JPH1119944A - 注型用シリコーンゴム反転型の製造方法 - Google Patents
注型用シリコーンゴム反転型の製造方法Info
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- JPH1119944A JPH1119944A JP18901997A JP18901997A JPH1119944A JP H1119944 A JPH1119944 A JP H1119944A JP 18901997 A JP18901997 A JP 18901997A JP 18901997 A JP18901997 A JP 18901997A JP H1119944 A JPH1119944 A JP H1119944A
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Abstract
状の平滑表面を保持し得る注型用シリコーンゴム反転型
の製造方法を提供する。 【解決手段】 付加硬化型液状シリコーンゴム組成物を
マスター内で硬化させてシリコーンゴムの反転型を作る
際、70℃未満の温度で1次硬化を行った後、70℃以上の
温度で2次硬化を行う。
Description
面状の平滑表面を有する注型用シリコーンゴム反転型の
製造方法に関する。
て、新しい商品を開発する際に試作モデルを作製するこ
とは必要不可欠である。このような試作モデルはシリコ
ーンゴム製の反転型を用いて樹脂材料を常圧下或いは真
空又は減圧下で注型することにより作製される。近年、
この試作モデルの利用例はテレビや携帯電話などのハウ
ジングにとどまらず、高い寸法精度或いは鏡面が必要と
される分野、例えば、鏡面状の平滑表面が要求されるレ
ンズなどにも広がっている。従って、この方法で使用さ
れるシリコーンゴム反転型も高い寸法精度或いは表面の
鏡面状平滑性が要求される。なお、シリコーンゴム反転
型は、一般にマスター内で付加反応型の注型用シリコー
ン液状ゴムをヒドロシリル化反応により70℃未満の温
度で硬化させて製造されている。
製造されたシリコーンゴム反転型を用いて、試作モデル
を作製すると、数回の作製で型の表面に小さな凹みがで
き鏡面状に仕上がらず、後加工で鏡面仕上げを余儀なく
されていた。
ても高い寸法精度と共に鏡面状の平滑表面を保持し得
る、常圧下或いは真空又は減圧下での注型用シリコーン
ゴム反転型の製造方法を提供することである。
転型における上記要求を満たすため、種々検討を行った
結果、従来使用されている注型用シリコーン液状ゴムを
70℃以上の高温で硬化させ、反転型を製造した場合は、
鏡面状の仕上がりが従来の製造方法に比べて飛躍的に向
上することを発見した。しかし、このような方法で反転
型を製造すると、寸法精度が著しく低下することは従来
より知られており、そのままでは実用化は難しい。そこ
で、本発明者らは、従来行われている硬化(1次硬化)
の後に、高温での2次硬化を行うことにより、寸法精度
に大きな影響を与えることなく、鏡面状の試作モデルを
従来より多く得ることができることを発見した。本発明
は、以上のような知見に基づいて達成されたものであ
る。
て、ケイ素原子に結合したアルケニル基を1分子中に2
個以上有するオルガノポリシロキサン、(b)架橋剤と
して、ケイ素原子に結合した水素原子を1分子中に2個
以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンおよ
び(c)硬化触媒として白金族金属系触媒を含む付加硬
化型の液状シリコーンゴム組成物をマスター内で硬化さ
せてシリコーンゴムの反転型を作る際、70℃未満の温度
で1次硬化を行った後、70℃以上の温度で2次硬化を行
うことを特徴とする、常圧下或いは真空又は減圧下での
注型用シリコーンゴム反転型の製造方法を提供する。
では、従来行われている注型法によるシリコーンゴム反
転型の製造方法と全く同じでよい。即ち、付加硬化型の
注型用液状シリコーンゴム組成物をマスター内で硬化さ
せてシリコーンゴムの反転型を作る際、樹脂硬化時の寸
法精度が得られるように、70℃未満、通常30℃以上7
0℃未満、好ましくは40〜60℃の温度で硬化(1次
硬化)を行う。1次硬化時間は、使用される材料の硬化
時間によって異なるが、長いほど2次硬化での寸法精度
の安定化につながる。しかし、工業的な生産性を考慮す
ると、48時間以内、通常0.5〜48時間、特に1〜2
4時間程度であることが好ましい。
0〜180℃、好ましくは樹脂材料の注型硬化時の温度
より高い温度(樹脂材料によって異なるが、一般に90
〜150℃)で行う。この2次硬化では、寸法精度を考
慮すると、できるだけ低温処理(70〜120℃程度)
がよく、一方、鏡面状の表面平滑性を考慮すると、でき
るだけ高温処理(100〜150℃程度)が適してい
る。
シリコーンゴム組成物は、従来使用されているヒドロシ
リル化付加反応により硬化する付加硬化型の注型用液状
シリコーンゴム組成物であれば、問題なく使用すること
ができる。このような注型用液状シリコーンゴム組成物
は、(a)ベースポリマーとして、ケイ素原子に結合し
たアルケニル基を1分子中に2個以上有するオルガノポ
リシロキサン、(b)架橋剤として、ケイ素原子に結合
した水素原子(以下、SiH基という)を1分子中に2
個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンお
よび(c)硬化触媒として白金族金属系触媒を含むオル
ガノポリシロキサン組成物である。
成物としては、(a)成分のケイ素原子に結合したアル
ケニル基に対する(b)成分のケイ素原子に結合した水
素原子( SiH基)のモル比が2.5以下、通常0.8〜2.5
のものが好ましい。しかし、このモル比は、あまり低す
ぎると、反転型の強度が樹脂注型の工程に耐えられない
恐れが生じるので、1.1〜2.0の範囲にすることがさらに
好ましい。
各成分の詳細は次の通りである。(a)アルケニル基含有オルガノポリシロキサン 本発明に使用される(a)成分のアルケニル基含有オル
ガノポリシロキサンは、通常の液状付加硬化型シリコー
ンゴム組成物に主原料(ベースポリマー)として使用さ
れている公知のオルガノポリシロキサンである。
般に平均組成式RaSiO(4-a)/2(但し、Rは、通常炭
素数1〜10、特には炭素数1〜6の置換又は非置換の
1価炭化水素基を表し、これは分子中のシロキサン構造
を形成するケイ素原子に結合するものである。またaは
1.9〜2.4、特には1.95〜2.05の数であ
る。)で示され、珪素原子に結合したアルケニル基を2
個以上有し、且つ25℃における粘度が100〜1,0
00,000cP、好ましくは500〜20,000c
Pのものである。
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアルキル基;ビニ
ル、アリル、プロぺニル、イソプロペニル、ブテニル等
のアルケニル基;フェニル、トリル、キシリル等のアリ
ール基;ベンジル、フェニルエチル等のアラルキル基;
及びクロロメチル、ブロモエチル、3,3,3−トリフ
ルオロプロピル、シアノエチル等のハロゲン置換−又は
シアノ基置換炭化水素基から選ばれ、各置換又は非置換
の1価炭化水素基は、異なっていても同一であってもよ
い。ここでアルケニル基としては、ビニル基が好まし
く、また、その他の炭化水素基としては、メチル基、フ
ェニル基及びトリフルオロプロピル基が好ましい。な
お、1分子中に2個以上含有されるアルケニル基は分子
鎖両端のケイ素原子或いは分子鎖途中のケイ素原子のい
ずれに結合したものであっても、或いは両者に結合した
ものであってもよいが、シリコーンゴム硬化物の物性等
の点から、少なくとも分子鎖両末端のケイ素原子に結合
したアルケニル基を含有するものであることが好まし
い。
っても、或いはRSiO3/2単位及び/又はSiO4/2単
位を含む分岐状であってもよいが、通常は主鎖がジオル
ガノシロキサン単位(R2SiO2/2単位)の繰り返しか
らなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基(R3
SiO1/2単位)で封鎖された、直鎖状のジオルガノポ
リシロキサンであることが好ましい。
知の方法に従って製造することができ、例えば、オルガ
ノシクロポリシロキサンとヘキサオルガノジシロキサン
とをアルカリ又は酸触媒の存在下に平衡化反応を行うこ
とによって得られる。(a)成分の具体例としては、
1価炭化水素基と同じであり、またn,mはそれぞれ上
記の粘度を与える正の整数である。
サン 本発明に使用される(b)成分のオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサンは(a)成分と反応し、架橋剤として
作用する化合物である。このオルガノハイドロジェンポ
リシロキサンは、例えば平均組成式R’cHdSiO
(4-c-d)/2(但し、R’は脂肪族不飽和基を除く、非置
換又は置換の1価炭化水素基であり、cは0.8〜2、
dは0.01〜1、c+dは0.81〜3)で表され、
25℃における粘度が0.5〜5,000cP、特には
1〜1,000cP程度のものが挙げられる。その分子
構造に特に制限はなく、従来の液状付加硬化型シリコー
ンゴム組成物に通常使用されるものと同様、例えば線
状、環状、分岐状及び三次元網状(レジン状)構造等各
種のものが使用可能であるが、珪素原子に結合した水素
原子(即ち、SiH基)を1分子中に少なくとも2個、
好ましくは3個以上含む必要がある。また、この化合物
の水素原子以外の珪素原子に結合する1価の有機基(例
えば上記平均組成式におけるR’基)としては、(a)
成分のオルガノポリシロキサンにおける置換又は非置換
の1価炭化水素基と同様のものが挙げられるが、特にア
ルケニル基等の脂肪族不飽和基を除く、置換又は非置換
の1価炭化水素基、特にはメチル基、フェニル基、トリ
フルオロプロピル基が好ましい。
に、(a)成分に含まれるアルケニル基1個に対して、
b)成分に含まれる珪素原子に結合した水素原子(Si
H基)の数が通常0.8〜2.5、好ましくは1.1〜
2.0の範囲となる量である。この添加量が少なすぎる
と、架橋密度が低くなりすぎ、その結果、硬化したシリ
コーンゴムの耐熱性に悪影響を与えることがあり、また
反転型の強度が低く、樹脂注型の工程に耐えられない場
合がある。また多すぎると、反転型の表面が鏡面状にな
らなかったり、或いは同様に耐熱性に悪影響を与える恐
れがある。
ことができ、通常は例えば、オクタメチルシクロテトラ
シロキサン及び/又はテトラメチルシクロテトラシロキ
サンと、末端基となり得る、トリメチルシロキシ基、ハ
イドロジェンジメチルシロキシ基等の単位を含む、例え
ばヘキサメチルジシロキサン又は1,1′−ジヒドロ−
2,2′,3,3′−テトラメチルジシロキサン等の化
合物とを硫酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタン
スルホン酸等の触媒の存在下に−10〜+40℃程度の
温度で平衡化反応させることにより容易に得ることがで
きる。
前記した(a)成分と(b)成分との付加硬化反応(ヒ
ドロシリル化)を促進させるための触媒で、公知のもの
でよい。従って、c)成分としては白金ブラック;塩化
白金酸;塩化白金酸のアルコール変性物;塩化白金酸と
オレフィン、アルデヒド、ビニルシロキサン又はアセチ
レンアルコール類等との錯体等の白金化合物;及びロジ
ウム、パラジウム等の白金族金属を含有する化合物等が
例示されるが、(a)成分、(b)成分との相溶性の点
から、塩化白金酸のビニルシロキサン錯体等のシラン、
シロキサン変性物が好ましい。なお、この添加量は希望
する硬化速度に応じて適宜増減すればよいが、通常は
a)成分に対して白金換算量で0.1〜1,000pp
m、好ましくは1〜200ppmの範囲である。
度及び引張り強さなどの物理的強度を付与する目的で通
常、充填剤が含まれる。このような充填剤としては、従
来、シリコーンゴム組成物に通常使用されるものでよ
い。具体的には、例えばヒュームドシリカ、結晶性シリ
カ、石英粉、沈降性シリカ、破砕シリカ、疎水化処理し
たシリカなどのシリカ系充填剤が挙げられ、これらは1
種単独でも或いは2種以上組み合わせて使用してもよ
い。市販品では、親水性のシリカとして、Aerosi
l 130,200,300(日本アエロジル社、De
gussa社製)、Cabosil MS−5、MS−
7(Cabot社製)、Rheorosil QS−1
02,103(徳山曹達社製)、Nipsil LP
(日本シリカ製)等が挙げられる。また疎水性シリカと
して、Aerosil R−812,R−812S,R
−972、R−974(Degussa社製)、Rhe
orosil MT−10(徳山曹達社製)、Nips
il SSシリーズ(日本シリカ製)などが挙げられ、
更に結晶性シリカとして、クリスタライト、Minus
il,lmisilなどが挙げられる。(d)成分の充
填剤の配合量は、(a)成分100重量部に対して、好
ましくは5〜300重量部、より好ましくは20〜20
0重量部である。
応じて従来のシリコーンゴム組成物に使用される各種添
加剤を添加することができる。
温での可使時間を延長させるなど)ための制御剤とし
て、ビニルシクロテトラシロキサンのようなビニル基含
有オルガノポリシロキサン、トリアリルイソシアヌレー
ト、アルキルマレエート、アセチレンアルコール類(例
えばアセチレンアルコール、1−エチニル−1−シクロ
ヘキサノールなど)並びにそのシラン及びシロキサン変
性物、ハイドロパーオキサイド、テトラメチルエチレン
ジアミン、ベンゾトリアゾール及びそれらの混合物など
を添加してもよい。
の充填剤;コバルトブルーのような無機顔料、有機染料
などの着色剤;酸化セリウム、炭酸亜鉛、炭酸マンガ
ン、ベンガラ酸化チタン、カーボンブラック等の耐熱性
・難燃性向上剤などの添加も可能である。更に、作業性
や離型性を向上させるため、非反応性の無官能シリコー
ンオイル(例えば、末端トリメチルシリル基封鎖のジオ
ルガノポリシロキサン等)など当業界で一般的に添加剤
として使用されているものはいずれも使用可能である。
ゴム組成物の市販品としては、例えば信越化学工業社製
のKE1310TとCat.1310との組合せ、 KE1310TとCat.1300L
-2との組合せ等が挙げられる。
なお、例中の部は、全て重量部である。実施例1 付加硬化型液状シリコーンゴム組成物として、信越化学
工業社製KE1310〔組成はビニル基含有ジメチルポリシロ
キサン(主剤)、シリカ充填剤及び白金触媒を含有す
る〕 100部に対して、同社製Cat.1310〔組成はビニル基
含有ジメチルポリシロキサン(主剤)及びメチルハイド
ロジェンポリシロキサン(架橋剤)を含有する〕を10部
均一に混合した後、減圧脱泡機を用いて脱泡する。これ
を、表面がクロムメッキされた80(長さ)×50(幅)×8(深
さ)mmの金属片からなるマスターに供給し、60℃×2時
間の1次硬化を行った後、120℃×2時間の2次硬化を
行って、シリコーンゴムの反転型を製造した。
製Cat.1300L-2〔組成はビニル基含有ジメチルポリシロ
キサン(主剤)及びメチルハイドロジェンポリシロキサ
ン(架橋剤)を含有する〕を10部均一に混合した後、減
圧脱泡機を用いて脱泡する。これを、実施例1と同じマ
スターに供給し、60℃×4時間の1次硬化を行った後、
120℃×4時間の2次硬化を行って、シリコーンゴムの
反転型を製造した。
用いたCat.1300L-2を10部均一に混合した後、減圧脱泡
機を用いて脱泡する。これを実施例1と同じマスターに
供給し、50℃×24時間の1次硬化を行った後、100℃×
6時間の2次硬化を行ってシリコーンゴムの反転型を製
造した。
例1で用いたCat.1310を10部均一に混合した後、減圧脱
泡機を用いて脱泡する。これを実施例1と同じマスター
に供給し、60℃×2時間の硬化を行ってシリコーンゴム
の反転型を製造した。
用いたCat.1300L-2を10部均一に混合した後、減圧脱泡
機を用いて脱泡する。これを実施例1と同じマスターに
供給し、60℃×4時間の硬化を行ってシリコーンゴムの
反転型を製造した。
用いたCat.1300L-2を10部均一に混合した後、減圧脱泡
機を用いて脱泡する。これを実施例1と同じマスターに
供給し、50℃×24時間の硬化を行ってシリコーンゴムの
反転型を製造した。
用いて透明エポキシ樹脂材料の注型を行った。即ち、広
栄化学工業社製透明エポキシ樹脂材料(キャスコンKR67
5の主剤及び硬化剤)を50℃の乾燥機中に放置して50℃
に加熱した後、これを規定量(主剤100部、硬化剤35
部)混合し、反転型に注入し、60℃×3時間注型を行っ
た。その後、硬化したエポキシ樹脂を取り出し、反転型
の表面状態を下記基準で評価した。また、上記注型操作
を繰り返し、同様に反転型の表面状態を評価した。
れた各反転型へのエポキシ樹脂材料の注型を0.1mmHg
以下の真空減圧下で行った他は、上記と同様な条件で注
型操作を繰り返し、反転型の表面状態を評価した結果、
表1と同じ結果が得られた。
ゴム反転型は、各種樹脂材料の常圧下或いは真空又は減
圧下での注型に繰り返し使用しても高い寸法精度と共に
鏡面状の平滑表面を保持することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 (a)ベースポリマーとして、ケイ素原
子に結合したアルケニル基を1分子中に2個以上有する
オルガノポリシロキサン、(b)架橋剤として、ケイ素
原子に結合した水素原子を1分子中に2個以上有するオ
ルガノハイドロジェンポリシロキサンおよび(c)硬化
触媒として白金族金属系触媒を含む付加硬化型の液状シ
リコーンゴム組成物をマスター内で硬化させてシリコー
ンゴムの反転型を作る際、70℃未満の温度で1次硬化を
行った後、70℃以上の温度で2次硬化を行うことを特徴
とする注型用シリコーンゴム反転型の製造方法。 - 【請求項2】 1次硬化を行った後、マスターを脱型
し、次いで2次硬化を行う請求項1に記載の注型用シリ
コーンゴム反転型の製造方法。 - 【請求項3】 前記液状シリコーンゴム組成物として、
(a)成分のケイ素原子に結合したアルケニル基に対す
る(b)成分のケイ素原子に結合した水素原子のモル比
が0.8〜2.5のものが使用される請求項1に記載の注型用
シリコーンゴム反転型の製造方法。 - 【請求項4】 2次硬化の温度が樹脂の注型時の最高温
度より高い温度である請求項1に記載の注型用シリコー
ンゴム反転型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18901997A JP3746139B2 (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 注型用シリコーンゴム反転型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18901997A JP3746139B2 (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 注型用シリコーンゴム反転型の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1119944A true JPH1119944A (ja) | 1999-01-26 |
| JP3746139B2 JP3746139B2 (ja) | 2006-02-15 |
Family
ID=16233950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18901997A Expired - Fee Related JP3746139B2 (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 注型用シリコーンゴム反転型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3746139B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001081194A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Dow Corning Asia Ltd | 近紫外光領域用ポリシロキサン樹脂の製造方法 |
| JP2008012902A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 平坦化層を有する基板の製造方法 |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP18901997A patent/JP3746139B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001081194A (ja) * | 1999-09-09 | 2001-03-27 | Dow Corning Asia Ltd | 近紫外光領域用ポリシロキサン樹脂の製造方法 |
| JP2008012902A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-24 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 平坦化層を有する基板の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3746139B2 (ja) | 2006-02-15 |
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