JPH11207366A - 塩素処理方法及び塩素処理装置 - Google Patents
塩素処理方法及び塩素処理装置Info
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- JPH11207366A JPH11207366A JP932198A JP932198A JPH11207366A JP H11207366 A JPH11207366 A JP H11207366A JP 932198 A JP932198 A JP 932198A JP 932198 A JP932198 A JP 932198A JP H11207366 A JPH11207366 A JP H11207366A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理水の残留塩素濃度を適切なものに維持す
る。 【解決手段】 塩素混合反応槽１８において、過剰の塩
素を一次塩素注入ポンプ２２により供給し、ここでアン
モニア性窒素を分解除去する。急速攪拌槽２４に活性炭
スラリーを供給し、塩素混合反応槽１８からの処理水と
活性炭を接触させ、残留塩素を除去する。そして、一旦
残留塩素が除去された処理水に二次塩素注入ポンプ４０
により塩素を注入し、所定の残留塩素濃度の処理水を得
る。
る。 【解決手段】 塩素混合反応槽１８において、過剰の塩
素を一次塩素注入ポンプ２２により供給し、ここでアン
モニア性窒素を分解除去する。急速攪拌槽２４に活性炭
スラリーを供給し、塩素混合反応槽１８からの処理水と
活性炭を接触させ、残留塩素を除去する。そして、一旦
残留塩素が除去された処理水に二次塩素注入ポンプ４０
により塩素を注入し、所定の残留塩素濃度の処理水を得
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アンモニア性窒素
を溶存する水についての塩素処理方法及び塩素処理装
置、特にアンモニア性窒素濃度の変動が激しい場合にも
処理水の残留塩素濃度を適正なものに保持することがで
きるものに関する。
を溶存する水についての塩素処理方法及び塩素処理装
置、特にアンモニア性窒素濃度の変動が激しい場合にも
処理水の残留塩素濃度を適正なものに保持することがで
きるものに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、上水道、プール用水などにお
いては、塩素剤を注入する消毒処理（塩素処理）が行わ
れている。この塩素処理において、原水中にアンモニア
性窒素が存在すると、アンモニア性窒素と塩素が反応す
る。通常の場合、塩素を添加していくと、まずクロラミ
ンが生じ、残留塩素が増加していく。塩素の添加量がさ
らに増加していくと、クロラミンと塩素の反応によって
窒素の除去反応が起こり、残留塩素が減少していく。そ
して、窒素の除去が終了した後に添加された塩素は、遊
離残留塩素として水中に溶解される。
いては、塩素剤を注入する消毒処理（塩素処理）が行わ
れている。この塩素処理において、原水中にアンモニア
性窒素が存在すると、アンモニア性窒素と塩素が反応す
る。通常の場合、塩素を添加していくと、まずクロラミ
ンが生じ、残留塩素が増加していく。塩素の添加量がさ
らに増加していくと、クロラミンと塩素の反応によって
窒素の除去反応が起こり、残留塩素が減少していく。そ
して、窒素の除去が終了した後に添加された塩素は、遊
離残留塩素として水中に溶解される。
【０００３】そこで、塩素の注入量が不足すると、クロ
ラミンが生じ、においが発生する。また、塩素の注入量
によっては、残留塩素がほぼ０になってしまう。さら
に、塩素の注入量があまり多いと必要以上の残留塩素が
水中に残存することになる。
ラミンが生じ、においが発生する。また、塩素の注入量
によっては、残留塩素がほぼ０になってしまう。さら
に、塩素の注入量があまり多いと必要以上の残留塩素が
水中に残存することになる。
【０００４】上水道やプールなどにおいては、残留塩素
の最低濃度が法定されており、残留塩素濃度を管理しな
ければならない。従って、通常の場合、アンモニア性窒
素の濃度に比べ相当多い量の塩素を注入し、処理水中の
残留塩素が不足することを防止している。
の最低濃度が法定されており、残留塩素濃度を管理しな
ければならない。従って、通常の場合、アンモニア性窒
素の濃度に比べ相当多い量の塩素を注入し、処理水中の
残留塩素が不足することを防止している。
【０００５】しかし、アンモニア性窒素濃度は、刻々変
化することが多く、この場合には塩素の注入量を適切な
ものに制御することが困難である。そこで、アンモニア
性窒素濃度を測定し、測定されたアンモニア性窒素濃度
に見合った塩素量の注入が行われるように塩素注入量を
制御することも行われている。
化することが多く、この場合には塩素の注入量を適切な
ものに制御することが困難である。そこで、アンモニア
性窒素濃度を測定し、測定されたアンモニア性窒素濃度
に見合った塩素量の注入が行われるように塩素注入量を
制御することも行われている。
【０００６】しかし、塩素は強い酸化剤であり、原水中
に含有される有機物など他の物質とも反応する。このた
め、アンモニア性窒素の濃度を測定するだけでは、塩素
注入量を適切なものに維持できない場合も多い。そこ
で、原水をサンプリングし、これに対し、塩素注入の予
備試験を行い、塩素注入量を決定することも行われてい
る。この手法によれば、適切な塩素注入量を決定できる
が、時間的な遅れが大きくなり、原水の変化に追従でき
ないという問題が生じる。
に含有される有機物など他の物質とも反応する。このた
め、アンモニア性窒素の濃度を測定するだけでは、塩素
注入量を適切なものに維持できない場合も多い。そこ
で、原水をサンプリングし、これに対し、塩素注入の予
備試験を行い、塩素注入量を決定することも行われてい
る。この手法によれば、適切な塩素注入量を決定できる
が、時間的な遅れが大きくなり、原水の変化に追従でき
ないという問題が生じる。
【０００７】従って、従来は、塩素注入量を比較的多め
に設定し、塩素の注入量に不足を生じないようにしてい
た。
に設定し、塩素の注入量に不足を生じないようにしてい
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のような
従来の方法では、通常時における残留塩素濃度がかなり
高くなってしまい、これを所定の濃度に制御することが
難しいという問題点がある。残留塩素濃度はある程度高
くても問題とならない場合が多いが、適切な濃度にコン
トロールしたいという要望もある。
従来の方法では、通常時における残留塩素濃度がかなり
高くなってしまい、これを所定の濃度に制御することが
難しいという問題点がある。残留塩素濃度はある程度高
くても問題とならない場合が多いが、適切な濃度にコン
トロールしたいという要望もある。
【０００９】本発明は、上記課題に鑑みなされたもので
あり、アンモニア性窒素を溶存している水について処理
水の残留塩素濃度を適切なものにコントロールすること
ができる塩素処理装置及び塩素処理方法を提供すること
を目的とする。
あり、アンモニア性窒素を溶存している水について処理
水の残留塩素濃度を適切なものにコントロールすること
ができる塩素処理装置及び塩素処理方法を提供すること
を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る塩素処理方
法は、アンモニア性窒素を溶存している水に対し、アン
モニア性窒素の分解反応に必要な量以上の過剰な塩素剤
を注入し、その後この過剰な塩素剤が注入されアンモニ
ア性窒素が除去された水と活性炭との接触により残存す
る塩素を除去し、その後、さらに必要量の塩素剤を注入
することを特徴とする。
法は、アンモニア性窒素を溶存している水に対し、アン
モニア性窒素の分解反応に必要な量以上の過剰な塩素剤
を注入し、その後この過剰な塩素剤が注入されアンモニ
ア性窒素が除去された水と活性炭との接触により残存す
る塩素を除去し、その後、さらに必要量の塩素剤を注入
することを特徴とする。
【００１１】また、本発明に係る塩素処理装置は、アン
モニア性窒素を溶存している水に対し、アンモニア性窒
素の分解反応に必要な量以上の過剰な塩素剤を注入する
第１塩素注入部と、得られた過剰な塩素剤が注入されア
ンモニア性窒素が除去された水と活性炭との接触により
残存する塩素を除去する活性炭処理部と、活性炭により
処理された水に必要量の塩素剤を注入する第２塩素注入
部と、を有することを特徴とする。
モニア性窒素を溶存している水に対し、アンモニア性窒
素の分解反応に必要な量以上の過剰な塩素剤を注入する
第１塩素注入部と、得られた過剰な塩素剤が注入されア
ンモニア性窒素が除去された水と活性炭との接触により
残存する塩素を除去する活性炭処理部と、活性炭により
処理された水に必要量の塩素剤を注入する第２塩素注入
部と、を有することを特徴とする。
【００１２】このように、本発明によれば、１回目の塩
素注入において、必要量以上の塩素を注入する。これに
よって、水中のアンモニア性窒素が分解除去されるが、
その処理水中の残留塩素量は大きく変動する。しかし、
この処理水については、活性炭が接触され、活性炭の触
媒作用によって分解され、一旦残留塩素が全て除去され
る。そして、その後に、２回目の塩素注入として、必要
用の塩素を注入する。この場合、水中のアンモニア性窒
素が除去されているため、残留塩素量を適切なものに制
御することができる。さらに、活性炭により、塩素と反
応する有機物などを除去することができるため、塩素の
残留持続時間が長くなり、必要とされる塩素濃度を長時
間に渡って確実に維持することができる。
素注入において、必要量以上の塩素を注入する。これに
よって、水中のアンモニア性窒素が分解除去されるが、
その処理水中の残留塩素量は大きく変動する。しかし、
この処理水については、活性炭が接触され、活性炭の触
媒作用によって分解され、一旦残留塩素が全て除去され
る。そして、その後に、２回目の塩素注入として、必要
用の塩素を注入する。この場合、水中のアンモニア性窒
素が除去されているため、残留塩素量を適切なものに制
御することができる。さらに、活性炭により、塩素と反
応する有機物などを除去することができるため、塩素の
残留持続時間が長くなり、必要とされる塩素濃度を長時
間に渡って確実に維持することができる。
【００１３】なお、２回目の塩素注入後の処理水の残留
塩素濃度を計測し、この計測結果に従って２回目の塩素
注入量を制御することによって、処理水中の残留塩素濃
度を所定の値に制御することも好適である。
塩素濃度を計測し、この計測結果に従って２回目の塩素
注入量を制御することによって、処理水中の残留塩素濃
度を所定の値に制御することも好適である。
【００１４】さらに、塩素処理によるアンモニア分解の
前処理として、ゼオライトを利用したアンモニア性窒素
の吸着、除去を行ってもよい。このようなゼオライトに
よる吸着処理を行うことによって、多量のアンモニア性
窒素を含有する水に対しても注入する塩素量を減少して
効果的な処理を行うことができる。
前処理として、ゼオライトを利用したアンモニア性窒素
の吸着、除去を行ってもよい。このようなゼオライトに
よる吸着処理を行うことによって、多量のアンモニア性
窒素を含有する水に対しても注入する塩素量を減少して
効果的な処理を行うことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態（以下
実施形態という）について、図面に基づいて説明する。
実施形態という）について、図面に基づいて説明する。
【００１６】「第１実施形態」図１に、第１実施形態に
係る塩素処理装置を含む水処理システムの全体構成を示
す。原水は、ゼオライト混合槽１０に導入される。この
ゼオライト混合槽１０には、ゼオライトスラリー槽１２
からのゼオライトの粉体を水中に浮遊させたゼオライト
スラリーがゼオライト注入ポンプ１４により供給されて
いる。従って、ゼオライト混合槽１０において、原水と
ゼオライトスラリーが混合される。ゼオライトは、アン
モニア性窒素を選択的に吸着（選択的イオン交換）する
ため、原水中に含まれているアンモニア性窒素の多く
が、このゼオライト混合槽１０内で除去される。なお、
このゼオライトによるアンモニア性窒素除去は、必須な
ものではなく、省略してもかまわない。特に、アンモニ
ア性窒素濃度が低い場合には、これを省略することが好
適である。本実施形態では、バイパス管１６を設け、ゼ
オライト混合槽１０をバイパスして原水を次工程に供給
できるようになっている。特に、アンモニア性窒素が多
量に含まれる時期が限定されているような場合、その時
期のみにゼオライトによる処理を行うとよい。
係る塩素処理装置を含む水処理システムの全体構成を示
す。原水は、ゼオライト混合槽１０に導入される。この
ゼオライト混合槽１０には、ゼオライトスラリー槽１２
からのゼオライトの粉体を水中に浮遊させたゼオライト
スラリーがゼオライト注入ポンプ１４により供給されて
いる。従って、ゼオライト混合槽１０において、原水と
ゼオライトスラリーが混合される。ゼオライトは、アン
モニア性窒素を選択的に吸着（選択的イオン交換）する
ため、原水中に含まれているアンモニア性窒素の多く
が、このゼオライト混合槽１０内で除去される。なお、
このゼオライトによるアンモニア性窒素除去は、必須な
ものではなく、省略してもかまわない。特に、アンモニ
ア性窒素濃度が低い場合には、これを省略することが好
適である。本実施形態では、バイパス管１６を設け、ゼ
オライト混合槽１０をバイパスして原水を次工程に供給
できるようになっている。特に、アンモニア性窒素が多
量に含まれる時期が限定されているような場合、その時
期のみにゼオライトによる処理を行うとよい。
【００１７】ゼオライト混合槽１０からの処理水は、塩
素混合反応槽１８に導入される。この塩素混合反応槽１
８には、塩素貯槽２０から塩素剤として次亜塩素酸ナト
リウムが一次塩素注入ポンプ２２を介し供給されてい
る。そこで、この塩素混合反応槽１８において、塩素に
よるアンモニア性窒素の分解除去が行われる。特に、こ
の塩素混合反応槽１８には、アンモニア性窒素の分解及
び他の塩素を消費する物質を考慮した塩素の必要量以上
の過剰の塩素剤が供給される。これによって、塩素混合
反応槽１８において、水中のほぼ全量のアンモニア性窒
素が除去され、さらにかなりの塩素が残留する。すなわ
ち、アンモニア性窒素の除去を行うためには、反応当量
比としてアンモニア性窒素１に対して塩素５を必要とす
る。従って、小さなアンモニア性窒素濃度の変動でも残
留塩素量は大きく変動することになる。そのため、塩素
混合反応槽１８から排出される処理水中に含まれる残留
塩素濃度は大きくばらつくものになる。なお、アンモニ
ア性窒素を除去するのに十分な塩素を注入するため、塩
素混合反応槽１８からの処理水中には、基本的に遊離塩
素が含まれることになる。
素混合反応槽１８に導入される。この塩素混合反応槽１
８には、塩素貯槽２０から塩素剤として次亜塩素酸ナト
リウムが一次塩素注入ポンプ２２を介し供給されてい
る。そこで、この塩素混合反応槽１８において、塩素に
よるアンモニア性窒素の分解除去が行われる。特に、こ
の塩素混合反応槽１８には、アンモニア性窒素の分解及
び他の塩素を消費する物質を考慮した塩素の必要量以上
の過剰の塩素剤が供給される。これによって、塩素混合
反応槽１８において、水中のほぼ全量のアンモニア性窒
素が除去され、さらにかなりの塩素が残留する。すなわ
ち、アンモニア性窒素の除去を行うためには、反応当量
比としてアンモニア性窒素１に対して塩素５を必要とす
る。従って、小さなアンモニア性窒素濃度の変動でも残
留塩素量は大きく変動することになる。そのため、塩素
混合反応槽１８から排出される処理水中に含まれる残留
塩素濃度は大きくばらつくものになる。なお、アンモニ
ア性窒素を除去するのに十分な塩素を注入するため、塩
素混合反応槽１８からの処理水中には、基本的に遊離塩
素が含まれることになる。
【００１８】なお、本実施形態では、塩素剤として次亜
塩素酸ナトリウムを採用しているが、塩素ガスを直接注
入したり、次亜塩素酸カルシウムを添加してもよい。ま
た、塩素混合反応槽１８の滞留時間は、３０〜６０分程
度とし十分反応させることが好ましく、少なくとも１０
分程度は必要である。
塩素酸ナトリウムを採用しているが、塩素ガスを直接注
入したり、次亜塩素酸カルシウムを添加してもよい。ま
た、塩素混合反応槽１８の滞留時間は、３０〜６０分程
度とし十分反応させることが好ましく、少なくとも１０
分程度は必要である。
【００１９】塩素混合反応槽１８からの残留塩素量（遊
離塩素）が大きく変動する処理水は急速攪拌槽２４に導
入される。この急速攪拌槽２４には、凝集剤貯槽２６か
らの凝集剤が凝集剤注入ポンプ２８により供給されてい
る。さらに、この急速攪拌槽２４には、活性炭スラリー
槽３０からの活性炭が活性炭スラリーポンプ３２によっ
て供給される。従って、急速攪拌槽２４においては、過
剰の塩素を含有する処理水と、凝集剤及び活性炭との攪
拌混合が行われる。なお、凝集剤としてはＰＡＣ（ポリ
塩化アルミニウム）などが用いられる。また、活性炭ス
ラリーは粉体の活性炭を水中に懸濁させたものである。
離塩素）が大きく変動する処理水は急速攪拌槽２４に導
入される。この急速攪拌槽２４には、凝集剤貯槽２６か
らの凝集剤が凝集剤注入ポンプ２８により供給されてい
る。さらに、この急速攪拌槽２４には、活性炭スラリー
槽３０からの活性炭が活性炭スラリーポンプ３２によっ
て供給される。従って、急速攪拌槽２４においては、過
剰の塩素を含有する処理水と、凝集剤及び活性炭との攪
拌混合が行われる。なお、凝集剤としてはＰＡＣ（ポリ
塩化アルミニウム）などが用いられる。また、活性炭ス
ラリーは粉体の活性炭を水中に懸濁させたものである。
【００２０】この急速攪拌槽２４により、水中に含まれ
る微細な固形物が凝集剤に捕集される。また、活性炭が
混合されるため、活性炭表面の触媒機能により、残留塩
素が分解除去される。また、微量の溶存有機物なども活
性炭に吸着除去される。さらに、有機物と塩素との反応
により副生成物が生成されたとしても副生成物は活性炭
に吸着除去される。
る微細な固形物が凝集剤に捕集される。また、活性炭が
混合されるため、活性炭表面の触媒機能により、残留塩
素が分解除去される。また、微量の溶存有機物なども活
性炭に吸着除去される。さらに、有機物と塩素との反応
により副生成物が生成されたとしても副生成物は活性炭
に吸着除去される。
【００２１】急速攪拌槽２４において、凝集剤及び活性
炭が混合された処理水は、緩速攪拌槽３４に導入され、
ここで緩速攪拌されて凝集フロックの形成が促進され
る。なお、活性炭による塩素の分解除去などの反応も継
続される。緩速攪拌槽３４には、沈殿槽３６が接続され
ており、ここで凝集フロックなどの固形物が沈殿分離さ
れる。なお、ゼオライト混合槽１０に添加された粉末ゼ
オライト及び急速攪拌槽２４に添加された粉末活性炭も
フロック化されてここで沈殿分離される。沈殿分離され
た汚泥は、排出され別途処理される。
炭が混合された処理水は、緩速攪拌槽３４に導入され、
ここで緩速攪拌されて凝集フロックの形成が促進され
る。なお、活性炭による塩素の分解除去などの反応も継
続される。緩速攪拌槽３４には、沈殿槽３６が接続され
ており、ここで凝集フロックなどの固形物が沈殿分離さ
れる。なお、ゼオライト混合槽１０に添加された粉末ゼ
オライト及び急速攪拌槽２４に添加された粉末活性炭も
フロック化されてここで沈殿分離される。沈殿分離され
た汚泥は、排出され別途処理される。
【００２２】沈殿槽３６の上澄み水は、ろ過槽３８に供
給され、ここで重力ろ過される。このろ過槽３８は圧力
式の急速ろ過でもかまわない。なお、このろ過槽３８に
充填されるろ材の最上部に粒状の活性炭を充填しておく
ことで、活性炭スラリーの添加に代えることもできる。
さらに、活性炭スラリーを緩速攪拌槽３４の中段などに
添加することもできる。
給され、ここで重力ろ過される。このろ過槽３８は圧力
式の急速ろ過でもかまわない。なお、このろ過槽３８に
充填されるろ材の最上部に粒状の活性炭を充填しておく
ことで、活性炭スラリーの添加に代えることもできる。
さらに、活性炭スラリーを緩速攪拌槽３４の中段などに
添加することもできる。
【００２３】このようにして、沈殿槽３６の上澄みまた
はろ過槽３８のろ過処理水においては、残留塩素が完全
に除去されたものになっている。このろ過水に、二次塩
素注入ポンプ４０を介し塩素貯槽２０内の塩素剤が注入
される。この塩素剤注入後の処理水は、混合器（インラ
インミキサ）４２に導入され、ここで塩素と処理水の混
合接触処理がなされる。この場合、処理水中には、アン
モニア性窒素も残留有機物などもほとんどなく、注入量
に応じた残留塩素量（遊離塩素）が得られる。そして、
残留塩素はそのまま水中に残留させればよいため、１回
目の塩素注入のように、反応混合槽を設け十分反応させ
る必要はない。そこで、配管内で混合を行う混合器４２
で十分である。混合器４２から排出された処理水の配管
には、塩素濃度計４４が配置されており、この塩素濃度
計４４により、処理水中の残留塩素濃度が計測される。
はろ過槽３８のろ過処理水においては、残留塩素が完全
に除去されたものになっている。このろ過水に、二次塩
素注入ポンプ４０を介し塩素貯槽２０内の塩素剤が注入
される。この塩素剤注入後の処理水は、混合器（インラ
インミキサ）４２に導入され、ここで塩素と処理水の混
合接触処理がなされる。この場合、処理水中には、アン
モニア性窒素も残留有機物などもほとんどなく、注入量
に応じた残留塩素量（遊離塩素）が得られる。そして、
残留塩素はそのまま水中に残留させればよいため、１回
目の塩素注入のように、反応混合槽を設け十分反応させ
る必要はない。そこで、配管内で混合を行う混合器４２
で十分である。混合器４２から排出された処理水の配管
には、塩素濃度計４４が配置されており、この塩素濃度
計４４により、処理水中の残留塩素濃度が計測される。
【００２４】塩素濃度計４４の検出出力は、変換器４６
を介し、調節用の入力として二次塩素注入ポンプ４０に
供給されている。そして、二次塩素注入ポンプ４０は、
変換器４６からの出力によりフィードバック制御され
る。上述のように、塩素注入量と、残留塩素量とはよい
相関があるため、このフィードバック制御は精度よく行
うことができ、処理水中の塩素濃度を適切なものに正確
に制御することができる。なお、ろ過槽３８の殺菌を行
う場合には、図において破線で示したように、２度目の
塩素注入をろ過槽３８への流入水について行うとよい。
を介し、調節用の入力として二次塩素注入ポンプ４０に
供給されている。そして、二次塩素注入ポンプ４０は、
変換器４６からの出力によりフィードバック制御され
る。上述のように、塩素注入量と、残留塩素量とはよい
相関があるため、このフィードバック制御は精度よく行
うことができ、処理水中の塩素濃度を適切なものに正確
に制御することができる。なお、ろ過槽３８の殺菌を行
う場合には、図において破線で示したように、２度目の
塩素注入をろ過槽３８への流入水について行うとよい。
【００２５】このように、本実施形態によれば、１回目
の塩素注入において、アンモニア性窒素の分解に必要な
量以上の塩素を注入する。これによって、水中のアンモ
ニア性窒素が分解除去されるが、その処理水中の残留塩
素量は大きく変動する。しかし、この処理水について
は、活性炭が接触され、一旦残留塩素が全て除去され
る。そして、その後に、２回目の塩素注入として、必要
量の塩素を注入する。この場合、水中のアンモニア性窒
素が除去されているため、残留塩素量を適切なものに制
御することが極めて簡単にできる。さらに、活性炭によ
り、塩素と反応する有機物などを除去することができる
ため、塩素の残留持続時間が長くなり、必要とされる塩
素濃度を長時間に渡って確実に維持することができる。
の塩素注入において、アンモニア性窒素の分解に必要な
量以上の塩素を注入する。これによって、水中のアンモ
ニア性窒素が分解除去されるが、その処理水中の残留塩
素量は大きく変動する。しかし、この処理水について
は、活性炭が接触され、一旦残留塩素が全て除去され
る。そして、その後に、２回目の塩素注入として、必要
量の塩素を注入する。この場合、水中のアンモニア性窒
素が除去されているため、残留塩素量を適切なものに制
御することが極めて簡単にできる。さらに、活性炭によ
り、塩素と反応する有機物などを除去することができる
ため、塩素の残留持続時間が長くなり、必要とされる塩
素濃度を長時間に渡って確実に維持することができる。
【００２６】さらに、本実施形態によれば、塩素処理の
前処理として、ゼオライトを利用したアンモニア性窒素
除去が行われるため、多量のアンモニア性窒素を含有す
る水に対しても注入する塩素量を減少して効果的な処理
を行うことができる。
前処理として、ゼオライトを利用したアンモニア性窒素
除去が行われるため、多量のアンモニア性窒素を含有す
る水に対しても注入する塩素量を減少して効果的な処理
を行うことができる。
【００２７】なお、ゼオライト及び活性炭は、スラリー
として供給したが、粉体をそのまま添加するようにして
もよい。
として供給したが、粉体をそのまま添加するようにして
もよい。
【００２８】以上のような第１実施形態の構成は、上水
処理施設を基本として構成したものであり、本発明は特
に上水処理施設として好適に利用できる。
処理施設を基本として構成したものであり、本発明は特
に上水処理施設として好適に利用できる。
【００２９】「第２実施形態」図２に第２実施形態の構
成を示す。この第２実施形態では、ゼオライト充填塔５
０、中間ポンプ５２、及び活性炭充填塔５４を有してい
る。原水は、内部に粒状のゼオライトが充填されたゼオ
ライト充填塔５０に供給される。そして、原水がゼオラ
イト充填層を通過することによって、原水中のアンモニ
ア性窒素が吸着除去される。なお、バイパス管１６によ
りこのゼオライト充填塔５０をバイパスすることも可能
になっている。
成を示す。この第２実施形態では、ゼオライト充填塔５
０、中間ポンプ５２、及び活性炭充填塔５４を有してい
る。原水は、内部に粒状のゼオライトが充填されたゼオ
ライト充填塔５０に供給される。そして、原水がゼオラ
イト充填層を通過することによって、原水中のアンモニ
ア性窒素が吸着除去される。なお、バイパス管１６によ
りこのゼオライト充填塔５０をバイパスすることも可能
になっている。
【００３０】そして、ゼオライト充填塔５０の処理水
は、塩素混合反応槽１８に供給される。この塩素混合反
応槽１８には、第１実施形態と同様に、塩素貯槽２０か
らの塩素剤が一次塩素注入ポンプにより供給されてお
り、ここで過剰な塩素の注入によりアンモニア性窒素の
除去などの塩素による酸化処理が行われる。そして、こ
の塩素混合反応槽１８からの残留塩素を含んだ処理水
は、中間ポンプ５２により活性炭充填塔５４に供給され
る。この活性炭充填塔５４は、内部に粒状活性炭が充填
されており、ここに残留塩素を含んだ水を通過させるこ
とによって、水中の残留塩素が分解除去される。また、
活性炭による有機物などの吸着除去も行われる。
は、塩素混合反応槽１８に供給される。この塩素混合反
応槽１８には、第１実施形態と同様に、塩素貯槽２０か
らの塩素剤が一次塩素注入ポンプにより供給されてお
り、ここで過剰な塩素の注入によりアンモニア性窒素の
除去などの塩素による酸化処理が行われる。そして、こ
の塩素混合反応槽１８からの残留塩素を含んだ処理水
は、中間ポンプ５２により活性炭充填塔５４に供給され
る。この活性炭充填塔５４は、内部に粒状活性炭が充填
されており、ここに残留塩素を含んだ水を通過させるこ
とによって、水中の残留塩素が分解除去される。また、
活性炭による有機物などの吸着除去も行われる。
【００３１】そして、この活性炭充填塔５４からの残留
塩素が除去された処理水に塩素貯槽２０からの塩素剤が
二次塩素注入ポンプ４０によって添加される。この塩素
注入を受けた水は、混合器４２で混合される。また、混
合器４２からの処理水は、塩素濃度計４４で残留塩素濃
度が計測され、計測結果が変換器４６を介し、二次塩素
注入ポンプ４０にフィードバックされ、処理水残留塩素
濃度が所定値になるように二次塩素注入ポンプ４０によ
る塩素注入量が制御される。
塩素が除去された処理水に塩素貯槽２０からの塩素剤が
二次塩素注入ポンプ４０によって添加される。この塩素
注入を受けた水は、混合器４２で混合される。また、混
合器４２からの処理水は、塩素濃度計４４で残留塩素濃
度が計測され、計測結果が変換器４６を介し、二次塩素
注入ポンプ４０にフィードバックされ、処理水残留塩素
濃度が所定値になるように二次塩素注入ポンプ４０によ
る塩素注入量が制御される。
【００３２】このように、第２実施形態においては、ゼ
オライトスラリー及び活性炭スラリーの添加に代えて、
これらの充填塔を設けている。また、凝集沈殿処理は、
設けていない。
オライトスラリー及び活性炭スラリーの添加に代えて、
これらの充填塔を設けている。また、凝集沈殿処理は、
設けていない。
【００３３】この第２実施形態の構成は、プール用水の
塩素処理などに特に適している。しかし、この第２実施
形態の構成に凝集沈殿処理、ろ過処理などを組み合わせ
上水処理を行うことも好適である。
塩素処理などに特に適している。しかし、この第２実施
形態の構成に凝集沈殿処理、ろ過処理などを組み合わせ
上水処理を行うことも好適である。
【００３４】さらに、アンモニア性窒素を含有する水に
ついての塩素処理であれば、上述した上水処理やプール
用水処理に限定されることなく、本発明を適用すること
ができる。
ついての塩素処理であれば、上述した上水処理やプール
用水処理に限定されることなく、本発明を適用すること
ができる。
【００３５】
【実施例】図２に示す第２実施形態の装置により、処理
を行った。アンモニア性窒素濃度が、０．１２〜０．４
０ｍｇ／Ｌの範囲で変化する原水に対して、塩素（Ｃｌ
2）を１０ｍｇ／Ｌの注入率となるように注入した後、
反応槽１８において３０分間反応させて、アンモニア性
窒素の分解を行わせた。その結果、処理水の残留塩素濃
度は、０．２〜１．３ｍｇ／Ｌの範囲で変化し、またア
ンモニア性窒素濃度はほぼゼロになった。
を行った。アンモニア性窒素濃度が、０．１２〜０．４
０ｍｇ／Ｌの範囲で変化する原水に対して、塩素（Ｃｌ
2）を１０ｍｇ／Ｌの注入率となるように注入した後、
反応槽１８において３０分間反応させて、アンモニア性
窒素の分解を行わせた。その結果、処理水の残留塩素濃
度は、０．２〜１．３ｍｇ／Ｌの範囲で変化し、またア
ンモニア性窒素濃度はほぼゼロになった。
【００３６】この処理水を活性炭充填塔５４に通水し、
その処理水に対して塩素を０．５ｍｇ／Ｌの注入率とな
るように注入した。これによって、塩素注入後の残留塩
素濃度は、約０．５ｍｇ／Ｌでほぼ一定になった。
その処理水に対して塩素を０．５ｍｇ／Ｌの注入率とな
るように注入した。これによって、塩素注入後の残留塩
素濃度は、約０．５ｍｇ／Ｌでほぼ一定になった。
【００３７】以上の結果から明らかなように、単に原水
中のアンモニア性窒素濃度に対し理論量よりも過剰量の
塩素を注入すると、アンモニア性窒素を分解することが
できるが、処理水の残留塩素濃度は、０．２〜１．３ｍ
ｇ／Ｌと大きくばらつく。しかし、アンモニア性窒素分
解後の処理水を活性炭で処理した後、再度塩素注入を行
うことで、残留塩素濃度がほぼ一定の処理水を得ること
ができる。これにより、残留塩素濃度の管理が非常に容
易になることがわかる。
中のアンモニア性窒素濃度に対し理論量よりも過剰量の
塩素を注入すると、アンモニア性窒素を分解することが
できるが、処理水の残留塩素濃度は、０．２〜１．３ｍ
ｇ／Ｌと大きくばらつく。しかし、アンモニア性窒素分
解後の処理水を活性炭で処理した後、再度塩素注入を行
うことで、残留塩素濃度がほぼ一定の処理水を得ること
ができる。これにより、残留塩素濃度の管理が非常に容
易になることがわかる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
アンモニア性窒素の除去に際しての塩素剤の添加をアン
モニア性窒素の分解に必要な量より過剰量とすること
で、その添加量制御が容易であり、これによって確実な
アンモニア性窒素の除去が行える。また、活性炭により
塩素を一旦除去した後、再度塩素注入を行うため、処理
水の残留塩素量を正確に制御することができる。さら
に、活性炭により、塩素と反応する有機物などを除去す
ることができるため、塩素の残留持続時間が長くなり、
必要とされる塩素濃度を長時間に渡って確実に維持する
ことができる。
アンモニア性窒素の除去に際しての塩素剤の添加をアン
モニア性窒素の分解に必要な量より過剰量とすること
で、その添加量制御が容易であり、これによって確実な
アンモニア性窒素の除去が行える。また、活性炭により
塩素を一旦除去した後、再度塩素注入を行うため、処理
水の残留塩素量を正確に制御することができる。さら
に、活性炭により、塩素と反応する有機物などを除去す
ることができるため、塩素の残留持続時間が長くなり、
必要とされる塩素濃度を長時間に渡って確実に維持する
ことができる。
【図１】 第１実施形態の構成を示す図である。
【図２】 第２実施形態の構成を示す図である。
１０ ゼオライト混合槽、１２ ゼオライトスラリー
槽、１４ ゼオライト注入ポンプ、１６ バイパス管、
１８ 塩素混合反応槽、２０ 塩素貯槽、２２一次塩素
注入ポンプ、２４ 急速攪拌槽、２６ 凝集剤貯槽、２
８ 凝集剤注入ポンプ、３０ 活性炭スラリー槽、３２
活性炭スラリーポンプ、３４ 緩速攪拌槽、３６ 沈
殿槽、３８ ろ過槽、４０ 二次塩素注入ポンプ、４２
混合器、４４ 塩素濃度計、４６ 変換器、５０ ゼ
オライト充填塔、５２ 中間ポンプ、５４ 活性炭充填
塔。
槽、１４ ゼオライト注入ポンプ、１６ バイパス管、
１８ 塩素混合反応槽、２０ 塩素貯槽、２２一次塩素
注入ポンプ、２４ 急速攪拌槽、２６ 凝集剤貯槽、２
８ 凝集剤注入ポンプ、３０ 活性炭スラリー槽、３２
活性炭スラリーポンプ、３４ 緩速攪拌槽、３６ 沈
殿槽、３８ ろ過槽、４０ 二次塩素注入ポンプ、４２
混合器、４４ 塩素濃度計、４６ 変換器、５０ ゼ
オライト充填塔、５２ 中間ポンプ、５４ 活性炭充填
塔。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０Ｌ ５３１ ５３１Ｍ ５５０ ５５０Ｃ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ｂ 1/58 1/58 Ｐ
Claims (2)
- 【請求項１】 アンモニア性窒素を溶存している水に対
し、アンモニア性窒素の分解反応に必要な量以上の過剰
な塩素剤を注入し、その後この過剰な塩素剤が注入され
アンモニア性窒素が除去された水と活性炭との接触によ
り残存する塩素を除去し、その後さらに必要量の塩素剤
を注入することを特徴とする塩素処理方法。 - 【請求項２】 アンモニア性窒素を溶存している水に対
し、アンモニア性窒素の分解反応に必要な量以上の過剰
な塩素剤を注入する第１塩素注入部と、得られた過剰な
塩素剤が注入されアンモニア性窒素が除去された水と活
性炭との接触により残存する塩素を除去する活性炭処理
部と、活性炭により処理された水に必要量の塩素剤を注
入する第２塩素注入部と、を有することを特徴とする塩
素処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP932198A JPH11207366A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 塩素処理方法及び塩素処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP932198A JPH11207366A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 塩素処理方法及び塩素処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207366A true JPH11207366A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11717215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP932198A Pending JPH11207366A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 塩素処理方法及び塩素処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11207366A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009066465A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-02 | Ishikawa Engineering Corp | アンモニア性窒素含有水の処理設備及びその処理方法 |
| JP2013049000A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Hikari Engineering Co Ltd | 硝酸態窒素含有水の処理方法 |
| JP2014034011A (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-24 | Uerushii:Kk | 地下水の浄化処理装置及び浄化処理方法 |
| JP2014034010A (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-24 | Uerushii:Kk | 地下水の浄化処理装置及び浄化処理方法 |
| JP2023057669A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 | 飲料水製造方法、飲料水製造システム |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP932198A patent/JPH11207366A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009066465A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-04-02 | Ishikawa Engineering Corp | アンモニア性窒素含有水の処理設備及びその処理方法 |
| JP2013049000A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-03-14 | Hikari Engineering Co Ltd | 硝酸態窒素含有水の処理方法 |
| JP2014034011A (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-24 | Uerushii:Kk | 地下水の浄化処理装置及び浄化処理方法 |
| JP2014034010A (ja) * | 2012-08-09 | 2014-02-24 | Uerushii:Kk | 地下水の浄化処理装置及び浄化処理方法 |
| JP2023057669A (ja) * | 2021-10-12 | 2023-04-24 | 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社 | 飲料水製造方法、飲料水製造システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040325 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050315 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050705 |