JPH11199623A - 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 - Google Patents
新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法Info
- Publication number
- JPH11199623A JPH11199623A JP1476198A JP1476198A JPH11199623A JP H11199623 A JPH11199623 A JP H11199623A JP 1476198 A JP1476198 A JP 1476198A JP 1476198 A JP1476198 A JP 1476198A JP H11199623 A JPH11199623 A JP H11199623A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ring
- component
- alkyl
- valence
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- -1 (substituted) cyclopentadienyl Chemical group 0.000 claims abstract description 281
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 58
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 33
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 26
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims description 25
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 claims description 22
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 11
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 8
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 6
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 abstract description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 2
- 238000004321 preservation Methods 0.000 abstract 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 47
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 36
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 19
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 14
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 13
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 11
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical class C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 9
- ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 2-aminopyridine Chemical compound NC1=CC=CC=N1 ICSNLGPSRYBMBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 4
- UWNADWZGEHDQAB-UHFFFAOYSA-N i-Pr2C2H4i-Pr2 Natural products CC(C)CCC(C)C UWNADWZGEHDQAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 4
- VNPQQEYMXYCAEZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetramethylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1 VNPQQEYMXYCAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ABNCGYCFZDYTQP-UHFFFAOYSA-L CC1=C(C)C(C)=C(C)C1[Ti](Cl)Cl Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C(C)C1[Ti](Cl)Cl ABNCGYCFZDYTQP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 230000037048 polymerization activity Effects 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000005808 2,4,6-trimethoxyphenyl group Chemical group [H][#6]-1=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6](-*)=[#6](-[#8]C([H])([H])[H])-[#6]([H])=[#6]-1-[#8]C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003229 2-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCMZYCFSSYXEQR-UHFFFAOYSA-N CCCC[K] Chemical compound CCCC[K] KCMZYCFSSYXEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L Magnesium chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[Cl-] TWRXJAOTZQYOKJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical class CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylpropyl)aluminum Chemical compound CC(C)C[Al]CC(C)C SIPUZPBQZHNSDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K chloro(dimethyl)alumane;dichloro(methyl)alumane Chemical compound C[Al](C)Cl.C[Al](Cl)Cl HYZXMVILOKSUKA-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- SYZWSSNHPZXGML-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;oxolane Chemical compound ClCCl.C1CCOC1 SYZWSSNHPZXGML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N diethylalumane Chemical compound CC[AlH]CC HJXBDPDUCXORKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M dimethylalumanylium;chloride Chemical compound C[Al](C)Cl JGHYBJVUQGTEEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 2
- KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N magnesium;butane Chemical compound [Mg+2].CCC[CH2-].CCC[CH2-] KJJBSBKRXUVBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].[CH2-]C YCCXQARVHOPWFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N tris[(2-methylpropan-2-yl)oxy]alumane Chemical compound [Al+3].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-].CC(C)(C)[O-] MDDPTCUZZASZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- DGPNLWCCHIULCZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetramethylcyclopenta-1,3-diene Chemical compound CC1C(C)=CC(C)=C1C DGPNLWCCHIULCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006219 1-ethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Natural products C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004338 2,2,3-trimethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003562 2,2-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003660 2,3-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003764 2,4-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichloroaniline Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC=C1Cl AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- WCZHLAADHIGYLH-UHFFFAOYSA-L 2-ethylhexylaluminum(2+);dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].CCCCC(CC)C[Al+2] WCZHLAADHIGYLH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004336 3,3-dimethylpentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003469 3-methylhexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 8-chloroquinoline Chemical compound C1=CN=C2C(Cl)=CC=CC2=C1 RUSMDMDNFUYZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N C.[Na] Chemical compound C.[Na] CAQWNKXTMBFBGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFBLAYJXKAOMSF-UHFFFAOYSA-N C1(=CC=CC=C1)CC[K] Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CC[K] JFBLAYJXKAOMSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBZJBJTDRIIY-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)[K] Chemical compound CC(C)(C)[K] FWDBZJBJTDRIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJRTWGWWBDOAMP-UHFFFAOYSA-N CC(C)(C)[Na] Chemical compound CC(C)(C)[Na] QJRTWGWWBDOAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWVLDMTUKDWODM-UHFFFAOYSA-N CC(C)C[K] Chemical compound CC(C)C[K] IWVLDMTUKDWODM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISZKKWKBYKPCSI-UHFFFAOYSA-N CC(C)C[Na] Chemical compound CC(C)C[Na] ISZKKWKBYKPCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFGLZFZXSHRQEA-UHFFFAOYSA-N CC(C)[K] Chemical compound CC(C)[K] DFGLZFZXSHRQEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQPSKTOGFFYYKN-UHFFFAOYSA-N CC(C)[Na] Chemical compound CC(C)[Na] HQPSKTOGFFYYKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRIOVJXKEOXLIQ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C([K])C=C1 Chemical compound CC1=CC=C([K])C=C1 RRIOVJXKEOXLIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWIQYVHBCNLPQJ-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=C([Na])C=C1 Chemical compound CC1=CC=C([Na])C=C1 BWIQYVHBCNLPQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INIKVNUYBZMTJY-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC([K])=C1 Chemical compound CC1=CC=CC([K])=C1 INIKVNUYBZMTJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWOMVIKVMSXQSY-UHFFFAOYSA-N CC1=CC=CC([Na])=C1 Chemical compound CC1=CC=CC([Na])=C1 CWOMVIKVMSXQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDMZCZOHEHPGMW-UHFFFAOYSA-N CCC(C)[K] Chemical compound CCC(C)[K] FDMZCZOHEHPGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOUHPCHHSFSDJW-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[K] Chemical compound CCCCCC[K] QOUHPCHHSFSDJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N CCCCCC[Na] Chemical compound CCCCCC[Na] CVZKGBSAERIRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWVPJOOMBGGPKS-UHFFFAOYSA-N CCCCC[Na] Chemical compound CCCCC[Na] RWVPJOOMBGGPKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N CCCC[Mg]CC Chemical compound CCCC[Mg]CC MVECFARLYQAUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N CCCC[Na] Chemical compound CCCC[Na] IRDQNLLVRXMERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJGPGQJYWPRTFO-UHFFFAOYSA-N CCC[K] Chemical compound CCC[K] ZJGPGQJYWPRTFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHCDZZIXAMDCBJ-UHFFFAOYSA-N CCC[Na] Chemical compound CCC[Na] AHCDZZIXAMDCBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUFTCUMEDALHC-UHFFFAOYSA-N CC[K] Chemical compound CC[K] ZCUFTCUMEDALHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZRDKVFLPLTPU-UHFFFAOYSA-N CC[Na] Chemical compound CC[Na] NTZRDKVFLPLTPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLOSSHSFATUNTF-UHFFFAOYSA-N [K]C1=CC=CC=C1 Chemical compound [K]C1=CC=CC=C1 PLOSSHSFATUNTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000746 allylic group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPBFIOYAKGHRLY-UHFFFAOYSA-N alumane;lithium Chemical compound [Li].[AlH3].[AlH3] FPBFIOYAKGHRLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229940043430 calcium compound Drugs 0.000 description 1
- 150000001674 calcium compounds Chemical class 0.000 description 1
- CQKAMKYHMLNGQC-UHFFFAOYSA-N chloro-cyclopenta-1,3-dien-1-yl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=CC=CC1 CQKAMKYHMLNGQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O diethyl(phenyl)azanium Chemical compound CC[NH+](CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O dimethyl(phenyl)azanium Chemical compound C[NH+](C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N dimethylmagnesium Chemical compound C[Mg]C KZLUHGRPVSRSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N diphenylzinc Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Zn]C1=CC=CC=C1 MKRVHLWAVKJBFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N ethyllithium Chemical compound [Li]CC BLHLJVCOVBYQQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O hydron;quinoline Chemical compound [NH+]1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N lithium methoxide Chemical compound [Li+].[O-]C JILPJDVXYVTZDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJNUJWMGIWJSLT-UHFFFAOYSA-N lithium trimethylsilanide Chemical compound [Li+].C[Si-](C)C JJNUJWMGIWJSLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWAWVCZRBYMUTC-UHFFFAOYSA-N lithium;(4-methylphenyl)methanolate Chemical compound [Li+].CC1=CC=C(C[O-])C=C1 RWAWVCZRBYMUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCZVEWRRAVASGL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methanidylpropane Chemical compound [Li+].CC(C)[CH2-] CCZVEWRRAVASGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)(C)[O-] LZWQNOHZMQIFBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OONWLILMXMWOMG-UHFFFAOYSA-M lithium;4-methylphenolate Chemical compound [Li+].CC1=CC=C([O-])C=C1 OONWLILMXMWOMG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTRVAZKHJRYLRJ-UHFFFAOYSA-N lithium;butan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCC[O-] LTRVAZKHJRYLRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMAFBJJKWTWLJP-UHFFFAOYSA-N lithium;butan-2-olate Chemical compound [Li+].CCC(C)[O-] XMAFBJJKWTWLJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBKDYYFPDRPMPE-UHFFFAOYSA-N lithium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Li+].C=1C=C[CH-]C=1 DBKDYYFPDRPMPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N lithium;diethylazanide Chemical compound [Li+].CC[N-]CC AHNJTQYTRPXLLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N lithium;dimethylazanide Chemical compound [Li+].C[N-]C YDGSUPBDGKOGQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N lithium;ethanolate Chemical compound [Li+].CC[O-] AZVCGYPLLBEUNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUPFWVQZXYTRSK-UHFFFAOYSA-N lithium;heptan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCCCCC[O-] UUPFWVQZXYTRSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPXOATAYFFLLBM-UHFFFAOYSA-N lithium;hexan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCCCC[O-] PPXOATAYFFLLBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N lithium;hexane Chemical compound [Li+].CCCCC[CH2-] CETVQRFGPOGIQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUMVGVICPANVRR-UHFFFAOYSA-N lithium;octan-1-olate Chemical compound [Li+].CCCCCCCC[O-] QUMVGVICPANVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVKLZHZYBZPWIN-UHFFFAOYSA-N lithium;pentan-1-olate Chemical compound [Li]OCCCCC VVKLZHZYBZPWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAVQZBGEXVFCJI-UHFFFAOYSA-M lithium;phenoxide Chemical compound [Li+].[O-]C1=CC=CC=C1 XAVQZBGEXVFCJI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WVHPRHPUFLPMMM-UHFFFAOYSA-N lithium;phenylmethanolate Chemical compound [Li]OCC1=CC=CC=C1 WVHPRHPUFLPMMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXIRPJHGXWFUAE-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-1-olate Chemical compound [Li+].CCC[O-] MXIRPJHGXWFUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N lithium;propan-2-olate Chemical compound [Li+].CC(C)[O-] HAUKUGBTJXWQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].C[CH-]C SZAVVKVUMPLRRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N lithium;propane Chemical compound [Li+].CC[CH2-] XBEREOHJDYAKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUWNHKMYUGNWEC-UHFFFAOYSA-N lithium;triethylsilanide Chemical compound [Li+].CC[Si-](CC)CC NUWNHKMYUGNWEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSUKUDRNJSFZGK-UHFFFAOYSA-N lithium;triphenylsilanide Chemical compound [Li+].C1=CC=CC=C1[Si-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WSUKUDRNJSFZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001629 magnesium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C[C-](C)C UKZCGMDMXDLAGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M magnesium;2-methylpropane;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C[C-](C)C CQRPUKWAZPZXTO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;chloride Chemical compound [Mg+2].[Cl-].C1=CC=[C-]C=C1 IWCVDCOJSPWGRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N magnesium;ethane Chemical compound [Mg+2].[CH2-]C.[CH2-]C DLPASUVGCQPFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M magnesium;ethane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[CH2-]C FRIJBUGBVQZNTB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- BHGADZKHWXCHKX-UHFFFAOYSA-N methane;potassium Chemical compound C.[K] BHGADZKHWXCHKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-O methyl(diphenyl)azanium Chemical compound C=1C=CC=CC=1[NH+](C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- RAYYZJTYTUPECK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-2,4-dinitroaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O RAYYZJTYTUPECK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJAIOCKFIORVFU-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-4-nitroaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 QJAIOCKFIORVFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N naphthalene;potassium Chemical compound [K].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 IJJSYKQZFFGIEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 150000003112 potassium compounds Chemical class 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N potassium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [K+].C1C=CC=[C-]1 IZWIPIIVPHXLTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWIBIHTJMCHGT-UHFFFAOYSA-N potassium;diphenylmethylbenzene Chemical compound [K+].C1=CC=CC=C1[C-](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FZWIBIHTJMCHGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 150000003388 sodium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- KSMWLICLECSXMI-UHFFFAOYSA-N sodium;benzene Chemical compound [Na+].C1=CC=[C-]C=C1 KSMWLICLECSXMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHUVHDUNQKJDKW-UHFFFAOYSA-N sodium;cyclopenta-1,3-diene Chemical compound [Na+].C=1C=C[CH-]C=1 OHUVHDUNQKJDKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical group C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N tert-butylamine Chemical compound CC(C)(C)N YBRBMKDOPFTVDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O tributylazanium Chemical compound CCCC[NH+](CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N triphenylalumane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Al](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O triphenylphosphanium Chemical compound C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FHAOCGKAMRAFMM-UHFFFAOYSA-N tris(2-ethylhexyl)alumane Chemical compound CCCCC(CC)C[Al](CC(CC)CCCC)CC(CC)CCCC FHAOCGKAMRAFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003752 zinc compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来錯体より熱安定性にすぐれ、また長期保
存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触媒を用い
たエチレン/ビニル芳香族モノマー共重合体の製造方法
を提供すること。 【解決手段】 (A)特定構造を有する4族遷移金属錯
体、(B)アルキルアルミニウムオキシ化合物及び/ま
たは(C)カチオン発生剤及び/または(D)アルキル
アルミニウム化合物及び/または(E)アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン/ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
存安定性や活性の再現性の高い重合触媒と該触媒を用い
たエチレン/ビニル芳香族モノマー共重合体の製造方法
を提供すること。 【解決手段】 (A)特定構造を有する4族遷移金属錯
体、(B)アルキルアルミニウムオキシ化合物及び/ま
たは(C)カチオン発生剤及び/または(D)アルキル
アルミニウム化合物及び/または(E)アルキルアルカ
リ金属またはアルキルアルカリ土類金属化合物を含有す
る重合触媒並びに該重合触媒を用いたエチレン/ビニル
芳香族モノマー共重合体の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な錯体触媒及
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モノマー共重合
体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重
合触媒としては、特開平3−163088,や特開平7
−70223など、拘束された幾何形状をもつ金属配位
錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系として知ら
れている。しかし、これらの錯体触媒系は、熱に対して
不安定であり、50℃以上の温度での取り扱いが難し
い。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
課題を残すものであるといえる。
合触媒としては、特開平3−163088,や特開平7
−70223など、拘束された幾何形状をもつ金属配位
錯体が高活性かつ共重合性にすぐれた触媒系として知ら
れている。しかし、これらの錯体触媒系は、熱に対して
不安定であり、50℃以上の温度での取り扱いが難し
い。また、錯体の長期保存安定性や活性の再現性も十分
ではないという問題点があり、工業的に用いる上では、
課題を残すものであるといえる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に用い
る上で従来錯体より熱安定性にすぐれ、また長期保存安
定性や活性の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的
としてなされたものである。
る上で従来錯体より熱安定性にすぐれ、また長期保存安
定性や活性の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的
としてなされたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は特定の構造を有
する4族4価錯体が従来錯体に比べ熱安定性が高く、か
つ(A)特定の構造を有する4族4価錯体と(B)特定
の構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組
み合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保
存安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれて
いるという驚くべき事実に基づいてなされたものであ
る。すなわち本発明は [1]触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
する4族4価錯体が従来錯体に比べ熱安定性が高く、か
つ(A)特定の構造を有する4族4価錯体と(B)特定
の構造を有する金属化合物またはカチオン発生剤との組
み合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも長期保
存安定性がよく重合活性の再現性の面で遥かにすぐれて
いるという驚くべき事実に基づいてなされたものであ
る。すなわち本発明は [1]触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒
【0005】
【化5】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R6 ,R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じでも異
なっていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル
基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、アリー
ル基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとする。R
7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成していて
もかまわない。また環には共役2重結合を含んだ芳香族
性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成元素の
一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3の整数
で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−1また
は価数−2に相当する数である、ただしm=n=0は除
く。)
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R6 ,R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じでも異
なっていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル
基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、アリー
ル基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとする。R
7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成していて
もかまわない。また環には共役2重結合を含んだ芳香族
性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成元素の
一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3の整数
で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−1また
は価数−2に相当する数である、ただしm=n=0は除
く。)
【0006】[2]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
【化6】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
【0007】[3]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(D)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(D)
成分を含むことを特徴とする重合触媒
【化7】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
【0008】[4]下記一般式(1)で示される錯体を
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分および(E)成分を含む
ことを特徴とする重合触媒
含む触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)
成分および/または(D)成分および(E)成分を含む
ことを特徴とする重合触媒
【化8】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R 1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R 1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
【0009】[5]上記[1]〜[4]の重合触媒で重
合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及
び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチ
レンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする
共重合体の製造方法に関するものである。エチレンとビ
ニル芳香族モノマーの共重合触媒としては、特開平3−
163088,や特開平7−70223などの拘束され
た幾何形状をもつ金属配位錯体があるが、これらの錯体
触媒系は50℃以上の温度においての熱安定性が悪いこ
とがわかっている。また、錯体の長期保存安定性や活性
の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的に
用いる上では、上記錯体と同等以上の共重合活性を有
し、より簡単に合成でき取り扱いも容易な錯体が望まれ
ていた。
合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及
び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチ
レンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする
共重合体の製造方法に関するものである。エチレンとビ
ニル芳香族モノマーの共重合触媒としては、特開平3−
163088,や特開平7−70223などの拘束され
た幾何形状をもつ金属配位錯体があるが、これらの錯体
触媒系は50℃以上の温度においての熱安定性が悪いこ
とがわかっている。また、錯体の長期保存安定性や活性
の再現性も十分ではないという問題点があり、工業的に
用いる上では、上記錯体と同等以上の共重合活性を有
し、より簡単に合成でき取り扱いも容易な錯体が望まれ
ていた。
【0010】本発明者らは、上記の問題点を解決し得る
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の熱安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)及び/または
(E)成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、(A)特定
の構造を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり錯体の熱安定性にもすぐれるということとさらに
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と(A)と
(B)及び/または(C)にさらに(D)及び/または
(E)成分を組み合わせた系が共重合活性にすぐれ、重
合温度範囲も広く、重合温度による活性の低下も少な
く、活性再現性も高いということを見出し本発明の完成
に至ったものである。
【0011】本発明に係る触媒成分(A)は下記一般式
(1)で示される。
(1)で示される。
【化9】
【0012】式中、Mは4族4価の遷移金属でTiまた
はZrまたはHfである。5員環はシクロペンタジエニ
ル基、及び置換シクロペンタジエニル基でインデニル
基、フルオレニル基等も含まれる。Mと置換シクロペン
タジエニル基はη5 でπ結合していて5員環の炭素はそ
れぞれ等価である。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異な
っていてもよく、水素またはC1〜C12のアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリロ
キシ基でこのうちの任意の2つもしくは3つが結合し環
を形成していても良い、また環にはインデニルやフルオ
レニルの様な共役2重結合を含んだ芳香族性を有するも
のも含む。
はZrまたはHfである。5員環はシクロペンタジエニ
ル基、及び置換シクロペンタジエニル基でインデニル
基、フルオレニル基等も含まれる。Mと置換シクロペン
タジエニル基はη5 でπ結合していて5員環の炭素はそ
れぞれ等価である。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異な
っていてもよく、水素またはC1〜C12のアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリロ
キシ基でこのうちの任意の2つもしくは3つが結合し環
を形成していても良い、また環にはインデニルやフルオ
レニルの様な共役2重結合を含んだ芳香族性を有するも
のも含む。
【0013】Yは炭素又はSi又はGe元素によるアル
キレン、シリレン、ゲルミレン基であり、R5 ,R6 は
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリロキ
シ基、アリール基でR5 ,R6 は互いに結合しYを含ん
だヘテロ環を形成していてもかまわない。mは1〜3の
整数である。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいず
れか一つでZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を
持ち、η3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位して
いるものとする。R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じでも
異なっていても良く、水素またはC1〜C12のアルキ
ル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとする。
R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成してい
てもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ芳香
族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成元素
の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3の整
数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−1ま
たは価数−2に相当する数である、ただしm=n=0は
除く。−ZR7 m−CR8 −QR9 nの部分には下記一
般式(2)に示す化合物も含むものとする。
キレン、シリレン、ゲルミレン基であり、R5 ,R6 は
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリロキ
シ基、アリール基でR5 ,R6 は互いに結合しYを含ん
だヘテロ環を形成していてもかまわない。mは1〜3の
整数である。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいず
れか一つでZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を
持ち、η3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位して
いるものとする。R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じでも
異なっていても良く、水素またはC1〜C12のアルキ
ル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとする。
R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成してい
てもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ芳香
族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成元素
の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3の整
数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−1ま
たは価数−2に相当する数である、ただしm=n=0は
除く。−ZR7 m−CR8 −QR9 nの部分には下記一
般式(2)に示す化合物も含むものとする。
【0014】
【化10】 (ただしR7 、R9 はそれぞれ同じでも異なっていても
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。)
良く、C1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。)
【0015】上記一般式(1)、(2)における、R1
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,
1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3
−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、1,1−エチルメチルプロピル、1−
エチルブチル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n
−ヘプチル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキ
シル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペ
ンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチル
ペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチ
ルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペ
ンチル、1−プロピルブチル、2−エチルペンチル、3
−エチルペンチル、1,1−エチルメチルブチル、1,
1−ジエチルプロピル、2,3−ジメチルペンチル、
2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペンチ
ル、1,−エチル−2−メチルブチル、1−エチル−3
−メチルブチル、4−メチルシクロヘキシル、3−メチ
ルシクロヘキシル、シクロヘプチル、1,1,2−トリ
メチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、2,
2,1−トリメチルブチル、2,2,3−トリメチルブ
チル、3,3,1−トリメチルブチル、3,3,2−ト
リメチルブチル、1,1,2,2−テトラメチルプロピ
ル、n−オクチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘ
プチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5
−メチルヘプチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル
2−エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチル
ヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチ
ルヘキシル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメ
チルヘキシル、
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,
1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3
−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、1,1−エチルメチルプロピル、1−
エチルブチル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n
−ヘプチル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキ
シル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペ
ンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチル
ペンチル、1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメチ
ルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチルペ
ンチル、1−プロピルブチル、2−エチルペンチル、3
−エチルペンチル、1,1−エチルメチルブチル、1,
1−ジエチルプロピル、2,3−ジメチルペンチル、
2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペンチ
ル、1,−エチル−2−メチルブチル、1−エチル−3
−メチルブチル、4−メチルシクロヘキシル、3−メチ
ルシクロヘキシル、シクロヘプチル、1,1,2−トリ
メチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、2,
2,1−トリメチルブチル、2,2,3−トリメチルブ
チル、3,3,1−トリメチルブチル、3,3,2−ト
リメチルブチル、1,1,2,2−テトラメチルプロピ
ル、n−オクチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘ
プチル、3−メチルヘプチル、4−メチルヘプチル、5
−メチルヘプチル、イソオクチル、1−エチルヘキシル
2−エチルヘキシル、3−エチルヘキシル、4−エチル
ヘキシル、1,1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチ
ルヘキシル、3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメ
チルヘキシル、
【0016】5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメ
チルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジ
メチルヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−
ヂメチルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4
−ジメチルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,
5−ジメチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチ
ル、1−エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3
−メチルペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、
2−エチル−1−メチルペンチル、2,2−エチルメチ
ルペンチル、3,3−エチルメチルペンチル、2−エチ
ル−3−メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペン
チル、3−エチル−4−メチルペンチル、3−エチル−
2−メチルペンチル、1,1−ジエチルブチル、2,2
−ジエチルブチル、1,2−ジエチルブチル、1,1−
メチルプロピルブチル、2−メチル−1−プロピルブチ
ル、3メチル−1−プロピルブチル、4−エチルシクロ
ヘキシル、3−エチルシクロヘキシル、3,4−ジメチ
ルシクロヘキシル1,1,2−トリメチルペンチル、
1,1,3−トリメチルペンチル、1,1,4−トリメ
チルペンチル、2,2,1−トリメチルペンチル、2,
2,3−トリメチルペンチル、2,2,4−トリメチル
ペンチル、3,3,1−トリメチルペンチル、
チルヘキシル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジ
メチルヘキシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−
ヂメチルヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4
−ジメチルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,
5−ジメチルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチ
ル、1−エチル−2−メチルペンチル、1−エチル−3
−メチルペンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、
2−エチル−1−メチルペンチル、2,2−エチルメチ
ルペンチル、3,3−エチルメチルペンチル、2−エチ
ル−3−メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペン
チル、3−エチル−4−メチルペンチル、3−エチル−
2−メチルペンチル、1,1−ジエチルブチル、2,2
−ジエチルブチル、1,2−ジエチルブチル、1,1−
メチルプロピルブチル、2−メチル−1−プロピルブチ
ル、3メチル−1−プロピルブチル、4−エチルシクロ
ヘキシル、3−エチルシクロヘキシル、3,4−ジメチ
ルシクロヘキシル1,1,2−トリメチルペンチル、
1,1,3−トリメチルペンチル、1,1,4−トリメ
チルペンチル、2,2,1−トリメチルペンチル、2,
2,3−トリメチルペンチル、2,2,4−トリメチル
ペンチル、3,3,1−トリメチルペンチル、
【0017】3,3,2−トリメチルペンチル、3,
3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチル
ペンチル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,
4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチルペン
チル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−
トリメチルペンチル、1,1,2,2−テトラメチルブ
チル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1,1,
2,3−テトラメチルブチル、2,2,1,3−テトラ
メチルブチル、1−エチル−1,2−ジメチルブチル、
2−エチル−1,2−ジメチルブチル、1−エチル−
2,3−ジメチルブチル、n−ノニル、イソノニル、1
−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3−メチルオ
クチル、4−メチルオクチル、5−メチルオクチル、6
−メチルオクチル、1−エチルヘプチル、2−エチルヘ
プチル、3−エチルヘプチル、4−エチルヘプチル、5
−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、2,2−
ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチル、4,4
−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプチル、6,
6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、
3,4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチル
ペンチル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,
4−トリメチルペンチル、1,2,3−トリメチルペン
チル、1,2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−
トリメチルペンチル、1,1,2,2−テトラメチルブ
チル、1,1,3,3−テトラメチルブチル、1,1,
2,3−テトラメチルブチル、2,2,1,3−テトラ
メチルブチル、1−エチル−1,2−ジメチルブチル、
2−エチル−1,2−ジメチルブチル、1−エチル−
2,3−ジメチルブチル、n−ノニル、イソノニル、1
−メチルオクチル、2−メチルオクチル、3−メチルオ
クチル、4−メチルオクチル、5−メチルオクチル、6
−メチルオクチル、1−エチルヘプチル、2−エチルヘ
プチル、3−エチルヘプチル、4−エチルヘプチル、5
−エチルヘプチル1,1−ジメチルヘプチル、2,2−
ジメチルヘプチル、3,3−ジメチルヘプチル、4,4
−ジメチルヘプチル、5,5−ジメチルヘプチル、6,
6−ジメチルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、
【0018】1,3−ジメチルヘプチル、1,4−ジメ
チルヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジ
メチルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−
ジメチルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6
−ジメチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,
5−ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、
4,5−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチ
ル、5,6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチ
ルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、
チルヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジ
メチルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−
ジメチルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6
−ジメチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,
5−ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、
4,5−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチ
ル、5,6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチ
ルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、3,3,5−ト
リメチルヘキシル、4,4,1−トリメチルヘキシル、
4,4,2−トリメチルヘキシル、4,4,3−トリメ
チルヘキシル、4,4,5−トリメチルヘキシル、5,
5,1−トリメチルヘキシル、5,5,2−トリメチル
ヘキシル、5,5,3−トリメチルヘキシル、5,5,
4−トリメチルヘキシル、
【0019】1,2,3−トリメチルヘキシル、2,
3,4−トリメチルヘキシル、3,4,5−トリメチル
ヘキシル、1,3,4−トリメチルヘキシル、1,4,
5−トリメチルヘキシル、2,4,5−トリメチルヘキ
シル、1,2,5−トリメチルヘキシル、1,2,4−
トリメチルヘキシル、1,1−エチルメチルヘキシル、
2,2−エチルメチルヘキシル、3,3−エチルメチル
ヘキシル、4,4−エチルメチルヘキシル、5,5−エ
チルメチルヘキシル、1−エチル−2−メチルヘキシ
ル、1−エチル−3−メチルヘキシル、1−エチル−4
−メチルヘキシル、1−エチル−5−メチルヘキシル、
2−エチル−1−メチルヘキシル、3−エチル−1−メ
チルヘキシル、3−エチル−2−メチルヘキシル、1,
1−ジエチルペンチル、2,2−ジエチルペンチル、
3,3−ジエチルペンチル、1,2−ジエチルペンチ
ル、1,3−ジエチルペンチル、2,3−ジエチルペン
チル、1,1−メチルプロピルペンチル、2,2−メチ
ルプロピルペンチル、1−メチル−2−プロピルペンチ
ルn−デシル、イソデシル、1−メチルノニル、2−メ
チルノニル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、5
−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニ
ル、1−エチルオクチル、2−エチルオクチル、
3,4−トリメチルヘキシル、3,4,5−トリメチル
ヘキシル、1,3,4−トリメチルヘキシル、1,4,
5−トリメチルヘキシル、2,4,5−トリメチルヘキ
シル、1,2,5−トリメチルヘキシル、1,2,4−
トリメチルヘキシル、1,1−エチルメチルヘキシル、
2,2−エチルメチルヘキシル、3,3−エチルメチル
ヘキシル、4,4−エチルメチルヘキシル、5,5−エ
チルメチルヘキシル、1−エチル−2−メチルヘキシ
ル、1−エチル−3−メチルヘキシル、1−エチル−4
−メチルヘキシル、1−エチル−5−メチルヘキシル、
2−エチル−1−メチルヘキシル、3−エチル−1−メ
チルヘキシル、3−エチル−2−メチルヘキシル、1,
1−ジエチルペンチル、2,2−ジエチルペンチル、
3,3−ジエチルペンチル、1,2−ジエチルペンチ
ル、1,3−ジエチルペンチル、2,3−ジエチルペン
チル、1,1−メチルプロピルペンチル、2,2−メチ
ルプロピルペンチル、1−メチル−2−プロピルペンチ
ルn−デシル、イソデシル、1−メチルノニル、2−メ
チルノニル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、5
−メチルノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニ
ル、1−エチルオクチル、2−エチルオクチル、
【0020】3−エチルオクチル、4−エチルオクチ
ル、5−エチルオクチル、6−エチルオクチル、1,1
−ジメチルオクチル、2,2−ジメチルオクチル、3,
3−ジメチルオクチル、4,4−ジメチルオクチル、
5,5−ジメチルオクチル、6,6−ジメチルオクチ
ル、7,7−ジメチルオクチル、1,2−ジメチルオク
チル、1,3−ジメチルオクチル、1,4−ジメチルオ
クチル、1,5−ジメチルオクチル、1,6−ジメチル
オクチル、1,7−ジメチルオクチル、2,3−ジメチ
ルオクチル、2,4−ジメチルオクチル、2,5−ジメ
チルオクチル、2,6−ジメチルオクチル、2,7−ジ
メチルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、3,5−
ジメチルオクチル、3,6−ジメチルオクチル、3,7
−ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオクチル、4,
6−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオクチル、
5,6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチルオクチ
ル、n−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、ベンジ
ル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリル、
2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフ
ェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6−ト
リメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェニ
ル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニルがあげられる。触媒成
分(B)のアルミニウムオキシ化合物としては下記一般
式(3)で示される有機アルミニウムオキシ化合物のう
ち少なくとも1つの化合物があげられる。
ル、5−エチルオクチル、6−エチルオクチル、1,1
−ジメチルオクチル、2,2−ジメチルオクチル、3,
3−ジメチルオクチル、4,4−ジメチルオクチル、
5,5−ジメチルオクチル、6,6−ジメチルオクチ
ル、7,7−ジメチルオクチル、1,2−ジメチルオク
チル、1,3−ジメチルオクチル、1,4−ジメチルオ
クチル、1,5−ジメチルオクチル、1,6−ジメチル
オクチル、1,7−ジメチルオクチル、2,3−ジメチ
ルオクチル、2,4−ジメチルオクチル、2,5−ジメ
チルオクチル、2,6−ジメチルオクチル、2,7−ジ
メチルオクチル、3,4−ジメチルオクチル、3,5−
ジメチルオクチル、3,6−ジメチルオクチル、3,7
−ジメチルオクチル、4,5−ジメチルオクチル、4,
6−ジメチルオクチル、4,7−ジメチルオクチル、
5,6−ジメチルオクチル、5,7−ジメチルオクチ
ル、n−ウンデシル、n−ドデシル、フェニル、ベンジ
ル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリル、
2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフ
ェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6−ト
リメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェニ
ル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニルがあげられる。触媒成
分(B)のアルミニウムオキシ化合物としては下記一般
式(3)で示される有機アルミニウムオキシ化合物のう
ち少なくとも1つの化合物があげられる。
【0021】
【化11】 (R12〜R15は同じでも異なっていても良く、C1〜C
8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を表
す。)
8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を表
す。)
【0022】触媒成分(C)のカチオン発生剤の代表的
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
なものとしては下記式で示される有機ホウ素化合物があ
げられる。
【化12】(BR15R16R17)n A(BR15R16R17R18)n (Aはカチオンである。R15〜R18は同じでも異なって
いても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基nは1
〜4までの整数を表す)ここで化合物Aのカチオンとし
ては4級アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数+1〜4の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N
−ジエチルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、
2,5−ジクロロアニリン、p−ニトロ−N,N−ジメ
チルアニリニウム,キノリニウム、N,N−ジメチルア
ニリニウム,メチルジフェニルアンモニウム、N,N−
ジエチルアニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
いても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリール基
を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ基nは1
〜4までの整数を表す)ここで化合物Aのカチオンとし
ては4級アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボ
カチオンまたは価数+1〜4の金属カチオンがあり、具
体例としてはピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N
−ジエチルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、
2,5−ジクロロアニリン、p−ニトロ−N,N−ジメ
チルアニリニウム,キノリニウム、N,N−ジメチルア
ニリニウム,メチルジフェニルアンモニウム、N,N−
ジエチルアニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリ
メチルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフ
ェニルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、ア
ンモニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウ
ム、カルシウム、マグネシウム、等があげられる。
【0023】またR15〜R18の炭化水素基、及びアルコ
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリ
ル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチ
ルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6
−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェ
ニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
キシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例として
はアレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、ベン
ジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチリ
ル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメチ
ルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,6
−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフェ
ニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフチ
ル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフェ
ニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル、等があげられる。
【0024】一方、触媒成分(D)のアルキルアルミニ
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体(ア−ト錯体)等も含まれる。
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。これ
らの化合物のなかでも好ましいものとしては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブ
チルアルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
メチルアルミニウムクロリド、メチルアルミニウムセス
キクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、ジエ
チルアルミニウムヒドリド、ジイソブチルアルミニウム
ヒドリド等が挙げられる。また、上記有機アルカリ金属
化合物と有機アルミニウム化合物とを予め反応させるこ
とで合成される錯体、予め反応させることで合成される
錯体(ア−ト錯体)等も含まれる。
【0025】また触媒成分(E)のアルキルアルカリ金
属および/またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具
体例としては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合
物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネ
シウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウ
ム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種
以上(A)と組み合わせて用いることもできる。
属および/またはアルキルアルカリ土類金属化合物の具
体例としては有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合
物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネ
シウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウ
ム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種
以上(A)と組み合わせて用いることもできる。
【0026】含Li化合物の具体例としてはメチルリチ
ウム、エチルリチウム、n- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、nー ブチルリチウム、secー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、t- ブチルリチウム、
nー ペンチルリチウム、nーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m- トリ
ルリチウム、p- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシリチウ
ム、secー ブトキシリチウム、tー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。また、トリメチルシリル
リチウム、ジエチルメチルシリルリチウム、ジメチルエ
チルシリルリチウム、トリエチルシリルリチウム、トリ
フェニルシリルリチウム等の有機ケイ素リチウム化合物
でも良い。
ウム、エチルリチウム、n- プロピルリチウム、イソプ
ロピルリチウム、nー ブチルリチウム、secー ブチル
リチウム、イソブチルリチウム、t- ブチルリチウム、
nー ペンチルリチウム、nーヘキシルリチウム、フェニ
ルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m- トリ
ルリチウム、p- トリルリチウム、キシリルリチウム、
ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウム、メ
トキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポキシリ
チウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシリチウ
ム、secー ブトキシリチウム、tー ブトキシリチウ
ム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチウ
ム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。また、トリメチルシリル
リチウム、ジエチルメチルシリルリチウム、ジメチルエ
チルシリルリチウム、トリエチルシリルリチウム、トリ
フェニルシリルリチウム等の有機ケイ素リチウム化合物
でも良い。
【0027】含Na化合物の具体例としてはメチルナト
リウム、エチルナトリウム、n- プロピルナトリウム、
イソプロピルナトリウム、nー ブチルナトリウム、se
cーブチルナトリウム、イソブチルナトリウム、t- ブ
チルナトリウム、nー ペンチルナトリウム、nー ヘキシ
ルナトリウム、フェニルナトリウム、シクロペンタジエ
ニルナトリウム、m- トリルナトリウム、p- トリルナ
トリウム、キシリルナトリウム、ナトリウムナフタレン
等が挙げられる。
リウム、エチルナトリウム、n- プロピルナトリウム、
イソプロピルナトリウム、nー ブチルナトリウム、se
cーブチルナトリウム、イソブチルナトリウム、t- ブ
チルナトリウム、nー ペンチルナトリウム、nー ヘキシ
ルナトリウム、フェニルナトリウム、シクロペンタジエ
ニルナトリウム、m- トリルナトリウム、p- トリルナ
トリウム、キシリルナトリウム、ナトリウムナフタレン
等が挙げられる。
【0028】含K化合物の具体例としてはメチルカリウ
ム、エチルカリウム、n- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、nー ブチルカリウム、secー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、t- ブチルカリウム、n
ー ペンチルカリウム、nー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m- トリ
ルカリウム、p- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。
ム、エチルカリウム、n- プロピルカリウム、イソプロ
ピルカリウム、nー ブチルカリウム、secー ブチルカ
リウム、イソブチルカリウム、t- ブチルカリウム、n
ー ペンチルカリウム、nー ヘキシルカリウム、トリフェ
ニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエチ
ルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m- トリ
ルカリウム、p- トリルカリウム、キシリルカリウム、
カリウムナフタレン等が挙げられる。
【0029】含Zn化合物として、ジエチル亜鉛、ビス
(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜鉛
等が挙げられ、さらに含Mg化合物として、ジメチルマ
グネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシウム
ブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチルマ
グネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライ
ド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネ
シウムクロライド、tー ブチルマグネシウムクロライ
ド、tー ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜鉛
等が挙げられ、さらに含Mg化合物として、ジメチルマ
グネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシウム
ブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチルマ
グネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライ
ド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネ
シウムクロライド、tー ブチルマグネシウムクロライ
ド、tー ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
【0030】これらの他にリチウムハイドライド、カリ
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t- ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
【0031】本発明において使用するのに好適な触媒は
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または(A)成
分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成分、
(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成分、
(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)(E)
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。触媒(A)成分
と(B)成分の好ましい触媒組成比は(A):(B)=
1:0.01〜1:10000,触媒(A)成分と
(C)成分の好ましい触媒組成比は(A):(C)=
1:0.01〜1:100,触媒(A)成分と(D)成
分の好ましい触媒組成比は(A):(D)=1:0.0
1〜1:1000,触媒(A)成分と(E)成分の好ま
しい触媒組成比は(A):(E)=1:0.01〜1:
100である。触媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、
アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合
することにより行っても良いし、(A)(B)(C)
(D)(E)それぞれの成分を別々にモノマーが共存す
るリアクター内に打ち込んで、リアクター内において調
製しても良い。触媒調製に好適な溶媒はヘキサン、シク
ロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒
とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系
の溶媒があげられる。またこれらの溶媒は前処理におい
て水分等を除去しておくことが好ましい。触媒組成物の
調製温度としては、−20℃〜150℃が最適である。
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または(A)成
分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成分、
(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成分、
(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)(E)
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。触媒(A)成分
と(B)成分の好ましい触媒組成比は(A):(B)=
1:0.01〜1:10000,触媒(A)成分と
(C)成分の好ましい触媒組成比は(A):(C)=
1:0.01〜1:100,触媒(A)成分と(D)成
分の好ましい触媒組成比は(A):(D)=1:0.0
1〜1:1000,触媒(A)成分と(E)成分の好ま
しい触媒組成比は(A):(E)=1:0.01〜1:
100である。触媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、
アルゴン等の不活性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合
することにより行っても良いし、(A)(B)(C)
(D)(E)それぞれの成分を別々にモノマーが共存す
るリアクター内に打ち込んで、リアクター内において調
製しても良い。触媒調製に好適な溶媒はヘキサン、シク
ロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒
とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系
の溶媒があげられる。またこれらの溶媒は前処理におい
て水分等を除去しておくことが好ましい。触媒組成物の
調製温度としては、−20℃〜150℃が最適である。
【0032】本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バ
ルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが出
来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30℃
〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃である。
また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性ガス
雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行って
も良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及び/
またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下でも
かまわない。さらに、分子量調節のために上記のガスに
加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触媒成
分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような好適
な担体に担持させて用いてもかまわない。また所望なら
ば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。重合に用
いるのに好適な溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエ
ン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒が
あげられる。また、重合に用いるモノマーとしては、エ
チレンとスチレンが最も好適であるが、必要に応じてプ
ロピレン、ブチレン等の他のオレフィン化合物やα−メ
チルスチレン、ジフェニルエチレン等の芳香族ビニル化
合物を共存させることが出来る。本重合における好適な
触媒量は[(生成ポリマー重量)Kg]/[触媒(A)
成分1mol]=50kg/1mol〜1000000
0kg/1mol程度のポリマーを与える量である。本
発明における重合後のポリマーの分離の方法としては、
例えば重合液にアセトンまたは酸もしくはアルカリを混
合したアルコール等の貧溶媒となる極性溶媒を加えて重
合体を沈澱させて回収する方法、反応液を撹拌下、熱湯
中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方法、または直接
反応液を加熱して溶媒を留去する方法等を挙げることが
できる。本発明の重合触媒は第1に触媒の合成が容易で
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
すことである。第2に貯蔵安定性・活性安定性が極めて
優れることである。したがって触媒の活性は数カ月たっ
ても殆ど当初の重合活性を持続する。
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもと、バ
ルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが出
来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30℃
〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃である。
また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性ガス
雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行って
も良い、またエチレン、及び/またはプロピレン及び/
またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下でも
かまわない。さらに、分子量調節のために上記のガスに
加えて、水素を共存させてもかまわない。また、触媒成
分をアルミナ、塩化マグネシウム、シリカのような好適
な担体に担持させて用いてもかまわない。また所望なら
ば、重合に際して溶媒を用いることも出来る。重合に用
いるのに好適な溶媒としては、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒とトルエ
ン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系の溶媒が
あげられる。また、重合に用いるモノマーとしては、エ
チレンとスチレンが最も好適であるが、必要に応じてプ
ロピレン、ブチレン等の他のオレフィン化合物やα−メ
チルスチレン、ジフェニルエチレン等の芳香族ビニル化
合物を共存させることが出来る。本重合における好適な
触媒量は[(生成ポリマー重量)Kg]/[触媒(A)
成分1mol]=50kg/1mol〜1000000
0kg/1mol程度のポリマーを与える量である。本
発明における重合後のポリマーの分離の方法としては、
例えば重合液にアセトンまたは酸もしくはアルカリを混
合したアルコール等の貧溶媒となる極性溶媒を加えて重
合体を沈澱させて回収する方法、反応液を撹拌下、熱湯
中に投入後、溶媒と共に蒸留回収する方法、または直接
反応液を加熱して溶媒を留去する方法等を挙げることが
できる。本発明の重合触媒は第1に触媒の合成が容易で
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
すことである。第2に貯蔵安定性・活性安定性が極めて
優れることである。したがって触媒の活性は数カ月たっ
ても殆ど当初の重合活性を持続する。
【0033】
【実施例】以下実施例により本発明を更に具体的に説明
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 (合成例1) [触媒(A)成分]N−2−ピリジルアミノ、ジメチル
シリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロ
ペンタジエンの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドの合成 1,2,4,5−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエン13.2mmolを200mlのシュレンク管に
入れ窒素置換した。脱水テトラヒドロフラン80mlを
加え、−40℃に冷却した。攪拌しながらn−ブチルリ
チウム13.2mmolをゆっくりと滴下した。溶液白
濁後0℃で2時間攪拌した。ここへジメチルジクロロシ
ラン15mmolを一気に滴下し、一晩攪拌した。反応
後溶媒と過剰のジメチルジクロロシランを減圧下に留去
し、黄色液体を得た。これを減圧蒸留により精製し、次
の反応に用いた。
するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものでは
ない。以下に実施例及び比較例を行なうにあたり、用い
た触媒成分について以下に示す。 (合成例1) [触媒(A)成分]N−2−ピリジルアミノ、ジメチル
シリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロ
ペンタジエンの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドの合成 1,2,4,5−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエン13.2mmolを200mlのシュレンク管に
入れ窒素置換した。脱水テトラヒドロフラン80mlを
加え、−40℃に冷却した。攪拌しながらn−ブチルリ
チウム13.2mmolをゆっくりと滴下した。溶液白
濁後0℃で2時間攪拌した。ここへジメチルジクロロシ
ラン15mmolを一気に滴下し、一晩攪拌した。反応
後溶媒と過剰のジメチルジクロロシランを減圧下に留去
し、黄色液体を得た。これを減圧蒸留により精製し、次
の反応に用いた。
【0034】N−2−ピリジルアミノ、ジメチルシリ
ル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエンの合成 シュレンク管に2−アミノピリジン13mmolをいれ
窒素置換した。脱水THF40mlを加え、攪拌しなが
ら2−アミノピリジンを完全に溶解させた。シュレンク
管を氷浴にいれ−40℃まで冷却し、n−ブチルリチウ
ム13mmolを加え、2時間攪拌した。これに2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライド2.8gを注射器にて滴
下した。2時間氷浴中で攪拌し、その後室温にもどし、
一晩攪拌した。減圧乾固子、脱水トルエンを20ml加
えた。白色沈殿物が生成していたため、これを濾別し液
層を減圧乾固した。黄色油状物1.8gを得た。
ル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエンの合成 シュレンク管に2−アミノピリジン13mmolをいれ
窒素置換した。脱水THF40mlを加え、攪拌しなが
ら2−アミノピリジンを完全に溶解させた。シュレンク
管を氷浴にいれ−40℃まで冷却し、n−ブチルリチウ
ム13mmolを加え、2時間攪拌した。これに2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライド2.8gを注射器にて滴
下した。2時間氷浴中で攪拌し、その後室温にもどし、
一晩攪拌した。減圧乾固子、脱水トルエンを20ml加
えた。白色沈殿物が生成していたため、これを濾別し液
層を減圧乾固した。黄色油状物1.8gを得た。
【0035】[(N−2−ピリジルアミド)ジメチルシ
リル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペ
ンタジエニル]チタニウムジクロリドの合成 Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。
リル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペ
ンタジエニル]チタニウムジクロリドの合成 Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。
【0036】N−2−ピリジルアミノ、ジメチルシリ
ル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエン5.1mmolを脱水トルエン20mlに溶解
し、−40℃に冷却した。n−BuLi10.2mmo
lを加え2時間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に
冷却しトルエン20mlに分散させておいたTi(th
f)3 Cl3 に加えた。15分後AgCl6mmolを
加え、一晩攪拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチ
レン60mlを加えた。不溶分を濾過し、液層を減圧乾
固した。ヘキサン20mlで洗浄し目的物を得た。
ル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエン5.1mmolを脱水トルエン20mlに溶解
し、−40℃に冷却した。n−BuLi10.2mmo
lを加え2時間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に
冷却しトルエン20mlに分散させておいたTi(th
f)3 Cl3 に加えた。15分後AgCl6mmolを
加え、一晩攪拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチ
レン60mlを加えた。不溶分を濾過し、液層を減圧乾
固した。ヘキサン20mlで洗浄し目的物を得た。
【0037】(合成例2) (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
【0038】Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。(収率70%)
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えた,ジムロートを取り付け2
0時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水
ペンタンで2回洗浄した。(収率70%)
【0039】[(N−t−ブチルアミド)ジメチルシリ
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
ル−2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペン
タジエニル]チタニウムジクロリドの合成 (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエン5.
1mmolを脱水トルエン20mlに溶解し、−40℃
に冷却した。n−BuLi10.2mmolを加え2時
間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に冷却しトルエ
ン20mlに分散させておいたTi(thf)3 Cl3
に加えた。15分後AgCl6mmolを加え、一晩攪
拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチレン60ml
を加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘキサン20m
lで洗浄し目的物を得た。
【0040】(実施例1)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAO(メチルアルミノキサン)を
20mmol打ち込み、計量管内のトルエン280ml
でリアクタに移送した。同様にスチレンを920mlサ
ンプリングし脱気操作を行ったあと、740mlをリア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として[(N−2−ピリジルアミド)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシク
ロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μmol
のトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のス
チレン180mlで移送した。リアクタ内をエチレンで
10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止
め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は51g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
61wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAO(メチルアルミノキサン)を
20mmol打ち込み、計量管内のトルエン280ml
でリアクタに移送した。同様にスチレンを920mlサ
ンプリングし脱気操作を行ったあと、740mlをリア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として[(N−2−ピリジルアミド)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシク
ロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μmol
のトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のス
チレン180mlで移送した。リアクタ内をエチレンで
10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給ラインを止
め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が下がるた
め、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を保ちなが
ら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メ
タノール中で処理しポリマーを回収した。ポリマー収量
は51g、NMR測定よりポリマー中のスチレン含量は
61wt%であった。
【0041】(実施例2)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に280mlサンプリングした後、5分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)
成分としてMMAOを20mmol打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン280mlをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを920mlサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分として2,4
ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μ
molのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタ
に移送した。リアクタ内をエチレンで6kg/cm2 に
加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。
重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレ
ンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。
重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリ
マーを回収した。ポリマー収量は46g、NMR測定よ
りポリマー中のスチレン含量は63wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、触媒タンク、リア
クタ内を窒素置換した。トルエンは精製塔を通し、計量
管内に280mlサンプリングした後、5分間減圧下で
脱気した。リアクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)
成分としてMMAOを20mmol打ち込みリアクタに
移送した。、計量管内のトルエン280mlをリアクタ
に移送した。同様にスチレンを920mlサンプリング
し脱気操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リア
クタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分として2,4
ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μ
molのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込みリアクタ
に移送した。リアクタ内をエチレンで6kg/cm2 に
加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。
重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレ
ンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。
重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリ
マーを回収した。ポリマー収量は46g、NMR測定よ
りポリマー中のスチレン含量は63wt%であった。
【0042】(実施例3)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(A)成分として[(N−2−ピリジルアミド)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシク
ロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μmol
のトルエン溶液、(B)成分としてMMAOを20mm
olをあらかじめ混合したものを打ち込み、計量管内の
トルエン280mlでリアクタに移送した。同様にスチ
レンを600mlサンプリングし脱気操作を行ったあ
と、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し
リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は45g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は62wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(A)成分として[(N−2−ピリジルアミド)ジメチ
ルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシク
ロペンタジエニル]チタニウムジクロリド20μmol
のトルエン溶液、(B)成分としてMMAOを20mm
olをあらかじめ混合したものを打ち込み、計量管内の
トルエン280mlでリアクタに移送した。同様にスチ
レンを600mlサンプリングし脱気操作を行ったあ
と、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し
リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は45g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は62wt%であった。
【0043】(実施例4)あらかじめ作成し、1ヶ月間
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例1と同様の方法で行った。ポリマー収量は48g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は62wt%。 (実施例5)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と同
様の方法で行った。ポリマー収量は44g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は61wt%。 (実施例6)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例3と同
様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は63wt%。
保存した(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施
例1と同様の方法で行った。ポリマー収量は48g、N
MR測定よりポリマー中のスチレン含量は62wt%。 (実施例5)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と同
様の方法で行った。ポリマー収量は44g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は61wt%。 (実施例6)あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)(B)成分の混合物を用いた以外は実施例3と同
様の方法で行った。ポリマー収量は45g、NMR測定
よりポリマー中のスチレン含量は63wt%。
【0044】(実施例7)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを10mmol、(D)成分
としてトリメチルアルミニウム10mmol打ち込み、
計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。
同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−ピリジ
ルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテトラメ
チル2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
リド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込
み、計量管内のスチレン180mlで移送した。リアク
タ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン
供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ
圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定
圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー
溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。
ポリマー収量は33g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は53wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを10mmol、(D)成分
としてトリメチルアルミニウム10mmol打ち込み、
計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。
同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を
行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃
に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−ピリジ
ルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテトラメ
チル2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロ
リド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込
み、計量管内のスチレン180mlで移送した。リアク
タ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン
供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ
圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定
圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー
溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。
ポリマー収量は33g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は53wt%であった。
【0045】(実施例8)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを15mmol、(E)成分
としてジブチルマグネシウム5mmol打ち込み、計量
管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様
にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加
熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−ピリジルア
ミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロリド
20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、
計量管内のスチレン180mlで移送した。リアクタ内
をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給
ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が
下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を
保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液
を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリ
マー収量は37g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は50wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(B)成分としてMMAOを15mmol、(E)成分
としてジブチルマグネシウム5mmol打ち込み、計量
管内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様
にスチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行っ
たあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加
熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−ピリジルア
ミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテトラメチル
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロリド
20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、
計量管内のスチレン180mlで移送した。リアクタ内
をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給
ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が
下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を
保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液
を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリ
マー収量は37g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は50wt%であった。
【0046】(実施例9)装置内を窒素置換後、リアク
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(C)成分として(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
90℃に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−
ピリジルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテ
トラメチル2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウム
ジクロリド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに
打ち込み、計量管内のスチレン180mlで移送した。
リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は32g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は61wt%であった。
タ(2Lオートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に600
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に
(C)成分として(C6 F5 )3 B0.2mmol打ち
込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移送
した。同様にスチレンを600mlサンプリングし脱気
操作を行ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを
90℃に加熱し、つぎに(A)成分として[(N−2−
ピリジルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5ーテ
トラメチル2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウム
ジクロリド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに
打ち込み、計量管内のスチレン180mlで移送した。
リアクタ内をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エ
チレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴い
ゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレンを供給
し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。重合後、
ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回
収した。ポリマー収量は32g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は61wt%であった。
【0047】(比較例1)(A)成分として[(N−t
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で
行った。ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は54wt%であった。 (比較例2)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で
行った。ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は54wt%であった。 (比較例2)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0048】(比較例3)(A)成分として[(N−t
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で
行った。ポリマー収量は17g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は14wt%であった。 (比較例4)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で
行った。ポリマー収量は17g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は14wt%であった。 (比較例4)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0049】(比較例5)(A)成分として[(N−t
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で
行った。ポリマー収量は12g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例6)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
−ブチルアミド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テ
トラメチル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウ
ムジクロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で
行った。ポリマー収量は12g、NMR測定よりポリマ
ー中のスチレン含量は21wt%であった。 (比較例6)(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル、2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
【0050】
【発明の効果】本発明の重合触媒は耐熱性が優れ広い温
度領域で重合反応に高活性を示し、貯蔵安定性・活性安
定性が極めて優れることである。したがって触媒の活性
は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
度領域で重合反応に高活性を示し、貯蔵安定性・活性安
定性が極めて優れることである。したがって触媒の活性
は数カ月たっても殆ど当初の重合活性を持続する。
Claims (5)
- 【請求項1】 触媒(A)成分が下記一般式(1)で示
される錯体を含むことを特徴とする重合触媒。 【化1】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) - 【請求項2】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
を含むことを特徴とする重合触媒。 【化2】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 - 【請求項3】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分を含むことを特徴とする重合
触媒。 【化3】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 - 【請求項4】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
および/または(D)成分および/または(E)成分を
含むことを特徴とする重合触媒。 【化4】 ( 式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
エニル基、及び置換シクロペンタジエニル基でMとシク
ロペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1 〜R
4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または
C1〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つ
もしくは3つが結合し環を形成していても良い、また環
には共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
む。Yは炭素又はSi又はGe元素のうちいずれか一
つ。ZとQはN,P,C、Si元素のうちいずれか一つ
でZ−Qはπアリル型と同じような共鳴構造を持ち、η
3 の形で遷移金属元素に対しキレート配位しているもの
とする。R5 、R6 、R7 、R8 、R9 はそれぞれ同じ
でも異なっていても良く、水素またはC1〜C12のア
ルキル基、アルケニル基、アルキレン、アルコキシ基、
アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものとす
る。R7 とR8 、R8 とR9 は互いに結合し環を形成し
ていてもかまわない。また環には共役2重結合を含んだ
芳香族性を有するものも含み、ZとQはヘテロ環の構成
元素の一部をなしていてもかまわない。m、nは0〜3
の整数で、結合しているヘテロ原子の価数または価数−
1または価数−2に相当する数である、ただしm=n=
0は除く。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物 - 【請求項5】 請求項1〜4に記載の重合触媒で重合さ
れる共重合体が98. 6〜53モル%のエチレン及び
1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレンとスチレ
ンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴とする共
重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1476198A JPH11199623A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1476198A JPH11199623A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199623A true JPH11199623A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11870074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1476198A Pending JPH11199623A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11199623A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001096427A1 (en) * | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | α-OLEFIN/AROMATIC VINYL COPOLYMER |
| JP2008535808A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-09-04 | バーゼル・ポリオレフィン・ゲーエムベーハー | モノシクロペンタジエニル錯体 |
| JP2009507954A (ja) * | 2005-09-09 | 2009-02-26 | エスケー エナジー 株式会社 | エチレン単独重合体又はエチレンとα−オレフィンとの共重合体製造用均一触媒系 |
-
1998
- 1998-01-12 JP JP1476198A patent/JPH11199623A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001096427A1 (en) * | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | α-OLEFIN/AROMATIC VINYL COPOLYMER |
| JP2001354724A (ja) * | 2000-06-16 | 2001-12-25 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | α−オレフィン−芳香族ビニル化合物共重合体 |
| US6939929B2 (en) | 2000-06-16 | 2005-09-06 | Idemitsu Kosan Co. Ltd. | Alpha-olefin-aromatic vinyl copolymer |
| JP2008535808A (ja) * | 2005-03-24 | 2008-09-04 | バーゼル・ポリオレフィン・ゲーエムベーハー | モノシクロペンタジエニル錯体 |
| JP2009507954A (ja) * | 2005-09-09 | 2009-02-26 | エスケー エナジー 株式会社 | エチレン単独重合体又はエチレンとα−オレフィンとの共重合体製造用均一触媒系 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4674023B2 (ja) | 遷移金属化合物、α−オレフィン製造用触媒及びα−オレフィンの製造方法 | |
| JP4659322B2 (ja) | 遷移金属化合物、オレフィン重合触媒及びオレフィンの重合方法 | |
| JPH06239915A (ja) | α‐オレフィン重合用触媒成分およびそれを用いたα‐オレフィン重合体の製造法 | |
| CN107592863A (zh) | 具有含有磷环的配体的铬络合物和由其得到的烯烃低聚反应催化剂 | |
| EP1095944B1 (en) | Single-carbon bridged bis cyclopentadienyl compounds and metallocene complexes thereof | |
| JP2012051931A (ja) | フルオロシリコン置換基を少なくとも1個有していてメタロセンの調製で用いるに有用な配位子 | |
| CN112745366B (zh) | 硅基桥联的茂金属化合物及其制备方法、应用 | |
| JP2013209350A (ja) | 金属錯体およびそれを用いたα−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体の製造方法 | |
| JPH11199623A (ja) | 新規重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 | |
| JPH11199621A (ja) | コポリマー重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 | |
| JPH11199619A (ja) | 共重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JP4607289B2 (ja) | インデニル化合物、その配位子前駆物質、配位子前駆物質の製造法およびオレフィンの重合法 | |
| KR20150003145A (ko) | 신규한 리간드 화합물, 이의 제조방법, 전이금속 화합물, 및 이의 제조방법 | |
| JPH11199616A (ja) | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JP2018016582A (ja) | 金属錯体およびその製造方法、当該金属錯体を含むオレフィン重合用触媒成分およびオレフィン重合用触媒、並びに、当該オレフィン重合用触媒を用いたα−オレフィン重合体の製造方法 | |
| JPH11199618A (ja) | 新規重合用触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JP2007063409A (ja) | 環状オレフィン系共重合体の製造方法 | |
| JP2019172983A (ja) | α−オレフィン/(メタ)アクリル酸エステル共重合体の製造方法 | |
| JPH11199615A (ja) | 新規な重合触媒および該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| JPH11199617A (ja) | 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 | |
| KR0151873B1 (ko) | 메탈로센 화합물, 이의 제조방법 및 이를 촉매로 이용한 고분자의 제조방법 | |
| JPH11199624A (ja) | 共重合体の重合触媒及び共重合体の製造方法 | |
| JPH11199622A (ja) | コポリマーの重合触媒及び該触媒を用いたコポリマーの製造方法 | |
| EP2910559B1 (en) | Novel ligand compound and production method for same, and transition metal compound comprising the novel ligand compound and production method for same | |
| JPH11199620A (ja) | 重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20031203 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040217 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040218 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |