JPH11199622A - コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 - Google Patents
コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法Info
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- JPH11199622A JPH11199622A JP1476098A JP1476098A JPH11199622A JP H11199622 A JPH11199622 A JP H11199622A JP 1476098 A JP1476098 A JP 1476098A JP 1476098 A JP1476098 A JP 1476098A JP H11199622 A JPH11199622 A JP H11199622A
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工業的に用いる上でより簡単に合成でき、ま
た長期保存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触
媒を用いたエチレン／ビニル芳香族モノマー共重合体の
製造方法を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する４族遷移金属錯
体、（Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物及び／ま
たは（Ｃ）カチオン発生剤及び／または（Ｄ）アルキル
アルミニウム化合物及び／または（Ｅ）アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン／ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
た長期保存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触
媒を用いたエチレン／ビニル芳香族モノマー共重合体の
製造方法を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）特定構造を有する４族遷移金属錯
体、（Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物及び／ま
たは（Ｃ）カチオン発生剤及び／または（Ｄ）アルキル
アルミニウム化合物及び／または（Ｅ）アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン／ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な錯体触媒及
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重
合触媒としては、特開平３−１６３０８８，や特開平７
−７０２２３などの４族３族の拘束された幾何形状をも
つ金属配位錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系
として知られている。しかし、これらの錯体触媒系は拘
束された幾何形状を有するが故に、４価遷移金属化合物
からの合成が難しく、錯体の合成に手間がかかり、純度
の高い錯体が取れないため結果としてコスト高になると
いう問題点があった。また、錯体の長期保存安定性や活
性の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的
に用いる上では、課題を残すものであった。
合触媒としては、特開平３−１６３０８８，や特開平７
−７０２２３などの４族３族の拘束された幾何形状をも
つ金属配位錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系
として知られている。しかし、これらの錯体触媒系は拘
束された幾何形状を有するが故に、４価遷移金属化合物
からの合成が難しく、錯体の合成に手間がかかり、純度
の高い錯体が取れないため結果としてコスト高になると
いう問題点があった。また、錯体の長期保存安定性や活
性の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的
に用いる上では、課題を残すものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に用い
る上でより簡単に合成でき、また長期保存安定性や活性
の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的としてなさ
れたものである。
る上でより簡単に合成でき、また長期保存安定性や活性
の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的としてなさ
れたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は特定の構造を有
する４族４価錯体が従来錯体に比べ合成が容易でかつ
（Ａ）特定の構造を有する４族４価錯体と（Ｂ）特定の
構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組み
合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保存
安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれてい
るという驚くべき事実に基づいてなされたものである。
すなわち本発明は ［１］触媒（Ａ）成分が下記一般式（１）で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
する４族４価錯体が従来錯体に比べ合成が容易でかつ
（Ａ）特定の構造を有する４族４価錯体と（Ｂ）特定の
構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組み
合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保存
安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれてい
るという驚くべき事実に基づいてなされたものである。
すなわち本発明は ［１］触媒（Ａ）成分が下記一般式（１）で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
【０００５】
【化９】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
【０００６】
【化１０】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。）
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。）
【０００７】［２］下記一般式（１）で示される錯体を
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）
成分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）
成分を含むことを特徴とする重合触媒
【化１１】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
【０００８】
【化１２】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤
【０００９】［３］下記一般式（１）で示される錯体を
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｄ）
成分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｄ）
成分を含むことを特徴とする重合触媒
【化１３】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
【００１０】
【化１４】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、アルキルアミド基、ア
リールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、アルキルアミド基、ア
リールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物
【００１１】［４］下記一般式（１）で示される錯体を
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）
成分および／または（Ｄ）成分および／または（Ｅ）成
分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）
成分および／または（Ｄ）成分および／または（Ｅ）成
分を含むことを特徴とする重合触媒
【化１５】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。）
【００１２】
【化１６】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物 （Ｅ）アルキルアルカリ金属および／またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物 ［５］上記［１］〜［４］の重合触媒で重合される共重
合体が９８. ６〜５３モル％のエチレン及び１．４〜４
７モル％のスチレンを含むエチレンとスチレンの疑似ラ
ンダムコポリマーであることを特徴とする共重合体の製
造方法に関するものである。
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物 （Ｅ）アルキルアルカリ金属および／またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物 ［５］上記［１］〜［４］の重合触媒で重合される共重
合体が９８. ６〜５３モル％のエチレン及び１．４〜４
７モル％のスチレンを含むエチレンとスチレンの疑似ラ
ンダムコポリマーであることを特徴とする共重合体の製
造方法に関するものである。
【００１３】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重合
触媒としては、特開平３−１６３０８８，や特開平７−
７０２２３などの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯
体があるが、これらの錯体触媒系は拘束された幾何形状
を有するが故に、４価遷移金属化合物からの合成が難し
く、錯体の合成に手間がかかり、純度の高い錯体が取れ
ないため結果としてコスト高になるという問題点があっ
た。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
上記錯体と同等以上の共重合活性を有し、より簡単に合
成でき取り扱いも容易な錯体が望まれていた。
触媒としては、特開平３−１６３０８８，や特開平７−
７０２２３などの拘束された幾何形状をもつ金属配位錯
体があるが、これらの錯体触媒系は拘束された幾何形状
を有するが故に、４価遷移金属化合物からの合成が難し
く、錯体の合成に手間がかかり、純度の高い錯体が取れ
ないため結果としてコスト高になるという問題点があっ
た。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
上記錯体と同等以上の共重合活性を有し、より簡単に合
成でき取り扱いも容易な錯体が望まれていた。
【００１４】本発明者らは、上記の問題点を解決し得る
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、（Ａ）特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の安定性にもすぐれるということとさらに
（Ａ）と（Ｂ）アルミニウムオキシ化合物及び／または
（Ｃ）カチオン発生剤とを組み合わせた系と（Ａ）と
（Ｂ）及び／または（Ｃ）にさらに（Ｄ）及び／または
（Ｅ）成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、（Ａ）特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の安定性にもすぐれるということとさらに
（Ａ）と（Ｂ）アルミニウムオキシ化合物及び／または
（Ｃ）カチオン発生剤とを組み合わせた系と（Ａ）と
（Ｂ）及び／または（Ｃ）にさらに（Ｄ）及び／または
（Ｅ）成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
【００１５】本発明に係る触媒成分（Ａ）は下記一般式
（１）で示される。
（１）で示される。
【化１７】
【００１６】式中、Ｍは４族の遷移金属でＴｉまたはＺ
ｒまたはＨｆである。５員環はシクロペンタジエニル
基、及び置換シクロペンタジエニル基でインデニル基、
フルオレニル基等も含まれる。Ｍと置換シクロペンタジ
エニル基はη5 でπ結合していて５員環の炭素はそれぞ
れ等価である。Ｒ1 〜Ｒ4 はそれぞれ同じでも異なって
いてもよく、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基
でこのうちの任意の２つもしくは３つが結合し環を形成
していても良い、また環にはインデニルやフルオレニル
の様な共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚはそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとする。
ｒまたはＨｆである。５員環はシクロペンタジエニル
基、及び置換シクロペンタジエニル基でインデニル基、
フルオレニル基等も含まれる。Ｍと置換シクロペンタジ
エニル基はη5 でπ結合していて５員環の炭素はそれぞ
れ等価である。Ｒ1 〜Ｒ4 はそれぞれ同じでも異なって
いてもよく、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基
でこのうちの任意の２つもしくは３つが結合し環を形成
していても良い、また環にはインデニルやフルオレニル
の様な共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚはそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとする。
【００１７】
【化１８】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） 上記一般式（２）で示されるジカルボニル化合物は、通
常遷移金属Ｍと結合を形成する際に、２つのカルボニル
基の間のメチレン部分が脱プロトンし、−１価のアニオ
ンとなり２つのカルボニルと共鳴構造を取った形でＭに
配位しているものとする。
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） 上記一般式（２）で示されるジカルボニル化合物は、通
常遷移金属Ｍと結合を形成する際に、２つのカルボニル
基の間のメチレン部分が脱プロトンし、−１価のアニオ
ンとなり２つのカルボニルと共鳴構造を取った形でＭに
配位しているものとする。
【００１８】上記一般式（１）における、Ｒ1 〜Ｒ5 の
アルキル基、アリール基、及びアルコキシ基、アリロキ
シ基のアルキル、アリール部分、また上記一般式（２）
のアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基、アリロ
キシ基のアルキル、アリール部分、及びアルキルアミド
基、アリールアミド基のアルキル、アリール部分の具体
例としては、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルブ
チル、２−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、
ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、１−メチ
ルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチ
ル、１，３−ジメチルブチル、１，１−エチルメチルプ
ロピル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、シクロ
ヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、４−メチルヘ
キシル、３−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、１
−メチルヘキシル、１，１−ジメチルペンチル、２，２
−ジメチルペンチル、３，３−ジメチルペンチル、４，
４−ジメチルペンチル、１，２−ジメチルペンチル、
１，３−ジメチルペンチル、１，４−ジメチルペンチ
ル、１−エチルペンチル、１−プロピルブチル、２−エ
チルペンチル、３−エチルペンチル、１，１−エチルメ
チルブチル、１，１−ジエチルプロピル、
アルキル基、アリール基、及びアルコキシ基、アリロキ
シ基のアルキル、アリール部分、また上記一般式（２）
のアルキル基、アリール基、及びアルコキシ基、アリロ
キシ基のアルキル、アリール部分、及びアルキルアミド
基、アリールアミド基のアルキル、アリール部分の具体
例としては、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｓｅｃ
−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルブ
チル、２−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、
ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、１−メチ
ルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチ
ル、１，３−ジメチルブチル、１，１−エチルメチルプ
ロピル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、シクロ
ヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、４−メチルヘ
キシル、３−メチルヘキシル、２−メチルヘキシル、１
−メチルヘキシル、１，１−ジメチルペンチル、２，２
−ジメチルペンチル、３，３−ジメチルペンチル、４，
４−ジメチルペンチル、１，２−ジメチルペンチル、
１，３−ジメチルペンチル、１，４−ジメチルペンチ
ル、１−エチルペンチル、１−プロピルブチル、２−エ
チルペンチル、３−エチルペンチル、１，１−エチルメ
チルブチル、１，１−ジエチルプロピル、
【００１９】２，３−ジメチルペンチル、２，４−ジメ
チルペンチル、３，４−ジメチルペンチル、１，−エチ
ル−２−メチルブチル、１−エチル−３−メチルブチ
ル、４−メチルシクロヘキシル、３−メチルシクロヘキ
シル、シクロヘプチル、１，１，２−トリメチルブチ
ル、１，１，３−トリメチルブチル、２，２，１−トリ
メチルブチル、２，２，３−トリメチルブチル、３，
３，１−トリメチルブチル、３，３，２−トリメチルブ
チル、１，１，２，２−テトラメチルプロピル、ｎ−オ
クチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３
−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘ
プチル、イソオクチル、１−エチルヘキシル２−エチル
ヘキシル、３−エチルヘキシル、４−エチルヘキシル、
１，１−ジメチルヘキシル、２，２−ジメチルヘキシ
ル、３，３−ジメチルヘキシル、４，４−ジメチルヘキ
シル、５，５−ジメチルヘキシル、１，２−ジメチルヘ
キシル、
チルペンチル、３，４−ジメチルペンチル、１，−エチ
ル−２−メチルブチル、１−エチル−３−メチルブチ
ル、４−メチルシクロヘキシル、３−メチルシクロヘキ
シル、シクロヘプチル、１，１，２−トリメチルブチ
ル、１，１，３−トリメチルブチル、２，２，１−トリ
メチルブチル、２，２，３−トリメチルブチル、３，
３，１−トリメチルブチル、３，３，２−トリメチルブ
チル、１，１，２，２−テトラメチルプロピル、ｎ−オ
クチル、１−メチルヘプチル、２−メチルヘプチル、３
−メチルヘプチル、４−メチルヘプチル、５−メチルヘ
プチル、イソオクチル、１−エチルヘキシル２−エチル
ヘキシル、３−エチルヘキシル、４−エチルヘキシル、
１，１−ジメチルヘキシル、２，２−ジメチルヘキシ
ル、３，３−ジメチルヘキシル、４，４−ジメチルヘキ
シル、５，５−ジメチルヘキシル、１，２−ジメチルヘ
キシル、
【００２０】１，３−ジメチルヘキシル、１，４−ジメ
チルヘキシル、１，５−ジメチルヘキシル、２，３−ヂ
メチルヘキシル、２，４−ジメチルヘキシル、３，４−
ジメチルヘキシル、２，５−ジメチルヘキシル、３，５
−ジメチルヘキシル、１，１−メチルエチルペンチル、
１−エチル−２−メチルペンチル、１−エチル−３−メ
チルペンチル、１−エチル−４−メチルペンチル、２−
エチル−１−メチルペンチル、２，２−エチルメチルペ
ンチル、３，３−エチルメチルペンチル、２−エチル−
３−メチルペンチル、２−エチル−４−メチルペンチ
ル、３−エチル−４−メチルペンチル、３−エチル−２
−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２，２−
ジエチルブチル、１，２−ジエチルブチル、１，１−メ
チルプロピルブチル、２−メチル−１−プロピルブチ
ル、３メチル−１−プロピルブチル、４−エチルシクロ
ヘキシル、３−エチルシクロヘキシル、３，４−ジメチ
ルシクロヘキシル１，１，２−トリメチルペンチル、
１，１，３−トリメチルペンチル、１，１，４−トリメ
チルペンチル、２，２，１−トリメチルペンチル、２，
２，３−トリメチルペンチル、２，２，４−トリメチル
ペンチル、３，３，１−トリメチルペンチル、３，３，
２−トリメチルペンチル、３，３，４−トリメチルペン
チル、１，２，３−トリメチルペンチル、１，２，４−
トリメチルペンチル、１，３，４−トリメチルペンチ
ル、１，２，３−トリメチルペンチル、
チルヘキシル、１，５−ジメチルヘキシル、２，３−ヂ
メチルヘキシル、２，４−ジメチルヘキシル、３，４−
ジメチルヘキシル、２，５−ジメチルヘキシル、３，５
−ジメチルヘキシル、１，１−メチルエチルペンチル、
１−エチル−２−メチルペンチル、１−エチル−３−メ
チルペンチル、１−エチル−４−メチルペンチル、２−
エチル−１−メチルペンチル、２，２−エチルメチルペ
ンチル、３，３−エチルメチルペンチル、２−エチル−
３−メチルペンチル、２−エチル−４−メチルペンチ
ル、３−エチル−４−メチルペンチル、３−エチル−２
−メチルペンチル、１，１−ジエチルブチル、２，２−
ジエチルブチル、１，２−ジエチルブチル、１，１−メ
チルプロピルブチル、２−メチル−１−プロピルブチ
ル、３メチル−１−プロピルブチル、４−エチルシクロ
ヘキシル、３−エチルシクロヘキシル、３，４−ジメチ
ルシクロヘキシル１，１，２−トリメチルペンチル、
１，１，３−トリメチルペンチル、１，１，４−トリメ
チルペンチル、２，２，１−トリメチルペンチル、２，
２，３−トリメチルペンチル、２，２，４−トリメチル
ペンチル、３，３，１−トリメチルペンチル、３，３，
２−トリメチルペンチル、３，３，４−トリメチルペン
チル、１，２，３−トリメチルペンチル、１，２，４−
トリメチルペンチル、１，３，４−トリメチルペンチ
ル、１，２，３−トリメチルペンチル、
【００２１】１，２，４−トリメチルペンチル、１，
３，４−トリメチルペンチル、１，１，２，２−テトラ
メチルブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、
１，１，２，３−テトラメチルブチル、２，２，１，３
−テトラメチルブチル、１−エチル−１，２−ジメチル
ブチル、２−エチル−１，２−ジメチルブチル、１−エ
チル−２，３−ジメチルブチル、ｎ−ノニル、イソノニ
ル、１−メチルオクチル、２−メチルオクチル、３−メ
チルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチ
ル、６−メチルオクチル、１−エチルヘプチル、２−エ
チルヘプチル、３−エチルヘプチル、４−エチルヘプチ
ル、５−エチルヘプチル１，１−ジメチルヘプチル、
２，２−ジメチルヘプチル、３，３−ジメチルヘプチ
ル、４，４−ジメチルヘプチル、５，５−ジメチルヘプ
チル、６，６−ジメチルヘプチル、１，２−ジメチルヘ
プチル、１，３−ジメチルヘプチル、１，４−ジメチル
ヘプチル、
３，４−トリメチルペンチル、１，１，２，２−テトラ
メチルブチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、
１，１，２，３−テトラメチルブチル、２，２，１，３
−テトラメチルブチル、１−エチル−１，２−ジメチル
ブチル、２−エチル−１，２−ジメチルブチル、１−エ
チル−２，３−ジメチルブチル、ｎ−ノニル、イソノニ
ル、１−メチルオクチル、２−メチルオクチル、３−メ
チルオクチル、４−メチルオクチル、５−メチルオクチ
ル、６−メチルオクチル、１−エチルヘプチル、２−エ
チルヘプチル、３−エチルヘプチル、４−エチルヘプチ
ル、５−エチルヘプチル１，１−ジメチルヘプチル、
２，２−ジメチルヘプチル、３，３−ジメチルヘプチ
ル、４，４−ジメチルヘプチル、５，５−ジメチルヘプ
チル、６，６−ジメチルヘプチル、１，２−ジメチルヘ
プチル、１，３−ジメチルヘプチル、１，４−ジメチル
ヘプチル、
【００２２】１，５−ジメチルヘプチル、１，６−ジメ
チルヘプチル、２，３−ジメチルヘプチル、２，４−ジ
メチルヘプチル、２，５−ジメチルヘプチル、２，６−
ジメチルヘプチル、３，４−ジメチルヘプチル、３，５
−ジメチルヘプチル、３，６−ジメチルヘプチル、４，
５−ジメチルヘプチル、４，６−ジメチルヘプチル、
５，６−ジメチルヘプチル、１，１，２−トリメチルヘ
キシル、１，１，３−トリメチルヘキシル、１，１，４
−トリメチルヘキシル、１，１，５−トリメチルヘキシ
ル、２，２，１−トリメチルヘキシル、２，２，３−ト
リメチルヘキシル、２，２，４−トリメチルヘキシル、
２，２，５−トリメチルヘキシル、３，３，１−トリメ
チルヘキシル、３，３，２−トリメチルヘキシル、３，
３，４−トリメチルヘキシル、３，３，５−トリメチル
ヘキシル、４，４，１−トリメチルヘキシル、４，４，
２−トリメチルヘキシル、４，４，３−トリメチルヘキ
シル、４，４，５−トリメチルヘキシル、５，５，１−
トリメチルヘキシル、５，５，２−トリメチルヘキシ
ル、５，５，３−トリメチルヘキシル、５，５，４−ト
リメチルヘキシル、１，２，３−トリメチルヘキシル、
２，３，４−トリメチルヘキシル、３，４，５−トリメ
チルヘキシル、１，３，４−トリメチルヘキシル、１，
４，５−トリメチルヘキシル、２，４，５−トリメチル
ヘキシル、
チルヘプチル、２，３−ジメチルヘプチル、２，４−ジ
メチルヘプチル、２，５−ジメチルヘプチル、２，６−
ジメチルヘプチル、３，４−ジメチルヘプチル、３，５
−ジメチルヘプチル、３，６−ジメチルヘプチル、４，
５−ジメチルヘプチル、４，６−ジメチルヘプチル、
５，６−ジメチルヘプチル、１，１，２−トリメチルヘ
キシル、１，１，３−トリメチルヘキシル、１，１，４
−トリメチルヘキシル、１，１，５−トリメチルヘキシ
ル、２，２，１−トリメチルヘキシル、２，２，３−ト
リメチルヘキシル、２，２，４−トリメチルヘキシル、
２，２，５−トリメチルヘキシル、３，３，１−トリメ
チルヘキシル、３，３，２−トリメチルヘキシル、３，
３，４−トリメチルヘキシル、３，３，５−トリメチル
ヘキシル、４，４，１−トリメチルヘキシル、４，４，
２−トリメチルヘキシル、４，４，３−トリメチルヘキ
シル、４，４，５−トリメチルヘキシル、５，５，１−
トリメチルヘキシル、５，５，２−トリメチルヘキシ
ル、５，５，３−トリメチルヘキシル、５，５，４−ト
リメチルヘキシル、１，２，３−トリメチルヘキシル、
２，３，４−トリメチルヘキシル、３，４，５−トリメ
チルヘキシル、１，３，４−トリメチルヘキシル、１，
４，５−トリメチルヘキシル、２，４，５−トリメチル
ヘキシル、
【００２３】１，２，５−トリメチルヘキシル、１，
２，４−トリメチルヘキシル、１，１−エチルメチルヘ
キシル、２，２−エチルメチルヘキシル、３，３−エチ
ルメチルヘキシル、４，４−エチルメチルヘキシル、
５，５−エチルメチルヘキシル、１−エチル−２−メチ
ルヘキシル、１−エチル−３−メチルヘキシル、１−エ
チル−４−メチルヘキシル、１−エチル−５−メチルヘ
キシル、２−エチル−１−メチルヘキシル、３−エチル
−１−メチルヘキシル、３−エチル−２−メチルヘキシ
ル、１，１−ジエチルペンチル、２，２−ジエチルペン
チル、３，３−ジエチルペンチル、１，２−ジエチルペ
ンチル、１，３−ジエチルペンチル、２，３−ジエチル
ペンチル、１，１−メチルプロピルペンチル、２，２−
メチルプロピルペンチル、１−メチル−２−プロピルペ
ンチルｎ−デシル、イソデシル、１−メチルノニル、２
−メチルノニル、３−メチルノニル、４−メチルノニ
ル、５−メチルノニル、６−メチルノニル、７−メチル
ノニル、１−エチルオクチル、
２，４−トリメチルヘキシル、１，１−エチルメチルヘ
キシル、２，２−エチルメチルヘキシル、３，３−エチ
ルメチルヘキシル、４，４−エチルメチルヘキシル、
５，５−エチルメチルヘキシル、１−エチル−２−メチ
ルヘキシル、１−エチル−３−メチルヘキシル、１−エ
チル−４−メチルヘキシル、１−エチル−５−メチルヘ
キシル、２−エチル−１−メチルヘキシル、３−エチル
−１−メチルヘキシル、３−エチル−２−メチルヘキシ
ル、１，１−ジエチルペンチル、２，２−ジエチルペン
チル、３，３−ジエチルペンチル、１，２−ジエチルペ
ンチル、１，３−ジエチルペンチル、２，３−ジエチル
ペンチル、１，１−メチルプロピルペンチル、２，２−
メチルプロピルペンチル、１−メチル−２−プロピルペ
ンチルｎ−デシル、イソデシル、１−メチルノニル、２
−メチルノニル、３−メチルノニル、４−メチルノニ
ル、５−メチルノニル、６−メチルノニル、７−メチル
ノニル、１−エチルオクチル、
【００２４】２−エチルオクチル、３−エチルオクチ
ル、４−エチルオクチル、５−エチルオクチル、６−エ
チルオクチル、１，１−ジメチルオクチル、２，２−ジ
メチルオクチル、３，３−ジメチルオクチル、４，４−
ジメチルオクチル、５，５−ジメチルオクチル、６，６
−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル、１，
２−ジメチルオクチル、１，３−ジメチルオクチル、
１，４−ジメチルオクチル、１，５−ジメチルオクチ
ル、１，６−ジメチルオクチル、１，７−ジメチルオク
チル、２，３−ジメチルオクチル、２，４−ジメチルオ
クチル、２，５−ジメチルオクチル、２，６−ジメチル
オクチル、２，７−ジメチルオクチル、３，４−ジメチ
ルオクチル、３，５−ジメチルオクチル、３，６−ジメ
チルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、４，５−ジ
メチルオクチル、４，６−ジメチルオクチル、４，７−
ジメチルオクチル、５，６−ジメチルオクチル、５，７
−ジメチルオクチル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、
フェニル、ベンジル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、キシリ
ル、メシチリル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，
６−トリメチルフェニル、２，６−ジメトキシフェニ
ル、２，４，６−トリメトキシフェニル、２，６−ジイ
ソプロピルフェニル、２，４，６−トリイソプロピルフ
ェニル、ナフチル、ｏ−イソプロポキシフェニルがあげ
られる。
ル、４−エチルオクチル、５−エチルオクチル、６−エ
チルオクチル、１，１−ジメチルオクチル、２，２−ジ
メチルオクチル、３，３−ジメチルオクチル、４，４−
ジメチルオクチル、５，５−ジメチルオクチル、６，６
−ジメチルオクチル、７，７−ジメチルオクチル、１，
２−ジメチルオクチル、１，３−ジメチルオクチル、
１，４−ジメチルオクチル、１，５−ジメチルオクチ
ル、１，６−ジメチルオクチル、１，７−ジメチルオク
チル、２，３−ジメチルオクチル、２，４−ジメチルオ
クチル、２，５−ジメチルオクチル、２，６−ジメチル
オクチル、２，７−ジメチルオクチル、３，４−ジメチ
ルオクチル、３，５−ジメチルオクチル、３，６−ジメ
チルオクチル、３，７−ジメチルオクチル、４，５−ジ
メチルオクチル、４，６−ジメチルオクチル、４，７−
ジメチルオクチル、５，６−ジメチルオクチル、５，７
−ジメチルオクチル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、
フェニル、ベンジル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、キシリ
ル、メシチリル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，
６−トリメチルフェニル、２，６−ジメトキシフェニ
ル、２，４，６−トリメトキシフェニル、２，６−ジイ
ソプロピルフェニル、２，４，６−トリイソプロピルフ
ェニル、ナフチル、ｏ−イソプロポキシフェニルがあげ
られる。
【００２５】触媒成分（Ｂ）のアルミニウムオキシ化合
物としては下記一般式（３）で示される有機アルミニウ
ムオキシ化合物のうち少なくとも１つの化合物があげら
れる。
物としては下記一般式（３）で示される有機アルミニウ
ムオキシ化合物のうち少なくとも１つの化合物があげら
れる。
【化１９】 （Ｒ10〜Ｒ14は同じでも異なっていても良く、Ｃ１〜Ｃ
８までの炭化水素基、ｎは１〜５０までの整数を表す）
８までの炭化水素基、ｎは１〜５０までの整数を表す）
【００２６】触媒成分（Ｃ）のカチオン発生剤の代表的
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
【化２０】（ＢＲ15Ｒ16Ｒ17）n Ａ（ＢＲ15Ｒ16Ｒ17Ｒ18）n （Ａはカチオンである。Ｒ15〜Ｒ18は同じでも異なって
いても良く、Ｃ１〜Ｃ１４までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基ｎは１
〜４までの整数を表す）ここで化合物Ａのカチオンとし
ては４級アミンまたは４級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数＋１〜４の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジエチルアニリニウム、ｐ−ニトロアニリニウム、
２，５−ジクロロアニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，キノリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウム，メチルジフェニルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリニウム、８−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
いても良く、Ｃ１〜Ｃ１４までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基ｎは１
〜４までの整数を表す）ここで化合物Ａのカチオンとし
ては４級アミンまたは４級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数＋１〜４の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、２，４−ジニトロ−Ｎ，Ｎ
−ジエチルアニリニウム、ｐ−ニトロアニリニウム、
２，５−ジクロロアニリン、ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリニウム，キノリニウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウム，メチルジフェニルアンモニウム、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリニウム、８−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
【００２７】またＲ15〜Ｒ18の炭化水素基、及びアルコ
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、キシリル、メシチリ
ル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，６−トリメチ
ルフェニル、２，６−ジメトキシフェニル、２，４，６
−トリメトキシフェニル、２，６−ジイソプロピルフェ
ニル、２，４，６−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、ｏ−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、キシリル、メシチリ
ル、２，６−ジメチルフェニル、２，４，６−トリメチ
ルフェニル、２，６−ジメトキシフェニル、２，４，６
−トリメトキシフェニル、２，６−ジイソプロピルフェ
ニル、２，４，６−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、ｏ−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
【００２８】一方、触媒成分（Ｄ）のアルキルアルミニ
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ（２−エ
チルヘキシル）アルミニウム、（２−エチルヘキシル）
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ（ｔ- ブトキシ）アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
２種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体（ア−ト錯体）等も含まれる。
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ（２−エ
チルヘキシル）アルミニウム、（２−エチルヘキシル）
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ（ｔ- ブトキシ）アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
２種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体（ア−ト錯体）等も含まれる。
【００２９】また触媒成分（Ｅ）のアルキルアルカリ金
属および／またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具
体例としては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合
物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネ
シウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウ
ム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種
以上（Ａ）と組み合わせて用いることもできる。
属および／またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具
体例としては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合
物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネ
シウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウ
ム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種
以上（Ａ）と組み合わせて用いることもできる。
【００３０】含Ｌｉ化合物の具体例としてはメチルリチ
ウム、エチルリチウム、ｎ- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、ｎー ブチルリチウム、ｓｅｃー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、ｔ- ブチルリチウム、
ｎー ペンチルリチウム、ｎーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、ｍ- トリ
ルリチウム、ｐ- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、ｎ−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、ｎ−ブトキシリチウ
ム、ｓｅｃー ブトキシリチウム、ｔー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、４−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、４−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
ウム、エチルリチウム、ｎ- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、ｎー ブチルリチウム、ｓｅｃー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、ｔ- ブチルリチウム、
ｎー ペンチルリチウム、ｎーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、ｍ- トリ
ルリチウム、ｐ- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、ｎ−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、ｎ−ブトキシリチウ
ム、ｓｅｃー ブトキシリチウム、ｔー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、４−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、４−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。
【００３１】また、トリメチルシリルリチウム、ジエチ
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Ｎａ
化合物の具体例としてはメチルナトリウム、エチルナト
リウム、ｎ- プロピルナトリウム、イソプロピルナトリ
ウム、ｎー ブチルナトリウム、ｓｅｃーブチルナトリウ
ム、イソブチルナトリウム、ｔ- ブチルナトリウム、ｎ
ー ペンチルナトリウム、ｎー ヘキシルナトリウム、フェ
ニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、ｍ
- トリルナトリウム、ｐ- トリルナトリウム、キシリル
ナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
ルメチルシリルリチウム、ジメチルエチルシリルリチウ
ム、トリエチルシリルリチウム、トリフェニルシリルリ
チウム等の有機ケイ素リチウム化合物でも良い。含Ｎａ
化合物の具体例としてはメチルナトリウム、エチルナト
リウム、ｎ- プロピルナトリウム、イソプロピルナトリ
ウム、ｎー ブチルナトリウム、ｓｅｃーブチルナトリウ
ム、イソブチルナトリウム、ｔ- ブチルナトリウム、ｎ
ー ペンチルナトリウム、ｎー ヘキシルナトリウム、フェ
ニルナトリウム、シクロペンタジエニルナトリウム、ｍ
- トリルナトリウム、ｐ- トリルナトリウム、キシリル
ナトリウム、ナトリウムナフタレン等が挙げられる。
【００３２】含Ｋ化合物の具体例としてはメチルカリウ
ム、エチルカリウム、ｎ- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、ｎー ブチルカリウム、ｓｅｃー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、ｔ- ブチルカリウム、ｎ
ー ペンチルカリウム、ｎー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、ｍ- トリ
ルカリウム、ｐ- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。含Ｚｎ化合物とし
て、ジエチル亜鉛、ビス（η5 −シクロペンタジエニ
ル）亜鉛、ジフェニル亜鉛等が挙げられ、さらに含Ｍｇ
化合物として、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネ
シウム、ジブチルマグネシウム、エチルブチルマグネシ
ウム、メチルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシ
ウムクロライド、エチルマグネシウムブロマイド、エチ
ルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシウムブロ
マイド、フェニルマグネシウムクロライド、ｔー ブチル
マグネシウムクロライド、ｔー ブチルマグネシウムブロ
マイド等が挙げられる。
ム、エチルカリウム、ｎ- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、ｎー ブチルカリウム、ｓｅｃー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、ｔ- ブチルカリウム、ｎ
ー ペンチルカリウム、ｎー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、ｍ- トリ
ルカリウム、ｐ- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。含Ｚｎ化合物とし
て、ジエチル亜鉛、ビス（η5 −シクロペンタジエニ
ル）亜鉛、ジフェニル亜鉛等が挙げられ、さらに含Ｍｇ
化合物として、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネ
シウム、ジブチルマグネシウム、エチルブチルマグネシ
ウム、メチルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシ
ウムクロライド、エチルマグネシウムブロマイド、エチ
ルマグネシウムクロライド、フェニルマグネシウムブロ
マイド、フェニルマグネシウムクロライド、ｔー ブチル
マグネシウムクロライド、ｔー ブチルマグネシウムブロ
マイド等が挙げられる。
【００３３】これらの他にリチウムハイドライド、カリ
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ（土類）金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ（ｔ- ブトキシ）アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
２種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体（ア−ト錯体）等も含まれ
る。
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ（土類）金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ（ｔ- ブトキシ）アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
２種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体（ア−ト錯体）等も含まれ
る。
【００３４】本発明において使用するのに好適な触媒は
（Ａ）成分である遷移金属化合物と（Ｂ）成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または（Ａ）成分と
（Ｃ）成分であるカチオン発生剤、または（Ａ）成分と
（Ｂ）成分と（Ｃ）成分であるカチオン発生剤、または
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｄ）成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または（Ａ）成分と（Ｄ）成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または（Ａ）成分と
（Ｂ）成分と（Ｅ）成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または（Ａ）成
分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と（Ｄ）成分、または
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と（Ｅ）成分、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｄ）成分と（Ｅ）成分、
（Ａ）成分と（Ｅ）成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒（Ａ）成分と（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。触媒（Ａ）成分
と（Ｂ）成分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｂ）＝
１：０．０１〜１：１００００，触媒（Ａ）成分と
（Ｃ）成分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｃ）＝
１：０．０１〜１：１００，触媒（Ａ）成分と（Ｄ）成
分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｄ）＝１：０．０
１〜１：１０００，触媒（Ａ）成分と（Ｅ）成分の好ま
しい触媒組成比は（Ａ）：（Ｅ）＝１：０．０１〜１：
１００である。
（Ａ）成分である遷移金属化合物と（Ｂ）成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または（Ａ）成分と
（Ｃ）成分であるカチオン発生剤、または（Ａ）成分と
（Ｂ）成分と（Ｃ）成分であるカチオン発生剤、または
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｄ）成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または（Ａ）成分と（Ｄ）成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または（Ａ）成分と
（Ｂ）成分と（Ｅ）成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または（Ａ）成
分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と（Ｄ）成分、または
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分と（Ｅ）成分、
（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｄ）成分と（Ｅ）成分、
（Ａ）成分と（Ｅ）成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒（Ａ）成分と（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。触媒（Ａ）成分
と（Ｂ）成分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｂ）＝
１：０．０１〜１：１００００，触媒（Ａ）成分と
（Ｃ）成分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｃ）＝
１：０．０１〜１：１００，触媒（Ａ）成分と（Ｄ）成
分の好ましい触媒組成比は（Ａ）：（Ｄ）＝１：０．０
１〜１：１０００，触媒（Ａ）成分と（Ｅ）成分の好ま
しい触媒組成比は（Ａ）：（Ｅ）＝１：０．０１〜１：
１００である。
【００３５】触媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、ア
ルゴン等の不活性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合す
ることにより行っても良いし、（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）
（Ｄ）（Ｅ）それぞれの成分を別々にモノマーが共存す
るリアクター内に打ち込んで、リアクター内において調
製しても良い。触媒調製に好適な溶媒はヘキサン、シク
ロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒
とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系
の溶媒があげられる。またこれらの溶媒は前処理におい
て水分等を除去しておくことが好ましい。触媒組成物の
調製温度としては、−２０℃〜１５０℃が最適である。
本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存在下、減圧、
大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バルク、溶液、
スラリーのいずれの方法でも行うことが出来る。
ルゴン等の不活性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合す
ることにより行っても良いし、（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）
（Ｄ）（Ｅ）それぞれの成分を別々にモノマーが共存す
るリアクター内に打ち込んで、リアクター内において調
製しても良い。触媒調製に好適な溶媒はヘキサン、シク
ロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒
とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系
の溶媒があげられる。またこれらの溶媒は前処理におい
て水分等を除去しておくことが好ましい。触媒組成物の
調製温度としては、−２０℃〜１５０℃が最適である。
本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存在下、減圧、
大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バルク、溶液、
スラリーのいずれの方法でも行うことが出来る。
【００３６】重合を行うのに好適な温度範囲としては−
３０℃〜２６０℃であり、好ましくは０℃〜２００℃で
ある。また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で
行っても良い、またエチレン、及び／またはプロピレン
及び／またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気
下でもかまわない。さらに、分子量調節のために上記の
ガスに加えて、水素を共存させてもかまわない。また、
触媒成分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのよう
な好適な担体に担持させて用いてもかまわない。また所
望ならば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。重
合に用いるのに好適な溶媒としては、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒と
トルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系の
溶媒があげられる。また、重合に用いるモノマーとして
は、エチレンとスチレンが最も好適であるが、必要に応
じてプロピレン、ブチレン等の他のオレフィン化合物や
α−メチルスチレン、ジフェニルエチレン等の芳香族ビ
ニル化合物を共存させることが出来る。本重合における
好適な触媒量は［（生成ポリマー重量）Ｋｇ］／［触媒
（Ａ）成分１ｍｏｌ］＝５０ｋｇ／１ｍｏｌ〜１０００
００００ｋｇ／１ｍｏｌ程度のポリマーを与える量であ
る。本発明における重合後のポリマーの分離の方法とし
ては、例えば重合液にアセトンまたは酸もしくはアルカ
リを混合したアルコール等の貧溶媒となる極性溶媒を加
えて重合体を沈澱させて回収する方法、反応液を撹拌
下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方法、ま
たは直接反応液を加熱して溶媒を留去する方法等を挙げ
ることができる。本発明の重合触媒は第１に触媒の合成
が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高
活性を示すことである。第２に貯蔵安定性・活性安定性
が極めて優れることである。したがって触媒の活性は数
カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
３０℃〜２６０℃であり、好ましくは０℃〜２００℃で
ある。また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活
性ガス雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で
行っても良い、またエチレン、及び／またはプロピレン
及び／またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気
下でもかまわない。さらに、分子量調節のために上記の
ガスに加えて、水素を共存させてもかまわない。また、
触媒成分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのよう
な好適な担体に担持させて用いてもかまわない。また所
望ならば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。重
合に用いるのに好適な溶媒としては、ヘキサン、シクロ
ヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒と
トルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系の
溶媒があげられる。また、重合に用いるモノマーとして
は、エチレンとスチレンが最も好適であるが、必要に応
じてプロピレン、ブチレン等の他のオレフィン化合物や
α−メチルスチレン、ジフェニルエチレン等の芳香族ビ
ニル化合物を共存させることが出来る。本重合における
好適な触媒量は［（生成ポリマー重量）Ｋｇ］／［触媒
（Ａ）成分１ｍｏｌ］＝５０ｋｇ／１ｍｏｌ〜１０００
００００ｋｇ／１ｍｏｌ程度のポリマーを与える量であ
る。本発明における重合後のポリマーの分離の方法とし
ては、例えば重合液にアセトンまたは酸もしくはアルカ
リを混合したアルコール等の貧溶媒となる極性溶媒を加
えて重合体を沈澱させて回収する方法、反応液を撹拌
下、熱湯中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方法、ま
たは直接反応液を加熱して溶媒を留去する方法等を挙げ
ることができる。本発明の重合触媒は第１に触媒の合成
が容易でかつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高
活性を示すことである。第２に貯蔵安定性・活性安定性
が極めて優れることである。したがって触媒の活性は数
カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
【００３７】
【実施例】以下実施例により本発明を更に具体的に説明
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 ［触媒（Ａ）成分］ （合成例１） Ｃｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］n Ｃｌ3-n の
合成 脱水ＴＨＦ３０ｍｌ中にＮａＨ１３．２ｍｍｏｌを加え
０℃に冷却した。マロン酸ジエチル１３．２ｍｍｏｌを
ゆっくりと滴下し、２時間攪拌した。これを、Ｃｐ* Ｔ
ｉＣｌ3 １３．２ｍｌをＴＨＦ２０ｍｌに溶解した溶液
に滴下し、一晩攪拌した。減圧乾固後、脱水トルエンに
溶解し、不溶分を濾別後減圧乾固した。脱水ヘキサンを
くわえ、可溶分と不溶分を分離した。ＮＭＲより、可溶
分は２置換体不溶分は１置換体であることが判明し、２
種類の目的物を得た。
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 ［触媒（Ａ）成分］ （合成例１） Ｃｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］n Ｃｌ3-n の
合成 脱水ＴＨＦ３０ｍｌ中にＮａＨ１３．２ｍｍｏｌを加え
０℃に冷却した。マロン酸ジエチル１３．２ｍｍｏｌを
ゆっくりと滴下し、２時間攪拌した。これを、Ｃｐ* Ｔ
ｉＣｌ3 １３．２ｍｌをＴＨＦ２０ｍｌに溶解した溶液
に滴下し、一晩攪拌した。減圧乾固後、脱水トルエンに
溶解し、不溶分を濾別後減圧乾固した。脱水ヘキサンを
くわえ、可溶分と不溶分を分離した。ＮＭＲより、可溶
分は２置換体不溶分は１置換体であることが判明し、２
種類の目的物を得た。
【００３８】（実施例１）装置内を窒素置換後、リアク
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に２８０
ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯ（メチルアミノキサン）を２
０ｍｍｏｌ打ち込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌで
リアクタに移送した。同様にスチレンを９２０ｍｌサン
プリングし脱気操作を行ったあと、７４０ｍｌをリアク
タ内に移送した。リアクタを９０℃に加熱し、つぎに
（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）
2 ］Ｃｌ2２０μｍｏｌのトルエン溶液を触媒タンクに
打ち込み、計量管内のスチレン１８０ｍｌで移送した。
リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／ｃｍ2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら６０分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は５２ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であった。
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に２８０
ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯ（メチルアミノキサン）を２
０ｍｍｏｌ打ち込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌで
リアクタに移送した。同様にスチレンを９２０ｍｌサン
プリングし脱気操作を行ったあと、７４０ｍｌをリアク
タ内に移送した。リアクタを９０℃に加熱し、つぎに
（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）
2 ］Ｃｌ2２０μｍｏｌのトルエン溶液を触媒タンクに
打ち込み、計量管内のスチレン１８０ｍｌで移送した。
リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／ｃｍ2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら６０分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は５２ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であった。
【００３９】（実施例２）装置内を窒素置換後、リアク
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に２８０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に（Ｂ）
成分としてＭＭＡＯを２０ｍｍｏｌ打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン２８０ｍｌをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを９２０ｍｌサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを９０℃に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ*
Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌ
のトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタに移送
した。リアクタ内をエチレンで６ｋｇ／ｃｍ2 に加圧
後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合
に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを
供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を行った。重合
後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマー
を回収した。ポリマー収量は４１ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は６３ｗｔ％であった。
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に２８０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に（Ｂ）
成分としてＭＭＡＯを２０ｍｍｏｌ打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン２８０ｍｌをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを９２０ｍｌサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを９０℃に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ*
Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌ
のトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタに移送
した。リアクタ内をエチレンで６ｋｇ／ｃｍ2 に加圧
後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合
に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを
供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を行った。重合
後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマー
を回収した。ポリマー収量は４１ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は６３ｗｔ％であった。
【００４０】（実施例３）装置内を窒素置換後、リアク
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６００
ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）
2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのトルエン溶液、（Ｂ）成分と
してＭＭＡＯを２０ｍｍｏｌをあらかじめ混合したもの
を打ち込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタ
に移送した。同様にスチレンを６００ｍｌサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを９０℃に加熱しリアクタ内をエチレンで１０ｋｇ
／ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を
開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適
度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合
を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で
処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は４０ｇ、Ｎ
ＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％で
あった。
タ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６００
ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）
2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのトルエン溶液、（Ｂ）成分と
してＭＭＡＯを２０ｍｍｏｌをあらかじめ混合したもの
を打ち込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタ
に移送した。同様にスチレンを６００ｍｌサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを９０℃に加熱しリアクタ内をエチレンで１０ｋｇ
／ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を
開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適
度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合
を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で
処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は４０ｇ、Ｎ
ＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％で
あった。
【００４１】（実施例４）あらかじめ作成し、１ヶ月間
保存した（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実
施例１）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４１
ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６１ｗ
ｔ％であった。 （実施例５）あらかじめ作成し、１ヶ月間保存した
（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実施例２）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は３９ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６０ｗｔ％であっ
た。 （実施例６）あらかじめ作成し、１ヶ月間保存した
（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実施例３）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４０ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６０ｗｔ％であっ
た。 （実施例７）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例１）と
同様の方法で行った。ポリマー収量は３７ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であっ
た。
保存した（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実
施例１）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４１
ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６１ｗ
ｔ％であった。 （実施例５）あらかじめ作成し、１ヶ月間保存した
（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実施例２）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は３９ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６０ｗｔ％であっ
た。 （実施例６）あらかじめ作成し、１ヶ月間保存した
（Ａ）（Ｂ）成分の混合物を用いた以外は（実施例３）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４０ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６０ｗｔ％であっ
た。 （実施例７）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例１）と
同様の方法で行った。ポリマー収量は３７ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であっ
た。
【００４２】（実施例８）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ
［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例２）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４
４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６３
ｗｔ％であった。 （実施例９）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例３）と
同様の方法で行った。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％であっ
た。
［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例２）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４
４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６３
ｗｔ％であった。 （実施例９）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例３）と
同様の方法で行った。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％であっ
た。
【００４３】（実施例１０）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔ
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例４）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４
４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６４
ｗｔ％であった。 （実施例１１）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例５）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４３ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％であっ
た。 （実施例１２）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例６）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であっ
た。
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例４）と同様の方法で行った。ポリマー収量は４
４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６４
ｗｔ％であった。 （実施例１１）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例５）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４３ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％であっ
た。 （実施例１２）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例６）
と同様の方法で行った。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ
測定よりポリマー中のスチレン含量は６２ｗｔ％であっ
た。
【００４４】（実施例１３）装置内を窒素置換後、リア
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯを１０ｍｍｏｌ、（Ｄ）成分
としてトリメチルアルミニウム１０ｍｍｏｌ打ち込み、
計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送した。
同様にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを９０℃
に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ
（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０ｍｍｏｌのトルエン
溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン１８
０ｍｌで移送した。リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／
ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開
始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度
にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を
行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処
理しポリマーを回収した。ポリマー収量は３３ｇ、ＮＭ
Ｒ測定よりポリマー中のスチレン含量は６３ｗｔ％であ
った。
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯを１０ｍｍｏｌ、（Ｄ）成分
としてトリメチルアルミニウム１０ｍｍｏｌ打ち込み、
計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送した。
同様にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを９０℃
に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ
（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０ｍｍｏｌのトルエン
溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン１８
０ｍｌで移送した。リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／
ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開
始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度
にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を
行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処
理しポリマーを回収した。ポリマー収量は３３ｇ、ＮＭ
Ｒ測定よりポリマー中のスチレン含量は６３ｗｔ％であ
った。
【００４５】（実施例１４）装置内を窒素置換後、リア
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯを１５ｍｍｏｌ、（Ｅ）成分
としてジブチルマグネシウム５ｍｍｏｌ打ち込み、計量
管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送した。同様
にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを９０℃に加
熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのトルエン溶液を
触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン１８０ｍｌ
で移送した。リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／ｃｍ2
に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始し
た。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエ
チレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を行っ
た。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理し
ポリマーを回収した。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は５０ｗｔ％であっ
た。
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｂ）成分としてＭＭＡＯを１５ｍｍｏｌ、（Ｅ）成分
としてジブチルマグネシウム５ｍｍｏｌ打ち込み、計量
管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送した。同様
にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを９０℃に加
熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（ＣＯ
ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのトルエン溶液を
触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン１８０ｍｌ
で移送した。リアクタ内をエチレンで１０ｋｇ／ｃｍ2
に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始し
た。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエ
チレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分重合を行っ
た。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理し
ポリマーを回収した。ポリマー収量は４６ｇ、ＮＭＲ測
定よりポリマー中のスチレン含量は５０ｗｔ％であっ
た。
【００４６】（実施例１５）装置内を窒素置換後、リア
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｃ）成分として（Ｃ6 Ｆ5 ）3 Ｂ０．２ｍｍｏｌ打ち
込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送
した。同様にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
９０℃に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ
［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのト
ルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレ
ン１８０ｍｌで移送した。リアクタ内をエチレンで１０
ｋｇ／ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪
拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合
中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分
重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール
中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は３２
ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６９ｗ
ｔ％であった。
クタ（２Ｌオートクレーブ）を接続し、リアクタ内を窒
素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に６０
０ｍｌサンプリングした後、５分間減圧下で脱気した。
リアクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
（Ｃ）成分として（Ｃ6 Ｆ5 ）3 Ｂ０．２ｍｍｏｌ打ち
込み、計量管内のトルエン２８０ｍｌでリアクタに移送
した。同様にスチレンを６００ｍｌサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
９０℃に加熱し、つぎに（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ
［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］Ｃｌ2 ２０μｍｏｌのト
ルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレ
ン１８０ｍｌで移送した。リアクタ内をエチレンで１０
ｋｇ／ｃｍ2 に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪
拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合
中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちながら６０分
重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール
中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量は３２
ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は６９ｗ
ｔ％であった。
【００４７】（実施例１６）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔ
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例１３）と同様の方法で行った。ポリマー収量は
３１ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５
８ｗｔ％であった。 （実施例１７）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例１
４）と同様の方法で行った。ポリマー収量は３２ｇ、Ｎ
ＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％で
あった。
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例１３）と同様の方法で行った。ポリマー収量は
３１ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５
８ｗｔ％であった。 （実施例１７）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔｉ［ＣＨ（Ｃ
ＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は（実施例１
４）と同様の方法で行った。ポリマー収量は３２ｇ、Ｎ
ＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５９ｗｔ％で
あった。
【００４８】（実施例１８）（Ａ）成分としてＣｐ* Ｔ
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例１５）と同様の方法で行った。ポリマー収量は
３８ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５
８ｗｔ％であった。 （比較例１）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例１）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は３１ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は５９ｗｔ％であった。
ｉ［ＣＨ（ＣＯＯＣ2 Ｈ5 ）2 ］2 Ｃｌを用いた以外は
（実施例１５）と同様の方法で行った。ポリマー収量は
３８ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のスチレン含量は５
８ｗｔ％であった。 （比較例１）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例１）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は３１ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は５９ｗｔ％であった。
【００４９】（比較例２）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ
−ブチルアミド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テ
トラメチル−２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は（実施例２）と同様の方
法で行った。ポリマー収量は３４ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例３）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例４）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は１７ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は１４ｗｔ％であった。
−ブチルアミド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テ
トラメチル−２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は（実施例２）と同様の方
法で行った。ポリマー収量は３４ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例３）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例４）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は１７ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は１４ｗｔ％であった。
【００５０】（比較例４）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ
−ブチルアミド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テ
トラメチル−２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は（実施例５）と同様の方
法で行った。ポリマー収量は１２ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例５）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例６）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は１２ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例６）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例３）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は２４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は１０ｗｔ％であった。
−ブチルアミド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テ
トラメチル−２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は（実施例５）と同様の方
法で行った。ポリマー収量は１２ｇ、ＮＭＲ測定よりポ
リマー中のスチレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例５）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例６）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は１２ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は２１ｗｔ％であった。 （比較例６）（Ａ）成分として［（Ｎ−ｔ−ブチルアミ
ド）ジメチルシリル、２，３，４，５−テトラメチル−
２，４ーシクロペンタジエニル］チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は（実施例３）と同様の方法で行った。
ポリマー収量は２４ｇ、ＮＭＲ測定よりポリマー中のス
チレン含量は１０ｗｔ％であった。
【００５１】
【発明の効果】本発明の重合触媒は触媒の合成が容易で
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
し、貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることであ
る。したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の
重合活性を持続する。
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
し、貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることであ
る。したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の
重合活性を持続する。
Claims (5)
- 【請求項１】 触媒（Ａ）成分が下記一般式（１）で示
される錯体を含むことを特徴とする重合触媒。 【化１】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。） 【化２】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） - 【請求項２】 下記一般式（１）で示される錯体を含む
触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）成分
を含むことを特徴とする重合触媒。 【化３】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素又はＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。） 【化４】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 - 【請求項３】 下記一般式（１）で示される錯体を含む
触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）成分
および／または（Ｄ）成分を含むことを特徴とする重合
触媒。 【化５】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。） 【化６】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、アルキルア
ミド基、アリールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物 - 【請求項４】 下記一般式（１）で示される錯体を含む
触媒（Ａ）成分と（Ｂ）成分および／または（Ｃ）成分
および／または（Ｄ）成分および／または（Ｅ）成分を
含むことを特徴とする重合触媒。 【化７】 ( 式中、Ｍは４族の遷移金属、５員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でＭとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。Ｒ1 〜Ｒ
5 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の２つ
もしくは３つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役２重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Ｘ、Ｙ、Ｚははそれぞれ同じでも異なっていても良
く、水素またはＣ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるが、
このうち少なくとも一つは下記一般式（２）で示される
構造を有するジカルボニル配位子からなるものとす
る。） 【化８】 （ただし、Ｒ6 、Ｒ7 は同じでも異なっていても良く、
Ｃ１〜Ｃ１２のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基、アルキルアミド基、ア
リールアミド基からなるものとする。） （Ｂ）アルキルアルミニウムオキシ化合物 （Ｃ）カチオン発生剤 （Ｄ）アルキルアルミニウム化合物 （Ｅ）アルキルアルカリ金属および／またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の重合触
媒で重合される共重合体が９８. ６〜５３モル％のエチ
レン及び１．４〜４７モル％のスチレンを含むエチレン
とスチレンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴
とする共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1476098A JPH11199622A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1476098A JPH11199622A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199622A true JPH11199622A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11870049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1476098A Pending JPH11199622A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199622A (ja) |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP1476098A patent/JPH11199622A/ja active Pending
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