JPH11204178A - Anisotropic conductive sheet - Google Patents
Anisotropic conductive sheetInfo
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- JPH11204178A JPH11204178A JP185998A JP185998A JPH11204178A JP H11204178 A JPH11204178 A JP H11204178A JP 185998 A JP185998 A JP 185998A JP 185998 A JP185998 A JP 185998A JP H11204178 A JPH11204178 A JP H11204178A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電気的接続作業において、電極の配置ピッチ
が小さくても、電極に対する位置合わせが容易で、所要
の電気的接続が確実に達成される異方導電性シートの提
供。温度変化による熱履歴などの環境の変化に対しても
良好な電気的接続が安定に維持され、高い接続信頼性が
得られる異方導電性シートの提供。
【解決手段】 それぞれ厚み方向に伸びる多数の貫通孔
が形成された絶縁性シート体と、絶縁性シート体の貫通
孔に、当該貫通孔内に充填された状態で一体的に設けら
れた導電路素子とを具え、絶縁性シート体は、少なくと
も1つの弾性層と、少なくとも1つの剛性層とを有する
積層体よりなる。絶縁性シート体は、2つ以上の剛性層
を有し、当該絶縁性シート体の一面側および他面側の最
外層が剛性層であり、導電路素子は、絶縁性シート体の
少なくとも一面から突出する被押圧部を有することが好
ましい。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive sheet which is easy to align with an electrode and ensures a required electric connection even if an arrangement pitch of the electrodes is small in an electric connection work. . Provided is an anisotropic conductive sheet capable of stably maintaining good electrical connection against environmental changes such as heat history due to temperature change and obtaining high connection reliability. SOLUTION: An insulating sheet body having a large number of through holes extending in the thickness direction, and a conductive path integrally provided in the through hole of the insulating sheet body so as to be filled in the through hole. The device comprises an element and the insulating sheet is a laminate having at least one elastic layer and at least one rigid layer. The insulating sheet body has two or more rigid layers, the outermost layer on one surface side and the other surface side of the insulating sheet body is a rigid layer, and the conductive path element is formed from at least one surface of the insulating sheet body. It is preferable to have a pressed portion that protrudes.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば電子部品な
どの回路素子相互間の電気的接続やプリント基板や半導
体素子の検査装置におけるコネクターとして好ましく用
いられる異方導電性シートに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anisotropic conductive sheet which is preferably used as an electrical connection between circuit elements such as electronic parts and a connector in an inspection apparatus for printed circuit boards and semiconductor elements.
【0002】[0002]
【従来の技術】異方導電性エラストマーシートは、厚み
方向にのみ導電性を示すもの、または厚み方向に加圧さ
れたときに厚み方向にのみ導電性を示す加圧導電性導電
部を有するものであり、ハンダ付けあるいは機械的嵌合
などの手段を用いずにコンパクトな電気的接続を達成す
ることが可能であること、機械的な衝撃やひずみを吸収
してソフトな接続が可能であることなどの特長を有する
ため、このような特長を利用して、例えば電子計算機、
電子式デジタル時計、電子カメラ、コンピューターキー
ボードなどの分野において、例えばプリント回路基板
と、リードレスチップキャリアー、液晶パネルなどとの
相互間の電気的な接続を達成するためのコネクターとし
て広く用いられている。2. Description of the Related Art An anisotropic conductive elastomer sheet has conductivity only in the thickness direction, or has a pressurized conductive portion which has conductivity only in the thickness direction when pressed in the thickness direction. And it is possible to achieve a compact electrical connection without using means such as soldering or mechanical fitting, and it is possible to absorb mechanical shocks and strains and make a soft connection Because of these features, using such features, for example, computers,
In the fields of electronic digital watches, electronic cameras, computer keyboards, etc., they are widely used as connectors for achieving electrical connection between, for example, a printed circuit board and a leadless chip carrier, a liquid crystal panel, and the like. .
【0003】また、プリント基板などの回路基板や、表
面に半球状の電極を有する回路素子、例えばFC(Fl
ip Chip)型、BGA(Ball Glid A
rray)型、CSP(Chip Scale Pac
kage)型などの半導体素子の電気的検査において
は、検査対象である回路基板や回路素子の一面に形成さ
れた被検査電極と、検査用回路基板の表面に形成された
接続用電極との電気的な接続を達成すると共に、被検査
電極の損傷を防止するために、回路基板や回路素子の被
検査電極領域と、検査用回路基板の接続用電極領域との
間に、異方導電性エラストマーシートを介在させること
が行われている。A circuit board such as a printed board or a circuit element having a hemispherical electrode on its surface, for example, FC (Fl
ip Chip) type, BGA (Ball Glid A)
(rray) type, CSP (Chip Scale Pac)
In an electrical inspection of a semiconductor device such as a kage type, an electrical connection between an electrode to be inspected formed on one surface of a circuit board or a circuit element to be inspected and a connection electrode formed on the surface of the inspection circuit substrate. In order to achieve an ideal connection and to prevent damage to the electrode to be inspected, an anisotropic conductive elastomer is placed between the electrode area to be inspected of the circuit board or circuit element and the connection electrode area of the circuit board for inspection. Interposition of a sheet is performed.
【0004】従来、このような異方導電性エラストマー
シートとしては、種々の構造のものが知られており、例
えば特開昭51−93393号公報等には、金属粒子を
エラストマー中に均一に分散して得られる異方導電性エ
ラストマーシート(以下、これを「分散型異方導電性エ
ラストマーシート」という。)が開示され、また、特開
昭53−147772号公報等には、導電性磁性体粒子
をエラストマー中に不均一に分布させることにより、厚
み方向に伸びる多数の導電路形成部と、これらを相互に
絶縁する絶縁部とが形成されてなる異方導電性エラスト
マーシート(以下、これを「偏在型異方導電性エラスト
マーシート」という。)が開示され、更に、特開昭61
−250906号公報等には、導電路形成部の表面と絶
縁部との間に段差が形成された偏在型異方導電性エラス
トマーシートが開示されている。Conventionally, as such an anisotropic conductive elastomer sheet, those having various structures are known. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 51-93393 discloses that metal particles are uniformly dispersed in an elastomer. Anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter referred to as “dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet”) obtained by the method described in JP-A-53-147772 is disclosed. By distributing the particles non-uniformly in the elastomer, an anisotropic conductive elastomer sheet (hereinafter, referred to as an electrically conductive elastomer sheet) in which a number of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. "Eccentrically distributed anisotropic conductive elastomer sheet") is disclosed.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 250906/2005 discloses an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet in which a step is formed between the surface of a conductive path forming portion and an insulating portion.
【0005】一方、最近においては、半導体素子などの
回路素子の高機能化、高容量化に伴って電極数が増加
し、電極の配列ピッチすなわち隣接する電極の中心間距
離が小さくなって高密度化する傾向があり、また、この
ような回路素子を搭載するための回路基板においても同
様である。そして、かかる回路素子や回路基板の電気的
検査を行うためには、偏在型異方導電性エラストマーシ
ートが、回路素子等の電極パターンに対応するパターン
に従って導電路形成部が形成されているため、分散型異
方導電性エラストマーシートに比較して、接続すべき電
極が小さいピッチで配置されている回路素子などに対し
ても電極間の電気的接続を高い信頼性で達成することが
できる点で、有利である。On the other hand, recently, the number of electrodes has increased along with the sophistication and capacity of circuit elements such as semiconductor elements, and the arrangement pitch of electrodes, that is, the center-to-center distance between adjacent electrodes has become smaller, resulting in higher density. The same applies to a circuit board on which such a circuit element is mounted. And, in order to perform an electrical inspection of such a circuit element or a circuit board, since the unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet has a conductive path forming portion formed according to a pattern corresponding to an electrode pattern of the circuit element or the like, Compared to the dispersed anisotropic conductive elastomer sheet, the electrical connection between the electrodes can be achieved with high reliability even for circuit elements in which the electrodes to be connected are arranged at a small pitch. Is advantageous.
【0006】しかしながら、このような偏在型異方導電
性エラストマーシートにおいては、以下のような問題が
あることが判明した。偏在型異方導電性エラストマーシ
ートは、回路素子等との電気的接続作業において、当該
偏在型異方導電性エラストマーシートの導電路形成部
と、これに接続すべき電極との位置合わせを行うことが
必要である。然るに、偏在型異方導電性エラストマーシ
ートは、高い柔軟性を有するため、それ自体に大きな変
形やたわみが生じやすくて取扱いが不便であり、また、
シートの厚み方向のみならず面方向にも伸縮するため、
導電路形成部の各々の位置関係を維持した状態で電気的
作業を行うことができず、従って、高い精度で位置合わ
せを行うことが困難である。However, it has been found that such unevenly distributed anisotropically conductive elastomer sheets have the following problems. The unevenly distributed anisotropically conductive elastomer sheet is to be aligned with a conductive path forming portion of the unevenly distributed anisotropically conductive elastomer sheet and an electrode to be connected thereto in an electrical connection work with a circuit element or the like. is necessary. However, since the unevenly distributed anisotropically conductive elastomer sheet has high flexibility, it is liable to undergo large deformation and bending, and is inconvenient to handle.
Because it expands and contracts not only in the thickness direction of the sheet but also in the plane direction,
Electrical work cannot be performed while maintaining the positional relationship between the conductive path forming portions. Therefore, it is difficult to perform positioning with high accuracy.
【0007】また、一旦は位置合わせが実現された場合
においても、温度変化による熱履歴の影響、すなわち熱
膨張および熱収縮などの影響を受けた場合には、エラス
トマーの本質的な性質である大きな熱膨張係数が災いし
て、温度変化による位置ずれが生じるため、安定な接続
状態が得られない、という問題がある。[0007] Further, even if the alignment is realized once, if the influence of the thermal history due to the temperature change, that is, the influence of the thermal expansion and the thermal contraction, etc., is a large property which is an essential property of the elastomer. There is a problem that a stable connection state cannot be obtained because the thermal expansion coefficient is disturbed and a positional shift due to a temperature change occurs.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
電気的接続作業において、接続すべき電極の配置ピッチ
が小さくても、当該電極に対する位置合わせが容易で、
所要の電気的接続を確実に達成することのできる異方導
電性シートを提供することにある。本発明の他の目的
は、温度変化による熱履歴などの環境の変化に対しても
良好な電気的接続が安定に維持され、高い接続信頼性が
得られる異方導電性シートを提供することにある。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made based on the above circumstances, and its object is to provide:
In the electrical connection work, even if the arrangement pitch of the electrodes to be connected is small, alignment with the electrodes is easy,
An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive sheet capable of reliably achieving required electric connection. Another object of the present invention is to provide an anisotropically conductive sheet in which good electrical connection is stably maintained even with environmental changes such as heat history due to temperature change, and high connection reliability is obtained. is there.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の異方導電性シー
トは、それぞれ厚み方向に伸びる多数の貫通孔が形成さ
れた絶縁性シート体と、この絶縁性シート体の貫通孔
に、当該貫通孔内に充填された状態で一体的に設けられ
た導電路素子とを具えてなり、前記絶縁性シート体は、
少なくとも1つの弾性層と、少なくとも1つの剛性層と
を有する積層体により構成されていることを特徴とす
る。According to the present invention, there is provided an anisotropic conductive sheet comprising: an insulating sheet having a plurality of through-holes extending in a thickness direction; a through-hole formed in the insulating sheet; And a conductive path element integrally provided in a state of being filled in the hole, wherein the insulating sheet body comprises:
It is characterized by being constituted by a laminate having at least one elastic layer and at least one rigid layer.
【0010】本発明の異方導電性シートにおいては、前
記絶縁性シート体は、2つ以上の剛性層を有し、当該絶
縁性シート体の少なくとも一面側、好ましくは一面側お
よび他面側の最外層が剛性層であり、前記導電路素子
は、前記絶縁性シート体の少なくとも一面、好ましくは
一面および他面から突出する突出部を有することが好ま
しい。また、上記導電路素子は、弾性高分子物質中に導
電性粒子が含有されてなるものであることが好ましい。[0010] In the anisotropic conductive sheet of the present invention, the insulating sheet has at least two rigid layers, and at least one surface of the insulating sheet, preferably one surface and the other surface. It is preferable that the outermost layer is a rigid layer, and the conductive path element has a projecting portion projecting from at least one surface, preferably one surface and the other surface of the insulating sheet body. Further, it is preferable that the conductive path element is one in which conductive particles are contained in an elastic polymer material.
【0011】[0011]
【作用】上記の構成によれば、その骨格を構成する絶縁
性シート体が剛性層を有することにより、変形やたわみ
が極めて小さくて取扱いが良好となる。従って、電気的
接続作業において、接続すべき電極と導電路素子との位
置合わせを高い精度で容易に行うことができ、その結
果、所要の電気的接続を確実に達成することができる。
しかも、絶縁性シート体が弾性層を有することにより、
導電路素子が押圧されたときには、当該導電路素子にか
かる力が弾性層によって緩和されるので、高い耐久性が
得られる。According to the above construction, since the insulating sheet body constituting the skeleton has the rigid layer, deformation and bending are extremely small and handling is excellent. Therefore, in the electrical connection operation, the electrode to be connected and the conductive path element can be easily aligned with high accuracy, and as a result, the required electrical connection can be reliably achieved.
Moreover, since the insulating sheet body has an elastic layer,
When the conductive path element is pressed, the force applied to the conductive path element is reduced by the elastic layer, so that high durability can be obtained.
【0012】また、絶縁性シート体の一面側および他面
側の最外層を剛性層により構成することにより、当該剛
性層によって被押圧部を有する導電路素子の位置が規制
される。従って、剛性層を構成する材料として、熱膨張
係数の小さいものを用いることにより、当該異方導電性
シート全体の温度変化に対する熱変形が小さいものとな
り、これにより、導電路素子の各々の位置関係が常に一
定の状態に維持されるので、温度変化による熱履歴など
の環境の変化に対しても良好な電気的接続状態を安定に
維持することができ、その結果、高い接続信頼性が得ら
れる。Further, since the outermost layers on one surface side and the other surface side of the insulating sheet body are formed of a rigid layer, the position of the conductive path element having the pressed portion is regulated by the rigid layer. Therefore, by using a material having a small coefficient of thermal expansion as a material constituting the rigid layer, thermal deformation of the entire anisotropic conductive sheet with respect to a temperature change becomes small, and thereby, a positional relationship between the conductive path elements is reduced. Is always maintained in a constant state, so that a good electrical connection state can be stably maintained even with environmental changes such as heat history due to temperature changes, and as a result, high connection reliability is obtained. .
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の異方導電性シート
について詳細に説明する。図1は、本発明の異方導電性
シートの一例における要部の構成を示す説明用断面図で
ある。この異方導電性シートにおいては、特定のパター
ンに従って厚み方向に貫通して伸びる多数の貫通孔11
が形成された絶縁性シート体10が設けられている。こ
の絶縁性シート体10の貫通孔11における特定のパタ
ーンは、接続すべき電極のパターンに対応するパターン
である。この絶縁性シート体10の貫通孔11の各々に
は、導電路素子20が、当該貫通孔11内に充填された
状態で当該絶縁性シート体10と一体的に設けられてお
り、導電路素子20の各々は互いに実質的に独立した状
態とされている。また、この導電路素子20には、絶縁
性シート体10の一面および他面の各々から突出する被
押圧部21,22が形成されている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the anisotropic conductive sheet of the present invention will be described in detail. FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of a main part in an example of the anisotropic conductive sheet of the present invention. In this anisotropic conductive sheet, a large number of through holes 11 extending through in the thickness direction according to a specific pattern.
The insulating sheet body 10 on which is formed is provided. The specific pattern in the through hole 11 of the insulating sheet body 10 is a pattern corresponding to the pattern of the electrode to be connected. In each of the through holes 11 of the insulating sheet body 10, a conductive path element 20 is provided integrally with the insulating sheet body 10 in a state where the conductive path element 20 is filled in the through hole 11. Each of the 20 is substantially independent of each other. Further, in the conductive path element 20, pressed portions 21 and 22 protruding from one surface and the other surface of the insulating sheet body 10 are formed.
【0014】絶縁性シート体10は、剛性を有する絶縁
性材料よりなる2つの剛性層12,13と、これらの剛
性層12,13の間に設けられた、絶縁性の弾性高分子
物質よりなる弾性層14との積層体により構成されてい
る。The insulating sheet body 10 is composed of two rigid layers 12 and 13 made of a rigid insulating material, and an insulating elastic polymer material provided between the rigid layers 12 and 13. It is composed of a laminate with the elastic layer 14.
【0015】剛性層12,13を構成する絶縁性材料と
しては、ポリイミド、ポリエステル、ポリアミド等の機
械的強度の高い樹脂材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹
脂、ガラス繊維補強型ポリエステル樹脂、ガラス繊維補
強型ポリイミド樹脂等の複合樹脂材料、エポキシ樹脂等
にシリカ、アルミナ、ボロンナイトライド等の無機材料
をフィラーとして混入した複合樹脂材料などを用いるこ
とができるが、熱膨張係数が小さい点で、ガラス繊維補
強型エポキシ樹脂等の複合樹脂材料、ボロンナイトライ
ドをフィラーとして混入したエポキシ樹脂等の複合樹脂
材料が好ましい。Examples of the insulating material constituting the rigid layers 12 and 13 include resin materials having high mechanical strength such as polyimide, polyester and polyamide, glass fiber reinforced epoxy resin, glass fiber reinforced polyester resin, and glass fiber reinforced type. A composite resin material such as a polyimide resin or a composite resin material in which an inorganic material such as silica, alumina or boron nitride is mixed as a filler in an epoxy resin or the like can be used. A composite resin material such as a type epoxy resin or an epoxy resin mixed with boron nitride as a filler is preferable.
【0016】弾性層14を構成する弾性高分子物質とし
ては、架橋構造を有する高分子物質が好ましい。かかる
架橋高分子物質を得るために用いることのできる硬化性
の高分子物質形成材料としては、シリコーンゴム、ポリ
ブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチ
レン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブ
タジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこ
れらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロ
ック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重
合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添
加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴ
ム、エピクロルヒドリンゴム、エチレン−プロピレン共
重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴ
ム、軟質液状エポキシゴムなどが挙げられる。As the elastic high molecular substance constituting the elastic layer 14, a high molecular substance having a crosslinked structure is preferable. Examples of the curable polymer material forming material that can be used to obtain such a crosslinked polymer material include silicone rubber, polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer. Conjugated diene rubbers such as united rubber and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, block copolymer rubbers such as styrene-isoprene block copolymer and hydrogenated products thereof, chloroprene, urethane Examples include rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and soft liquid epoxy rubber.
【0017】図2に拡大して示すように、導電路素子2
0は、弾性高分子物質E中に導電性粒子Rが含有されて
構成され、好ましくは弾性高分子物質E中に導電性粒子
Rが厚み方向に並んだ状態に配向されており、この導電
性粒子Rにより、当該導電路素子20の厚み方向に導電
路が形成される。この導電路素子20は、厚み方向に加
圧されて圧縮されたときに抵抗値が減少して導電路が形
成される、加圧導電路素子とすることもできる。また、
導電路素子20の導電路は、導電路素子20の厚み方向
と垂直な断面において、その全領域にわたって形成され
てもよく、その一部の領域例えば中央領域のみに形成さ
れてもよい。As shown in an enlarged manner in FIG.
Reference numeral 0 denotes a structure in which the conductive particles R are contained in the elastic polymer material E. Preferably, the conductive particles R are oriented in the elastic polymer material E in a state of being arranged in the thickness direction. The particles R form a conductive path in the thickness direction of the conductive path element 20. The conductive path element 20 may be a pressurized conductive path element in which a resistance value is reduced when pressed and compressed in the thickness direction to form a conductive path. Also,
In the cross section perpendicular to the thickness direction of the conductive path element 20, the conductive path of the conductive path element 20 may be formed over the entire area, or may be formed only in a part of the area, for example, only the central area.
【0018】導電路素子20における被押圧部21,2
2の突出高さh1,h2は、それぞれ当該異方導電性シ
ートの全厚Tの25%以下、特に5〜15%であること
が好ましい。また、異方導電性シートの全厚Tは、隣接
する導電路素子20の中心間距離である配置ピッチpの
250%以下、好ましくは150〜100%であること
が好ましい。このような条件が充足されることにより、
接続すべき電極と導電路素子20との電気的接続が確実
に達成されると共に、当該導電路素子20に作用される
加圧力が変化した場合にも、それによる導電路素子20
の導電性の変化が十分に小さく抑制される。Pressed portions 21 and 2 in conductive path element 20
2 are preferably 25% or less, particularly 5 to 15%, of the total thickness T of the anisotropic conductive sheet. Further, the total thickness T of the anisotropic conductive sheet is preferably 250% or less, and more preferably 150 to 100%, of the arrangement pitch p which is the distance between the centers of the adjacent conductive path elements 20. By satisfying these conditions,
The electrical connection between the electrode to be connected and the conductive path element 20 is reliably achieved, and when the pressure applied to the conductive path element 20 changes, the conductive path element 20
Is sufficiently suppressed to be small.
【0019】導電路素子20は、硬化されて弾性高分子
物質となる高分子物質形成材料中に導電性粒子が分散さ
れてなる流動性の導電路素子用材料が硬化処理されるこ
とにより形成される。導電路素子用材料に用いられる高
分子物質形成材料としては、種々のものを用いることが
でき、その具体例としては、シリコーンゴム、ポリブタ
ジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン
−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジ
エン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれら
の水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック
共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体
などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加
物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴ
ム、エピクロルヒドリンゴム、エチレン−プロピレン共
重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴ
ム、軟質液状エポキシゴムなどが挙げられる。これらの
中では、シリコーンゴムが、成形加工性および電気特性
の点で好ましい。The conductive path element 20 is formed by hardening a fluid conductive path element material in which conductive particles are dispersed in a polymer material forming material which is cured to become an elastic polymer substance. You. Various materials can be used as the polymer material forming material used for the conductive path element material, and specific examples thereof include silicone rubber, polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, and styrene-butadiene copolymer. Rubber, conjugated diene rubbers such as acrylonitrile-butadiene copolymer rubber and hydrogenated products thereof, styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, block copolymer rubber such as styrene-isoprene block copolymer and the like Examples include hydrogenated products, chloroprene, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and soft liquid epoxy rubber. Among them, silicone rubber is preferred in terms of moldability and electrical properties.
【0020】シリコーンゴムとしては、液状シリコーン
ゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコ
ーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105 ポ
アズ以下のものが好ましく、縮合型のもの、付加型のも
の、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのい
ずれであってもよい。具体的には、ジメチルシリコーン
生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニ
ルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。The silicone rubber is preferably one obtained by crosslinking or condensing a liquid silicone rubber. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and may be any of condensation type, addition type, and those containing a vinyl group or a hydroxyl group. Good. Specifically, dimethylsilicone raw rubber, methylvinylsilicone raw rubber, methylphenylvinylsilicone raw rubber and the like can be mentioned.
【0021】これらの中で、ビニル基を含有する液状シ
リコーンゴム(ビニル基含有ポリジメチルシロキサン)
は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチルジア
ルコキシシランを、ジメチルビニルクロロシランまたは
ジメチルビニルアルコキシシランの存在下において、加
水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−沈殿の
繰り返しによる分別を行うことにより得られる。また、
ビニル基を両末端に含有する液状シリコーンゴムは、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンのような環状シロキ
サンを触媒の存在下においてアニオン重合し、重合停止
剤として例えばジメチルジビニルシロキサンを用い、そ
の他の反応条件(例えば、環状シロキサンの量および重
合停止剤の量)を適宜選択することにより得られる。こ
こで、アニオン重合の触媒としては、水酸化テトラメチ
ルアンモニウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムな
どのアルカリまたはこれらのシラノレート溶液などを用
いることができ、反応温度は、例えば80〜130℃で
ある。このようなビニル基含有ポリジメチルシロキサン
は、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分
子量をいう。以下同じ。)が10000〜40000の
ものであることが好ましい。また、得られる導電路素子
20の耐熱性の観点から、分子量分布指数(標準ポリス
チレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算
数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。以下同
じ。)が2.0以下のものが好ましい。Among them, liquid group-containing silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane)
Is usually obtained by subjecting dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane to hydrolysis and condensation reaction in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane, for example, followed by fractionation by repeated dissolution-precipitation. Also,
The liquid silicone rubber containing vinyl groups at both ends is anionically polymerized with a cyclic siloxane such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst, and uses, for example, dimethyldivinylsiloxane as a polymerization terminator and other reaction conditions (for example, , The amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator). Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C. Such a vinyl group-containing polydimethylsiloxane preferably has a molecular weight Mw (weight average molecular weight in terms of standard polystyrene; the same applies hereinafter) of 10,000 to 40,000. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element 20, the molecular weight distribution index (refers to the value of the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn; the same applies hereinafter). Those having 2.0 or less are preferable.
【0022】一方、ヒドロキシル基を含有する液状シリ
コーンゴム(ヒドロキシル基含有ポリジメチルシロキサ
ン)は、通常、ジメチルジクロロシランまたはジメチル
ジアルコキシシランを、ジメチルヒドロクロロシランま
たはジメチルヒドロアルコキシシランの存在下におい
て、加水分解および縮合反応させ、例えば引続き溶解−
沈殿の繰り返しによる分別を行うことにより得られる。
また、環状シロキサンを触媒の存在下においてアニオン
重合し、重合停止剤として、例えばジメチルヒドロクロ
ロシラン、メチルジヒドロクロロシランまたはジメチル
ヒドロアルコキシシランなどを用い、その他の反応条件
(例えば、環状シロキサンの量および重合停止剤の量)
を適宜選択することによっても得られる。ここで、アニ
オン重合の触媒としては、水酸化テトラメチルアンモニ
ウムおよび水酸化n−ブチルホスホニウムなどのアルカ
リまたはこれらのシラノレート溶液などを用いることが
でき、反応温度は、例えば80〜130℃である。On the other hand, a liquid silicone rubber containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane) is usually prepared by hydrolyzing dimethyldichlorosilane or dimethyldialkoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane. And condensation reaction, for example,
It is obtained by performing fractionation by repeating precipitation.
Further, cyclic siloxane is anionically polymerized in the presence of a catalyst, and dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane is used as a polymerization terminator, and other reaction conditions (for example, the amount of the cyclic siloxane and the polymerization termination) are used. Amount of agent)
Can also be obtained by appropriately selecting Here, as a catalyst for anionic polymerization, alkali such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide or a silanolate solution thereof can be used. The reaction temperature is, for example, 80 to 130 ° C.
【0023】このようなヒドロキシル基含有ポリジメチ
ルシロキサンは、その分子量Mwが10000〜400
00のものであることが好ましい。また、得られる導電
路素子20の耐熱性の観点から、分子量分布指数が2.
0以下のものが好ましい。本発明においては、上記のビ
ニル基含有ポリジメチルシロキサンおよびヒドロキシル
基含有ポリジメチルシロキサンのいずれか一方を用いる
こともでき、両者を併用することもできる。Such a hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane has a molecular weight Mw of 10,000 to 400.
00 is preferred. Further, from the viewpoint of heat resistance of the obtained conductive path element 20, the molecular weight distribution index is 2.
Those having 0 or less are preferable. In the present invention, either one of the above-mentioned vinyl group-containing polydimethylsiloxane and hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane can be used, or both can be used in combination.
【0024】導電路素子用材料中には、上記のような高
分子物質形成材料を硬化させるための硬化触媒を含有さ
せることができる。このような硬化触媒としては、有機
過酸化物、脂肪酸アゾ化合物、ヒドロシリル化触媒など
を用いることができる。 硬化触媒として用いられる有
機過酸化物の具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸
化ビスジシクロベンゾイル、過酸化ジクミル、過酸化ジ
ターシャリーブチルなどが挙げられる。硬化触媒として
用いられる脂肪酸アゾ化合物の具体例としては、アゾビ
スイソブチロニトリルなどが挙げられる。ヒドロシリル
化反応の触媒として使用し得るものの具体例としては、
塩化白金酸およびその塩、白金−不飽和基含有シロキサ
ンコンプレックス、ビニルシロキサンと白金とのコンプ
レックス、白金と1,3−ジビニルテトラメチルジシロ
キサンとのコンプレックス、トリオルガノホスフィンあ
るいはホスファイトと白金とのコンプレックス、アセチ
ルアセテート白金キレート、環状ジエンと白金とのコン
プレックスなどの公知のものが挙げられる。硬化触媒の
使用量は、高分子物質形成材料の種類、硬化触媒の種
類、その他の硬化処理条件を考慮して適宜選択される
が、通常、高分子物質形成材料100重量部に対して3
〜15重量部である。The material for the conductive path element may contain a curing catalyst for curing the above-mentioned polymer-forming material. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, or the like can be used. Specific examples of the organic peroxide used as the curing catalyst include benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, and ditertiary butyl peroxide. Specific examples of the fatty acid azo compound used as a curing catalyst include azobisisobutyronitrile. Specific examples of those that can be used as a catalyst for the hydrosilylation reaction include:
Chloroplatinic acid and its salts, platinum-unsaturated group-containing siloxane complex, complex of vinylsiloxane and platinum, complex of platinum and 1,3-divinyltetramethyldisiloxane, complex of triorganophosphine or phosphite and platinum And acetylacetate platinum chelate, and a complex of a cyclic diene and platinum. The amount of the curing catalyst to be used is appropriately selected in consideration of the type of the polymer substance forming material, the type of the curing catalyst, and other curing treatment conditions.
1515 parts by weight.
【0025】導電路素子用材料に用いられる導電性粒子
Rとしては、後述する方法により当該粒子を容易に配向
させることができる観点から、導電性磁性体粒子を用い
ることが好ましい。この導電性磁性体粒子の具体例とし
ては、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性を示す金属の
粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を
含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、当該
芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導
電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁
性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子ま
たはポリマー粒子を芯粒子とし、当該芯粒子の表面に、
ニッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッキを施し
たもの、あるいは芯粒子に、導電性磁性体および導電性
の良好な金属の両方を被覆したものなどが挙げられる。
これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面
に金や銀などの導電性の良好な金属のメッキを施したも
のを用いることが好ましい。芯粒子の表面に導電性金属
を被覆する手段としては、特に限定されるものではない
が、例えば化学メッキまたは無電解メッキにより行うこ
とができる。As the conductive particles R used in the material for the conductive path element, it is preferable to use conductive magnetic particles from the viewpoint that the particles can be easily oriented by a method described later. Specific examples of the conductive magnetic particles include iron, nickel, particles of a metal exhibiting magnetism such as cobalt, particles of an alloy thereof, or particles containing these metals, or these particles as core particles. The core particles are obtained by plating the surface of a core particle with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, and rhodium, or inorganic particles or polymer particles such as nonmagnetic metal particles or glass beads as core particles. On the surface of the particles,
Examples thereof include those plated with a conductive magnetic material such as nickel and cobalt, and those obtained by coating core particles with both a conductive magnetic material and a metal having good conductivity.
Among them, it is preferable to use nickel particles as core particles, the surfaces of which are plated with a metal having good conductivity such as gold or silver. Means for coating the surface of the core particles with a conductive metal is not particularly limited, but may be, for example, chemical plating or electroless plating.
【0026】導電性粒子Rとして、芯粒子の表面に導電
性金属が被覆されてなるものを用いる場合には、良好な
導電性が得られる観点から、粒子表面における導電性金
属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆
面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さら
に好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%
である。また、導電性金属の被覆量は、芯粒子の2.5
〜50重量%であることが好ましく、より好ましくは3
〜30重量%、さらに好ましくは3.5〜25重量%、
特に好ましくは4〜20重量%である。被覆される導電
性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の3
〜30重量%であることが好ましく、より好ましくは
3.5〜15重量%、さらに好ましくは4〜20重量
%、特に好ましくは4.5〜10重量%である。また、
被覆される導電性金属が銀である場合には、その被覆量
は、芯粒子の3〜30重量%であることが好ましく、よ
り好ましくは4〜25重量%、さらに好ましくは5〜2
3重量%、特に好ましくは6〜20重量%である。When the conductive particles R are formed by coating the surface of a core particle with a conductive metal, from the viewpoint of obtaining good conductivity, the coverage of the conductive metal on the particle surface (core The ratio of the conductive metal coating area to the particle surface area) is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.
It is. The amount of the conductive metal coating is 2.5% of the core particles.
To 50% by weight, more preferably 3% by weight.
To 30% by weight, more preferably 3.5 to 25% by weight,
Particularly preferably, it is 4 to 20% by weight. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is 3% of the core particle.
It is preferably from 30 to 30% by weight, more preferably from 3.5 to 15% by weight, further preferably from 4 to 20% by weight, particularly preferably from 4.5 to 10% by weight. Also,
When the conductive metal to be coated is silver, the coating amount is preferably 3 to 30% by weight of the core particles, more preferably 4 to 25% by weight, and still more preferably 5 to 2% by weight.
It is 3% by weight, particularly preferably 6 to 20% by weight.
【0027】また、導電性粒子Rの粒子径は、1〜10
00μmであることが好ましく、より好ましくは2〜5
00μm、さらに好ましくは5〜300μm、特に好ま
しくは10〜200μmである。また、導電性粒子Rの
粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好
ましく、より好ましくは1〜7、さらに好ましくは1〜
5、特に好ましくは1〜4である。このような条件を満
足する導電性粒子Rを用いることにより、得られる導電
路素子20は、加圧変形が容易なものとなり、また、当
該導電路素子20において導電性粒子R間に十分な電気
的接触が得られる。また、導電性粒子Rの形状は、特に
限定されるものではないが、高分子物質用材料中に容易
に分散させることができる点で、球状のもの、星形状の
ものあるいはこれらが凝集した2次粒子による塊状のも
のであることが好ましい。The particle diameter of the conductive particles R is 1 to 10
00 μm, more preferably 2 to 5 μm.
The thickness is 00 μm, more preferably 5 to 300 μm, and particularly preferably 10 to 200 μm. The particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles R is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 7, and still more preferably 1 to 7.
5, particularly preferably 1 to 4. By using the conductive particles R satisfying such conditions, the obtained conductive path element 20 can be easily deformed under pressure. Contact is obtained. The shape of the conductive particles R is not particularly limited. However, since the conductive particles R can be easily dispersed in the polymer material, they may be spherical, star-shaped or aggregated. It is preferably a lump formed by the secondary particles.
【0028】また、導電性粒子Rの含水率は、5%以下
であることが好ましく、より好ましくは3%以下、さら
に好ましくは2%以下、とくに好ましくは1%以下であ
る。このような条件を満足する導電性粒子Rを用いるこ
とにより、後述する製造方法において、導電路素子用材
料層を硬化処理する際に、当該導電路素子用材料層内に
気泡が生ずることが防止または抑制される。The water content of the conductive particles R is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. By using the conductive particles R satisfying such conditions, it is possible to prevent bubbles from being generated in the conductive path element material layer when the conductive path element material layer is cured in the manufacturing method described below. Or be suppressed.
【0029】また、導電性粒子Rの表面がシランカップ
リング剤などのカップリング剤で処理されたものを適宜
用いることができる。導電性粒子の表面がカップリング
剤で処理されることにより、当該導電性粒子Rと弾性高
分子物質Eとの接着性が高くなり、その結果、得られる
導電路素子20は、繰り返しの使用における耐久性が高
いものとなる。カップリング剤の使用量は、導電性粒子
Rの導電性に影響を与えない範囲で適宜選択されるが、
導電性粒子Rの表面におけるカップリング剤の被覆率
(導電性芯粒子の表面積に対するカップリング剤の被覆
面積の割合)が5%以上となる量であることが好まし
く、より好ましくは上記被覆率が7〜100%、さらに
好ましくは10〜100%、特に好ましくは20〜10
0%となる量である。The conductive particles R whose surfaces have been treated with a coupling agent such as a silane coupling agent can be used as appropriate. By treating the surface of the conductive particles with the coupling agent, the adhesiveness between the conductive particles R and the elastic polymer substance E is increased, and as a result, the obtained conductive path element 20 can be used repeatedly. The durability is high. The amount of the coupling agent used is appropriately selected within a range that does not affect the conductivity of the conductive particles R,
It is preferable that the coating rate of the coupling agent on the surface of the conductive particles R (the ratio of the coating area of the coupling agent to the surface area of the conductive core particles) is 5% or more, and more preferably, the coating rate is more than 5%. 7 to 100%, more preferably 10 to 100%, particularly preferably 20 to 10
The amount is 0%.
【0030】このような導電性粒子Rは、高分子物質用
材料に対して体積分率で30〜60%、好ましくは35
〜50%となる割合で用いられることが好ましい。この
割合が30%未満の場合には、十分に電気抵抗値の小さ
い導電路素子20が得られないことがある。一方、この
割合が60%を超える場合には、得られる導電路素子2
0は脆弱なものとなりやすく、導電路素子20として必
要な弾性が得られないことがある。Such conductive particles R are 30 to 60% by volume, preferably 35% by volume, based on the polymer material.
Preferably, it is used at a ratio of up to 50%. If this ratio is less than 30%, the conductive path element 20 having a sufficiently small electric resistance may not be obtained. On the other hand, when this ratio exceeds 60%, the obtained conductive path element 2
0 tends to be brittle, and the elasticity required for the conductive path element 20 may not be obtained.
【0031】導電路素子用材料中には、必要に応じて、
通常のシリカ粉、コロイダルシリカ、エアロゲルシリ
カ、アルミナなどの無機充填材を含有させることができ
る。このような無機充填材を含有させることにより、当
該導電路素子用材料のチクソトロピー性が確保され、そ
の粘度が高くなり、しかも、導電性粒子の分散安定性が
向上すると共に、硬化処理されて得られる導電路素子2
0の強度が高くなる。このような無機充填材の使用量
は、特に限定されるものではないが、あまり多量に使用
すると、後述する製造方法において、磁場による導電性
粒子の配向を十分に達成することができなくなるため、
好ましくない。また、導電路素子用材料の粘度は、温度
25℃において10000〜1000000cpの範囲
内であることが好ましい。そして、以上のような導電路
素子用材料が硬化処理されることにより、導電路素子2
0が形成される。In the material for the conductive path element, if necessary,
An inorganic filler such as ordinary silica powder, colloidal silica, airgel silica, and alumina can be contained. By including such an inorganic filler, the thixotropic property of the conductive path element material is secured, the viscosity is increased, and the dispersion stability of the conductive particles is improved, and the conductive particles are cured. Conductive path element 2
0 has a higher intensity. The use amount of such an inorganic filler is not particularly limited, but when used in an excessively large amount, in the production method described later, it becomes impossible to sufficiently achieve the orientation of the conductive particles by a magnetic field,
Not preferred. The viscosity of the conductive path element material is preferably in the range of 10,000 to 1,000,000 cp at a temperature of 25 ° C. Then, the above-described material for the conductive path element is cured to form the conductive path element 2.
0 is formed.
【0032】上記の異方導電性シートは、例えば以下の
ような第1工程〜第4工程を経由して製造することがで
きる。 〔第1工程〕この第1工程は、最終的には図4に示すよ
うに、絶縁性の弾性高分子物質よりなる弾性層14の上
面に、絶縁性材料よりなる剛性層12および金属薄層1
6がこの順で積層され、更に、当該弾性層14の下面に
絶縁性材料よりなる剛性層13および金属薄層17がこ
の順で積層されてなる中間積層体を作製する工程であ
る。具体的には、図3に示すように、弾性層用シート1
4Aの上面に、剛性層形成用シート12Aが重ねられ、
更に、この剛性層形成用シート12Aの上面に金属箔1
6Aが重ねられる。一方、弾性層用シート14Aの下面
に、剛性層形成用シート13Aが重ねられ、更に、この
剛性層形成用シート13Aの下面に金属箔17Aが重ね
られる。ここで、剛性層形成用シート12A,13Aと
しては、ガラス繊維補強型エポキシプリプレグ樹脂シー
ト、ポリイミドプリプレグ樹脂シート、エポキシプリプ
レグ樹脂シートなどを用いることができる。The above-described anisotropic conductive sheet can be manufactured, for example, through the following first to fourth steps. [First Step] In the first step, finally, as shown in FIG. 4, a rigid layer 12 made of an insulating material and a thin metal layer are formed on the upper surface of an elastic layer 14 made of an insulating elastic polymer material. 1
6 is a step of fabricating an intermediate laminated body in which a rigid layer 13 made of an insulating material and a thin metal layer 17 are laminated in this order on the lower surface of the elastic layer 14. Specifically, as shown in FIG.
A sheet 12A for forming a rigid layer is superimposed on the upper surface of 4A,
Further, a metal foil 1 is formed on the upper surface of the rigid layer forming sheet 12A.
6A are superimposed. On the other hand, a rigid layer forming sheet 13A is superposed on the lower surface of the elastic layer sheet 14A, and a metal foil 17A is further superimposed on the lower surface of the rigid layer forming sheet 13A. Here, as the rigid layer forming sheets 12A and 13A, a glass fiber reinforced epoxy prepreg resin sheet, a polyimide prepreg resin sheet, an epoxy prepreg resin sheet, or the like can be used.
【0033】そして、この状態で、例えば真空プレス法
によって熱圧着処理することにより、剛性層形成用シー
ト12A,13Aが弾性層用シート14Aの上面および
下面を被着面として一体的に被着され、更に、当該剛性
層形成用シート12Aの上面および剛性層形成用シート
13Aに金属箔16A,17Aが一体的に被着されると
共に、剛性層形成用シート12A,13Aが硬化し、こ
れにより、図4に示すように、金属薄層16、剛性層1
2、弾性層14、剛性層13および金属薄層17が上か
らこの順で積層された中間積層体10Aが形成される。Then, in this state, the sheets 12A and 13A for forming the rigid layer are integrally attached with the upper and lower surfaces of the sheet 14A for the elastic layer being applied by thermocompression treatment, for example, by a vacuum press method. Further, the metal foils 16A and 17A are integrally attached to the upper surface of the rigid layer forming sheet 12A and the rigid layer forming sheet 13A, and the rigid layer forming sheets 12A and 13A are cured, whereby As shown in FIG. 4, the thin metal layer 16 and the rigid layer 1
2. An intermediate laminate 10A in which the elastic layer 14, the rigid layer 13, and the thin metal layer 17 are laminated in this order from above is formed.
【0034】以上において、熱圧着処理における加熱温
度は、剛性層形成用シート12A,13Aの材質にもよ
るが、当該剛性層形成用シート12A,13Aが軟化し
て接着性を帯びる温度以上であることが必要であり、通
常、80〜250℃、好ましくは140〜200℃程度
である。また、熱圧着処理におけるプレス圧力は、例え
ば最高5〜50kg/cm2 程度であり、好ましくは2
0〜40kg/cm2 程度である。この熱圧着処理は、
常圧雰囲気下で行うことも可能であるが、実際上、例え
ば5〜100Pa、好ましくは10〜50Pa程度の減
圧雰囲気下によるいわゆる真空プレス法によることが好
ましく、この場合には、剛性層形成用シート12A,1
3Aと被着面との間に気泡が閉じ込められることが有効
に防止される。In the above description, the heating temperature in the thermocompression bonding treatment depends on the material of the rigid layer forming sheets 12A and 13A, but is higher than the temperature at which the rigid layer forming sheets 12A and 13A are softened and have adhesiveness. It is usually 80 to 250 ° C, preferably about 140 to 200 ° C. The pressing pressure in the thermocompression bonding is, for example, about 5 to 50 kg / cm 2 at the maximum, and preferably 2 to 50 kg / cm 2.
It is about 0 to 40 kg / cm 2 . This thermocompression bonding process
Although it is possible to carry out the reaction under a normal pressure atmosphere, in practice, it is preferable to use a so-called vacuum press method under a reduced pressure atmosphere of, for example, about 5 to 100 Pa, preferably about 10 to 50 Pa. Sheet 12A, 1
Entrapment of air bubbles between 3A and the adherend surface is effectively prevented.
【0035】〔第2工程〕この第1工程は、図5および
図6に示すように、中間積層体10Aに、それぞれ厚み
方向に伸びる多数の貫通孔11を形成すると共に、この
中間積層体10Aの貫通孔11内に充填された状態の導
電路素子用材料層20Aを形成する工程である。具体的
には、図5に示すように、中間積層体10Aに対して穴
加工を施すことにより、当該中間積層体10Aに、それ
ぞれ厚み方向に貫通する多数の貫通孔11を形成する。
ここで、中間積層体40Aの穴加工を行うための手段と
しては、例えば数値制御型ドリリング装置等によるドリ
ル加工による手段、レーザー加工による手段などを利用
することができる。[Second Step] In the first step, as shown in FIGS. 5 and 6, a large number of through holes 11 extending in the thickness direction are formed in the intermediate laminated body 10A, and the intermediate laminated body 10A is formed. This is a step of forming the conductive path element material layer 20A filled in the through holes 11 of FIG. Specifically, as shown in FIG. 5, by drilling holes in the intermediate laminate 10A, a large number of through holes 11 penetrating in the thickness direction are formed in the intermediate laminate 10A.
Here, as means for drilling holes in the intermediate laminate 40A, for example, means by drilling with a numerically controlled drilling device or the like, means by laser processing, or the like can be used.
【0036】次いで、中間積層体10Aの表面に、前述
の導電路素子用材料を塗布することにより、中間積層体
10Aの貫通孔11の各々の内部に導電路素子用材料を
充填し、これにより、図6に示すように、貫通孔11の
各々に導電路素子用材料層20Aを形成する。その後、
必要に応じて、中間積層体10Aの表面に付着した不要
な導電路素子用材料をスキージなどにより除去する。以
上において、導電路素子用材料を塗布する手段として
は、スクリーン印刷などの印刷による手段を用いること
ができる。Next, the above-described material for the conductive path element is applied to the surface of the intermediate laminate 10A, thereby filling the inside of each through hole 11 of the intermediate laminate 10A with the material for the conductive path element. As shown in FIG. 6, a conductive path element material layer 20A is formed in each of the through holes 11. afterwards,
If necessary, unnecessary conductive path element material adhering to the surface of the intermediate laminate 10A is removed with a squeegee or the like. In the above description, as a means for applying the conductive path element material, a means by printing such as screen printing can be used.
【0037】〔第3工程〕この第3工程は、図7および
図8に示すように、中間積層体10Aの貫通孔11内に
充填された状態の導電路素子用材料層20Aを硬化処理
することにより、中間積層体10Aの貫通孔11内に充
填された状態で一体的に設けられた導電路素子20を形
成すると共に、当該中間積層体10Aの金属薄層16,
17を除去し、以て図1に示す構成の異方導電性シート
が製造される工程である。具体的には、図7に示すよう
に、貫通孔11内に導電路素子用材料層20Aが形成さ
れた中間積層体10Aを、一対の電磁石25,26の間
に配置し、この電磁石25,26を作動させることによ
り、導電路素子用材料層20Aの厚み方向に平行磁場が
作用し、その結果、導電路素子用材料層20A中に分散
されていた導電性粒子が当該導電路素子用材料層20A
の厚み方向に配向する。そして、この状態において、導
電路素子用材料層20Aを硬化処理することにより、図
8に示すように、中間積層体10Aの貫通孔11内に導
電路素子20が形成される。[Third Step] In this third step, as shown in FIGS. 7 and 8, the conductive path element material layer 20A filled in the through holes 11 of the intermediate laminate 10A is cured. Thereby, the conductive path element 20 integrally provided in a state of being filled in the through hole 11 of the intermediate laminate 10A is formed, and the thin metal layer 16 of the intermediate laminate 10A is formed.
17 is a step of manufacturing an anisotropic conductive sheet having the configuration shown in FIG. Specifically, as shown in FIG. 7, an intermediate laminate 10A in which a conductive path element material layer 20A is formed in the through-hole 11 is disposed between a pair of electromagnets 25 and 26. 26, a parallel magnetic field acts in the thickness direction of the conductive path element material layer 20A, and as a result, the conductive particles dispersed in the conductive path element material layer 20A are removed from the conductive path element material layer 20A. Layer 20A
Oriented in the thickness direction. Then, in this state, by curing the conductive layer element material layer 20A, the conductive path element 20 is formed in the through hole 11 of the intermediate laminate 10A as shown in FIG.
【0038】以上において、導電路素子用材料層20A
の硬化処理は、平行磁場を作用させたままの状態で行う
こともできるが、平行磁場の作用を停止させた後に行う
こともできる。導電路素子用材料層20Aに作用される
平行磁場の強度は、平均で200〜10000ガウスと
なる大きさが好ましい。In the above, the conductive layer element material layer 20A
Can be performed with the parallel magnetic field applied, but can also be performed after the parallel magnetic field is stopped. The strength of the parallel magnetic field applied to the conductive path element material layer 20A is preferably 200 to 10000 gauss on average.
【0039】導電路素子用材料層20Aの硬化処理は、
使用される材料によって適宜選定されるが、通常、加熱
処理によって行われる。加熱により導電路素子用材料層
20Aの硬化処理を行う場合には、電磁石25,26に
ヒーターを設ければよい。具体的な加熱温度および加熱
時間は、導電路素子用材料層20Aを構成する高分子物
質形成材料などの種類、導電性粒子の移動に要する時間
などを考慮して適宜選定される。The curing treatment of the conductive path element material layer 20A is as follows.
Although it is appropriately selected depending on the material used, it is usually performed by a heat treatment. When the conductive path element material layer 20A is cured by heating, the electromagnets 25 and 26 may be provided with heaters. The specific heating temperature and heating time are appropriately selected in consideration of the type of the polymer material forming material constituting the conductive path element material layer 20A, the time required for the movement of the conductive particles, and the like.
【0040】そして、中間積層体10Aの金属薄層1
6,17を、例えばエッチングにより除去することによ
り、図1に示すように、複数の貫通孔11を有する絶縁
性シート体10と、この絶縁性シート体10の貫通孔1
1内に充填された、絶縁性シート体10の上面および下
面の各々から突出する被押圧部21,22を有する導電
路素子20とよりなる異方導電性シートが得られる。Then, the thin metal layer 1 of the intermediate laminate 10A
As shown in FIG. 1, the insulating sheet body 10 having a plurality of through holes 11 and the through holes 1 of the insulating sheet body 10
An anisotropic conductive sheet filled with the conductive path element 20 and having the pressed portions 21 and 22 protruding from the upper surface and the lower surface of the insulating sheet body 10 is obtained.
【0041】このような異方導電性シートは、例えば次
のようにして半導体素子などの回路素子の検査に使用さ
れる。回路素子の検査においては、図9に示すように、
検査対象である回路素子2の突起状の被検査電極3と対
掌なバターンに従って配置された接続用電極5が表面に
形成された検査用回路基板4が用いられる。そして、こ
の検査用回路基板4の表面上に、異方導電性シート1
を、その他面側における導電路素子20の被押圧部22
が接続用電極5上に位置するよう配置し、この異方導電
性シート1の一面上に、回路素子2を、その被検査電極
3が導電路素子20の被押圧部21上に位置するよう配
置する。Such an anisotropic conductive sheet is used for inspection of a circuit element such as a semiconductor element as follows, for example. In the inspection of circuit elements, as shown in FIG.
An inspection circuit board 4 having a connection electrode 5 disposed on the surface thereof in accordance with a pattern opposite to a protruding electrode 3 to be inspected of a circuit element 2 to be inspected is used. The anisotropic conductive sheet 1 is placed on the surface of the inspection circuit board 4.
To the pressed portion 22 of the conductive path element 20 on the other surface side.
Are arranged so as to be located on the connection electrode 5, and the circuit element 2 is placed on one surface of the anisotropic conductive sheet 1 such that the electrode 3 to be inspected is located on the pressed portion 21 of the conductive path element 20. Deploy.
【0042】そして、例えば回路素子2を検査用回路基
板4に接近する方向に移動させることにより、異方導電
性シート1における導電路素子20の被押圧部21,2
2の各々が、回路素子2および検査用回路基板4に押圧
された状態となり、この押圧力によって、異方導電性シ
ート1の導電路素子20にその厚み方向に伸びる導電路
が形成され、その結果、回路素子2の被検査電極3と検
査用回路基板4の接続用電極との間の電気的接続が達成
され、この状態で回路素子2の所要の電気的検査が行わ
れる。Then, for example, by moving the circuit element 2 in a direction approaching the inspection circuit board 4, the pressed parts 21 and 22 of the conductive path element 20 in the anisotropic conductive sheet 1 are moved.
2 is pressed against the circuit element 2 and the inspection circuit board 4, and the pressing force forms a conductive path extending in the thickness direction in the conductive path element 20 of the anisotropic conductive sheet 1. As a result, the electrical connection between the electrode 3 to be inspected of the circuit element 2 and the connection electrode of the inspection circuit board 4 is achieved, and the required electrical inspection of the circuit element 2 is performed in this state.
【0043】上記の異方導電性シートによれば、その骨
格を構成する絶縁性シート体10が剛性層12,13を
有することにより、変形やたわみが極めて小さくて取扱
いが良好であるため、電気的接続作業において、接続す
べき電極と導電路素子20との位置合わせを高い精度で
容易に行うことができ、その結果、所要の電気的接続を
確実に達成することができる。しかも、絶縁性シート体
10が弾性層14を有することにより、導電路素子20
が押圧されたときには、当該導電路素子20にかかる力
が弾性層14によって緩和されるので、高い耐久性が得
られる。According to the above-described anisotropic conductive sheet, since the insulating sheet body 10 constituting the skeleton thereof has the rigid layers 12 and 13, the deformation and deflection are extremely small and the handling is good. In the electrical connection operation, the electrode to be connected and the conductive path element 20 can be easily aligned with high accuracy, and as a result, required electrical connection can be reliably achieved. In addition, since the insulating sheet body 10 has the elastic layer 14, the conductive path element 20
Is pressed, the force applied to the conductive path element 20 is reduced by the elastic layer 14, so that high durability is obtained.
【0044】また、絶縁性シート体10の一面側および
他面側の最外層が剛性層12,13により構成されてい
るため、当該剛性層12,13によって被押圧部21,
22を有する導電路素子20の位置が規制されるので、
剛性層12,13を構成する材料として、熱膨張係数の
小さいものを用いることにより、当該異方導電性シート
全体の温度変化に対する熱変形が小さいものとなり、こ
れにより、導電路素子20の各々の位置関係が常に一定
の状態に維持されるので、温度変化による熱履歴などの
環境の変化に対しても良好な電気的接続状態を安定に維
持することができ、その結果、高い接続信頼性が得られ
る。Further, since the outermost layers on one side and the other side of the insulating sheet body 10 are constituted by the rigid layers 12, 13, the pressed parts 21,
Since the position of the conductive path element 20 having the position 22 is regulated,
By using a material having a small coefficient of thermal expansion as a material for forming the rigid layers 12 and 13, thermal deformation of the entire anisotropic conductive sheet with respect to a temperature change becomes small. Since the positional relationship is always maintained in a constant state, it is possible to stably maintain a good electrical connection state against environmental changes such as heat history due to temperature changes, and as a result, high connection reliability is achieved. can get.
【0045】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明は図1に示す異方導電性シートに限定され
ず、種々の変更を加えることができる。例えば、絶縁性
シート体10は、少なくとも1つの弾性層と、少なくと
も1つの剛性層とを有する積層体であれば、種々の構成
のものを用いることができる。具体的には、図10に示
すように、絶縁性シート体10は、剛性層12の上面お
よび下面の各々に弾性層14,15が積層された積層体
により構成されていてもよい。また、絶縁性シート体1
0は、3層構成の積層体に限られず、2層構成または4
層以上の構成の積層体であってもよい。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the anisotropic conductive sheet shown in FIG. 1, and various modifications can be made. For example, the insulating sheet body 10 may have various configurations as long as it is a laminate having at least one elastic layer and at least one rigid layer. Specifically, as shown in FIG. 10, the insulating sheet body 10 may be configured by a laminate in which elastic layers 14 and 15 are laminated on the upper surface and the lower surface of the rigid layer 12, respectively. Also, the insulating sheet 1
0 is not limited to a laminate having a three-layer structure,
It may be a laminate having more than two layers.
【0046】[0046]
【発明の効果】請求項1に記載の異方導電性シートによ
れば、その骨格を構成する絶縁性シート体が剛性層を有
することにより、変形やたわみが極めて小さくて取扱い
が良好であるため、電気的接続作業において、接続すべ
き電極と導電路素子との位置合わせを高い精度で容易に
行うことができ、その結果、所要の電気的接続を確実に
達成することができる。しかも、絶縁性シート体が弾性
層を有することにより、導電路素子が押圧されたときに
は、当該導電路素子にかかる力が弾性層によって緩和さ
れるので、高い耐久性が得られる。According to the anisotropic conductive sheet of the first aspect, since the insulating sheet constituting the skeleton has a rigid layer, deformation and deflection are extremely small and handling is good. In the electrical connection operation, the electrode to be connected and the conductive path element can be easily aligned with high accuracy, and as a result, required electrical connection can be reliably achieved. Moreover, since the insulating sheet body has the elastic layer, when the conductive path element is pressed, the force applied to the conductive path element is reduced by the elastic layer, so that high durability can be obtained.
【0047】請求項2に記載の異方導電性シートによれ
ば、絶縁性シート体の一面側および他面側の最外層が剛
性層により構成されているため、当該剛性層によって被
押圧部を有する導電路素子の位置が規制されるので、剛
性層を構成する材料として、熱膨張係数の小さいものを
用いることにより、当該異方導電性シート全体の温度変
化に対する熱変形が小さいものとなり、これにより、導
電路素子の各々の位置関係が常に一定の状態に維持され
るので、温度変化による熱履歴などの環境の変化に対し
ても良好な電気的接続状態を安定に維持することがで
き、その結果、高い接続信頼性が得られる。According to the anisotropic conductive sheet of the second aspect, since the outermost layers on one side and the other side of the insulating sheet body are formed of the rigid layer, the pressed portion is formed by the rigid layer. Since the position of the conductive path element is restricted, by using a material having a small coefficient of thermal expansion as a material forming the rigid layer, thermal deformation with respect to a temperature change of the entire anisotropic conductive sheet becomes small, and Thereby, since the positional relationship of each of the conductive path elements is always maintained in a constant state, it is possible to stably maintain a good electrical connection state with respect to environmental changes such as heat history due to temperature changes. As a result, high connection reliability is obtained.
【図1】本発明の異方導電性シートの一例における構成
を示す説明用断面図である。FIG. 1 is an explanatory sectional view showing a configuration of an example of an anisotropic conductive sheet of the present invention.
【図2】図1の異方導電性シートの一部を拡大して示す
説明用断面図である。FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a part of the anisotropic conductive sheet of FIG. 1 in an enlarged manner.
【図3】中間積層体を得るための部材の配置状態を示す
説明用断面図である。FIG. 3 is an explanatory sectional view showing an arrangement state of members for obtaining an intermediate laminate.
【図4】中間積層体の構成を示す説明用断面図である。FIG. 4 is an explanatory cross-sectional view illustrating a configuration of an intermediate laminate.
【図5】中間積層体に貫通孔が形成された状態を示す説
明用断面図である。FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a through hole is formed in the intermediate laminate.
【図6】中間積層体の貫通孔内に導電路素子用材料が形
成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive path element material is formed in a through hole of an intermediate laminate.
【図7】中間積層体の貫通孔内に形成された導電路素子
用材料に平行磁場を作用させた状態を示す説明用断面図
である。FIG. 7 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a parallel magnetic field is applied to a conductive path element material formed in a through hole of an intermediate laminate.
【図8】中間積層体の貫通孔内に導電路素子が一体的に
形成された状態を示す説明用断面図である。FIG. 8 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which a conductive path element is integrally formed in a through hole of the intermediate laminate.
【図9】図1に示す異方導電性シートが、検査対象であ
る回路素子と検査用回路基板との間に介在された状態を
示す説明用断面図である。9 is an explanatory cross-sectional view showing a state in which the anisotropic conductive sheet shown in FIG. 1 is interposed between a circuit element to be inspected and a circuit board for inspection.
【図10】本発明の異方導電性シートの他の例における
構成を示す説明用断面図である。FIG. 10 is an explanatory cross-sectional view showing a configuration of another example of the anisotropic conductive sheet of the present invention.
1 異方導電性シート 2 回路素子 3 被検査電極 4 検査用回路
基板 5 接続用電極 10 絶縁性シー
ト体 10A 中間積層体 11 貫通孔 12,13 剛性層 12A,13A
剛性層形成用シート 14,15 弾性層 14A 弾性層
用シート 16,17 金属薄層 16A,17A
金属箔 20 導電路素子 20A 導電路
素子用材料層 21,22 被押圧部 25,26 電
磁石 E 弾性高分子物質 R 導電性粒子DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Anisotropic conductive sheet 2 Circuit element 3 Electrode to be inspected 4 Inspection circuit board 5 Connection electrode 10 Insulating sheet body 10A Intermediate laminated body 11 Through hole 12, 13 Rigid layer 12A, 13A
Sheet for forming rigid layer 14, 15 Elastic layer 14A Sheet for elastic layer 16, 17 Thin metal layer 16A, 17A
Metal foil 20 Conductive path element 20A Material layer for conductive path element 21, 22 Pressed portion 25, 26 Electromagnet E Elastic polymer substance R Conductive particle
Claims (2)
が形成された絶縁性シート体と、 この絶縁性シート体の貫通孔に、当該貫通孔内に充填さ
れた状態で一体的に設けられた導電路素子とを具えてな
り、 前記絶縁性シート体は、少なくとも1つの弾性層と、少
なくとも1つの剛性層とを有する積層体により構成され
ていることを特徴とする異方導電性シート。An insulating sheet having a plurality of through-holes extending in a thickness direction thereof, and a plurality of through-holes formed in the insulating sheet and integrally provided in the through-holes. An anisotropic conductive sheet comprising: a conductive path element; wherein the insulating sheet body is constituted by a laminate having at least one elastic layer and at least one rigid layer.
有し、当該絶縁性シート体の一面側および他面側の最外
層が剛性層であり、 導電路素子は、前記絶縁性シート体の少なくとも一面か
ら突出する被押圧部を有することを特徴とする請求項1
に記載の異方導電性シート。2. The insulating sheet body has two or more rigid layers, and outermost layers on one surface side and the other surface side of the insulating sheet body are rigid layers. 2. A pressing part protruding from at least one surface of the sheet member.
The anisotropic conductive sheet according to 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP185998A JPH11204178A (en) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | Anisotropic conductive sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP185998A JPH11204178A (en) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | Anisotropic conductive sheet |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11204178A true JPH11204178A (en) | 1999-07-30 |
Family
ID=11513282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP185998A Pending JPH11204178A (en) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | Anisotropic conductive sheet |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11204178A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002025351A (en) * | 2000-07-10 | 2002-01-25 | Jsr Corp | Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit device |
| JP2011018654A (en) * | 2000-08-24 | 2011-01-27 | High Connection Density Inc | Carrier for land grid array connector |
| JP2016213186A (en) * | 2015-05-07 | 2016-12-15 | 信越ポリマー株式会社 | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof |
| CN109997248A (en) * | 2016-11-25 | 2019-07-09 | 罗伯特·博世有限公司 | For making the attachment device of electric Storage Unit electrical connection |
| KR20220127584A (en) * | 2021-03-11 | 2022-09-20 | (주)위드멤스 | Contactor array and manufacturing method thereof |
| KR20220135082A (en) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | (주)위드멤스 | Contactor assembly and method for manufacturing the same |
-
1998
- 1998-01-07 JP JP185998A patent/JPH11204178A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002025351A (en) * | 2000-07-10 | 2002-01-25 | Jsr Corp | Anisotropic conductive sheet, method for manufacturing the same, and electrical inspection device for circuit device |
| JP2011018654A (en) * | 2000-08-24 | 2011-01-27 | High Connection Density Inc | Carrier for land grid array connector |
| JP2016213186A (en) * | 2015-05-07 | 2016-12-15 | 信越ポリマー株式会社 | Anisotropic conductive sheet and manufacturing method thereof |
| CN109997248A (en) * | 2016-11-25 | 2019-07-09 | 罗伯特·博世有限公司 | For making the attachment device of electric Storage Unit electrical connection |
| CN109997248B (en) * | 2016-11-25 | 2022-03-18 | 罗伯特·博世有限公司 | Connecting device for electrically connecting an electrical energy storage unit |
| KR20220127584A (en) * | 2021-03-11 | 2022-09-20 | (주)위드멤스 | Contactor array and manufacturing method thereof |
| KR20220135082A (en) * | 2021-03-29 | 2022-10-06 | (주)위드멤스 | Contactor assembly and method for manufacturing the same |
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