JPH09245958A - マイクロ波解凍加熱装置 - Google Patents
マイクロ波解凍加熱装置Info
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- JPH09245958A JPH09245958A JP8106394A JP10639496A JPH09245958A JP H09245958 A JPH09245958 A JP H09245958A JP 8106394 A JP8106394 A JP 8106394A JP 10639496 A JP10639496 A JP 10639496A JP H09245958 A JPH09245958 A JP H09245958A
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Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来のマイクロ波解凍加熱装置で被加熱物を
解凍加熱調理すると、容器内の食品はその上面部分や外
縁部分ほど温度が高くなり、下面部分や中心部分ほど温
度が低くなる傾向が有る。テーブルの回転やスターラー
の作用によってもこの傾向は余り改善されない。これは
被加熱物に照射されるマイクロ波が内壁で乱反射され被
加熱物への集積度が低くなり、且つ照射される面が偏る
ために加熱が不均一になるからである。 【解決手段】 そこで上記の課題を、マイクロ波解凍加
熱装置の解凍加熱室内の内壁面の単数あるいは複数面を
凹面あるいは回転放物面とすることにより被加熱物に照
射されるマイクロ波の集積度を高くし、且つ照射される
マイクロ波の照射方向を調整し、加熱の均一性を高める
ことにより解決した。
解凍加熱調理すると、容器内の食品はその上面部分や外
縁部分ほど温度が高くなり、下面部分や中心部分ほど温
度が低くなる傾向が有る。テーブルの回転やスターラー
の作用によってもこの傾向は余り改善されない。これは
被加熱物に照射されるマイクロ波が内壁で乱反射され被
加熱物への集積度が低くなり、且つ照射される面が偏る
ために加熱が不均一になるからである。 【解決手段】 そこで上記の課題を、マイクロ波解凍加
熱装置の解凍加熱室内の内壁面の単数あるいは複数面を
凹面あるいは回転放物面とすることにより被加熱物に照
射されるマイクロ波の集積度を高くし、且つ照射される
マイクロ波の照射方向を調整し、加熱の均一性を高める
ことにより解決した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マイクロ波解凍加
熱装置の解凍加熱室の内壁面の単数あるいは複数面が、
テーブルの略中心部が焦点位置となる凹面あるいは回転
放物面により構成されている。これにより従来のマイク
ロ波解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ波の
解凍加熱室の内壁面での乱反射による損失が抑制され、
テーブルの略中心部にある被加熱物に対して照射される
マイクロ波の集積度が高まり、その結果加熱効率を向上
させたマイクロ波解凍加熱装置に関するものである。
又、解凍加熱室の内壁面の単数あるいは複数面が、凹面
あるいは回転放物面により構成され、該凹面あるいは回
転放物面の略焦点位置にマイクロ波発生機のマイクロ波
投入口が設置され、該凹面あるいは回転放物面にて反射
されたマイクロ波が略平行な放射になるように構成され
ているか、あるいは解凍加熱室の内壁面の単数あるいは
複数面が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該
凹面あるいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波反射
板が設置され、さらにマイクロ波が該マイクロ波反射板
にて反射されるようにマイクロ波発生機のマイクロ波投
入口が設置され、そして該凹面あるいは回転放物面にて
反射されたマイクロ波が略平行な放射になるように構成
されている。これにより従来のマイクロ波解凍加熱装置
と比較して、照射されるマイクロ波の解凍加熱室の内壁
面での乱反射による損失が抑制され、テーブル上の被加
熱物に対して均一にマイクロ波を照射でき、その結果加
熱の均一性を向上させたマイクロ波解凍加熱装置に関す
るものである。
熱装置の解凍加熱室の内壁面の単数あるいは複数面が、
テーブルの略中心部が焦点位置となる凹面あるいは回転
放物面により構成されている。これにより従来のマイク
ロ波解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ波の
解凍加熱室の内壁面での乱反射による損失が抑制され、
テーブルの略中心部にある被加熱物に対して照射される
マイクロ波の集積度が高まり、その結果加熱効率を向上
させたマイクロ波解凍加熱装置に関するものである。
又、解凍加熱室の内壁面の単数あるいは複数面が、凹面
あるいは回転放物面により構成され、該凹面あるいは回
転放物面の略焦点位置にマイクロ波発生機のマイクロ波
投入口が設置され、該凹面あるいは回転放物面にて反射
されたマイクロ波が略平行な放射になるように構成され
ているか、あるいは解凍加熱室の内壁面の単数あるいは
複数面が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該
凹面あるいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波反射
板が設置され、さらにマイクロ波が該マイクロ波反射板
にて反射されるようにマイクロ波発生機のマイクロ波投
入口が設置され、そして該凹面あるいは回転放物面にて
反射されたマイクロ波が略平行な放射になるように構成
されている。これにより従来のマイクロ波解凍加熱装置
と比較して、照射されるマイクロ波の解凍加熱室の内壁
面での乱反射による損失が抑制され、テーブル上の被加
熱物に対して均一にマイクロ波を照射でき、その結果加
熱の均一性を向上させたマイクロ波解凍加熱装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】まず図４により従来の技術について説明
する。従来よりマイクロ波解凍加熱装置での解凍加熱調
理は、解凍加熱室１内のテーブル２に被加熱物８を載
せ、これを駆動部３にて駆動させつつ、マイクロ波発生
機４より供給されるマイクロ波をスターラー５で攪拌し
ながら照射することで行われている。ところが被加熱物
８を従来の上記マイクロ波解凍加熱装置により解凍加熱
調理すると、図５に見られるように、被加熱物８の容器
内の食品はその上面部分や外縁部分（容器の側面の内側
に接している部分）ほど温度が高くなり、食品のその下
面部分（容器の底面の内側に接している部分）や中心部
分へ行くほど温度が低くなる傾向がある。これは被加熱
物８に上面あるいは側面よりマイクロ波が照射される
と、マイクロ波電力は食品の表面より順に吸収され減衰
して行くため、食品の中心部分へはなかなか浸透して行
かないからである。従来のマイクロ波解凍加熱装置では
この欠陥を補うために解凍加熱室１内でのスターラー５
によるマイクロ波の攪拌、テーブル２の回転、揺動等に
よる照射されるマイクロ波の平均化、さらには解凍加熱
室１内壁に設置した凹凸、フィン等の反射板でのマイク
ロ波の乱反射等の手法を用いている。しかし、被加熱物
８の下面部分（容器の底面の内側に接している部分）に
はそれでもほとんどマイクロ波が照射されることは無
く、温度は低くなる傾向のままである。そして、この状
態で解凍加熱調理が続くと、その上面部分や外縁部分
（容器の側面の内側に接している部分）はマイクロ波電
力の吸収の積算量がどんどん多くなり、温度はどんどん
高くなって行く。さらに一度解凍された食品は冷凍され
ている時よりも一般に誘電率が高くなるため、照射され
るマイクロ波をさらに良く吸収するようになり、益々温
度は高くなって行く。こうして解凍加熱調理後の容器内
の食品は大略表面部分は十分に解凍加熱調理された状態
となるが、中心部分は温度が上がらず、極端な場合には
未解凍のままで不十分な解凍加熱調理状態となる。容器
内の食品が解凍部分と未解凍部分とを混在させて有する
ような不十分な調理状態のままでは食するに全く適さ
ず、たとえ食されることがあっても、その食品として本
来あるべき味覚や食感は全く損なわれてしまっていた。
する。従来よりマイクロ波解凍加熱装置での解凍加熱調
理は、解凍加熱室１内のテーブル２に被加熱物８を載
せ、これを駆動部３にて駆動させつつ、マイクロ波発生
機４より供給されるマイクロ波をスターラー５で攪拌し
ながら照射することで行われている。ところが被加熱物
８を従来の上記マイクロ波解凍加熱装置により解凍加熱
調理すると、図５に見られるように、被加熱物８の容器
内の食品はその上面部分や外縁部分（容器の側面の内側
に接している部分）ほど温度が高くなり、食品のその下
面部分（容器の底面の内側に接している部分）や中心部
分へ行くほど温度が低くなる傾向がある。これは被加熱
物８に上面あるいは側面よりマイクロ波が照射される
と、マイクロ波電力は食品の表面より順に吸収され減衰
して行くため、食品の中心部分へはなかなか浸透して行
かないからである。従来のマイクロ波解凍加熱装置では
この欠陥を補うために解凍加熱室１内でのスターラー５
によるマイクロ波の攪拌、テーブル２の回転、揺動等に
よる照射されるマイクロ波の平均化、さらには解凍加熱
室１内壁に設置した凹凸、フィン等の反射板でのマイク
ロ波の乱反射等の手法を用いている。しかし、被加熱物
８の下面部分（容器の底面の内側に接している部分）に
はそれでもほとんどマイクロ波が照射されることは無
く、温度は低くなる傾向のままである。そして、この状
態で解凍加熱調理が続くと、その上面部分や外縁部分
（容器の側面の内側に接している部分）はマイクロ波電
力の吸収の積算量がどんどん多くなり、温度はどんどん
高くなって行く。さらに一度解凍された食品は冷凍され
ている時よりも一般に誘電率が高くなるため、照射され
るマイクロ波をさらに良く吸収するようになり、益々温
度は高くなって行く。こうして解凍加熱調理後の容器内
の食品は大略表面部分は十分に解凍加熱調理された状態
となるが、中心部分は温度が上がらず、極端な場合には
未解凍のままで不十分な解凍加熱調理状態となる。容器
内の食品が解凍部分と未解凍部分とを混在させて有する
ような不十分な調理状態のままでは食するに全く適さ
ず、たとえ食されることがあっても、その食品として本
来あるべき味覚や食感は全く損なわれてしまっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のように食品が不
十分な調理状態になるのはマイクロ波が解凍加熱室１の
内壁面での乱反射による損失が大きく、且つテーブル２
上の被加熱物８に十分に集中的に照射され無かったり、
あるいは被加熱物８の下面部分（容器の底面の内側に接
している部分）にはほとんど照射され無かったりするた
めである。そこでこの問題を解決するには、テーブル２
上の被加熱物８に照射されるマイクロ波の集積度を高め
るか、あるいはテーブル２上の被加熱物８の全表面に対
して略均一にマイクロ波が照射されるようにするかすれ
ば良い。そこで本発明では、この問題をマイクロ波解凍
加熱装置の解凍加熱室１内の内壁面の単数あるいは複数
面を凹面あるいは回転放物面とすることにより解決する
手段を提供することを目的とする。
十分な調理状態になるのはマイクロ波が解凍加熱室１の
内壁面での乱反射による損失が大きく、且つテーブル２
上の被加熱物８に十分に集中的に照射され無かったり、
あるいは被加熱物８の下面部分（容器の底面の内側に接
している部分）にはほとんど照射され無かったりするた
めである。そこでこの問題を解決するには、テーブル２
上の被加熱物８に照射されるマイクロ波の集積度を高め
るか、あるいはテーブル２上の被加熱物８の全表面に対
して略均一にマイクロ波が照射されるようにするかすれ
ば良い。そこで本発明では、この問題をマイクロ波解凍
加熱装置の解凍加熱室１内の内壁面の単数あるいは複数
面を凹面あるいは回転放物面とすることにより解決する
手段を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】そこで本発明では上記課
題を以下に示す第一〜第三の手段により解決した。まず
第一に、被加熱物８を解凍加熱調理するための解凍加熱
室１内に被加熱物８を載せるテーブル２と、該テーブル
２を駆動するための駆動部３と、マイクロ波発生機４
と、発生したマイクロ波を攪乱するスターラー５等が設
置されたマイクロ波解凍加熱装置において、該解凍加熱
室１の内壁面の単数あるいは複数面が、テーブル２の略
中心部が焦点位置となる凹面あるいは回転放物面により
構成するものである。第二に、上記解凍加熱室１の内壁
面の単数あるいは複数面が、凹面あるいは回転放物面に
より構成され、該凹面あるいは回転放物面の略焦点位置
にマイクロ波発生機４のマイクロ波投入口６が設置さ
れ、該凹面あるいは回転放物面にて反射されたマイクロ
波が略平行な放射になるように構成するものである。第
三に、上記解凍加熱室１の内壁面の単数あるいは複数面
が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該凹面あ
るいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波反射板７が
設置され、さらにマイクロ波が該マイクロ波反射板７に
て反射されるようにマイクロ波発生機４のマイクロ波投
入口６が設置され、そして該凹面あるいは回転放物面に
て反射されたマイクロ波が略平行な放射になるように構
成するものである。
題を以下に示す第一〜第三の手段により解決した。まず
第一に、被加熱物８を解凍加熱調理するための解凍加熱
室１内に被加熱物８を載せるテーブル２と、該テーブル
２を駆動するための駆動部３と、マイクロ波発生機４
と、発生したマイクロ波を攪乱するスターラー５等が設
置されたマイクロ波解凍加熱装置において、該解凍加熱
室１の内壁面の単数あるいは複数面が、テーブル２の略
中心部が焦点位置となる凹面あるいは回転放物面により
構成するものである。第二に、上記解凍加熱室１の内壁
面の単数あるいは複数面が、凹面あるいは回転放物面に
より構成され、該凹面あるいは回転放物面の略焦点位置
にマイクロ波発生機４のマイクロ波投入口６が設置さ
れ、該凹面あるいは回転放物面にて反射されたマイクロ
波が略平行な放射になるように構成するものである。第
三に、上記解凍加熱室１の内壁面の単数あるいは複数面
が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該凹面あ
るいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波反射板７が
設置され、さらにマイクロ波が該マイクロ波反射板７に
て反射されるようにマイクロ波発生機４のマイクロ波投
入口６が設置され、そして該凹面あるいは回転放物面に
て反射されたマイクロ波が略平行な放射になるように構
成するものである。
【０００５】
【作用】上記の第一の手段によれば、従来のマイクロ波
解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ波の解凍
加熱室１の内壁面での乱反射による損失が抑制され、集
積度がテーブルの略中心部に載せてある被加熱物８にお
いて高まり、その結果加熱効率を向上させる。上記の第
二、第三の手段によれば、従来のマイクロ波解凍加熱装
置と比較して、照射されるマイクロ波の解凍加熱室１の
内壁面での乱反射による損失が抑制され、テーブル上の
被加熱物８に対して均一にマイクロ波を照射でき、その
結果加熱の均一性を向上させる。
解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ波の解凍
加熱室１の内壁面での乱反射による損失が抑制され、集
積度がテーブルの略中心部に載せてある被加熱物８にお
いて高まり、その結果加熱効率を向上させる。上記の第
二、第三の手段によれば、従来のマイクロ波解凍加熱装
置と比較して、照射されるマイクロ波の解凍加熱室１の
内壁面での乱反射による損失が抑制され、テーブル上の
被加熱物８に対して均一にマイクロ波を照射でき、その
結果加熱の均一性を向上させる。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に図１、図２、図３により、
上記の第一〜第三の各手段による実施例を示す。まず図
１により第一の手段について述べる。マイクロ波解凍加
熱装置には容器と食品とより構成される被加熱物８を解
凍加熱調理するための解凍加熱室１内のテーブル２と、
該テーブル２を駆動するための駆動部３と、マイクロ波
発生機４等が設置されている。そこでテーブル２に被加
熱物８を載せ、これを駆動部３にて駆動させつつ、マイ
クロ波発生機４より供給されるマイクロ波を照射する。
この実施例では解凍加熱室１の左右上下側の４内壁面が
凹面により構成されており、各々の凹面の焦点位置はテ
ーブル２の略中心部（被加熱物８の底面の略中心部）に
ある。一般に凹面には、その中心軸近傍の領域では中心
軸に略平行に入射する電磁波を焦点位置に集束させる作
用が有る。故に、マイクロ波発生機４より供給されたマ
イクロ波は各々の凹面にて反射される都度徐々に、その
内の多くの割合の照射量がテーブル２の略中心部に集束
されるようになる。これによりテーブル２上の被加熱物
８へのマイクロ波の集積度が高くなり、従って加熱効率
は向上する。特に底面部の凹面は解凍加熱室１の底部に
回り込んで来たマイクロ波をテーブル２の底面より、そ
の略中心部に集束させられるために、被加熱物８の下面
部分（容器の底面の内側に接している部分）の加熱効率
を向上させるのに効果的である。この実施例では解凍加
熱室１の左右上下の４内壁面が凹面としているが、要求
される製品仕様により任意の複数面を凹面とすれば良
い。又、凹面の代わりに回転放物面でも良いし、凹面と
回転放物面との任意の組合せでも良い。回転放物面にも
凹面と同様に中心軸に略平行に入射する電磁波を焦点位
置に集束させる作用が有る。
上記の第一〜第三の各手段による実施例を示す。まず図
１により第一の手段について述べる。マイクロ波解凍加
熱装置には容器と食品とより構成される被加熱物８を解
凍加熱調理するための解凍加熱室１内のテーブル２と、
該テーブル２を駆動するための駆動部３と、マイクロ波
発生機４等が設置されている。そこでテーブル２に被加
熱物８を載せ、これを駆動部３にて駆動させつつ、マイ
クロ波発生機４より供給されるマイクロ波を照射する。
この実施例では解凍加熱室１の左右上下側の４内壁面が
凹面により構成されており、各々の凹面の焦点位置はテ
ーブル２の略中心部（被加熱物８の底面の略中心部）に
ある。一般に凹面には、その中心軸近傍の領域では中心
軸に略平行に入射する電磁波を焦点位置に集束させる作
用が有る。故に、マイクロ波発生機４より供給されたマ
イクロ波は各々の凹面にて反射される都度徐々に、その
内の多くの割合の照射量がテーブル２の略中心部に集束
されるようになる。これによりテーブル２上の被加熱物
８へのマイクロ波の集積度が高くなり、従って加熱効率
は向上する。特に底面部の凹面は解凍加熱室１の底部に
回り込んで来たマイクロ波をテーブル２の底面より、そ
の略中心部に集束させられるために、被加熱物８の下面
部分（容器の底面の内側に接している部分）の加熱効率
を向上させるのに効果的である。この実施例では解凍加
熱室１の左右上下の４内壁面が凹面としているが、要求
される製品仕様により任意の複数面を凹面とすれば良
い。又、凹面の代わりに回転放物面でも良いし、凹面と
回転放物面との任意の組合せでも良い。回転放物面にも
凹面と同様に中心軸に略平行に入射する電磁波を焦点位
置に集束させる作用が有る。
【０００７】次に図２により第二の手段について述べ
る。この実施例では解凍加熱室１の右側の内壁面が凹面
により構成されており、その凹面の焦点にはマイクロ波
発生機４より供給されるマイクロ波を照射するマイクロ
波投入口６が凹面と相対するように設置されている。一
般に凹面には、焦点位置より放射された電磁波をその中
心軸近傍の領域では中心軸に略平行に反射させる作用が
有る。故に、マイクロ波投入口６より放射されたマイク
ロ波は凹面により中心軸に略平行に反射される。これに
よりテーブル２上の被加熱物８へのマイクロ波の照射は
被加熱物８の上下方向において略均一となる。従って上
下方向の加熱の均一性が向上する。この実施例では解凍
加熱室１の右側の内壁面が凹面としているが、要求され
る製品仕様により任意の面を凹面とすれば良い。又、凹
面の代わりに回転放物面でも良い。回転放物面にも凹面
と同様に焦点位置より放射された電磁波を中心軸に略平
行に反射させる作用が有る。
る。この実施例では解凍加熱室１の右側の内壁面が凹面
により構成されており、その凹面の焦点にはマイクロ波
発生機４より供給されるマイクロ波を照射するマイクロ
波投入口６が凹面と相対するように設置されている。一
般に凹面には、焦点位置より放射された電磁波をその中
心軸近傍の領域では中心軸に略平行に反射させる作用が
有る。故に、マイクロ波投入口６より放射されたマイク
ロ波は凹面により中心軸に略平行に反射される。これに
よりテーブル２上の被加熱物８へのマイクロ波の照射は
被加熱物８の上下方向において略均一となる。従って上
下方向の加熱の均一性が向上する。この実施例では解凍
加熱室１の右側の内壁面が凹面としているが、要求され
る製品仕様により任意の面を凹面とすれば良い。又、凹
面の代わりに回転放物面でも良い。回転放物面にも凹面
と同様に焦点位置より放射された電磁波を中心軸に略平
行に反射させる作用が有る。
【０００８】次に図３により第三の手段について述べ
る。この実施例では、上記第二の手段による実施例と同
様に、解凍加熱室１の右側の内壁面が凹面により構成さ
れているが、その凹面の焦点位置にはマイクロ波反射板
７が凹面と相対するように設置されている。そして凹面
の中心部にはマイクロ波発生機４より供給されるマイク
ロ波を放射するマイクロ波投入口６が設置されている。
そこでマイクロ波投入口６より放射されたマイクロ波は
マイクロ波反射板７により反射され、さらに凹面の中心
軸近傍の領域では中心軸に略平行に反射される。これに
よりテーブル２上の被加熱物８へのマイクロ波の照射は
被加熱物８の上下方向において略均一となる。従って上
下方向の加熱の均一性が向上する。この実施例では解凍
加熱室１の右側の内壁面が凹面としているが、要求され
る製品仕様により任意の面を凹面とすれば良い。又、凹
面の代わりに回転放物面でも良い。回転放物面にも凹面
と同様に焦点位置より放射された電磁波を中心軸に略平
行に反射させる作用が有る。又、マイクロ波投入口６は
凹面の中心部に設置されているが、マイクロ波反射板７
によりマイクロ波が凹面に対して略正確に反射する位置
であれば、解凍加熱室１の上面あるいは底面等の任意の
場所でも良い。
る。この実施例では、上記第二の手段による実施例と同
様に、解凍加熱室１の右側の内壁面が凹面により構成さ
れているが、その凹面の焦点位置にはマイクロ波反射板
７が凹面と相対するように設置されている。そして凹面
の中心部にはマイクロ波発生機４より供給されるマイク
ロ波を放射するマイクロ波投入口６が設置されている。
そこでマイクロ波投入口６より放射されたマイクロ波は
マイクロ波反射板７により反射され、さらに凹面の中心
軸近傍の領域では中心軸に略平行に反射される。これに
よりテーブル２上の被加熱物８へのマイクロ波の照射は
被加熱物８の上下方向において略均一となる。従って上
下方向の加熱の均一性が向上する。この実施例では解凍
加熱室１の右側の内壁面が凹面としているが、要求され
る製品仕様により任意の面を凹面とすれば良い。又、凹
面の代わりに回転放物面でも良い。回転放物面にも凹面
と同様に焦点位置より放射された電磁波を中心軸に略平
行に反射させる作用が有る。又、マイクロ波投入口６は
凹面の中心部に設置されているが、マイクロ波反射板７
によりマイクロ波が凹面に対して略正確に反射する位置
であれば、解凍加熱室１の上面あるいは底面等の任意の
場所でも良い。
【０００９】上記の第一〜第三の各手段による実施例の
凹面あるいは回転放物面の材質としては一般にアルミニ
ウム（Ａｌ）合金が使用されるが、マイクロ波の反射効
率を向上させるために、その表面に無電解メッキ法、ス
パッタリング法等により表面処理を行う方法も有効であ
る。表面処理の材質としてはニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａ
ｇ）、場合によっては金（Ａｕ）等が用いられる。何れ
の場合にも表面でのマイクロ波の損失を抑制する効果を
持っている。
凹面あるいは回転放物面の材質としては一般にアルミニ
ウム（Ａｌ）合金が使用されるが、マイクロ波の反射効
率を向上させるために、その表面に無電解メッキ法、ス
パッタリング法等により表面処理を行う方法も有効であ
る。表面処理の材質としてはニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａ
ｇ）、場合によっては金（Ａｕ）等が用いられる。何れ
の場合にも表面でのマイクロ波の損失を抑制する効果を
持っている。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のマイクロ
波解凍加熱装置を用いることにより、第一に、従来のマ
イクロ波解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ
波の解凍加熱室の内壁面での乱反射による損失が抑制さ
れて、集積度がテーブルの略中心部にある被加熱物８に
おいて高まり、その結果加熱効率を向上させることがで
きる。第二に、従来のマイクロ波解凍加熱装置と比較し
て、照射されるマイクロ波の解凍加熱室の内壁面での乱
反射による損失が抑制されて、テーブル上の被加熱物８
に対して略均一にマイクロ波を照射でき、その結果加熱
の均一性を向上させることができる。
波解凍加熱装置を用いることにより、第一に、従来のマ
イクロ波解凍加熱装置と比較して、照射されるマイクロ
波の解凍加熱室の内壁面での乱反射による損失が抑制さ
れて、集積度がテーブルの略中心部にある被加熱物８に
おいて高まり、その結果加熱効率を向上させることがで
きる。第二に、従来のマイクロ波解凍加熱装置と比較し
て、照射されるマイクロ波の解凍加熱室の内壁面での乱
反射による損失が抑制されて、テーブル上の被加熱物８
に対して略均一にマイクロ波を照射でき、その結果加熱
の均一性を向上させることができる。
【図１】本発明の第一の手段による実施例であるところ
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
【図２】本発明の第二の手段による実施例であるところ
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
【図３】本発明の第三の手段による実施例であるところ
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
の、マイクロ波解凍加熱装置の断面図。
【図４】従来のマイクロ波解凍加熱装置の断面図。
【図５】従来のマイクロ波解凍加熱装置による被加熱物
の解凍加熱後の温度分布の断面図。
の解凍加熱後の温度分布の断面図。
１……解凍加熱室 ２……テーブル ３……駆動部 ４……マイクロ波発生機 ５……スターラー ６……マイクロ波投入口 ７……マイクロ波反射板 ８……被加熱物
Claims (3)
- 【請求項１】 被加熱物を解凍加熱調理するための解凍
加熱室内に被加熱物を載せるテーブルと、該テーブルを
駆動するための駆動部と、マイクロ波発生機と、発生し
たマイクロ波を攪乱するスターラー等が設置されたマイ
クロ波解凍加熱装置において、該解凍加熱室の内壁面の
単数あるいは複数面が、テーブルの略中心部が焦点位置
となる凹面あるいは回転放物面により構成されたことを
特徴とするマイクロ波解凍加熱装置。 - 【請求項２】 上記解凍加熱室の内壁面の単数あるいは
複数面が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該
凹面あるいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波発生
機のマイクロ波投入口が設置され、該凹面あるいは回転
放物面にて反射されたマイクロ波が略平行な放射になる
ように構成されたことを特徴とする特許請求項１のマイ
クロ波解凍加熱装置。 - 【請求項３】 上記解凍加熱室の内壁面の単数あるいは
複数面が、凹面あるいは回転放物面により構成され、該
凹面あるいは回転放物面の略焦点位置にマイクロ波反射
板が設置され、さらにマイクロ波が該マイクロ波反射板
にて反射されるようにマイクロ波発生機のマイクロ波投
入口が設置され、そして該凹面あるいは回転放物面にて
反射されたマイクロ波が略平行な放射になるように構成
されたことを特徴とする特許請求項１のマイクロ波解凍
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8106394A JPH09245958A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | マイクロ波解凍加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8106394A JPH09245958A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | マイクロ波解凍加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09245958A true JPH09245958A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=14432484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8106394A Pending JPH09245958A (ja) | 1996-02-29 | 1996-02-29 | マイクロ波解凍加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09245958A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000267106A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Reyoon Kogyo:Kk | 液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置 |
| CN106616213A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-05-10 | 重庆豆奇食品有限公司 | 一种食品解冻机 |
| CN112752365A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-04 | 广东美的厨房电器制造有限公司 | 搅拌组件和烹饪器具 |
-
1996
- 1996-02-29 JP JP8106394A patent/JPH09245958A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000267106A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Reyoon Kogyo:Kk | 液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置 |
| CN106616213A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-05-10 | 重庆豆奇食品有限公司 | 一种食品解冻机 |
| CN112752365A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-04 | 广东美的厨房电器制造有限公司 | 搅拌组件和烹饪器具 |
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