JPH11199574A - ジベンゾチアゼピン誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 抗精神病薬としての用途が知られている１１
−〔４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）〕
−１−ピペラジニルジベンゾチアゼピン誘導体の出発原
料として利用することのできるジベンゾ〔ｂ，ｆ〕
〔１、４〕チアゼピン−１１−オンに代表されるジベン
ゾチアゼピン誘導体の新規な製法を提供すること。 【解決手段】 ニトロベンゼン誘導体とチオサリチル酸
誘導体とを、塩基の存在下、溶媒中で反応させ、得られ
た２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィ
ド誘導体を還元して、次いで得られた２−アミノ−２’
−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を更に脱水
縮合することにより、ジベンゾチアゼピン誘導体を得る
方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品の中間体と
して有用なジベンゾチアゼピン誘導体の製法に関する。
本発明は特に、抗精神病薬として有用な１１−〔４−
（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル〕−１−ピペ
ラジニルジベンゾチアゼピンおよびその誘導体の中間体
として有用な下記一般式（５）で表わされるジベンゾチ
アゼピン誘導体の製法に関する。

【０００２】

【化１０】

【０００３】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は、同一または互いに異なって
いてもよく、水素原子、または置換基を有してもよいア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリ
ール基、アリールオキシ基もしくはアリールカルボニル
基を表わす）。

【０００４】

【従来の技術】上記一般式（５）のジベンゾチアゼピン
誘導体については、ＥＰ−０２８２２３６−Ａ1 公報に
記載があり、このジベンゾチアゼピン誘導体を原料とし
て、抗精神病薬として有用な１１−〔４−（２−（２−
ヒドロキシエトキシ）エチル〕−１−ピペラジニルジベ
ンゾチアゼピン誘導体に導くことができることが示され
ている。即ち、一般式（５）のジアゼピン誘導体の代表
化合物である、ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピ
ン−１１−オンをオキシ塩化燐と反応させて１１−クロ
ロ−ジベンゾチアゼピン誘導体を得て、次にこの１１−
クロロ−ジベンゾチアゼピン誘導体にピペラジンを付加
させて１１−ピペラジニル−ジベンゾチアゼピン誘導体
を得て、最後にこの１１−ピペラジニル−ジベンゾチア
ゼピン誘導体と２−クロロエトキシエタノ−ルを、塩基
性条件下で反応させて、上記の１１−〔４−（２−（２
−ヒドロキシエトキシ）エチル〕−１−ピペラジニルジ
ベンゾチアゼピン誘導体に導くことができることが示さ
れている。

【０００５】上記のＥＰ−０２８２２３６−Ａ1 公報に
は、ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン−１１−
オンの製法として、２−（フェニルチオ）フェニルカル
バミン酸フェニルあるいはその類似化合物の環化反応
（ポリリン酸存在下）を利用する方法が記載されてい
る。

【０００６】Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．４２巻，
１２６３頁（１９５９年）には、チオサリチル酸メチル
誘導体と２−ハロゲン化−ニトロベンゼン誘導体とを、
ナトリウム存在下、加熱反応させて、２−ニトロ−２’
−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を合成し、
これをラネ−ニッケルを用いて還元して２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体とし、
最後に高温下で反応させることで、ジベンゾチアゼピン
誘導体を製造する方法が記載されている。

【０００７】Ｏｒｇ．Ｐｒｅｐ．Ｐｒｏｃｅｄ．Ｉｎ
ｔ．，２８７頁（１９７４年）には、チオサリチル酸エ
ステル誘導体と２−ヨード−ニトロベンゼン誘導体とを
ナトリウムメチラ−トと銅との存在下加熱した後、アル
カリ及び酸処理を行って２−ニトロ−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィド誘導体を合成し、これを硫酸第
１鉄のアンモニア水溶液を用いて還元して２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体とし、
最後に加熱減圧下で反応させることで、ジベンゾチアゼ
ピン誘導体を製造する方法が記載されている。

【０００８】ＷＯ９２／１９６０７号公報には、２−ア
ミノチオフェノールと２ーフルオロベンゾニトリルとを
反応させて、２−（２−アミノフェニルチオ）ベンゾニ
トリルを得たのち、この化合物を加水分解して、２−
（２−カルボキシフェニルチオ）アニリンとし、最後に
この化合物を環化反応に付して、一般式（５）のジベン
ゾチアゼピン誘導体を製造する方法が記載されている。

【０００９】上記のように、一般式（５）のジベンゾチ
アゼピン誘導体の製法として、既にいくつかの方法が知
られているが、これらの方法は、収率が低い、反応に高
温が必要である、特殊な原料を用いる必要がある、ある
いは工業的に後処理が面倒な化合物を用いるなどの、工
業的な製法として改良を必要とする問題がある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、前
記一般式（５）のジベンゾチアゼピン誘導体の製法とし
て、工業的に有利な方法、すなわち、容易に入手可能な
原料化合物を用いて、煩雑な後処理を行うことなく、ジ
ベンゾチアゼピン誘導体を高収率で得る製造方法を提供
することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するために鋭意研究した結果、容易に入手可能
なニトロベンゼン誘導体とチオサリチル酸誘導体とを用
いて、高収率かつ簡単な操作でジベンゾチアゼピン誘導
体を製造できる新規な方法を見い出して本発明を完成す
るに至った。

【００１２】本発明は、一般式（１）：

【００１３】

【化１１】

【００１４】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、およびＲ⁴
は、同一または互いに異なっていてもよく、水素原子、
または置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルキルカルボニル基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはアリールカルボニル基を表わし、そしてＸ
はハロゲン原子を表わす）で表されるニトロベンゼン誘
導体と、一般式（２）：

【００１５】

【化１２】

【００１６】（式中、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸
は、同一または互いに異なっていてもよく、水素原子、
または置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ
基、アルキルカルボニル基、アリール基、アリールオキ
シ基もしくはアリールカルボニル基を表わす）で表され
るチオサリチル酸誘導体とを反応させて、一般式
（３）：

【００１７】

【化１３】

【００１８】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で
表される２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルス
ルフィド誘導体を生成させた後、該２−ニトロ−２’−
カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を還元して、
一般式（４）：

【００１９】

【化１４】

【００２０】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で
表される２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルス
ルフィド誘導体を生成させた後、該２−アミノ−２’−
カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を脱水縮合す
ることを特徴とする、一般式（５）：

【００２１】

【化１５】

【００２２】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で
表されるジベンゾチアゼピン誘導体の製造方法にある。

【００２３】本発明はまた、一般式（３）：

【００２４】

【化１６】

【００２５】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は、同一または互いに異なって
いてもよく、水素原子、または置換基を有してもよいア
ルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリ
ール基、アリールオキシ基もしくはアリールカルボニル
基を表わす）で表わされる２−ニトロ−２’−カルボキ
シ−ジフェニルスルフィド誘導体を還元して、一般式
（４）：

【００２６】

【化１７】

【００２７】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で
表される２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルス
ルフィド誘導体を生成させた後、該２−アミノ−２’−
カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を脱水縮合す
ることを特徴とする、一般式（５）：

【００２８】

【化１８】

【００２９】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、
Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で
表されるジベンゾチアゼピン誘導体の製造方法にもあ
る。本発明はまた、上記一般式（３）で表わされる２−
ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導
体にもある。

【００３０】本発明の一般式（５）のジベンゾチアゼピ
ン誘導体の製造方法は、例えば、下記の反応スキームに
よって表わすことができる。

【００３１】

【化１９】

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至
Ｒ⁸ が表わす「置換基を有してもよいアルキル基」と
は、（１）「置換基を有しない炭素原子数１〜１０個の
直鎖状または分岐状のアルキル基」か、又は（２）「置
換基を有する炭素原子数１〜１０個の直鎖状または分岐
状のアルキル基」を意味する。

【００３３】（１）の「置換基を有しない炭素原子数１
〜１０個の直鎖状または分岐状のアルキル基」として
は、炭素原子数１〜８個（特に炭素原子数１〜５個）の
直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基（異性体を含む）、ブチ
ル基（異性体を含む）、ペンチル基（異性体を含む）、
ヘキシル基（異性体を含む）、ヘプチル基（異性体を含
む）、オクチル基（異性体を含む）、ノニル基（異性体
を含む）、デシル基（異性体を含む）等を挙げることが
でき、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基
（異性体を含む）、ブチル基（異性体を含む）、ペンチ
ル基（異性体を含む）、ヘキシル基（異性体を含む）、
ヘプチル基（異性体を含む）、オクチル基（異性体を含
む）であり、特に好ましくはメチル基、エチル基、プロ
ピル基（異性体を含む）、ブチル基（異性体を含む）、
ペンチル基（異性体を含む）である。

【００３４】（２）「置換基を有している炭素原子数１
〜１０個の直鎖状または分岐状のアルキル基」のアルキ
ル部分としては、前記の（１）で述べたアルキル基を挙
げることができる。

【００３５】「置換基を有している炭素原子数１〜１０
個の直鎖状または分岐状のアルキル基」の置換基として
は、アルキル部分の任意の位置に置換してよい、（２−
１）例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基（異
性体を含む）、ブトキシ基（異性体を含む）、ペンチル
オキシ基（異性体を含む）、ヘキシルオキシ基（異性体
を含む）、ヘプチルオキシ基（異性体を含む）、オクチ
ルオキシ基（異性体を含む）、ノニルオキシ基（異性体
を含む）、デシルオキシ基（異性体を含む）のような炭
素原子数１〜１０個の直鎖状または分岐状のアルコキシ
基、（２−２）アセチル基、プロピオニル基（異性体を
含む）、ブタノイル基（異性体を含む）、ペンタノイル
基のような炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐状のア
ルキル基部分を持つ炭素原子数２〜６のアルキルカルボ
ニル基、（２−３）「置換されてもよいフェニルカルボ
ニル基」、または（２−４）「置換されてもよいフェニ
ル基」を挙げることができる。

【００３６】（２−３）の「置換されてもよいフェニル
カルボニル基」としては、「置換基を有していないフェ
ニルカルボニル基」か、または「置換基を有するフェニ
ルカルボニル基」を挙げることができる。（２−４）の
「置換されてもよいフェニル基」としては、「置換基を
有していないフェニル基」か、又は「置換基を有するフ
ェニル基」を挙げることができる。「置換基を有するフ
ェニルカルボニル基」又は「置換を有するフェニル基」
の各置換基としては、フェニル基、フェニルカルボニル
基、前記のようなアルキル基、前記のようなアルコシキ
基又は前記のようなアルキルカルボニル基を挙げること
ができる。

【００３７】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ が表
わす「置換基を有してもよいアルコキシ基」は、（３）
「置換基を有しない炭素原子数１〜１０個の直鎖状また
は分岐状のアルキル部分を持つ炭素原子数１〜１０個の
アルコキシ基」か、または（４）「置換基を有する炭素
原子数１〜１０個の直鎖状または分岐状のアルキル基部
分を持つ炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基」を意味
する。

【００３８】（３）の「置換基を有していない炭素原子
数１〜１０個の直鎖状または分岐状のアルキル基部分を
持つ炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基」としては、
前記の（２−１）で述べたアルコキシ基を挙げることが
できる。（４）の「置換基を有している炭素原子数１〜
１０個の直鎖状または分岐状のアルキル部分を持つ炭素
原子数１〜１０個のアルコキシ基」の置換基としては、
前記の（１）で述べたアルキル基、（２−２）で述べた
炭素原子数２〜６のアルキルカルボニル基、（２−３）
で述べた「置換されてもよいフェニルカルボニル基」、
（２−４）で述べた「置換されてもよいフェニル基」を
挙げることができる。

【００３９】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ が表
わす「置換基を有してもよいアルキルカルボニル基」
は、（５）「置換基を有していない炭素原子数１〜１０
個の直鎖状または分岐状のアルキル部分を持つ炭素原子
数２〜１１個のアルキルカルボニル基」、（６）「置換
基を有している炭素原子数１〜１０個の直鎖状または分
岐状のアルキル基部分を持つ炭素原子数２〜１１個のア
ルキルカルボニル基」を意味する。

【００４０】（５）の「置換基を有していない炭素原子
数１〜１０個の直鎖状または分岐状のアルキル基部分を
持つ炭素原子数２〜１１個のアルキルカルボニル基」の
アルキル部分としては、前記の（１）で述べたアルキル
基を挙げることができる。そして（６）の「置換基を有
している炭素原子数１〜１０個の直鎖状または分岐状の
アルキル部分を持つ炭素原子数２〜１１個のアルキルカ
ルボニル基」の置換基としては、前記の（２）で述べた
アルキル基の置換基を挙げることができる。

【００４１】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ が表
わす「置換基を有してもよいアリール基」は、（７）
「置換基を有していないアリール基」か、又は（８）
「置換基を有しているアリール基」を意味する。

【００４２】（７）の「置換基を有していないアリール
基」としては、例えばフェニル基、ナフチル基、アント
リル基等を挙げることができ、好ましくはフェニル基、
ナフチル基、特に好ましくはフェニル基である。（８）
の「置換基を有しているアリール基」の置換基として
は、前記の（２）で述べたアルキル基の置換基を挙げる
ことができる。

【００４３】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ が表
わす「置換基を有してもよいアリールオキシ基」は、
（９）「置換基を有していないアリール部分を持つアリ
ールオキシ基」か、又は（１０）「置換基を有している
アリール基部分を持つアリールオキシ基」を意味する。

【００４４】（９）の「置換基を有していないアリール
基部分を持つアリールオキシ基」のアリール基として
は、前記（７）で述べたアリール基を挙げることができ
る。そして（１０）の「置換基を有しているアリール基
部分を持つアリールオキシ基」の置換基としては、前記
の（２）で述べたアルキル基の置換基を挙げることがで
きる。

【００４５】本発明の製法において、Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ が表
わす「置換基を有してもよいアリールカルボニル基」
は、（１１）「置換基を有していないアリール基部分を
持つアリールカルボニル基」か、又は（１２）「置換基
を有しているアリール基部分を持つアリールカルボニル
基」を意味する。

【００４６】（１１）の「置換基を有していないアリー
ル基部分を持つアリールカルボニル基」のアリール基と
しては、前記の（７）で述べたアリール基を挙げること
ができる。（１２）の「置換基を有しているアリール基
部分を持つアリールカルボニル基」の置換基としては、
前記の（２）で述べたアルキル基の置換基を挙げること
ができる。

【００４７】Ｒ¹ 乃至Ｒ⁸ は、同一または互いに異なっ
ていてよく、好ましくは水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アルキルカルボニル基、アリール基、アリール
オキシ基、またはアリールカルボニル基であり、特に好
ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基又はア
ルキルカルボニル基である。

【００４８】本発明の製法において、Ｘが表わすハロゲ
ン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、又は沃素原子を挙げることができ、好ましくはフッ
素原子、塩素原子、又は臭素原子である。

【００４９】第１工程では、一般式（１）で表わされる
ニトロベンゼン誘導体と一般式（２）で表わされるチオ
サリチル酸誘導体とを、好ましくは塩基の存在下にて溶
媒中で反応させて、２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジ
フェニルスルフィド誘導体を製造する。

【００５０】本発明の第１工程で使用される一般式
（１）で表されるニトロベンゼン誘導体の具体例として
は、例えば２−クロロニトロベンゼン、２−ブロモニト
ロベンゼン、２−フルオロニトロベンゼン、２−ヨ−ド
ニトロベンゼン、２−クロロ−５−メトキシ−ニトロベ
ンゼン、２−ブロモ−５−メトキシ−ニトロベンゼン、
２−フルオロ−５−メトキシ−ニトロベンゼン、２−ヨ
−ド−５−メトキシ−ニトロベンゼン、２−クロロ−５
−メチル−ニトロベンゼン、２−ブロモ−５−メチル−
ニトロベンゼン、２−フルオロ−５−メチル−ニトロベ
ンゼン、２−ヨ−ド−５−メチル−ニトロベンゼン、２
−クロロ−５−フェニル−ニトロベンゼン、２−ブロモ
−５−フェニル−ニトロベンゼン、２−フルオロ−５−
フェニル−ニトロベンゼン、２−ヨ−ド−５−フェニル
−ニトロベンゼン、２−クロロ−５−アセチル−ニトロ
ベンゼン、２−ブロモ−５−アセチル−ニトロベンゼ
ン、２−フルオロ−５−アセチル−ニトロベンゼン又は
２−ヨ−ド−５−アセチル−ニトロベンゼンを挙げるこ
とができ、好ましくは２−クロロニトロベンゼン、又は
２−ブロモニトロベンゼンである。

【００５１】本発明の製法で使用される一般式（２）で
表されるチオサリチル酸誘導体の具体例としては、例え
ばチオサリチル酸、５−メトキシ−チオサリチル酸、５
−メチル−チオサリチル酸、５−フェニル−チオサリチ
ル酸又は５−アセチル−チオサリチル酸を挙げることが
でき、好ましくはチオサリチル酸又は５−メトキシチオ
サリチル酸である。

【００５２】一般式（１）のニトロベンゼン誘導体は、
チオサリチル酸誘導体１モルに対して通常０．７〜１０
倍モル、特に１．０〜５倍モルの割合になる使用量で用
いることが好ましい。

【００５３】第１工程で使用される溶媒としては、反応
に関与しないものであれば特に限定されないが、例え
ば、水、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチルピリドン、ジメチルイミ
ダゾリドン等のアミド系有機溶媒、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノールのような脂肪族アルコール系有機溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのよ
うなケトン系有機溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリ
ルのようなアミド系有機溶媒であり、好ましくは水、ア
ミド系有機溶媒、脂肪族アルコール系有機溶媒である。

【００５４】第１工程の溶媒は、溶媒に対する原料化合
物の合計量が、０．０５〜０．８倍量（原料化合物合計
重量／溶媒の容量）の範囲の割合になる量で用いること
が好ましく、特に０．１〜０．６倍量（原料化合物合計
重量／溶媒の容量）の範囲の割合になる量が好ましい。

【００５５】第１工程における反応温度は、通常使用す
る溶媒の沸点までの温度であればよいが、好ましくは０
〜１５０℃の範囲であり、特に好ましくは２０〜１００
℃の範囲である。

【００５６】第１工程の製造における反応時間は、反応
温度によって著しく影響を受けるが、通常は２０時間以
内に反応は完結する。

【００５７】第１工程で好ましく使用される塩基として
は、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウ
ム、またはナトリウムメチラートを挙げることができ、
特に好ましくは、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、または水酸化カリウムである。これら塩
基は、原料化合物合計量に対して１〜１０倍モルの範囲
の割合になる量で用いることが好ましく、特に１．５〜
５倍モルの割合になる量が用いることが好ましい。

【００５８】第１工程においては、塩基以外に、反応を
促進させる添加物を更に加えてもよく、そのような添加
物としては、ヨウ化カリウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ
ピリジン等を挙げることができる。この時の添加物の使
用量としては、原料化合物合計量に対して、０．０５〜
１０モル％（添加物のモル数／原料化合物合計量のモル
数）の範囲の割合となる量が好ましく、特に０．１〜５
モル％モル（同）の範囲の割合になる量が好ましい。

【００５９】本発明の製法の第１工程で得られる一般式
（３）で表される２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフ
ェニルスルフィド誘導体は、前記の一般式（１）で表さ
れるニトロベンゼン誘導体と、一般式（２）で表される
チオサリチル酸誘導体とによって規定されるが、そのよ
うな２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド誘導体としては、例えば２−ニトロ−２’−カルボ
キシ−ジフェニルスルフィド、２−ニトロ−４−メトキ
シ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド、２−ニ
トロ−４−メチル−２’−カルボキシ−ジフェニルスル
フィド、２−ニトロ−４−フェニル−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィド、２−ニトロ−４−アセチル−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド、および２−
ニトロ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ−ジフェニ
ルスルフィドを挙げることができ、好ましくは２−ニト
ロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド、又は２
−ニトロ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ−ジフェ
ニルスルフィドである。

【００６０】第１工程において２−ニトロ−２’−カル
ボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を得る方法は、通
常の洗浄操作、分離操作を組み合わせて、例えば反応混
合物に酸を添加して酸性とし、析出した結晶を濾別して
粗生成物を得る方法や、反応液に水と抽出溶媒（有機溶
媒）を添加し、これに酸を添加して水層のｐＨを酸性と
する。有機層を減圧濃縮することで粗生成物が得られ
る。通常はこれらの状態で次工程に用いても問題ない
が、更に精製するには、カラムクロマトグラフィーや再
結晶操作によって精製すればよいが、精製法については
各化合物について適宣選択すればよい。上記の処理にお
いて用いる酸としては、好ましくは塩酸、硫酸、燐酸、
又は酢酸である。

【００６１】本発明の製法における第２工程は、一般式
（３）で表わされる２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジ
フェニルスルフィド誘導体を、還元して一般式（４）で
表わされる２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニル
スルフィド誘導体を製造する方法である。

【００６２】第２工程において使用される還元剤として
は、ニトロ基の一般的な還元に用いられるものであれば
特に限定はされないが、好ましくはラネ−ニッケル法
（以下反応（Ａ）という）又は第一鉄塩法（以下反応
（Ｂ）という）である。

【００６３】反応（Ａ）：ラネーニッケル法 この方法に使用するラネ−ニッケルの使用量としては、
ニッケル量として２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフ
ェニルスルフィド誘導体に対して、通常１．０〜８０重
量％であり、好ましくは５．０〜４０重量％である。ラ
ネーニッケルの種類としては１０〜６０％Ｎｉ−Ａｌ合
金であり、それに添加物としてＣｒおよびＭｏを含むも
のを用いてもよい。また安定化ニッケルの使用も可能で
ある。ラネーニッケルの展開方法により収率にさほど影
響を与えないが、Ｗ−６の方法（久保 松照夫、小松
信一郎、”ラネ−触媒”、（川研ファインケミカル株式
会社）、（昭和４６年５月１０日）、５５頁参照）が最
も良い結果を与えた。もちろん、他の展開方法でも十分
な活性を示した。反応（Ａ）で反応を行う場合、通常水
素加圧下で行うため、オートクレーブ中で反応を行う。
水素圧力は高いほど良好な結果を与えるが、通常５〜１
００気圧で行う。常圧で反応を行うこともでき、この時
は水素を流しながら反応を行う。

【００６４】反応（Ａ）で使用される溶媒としては、反
応に関与しないものであれば特に限定されないが、例え
ばメタノ−ル、エタノ−ル、ｎ−プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル又はｎ−ブタノ−ルのような脂肪族アルコー
ル系有機溶媒が好ましい。この溶媒は、２−ニトロ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体の溶媒
に対する割合が、０．０５〜０．６倍量（２−ニトロ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体重量／
溶媒の容量）の範囲になる量が好ましく、特に０．１〜
０．６倍量（同）の範囲の割合になる量が好ましい。

【００６５】反応（Ａ）における反応温度としては、通
常使用する溶媒の沸点までの温度であればよいが、好ま
しくは２０〜２００℃の範囲であり、特に好ましくは２
５〜１５０℃の範囲である。反応時間としては、反応温
度や水素圧力によって著しく影響を受けるが、通常は２
０時間以内に反応は完結する。

【００６６】反応（Ａ）において２−アミノ−２’−カ
ルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を得る方法は、
通常の洗浄操作、分離操作を組み合わせて、例えば反応
混合物を濾過し、得られた濾液を減圧濃縮することで粗
生成物が得られる。通常はこの状態で次工程に用いても
問題ないが、更に精製するには、カラムクロマトグラフ
ィーや再結晶操作によって精製すればよいが、精製法に
ついては各化合物について適宣選択すればよい。

【００６７】反応（Ｂ）：第一鉄塩法 この方法に使用される第一鉄塩としては、例えば硫酸第
一鉄類又は塩化第一鉄を挙げることができ、これらは水
和物もしくは無水物のいずれの状態で用いられてもよ
く、好ましくは硫酸第一鉄・７水和物、無水塩化第一
鉄、塩化第一鉄・４水和物又は塩化第一鉄・ｎ水和物で
ある。これらの使用量としては、鉄量として２−ニトロ
−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体に対
して０．１〜３０倍重量の範囲内の量であり、好ましく
は０．５〜１０倍重量の範囲内の量である。

【００６８】反応（Ｂ）で使用される溶媒としては、通
常、水とアンモニア水の混合溶媒を用いる。用いるアン
モニア水は通常、濃アンモニア水（アンモニア濃度２５
〜２８ｗｔ％）を用いて行うが、含有しているアンモニ
ア量さえ十分であれば、より低濃度のアンモニア水を用
いたり、水にアンモニアガスを吹き込んだものを用いた
りしてもよい。水は、２−ニトロ−２’−カルボキシ−
ジフェニルスルフィド誘導体の水に対する量が、０．０
１〜０．４倍当量（２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジ
フェニルスルフィド誘導体重量／水の容量）の範囲の割
合になる量であることが好ましく、特に０．０２〜０．
２倍当量（同）の範囲の割合になる量が好ましい。アン
モニアは、２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニル
スルフィド誘導体のアンモニアに対する使用量が、０．
００５〜０．５倍当量（２−ニトロ−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィド誘導体重量／アンモニアの重
量）の範囲の割合になる量となるように用いることが好
ましく、特に０．０１〜０．５倍当量（同）の割合にな
る量が好ましい。

【００６９】反応（Ｂ）における反応温度としては、通
常使用する溶媒の沸点までの温度であればよいが、好ま
しくは２０〜１００℃の範囲であり、特に好ましくは４
０〜９０℃の範囲である。反応時間としては、反応温度
によって著しく影響を受けるが、通常は２時間以内に反
応は完結する。

【００７０】反応（Ｂ）において２−アミノ−２’−カ
ルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を得る方法は、
通常の洗浄操作、分離操作を組み合わせて、例えば反応
混合物を濾過し、濾液に酸を添加して水層のｐＨを酸性
とする。有機層を減圧濃縮することで粗生成物が得られ
る。通常はこの状態で次工程に用いても問題ないが、更
に精製するには、カラムクロマトグラフィーや再結晶操
作によって精製すればよいが、精製法については各化合
物について適宣選択すればよい。上記の酸としては、好
ましくは塩酸、硫酸、燐酸又は酢酸である。

【００７１】本発明の製法の第２工程で得られる一般式
（４）で表される２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフ
ェニルスルフィド誘導体は、前記の一般式（３）で表さ
れる２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド誘導体によって規定され、このような２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体として
は、例えば２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニル
スルフィド、２−アミノ−４−メトキシ−２’−カルボ
キシ−ジフェニルスルフィド、２−アミノ−４−メチル
−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド、２−アミ
ノ−４−フェニル−２’−カルボキシ−ジフェニルスル
フィド、２−アミノ−４−アセチル−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィド、および２−アミノ−２’−カ
ルボキシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィドを挙
げることができ、好ましくは２−アミノ−２’−カルボ
キシ−ジフェニルスルフィド、又は２−アミノ−２’−
カルボキシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィドで
ある。

【００７２】本発明の製法における第３工程は、一般式
（４）で表わされる２−アミノ−２’−カルボキシ−ジ
フェニルスルフィド誘導体を脱水縮合して、一般式
（５）で表わされるジベンゾチアゼピン誘導体を製造す
る方法である。

【００７３】第３工程の反応は、無溶媒で行ってもよい
が、好ましくは疎水性で、かつ反応に不活性な溶媒を用
いる。このような溶媒としては、例えばトルエン、キシ
レン、ベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロベン
ゼン、１，２−ジクロロベンゼン、１，３−ジクロロベ
ンゼン、１，４−ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、
１，２−ジブロモベンゼン、１，３−ジブロモベンゼ
ン、１，４−ジブロモベンゼン等の芳香族ハロゲン化物
系溶媒、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオク
タン等の環状炭化水素系溶媒又は酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル等の脂肪族エ
ステル系溶媒等を挙げることができ、特に好ましくはト
ルエン、キシレン、又は１，２−ジクロロベンゼンであ
る。

【００７４】第３工程で使用される溶媒の使用量として
は特に限定はないが、２−アミノ−２’−カルボキシ−
ジフェニルスルフィド誘導体の重量に対する溶媒の体積
比（Ｗ／Ｖ％）が、例えば３％以上を挙げることがで
き、好ましくは４％〜４０％の範囲である。また反応速
度や転化率を高めるために、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置
を用いて共沸脱水操作（副生する水を除去しながら環流
をする）を行ってもよい。第３工程での反応温度として
は、前述した有機溶媒の沸点以下であれば特に限定する
ことはないが、好ましくは１００℃〜２００℃程度であ
る。

【００７５】第３工程で得られる一般式（５）で表され
るジベンゾチアゼピン誘導体は、前記の一般式（４）で
表される２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルス
ルフィド誘導体によって規定され、そのような目的物の
ジベンゾチアゼピン誘導体としては、例えばジベンゾ
〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕チアゼピン−１１−オン、８−メ
チル−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕チアゼピン−１１
−オン、８−フェニル−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕
チアゼピン−１１−オン、８−メトキシ−ジベンゾ
〔ｂ，ｆ〕〔１，４〕チアゼピン−１１−オン、又は２
−メトキシ−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン
−１１−オンを挙げることができ、好ましくはジベンゾ
〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン−１１−オン、又は２
−メトキシ−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン
−１１−オンである。

【００７６】第３工程における精製法としては、反応混
合物を冷却すればジベンゾチアゼピン誘導体が結晶とし
て析出してくる。従ってこの結晶を濾取することで高純
度のジベンゾチアゼピン誘導体を得ることができる。更
に精製が必要な場合には、再結晶を行うか、カラムクロ
マトグラフィーを用いればよい。

【００７７】本発明の好ましい態様は、以下のとおりで
ある。 （１）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、ニトロベンゼン誘導体が、２−クロロニトロベンゼ
ン、又は２−ブロモニトロベンゼンであるジベンゾチア
ゼピン誘導体の製法。 （２）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、チオサリチル酸誘導体が、チオサリチル酸又は５−
メトキシチオサリチル酸であるジベンゾチアゼピン誘導
体の製法。

【００７８】（３）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体
の製法において、塩基が炭酸カリウムであるジベンゾチ
アゼピン誘導体の製法。 （４）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド誘導体が、２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェ
ニルスルフィド、又は２−ニトロ−２’−カルボキシ−
４’−メトキシ−ジフェニルスルフィドであるジベンゾ
チアゼピン誘導体の製法。 （５）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、第１工程の溶媒がＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで
あるジベンゾチアゼピン誘導体の製法。

【００７９】（６）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体
の製法において、第２工程の反応（Ａ）で用いる還元剤
がラネ−ニッケルまたは硫酸第一鉄・７水和物であるジ
ベンゾチアゼピン誘導体の製法。 （７）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、第２工程の反応（Ａ）で用いる還元剤がラネ−ニッ
ケルで、溶媒がメタノ−ル又はｎ−ブタノ−ルであるジ
ベンゾチアゼピン誘導体の製法。 （８）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法におい
て、第２工程の反応（Ｂ）で用いる還元剤が硫酸第一鉄
・７水和物で、溶媒が２８％アンモニア水溶液であるジ
ベンゾチアゼピン誘導体の製法。

【００８０】（９）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体
の製法において、２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフ
ェニルスルフィド誘導体が、２−アミノ−２’−カルボ
キシ−ジフェニルスルフィド、２−アミノ−２’−カル
ボキシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィド又は２
−メトキシ−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン
−１１−オンであるジベンゾチアゼピン誘導体の製法。 （１０）本発明のジベンゾチアゼピン誘導体の製法にお
いて、ジベンゾチアゼピン誘導体がジベンゾ〔ｂ，ｆ〕
〔１、４〕チアゼピン−１１−オン、又は２−メトキシ
−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン−１１−オ
ンであるジベンゾチアゼピン誘導体の製法。

【００８１】（１１）本発明のジベンゾチアゼピン誘導
体の製法において、ニトロベンゼン誘導体が、２−クロ
ロニトロベンゼン、もしくは２−ブロモニトロベンゼン
であり、チオサリチル酸誘導体が、チオサリチル酸もし
くは５−メトキシチオサリチル酸であり、塩基が炭酸カ
リウムであり、２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェ
ニルスルフィド誘導体が、２−ニトロ−２’−カルボキ
シ−ジフェニルスルフィド、もしくは２−ニトロ−２’
−カルボキシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィド
であり、第１工程の溶媒がＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドであり、２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニル
スルフィド誘導体が、２−アミノ−２’−カルボキシ−
ジフェニルスルフィド、もしくは２−アミノ−２’−カ
ルボキシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィドであ
り、ジベンゾチアゼピン誘導体がジベンゾ〔ｂ，ｆ〕
〔１、４〕チアゼピン−１１−オン、又は２−メトキシ
−ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン−１１−オ
ンであり、第２工程の反応（Ａ）で用いる還元剤がラネ
−ニッケルで、溶媒がメタノ−ルもしくはｎ−ブタノ−
ルであり、第２工程の反応（Ｂ）で用いる還元剤が硫酸
第一鉄・７水和物で、溶媒が２８％アンモニア水溶液で
あるジベンゾチアゼピン誘導体の製法。

【００８２】

【発明の効果】本発明のジベンゾチアゼピンの製造方法
によれば、ニトロベンゼン誘導体とチオサリチル酸誘導
体とを、塩基の存在下に反応させて、２−ニトロ−２’
−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体を生成させ
た後、還元して得られた２−アミノ−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィド誘導体生成させた後、脱水縮合
を行なうことにより、医薬品の中間体として有用である
前記一般式（５）で表わされるジベンゾチアゼピン誘導
体を、高収率かつ簡単な操作で製造することができる。

【００８３】

【実施例】次に、本発明の実施例及び比較例を示し、本
発明の製法をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら
の実施例に限定されるものではない。

【００８４】［実施例１］２−クロロニトロベンゼン９
４．５ｇ（０．６０モル）と炭酸カリウム１５９．０ｇ
（１．１５モル）とをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２０ｍｌに加えて溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド溶液を得た。得られたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
溶液に、チオサリチル酸７７．１ｇ（０．５０モル）を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍｌに溶解したも
のを滴下し、７０℃で６時間撹拌して反応させた。得ら
れた反応溶液に、水８００ｍｌと酢酸エチル７００ｍｌ
とを加えた。分離した水層に氷４００ｇと濃塩酸１９４
ｍｌとを加えて水層のｐＨを酸性とした後、この溶液を
室温で１時間撹拌した。析出した結晶を濾過、乾燥し
て、黄色粉末の２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェ
ニルスルフィド１３４．０ｇ（０．４９モル）を得た。
（チオサリチル酸に対する収率＝９８％）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）；δ＝７．１〜８．３
（ｍ，８）、１３．１〜１３．５（ｂｒ，１）

【００８５】［実施例２］２−クロロニトロベンゼン９
４．５ｇ（０．６０モル）と炭酸カリウム１５９．０ｇ
（１．１５モル）とをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２０ｍｌに加えて溶解し、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド溶液を得た。得られたＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
溶液に、チオサリチル酸７７．１ｇ（０．５０モル）を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２０ｍｌに溶解したも
のを滴下し、７０℃で６時間撹拌して反応させた。得ら
れた反応溶液に、水２００ｍｌと濃塩酸１９４ｍｌとを
加えて水層のｐＨを酸性とした後、この溶液を室温で１
時間撹拌した。析出した結晶を濾過、乾燥して、黄色粉
末の２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド１２３．０ｇ（０．４５モル）を得た。（チオサリ
チル酸に対する収率＝９０％）

【００８６】［実施例３］実施例１の２−クロロニトロ
ベンゼンの代わりに２−ブロモニトロベンゼンを使用
し、その使用量を１２１．２ｇ（０．６０モル）とした
他は全て実施例１と同様の操作を行って、２−ニトロ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド１３４．０ｇ
（０．４９モル）を得た。（チオサリチル酸に対する収
率＝９８％）

【００８７】［実施例４］実施例１のチオサリチル酸の
代わりに５−メトキシチオサリチル酸を使用し、その使
用量を９３．８ｇ（０．５０モル）とした他は全て実施
例１と同様の操作を行って、２−ニトロ−２’−カルボ
キシ−４’−メトキシ−ジフェニルスルフィド１３７．
３ｇ（０．４５モル）を得た。（５−メトキシチオサリ
チル酸に対する収率＝９０％） 融点；１８５〜１８７℃

【００８８】［実施例５］３００ｍｌのオートクレーブ
内に、ラネーニッケル（５０％合金としてＮｉ量４
ｇ）、実施例１と同様の方法で得られた２−ニトロ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド１３．８ｇ
（０．０５モル）とメタノール１００ｍｌとを加え、水
素圧２０気圧とした後、室温で５時間撹拌して反応させ
た。得られた反応溶液を濾過し、濾液を減圧濃縮して無
色粉末の２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルス
ルフィド１１．３ｇ（０．０４６モル）を得た。（２−
ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィドに対
する収率＝９２％）¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）；δ＝５．０〜５．９
（ｂｒ，２）、６．５〜８．１（ｍ，８）、１２．８〜
１３．５（ｂｒ，１）

【００８９】［実施例６］ラネーニッケル（５０％合金
としてＮｉ量１ｇ）と実施例１と同様の方法で得られた
２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド
４．０ｇ（１４．５ミリモル）とを、ｎ−ブタノール５
０ｍｌに懸濁してｎ−ブタノール懸濁液を得た。得られ
たｎ−ブタノール懸濁液に、水素吹き込みながら１００
℃で１５時間撹拌して反応させた。得られた反応懸濁液
を濾過し、濾液を減圧濃縮して、無色粉末の２−アミノ
−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド３．２４ｇ
（１３．２ミリモル）を得た。（２−ニトロ−２’−カ
ルボキシ−ジフェニルスルフィドに対する収率＝９１
％）

【００９０】［実施例７］実施例１と同様の方法で得ら
れた２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド２．７５ｇ（１０．０ミリモル）を濃アンモニア水
溶液（アンモニア濃度＝２８重量％）４０ｍｌに溶解し
て、アンモニア混合液を得た。得られたアンモニア混合
液に、硫酸第１鉄７水和物２１．６ｇ（７７．８ミリモ
ル）を水７０ｍｌに溶かした溶液を滴下し、８０℃で１
０分間加熱して反応させた。 得られた反応溶液を室温
まで冷却した後、濾過し、濾液を３０ｍｌまで減圧濃縮
し、酢酸エチル７０ｍｌと酢酸２ｍｌとを加えた。分離
した有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、乾燥剤
を濾別後、濾液を減圧濃縮して無色粉末の２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド２．３３ｇ
（９．５０ミリモル）を得た。（２−ニトロ−２’−カ
ルボキシ−ジフェニルスルフィドに対する収率＝９５
％）

【００９１】［実施例８］実施例４と同様の方法で得ら
れた２−ニトロ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ−
ジフェニルスルフィド１５．２ｇ（０．０５モル）を使
用した他は全て実施例６と同様の操作を行って、無色粉
末の２−アミノ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ−
ジフェニルスルフィド１２．７ｇ（０．４６モル）を得
た。（２−ニトロ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ
−ジフェニルスルフィドに対する収率＝９２％） 融点；１５０〜１５１℃

【００９２】［実施例９］実施例５と同様の方法で得ら
れた２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフ
ィド２４．５ｇ（０．１０モル）をトルエン３００ｍｌ
に溶解し、トルエン溶液を得た。得られたトルエン溶液
を２０時間環流して反応させた。得られた反応溶液を室
温まで冷却した後、析出した結晶濾過した。得られた濾
取物を乾燥させて、ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チア
ゼピン−１１−オンを無色針状結晶として１５．７ｇ
（０．０６９モル）を得た。（２−アミノ−２’−カル
ボキシ−ジフェニルスルフィドに対する収率＝６９％） 融点；２５９〜２６０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ₆ ）；δ＝７．０５〜７．
８０（ｍ，８）、１０．７（ｓ，１）

【００９３】［実施例１０］実施例５と同様の方法で得
られた２−アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルスル
フィド２４．５ｇ（０．１０モル）をトルエン３００ｍ
ｌに溶解し、トルエン溶液を得た。得られたトルエン溶
液を２０時間共沸脱水（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用
いる）しながら環流を行って反応させた。得られた反応
溶液を室温まで冷却した後、析出した結晶濾過した。得
られた濾取物を乾燥させて、ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、
４〕チアゼピン−１１−オンを無色針状結晶として１
８．２ｇ（０．０８０モル）を得た。（２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィドに対する収率
＝８０％）

【００９４】［実施例１１］実施例１０の反応溶媒をキ
シレンに代えて、反応時間を１５時間とした他は、実施
例１２と同様に反応を行い、ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、
４〕チアゼピン−１１−オンを無色針状結晶として２
２．３ｇを得た。（０．０９８モル）（２−アミノ−
２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィドに対する収率
＝９８％）

【００９５】［実施例１２］実施例８と同様の方法で得
られた２−アミノ−２’−カルボキシ−４’−メトキシ
−ジフェニルスルフィド２７．５ｇ（０．１０モル）を
用いて実施例１１と同様に反応を行い、２−メトキシ−
ジベンゾ〔ｂ，ｆ〕〔１、４〕チアゼピン−１１−オン
を無色針状結晶として２３．６ｇ（０．０９２モル）を
得た。（２−アミノ−４−メトキシ−２’−カルボキシ
−ジフェニルスルフィドに対する収率＝９２％） 融点；２２０〜２２３℃

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、およびＲ⁴ は、同一または
   互いに異なっていてもよく、水素原子、または置換基を
   有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルカル
   ボニル基、アリール基、アリールオキシ基もしくはアリ
   ールカルボニル基を表わし、そしてＸはハロゲン原子を
   表わす）で表されるニトロベンゼン誘導体と、一般式
   （２）： 【化２】 （式中、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、およびＲ⁸ は、同一または
   互いに異なっていてもよく、水素原子、または置換基を
   有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルキルカル
   ボニル基、アリール基、アリールオキシ基もしくはアリ
   ールカルボニル基を表わす）で表されるチオサリチル酸
   誘導体とを反応させて、一般式（３）： 【化３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で表される２−
   ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導
   体を生成させた後、該２−ニトロ−２’−カルボキシ−
   ジフェニルスルフィド誘導体を還元して、一般式
   （４）： 【化４】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で表される２−
   アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導
   体を生成させた後、該２−アミノ−２’−カルボキシ−
   ジフェニルスルフィド誘導体を脱水縮合することを特徴
   とする、一般式（５）： 【化５】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で表されるジベ
   ンゾチアゼピン誘導体の製造方法。
2. 【請求項２】 一般式（１）のニトロベンゼン誘導体と
   一般式（２）のチオサリチル酸誘導体との反応を、有機
   溶媒中、塩基の存在下にて行なう請求項１に記載のジベ
   ンゾチアゼピン誘導体の製造方法。
3. 【請求項３】 一般式（４）の２−アミノ−２’−カル
   ボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体の脱水縮合を有機
   溶媒中にて行なう請求項１もしくは２に記載のジベンゾ
   チアゼピン誘導体の製造方法。
4. 【請求項４】 一般式（３）： 【化６】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は、同一または互いに異なっていてもよく、
   水素原子、または置換基を有してもよいアルキル基、ア
   ルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリール基、アリ
   ールオキシ基もしくはアリールカルボニル基を表わす）
   で表わされる２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニ
   ルスルフィド誘導体を還元して、一般式（４）： 【化７】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で表される２−
   アミノ−２’−カルボキシ−ジフェニルスルフィド誘導
   体を生成させた後、該２−アミノ−２’−カルボキシ−
   ジフェニルスルフィド誘導体を脱水縮合することを特徴
   とする、一般式（５）： 【化８】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は前記と同じ意味を表わす）で表されるジベ
   ンゾチアゼピン誘導体の製造方法。
5. 【請求項５】 一般式（４）の２−アミノ−２’−カル
   ボキシ−ジフェニルスルフィド誘導体の脱水縮合を有機
   溶媒中にて行なう請求項４に記載のジベンゾチアゼピン
   誘導体の製造方法。
6. 【請求項６】 一般式（３）： 【化９】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
   およびＲ⁸ は、同一または互いに異なっていてもよく、
   水素原子、または置換基を有してもよいアルキル基、ア
   ルコキシ基、アルキルカルボニル基、アリール基、アリ
   ールオキシ基もしくはアリールカルボニル基を表わす）
   で表わされる２−ニトロ−２’−カルボキシ−ジフェニ
   ルスルフィド誘導体。