JPH11212010A - 光学装置、および光学装置の調整方法 - Google Patents

光学装置、および光学装置の調整方法

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JPH11212010A
JPH11212010A JP1066398A JP1066398A JPH11212010A JP H11212010 A JPH11212010 A JP H11212010A JP 1066398 A JP1066398 A JP 1066398A JP 1066398 A JP1066398 A JP 1066398A JP H11212010 A JPH11212010 A JP H11212010A
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JP
Japan
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convergence
converging
converged
optical
light beam
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Pending
Application number
JP1066398A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Kimura
肇 木村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】この発明は、レーザビームの収束位置を高精度
に調整できる光学装置、および光学装置の調整方法を提
供することを課題とする。 【解決手段】光学装置1は、レーザビームの反射角度を
副走査方向に調整可能な可動部7を備えたガルバノミラ
ー6aを有している。ガルバノミラー6aは、回転軸2
2bを中心に回転可能に設けられた台座22上に固設さ
れ、台座22の回転とともに、レーザビームの反射角度
を主走査方向に変化させる方向に回転される。ガルバノ
ミラー6aは、台座22の回転軸22bが反射面7aを
通るように位置決めされ、主走査方向の回転に起因した
光路長の変化を防止している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザビームを
走査してターゲット上に収束させる光学装置、および光
学装置の調整方法に係り、特に、複数のレーザビームを
1つのポリゴンミラーを介して走査する光学装置、およ
び光学装置の調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザビームを走査してターゲッ
ト上に収束させる光学装置として、例えば、マルチビー
ム方式を採用したプリンタ装置に組込まれたマルチビー
ム光学装置が知られている。
【0003】この種の光学装置では、複数のレーザビー
ムを1つのポリゴンミラーを介して同時に走査し、感光
体ドラム上に集束することにより、予め所定の電位が与
えられたドラム表面上に像を形成する。この場合、複数
のレーザビームのドラム表面上での副走査方向の間隔を
一定にするとともに、主走査方向の書込み開始位置を揃
える必要がある。
【0004】このため、従来の光学装置では、各レーザ
ビームがポリゴンミラーに向う光路上に副走査方向のビ
ーム集束位置を調整できるガルバノミラーをそれぞれ設
け、副走査方向の各ビーム間隔を調整するようにしてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】一方、各レーザビーム
の主走査方向の書込み開始位置は、ガルバノミラーの取
付け角度を調整することにより調整される。さらに、各
レーザビームの主走査方向の書込みタイミングを電気的
に制御することにより、各レーザビームの主走査方向の
書込み開始位置が微調整される。しかし、各レーザビー
ムの主走査方向のずれが僅かなものであれば、このよう
に書込みタイミングを電気的に制御するだけで調整可能
であるが、主走査方向に比較的大きなずれを生じた場
合、電気的な書込みタイミングの制御だけでは調整不可
能となる。
【0006】この発明は、以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、レーザビームの収束位置を高精度に調
整できる光学装置、および光学装置の調整方法を提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のうち請求項1記載の光学装置は、光源か
ら射出された光を所定の収束位置に向けて収束させる収
束手段と、上記収束手段から上記収束位置へ向う光路上
に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビームを上
記収束位置で第1の方向に走査する走査手段と、上記収
束手段から上記走査手段へ向う光路上に設けられ、上記
収束手段にて収束された光ビームを上記走査手段へ反射
する反射面、および上記収束位置へ収束される光ビーム
を上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化させるよ
うに上記反射面の角度を調整する調整機構を有する光学
手段と、上記光学手段を積載してなり、上記第2の方向
に延びた回転軸を中心に回転することによって、上記収
束位置へ収束される光ビームを上記第1の方向へ変化さ
せる調整手段と、を備えている。
【0008】また、この発明のうち請求項2記載の光学
装置によると、光源から射出された光を所定の収束位置
に向けて収束させる収束手段と、上記収束手段から上記
収束位置へ向う光路上に設けられ、上記収束手段にて収
束された光ビームを上記収束位置で第1の方向に走査す
る走査手段と、上記収束手段から上記走査手段へ向う光
路上に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビーム
を上記走査手段へ反射する反射面、および上記収束位置
へ収束される光ビームを上記第1の方向と直交する第2
の方向へ変化させるように上記反射面の角度を調整する
調整機構を有する光学手段と、上記光学手段を上記第2
の方向に延びた回転軸を中心に回転させて、上記収束位
置へ収束される光ビームを上記第1の方向へ変化させる
調整手段と、を備え、上記調整手段の回転軸は、上記収
束手段にて収束された光ビームが上記収束位置で少なく
とも所定値以下のビーム径を形成する程度に、上記光学
手段の反射面に近接されていることを特徴とする。
【0009】また、この発明のうち請求項3記載の光学
装置によると、光源から射出された光を所定の収束位置
に向けて収束させる収束手段と、上記収束手段から上記
収束位置へ向う光路上に設けられ、上記収束手段にて収
束された光ビームを上記収束位置で第1の方向に走査す
る走査手段と、上記収束手段から上記走査手段へ向う光
路上に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビーム
を上記走査手段へ反射する反射面、および上記収束位置
へ収束される光ビームを上記第1の方向と直交する第2
の方向へ変化させるように上記反射面の角度を調整する
調整機構を有する光学手段と、上記光学手段を上記第2
の方向に延びた回転軸を中心に回転させて、上記収束位
置へ収束される光ビームを上記第1の方向へ変化させる
調整手段と、を備え、上記調整手段の回転軸は、上記光
学手段の反射面上を通るように設けられていることを特
徴とする。
【0010】また、この発明のうち請求項4記載の光学
装置は、複数の光源と、上記各光源から射出された光を
所定の収束位置に向けてそれぞれ収束させる複数の収束
手段と、上記各収束手段から上記収束位置へ向う光路上
に設けられ、上記各収束手段にて収束された複数の光ビ
ームを同時にまとめて上記収束位置で第1の方向に走査
する走査手段と、上記各収束手段から上記走査手段へ向
うそれぞれの光路上に設けられ、上記収束手段にて収束
された光ビームを上記走査手段へ反射する反射面、およ
び上記収束位置へ収束される光ビームを上記第1の方向
と直交する第2の方向へ変化させるように上記反射面の
角度を調整する調整機構をそれぞれ有する複数の光学手
段と、上記各光学手段を上記第2の方向に延びたそれぞ
れの回転軸を中心に回転させて、上記収束位置へ収束さ
れる光ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化させる複
数の調整手段と、を備えている。
【0011】また、この発明のうち請求項5記載の光学
装置によると、複数の光源と、上記各光源から射出され
た光を所定の収束位置に向けてそれぞれ収束させる複数
の収束手段と、上記各収束手段から上記収束位置へ向う
光路上に設けられ、上記各収束手段にて収束された複数
の光ビームを同時にまとめて上記収束位置で第1の方向
に走査する走査手段と、上記各収束手段から上記走査手
段へ向うそれぞれの光路上に設けられ、上記収束手段に
て収束された光ビームを上記走査手段へ反射する反射
面、および上記収束位置へ収束される光ビームを上記第
1の方向と直交する第2の方向へ変化させるように上記
反射面の角度を調整する調整機構をそれぞれ有する複数
の光学手段と、上記各光学手段を上記第2の方向に延び
たそれぞれの回転軸を中心に回転させて、上記収束位置
へ収束される光ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化
させる複数の調整手段と、を備え、上記各調整手段の回
転軸は、それぞれの収束手段にて収束された光ビームが
上記収束位置で少なくとも所定値以下のビーム径を形成
する程度に、上記光学手段の反射面に近接されているこ
とを特徴とする。
【0012】また、この発明のうち請求項6記載の光学
装置によると、複数の光源と、上記各光源から射出され
た光を所定の収束位置に向けてそれぞれ収束させる複数
の収束手段と、上記各収束手段から上記収束位置へ向う
光路上に設けられ、上記各収束手段にて収束された複数
の光ビームを同時にまとめて上記収束位置で第1の方向
に走査する走査手段と、上記各収束手段から上記走査手
段へ向うそれぞれの光路上に設けられ、上記収束手段に
て収束された光ビームを上記走査手段へ反射する反射
面、および上記収束位置へ収束される光ビームを上記第
1の方向と直交する第2の方向へ変化させるように上記
反射面の角度を調整する調整機構をそれぞれ有する複数
の光学手段と、上記各光学手段を上記第2の方向に延び
たそれぞれの回転軸を中心に回転させて、上記収束位置
へ収束される光ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化
させる複数の調整手段と、を備え、上記各調整手段の回
転軸は、それぞれの光学手段の反射面上を通るように設
けられていることを特徴とする。
【0013】また、この発明のうち請求項7記載の光学
装置の調整方法によると、光源から射出された光を収束
手段を通して所定の収束位置に向けて収束し、収束した
光ビームを角度調整可能な反射面を備えた光学手段を介
して反射し、反射した光ビームを走査手段によって上記
収束位置で第1の方向に走査する調整方法であって、上
記反射面の角度を調整して、上記収束位置へ収束される
光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化
させる第1の調整工程と、上記収束手段にて収束された
光ビームが上記収束位置で少なくとも所定値以下のビー
ム径を形成する程度に上記反射面に近接され、且つ上記
第2の方向に延びた回転軸を中心に、上記光学手段を回
転させて、上記収束位置へ収束される光ビームを上記第
1の方向へ変化させる第2の調整工程と、を有すること
を特徴とする。
【0014】更に、この発明のうち請求項8記載の光学
装置の調整方法によると、光源から射出された光を収束
手段を通して所定の収束位置に向けて収束し、収束した
光ビームを角度調整可能な反射面を備えた光学手段を介
して反射し、反射した光ビームを走査手段によって上記
収束位置で第1の方向に走査する調整方法であって、上
記反射面の角度を調整して、上記収束位置へ収束される
光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化
させる第1の調整工程と、上記反射面に沿って上記第2
の方向に延び、かつ上記反射面上を通る回転軸を中心
に、上記光学手段を回転させて、上記収束位置へ収束さ
れる光ビームを上記第1の方向へ変化させる第2の調整
工程と、を有することを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながらこの発
明の実施の形態について詳細に説明する。図1には、マ
ルチビーム露光方式を採用したプリンタ装置に組込まれ
た光学装置1を概略的に示してある。
【0016】光学装置1は、それぞれ画像信号に応じた
所定強度および所定波長のレーザビームLa、Lb、L
c、およびLdを射出する半導体レーザ素子によって形
成された4つの光源2a、2b、2c、および2dを有
している。それぞれの光源2a、2b、2c、および2
dから射出されたレーザビームLa、Lb、Lc、およ
びLdは、それぞれ有限焦点レンズ4a、4b、4c、
および4dを通過されて所定の収束性が与えられる。
【0017】収束性が与えられたレーザビームLa、L
b、Lc、およびLdは、それぞれの光路上に設けられ
たガルバノミラー6a、6b、6c、および6dによっ
て所定方向に折り曲げられる。各ガルバノミラー6a、
6b、6c、および6dは、後述する感光体ドラム20
の表面20a上に収束される各レーザビームLa、L
b、Lc、およびLdの副走査方向間隔が一定となるよ
うに、各レーザビームLa、Lb、Lc、およびLdの
反射角度を副走査方向に微少量変化させる構成を有して
いる。
【0018】図2には、ガルバノミラー6aによってレ
ーザビームLaの反射方向を副走査方向に変化させる概
略構成を代表して示してある。ガルバノミラー6aは、
入射されるレーザビームと反射するレーザビームを含む
面と略直交する反射面7a、およびこの反射面7aを主
走査方向に延びた回転軸7bの周りに回転させる図示し
ない回転機構を有する可動部7、および、この可動部7
を所定位置に位置決めして配置するための保持部8を有
している。尚、他のガルバノミラー6b、6c、および
6dも、同様に、それぞれのレーザビームLb、Lc、
およびLdの反射角度を副走査方向に変化させる構成を
有している。
【0019】ガルバノミラー6aによって反射されたレ
ーザビームLa、およびガルバノミラー6bによって反
射されたレーザビームLbが合流する光路上には、レー
ザビームLa、およびLbを副走査方向に所定間隔で並
んだ合成レーザビーム(La+Lb)にまとめるハーフ
ミラー11が設けられている。また、この合成レーザビ
ーム(La+Lb)、およびガルバノミラー6cによっ
て反射されたレーザビームLcが合流する光路上には、
レーザビームLa、Lb、およびLcを副走査方向に所
定間隔で並んだ合成レーザビーム(La+Lb+Lc)
にまとめるハーフミラー12が設けられている。さら
に、この合成レーザビーム(La+Lb+Lc)、およ
びガルバノミラー6dによって反射されたレーザビーム
Ldが合流する光路上には、全てのレーザビームLa、
Lb、Lc、およびLdを副走査方向に所定間隔で並ん
だ合成レーザビーム(La+Lb+Lc+Ld)にまと
めるハーフミラー13が設けられている。
【0020】このハーフミラー13より下流側の合成レ
ーザビーム(La+Lb+Lc+Ld)の光路上には、
この合成レーザビームをまとめて主走査方向に偏向させ
て感光体ドラム20の表面20aをその軸方向、すなわ
ち主走査方向に露光走査するポリゴンミラー10が設け
られている。また、ポリゴンミラー10と感光体ドラム
20との間の光路上には、2つのfθレンズ14、16
が並んで設けられている。
【0021】次に、上記のように構成された光学装置1
による露光走査について説明する。光源2aから射出さ
れたレーザビームLaは、有限焦点レンズ4aにより所
定の収束性が与えられてガルバノミラー6aによって反
射され、ハーフミラー11を通過される。また、光源2
bから射出されたレーザビームLbは、有限焦点レンズ
4bにより所定の収束性が与えられてガルバノミラー6
bによって反射される。なお、レーザビームLbは、ハ
ーフミラー11で反射されて、レーザビームLaと合成
される。さらに、光源2cから射出されたレーザビーム
Lcは、有限焦点レンズ4cにより所定の収束性が与え
られてガルバノミラー6cで反射され、ハーフミラー1
2に案内される。ハーフミラー12に案内されたレーザ
ビームLcは、ハーフミラー12で反射され、ハーフミ
ラー11で合成されたレーザビーム(La+Lb)に、
さらに合成される。また、光源2dから射出されたレー
ザビームLdは、有限焦点レンズ4dにより所定の収束
性が与えられてガルバノミラー6dで反射され、ハーフ
ミラー13に案内される。このハーフミラー13に案内
されたレーザビームLdは、ハーフミラー13で反射さ
れ、ハーフミラー12で合成されたレーザビーム(La
+Lb+Lc)に、さらに合成される。このようにし
て、平面方向からみた状態では1本で、副走査方向には
所定間隔を有するレーザビームL=(La+Lb+Lc
+Ld)が合成される。
【0022】4本のレーザビームLa、Lb、Lc、お
よびLdが合成されたレーザビームLは、副走査方向に
関してのみ所定の間隔が与えられた1本のレーザビーム
L=(La+Lb+Lc+Ld)として、ポリゴンミラ
ー10によって同時に偏向(走査)され、2つのfθレ
ンズ14、16を介して、感光体ドラム20の表面20
a上の所定位置に結像される。
【0023】つまり、本実施の形態のように、マルチビ
ーム露光方式を採用することにより、通常の1ライン露
光方式の光学装置と比較して、副走査方向については4
倍の速度で露光できる。
【0024】ところで、この種のマルチビーム方式の光
学装置において、各レーザビームを正確な位置に収束さ
せて良好な露光状態を達成するためには、各レーザビー
ムの感光体ドラム20上での副走査方向間隔を一定にす
るとともに、各レーザビームの主走査方向の書込み開始
位置を高精度に一致させることが重要となる。
【0025】各レーザビームの副走査方向の間隔は、一
般に、400dpiの印字で63.5μm程度に設定さ
れ、600dpiの印字で42.3μm程度に設定され
るが、それぞれの光路上に設けられたガルバノミラー4
a、4b、4c、および4dによるレーザビームの副走
査方向の反射角度を変化させることにより比較的高精度
に調整できる。
【0026】一方、各レーザビームの主走査方向の書込
み開始位置は、概ね、光学装置1を構成した各光学素子
の取付け位置精度や部品精度を高めることにより調整さ
れ、主走査方向の書込み開始位置の微調整は、各レーザ
ビームの書込みタイミングを電気的に調整することによ
り成される。
【0027】この場合、各レーザビームの主走査方向の
書込み開始位置に僅かなずれを生じているだけなら、各
レーザビームの書込みタイミングを電気的に調整するこ
とによって、書込み開始位置を略一致させることができ
るが、書込み開始位置が所定の範囲を超えて大きくずれ
ている場合には、書込みタイミングを電気的に調整して
も、ポリゴンミラーの有効面からレーザビームが逸脱し
たり、fθレンズの性能が十分に発揮できなかったりと
いった不具合を生じる。
【0028】このため、本発明においては、各レーザビ
ームLa、Lb、Lc、およびLdの光路上にそれぞれ
配設されたガルバノミラー4a、4b、4c、および4
dの取付け角度を調整できるようにして、各レーザビー
ムの反射角度を主走査方向に変化可能とした。
【0029】図3には、ガルバノミラー6aの主走査方
向の取付け角度を調整するための調整機構を概略的に示
してある。ここでは、ガルバノミラー6aについて代表
して説明するが、他のガルバノミラー6b、6c、およ
び6dも同様の構成を有している。
【0030】ガルバノミラー6aは、上述したように、
反射面7aによるレーザビームの反射角度を副走査方向
に調整する可動部7、およびこの可動部7を保持した保
持部8を有している。そして、保持部8が円柱形の台座
22の上面22a上に固設され、台座22の回転ととも
にガルバノミラー6aが回転するようになっている。
尚、台座22は、光学装置1の筐体側に形成された円形
の嵌合孔24に対して回転自在に嵌入されおり、その回
転位置がネジ26により固定されるようになっている。
【0031】ガルバノミラー6aは、その反射面7aを
副走査方向に回転させる回転軸7b(図2参照)が、台
座22の回転軸22bと直交するように配置され、且
つ、台座22の回転軸22bが反射面7aを通るように
位置決めされる。
【0032】このように、ガルバノミラー6aの主走査
方向の回転中心を反射面7a上に位置させることによ
り、図4に示すように、ガルバノミラー6aによって反
射されたレーザビームの光路長が、ガルバノミラー6a
の調整動作に起因した回転の前後で変化することがな
く、感光体ドラム20の表面20a上にレーザビームを
所定の径で常に収束させることができる。
【0033】つまり、光源2aから射出されたレーザビ
ームLaは、有限焦点レンズ4aによって所定の焦点距
離で収束されるため、図6に模式的に示したレーザビー
ムLaのビームウエストの略中央位置がドラム表面20
aで結像し、ドラム表面20aに所定のスポット径が形
成できるように、その光路長を設定する必要がある。
【0034】一方、図5に示すように、ガルバノミラー
6aの主走査方向の回転中心が反射面7a上になく、反
射面7aから後退した位置にある場合、ガルバノミラー
6aによって反射されるレーザビームの光路長が、ガル
バノミラー6aの回転の前後で変化される。このときの
光路長の変化量をaとした場合、ドラム表面20a上で
許容できるビームスポットの最大径Φdを形成するビー
ムウエストの範囲bより、光路長の変化量aが少なくと
も小さければ、すなわちa<bの関係が成立していれ
ば、光路長のずれを許容できる。言い換えれば、光路長
の変化量aがビームウエストの許容範囲bを超えない程
度であれば、ガルバノミラー6aの主走査方向の回転中
心が反射面7aから離間しても良い。
【0035】以上のように、本実施の形態の光学装置に
よると、レーザビームの反射角度を副走査方向に調整可
能なガルバノミラーを、レーザビームの反射角度を主走
査方向に変化できる調整機構に取付けたため、レーザビ
ームの主走査方向および副走査方向の収束位置を高精度
に調整できる。
【0036】また、ガルバノミラーの主走査方向の回転
中心をガルバノミラーの反射面上に配置したため、ガル
バノミラーによるレーザビームの反射の前後で光路長が
変化されることを防止でき、常に、所定のスポット径で
感光体ドラム表面上にビームを収束させることができ
る。さらに、ガルバノミラーの主走査方向の回転中心を
反射面から僅かに離間させても良く、そのときの反射の
前後における光路長の変化量aがレーザビームのビーム
ウエストの許容範囲bを超えなければ良い。尚、この発
明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、
この発明の範囲内で種々変形可能である。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の光学装
置は、上記のような構成および作用を有しているので、
レーザビームの収束位置を高精度に調整できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施の形態に係る光学装置を示す概
略図。
【図2】図1の光学装置に組込まれたガルバノミラーの
作用を説明するための図。
【図3】図2のガルバノミラーの取付け角度を調整する
ための調整機構を示す概略図。
【図4】ガルバノミラーの主走査方向の回転中心を反射
面上に配置した状態を示す図。
【図5】ガルバノミラーの主走査方向の回転中心を反射
面から後退した位置に配置した状態を示す図。
【図6】ビームウエストの許容範囲を説明するための
図。
【符号の説明】
1…光学装置、 2a、2b、2c、2d…光源、 4a、4b、4c、4d…有限焦点レンズ、 6a、6b、6c、6d…ガルバノミラー、 7…可動部、 7a…反射面、 7b…回転軸、 8…保持部、 10…ポリゴンミラー、 11、12、13…ハーフミラー、 14、16…fθレンズ、 20…感光体ドラム、 20a…表面、 22…台座、 22a…上面、 22b…回転軸、 24…嵌合孔、 26…ネジ、 a…光路長の変化量、 b…ビームウエストの許容範囲。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源から射出された光を所定の収束位置
    に向けて収束させる収束手段と、 上記収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記収束位
    置で第1の方向に走査する走査手段と、 上記収束手段から上記走査手段へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記走査手
    段へ反射する反射面、および上記収束位置へ収束される
    光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化
    させるように上記反射面の角度を調整する調整機構を有
    する光学手段と、 上記光学手段を積載してなり、上記第2の方向に延びた
    回転軸を中心に回転することによって、上記収束位置へ
    収束される光ビームを上記第1の方向へ変化させる調整
    手段と、 を備えていることを特徴とする光学装置。
  2. 【請求項2】 光源から射出された光を所定の収束位置
    に向けて収束させる収束手段と、 上記収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記収束位
    置で第1の方向に走査する走査手段と、 上記収束手段から上記走査手段へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記走査手
    段へ反射する反射面、および上記収束位置へ収束される
    光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化
    させるように上記反射面の角度を調整する調整機構を有
    する光学手段と、 上記光学手段を上記第2の方向に延びた回転軸を中心に
    回転させて、上記収束位置へ収束される光ビームを上記
    第1の方向へ変化させる調整手段と、を備え、 上記調整手段の回転軸は、上記収束手段にて収束された
    光ビームが上記収束位置で少なくとも所定値以下のビー
    ム径を形成する程度に、上記光学手段の反射面に近接さ
    れていることを特徴とする光学装置。
  3. 【請求項3】 光源から射出された光を所定の収束位置
    に向けて収束させる収束手段と、 上記収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記収束位
    置で第1の方向に走査する走査手段と、 上記収束手段から上記走査手段へ向う光路上に設けら
    れ、上記収束手段にて収束された光ビームを上記走査手
    段へ反射する反射面、および上記収束位置へ収束される
    光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変化
    させるように上記反射面の角度を調整する調整機構を有
    する光学手段と、 上記光学手段を上記第2の方向に延びた回転軸を中心に
    回転させて、上記収束位置へ収束される光ビームを上記
    第1の方向へ変化させる調整手段と、を備え、 上記調整手段の回転軸は、上記光学手段の反射面上を通
    るように設けられていることを特徴とする光学装置。
  4. 【請求項4】 複数の光源と、 上記各光源から射出された光を所定の収束位置に向けて
    それぞれ収束させる複数の収束手段と、 上記各収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記各収束手段にて収束された複数の光ビームを同
    時にまとめて上記収束位置で第1の方向に走査する走査
    手段と、 上記各収束手段から上記走査手段へ向うそれぞれの光路
    上に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビームを
    上記走査手段へ反射する反射面、および上記収束位置へ
    収束される光ビームを上記第1の方向と直交する第2の
    方向へ変化させるように上記反射面の角度を調整する調
    整機構をそれぞれ有する複数の光学手段と、 上記各光学手段を上記第2の方向に延びたそれぞれの回
    転軸を中心に回転させて、上記収束位置へ収束される光
    ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化させる複数の調
    整手段と、 を備えていることを特徴とする光学装置。
  5. 【請求項5】 複数の光源と、 上記各光源から射出された光を所定の収束位置に向けて
    それぞれ収束させる複数の収束手段と、 上記各収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記各収束手段にて収束された複数の光ビームを同
    時にまとめて上記収束位置で第1の方向に走査する走査
    手段と、 上記各収束手段から上記走査手段へ向うそれぞれの光路
    上に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビームを
    上記走査手段へ反射する反射面、および上記収束位置へ
    収束される光ビームを上記第1の方向と直交する第2の
    方向へ変化させるように上記反射面の角度を調整する調
    整機構をそれぞれ有する複数の光学手段と、 上記各光学手段を上記第2の方向に延びたそれぞれの回
    転軸を中心に回転させて、上記収束位置へ収束される光
    ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化させる複数の調
    整手段と、を備え、 上記各調整手段の回転軸は、それぞれの収束手段にて収
    束された光ビームが上記収束位置で少なくとも所定値以
    下のビーム径を形成する程度に、上記光学手段の反射面
    に近接されていることを特徴とする光学装置。
  6. 【請求項6】 複数の光源と、 上記各光源から射出された光を所定の収束位置に向けて
    それぞれ収束させる複数の収束手段と、 上記各収束手段から上記収束位置へ向う光路上に設けら
    れ、上記各収束手段にて収束された複数の光ビームを同
    時にまとめて上記収束位置で第1の方向に走査する走査
    手段と、 上記各収束手段から上記走査手段へ向うそれぞれの光路
    上に設けられ、上記収束手段にて収束された光ビームを
    上記走査手段へ反射する反射面、および上記収束位置へ
    収束される光ビームを上記第1の方向と直交する第2の
    方向へ変化させるように上記反射面の角度を調整する調
    整機構をそれぞれ有する複数の光学手段と、 上記各光学手段を上記第2の方向に延びたそれぞれの回
    転軸を中心に回転させて、上記収束位置へ収束される光
    ビームを上記第1の方向へそれぞれ変化させる複数の調
    整手段と、を備え、 上記各調整手段の回転軸は、それぞれの光学手段の反射
    面上を通るように設けられていることを特徴とする光学
    装置。
  7. 【請求項7】 光源から射出された光を収束手段を通し
    て所定の収束位置に向けて収束し、収束した光ビームを
    角度調整可能な反射面を備えた光学手段を介して反射
    し、反射した光ビームを走査手段によって上記収束位置
    で第1の方向に走査する光学装置の調整方法であって、 上記反射面の角度を調整して、上記収束位置へ収束され
    る光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変
    化させる第1の調整工程と、 上記収束手段にて収束された光ビームが上記収束位置で
    少なくとも所定値以下のビーム径を形成する程度に上記
    反射面に近接され、且つ上記第2の方向に延びた回転軸
    を中心に、上記光学手段を回転させて、上記収束位置へ
    収束される光ビームを上記第1の方向へ変化させる第2
    の調整工程と、 を有することを特徴とする調整方法。
  8. 【請求項8】 光源から射出された光を収束手段を通し
    て所定の収束位置に向けて収束し、収束した光ビームを
    角度調整可能な反射面を備えた光学手段を介して反射
    し、反射した光ビームを走査手段によって上記収束位置
    で第1の方向に走査する光学装置の調整方法であって、 上記反射面の角度を調整して、上記収束位置へ収束され
    る光ビームを上記第1の方向と直交する第2の方向へ変
    化させる第1の調整工程と、 上記反射面に沿って上記第2の方向に延び、かつ上記反
    射面上を通る回転軸を中心に、上記光学手段を回転させ
    て、上記収束位置へ収束される光ビームを上記第1の方
    向へ変化させる第2の調整工程と、 を有することを特徴とする調整方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020196023A (ja) * 2019-05-31 2020-12-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 レーザ加工装置、レーザ加工方法ならびに素子チップの製造方法

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JP2020196023A (ja) * 2019-05-31 2020-12-10 パナソニックIpマネジメント株式会社 レーザ加工装置、レーザ加工方法ならびに素子チップの製造方法

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