JPH11214518A - Placement and wiring equipment - Google Patents
Placement and wiring equipmentInfo
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- JPH11214518A JPH11214518A JP10009971A JP997198A JPH11214518A JP H11214518 A JPH11214518 A JP H11214518A JP 10009971 A JP10009971 A JP 10009971A JP 997198 A JP997198 A JP 997198A JP H11214518 A JPH11214518 A JP H11214518A
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- wiring layer
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多層配線プロセスで、任意の配線層で配置配
線を行い、さらに任意の配線層で裏打ち配線を行うとい
う処理を可能とする。
【解決手段】 ピン配線層持ち上げ部7を設けることに
より、セルのピンを製造するための配線層の中の任意の
配線層にピンを発生し、配置配線可能な配線層の種類を
増やし、配置配線の自由度を高める。優先配線層指定部
6を設けることにより、指定した配線層を中心に配置配
線を行い、プロセス的に低抵抗な配線層を指定して、高
速化を図る。最上配線層を指定すれば、FIBによる回
路修正やEBテスターによる解析を容易にする。裏打ち
配線部8を設けることにより、裏打ち配線を行い、配線
幅を広げることなく配線の低抵抗化を行い、高速化を図
る。配線密度の低い配線層で裏打ちを行なうと、チップ
開口率を上げ、製造歩留まりを高める。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To perform processing of arranging and wiring in an arbitrary wiring layer and performing backing wiring in an arbitrary wiring layer in a multilayer wiring process. SOLUTION: By providing a pin wiring layer lifting portion 7, a pin is generated in an arbitrary wiring layer in a wiring layer for manufacturing a pin of a cell, the types of wiring layers that can be arranged and wired are increased, and the arrangement is increased. Increase the flexibility of wiring. By providing the priority wiring layer designating section 6, arrangement and wiring is performed centering on the designated wiring layer, and a wiring layer having low resistance is designated in terms of process, thereby increasing the speed. Specifying the uppermost wiring layer facilitates circuit correction by FIB and analysis by EB tester. By providing the backing wiring portion 8, the backing wiring is performed, the resistance of the wiring is reduced without increasing the wiring width, and the speed is increased. Backing with a wiring layer having a low wiring density increases the chip aperture ratio and increases the manufacturing yield.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体マスクレイ
アウトを配線配置によって設計する際に用いられる配線
配置装置に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a wiring arrangement apparatus used when designing a semiconductor mask layout by wiring arrangement.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、半導体マスクレイアウトを配
置配線によって設計する場合には、回路図から作成した
論理接続情報と、セルを登録したセルライブラリとを、
論理配置配線部で配置配線して作成する手法を用いてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, when a semiconductor mask layout is designed by placement and wiring, logical connection information created from a circuit diagram and a cell library in which cells are registered are
A method is used in which a logical arrangement and wiring is performed by arrangement and wiring.
【0003】以下、従来の配置配線装置について説明す
る。図4は従来の配置配線装置のブロック図であり、1
は入力部、2は入力部1から入力した情報でデータを処
理するCPU、3はセルを登録したセルライブラリ、4
はCPU2とセルライブラリ3とのデータを選択的に合
成して配置配線を行う論理配置配線部、5はCPU2の
結果を出力する出力部である。Hereinafter, a conventional placement and routing apparatus will be described. FIG. 4 is a block diagram of a conventional placement and routing apparatus.
Is an input unit, 2 is a CPU which processes data with information input from the input unit 1, 3 is a cell library in which cells are registered, 4
Is a logical arrangement and wiring unit for selectively synthesizing data of the CPU 2 and the cell library 3 to perform arrangement and wiring, and 5 is an output unit for outputting the result of the CPU 2.
【0004】図5は、従来の配置配線後の平面図であ
り、10はセルX、11はセルY、12はセルX10の
ピンaの1層ピン、13はセルY11のピンbの2層ピ
ン、14は1層ピン12からの配線、15は2層ピン1
3からの配線、16は配線14と配線15とを接続する
コンタクトである。FIG. 5 is a plan view after the conventional arrangement and wiring. Reference numeral 10 denotes a cell X, 11 denotes a cell Y, 12 denotes a pin a of the pin a of the cell X10, and 13 denotes a pin of the pin b of the cell Y11. Pin, 14 is wiring from the first layer pin 12, 15 is the second layer pin 1
Wirings 3 and 16 are contacts for connecting the wirings 14 and 15.
【0005】図6は、図5のA点とB点との間の断面構
造を示している。この図6において、20は半導体基
板、21はLOCOS、22は第1層間膜、23は第2
層間膜、24は第3層間膜、25は第4層間膜、26は
保護膜、27は1層配線、28は第1ビアホール、29
は2層配線である。FIG. 6 shows a cross-sectional structure between points A and B in FIG. In FIG. 6, reference numeral 20 denotes a semiconductor substrate, 21 denotes a LOCOS, 22 denotes a first interlayer film, and 23 denotes a second interlayer film.
An interlayer film, 24 a third interlayer film, 25 a fourth interlayer film, 26 a protective film, 27 a one-layer wiring, 28 a first via hole, 29
Is a two-layer wiring.
【0006】以上のように構成された配置配線装置につ
いて、以下その動作を説明する。まず、図4の入力部1
に入力された回路図が、CPU2で選択される。この
時、CPU2では、入力部1から入力した回路図のセル
X10のピンaとセルY11のピンbが接続していると
いうセルの論理接続情報を抽出する。次に論理接続情報
を論理配置配線部4に送る。次に、セルを登録したセル
ライブラリ3における、セルX10とセルY11とコン
タクト16とのデータを、論理配置配線部4と、CPU
2とに送る。この時、CPU2において、セルX10の
ピンaの配線層が1層ピン12であり、セルY11のピ
ンbの配線層が2層ピン13であるという、基準配線層
情報を抽出する。次に、この基準配線層情報を論理配置
配線部4に送る。この時、論理配置配線部4では、CP
U2からの基準配線層情報と論理接続情報とから、セル
X10のピンaからの配線14は1層配線27で配線を
行うことを判断し、またセルY11のピンbからの配線
15は2層配線29で配線を行うことを判断する。同時
に、論理接続情報を満たすために配線14と配線15と
の接続を行うにはコンタクト16が必要で、コンタクト
16には第1ビアホール28を使用することを判断す
る。次に、セルX10とセルY11の配置配線を、1層
配線27と、第1ビアホール28と、2層配線29とを
使って行う。その結果、入力部1で入力した回路図のマ
スクレイアウトデータを出力部5から出力する。The operation of the arrangement and wiring apparatus configured as described above will be described below. First, the input unit 1 shown in FIG.
Is selected by the CPU 2. At this time, the CPU 2 extracts the logical connection information of the cell indicating that the pin a of the cell X10 and the pin b of the cell Y11 in the circuit diagram input from the input unit 1 are connected. Next, the logical connection information is sent to the logical arrangement and wiring unit 4. Next, the data of the cell X10, the cell Y11, and the contact 16 in the cell library 3 in which the cell has been registered are transferred to the logical layout and wiring unit 4 and the CPU.
Send to 2. At this time, the CPU 2 extracts reference wiring layer information that the wiring layer of the pin a of the cell X10 is the single-layer pin 12 and the wiring layer of the pin b of the cell Y11 is the second layer pin 13. Next, the reference wiring layer information is sent to the logical placement and wiring unit 4. At this time, the logical arrangement and wiring unit 4
Based on the reference wiring layer information and the logical connection information from U2, it is determined that the wiring 14 from the pin a of the cell X10 is to be wired by the single layer wiring 27, and the wiring 15 from the pin b of the cell Y11 is two layers. It is determined that wiring is to be performed using the wiring 29. At the same time, the contact 16 is required to connect the wiring 14 and the wiring 15 to satisfy the logical connection information, and it is determined that the first via hole 28 is used for the contact 16. Next, the layout wiring of the cell X10 and the cell Y11 is performed using the first layer wiring 27, the first via hole 28, and the second layer wiring 29. As a result, the mask layout data of the circuit diagram input by the input unit 1 is output from the output unit 5.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では、セルライブラリ3に登録されているセル
のピン配線層を基準とした配置配線が行われるが、この
配置配線はピン配線層を基準に下層から上層方向へ向か
う方向にしか行えず、配置配線の配線層及び配線時の配
線層方向を自由に指定することができないという問題が
あった。したがって、多層配線プロセスの場合は、上層
に行くほど配線密度が低くなり、FIBでの修正やEB
テスターでの解析が行いにくいという問題があった。However, in the above-mentioned conventional configuration, the placement and routing is performed with reference to the pin wiring layer of the cell registered in the cell library 3. However, this placement and routing is performed with reference to the pin wiring layer. In addition, there is a problem that the operation can be performed only in the direction from the lower layer to the upper layer, and the wiring layer of the arrangement wiring and the wiring layer direction at the time of wiring cannot be freely designated. Therefore, in the case of the multi-layer wiring process, the wiring density becomes lower toward the upper layer, and the correction by the FIB and the EB
There was a problem that analysis with a tester was difficult.
【0008】また、ピンからピン迄の配線は1本しかな
く、配線の低抵抗化を行うと配線の幅が広くなり、配線
面積が大きくなるという問題があった。本発明は上記従
来の問題点を解決するもので、半導体マスクレイアウト
を配置配線によって設計する際に、セルが最初に定義し
ているピンの配線層に拘束されない任意の配線層で配置
配線でき、その際配線する配線層方向を自由に設定で
き、しかも任意の配線層で裏打ち配線を行うことを可能
にした配置配線装置を提供することを目的とする。Further, there is only one wiring from pin to pin, and there is a problem that when the resistance of the wiring is reduced, the width of the wiring is increased and the wiring area is increased. The present invention solves the above-mentioned conventional problems.When designing a semiconductor mask layout by placement and routing, cells can be placed and routed in any wiring layer that is not restricted by the wiring layer of the pin defined first, It is an object of the present invention to provide an arrangement and wiring apparatus in which a wiring layer direction in which wiring is performed can be set freely and backing wiring can be performed in an arbitrary wiring layer.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の配置配線装置は、製造する配線層の中でセ
ルのピンを任意の配線層に発生させるようにし、指定し
た配線層を中心にかつ配線する配線層方向を自由に設定
する配置配線を行い、さらに任意の配線層で裏打ち配線
を行うように構成したものである。In order to solve this problem, a placement and routing apparatus according to the present invention is provided in which a cell pin is generated in an arbitrary wiring layer in a wiring layer to be manufactured, and a designated wiring layer is provided. , And the arrangement and wiring for freely setting the direction of the wiring layer to be wired are performed, and the backing wiring is performed in an arbitrary wiring layer.
【0010】これにより、半導体マスクレイアウトを配
置配線によって設計する際に、任意の配線層で配置配線
し、任意の配線層で裏打ち配線を行うことを可能にし
た、配置配線装置が得られる。[0010] Thus, when designing a semiconductor mask layout by arrangement and wiring, an arrangement and wiring apparatus can be obtained, which can be arranged and wired in an arbitrary wiring layer and can perform backing wiring in an arbitrary wiring layer.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】請求項1に記載の本発明は、入力
部から入力した情報でデータを処理するCPUと、セル
を登録したセルライブラリと、CPUとセルライブラリ
とのデータを選択的に合成して配置配線を行う論理配置
配線部と、CPUの結果を出力する出力部とを備えた配
置配線装置が、さらに、セルにおけるピンを製造するた
めのどの配線層にも対応したピンの発生を行うピン配線
層持ち上げ部を備えている。According to the present invention, a CPU for processing data with information input from an input unit, a cell library in which cells are registered, and data of the CPU and the cell library are selectively stored. A placement and routing apparatus having a logic placement and routing unit for combining and placing and routing, and an output unit for outputting a result of the CPU, further includes generating pins corresponding to any wiring layer for manufacturing pins in the cell. And a pin wiring layer lifting section for performing the following.
【0012】これにより、多層配線プロセスで任意の配
線層にピンを発生させることができる。Thus, pins can be generated in an arbitrary wiring layer in the multilayer wiring process.
【0013】請求項2に記載の本発明は、入力部から入
力した情報でデータを処理するCPUと、セルを登録し
たセルライブラリと、CPUとセルライブラリとのデー
タを選択的に合成して配置配線を行う論理配置配線部
と、CPUの結果を出力する出力部とを備えた配置配線
装置が、さらに、回路図の優先配線層を指定する優先配
線層指定部を備え、前記論理配置配線部は、前記優先配
線層指定部で指定した配線層を中心に論理接続を行なう
ように構成されている。According to a second aspect of the present invention, a CPU for processing data with information input from an input unit, a cell library in which cells are registered, and data of the CPU and the cell library are selectively synthesized and arranged. A placement and routing apparatus having a logical placement and routing unit for performing routing and an output unit for outputting a result of the CPU, further comprising a priority wiring layer designating unit for designating a priority wiring layer of a circuit diagram; Are configured to perform logical connection centering on the wiring layer specified by the priority wiring layer specifying unit.
【0014】これにより、指定した配線層を中心に配置
配線を行なうことができる。Thus, the arrangement and wiring can be performed centering on the specified wiring layer.
【0015】請求項3に記載の本発明は、入力部から入
力した情報でデータを処理するCPUと、セルを登録し
たセルライブラリと、CPUとセルライブラリとのデー
タを選択的に合成して配置配線を行う論理配置配線部
と、CPUの結果を出力する出力部とを備えた配置配線
装置が、さらに、配置配線の裏打ち配線を行う裏打ち配
線部を備えている。According to a third aspect of the present invention, there is provided a CPU for processing data with information input from an input unit, a cell library in which cells are registered, and data of the CPU and the cell library selectively synthesized and arranged. A placement and routing apparatus including a logical placement and routing unit for performing routing and an output unit for outputting a result of the CPU further includes a backing routing unit for performing backing routing of the placement and routing.
【0016】これにより、裏打ち配線部によってピンか
らピン迄の配線抵抗を減らすことができる。Thus, the wiring resistance from pin to pin can be reduced by the backing wiring portion.
【0017】以下、本発明の実施の形態について、図1
から図3を用いて説明する。図1は、本発明の実施の形
態にもとづく配置配線装置のブロック図を示すものであ
る。この図1において、6は多層配線の中でどの配線層
を優先して配置配線を行うかを指定する優先配線層指定
部、7はセルライブラリ3に登録されているセルのピン
配線層を任意の配線層に対応させるピン配線層持ち上げ
部、8は配置配線時の配線に対して裏打ちの配線を行う
裏打ち配線部である。なお、1は入力部、2はCPU、
3はセルライブラリ、4は論理配置配線部、5は出力部
で、これらは従来例の構成と同じものである。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows a block diagram of a placement and routing apparatus according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 6 denotes a priority wiring layer designating unit for designating which wiring layer in the multilayer wiring is to be preferentially placed and routed, and 7 designates a pin wiring layer of a cell registered in the cell library 3 as desired. Reference numeral 8 denotes a backing wiring portion which performs backing wiring with respect to the wiring at the time of placement and wiring. 1 is an input unit, 2 is a CPU,
Reference numeral 3 denotes a cell library, 4 denotes a logical arrangement and wiring unit, and 5 denotes an output unit, which are the same as those of the conventional example.
【0018】図2は、本発明の実施の形態における配置
配線後の平面図であり、17aはセルX10のピンaの
多層配線対応ピン、17bはセルY11のピンbの多層
配線対応ピン、18はセルX10のピンaとセルY11
のピンbを結ぶ論理配置配線、19はセルX10のピン
aとセルY11のピンbを結ぶ裏打ち配線である。な
お、セルX10とセルY11とは、従来例の構成と同じ
ものである。FIG. 2 is a plan view after the arrangement and wiring according to the embodiment of the present invention, wherein 17a is a pin corresponding to the multilayer wiring of the pin a of the cell X10, 17b is a pin corresponding to the multilayer wiring of the pin b of the cell Y11, 18 Is the pin a of the cell X10 and the cell Y11
And 19 is a backing wire connecting the pin a of the cell X10 and the pin b of the cell Y11. The cell X10 and the cell Y11 have the same configuration as the conventional example.
【0019】図3は、図2のA点とB点との間の断面構
造を示す。ここで30は第2ビアホール、31は3層配
線、32は第3ビアホール、33は4層配線である。な
お、20は半導体基板、21はLOCOS、22は第1
層間膜、23は第2層間膜、24は第3層間膜、25は
第4層間膜、26は保護膜、27は1層配線、28は第
1ビアホール、29は2層配線で、これらは従来例の構
成と同じものである。FIG. 3 shows a cross-sectional structure between points A and B in FIG. Here, reference numeral 30 denotes a second via hole, 31 denotes a three-layer wiring, 32 denotes a third via hole, and 33 denotes a four-layer wiring. 20 is a semiconductor substrate, 21 is a LOCOS, 22 is a first substrate.
An interlayer film, 23 is a second interlayer film, 24 is a third interlayer film, 25 is a fourth interlayer film, 26 is a protective film, 27 is a single layer wiring, 28 is a first via hole, and 29 is a two layer wiring. This is the same as the configuration of the conventional example.
【0020】以上のように構成された配置配線装置につ
いて、以下その動作を説明する。まず、図1における入
力部1に入力された回路図が、CPU2で選択される。
この時、CPU2では、入力部1から入力した回路図の
セルX10のピンaとセルY11のピンbとが接続して
いるという、セルの論理接続情報を抽出する。次にこの
論理接続情報は、論理配置配線部4と裏打ち配線部8と
に送られる。またCPUは、入力部1から入力した製造
可能な配線層数と優先配線情報と、裏打ち配線を行う信
号とを、優先配線層指定部6に送る。The operation of the arrangement and wiring apparatus configured as described above will be described below. First, the circuit diagram input to the input unit 1 in FIG.
At this time, the CPU 2 extracts cell logical connection information indicating that the pin a of the cell X10 and the pin b of the cell Y11 of the circuit diagram input from the input unit 1 are connected. Next, the logical connection information is sent to the logical arrangement wiring unit 4 and the backing wiring unit 8. Further, the CPU sends the number of manufacturable wiring layers and the priority wiring information input from the input unit 1 and a signal for backing wiring to the priority wiring layer designation unit 6.
【0021】優先配線層指定部6は、論理配置配線には
主に4層配線33を使用し、裏打ち配線には主に2層配
線29を使うことを判断する基準配線層情報を作成し、
この基準配線層情報を、ピン配線層持ち上げ部7と、論
理配置配線部4と、裏打ち配線部8とに送る。また、セ
ルを登録したセルライブラリ3におけるセルX10とセ
ルY11とのデータを、CPU2と、ピン配線層持ち上
げ部7とに送る。The priority wiring layer designating section 6 creates reference wiring layer information for judging that the four-layer wiring 33 is mainly used for the logical layout wiring and the two-layer wiring 29 is mainly used for the backing wiring.
This reference wiring layer information is sent to the pin wiring layer lifting section 7, the logical arrangement wiring section 4, and the backing wiring section 8. Further, the data of the cell X10 and the cell Y11 in the cell library 3 in which the cell is registered is sent to the CPU 2 and the pin wiring layer lifting section 7.
【0022】CPU2では、セルX10のピンaの配線
層が1層ピン12であることと、セルY11のピンbの
配線層が2層ピン13であることとを判断し、判断した
ピンのイニシャル配線層情報をピン配線層持ち上げ部7
に送る。The CPU 2 determines that the wiring layer of the pin a of the cell X10 is the single-layer pin 12 and that the wiring layer of the pin b of the cell Y11 is the two-layer pin 13, and initializes the determined pin. Wiring layer information is transferred to pin wiring layer lifting section 7
Send to
【0023】ピン配線層持ち上げ部7では、セルX10
のピンaとセルY11のピンbを多層対応ピン17a、
17bに置き換える。同時に、基準配線層情報とイニシ
ャル配線層情報とから判断して、セルX10のピンaに
つきイニシャルの1層でなく基準配線層情報の2層と4
層で配置配線が行えるように、ピンの属性を変更する。
同時に、セルY11のピンbにつきイニシャルの2層だ
けでなく基準配線層情報の2層と4層で配置配線が行え
るように、ピンの属性を変更する。次に、変更したセル
X10とセルY11のデータをセルライブラリ3に送
る。In the pin wiring layer lifting section 7, the cell X10
Pin a of the cell Y11 and the pin b of the cell Y11,
Replace with 17b. At the same time, judging from the reference wiring layer information and the initial wiring layer information, it is determined that the pin a of the cell X10 is not one layer of the initial but two layers of the reference wiring layer information.
Change the attributes of the pins so that you can place and route them in layers.
At the same time, the attribute of the pin b is changed so that the pin b of the cell Y11 can be arranged and wired not only in the initial two layers but also in the second and fourth layers of the reference wiring layer information. Next, the data of the changed cells X10 and Y11 is sent to the cell library 3.
【0024】次に、このセルライブラリ3におけるセル
X10とセルY11のデータを、論理配置配線部4に送
る。論理配置配線部4では、基準配線情報を基準に配置
配線を行うように判断し、4層配線33でセルX10の
ピンaとセルY11のピンbの論理配置配線を行う。Next, the data of the cell X10 and the cell Y11 in the cell library 3 are sent to the logical arrangement and wiring section 4. The logical arrangement and wiring unit 4 determines to perform the arrangement and wiring based on the reference wiring information, and performs the logical arrangement and wiring of the pin a of the cell X10 and the pin b of the cell Y11 by the four-layer wiring 33.
【0025】裏打ち配線部8では、基準配線情報を基準
に裏打ち配線を行うように判断し、2層配線29でセル
X10のピンaとセルY11のピンbとの裏打ち配線を
行う。The backing wiring section 8 determines to perform backing wiring based on the reference wiring information, and performs backing wiring between the pin a of the cell X10 and the pin b of the cell Y11 using the two-layer wiring 29.
【0026】その結果、入力部1で入力した回路図のマ
スクレイアウトデータを出力部5から出力する。As a result, the mask layout data of the circuit diagram input by the input unit 1 is output from the output unit 5.
【0027】以上のように本実施の形態によれば、ピン
配線層持ち上げ部7でセルのピンを任意の配線層に設定
することで、任意の配線層での配置配線ができる。ま
た、優先配線層指定部6で、優先的に使用する配線層を
指定することで、特性的に良い配線を選んだり解析しや
すい配線を使ったりできる。また、配線を行う配線層の
方向を自由に設定することで、配置配線の自由度を増や
すことができる。裏打ち配線部8により任意の配線で裏
打ちを行うことで、ピンからピンまでの低抵抗化が図れ
ると同時に配線部の製造歩留まりを高めることができ
る。As described above, according to this embodiment, the pin wiring of the cell is set to an arbitrary wiring layer by the pin wiring layer lifting section 7, so that the arrangement and wiring can be performed at an arbitrary wiring layer. In addition, by specifying the wiring layer to be used preferentially by the priority wiring layer specifying unit 6, it is possible to select a wiring with good characteristics or use a wiring that is easy to analyze. In addition, by freely setting the direction of the wiring layer where the wiring is performed, the degree of freedom of the arrangement wiring can be increased. By backing with an arbitrary wiring by the backing wiring portion 8, the resistance from pin to pin can be reduced, and the manufacturing yield of the wiring portion can be increased.
【0028】なお、上記の実施の形態においては、セル
のピン位置に全ての配線層で対応可能な多層配線対応ピ
ンを使用したが、イニシャルのピン配線層よりも上層の
全ての多層配線対応ピンをそれぞれ割り当ててもよい。
また、セルのピン位置で必要な配線層のピンを作成でき
ない場合は、セル枠を越えてピンを作成し、再度セル枠
を定義し直してセル作成を行うようにしてもよい。In the above-described embodiment, the multi-layer wiring corresponding pins which can be used in all the wiring layers at the pin positions of the cell are used. May be assigned respectively.
Further, when it is not possible to create a necessary wiring layer pin at the cell pin position, a pin may be created beyond the cell frame, and the cell frame may be defined again to create a cell.
【0029】[0029]
【発明の効果】本発明によると、ピン配線層持ち上げ部
を設けることにより、セルのピンを製造する配線層の中
で任意の配線層にピンを発生して、配置配線可能な配線
層の種類を増やし、配置配線の自由度を高めることがで
きる。According to the present invention, by providing a pin wiring layer lifting portion, a pin can be generated in an arbitrary wiring layer in a wiring layer for manufacturing a pin of a cell, and a type of wiring layer that can be arranged and wired. And the degree of freedom in arrangement and wiring can be increased.
【0030】また優先配線層指定部を設けることによ
り、指定した配線層を中心に配置配線を行え、プロセス
的に低抵抗な配線層を指定して高速化を図ることができ
る。最上配線層を指定すれば、FIBによる回路修正や
EBテスターによる解析を容易に行うことができる。ま
た、配線の配線層方向を自由に設定することで、従来の
下層から上層方向への配線方式に対し上層から下層方向
の配線方法も採用でき、配置配線方法の自由度が増やせ
る。Further, by providing the priority wiring layer designating section, it is possible to arrange and route the wiring with the designated wiring layer as a center, and it is possible to specify a wiring layer having a low resistance in terms of process and to increase the speed. If the uppermost wiring layer is designated, circuit correction by FIB and analysis by EB tester can be easily performed. In addition, by freely setting the wiring layer direction of the wiring, a wiring method from the upper layer to the lower layer can be adopted as compared with the conventional wiring method from the lower layer to the upper layer, and the degree of freedom in the arrangement and wiring method can be increased.
【0031】裏打ち配線部を設けることにより、裏打ち
配線を行って、配線幅を広げることなく配線の低抵抗化
を行うことができ、高速化が図れる。特に微細化プロセ
スでは、配線での遅延が支配的になるので高速化の効果
が大きい。配線密度の低い配線層で裏打ちを行なえば、
チップ開口率を上げて製造歩留まりを高めることができ
る。By providing the backing wiring portion, the backing wiring can be performed, and the resistance of the wiring can be reduced without increasing the wiring width, and the speed can be increased. In particular, in the miniaturization process, the delay in wiring becomes dominant, so that the effect of increasing the speed is great. By backing with a wiring layer with low wiring density,
The manufacturing yield can be increased by increasing the chip aperture ratio.
【0032】よって本発明によれば、半導体マスクレイ
アウトを配置配線によって設計する際に、セルが最初に
定義しているピンの配線層に拘束されない任意の配線層
で配置配線を行うことができ、その際に配線する配線層
方向を自由に設定することができる。さらに任意の配線
層で裏打ち配線を行うことができる、優れた配置配線装
置を実現できるものである。Thus, according to the present invention, when designing a semiconductor mask layout by placement and routing, placement and routing can be performed on any wiring layer that is not restricted by the wiring layer of the pin whose cell is first defined, At that time, the direction of the wiring layer for wiring can be freely set. Further, it is possible to realize an excellent arrangement and wiring device that can perform backing wiring with an arbitrary wiring layer.
【図1】本発明の実施の形態における配置配線装置のブ
ロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a placement and routing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態における配置配線後の平面
図である。FIG. 2 is a plan view after arrangement and wiring according to the embodiment of the present invention.
【図3】図2におけるA点とB点との間の断面図であ
る。FIG. 3 is a sectional view between a point A and a point B in FIG. 2;
【図4】従来の配置配線装置のブロック図である。FIG. 4 is a block diagram of a conventional placement and routing apparatus.
【図5】従来の配置配線後の平面図である。FIG. 5 is a plan view after a conventional arrangement and wiring.
【図6】図5におけるA点とB点との間の断面図であ
る。6 is a cross-sectional view between point A and point B in FIG.
1 入力部 2 CPU 3 セルライブラリ 4 論理配置配線部 5 出力部 6 優先配線層指定部 7 ピン配線層持ち上げ部 8 裏打ち配線部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Input part 2 CPU 3 Cell library 4 Logical arrangement wiring part 5 Output part 6 Priority wiring layer designation part 7 Pin wiring layer raising part 8 Backing wiring part
Claims (3)
するCPUと、セルを登録したセルライブラリと、CP
Uとセルライブラリとのデータを選択的に合成して配置
配線を行う論理配置配線部と、CPUの結果を出力する
出力部とを備えた配置配線装置であって、さらに、セル
におけるピンを製造するためのどの配線層にも対応した
ピンの発生を行うピン配線層持ち上げ部を備えた配置配
線装置。A CPU for processing data with information input from an input unit; a cell library in which cells are registered;
A placement and routing apparatus, comprising: a logic placement and routing unit for selectively combining data of a U and a cell library to perform placement and routing; and an output unit for outputting a result of the CPU, and further comprising: And a wiring device having a pin wiring layer lifting portion for generating a pin corresponding to any wiring layer.
するCPUと、セルを登録したセルライブラリと、CP
Uとセルライブラリとのデータを選択的に合成して配置
配線を行う論理配置配線部と、CPUの結果を出力する
出力部とを備えた配置配線装置であって、さらに、回路
図の優先配線層を指定する優先配線層指定部を備え、前
記論理配置配線部は、前記優先配線層指定部で指定した
配線層を中心に論理接続を行なうように構成されている
配置配線装置。2. A CPU for processing data with information input from an input unit, a cell library in which cells are registered,
1. A placement and routing apparatus, comprising: a logic placement and routing unit for selectively combining data of a U and a cell library to perform placement and routing; and an output unit for outputting a result of the CPU. A placement and routing apparatus comprising a priority wiring layer designating unit for designating a layer, wherein the logical placement and routing unit is configured to make a logical connection centering on the wiring layer designated by the priority wiring layer designating unit.
するCPUと、セルを登録したセルライブラリと、CP
Uとセルライブラリとのデータを選択的に合成して配置
配線を行う論理配置配線部と、CPUの結果を出力する
出力部とを備えた配置配線装置であって、さらに、配置
配線の裏打ち配線を行う裏打ち配線部を備えた配置配線
装置。3. A CPU for processing data with information input from an input unit, a cell library in which cells are registered,
1. A placement and routing apparatus comprising: a logic placement and routing unit for selectively combining data of U and a cell library to perform placement and routing; and an output unit for outputting a result of a CPU, further comprising a backing wiring for the placement and routing. Placement and wiring apparatus provided with a backing wiring section for performing the following.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10009971A JPH11214518A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Placement and wiring equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10009971A JPH11214518A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Placement and wiring equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214518A true JPH11214518A (en) | 1999-08-06 |
Family
ID=11734815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10009971A Pending JPH11214518A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Placement and wiring equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11214518A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001926A1 (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-06 | Sanyo Electric Co., Ltd | Integrated circuit and design method thereof |
-
1998
- 1998-01-22 JP JP10009971A patent/JPH11214518A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005001926A1 (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-06 | Sanyo Electric Co., Ltd | Integrated circuit and design method thereof |
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