JPH11214143A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH11214143A JPH11214143A JP10018602A JP1860298A JPH11214143A JP H11214143 A JPH11214143 A JP H11214143A JP 10018602 A JP10018602 A JP 10018602A JP 1860298 A JP1860298 A JP 1860298A JP H11214143 A JPH11214143 A JP H11214143A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- heating chamber
- turntable
- power supply
- heated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は簡単な構成により、加熱むらを抑
え、食品を均一加熱することが可能な高周波加熱装置を
提供する。 【解決手段】 加熱室１の底に被加熱物６を回転するタ
ーンテーブル５と加熱室１の側壁に導波管３を介してマ
グネトロン２を設け、マグネトロン２より発生した高周
波電磁波は導波管３を通り、給電口４より加熱室１内に
放射される。このとき、加熱室１内の給電口に対向する
加熱室１の壁面にターンテーブル５の中心方向に向けた
傾斜面７を設け高周波電磁波を反射屈折させることによ
り、給電口４から放射された高周波電磁波を効率よく被
加熱物６に吸収させ、ターンテーブル５の中心部と外周
部の加熱むらを抑え、均一加熱を可能とする。
え、食品を均一加熱することが可能な高周波加熱装置を
提供する。 【解決手段】 加熱室１の底に被加熱物６を回転するタ
ーンテーブル５と加熱室１の側壁に導波管３を介してマ
グネトロン２を設け、マグネトロン２より発生した高周
波電磁波は導波管３を通り、給電口４より加熱室１内に
放射される。このとき、加熱室１内の給電口に対向する
加熱室１の壁面にターンテーブル５の中心方向に向けた
傾斜面７を設け高周波電磁波を反射屈折させることによ
り、給電口４から放射された高周波電磁波を効率よく被
加熱物６に吸収させ、ターンテーブル５の中心部と外周
部の加熱むらを抑え、均一加熱を可能とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品を加熱する高
周波加熱装置に関し、特に食品を効率よくかつ均一に加
熱する構成に関する。
周波加熱装置に関し、特に食品を効率よくかつ均一に加
熱する構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の高周波加熱装置で被加熱物を均一
に加熱する方法として、被加熱物を回転させるターンテ
ーブル方式が、最も一般的で簡単でコストもあまりかか
らない方式として主流となっている。以下、その構成に
ついて図４、図５にもとづいて説明する。図に示すよう
に加熱室１内に高周波電磁波を供給するためのマグネト
ロン２が導波管３を介して取り付けられており、加熱室
１内の底面には被加熱物６を回転自在にするターンテー
ブル５が設けられている。マグネトロン２より発生した
高周波電磁波は、導波管３により伝達され、加熱室１の
壁面に設けた給電口４より加熱室１内に放射される。
に加熱する方法として、被加熱物を回転させるターンテ
ーブル方式が、最も一般的で簡単でコストもあまりかか
らない方式として主流となっている。以下、その構成に
ついて図４、図５にもとづいて説明する。図に示すよう
に加熱室１内に高周波電磁波を供給するためのマグネト
ロン２が導波管３を介して取り付けられており、加熱室
１内の底面には被加熱物６を回転自在にするターンテー
ブル５が設けられている。マグネトロン２より発生した
高周波電磁波は、導波管３により伝達され、加熱室１の
壁面に設けた給電口４より加熱室１内に放射される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の方式
では、被加熱物６はターンテーブル５により回転される
ため、回転中心から等距離にある部分は必然的に均一に
加熱されるが、給電口４より放射される高周波電磁波の
強度は、一定に放射されるため、給電口４に近いターン
テーブル５の外周部に近い程強く加熱され、最も遠い回
転中心部分は周囲に比べ、どうしても加熱が弱く中心部
と外周部との間に大きな加熱むらができてしまう。
では、被加熱物６はターンテーブル５により回転される
ため、回転中心から等距離にある部分は必然的に均一に
加熱されるが、給電口４より放射される高周波電磁波の
強度は、一定に放射されるため、給電口４に近いターン
テーブル５の外周部に近い程強く加熱され、最も遠い回
転中心部分は周囲に比べ、どうしても加熱が弱く中心部
と外周部との間に大きな加熱むらができてしまう。
【０００４】本発明は、上記課題を解決するためのもの
で、中心部と外周部の加熱むらを抑え、被加熱物の均一
加熱を可能にする。
で、中心部と外周部の加熱むらを抑え、被加熱物の均一
加熱を可能にする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を達成
するために、加熱室内の給電口と対向する加熱室の壁面
にターンテーブルの方向に傾斜面を設けたものである。
するために、加熱室内の給電口と対向する加熱室の壁面
にターンテーブルの方向に傾斜面を設けたものである。
【０００６】上記発明によれば給電口から放射され，被
加熱物に直接吸収されなかった高周波電磁波は、ターン
テーブルの方向に向けられた傾斜面に反射しターンテー
ブル上面に集められる。したがって、加熱むら、加熱効
率の向上が図れる。
加熱物に直接吸収されなかった高周波電磁波は、ターン
テーブルの方向に向けられた傾斜面に反射しターンテー
ブル上面に集められる。したがって、加熱むら、加熱効
率の向上が図れる。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明は、本体内に被加熱物を加
熱する加熱室と、高周波電磁波を発生するマグネトロン
と、前記マグネトロンから前記加熱室に高周波電磁波を
導く導波管と、前記加熱室壁面に高周波電磁波を放射す
るための給電口と、前記加熱室内に被加熱物を載置し回
転自在にするターンテーブルとを備え、前記加熱室の給
電口に対向する加熱室の壁面に前記ターンテーブルに向
いた傾斜面を設けたものである。
熱する加熱室と、高周波電磁波を発生するマグネトロン
と、前記マグネトロンから前記加熱室に高周波電磁波を
導く導波管と、前記加熱室壁面に高周波電磁波を放射す
るための給電口と、前記加熱室内に被加熱物を載置し回
転自在にするターンテーブルとを備え、前記加熱室の給
電口に対向する加熱室の壁面に前記ターンテーブルに向
いた傾斜面を設けたものである。
【０００８】そして加熱室の給電口に対向する壁面の一
部がターンテーブルの方向に傾斜しているため、被加熱
物に吸収されなかった高周波電磁波も傾斜面に反射して
ターンテーブル上面に集められるため、加熱むら、加熱
効率の向上が図れる。
部がターンテーブルの方向に傾斜しているため、被加熱
物に吸収されなかった高周波電磁波も傾斜面に反射して
ターンテーブル上面に集められるため、加熱むら、加熱
効率の向上が図れる。
【０００９】
【実施例】（実施例）以下、本発明の実施例について図
１、図２および図３にもとづいて説明する。
１、図２および図３にもとづいて説明する。
【００１０】１は加熱室であり、この加熱室１の底部に
は被加熱物６を載せて回転するターンテーブル５が配設
されている。加熱室１の側壁に給電口４を設け、給電口
４と対向する加熱室１側壁の一部をターンテーブルの方
向に傾斜させ傾斜面７を有している。一方、高周波電磁
波を発生するマグネトロン２は、導波管３を介して加熱
室１の側壁外部に取り付けられている。
は被加熱物６を載せて回転するターンテーブル５が配設
されている。加熱室１の側壁に給電口４を設け、給電口
４と対向する加熱室１側壁の一部をターンテーブルの方
向に傾斜させ傾斜面７を有している。一方、高周波電磁
波を発生するマグネトロン２は、導波管３を介して加熱
室１の側壁外部に取り付けられている。
【００１１】次に動作、作用について説明する。マグネ
トロン２より発生した高周波電磁波は、導波管３を通
り、給電口４より加熱室１内に放射される。給電口４か
ら放射された高周波電磁波の一部は直接被加熱物６に吸
収される。吸収されなかった高周波電磁波もターンテー
ブル５方向を向いた加熱室１の傾斜面７に反射するので
ターンテーブル上の食品に集中し、ターンテーブル５の
中心部も強く加熱することができる。
トロン２より発生した高周波電磁波は、導波管３を通
り、給電口４より加熱室１内に放射される。給電口４か
ら放射された高周波電磁波の一部は直接被加熱物６に吸
収される。吸収されなかった高周波電磁波もターンテー
ブル５方向を向いた加熱室１の傾斜面７に反射するので
ターンテーブル上の食品に集中し、ターンテーブル５の
中心部も強く加熱することができる。
【００１２】このように本発明の実施例の高周波加熱装
置によれば、加熱室１壁面に傾斜面７を設けることによ
り、高周波電磁波を変化させて、ターンテーブル５の中
心部の外周部に比べて加熱が弱い点を改善し、加熱むら
を抑え、被加熱物を均一に加熱することを可能にした。
置によれば、加熱室１壁面に傾斜面７を設けることによ
り、高周波電磁波を変化させて、ターンテーブル５の中
心部の外周部に比べて加熱が弱い点を改善し、加熱むら
を抑え、被加熱物を均一に加熱することを可能にした。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば給電口に対向する加熱室の壁面に傾斜面を設け
ることにより、ターンテーブル中心部と外周部の加熱む
らを抑え、被加熱物を均一に加熱することができる。尚
その傾斜部はプレス加工で容易に得ることができ、しか
も形状だけで加熱むらを抑えるため、従来と同一コスト
で性能向上が可能となる。
によれば給電口に対向する加熱室の壁面に傾斜面を設け
ることにより、ターンテーブル中心部と外周部の加熱む
らを抑え、被加熱物を均一に加熱することができる。尚
その傾斜部はプレス加工で容易に得ることができ、しか
も形状だけで加熱むらを抑えるため、従来と同一コスト
で性能向上が可能となる。
【図１】本発明の実施例の高周波加熱装置の要部正面断
面図
面図
【図２】同高周波加熱装置の要部水平断面図
【図３】同高周波加熱装置の一部切り欠き斜視図
【図４】従来の高周波加熱装置の要部正面断面図
【図５】同高周波加熱装置の要部水平断面図
【符号の説明】 １ 加熱室 ２ マグネトロン ３ 導波管 ４ 給電口 ５ ターンテーブル ６ 被加熱物 ７ 傾斜面
Claims (1)
- 【請求項１】本体内に被加熱物を加熱する加熱室と、高
周波電磁波を発生するマグネトロンと、前記マグネトロ
ンから前記加熱室に高周波電磁波を導く導波管と、前記
加熱室壁面に高周波電磁波を放射するための給電口と、
前記加熱室内に被加熱物を載置し回転自在にするターン
テーブルとを備え、前記加熱室の給電口に対向する加熱
室の壁面に前記ターンテーブルに向いた傾斜面を備えた
高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018602A JPH11214143A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10018602A JPH11214143A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214143A true JPH11214143A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=11976202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10018602A Pending JPH11214143A (ja) | 1998-01-30 | 1998-01-30 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11214143A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396765B1 (ko) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | 엘지전자 주식회사 | 전자렌지의 균일가열구조 |
| JP2007232913A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Canon Inc | 画像加熱装置 |
| JP2013137967A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波加熱処理装置および処理方法 |
| JP2013152919A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-08-08 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波加熱処理装置および処理方法 |
-
1998
- 1998-01-30 JP JP10018602A patent/JPH11214143A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100396765B1 (ko) * | 2000-08-23 | 2003-09-02 | 엘지전자 주식회사 | 전자렌지의 균일가열구조 |
| JP2007232913A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Canon Inc | 画像加熱装置 |
| JP2013137967A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波加熱処理装置および処理方法 |
| JP2013152919A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-08-08 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波加熱処理装置および処理方法 |
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