情
報パターンの形成方法、及び不可視の情報パターンの読
み取り方法を提供すること。 【解決手段】 感熱破壊層、可視光領域で実質的に透明
で励起光照射下で検出可能な検出層、及び前記感熱破壊
層と実質的に同等な外観を有する同観層を少なくとも有
する複合体。感熱破壊層は例えば、金属蒸着層である。
上記複合体の感熱破壊層を感熱破壊により部分的に除去
して、肉眼では認識できないパターンを形成する不可視
パターンを有する複合体の作製方法。
が可能なカード等の複合体、感熱破壊による不可視の情
報パターンの形成方法、及び不可視の情報パターンの読
み取り方法を提供すること。 【解決手段】 感熱破壊層、可視光領域で実質的に透明
で励起光照射下で検出可能な検出層、及び前記感熱破壊
層と実質的に同等な外観を有する同観層を少なくとも有
する複合体。感熱破壊層は例えば、金属蒸着層である。
上記複合体の感熱破壊層を感熱破壊により部分的に除去
して、肉眼では認識できないパターンを形成する不可視
パターンを有する複合体の作製方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、不可視情報パター
ン形成に適した複合体、並びに不可視情報パターンの形
成及び読み取り方法に関する。
ン形成に適した複合体、並びに不可視情報パターンの形
成及び読み取り方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学的手段により検出できるバーコード
等のコードパターンが付されたラベルやカード等の印刷
物が物流管理システムにおいて広く用いられるようにな
ってきている。さらに、これらの偽装防止の目的、ある
いはこれらラベル等を付した物品の美観保持を目的とし
て、肉眼では不可視であり、赤外線等で検出可能な印刷
物が提案されている（例えば、特開平９−３１３８２
号、同９−３０１０４号）。これらのパターン印刷物に
おいて、コードパターンは、赤外線吸収性のインキでパ
ターンを印刷するか、あるは、赤外線吸収性層の上に反
射性層をパターン印刷することで形成されていた。これ
らのパターン印刷は、例えば、スクリーン印刷等により
行われており、実用的には、より簡易な方法により形成
できること望まれている。
等のコードパターンが付されたラベルやカード等の印刷
物が物流管理システムにおいて広く用いられるようにな
ってきている。さらに、これらの偽装防止の目的、ある
いはこれらラベル等を付した物品の美観保持を目的とし
て、肉眼では不可視であり、赤外線等で検出可能な印刷
物が提案されている（例えば、特開平９−３１３８２
号、同９−３０１０４号）。これらのパターン印刷物に
おいて、コードパターンは、赤外線吸収性のインキでパ
ターンを印刷するか、あるは、赤外線吸収性層の上に反
射性層をパターン印刷することで形成されていた。これ
らのパターン印刷は、例えば、スクリーン印刷等により
行われており、実用的には、より簡易な方法により形成
できること望まれている。
【０００３】テレホンカード、オレンジカード、ハイウ
エーカード等のカード類に、磁気記録とは別に、記録さ
れた情報を目視確認する目的で、カードの表面、特に裏
面に感熱記録や放電破壊記録等の記録を形成することが
行われている（例えば、特開昭５９−１９９２８４号、
同６０−５２３９０号）。これらのカードにおいては、
記録された情報は目視確認することが目的であり、感熱
破壊層と破壊されて露出した下地との間の反射率のコン
トラストを強調するため、着色された下地を用いるか下
地層として着色層を設けている。感熱記録や放電破壊記
録等の記録方法は、簡便かつ広く普及している方法であ
る。ところが、目視確認することが可能であると、偽造
を回避したい物品や秘密情報を記録したい物品には適用
できない。感熱破壊記録は、簡便かつ広く普及している
方法であるが、不可視の情報パターンを感熱破壊記録で
きる手段はこれまでに知られていない。
エーカード等のカード類に、磁気記録とは別に、記録さ
れた情報を目視確認する目的で、カードの表面、特に裏
面に感熱記録や放電破壊記録等の記録を形成することが
行われている（例えば、特開昭５９−１９９２８４号、
同６０−５２３９０号）。これらのカードにおいては、
記録された情報は目視確認することが目的であり、感熱
破壊層と破壊されて露出した下地との間の反射率のコン
トラストを強調するため、着色された下地を用いるか下
地層として着色層を設けている。感熱記録や放電破壊記
録等の記録方法は、簡便かつ広く普及している方法であ
る。ところが、目視確認することが可能であると、偽造
を回避したい物品や秘密情報を記録したい物品には適用
できない。感熱破壊記録は、簡便かつ広く普及している
方法であるが、不可視の情報パターンを感熱破壊記録で
きる手段はこれまでに知られていない。
【０００４】
【発明が解決すべき課題】そこで本発明の目的は、感熱
破壊により不可視の情報パターンの記録が可能な手段を
提供することにある。より詳しくは、本発明の目的は、
感熱破壊により不可視の情報パターンの記録が可能なカ
ード等の複合体、感熱破壊による不可視の情報パターン
の形成方法、及び不可視の情報パターンの読み取り方法
を提供することにある。
破壊により不可視の情報パターンの記録が可能な手段を
提供することにある。より詳しくは、本発明の目的は、
感熱破壊により不可視の情報パターンの記録が可能なカ
ード等の複合体、感熱破壊による不可視の情報パターン
の形成方法、及び不可視の情報パターンの読み取り方法
を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、感熱破壊層、
可視光領域で実質的に透明で励起光照射下で検出可能な
検出層、及び前記感熱破壊層と実質的に同等な外観を有
する同観層を少なくとも有することを特徴とする複合体
に関する。さらに本発明は、感熱破壊層、可視光領域で
実質的に透明で励起光照射下で検出可能な検出層、及び
前記感熱破壊層と実質的に同等な外観を有する同観層を
少なくとも有する複合体の前記感熱破壊層を感熱破壊に
より部分的に除去して、肉眼では認識できないパターン
を形成することを特徴とする不可視パターンを有する複
合体の作製方法に関する。上記不可視パターンは、例え
ば、情報パターンである。加えて本発明は、上記本発明
の方法で作製した不可視パターンを有する複合体に検出
層励起光を照射してパターンを検出することを特徴とす
る不可視パターンの検出方法に関する。また、本発明
は、上記本発明の方法で作製した不可視情報パターンを
有する複合体に検出層励起光を照射して情報パターンを
読み取ることを特徴とする不可視情報パターンの読み取
り方法に関する。
可視光領域で実質的に透明で励起光照射下で検出可能な
検出層、及び前記感熱破壊層と実質的に同等な外観を有
する同観層を少なくとも有することを特徴とする複合体
に関する。さらに本発明は、感熱破壊層、可視光領域で
実質的に透明で励起光照射下で検出可能な検出層、及び
前記感熱破壊層と実質的に同等な外観を有する同観層を
少なくとも有する複合体の前記感熱破壊層を感熱破壊に
より部分的に除去して、肉眼では認識できないパターン
を形成することを特徴とする不可視パターンを有する複
合体の作製方法に関する。上記不可視パターンは、例え
ば、情報パターンである。加えて本発明は、上記本発明
の方法で作製した不可視パターンを有する複合体に検出
層励起光を照射してパターンを検出することを特徴とす
る不可視パターンの検出方法に関する。また、本発明
は、上記本発明の方法で作製した不可視情報パターンを
有する複合体に検出層励起光を照射して情報パターンを
読み取ることを特徴とする不可視情報パターンの読み取
り方法に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】感熱破壊型パターン形成用複合体 本発明の複合体は、感熱破壊層、可視光領域で実質的に
透明で励起光照射下で検出可能な検出層、及び前記感熱
破壊層と実質的に同等な外観を有する同観層を少なくと
も有する。感熱破壊層は加熱されることにより、飛散あ
るいは蒸発するなどして除去される材料からなる層であ
ればよく、例えば、金属蒸着層であることができる。金
属蒸着層は、比較的融点が低い金属または金属化合物か
らなることができ、例えば、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ａｌ、
Ｂｉ、Ｐｂ及びＺｎからなる金属、これらの金属の少な
くとも１種を含む合金、並びにこれらの金属の化合物か
らなる群から選ばれる少なくとも１種から構成されるこ
とができる。検出層は、可視光領域で実質的に透明であ
り、かつ励起光照射下で検出可能な層であればよく、例
えば、励起光照射下で検出可能な、紫外線吸収剤、紫外
線蛍光剤、赤外線吸収剤または赤外線蛍光剤を含有する
ものであることができる。さらに、検出層は、厚さ、及
び上記紫外線吸収剤等の添加量や粒度等を適宜調整する
ことで、可視光領域で実質的に透明とすることができ
る。さらに、検出層は、感熱破壊層が感熱破壊される条
件下で実質的に不変である材料から構成される。
透明で励起光照射下で検出可能な検出層、及び前記感熱
破壊層と実質的に同等な外観を有する同観層を少なくと
も有する。感熱破壊層は加熱されることにより、飛散あ
るいは蒸発するなどして除去される材料からなる層であ
ればよく、例えば、金属蒸着層であることができる。金
属蒸着層は、比較的融点が低い金属または金属化合物か
らなることができ、例えば、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ａｌ、
Ｂｉ、Ｐｂ及びＺｎからなる金属、これらの金属の少な
くとも１種を含む合金、並びにこれらの金属の化合物か
らなる群から選ばれる少なくとも１種から構成されるこ
とができる。検出層は、可視光領域で実質的に透明であ
り、かつ励起光照射下で検出可能な層であればよく、例
えば、励起光照射下で検出可能な、紫外線吸収剤、紫外
線蛍光剤、赤外線吸収剤または赤外線蛍光剤を含有する
ものであることができる。さらに、検出層は、厚さ、及
び上記紫外線吸収剤等の添加量や粒度等を適宜調整する
ことで、可視光領域で実質的に透明とすることができ
る。さらに、検出層は、感熱破壊層が感熱破壊される条
件下で実質的に不変である材料から構成される。
【０００７】紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフ
ェノン系（例えば、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，２秩|ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン）、ベンゾトリアゾール系（例えば、２−
（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロ
キシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル
−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２秩|ヒドロキシ−５秩|ｔ−オクチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オク
チル）ベンゾトリアゾール）、酸化チタン、酸化亜鉛等
を挙げることができる。
ェノン系（例えば、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン、２，２秩|ジヒドロキシ−４−メトキシベ
ンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベ
ンゾフェノン）、ベンゾトリアゾール系（例えば、２−
（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−ベンゾトリ
アゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，
α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロ
キシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−
（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル
−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２秩|ヒドロキシ−５秩|ｔ−オクチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オク
チル）ベンゾトリアゾール）、酸化チタン、酸化亜鉛等
を挙げることができる。
【０００８】紫外線蛍光剤としては、例えば、ルミネッ
センスを発する物質であって、無機蛍光体と有機蛍光体
の双方を含む。無機蛍光体としては、Ｃａ、Ｂａ、Ｍ
ｇ、Ｚｎ、Ｃｄなどの酸化物、硫化物、ケイ酸塩、リン
酸塩、タングステン酸塩などの結晶を主成分とし、Ｍ
ｎ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｂ、Ｐｂなどの金属元素もし
くはランタノイド類などの希土類元素を活性剤として添
加して焼成して得られる顔料が用いられ得る。好ましい
蛍光体としてＺｎＯ：Ｚｎ、Ｂｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：
Ｅｕ、Ｚｎ2ＧｅＯ4 ：Ｍｎ、Ｙ2Ｏ3 ：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ、
Ｖ）Ｏ4 ：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ2 Ｓｉ：Ｅｕ、Ｚｎ2ＧｅＯ4 ：
Ｍｎ等を例示できる。有機蛍光体としては、ジアミノス
チルベンジスルホン酸誘導体、イミダゾール誘導体、ク
マリン誘導体、トリアゾール、カルバゾール、ピリジ
ン、ナフタル酸、イミダゾロン等の誘導体、フルオレセ
イン、エオシン等の色素、アントラセン等ベンゼン環を
持つ化合物などが用いられ得る。
センスを発する物質であって、無機蛍光体と有機蛍光体
の双方を含む。無機蛍光体としては、Ｃａ、Ｂａ、Ｍ
ｇ、Ｚｎ、Ｃｄなどの酸化物、硫化物、ケイ酸塩、リン
酸塩、タングステン酸塩などの結晶を主成分とし、Ｍ
ｎ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｓｂ、Ｐｂなどの金属元素もし
くはランタノイド類などの希土類元素を活性剤として添
加して焼成して得られる顔料が用いられ得る。好ましい
蛍光体としてＺｎＯ：Ｚｎ、Ｂｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：
Ｅｕ、Ｚｎ2ＧｅＯ4 ：Ｍｎ、Ｙ2Ｏ3 ：Ｅｕ、Ｙ（Ｐ、
Ｖ）Ｏ4 ：Ｅｕ、Ｙ2Ｏ2 Ｓｉ：Ｅｕ、Ｚｎ2ＧｅＯ4 ：
Ｍｎ等を例示できる。有機蛍光体としては、ジアミノス
チルベンジスルホン酸誘導体、イミダゾール誘導体、ク
マリン誘導体、トリアゾール、カルバゾール、ピリジ
ン、ナフタル酸、イミダゾロン等の誘導体、フルオレセ
イン、エオシン等の色素、アントラセン等ベンゼン環を
持つ化合物などが用いられ得る。
【０００９】赤外線吸収剤としては、例えば、特開平９
−１０４８５７号に記載の酸化イッテルビウム、特開平
８−１４３８５３号、同９−１４３４４８号に記載のリ
ン酸イッテルビウム等の無機物を挙げることができる。
さらに、赤外線吸収剤としては、赤発光ダイオードや半
導体レーザーの発振波長に吸収を持ち、可視光域では吸
収のない透明な色素を挙げることができ、そのような色
素としては、例えば、シアニン色素系、フタロシアニン
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ジチオール錯
体系、トリフェニルメタン系等を挙げることができる。
−１０４８５７号に記載の酸化イッテルビウム、特開平
８−１４３８５３号、同９−１４３４４８号に記載のリ
ン酸イッテルビウム等の無機物を挙げることができる。
さらに、赤外線吸収剤としては、赤発光ダイオードや半
導体レーザーの発振波長に吸収を持ち、可視光域では吸
収のない透明な色素を挙げることができ、そのような色
素としては、例えば、シアニン色素系、フタロシアニン
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ジチオール錯
体系、トリフェニルメタン系等を挙げることができる。
【００１０】また、赤外線蛍光剤としては、例えば、組
成がYF3:Yb,Er, ZnS:Cu,Co等がある。また、波長λ1の
励起光を受けて波長λ2の赤外線を発光する特性を有
し、λ1≠λ2かつλ1<λ2なる性質を有するものがあ
る。そのようなする赤外線蛍光剤としては、例えば、組
成がLiNd0.9Yb0.1P4O12、LiBi0.2Nd0.7Yb0.1P4O12、NaN
d0.9Yb0.1P4O12、Nd0.8Yb0.2Na5(WO4)4、Nd0.8Yb0.2Na5
(Mo0.5W0.5O4)4、Ce0.05Gd0.05Nd0.75Yb0.15Na5(Mo0.7W
0.3O4)4、Nd0.9Yb0.1Al3(BO3)4、Nd0.9Yb0.1Al2.7Cr0.3
(BO3)4、Nd0.5Yb0.4P3O14、Nd0.8Yb0.2K3(PO4) 2等を挙
げることができる。これらは、いずれも励起光(λ1)800
nmの赤外線を受けて、980〜1020nmに発光スペクトルの
顕著なピークをもつ赤外線(λ2)を発光するものであ
る。
成がYF3:Yb,Er, ZnS:Cu,Co等がある。また、波長λ1の
励起光を受けて波長λ2の赤外線を発光する特性を有
し、λ1≠λ2かつλ1<λ2なる性質を有するものがあ
る。そのようなする赤外線蛍光剤としては、例えば、組
成がLiNd0.9Yb0.1P4O12、LiBi0.2Nd0.7Yb0.1P4O12、NaN
d0.9Yb0.1P4O12、Nd0.8Yb0.2Na5(WO4)4、Nd0.8Yb0.2Na5
(Mo0.5W0.5O4)4、Ce0.05Gd0.05Nd0.75Yb0.15Na5(Mo0.7W
0.3O4)4、Nd0.9Yb0.1Al3(BO3)4、Nd0.9Yb0.1Al2.7Cr0.3
(BO3)4、Nd0.5Yb0.4P3O14、Nd0.8Yb0.2K3(PO4) 2等を挙
げることができる。これらは、いずれも励起光(λ1)800
nmの赤外線を受けて、980〜1020nmに発光スペクトルの
顕著なピークをもつ赤外線(λ2)を発光するものであ
る。
【００１１】同観層は、上記感熱破壊層と実質的に同等
な外観を有する層であれば、特に制限はない。但し、外
観以外に、同観層は、感熱破壊層が感熱破壊される条件
下で実質的に不変である材料から構成される。同観層
は、例えば、金属蒸着層や金属顔料を含む層であること
ができる。金属蒸着層としては、上記感熱破壊層で挙げ
た材料から適宜選択することができる。但し、感熱破壊
層が感熱破壊される条件下で実質的に不変とするという
観点から、感熱破壊層及び同観層が共に金属蒸着層であ
る場合、感熱破壊層を構成する金属蒸着層を、同観層を
構成する金属蒸着層より低融点を有する金属で形成する
ことが適当である。あるいは、感熱破壊層が感熱破壊さ
れる条件下で実質的に不変とするという観点から、感熱
破壊層及び同観層が同材質の金属蒸着層である場合、感
熱破壊層は同観層より層厚が薄いことが適当である。
な外観を有する層であれば、特に制限はない。但し、外
観以外に、同観層は、感熱破壊層が感熱破壊される条件
下で実質的に不変である材料から構成される。同観層
は、例えば、金属蒸着層や金属顔料を含む層であること
ができる。金属蒸着層としては、上記感熱破壊層で挙げ
た材料から適宜選択することができる。但し、感熱破壊
層が感熱破壊される条件下で実質的に不変とするという
観点から、感熱破壊層及び同観層が共に金属蒸着層であ
る場合、感熱破壊層を構成する金属蒸着層を、同観層を
構成する金属蒸着層より低融点を有する金属で形成する
ことが適当である。あるいは、感熱破壊層が感熱破壊さ
れる条件下で実質的に不変とするという観点から、感熱
破壊層及び同観層が同材質の金属蒸着層である場合、感
熱破壊層は同観層より層厚が薄いことが適当である。
【００１２】金属顔料を含む層である場合、金属顔料と
しては、同観層が感熱破壊層と実質的に同等な外観を有
し、かつ感熱破壊層が感熱破壊される条件下で実質的に
不変であることを考慮して適宜選択できる。金属顔料と
しては、金属蒸着層を構成する材料として例示した金属
や金属化合物の顔料を挙げることができる。さらに、金
属顔料を含む層は、金属顔料を分散する媒体として適当
なバインダーを含むことができる。バインダーは、同観
層が感熱破壊層と実質的に同等な外観を有し、かつ感熱
破壊層が感熱破壊される条件下で実質的に不変であるこ
とを考慮して適宜選択できる。バインダーを構成する樹
脂としては、一般的には、蛋白質、ゴム、セルロース
類、シェラック、コパル、澱粉、ロジン等の天然樹脂、
ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリ
オレフィン系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の熱
可塑性樹脂、レゾール型フェノール樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリエステル等の熱硬化性樹脂等を挙げることができ
る。さらに、必要に応じて、印刷皮膜の柔軟性、強度安
定性のための可塑剤、粘度調整、乾燥性のための溶剤、
さらに乾燥、粘度、分散性、各種反応剤等の助剤を適宜
添加することができる。また、溶剤を用いない光重合硬
化型もしくは電子線硬化型インキをバインダーとして用
いることもできる。主成分は、アクリル系樹脂であり、
具体的には、市販のアクリルモノマーを用いることがで
きる。
しては、同観層が感熱破壊層と実質的に同等な外観を有
し、かつ感熱破壊層が感熱破壊される条件下で実質的に
不変であることを考慮して適宜選択できる。金属顔料と
しては、金属蒸着層を構成する材料として例示した金属
や金属化合物の顔料を挙げることができる。さらに、金
属顔料を含む層は、金属顔料を分散する媒体として適当
なバインダーを含むことができる。バインダーは、同観
層が感熱破壊層と実質的に同等な外観を有し、かつ感熱
破壊層が感熱破壊される条件下で実質的に不変であるこ
とを考慮して適宜選択できる。バインダーを構成する樹
脂としては、一般的には、蛋白質、ゴム、セルロース
類、シェラック、コパル、澱粉、ロジン等の天然樹脂、
ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリ
オレフィン系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等の熱
可塑性樹脂、レゾール型フェノール樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和
ポリエステル等の熱硬化性樹脂等を挙げることができ
る。さらに、必要に応じて、印刷皮膜の柔軟性、強度安
定性のための可塑剤、粘度調整、乾燥性のための溶剤、
さらに乾燥、粘度、分散性、各種反応剤等の助剤を適宜
添加することができる。また、溶剤を用いない光重合硬
化型もしくは電子線硬化型インキをバインダーとして用
いることもできる。主成分は、アクリル系樹脂であり、
具体的には、市販のアクリルモノマーを用いることがで
きる。
【００１３】本発明の複合体は、同観層に隣接して基
材、磁気記録層、または磁気記録層及び基材を有するこ
とができる。基材としては、例えば、塩化ビニル、ナイ
ロン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等のプラ
スチック類、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙等
を単独であるいは組み合わせて複合体として用いること
ができる。基体として要求される物性、例えば、強度、
剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して、上記材料の中
から好ましいものを適宜選択すればよい。尚、基体の厚
みは、通常0.005〜5mm程度である。
材、磁気記録層、または磁気記録層及び基材を有するこ
とができる。基材としては、例えば、塩化ビニル、ナイ
ロン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等のプラ
スチック類、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙等
を単独であるいは組み合わせて複合体として用いること
ができる。基体として要求される物性、例えば、強度、
剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して、上記材料の中
から好ましいものを適宜選択すればよい。尚、基体の厚
みは、通常0.005〜5mm程度である。
【００１４】また、磁気記録層としては、例えば、γ-F
e2O3、Co被着γ-Fe2O3、Fe3O4、CrO2、Fe、Fe-Cr、Fe-C
o、Co-Cr、Co-Ni、MnAl、Baフェライト、Srフェライト
等の従来公知の磁性微粒子が適当な樹脂あるいはインキ
ビヒクル中に分散されてなる分散物をグラビア法、ロー
ル法、ナイフエッジ法等の従来公知の塗布方法によって
基材上に形成することができる。また、磁気記録層は、
Fe、Fe-Cr、Fe-Co、Co-Cr等の金属あるいはその合金を
用いて、真空蒸着法、スパッタ法、めっき法等によって
基材上に形成することもできる。磁気記録層及び基材を
有する本発明の複合体10の例を図１に示す。図中、下か
ら順次、基材１、磁気記録層２、同観層３、検出層４及
び感熱破壊層５である。
e2O3、Co被着γ-Fe2O3、Fe3O4、CrO2、Fe、Fe-Cr、Fe-C
o、Co-Cr、Co-Ni、MnAl、Baフェライト、Srフェライト
等の従来公知の磁性微粒子が適当な樹脂あるいはインキ
ビヒクル中に分散されてなる分散物をグラビア法、ロー
ル法、ナイフエッジ法等の従来公知の塗布方法によって
基材上に形成することができる。また、磁気記録層は、
Fe、Fe-Cr、Fe-Co、Co-Cr等の金属あるいはその合金を
用いて、真空蒸着法、スパッタ法、めっき法等によって
基材上に形成することもできる。磁気記録層及び基材を
有する本発明の複合体10の例を図１に示す。図中、下か
ら順次、基材１、磁気記録層２、同観層３、検出層４及
び感熱破壊層５である。
【００１５】さらに、本発明の複合体は、感熱破壊層に
隣接して隠蔽層及び／又は保護層を有することもでき
る。隠蔽層としては、例えば、下記に示すバインダーと
有色顔料とを含むものを挙げることができる。バインダ
ーとしては、例えば、エチルセルロース、エチルヒドロ
キシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオ
ネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリス
チレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂あ
るいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、
ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸ブチル等のアクリル樹脂又はメタクリル樹脂
の単独または共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロ
ジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹
脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等を挙げる
ことができるが、これらに限定されない。
隣接して隠蔽層及び／又は保護層を有することもでき
る。隠蔽層としては、例えば、下記に示すバインダーと
有色顔料とを含むものを挙げることができる。バインダ
ーとしては、例えば、エチルセルロース、エチルヒドロ
キシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオ
ネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリス
チレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂あ
るいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、
ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリ
アクリル酸ブチル等のアクリル樹脂又はメタクリル樹脂
の単独または共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロ
ジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹
脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等を挙げる
ことができるが、これらに限定されない。
【００１６】有色顔料として、以下の顔料を挙げること
ができる。 黄： ファストエローＧ（Ｙｅｌｌｏｗ−１） ファストエロー１０Ｇ（Ｙｅｌｌｏｗ−３） ジスアゾエローＡＡＡ（Ｙｅｌｌｏｗ−１２） ジスアゾエローＡＡＭＸ（Ｙｅｌｌｏｗ−１３） ジスアゾエローＡＡＯＴ（Ｙｅｌｌｏｗ−１４） ジスアゾエローＡＡＯＡ（Ｙｅｌｌｏｗ−１７） 黄色酸化鉄（Ｙｅｌｌｏｗ−４２） ジスアゾエローＨＲ（Ｙｅｌｌｏｗ−８３）
ができる。 黄： ファストエローＧ（Ｙｅｌｌｏｗ−１） ファストエロー１０Ｇ（Ｙｅｌｌｏｗ−３） ジスアゾエローＡＡＡ（Ｙｅｌｌｏｗ−１２） ジスアゾエローＡＡＭＸ（Ｙｅｌｌｏｗ−１３） ジスアゾエローＡＡＯＴ（Ｙｅｌｌｏｗ−１４） ジスアゾエローＡＡＯＡ（Ｙｅｌｌｏｗ−１７） 黄色酸化鉄（Ｙｅｌｌｏｗ−４２） ジスアゾエローＨＲ（Ｙｅｌｌｏｗ−８３）
【００１７】黄赤（オレンジ）： オルトニトロアニリナオレンジ（Ｏｒａｎｇｅ−２） ジニトロアニリンオレンジ（Ｏｒａｎｇｅ−５） ジスアゾオオレンジＰＭＰ（Ｏｒａｎｇｅ−１３） バルカンオレンジ（ジアニシジンオレンジ）（Ｏｒａｎ
ｇｅ−１６）
ｇｅ−１６）
【００１８】赤： トルイジンレッド（Ｒｅｄ−３） 塩素化バラレッド（Ｒｅｄ−４） ナフトールカーミンＦＢ（Ｒｅｄ−５） ナフトールレッドＭ（Ｒｅｄ−１７） ブリリアントファストスカーレット（Ｒｅｄ−２２） ナフトールレッド２３（Ｒｅｄ−２３） ピラゾロンレッド（Ｒｅｄ−３８） バリウムレッド２Ｂ（Ｒｅｄ−４８：１） カルシウムレッド２Ｂ（Ｒｅｄ−４８：２） ストロンチウムレッド２Ｂ（Ｒｅｄ−４８：３） マンガンレッド２Ｂ（Ｒｅｄ−４８：４） バリウムリソールレッド（Ｒｅｄ−４９：１） レーキレッドＣ（Ｒｅｄ−５３：１） ブリリアントカーミン６Ｂ（Ｒｅｄ−５７：１） ピクメントスカーレット３Ｂレーキ（Ｒｅｄ−６０：
１） レーキボルドー１０Ｂ（Ｒｅｄ−６３：１） アンソシン３Ｂレーキ（Ｒｅｄ−６６） アンソシン５Ｂレーキ（Ｒｅｄ−６７） ローダミン６Ｇレーキ（Ｒｅｄ−８１） エオシンレーキ（Ｒｅｄ−９０） べんがら（Ｒｅｄ−１０１） ナフトールレッドＦＧＲ（Ｒｅｄ−１１２）
１） レーキボルドー１０Ｂ（Ｒｅｄ−６３：１） アンソシン３Ｂレーキ（Ｒｅｄ−６６） アンソシン５Ｂレーキ（Ｒｅｄ−６７） ローダミン６Ｇレーキ（Ｒｅｄ−８１） エオシンレーキ（Ｒｅｄ−９０） べんがら（Ｒｅｄ−１０１） ナフトールレッドＦＧＲ（Ｒｅｄ−１１２）
【００１９】紫： ローダミンＢレーキ（Ｖｉｏｌｅｔ−１） メチルバイオレットレーキ（Ｖｉｏｌｅｔ−３） キナクリドンレッド（Ｖｉｏｌｅｔ−１９） ジオキサジンバイオレット（Ｖｉｏｌｅｔ−２３）
【００２０】青： ビクトリアピュアブルーＢＯレーキ（Ｂｌｕｅ−１） ベーシックブルー５Ｂレーキ（Ｂｌｕｅ−３） ベーシックブルー６Ｇレーキ（Ｂｌｕｅ−９） フタロシアニンブルー（α形，不安定形）（Ｂｌｕｅ−
１５：１） フタロシアニンブルー（β形，非結晶形）（Ｂｌｕｅ−
１５：３） フタロシアニンブルー（β形，非結晶，非集合形）（Ｂ
ｌｕｅ−１５：４） ファストスカイブルー（Ｂｌｕｅ−１７：１） アルカリブルーＧトーナー（Ｂｌｕｅ−１８） アルカリブルーＲトーナー（Ｂｌｕｅ−１９） ピーコックブルーレーキ（Ｂｌｕｅ−２４） 紺青（Ｂｌｕｅ−２７） 群青（Ｂｌｕｅ−２９） レフレックスブルー２Ｇ（Ｂｌｕｅ−５６） レフレックスブルーＲ（Ｂｌｕｅ−６１）
１５：１） フタロシアニンブルー（β形，非結晶形）（Ｂｌｕｅ−
１５：３） フタロシアニンブルー（β形，非結晶，非集合形）（Ｂ
ｌｕｅ−１５：４） ファストスカイブルー（Ｂｌｕｅ−１７：１） アルカリブルーＧトーナー（Ｂｌｕｅ−１８） アルカリブルーＲトーナー（Ｂｌｕｅ−１９） ピーコックブルーレーキ（Ｂｌｕｅ−２４） 紺青（Ｂｌｕｅ−２７） 群青（Ｂｌｕｅ−２９） レフレックスブルー２Ｇ（Ｂｌｕｅ−５６） レフレックスブルーＲ（Ｂｌｕｅ−６１）
【００２１】緑： ブリリアントグリーンレーキ（Ｇｒｅｅｎ−１） ダイヤモンドグリーンチオフラビンレーキ（Ｇｒｅｅｎ
−２） フタロシアニングリーンＧ（Ｇｒｅｅｎ−７） グリーンゴールド（Ｇｒｅｅｎ−１０） フタロシアニングリーンＹ（Ｇｒｅｅｎ−３６）
−２） フタロシアニングリーンＧ（Ｇｒｅｅｎ−７） グリーンゴールド（Ｇｒｅｅｎ−１０） フタロシアニングリーンＹ（Ｇｒｅｅｎ−３６）
【００２２】保護層は、例えば、前記バインダーに用い
たのと同様の樹脂を用いて形成できる。好ましくは溶剤
を用いないアクリル系モノマーを主成分として含有する
光重合硬化型または電子硬化型インキを用いて形成す
る。アクリル系モノマーとしては、前述のものを同様に
用いることができる。尚、上記インキには、モノマーに
加えて、前述のように重合開始剤等の添加剤が含有され
るが、これらの添加剤も蛍光体及び発光光に透過性を有
するものから適宜選ばれる。保護層及び基材を有する本
発明の複合体の例を図２に示す。図中、下から順次、基
材１、同観層３、検出層４、感熱破壊層５及び保護層６
である。本発明の複合体は、上記基材、同観層、検出
層、感熱破壊層、隠蔽層及び保護層の間に、アンカー層
を設けることもできる。アンカー層は、各層を構成する
バインダー樹脂の特性を考慮して、適宜選択したアンカ
ー層用塗料を用いて、公知の塗布方法により形成され
る。アンカー層は各層間の密着力を高める役割を果た
す。アンカー層に用いられるバインダー重合としては、
ポリエステル樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合、ポ
リウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル
樹脂、セルロース樹脂、スチレン／マレイン酸共重合樹
脂、ゴム系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド
樹脂等を挙げることができる。本発明の複合体は、例え
ば、カード、ラベル等の形態であることがてきるが、こ
れらの限定されない。
たのと同様の樹脂を用いて形成できる。好ましくは溶剤
を用いないアクリル系モノマーを主成分として含有する
光重合硬化型または電子硬化型インキを用いて形成す
る。アクリル系モノマーとしては、前述のものを同様に
用いることができる。尚、上記インキには、モノマーに
加えて、前述のように重合開始剤等の添加剤が含有され
るが、これらの添加剤も蛍光体及び発光光に透過性を有
するものから適宜選ばれる。保護層及び基材を有する本
発明の複合体の例を図２に示す。図中、下から順次、基
材１、同観層３、検出層４、感熱破壊層５及び保護層６
である。本発明の複合体は、上記基材、同観層、検出
層、感熱破壊層、隠蔽層及び保護層の間に、アンカー層
を設けることもできる。アンカー層は、各層を構成する
バインダー樹脂の特性を考慮して、適宜選択したアンカ
ー層用塗料を用いて、公知の塗布方法により形成され
る。アンカー層は各層間の密着力を高める役割を果た
す。アンカー層に用いられるバインダー重合としては、
ポリエステル樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合、ポ
リウレタン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル
樹脂、セルロース樹脂、スチレン／マレイン酸共重合樹
脂、ゴム系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリアミド
樹脂等を挙げることができる。本発明の複合体は、例え
ば、カード、ラベル等の形態であることがてきるが、こ
れらの限定されない。
【００２３】不可視パターンを有する複合体の作製方法 本発明の複合体の前記感熱破壊層を感熱破壊により部分
的に除去することで、肉眼では認識できないパターンを
有する複合体を形成することができる。上記不可視パタ
ーンは、情報パターンであることができ、情報パターン
は、文字、数字、記号、模様、さらにはバーコード（１
次元及び２次元）等であることができる。感熱破壊は、
放電破壊、サーマルヘッドによる破壊、またはレーザー
光照射による破壊であることができる。何れの方法も、
公知の方法及び装置をそのまま適用することができる。不可視パターンの検出、読み取り方法 上記で作製した不可視パターンを有する本発明の複合体
に検出層励起光を照射してパターンを検出することがで
きる。さらに、不可視パターンが不可視情報パターンで
ある場合、情報パターンを読み取ることができる。照射
する励起光の波長や強度は、検出層に含まれる吸収剤や
蛍光剤に応じて適宜決定でき、公知の励起光を用いて、
例えば、レーザー光等として照射できる。さらに、パタ
ーンの検出や読み取りも、公知の方法及び装置をそのま
ま用いて行うことができる。
的に除去することで、肉眼では認識できないパターンを
有する複合体を形成することができる。上記不可視パタ
ーンは、情報パターンであることができ、情報パターン
は、文字、数字、記号、模様、さらにはバーコード（１
次元及び２次元）等であることができる。感熱破壊は、
放電破壊、サーマルヘッドによる破壊、またはレーザー
光照射による破壊であることができる。何れの方法も、
公知の方法及び装置をそのまま適用することができる。不可視パターンの検出、読み取り方法 上記で作製した不可視パターンを有する本発明の複合体
に検出層励起光を照射してパターンを検出することがで
きる。さらに、不可視パターンが不可視情報パターンで
ある場合、情報パターンを読み取ることができる。照射
する励起光の波長や強度は、検出層に含まれる吸収剤や
蛍光剤に応じて適宜決定でき、公知の励起光を用いて、
例えば、レーザー光等として照射できる。さらに、パタ
ーンの検出や読み取りも、公知の方法及び装置をそのま
ま用いて行うことができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、感熱破壊により不可視
の情報パターンの記録が可能なカード等の複合体、感熱
破壊による不可視の情報パターンの形成方法、及び不可
視の情報パターンの読み取り方法を提供することができ
る。本発明の複合体は、簡便かつ広く普及している感熱
破壊により不可視の情報パターンの記録が可能であり、
偽造防止や秘密情報の隠匿が必要な分野に極めて有用で
ある。
の情報パターンの記録が可能なカード等の複合体、感熱
破壊による不可視の情報パターンの形成方法、及び不可
視の情報パターンの読み取り方法を提供することができ
る。本発明の複合体は、簡便かつ広く普及している感熱
破壊により不可視の情報パターンの記録が可能であり、
偽造防止や秘密情報の隠匿が必要な分野に極めて有用で
ある。
【００２５】
【実施例】以下本発明を実施例によりさらに説明する。 実施例1 (紫外励起蛍光インキ層を有する複合体)透明ＰＥＴ（５
０μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真
空蒸着した。蒸着層の上に下記組成を有するＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する紫外励起蛍
光インキ層(膜厚３μｍ)、その上に下記組成を有するＯ
Ｐインキ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗
りした。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの
膜厚に蒸着した。蒸着層の上に下記組成を有するＯＰイ
ンキ層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材
の裏面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの
厚さに塗工し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後
に、スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を
得た。
０μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真
空蒸着した。蒸着層の上に下記組成を有するＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する紫外励起蛍
光インキ層(膜厚３μｍ)、その上に下記組成を有するＯ
Ｐインキ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗
りした。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの
膜厚に蒸着した。蒸着層の上に下記組成を有するＯＰイ
ンキ層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材
の裏面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの
厚さに塗工し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後
に、スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を
得た。
【００２６】 紫外励起蛍光インキ組成 緑発光インキ（ＮＳ無色蛍光グリーン５０） 蛍光顔料（ＧＯＦ−Ｃ：根本特殊化学製） ５０重量部 マイクロシリカ ４重量部 有機ベントナイト １重量部 アルキッド樹脂 ３７重量部 石油系溶剤 ８重量部ＯＰインキ組成 バイロン２００（ポリエステル系樹脂） ３０重量部 トルエン ４０重量部 ＭＥＫ ３０重量部
【００２７】上記複合体にサーマルプリンタ（ＢＣ−１
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体では、目視上、パターン
はほとんど見えなかった。さらに、得られた複合体に蛍
光タッチスキャナ（日本電装製、照射波長365nm、検知
波長505nm）を用いてバーコードの読み取り試験を行っ
たところ、読み取ることができた。
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体では、目視上、パターン
はほとんど見えなかった。さらに、得られた複合体に蛍
光タッチスキャナ（日本電装製、照射波長365nm、検知
波長505nm）を用いてバーコードの読み取り試験を行っ
たところ、読み取ることができた。
【００２８】実施例2 (赤外線吸収インキ層を有する複合体)透明ＰＥＴ（５０
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する赤外線吸収イ
ンキ層(膜厚5μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイン
キ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する赤外線吸収イ
ンキ層(膜厚5μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイン
キ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
【００２９】赤外線吸収インキ組成 顔料（酸化イッテルビウム） 3０重量部 バイロン２００（ポリエステル系樹脂） ３０重量部 トルエン 2０重量部 ＭＥＫ 2０重量部
【００３０】上記複合体にサーマルプリンタ（ＢＣ−１
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体では、目視上、パターン
はほとんど見えなかった。さらに、得られた複合体に赤
外線タッチスキャナ（オプトエレクトロニクス製、照射
波長940nm、検知波長960nm）を用いてバーコードの読み
取り試験を行ったところ、読み取ることができた。
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体では、目視上、パターン
はほとんど見えなかった。さらに、得られた複合体に赤
外線タッチスキャナ（オプトエレクトロニクス製、照射
波長940nm、検知波長960nm）を用いてバーコードの読み
取り試験を行ったところ、読み取ることができた。
【００３１】実施例3 (有色隠蔽インキ層及び赤外線吸収インキ層を有する複
合体)透明ＰＥＴ（５０μｍ）基材にＡｌを７００℃
で、７０ｎｍの膜厚に真空蒸着した。蒸着層の上に実施
例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)、その上に下記
組成を有する有色隠蔽インキ層(膜厚2μｍ)、その上に
実施例2と同様の赤外線吸収インキ層(膜厚5μｍ)、その
上に実施例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)をグラ
ビア印刷にて順次重ね塗りした。さらに、その上にＳｎ
を２３０℃で８０ｎｍの膜厚に蒸着した。蒸着層の上に
実施例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)及び下記組
成を有する有色隠蔽インキ層(膜厚2μｍ)を順次グラビ
ア塗工した。次に上記基材の裏面に粘着剤として天然ゴ
ム系ラテックスを２０μの厚さに塗布し、さらにその上
に、剥離紙を付した。最後に、スリット及びロール加工
を施して本発明の複合体を得た。
合体)透明ＰＥＴ（５０μｍ）基材にＡｌを７００℃
で、７０ｎｍの膜厚に真空蒸着した。蒸着層の上に実施
例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)、その上に下記
組成を有する有色隠蔽インキ層(膜厚2μｍ)、その上に
実施例2と同様の赤外線吸収インキ層(膜厚5μｍ)、その
上に実施例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)をグラ
ビア印刷にて順次重ね塗りした。さらに、その上にＳｎ
を２３０℃で８０ｎｍの膜厚に蒸着した。蒸着層の上に
実施例1と同様のＯＰインキ層(膜厚２μｍ)及び下記組
成を有する有色隠蔽インキ層(膜厚2μｍ)を順次グラビ
ア塗工した。次に上記基材の裏面に粘着剤として天然ゴ
ム系ラテックスを２０μの厚さに塗布し、さらにその上
に、剥離紙を付した。最後に、スリット及びロール加工
を施して本発明の複合体を得た。
【００３２】隠蔽インキ組成 顔料（ジスアゾイエローAAMX） １０重量部 バイロン２００（ポリエステル系樹脂） ５０重量部 トルエン 2０重量部 ＭＥＫ 2０重量部
【００３３】上記複合体にサーマルプリンタ（ＢＣ−１
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体のパターンは、隠蔽しな
い場合（実施例２）に比べて、さらに目視しにくくなっ
た。さらに、得られた複合体に赤外線タッチスキャナ
（オプトエレクトロニクス製、照射波長940nm、検知波
長960nm）を用いてバーコードの読み取り試験を行った
ところ、読み取ることができた。
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でバーコード
印字を行った。得られた複合体のパターンは、隠蔽しな
い場合（実施例２）に比べて、さらに目視しにくくなっ
た。さらに、得られた複合体に赤外線タッチスキャナ
（オプトエレクトロニクス製、照射波長940nm、検知波
長960nm）を用いてバーコードの読み取り試験を行った
ところ、読み取ることができた。
【００３４】実施例４ (赤外線蛍光インキ層を有する複合体)透明ＰＥＴ（５０
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する赤外線蛍光イ
ンキ層(膜厚5μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイン
キ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する赤外線蛍光イ
ンキ層(膜厚5μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイン
キ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
【００３５】 赤外線吸収インキ組成 赤外線発光蛍光体（Nd0.1Yb0.1 Y0.8PO4） ４０重量部 バイロン２００（ポリエステル系樹脂） ２０重量部 トルエン ２０重量部 ＭＥＫ ２０重量部
【００３６】上記複合体にサーマルプリンタ（ＢＣ−１
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でパターン印
字を行った。得られた複合体のパターンは、目視上、ほ
とんど見えなかった。さらに、得られた複合体に波長８
１０ｎｍの光源で励起を行い、ピーク感度９８０ｎｍの
シリコン光検出器で発光を受光することにより発光強度
を測定した。その結果、パターンの読み取りに充分な発
光輝度を有することを確認した。
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でパターン印
字を行った。得られた複合体のパターンは、目視上、ほ
とんど見えなかった。さらに、得られた複合体に波長８
１０ｎｍの光源で励起を行い、ピーク感度９８０ｎｍの
シリコン光検出器で発光を受光することにより発光強度
を測定した。その結果、パターンの読み取りに充分な発
光輝度を有することを確認した。
【００３７】実施例５ (紫外線吸収インキ層を有する複合体)透明ＰＥＴ（５０
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する紫外線吸収イ
ンキ層(膜厚３μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイ
ンキ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
μｍ）基材にＡｌを７００℃で、７０ｎｍの膜厚に真空
蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ層
(膜厚２μｍ)、その上に下記組成を有する紫外線吸収イ
ンキ層(膜厚３μｍ)、その上に実施例1と同様のＯＰイ
ンキ層(膜厚２μｍ)をグラビア印刷にて順次重ね塗りし
た。さらに、その上にＳｎを２３０℃で８０ｎｍの膜厚
に蒸着した。蒸着層の上に実施例1と同様のＯＰインキ
層(膜厚２μｍ)をグラビア塗工した。次に上記基材の裏
面に粘着剤として天然ゴム系ラテックスを２０μの厚さ
に塗布し、さらにその上に、剥離紙を付した。最後に、
スリット及びロール加工を施して本発明の複合体を得
た。
【００３８】紫外線吸収インキ組成 顔料（酸化チタン） １５重量部 アクリル樹脂 ３０重量部 トルエン ３０重量部 ＭＥＫ ２５重量部
【００３９】上記複合体にサーマルプリンタ（ＢＣ−１
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でパターン印
字を行った。得られた複合体のパターンは、目視上、ほ
とんど見えなかった。さらに、得られた複合体に波長３
６５nmの紫外線を照射し反射率の測定を行った。その結
果、パターンの読み取りに充分な反射率差を有すること
を確認した。
２Ｗ：オートニクス製）を用いて３００℃でパターン印
字を行った。得られた複合体のパターンは、目視上、ほ
とんど見えなかった。さらに、得られた複合体に波長３
６５nmの紫外線を照射し反射率の測定を行った。その結
果、パターンの読み取りに充分な反射率差を有すること
を確認した。
【図１】磁気記録層及び基材を有する本発明の複合体の
概略説明図。
概略説明図。
【図２】保護層及び基材を有する本発明の複合体の概略
説明図。
説明図。
Claims (15)
- 【請求項1】 感熱破壊層、可視光領域で実質的に透明
で励起光照射下で検出可能な層（以下、検出層とい
う）、及び前記感熱破壊層と実質的に同等な外観を有す
る層（以下、同観層という）を少なくとも有することを
特徴とする複合体。 - 【請求項２】 感熱破壊層が金属蒸着層である請求項１
に記載の複合体。 - 【請求項３】 金属蒸着層が、Ｔｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ａ
ｌ、Ｂｉ、Ｐｂ及びＺｎからなる金属、これらの金属の
少なくとも１種を含む合金、並びにこれらの金属の化合
物からなる群から選ばれる少なくとも１種から構成され
る請求項２に記載の複合体。 - 【請求項４】 検出層が、紫外線吸収剤、紫外線蛍光
剤、赤外線吸収剤または赤外線蛍光剤を含有する請求項
１〜３のいずれか１項に記載の複合体。 - 【請求項５】 同観層が、金属蒸着層または金属顔料を
含む層である請求項１〜４のいずれか１項に記載の複合
体。 - 【請求項６】 検出層及び同観層は、感熱破壊層が感熱
破壊される条件下で実質的に不変である請求項１〜５の
いずれか１項に記載の複合体。 - 【請求項７】 感熱破壊層及び同観層が金属蒸着層であ
り、感熱破壊層を構成する金属蒸着層は、同観層を構成
する金属蒸着層より低融点を有する請求項１〜６のいず
れか１項に記載の複合体。 - 【請求項８】 感熱破壊層及び同観層が同材質の金属蒸
着層であり、感熱破壊層は同観層より層厚が薄い請求項
１〜６のいずれか１項に記載の複合体。 - 【請求項９】 同観層に隣接して基材、磁気記録層、ま
たは磁気記録層及び基材を有する請求項１〜８のいずれ
か１項に記載の複合体。 - 【請求項１０】 感熱破壊層に隣接して隠蔽層及び／又
は保護層を有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の
複合体。 - 【請求項１１】 感熱破壊層、可視光領域で実質的に透
明で励起光照射下で検出可能な検出層、及び前記感熱破
壊層と実質的に同等な外観を有する同観層を少なくとも
有する複合体の前記感熱破壊層を感熱破壊により部分的
に除去して、肉眼では認識できないパターンを形成する
ことを特徴とする不可視パターンを有する複合体の作製
方法。 - 【請求項1２】 不可視パターンが情報パターンである
請求項１１に記載の方法。 - 【請求項1３】 感熱破壊を、放電、サーマルヘッド、
またはレーザー光照射による加熱により行う請求項１１
または１２に記載の方法。 - 【請求項1４】 請求項１１に記載の方法で作製した不
可視パターンを有する複合体に検出層励起光を照射して
パターンを検出することを特徴とする不可視パターンの
検出方法。 - 【請求項1５】 請求項１２に記載の方法で作製した不
可視情報パターンを有する複合体に検出層励起光を照射
して情報パターンを読み取ることを特徴とする不可視情
報パターンの読み取り方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP361898A JPH11198537A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 感熱破壊型パターン形成用複合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP361898A JPH11198537A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 感熱破壊型パターン形成用複合体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11198537A true JPH11198537A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11562493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP361898A Pending JPH11198537A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 感熱破壊型パターン形成用複合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11198537A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003020471A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 赤外線吸収材料、赤外線吸収インク及び印刷パターン |
| JP2005178204A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱転写シート |
| WO2005063495A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Nhk Spring Co., Ltd. | 識別媒体および識別媒体の識別方法 |
| WO2012144146A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2012-10-26 | パナソニック株式会社 | 情報記録媒体用読取ラベルとその情報記録方法 |
| JP2018196994A (ja) * | 2010-10-15 | 2018-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体の印刷方法 |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP361898A patent/JPH11198537A/ja active Pending
Cited By (9)
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|---|---|---|---|---|
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| US8652592B2 (en) | 2003-12-26 | 2014-02-18 | Nhk Spring Co., Ltd. | Discrimination medium and discrimination method for discriminating the same |
| JP2018196994A (ja) * | 2010-10-15 | 2018-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 情報記録媒体、情報記録媒体の印刷方法 |
| WO2012144146A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2012-10-26 | パナソニック株式会社 | 情報記録媒体用読取ラベルとその情報記録方法 |
| CN102893314A (zh) * | 2011-04-22 | 2013-01-23 | 松下电器产业株式会社 | 信息记录介质用读取标签及其信息记录方法 |
| JPWO2012144146A1 (ja) * | 2011-04-22 | 2014-07-28 | パナソニックヘルスケア株式会社 | 情報記録媒体用読取ラベルとその情報記録方法 |
| US8899485B2 (en) | 2011-04-22 | 2014-12-02 | Panasonic Healthcare Co., Ltd. | Read label used as information recording medium and method for recording information thereon |
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