JPH11218914A - Photosensitive image forming material for infrared laser - Google Patents
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はオフセット印刷マス
ターとして使用できる画像形成材料に関するものであ
り、特にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版
できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ用感光
性画像形成材料に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming material which can be used as an offset printing master, and more particularly to a so-called direct plate making infrared laser photosensitive image forming material which can make a plate directly from a digital signal from a computer or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、コンピュータのディジタルデータ
から直接製版するシステムが注目され、種々の技術が開
発されている。特に、近年におけるレーザの発展は目ざ
ましく、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レー
ザ・半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手で
きる様になり、これらはディジタルデータから直接製版
する際の露光光源として、非常に有用である。2. Description of the Related Art In recent years, attention has been paid to a system for making a plate directly from digital data of a computer, and various techniques have been developed. In particular, the development of lasers in recent years has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit light in the near-infrared to infrared regions can easily obtain high-power and small-sized lasers. It is very useful as an exposure light source for plate making.
【0003】従来公知のダイレクト製版用の赤外線レー
ザ用ポジ型平板印刷版材料においては、ノボラック樹脂
等のフェノール性水酸基を有するアルカリ水溶液可溶性
樹脂が用いられている。例えば、特開平7−28527
5号公報において、ノボラック樹脂等のフェノール性水
酸基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸収し
熱を発生する物質と、種々のオニウム塩、キノンジアジ
ド化合物類等を添加した画像形成材料が提案されてい
る。これらの画像形成材料では、画像部ではオニウム
塩、キノンジアジド化合物類等が、アルカリ水溶液可溶
性樹脂の溶解阻止剤として働き、非画像部では熱により
分解して溶解阻止能を発現しなくなり、現像により除去
され得るようになって、画像を形成する。このような画
像形成材料では、オニウム塩、キノンジアジド化合物類
等が、可視領域に光吸収域(350〜500nm)を有
するため、取扱い場所は黄色燈下に制限されるという不
便があった。さらに、オニウム塩、キノンジアジド化合
物類等が、アルカリ水溶液可溶性高分子化合物や光を吸
収し熱を発生する物質と必ずしも相溶性が良好ではな
く、均一の塗布液を調製するのが困難であり、均一で安
定した画像形成材料を得難いという問題があった。[0003] In a conventionally known positive type lithographic printing plate material for an infrared laser for direct plate making, an alkali aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group such as a novolak resin is used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-28527
In JP-A No. 5 (1999) -2005, an image forming material in which a substance that absorbs light and generates heat, various onium salts, quinonediazide compounds, and the like are added to an aqueous alkaline solution having a phenolic hydroxyl group, such as a novolak resin, is proposed. I have. In these image forming materials, onium salts, quinonediazide compounds, and the like act as a dissolution inhibitor for an aqueous alkali-soluble resin in the image area, and are decomposed by heat in the non-image area so that the dissolution inhibiting ability is not exhibited and removed by development. To form an image. In such an image forming material, since onium salts, quinonediazide compounds, and the like have a light absorption region (350 to 500 nm) in the visible region, there is an inconvenience that the handling place is limited to a yellow lamp. Furthermore, onium salts, quinonediazide compounds, etc. are not necessarily compatible with alkaline aqueous solution-soluble polymer compounds or substances that absorb light and generate heat, and it is difficult to prepare a uniform coating solution. And it is difficult to obtain a stable image forming material.
【0004】また、特公昭46−27919号等のよう
に、感光性の化合物を使用せず、ノボラック樹脂等によ
って画像形成を行う例もあるが、ノボラック樹脂自体は
耐溶剤性が低く、クリーナーなどの使用により耐刷性が
低下したり、UVインクによる印刷ができない等の問題
があった。さらに、感光性の化合物を併用せずにノボラ
ック樹脂を用いると現像ラチチュードが極めて悪いとい
う欠点があった。In some cases, as in JP-B-46-27919, an image is formed using a novolak resin or the like without using a photosensitive compound. However, the novolak resin itself has a low solvent resistance, and a cleaner or the like is used. However, there were problems such as a decrease in printing durability due to the use of UV ink, and the inability to print with UV ink. Further, when a novolak resin is used without using a photosensitive compound, there is a disadvantage that the development latitude is extremely poor.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、アルカリ水溶液可溶性高分子化合物を用いた記録層
の画像形成性の低さを改善し、取扱い場所に制限がな
く、耐刷性に優れ、かつ現像液の濃度に対する感度の安
定性、即ち現像ラチチュードの良好なダイレクト製版用
の赤外線レーザ用画像形成材料を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to improve the low image forming property of a recording layer using a polymer compound soluble in an aqueous alkali solution, to have no restriction on the handling place, and to improve the printing durability. An object of the present invention is to provide an infrared laser image forming material for direct plate making which is excellent and has good stability in sensitivity to the concentration of a developing solution, that is, good developing latitude.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意研究
を重ねた結果、アルカリ水可溶性高分子化合物を用い
て、特定の層構成を形成することにより、白色灯下でも
使用可能であり、現像ラチチュードが大幅に改善される
感光性画像形成材料が得られることを見出し、本発明を
完成するに到った。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies and as a result, by forming a specific layer structure using an alkali water-soluble polymer compound, the present invention can be used even under a white lamp. The present inventors have found that a photosensitive image-forming material whose development latitude is greatly improved can be obtained, and the present invention has been completed.
【0007】即ち、本発明の赤外線レーザ用感光性画像
形成材料は、支持体上に、(A)以下のモノマー(a−
1)1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原
子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー、(a
−2)1分子中に、下記式で表される活性イミノ基を有
するモノマー、(a−3)フェノール性水酸基を有する
アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、及びヒドロキシスチレンか
ら選択されるモノマー、のうち少なくとも1つを共重合
成分として10モル%以上含む共重合体を50重量%以
上含有する層(以下、適宜、この層を(A)層と称す
る)と、(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ水
溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有する層(以下、適
宜、この層を(B)層と称する)と、が順次積層され、
且つ、少なくとも該(B)フェノール性水酸基を有する
アルカリ水溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有する層
に、光を吸収して発熱する化合物を含有する、ことを特
徴とする。That is, the photosensitive image-forming material for an infrared laser of the present invention is prepared by coating a monomer (a)
1) a monomer having a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom in one molecule;
-2) In one molecule, a monomer having an active imino group represented by the following formula, (a-3) acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate, and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group are selected from hydroxystyrene. Containing 50% by weight or more of a copolymer containing 10% by mole or more of at least one monomer as a copolymer component (hereinafter, this layer is appropriately referred to as (A) layer), and (B) phenol A layer containing 50% by weight or more of an alkali aqueous solution-soluble resin having a neutral hydroxyl group (hereinafter, this layer is appropriately referred to as a (B) layer) is sequentially laminated,
The layer containing at least 50% by weight or more of the (B) alkali aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group contains a compound that absorbs light and generates heat.
【0008】[0008]
【化2】 Embedded image
【0009】本発明においては、感光層を2層構造と
し、支持体に近い側に、(A)(a−1)1分子中に、
窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合したスル
ホンアミド基を有するモノマー(以下、適宜、スルホン
アミド基を有するモノマーと称する)、(a−2)1分
子中に、前記式で表される活性イミノ基を有するモノマ
ー(以下、適宜、イミノ基を有するモノマーと称す
る)、(a−3)フェノール性水酸基を有するアクリル
アミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、及びヒドロキシスチレンから選択さ
れるモノマー(以下、適宜、フェノール性水酸基を有す
るモノマーと称する)、のうち少なくとも1つのモノマ
ーを共重合成分として10モル%以上含む共重合体を5
0重量%以上含有する層を形成することにより、耐刷
性、耐溶剤性に優れた中間層が形成されることになる。
さらに、その上に(B)フェノール性水酸基を有するア
ルカリ水溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有する層を
形成するが、この層には光を吸収して発熱する化合物を
含有する。このノボラック樹脂に代表されるアルカリ水
溶液可溶性樹脂は光を吸収して発熱する化合物との相互
作用が強く、露光による画像形成の際の感度が高く、ま
た、未露光部の現像抑制効果が高いので広い現像ラチチ
ュードが実現できる。In the present invention, the photosensitive layer has a two-layer structure, and (A) (a-1) in one molecule,
A monomer having a sulfonamide group in which at least one hydrogen atom is bonded to a nitrogen atom (hereinafter, appropriately referred to as a monomer having a sulfonamide group), (a-2) an activity represented by the above formula in one molecule A monomer having an imino group (hereinafter appropriately referred to as a monomer having an imino group), (a-3) a monomer selected from acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group (Hereinafter, appropriately referred to as a monomer having a phenolic hydroxyl group), a copolymer containing 10 mol% or more of at least one monomer as a copolymerization component
By forming a layer containing 0% by weight or more, an intermediate layer having excellent printing durability and solvent resistance is formed.
Further, a layer containing at least 50% by weight of (B) an alkaline aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group is formed thereon, and this layer contains a compound that absorbs light and generates heat. Alkaline aqueous solution-soluble resins represented by this novolak resin have a strong interaction with compounds that absorb light and generate heat, have high sensitivity in image formation by exposure, and have a high effect of suppressing development of unexposed areas. A wide development latitude can be realized.
【0010】また、支持体近傍では、光を吸収して発熱
する化合物による発熱が、露光部分の感光層の温度が反
応を起こすに足る領域まで上昇する前に高い熱伝導度を
有する支持体へと分散され、現像が効率よく行われない
虞もあるが、本発明の画像形成材料においては、前記し
た中間層に当たる(A)層が(B)層と支持体との間に
存在することから、(B)層における光を吸収して発熱
する化合物の発熱が支持体へと拡散することなく、効率
よく現像に使用できるため、感度及び現像ラチチュード
の向上が著しい。In the vicinity of the support, heat generated by the compound that absorbs light and generates heat is applied to the support having high thermal conductivity before the temperature of the photosensitive layer in the exposed portion rises to an area sufficient to cause a reaction. And the development may not be performed efficiently. However, in the image forming material of the present invention, the layer (A) corresponding to the above-mentioned intermediate layer exists between the layer (B) and the support. And (B), the compound which absorbs light and generates heat can efficiently be used for development without diffusing the heat to the support, so that the sensitivity and development latitude are remarkably improved.
【0011】本発明においては、前記したように感光層
として2層構造を採用したことにより、(B)層におけ
るアルカリ水溶液可溶性樹脂と光を吸収して発熱する化
合物との相互作用により、良好な画像形成が可能とな
る。これにより、オニウム塩、キノンジアジド化合物類
等の、可視領域に光吸収域(350〜500nm)を有
する化合物の添加を必須としないため、白色灯下でも使
用でき、取扱い場所は黄色燈下に制限されるという不便
がない。また、オニウム塩、キノンジアジド化合物類等
の如き熱分解反応を用いずに画像形成することが可能な
ため、熱が画像形成に効率良く利用され、現像ラチチュ
ードが驚異的に良化する。In the present invention, as described above, by adopting a two-layer structure as the photosensitive layer, the interaction between the alkali-soluble resin in the layer (B) and the compound which absorbs light and generates heat is excellent in the layer (B). Image formation becomes possible. This eliminates the necessity of adding a compound having a light absorption region (350 to 500 nm) in the visible region, such as onium salts and quinonediazide compounds, so that the device can be used under a white light, and the handling place is limited to a yellow light. No inconvenience. Further, since it is possible to form an image without using a thermal decomposition reaction such as an onium salt or a quinonediazide compound, heat is efficiently used for image formation, and the development latitude is remarkably improved.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明において(A)層の形成に使用されるアルカリ水溶
液可溶性高分子化合物は、(a−1)スルホンアミド基
を有するモノマー、(a−2)活性イミノ基を有するモ
ノマー、(a−3)フェノール性水酸基を有するモノマ
ーのいずれかの少なくとも一つを共重合成分として10
モル%以上含む共重合体(以下、「特定の共重合体」と
いう。)を50重量%以上含有するものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. In the present invention, the polymer compound soluble in an aqueous alkali solution used for forming the layer (A) includes (a-1) a monomer having a sulfonamide group, (a-2) a monomer having an active imino group, and (a-3) At least one of the monomers having a phenolic hydroxyl group as a copolymer component
A copolymer containing 50% by weight or more of a copolymer containing at least 50% by mole (hereinafter, referred to as a "specific copolymer").
【0013】(a−1)スルホンアミド基を有するモノ
マーとしては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一
つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能
な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する低分子化合物か
らなるモノマーが挙げられる。その中でも、アクリロイ
ル基、アリル基、またはビニロキシ基と、置換あるいは
モノ置換アミノスルホニル基または置換スルホニルイミ
ノ基とを有する低分子化合物が好ましい。このような化
合物としては、例えば、下記一般式(I)〜(V)で示
される化合物が挙げられる。(A-1) As the monomer having a sulfonamide group, one molecule has at least one sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom and at least one polymerizable unsaturated bond. And a monomer comprising a low-molecular compound having the same. Among them, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of such compounds include compounds represented by the following general formulas (I) to (V).
【0014】[0014]
【化3】 Embedded image
【0015】式中、X1 、X2 はそれぞれ−O−又は−
NR7 −を示す。R1 、R4 はそれぞれ水素原子又は−
CH3 を表す。R2 、R5 、R9 、R12、R16はそれぞ
れ置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレ
ン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキ
レン基を表す。R3 、R7 、R13は水素原子、それぞれ
置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を
示す。また、R6 、R17は、それぞれ置換基を有してい
てもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。R8 、R10、R
14は水素原子又は−CH3 を表す。R11、R15はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1 、Y 2 はそれぞれ単結合
または−CO−を表す。Where X1, XTwoIs -O- or-
NR7Indicates-. R1, RFourIs a hydrogen atom or-
CHThreeRepresents RTwo, RFive, R9, R12, R16Each
Alkylene having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkyl
Represents a len group. RThree, R7, R13Are hydrogen atoms, respectively
C1-C12 alkyl which may have a substituent
Group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group
Show. Also, R6, R17Has a substituent
C1-C12 alkyl group, cycloalkyl
Group, an aryl group, and an aralkyl group. R8, RTen, R
14Is a hydrogen atom or -CHThreeRepresents R11, RFifteenEach
1 to 12 carbon atoms which may have a single bond or a substituent
Alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or
Represents an aralkylene group. Y1, Y TwoIs a single bond
Or -CO-.
【0016】具体的には、m−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。Specifically, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be suitably used.
【0017】(a−2)活性イミノ基を有するモノマー
としては、1分子中に、下記の式で表される活性イミノ
基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有する
低分子化合物からなるモノマーが挙げられる。(A-2) The monomer having an active imino group includes a low-molecular compound having an active imino group represented by the following formula and one or more polymerizable unsaturated bonds in one molecule. Monomer.
【0018】[0018]
【化4】 Embedded image
【0019】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に使用することができる。Specific examples of such compounds include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be suitably used.
【0020】(a−3)に該当するモノマーとは、それ
ぞれフェノール性水酸基を有するアクリルアミド、メタ
クリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エス
テル、またはヒドロキシスチレンからなるモノマーであ
る。このような化合物としては、具体的には、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−ヒドロキシ
フェニルアクリレート、m−ヒドロキシフェニルアクリ
レート、p−ヒドロキシフェニルアクリレート、o−ヒ
ドロキシフェニルメタクリレート、m−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート、p−ヒドロキシフェニルメタクリ
レート、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチ
レン、p−ヒドロキシスチレン等を好適に使用すること
ができる。The monomer corresponding to (a-3) is a monomer composed of acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene each having a phenolic hydroxyl group. As such a compound, specifically, N- (4
-Hydroxyphenyl) acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate, m-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxy Phenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene and the like can be suitably used.
【0021】本発明の感光性画像形成材料において支持
体に隣接して形成される(A)層に用い得るアルカリ水
可溶性共重合体は、前記(a−1)から(a−3)のう
ち少なくとも一つを共重合成分として10モル%以上含
んでいることを要し、20モル%以上含むものがより好
ましい。共重合成分が10モル%より少ないと、露光後
もアルカリ現像液への溶解性が低いため感度低下し、こ
の共重合成分を用いる場合の利点である耐刷性及び感度
向上の効果が不充分となる。In the photosensitive image-forming material of the present invention, the alkali water-soluble copolymer which can be used for the layer (A) formed adjacent to the support is selected from (a-1) to (a-3). It is necessary that at least one is contained as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more, and more preferably 20 mol% or more. When the amount of the copolymer component is less than 10 mol%, the sensitivity is lowered due to low solubility in an alkali developer even after exposure, and the effects of using this copolymer component, such as printing durability and sensitivity improvement, are insufficient. Becomes
【0022】また、この共重合体には、前記(a−1)
から(a−3)及び後述するフェノール性水酸基を有す
るモノマー以外の他の共重合成分を含んでいてもよい。In addition, the copolymer (a-1)
To (a-3) and other copolymerizable components other than the monomer having a phenolic hydroxyl group described below.
【0023】他の共重合成分としては、例えば、下記
(1)〜(12)に挙げるモノマーを用いることができ
る。 (1)例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまた
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸
エステル類。 (2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 (4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−
ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−
フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリル
アミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。As the other copolymer components, for example, the following monomers (1) to (12) can be used. (1) Acrylic esters having an aliphatic hydroxyl group, such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, and methacrylic esters. (2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate. (4) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-
Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl acrylamide, N-hydroxyethyl acrylamide, N-
Acrylamide or methacrylamide such as phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, and N-ethyl-N-phenylacrylamide. (5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
【0024】(6)ビニルアセテート、ビニルクロロア
セテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニ
ルエステル類。 (7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 (9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate. (7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene. (8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide. (12) acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride,
Unsaturated carboxylic acids such as itaconic acid;
【0025】本発明において(A)層に含まれる共重合
体としては、重量平均分子量が2000以上、数平均分
子量が500以上のものが好ましい。さらに好ましく
は、重量平均分子量が5000〜300000、数平均
分子量が800〜250000であり、分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)が1.1〜10のものであ
る。In the present invention, the copolymer contained in the layer (A) preferably has a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 500 or more. More preferably, the weight average molecular weight is 5,000 to 300,000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to 10.
【0026】これら(A)層に含まれる共重合体は、そ
れぞれ1種類あるいは2種類以上を組み合わせて使用し
てもよく、(A)層を構成する全材料固形分中、50重
量%以上、好ましくは55重量%以上の添加量で用いら
れる。この共重合体の添加量が50重量%未満であると
画像形成材料の耐刷性が悪化する。。Each of the copolymers contained in the layer (A) may be used alone or in combination of two or more kinds. Preferably, it is used in an addition amount of 55% by weight or more. If the addition amount of the copolymer is less than 50% by weight, the printing durability of the image forming material is deteriorated. .
【0027】(A)層には、前記共重合体のほか、例え
ば、フェノール性水酸基を有する高分子化合物、具体的
には、フェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,またはm
−/p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド
樹脂などのノボラック樹脂やピロガロールアセトン樹脂
を含有してもよい。In the layer (A), in addition to the above copolymer, for example, a polymer compound having a phenolic hydroxyl group, specifically, a phenol formaldehyde resin, an m-cresol formaldehyde resin, a p-cresol formaldehyde resin, -/ P- mixed cresol formaldehyde resin, phenol / cresol (m-, p- or m
-/ P-mixing), and may contain a novolak resin such as a mixed formaldehyde resin or a pyrogallol acetone resin.
【0028】更に、米国特許第4123279号明細書
に記載されているように、t−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデヒド
樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基とし
て有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物を併
用してもよい。かかる樹脂は、1種類あるいは2種類以
上を組み合わせて使用してもよい。Further, as described in US Pat. No. 4,123,279, a phenol having an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin, and formaldehyde are used. May be used in combination. Such resins may be used alone or in combination of two or more.
【0029】この(A)層を構成する組成物には、前記
共重合体のほか、更に必要に応じて、種々の添加剤を添
加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノン
ジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホ
ン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状
態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的
に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液へ
の溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オニウム
塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニ
ウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウ
ム塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。本発明に
おいて、ジアゾニウム塩が特に好ましい。また、特に好
適なジアゾニウム塩としては特開平5−158230号
公報記載のものがあげられる。In the composition constituting the layer (A), various additives can be further added, if necessary, in addition to the copolymer. For example, onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds and other substances that are thermally decomposable and that substantially reduce the solubility of the alkali water-soluble polymer compound when not decomposed. The combined use is preferred from the viewpoint of improving the dissolution inhibiting property of the image area in the developer. Examples of the onium salt include a diazonium salt, an ammonium salt, a phosphonium salt, an iodonium salt, a sulfonium salt, a selenonium salt, and an arsonium salt. In the present invention, diazonium salts are particularly preferred. Particularly preferred diazonium salts include those described in JP-A-5-158230.
【0030】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁に
記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応させ
たo−キノンジアジドのスルホン酸エステルまたはスル
ホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号
公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−
ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフトキノン−
(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピ
ロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第3,
046,120 号および同第3,188,210 号に記載されているベ
ンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライ
ドまたはナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−ス
ルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステルも好適に使用される。Suitable quinonediazides include o-quinonediazide compounds. The o-quinonediazide compound used in the present invention is a compound having at least one o-quinonediazide group, which increases alkali solubility by thermal decomposition, and can be a compound having various structures. In other words, o-quinonediazide helps the solubility of the light-sensitive material system by both the effect of losing the ability to suppress the dissolution of the binder due to thermal decomposition and the fact that o-quinonediazide itself changes to an alkali-soluble substance. Examples of the o-quinonediazide compound used in the present invention include those described in J. Am. The compounds described in "Light-Sensitive Systems" by John Coleyer (John Wiley & Sons. Inc.), pages 339-352, can be used, but are particularly suitable for reacting with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds. Preference is given to sulfonic esters or sulphonamides of quinonediazides. Also, benzoquinone (1,2)-as described in JP-B-43-28403.
Diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone-
Esters of (1,2) -diazide-5-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin, U.S. Pat.
Esters of benzoquinone- (1,2) -diazidosulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazido-5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin described in 046,120 and 3,188,210 are also used. It is preferably used.
【0031】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-
Esters of 4-sulfonic acid chloride with pyrogallol-acetone resin are likewise preferably used.
【0032】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは印刷版材料全固形分に対し、1〜50重量%、更
に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは10〜3
0重量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。The addition amount of the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 3% by weight, based on the total solid content of the printing plate material.
The range is 0% by weight. These compounds can be used alone, but may be used as a mixture of several kinds.
【0033】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。The counter ions of the onium salts include tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.
【0034】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好ましくは
5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%であ
る。The amount of additives other than the o-quinonediazide compound is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, and particularly preferably 10 to 30% by weight.
【0035】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,128 号
明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エン
ドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水フタル酸、テトラク
ロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイ
ン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無
水ピロメリット酸などが使用できる。フェノール類とし
ては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノール、p−
エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,4′,4″
−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,4′,
3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,5′−
テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。更
に、有機酸類としては、特開昭60−88942 号、特開平2
−96755 号公報などに記載されている、スルホン酸類、
スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン
酸エステル類およびカルボン酸類などがあり、具体的に
は、p−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、p−トルエンスルフィン酸、エチル硫酸、フェニ
ルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、リン酸フェニ
ル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸、p−トルイル酸、3,4−ジメトキシ安息香
酸、フタル酸、テレフタル酸、4−シクロヘキセン−
1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリン酸、n−ウ
ンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げられる。上記の
環状酸無水物、フェノール類および有機酸類の(A)層
構成材料中に占める割合は、0.05〜20重量%が好
ましく、より好ましくは0.1〜15重量%、特に好ま
しくは0.1〜10重量%である。For the purpose of further improving the sensitivity, cyclic acid anhydrides, phenols and organic acids can be used in combination. Cyclic acid anhydride include US Patent has been and phthalic anhydride described in 4,115,128 Pat, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride Acid, maleic anhydride, chloromaleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride, pyromellitic anhydride and the like can be used. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-nitrophenol
Ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "
-Trihydroxytriphenylmethane, 4,4 ',
3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3 ', 5'-
Tetramethyltriphenylmethane and the like can be mentioned. Further, as organic acids, JP-A-60-88942,
Sulfonic acids, such as those described in
There are sulfinic acids, alkyl sulfuric acids, phosphonic acids, phosphoric acid esters and carboxylic acids, and specifically, p-toluenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, Phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-
Examples thereof include 1,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, and ascorbic acid. The proportion of the cyclic acid anhydride, phenols and organic acids in the layer constituting material (A) is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight, and particularly preferably 0 to 15% by weight. 0.1 to 10% by weight.
【0036】本発明において、(A)層には、現像前の
安定性を向上させるために、いわゆるワックスと呼ばれ
る炭素数の大きな脂肪酸またはその誘導体を添加するこ
とができる。炭素数6〜32のアルキル基またはアルケ
ニル基(例えば、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n
−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウン
デシル基等の直鎖アルキル基、14−メチルペンタデシ
ル基、16−メチルヘプタデシル基等の分岐を有するア
ルキル基、1−ヘキセニル基、1−ヘプテニル基、1−
オクテニル基、2−メチル−1−ヘプテニル基等のアル
ケニル基)を有する脂肪酸、脂肪酸エステル等が好まし
く、この中でも、塗布溶剤に対する溶解性の点で、炭素
数25以下のアルキル基、アルケニル基を有するもの好
ましい。用いうる化合物の具体例を挙げると、脂肪酸と
しては、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプ
リン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミ
リスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデ
シル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベ
ヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン
酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸、ウンデシレ
ン酸、オレイン酸、エライジン酸、セトレイン酸、エル
カ酸、ブラシジン酸等が挙げられる。脂肪酸エステルと
しては、これらの脂肪酸のメチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、ブチルエステル、ドデシルエ
ステル、フェニルエステル、ナフチルエステルが挙げら
れる。チオ脂肪酸エステルとしては、これらの脂肪酸の
メチルチオエステル、エチルチオエステル、プロピルチ
オエステル、ブチルチオエステル、ベンジルチオエステ
ルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、これらの脂肪
酸のアミド、メチルアミド、エチルアミド等が挙げられ
る。In the present invention, a fatty acid having a large carbon number called a wax or a derivative thereof can be added to the layer (A) in order to improve the stability before development. An alkyl or alkenyl group having 6 to 32 carbon atoms (e.g., n-hexyl group, n-heptyl group, n
-Octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, linear alkyl group such as n-undecyl group, branched alkyl group such as 14-methylpentadecyl group, 16-methylheptadecyl group, 1-hexenyl group , 1-heptenyl group, 1-
Fatty acids and fatty acid esters having an alkenyl group such as an octenyl group and a 2-methyl-1-heptenyl group) are preferable, and among these, from the viewpoint of solubility in a coating solvent, an alkyl group or an alkenyl group having 25 or less carbon atoms Are preferred. Specific examples of compounds that can be used include fatty acids such as enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, Nonadecanoic acid, arachinic acid, behenic acid, lignoceric acid, cerotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, oleic acid, elaidic acid, setreic acid, erucic acid, brassic acid and the like. Fatty acid esters include methyl, ethyl, propyl, butyl, dodecyl, phenyl and naphthyl esters of these fatty acids. Examples of thiofatty acid esters include methyl thioester, ethyl thioester, propyl thioester, butyl thioester, and benzyl thioester of these fatty acids. Examples of the fatty acid amide include amides, methylamides, and ethylamides of these fatty acids.
【0037】これらの化合物は、それぞれ1種類あるい
は2種類以上を組み合わせて使用してもよく、全印刷版
材料固形分中、0.02〜10重量%、好ましくは0.
2〜10重量%、特に好ましくは2〜10重量%の添加
量で用いられる。前記一般式(A)で表される化合物の
添加量が0.02重量%未満であると外傷に対する現像
安定性が不十分となり、また、10重量%で効果が飽和
するためこれ以上加える必要がない。Each of these compounds may be used alone or in combination of two or more. 0.02 to 10% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the printing plate material.
It is used in an amount of 2 to 10% by weight, particularly preferably 2 to 10% by weight. When the amount of the compound represented by the general formula (A) is less than 0.02% by weight, the development stability against damage becomes insufficient, and when the amount is 10% by weight, the effect is saturated. Absent.
【0038】また、(A)層構成材料中には、現像条件
に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740
号公報や特開平3−208514号公報に記載されているよう
な非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開
平4−13149 号公報に記載されているような両性界面活
性剤を添加することができる。非イオン界面活性剤の具
体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタ
ンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステア
リン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例とし
ては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキル
ポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−
カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニ
ウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン型
(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)
製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤および両
性界面活性剤の(A)層構成材料中に占める割合は、
0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.
1〜5重量%である。Further, in the material constituting the layer (A), Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740 discloses a method for increasing the stability of processing under development conditions.
And non-ionic surfactants described in JP-A-3-208514, and amphoteric surfactants described in JP-A-59-121044 and JP-A-4-13149. Can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-
Carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine or N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name "Amogen K": Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured). The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the (A) layer constituting material is as follows:
The content is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.
1 to 5% by weight.
【0039】本発明における(A)層構材料中には、露
光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤
や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができ
る。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を
放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表として挙げることができる。具体的に
は、特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載
されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−
36223 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−1437
48号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に
記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染
料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチ
ル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン
系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な
焼き出し画像を与える。A printing-out agent for obtaining a visible image immediately after heating by exposure and a dye or a pigment as an image coloring agent can be added to the layer constituting material (A) in the present invention. Representative examples of the printing-out agent include a combination of a compound that releases an acid by heating upon exposure (photoacid releasing agent) and an organic dye that can form a salt. Specifically, the combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, −
36223, 54-74728, 60-3626, 61-1437
Combinations of trihalomethyl compounds and salt-forming organic dyes described in JP-A Nos. 48, 61-151644 and 63-58440 can be exemplified. Such trihalomethyl compounds include oxazole-based compounds and triazine-based compounds, both of which have excellent temporal stability and give clear print-out images.
【0040】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、(A)層構成材料全固形分に対し、0.01
〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で添
加することができる。As the colorant for the image, other dyes can be used in addition to the above-mentioned salt-forming organic dyes. Suitable dyes, including salt-forming organic dyes, include oil-soluble dyes and basic dyes. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, oil green BG, oil blue BOS, oil blue # 603, oil black BY, oil black BS, oil black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, crystal violet (CI42555), methyl Violet (CI42535), ethyl violet, rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI5201)
5) and the like. Also, JP-A-62-2932
The dyes described in JP-B-47 are particularly preferred. These dyes are used in an amount of 0.01% based on the total solid content of the component (A).
It can be added at a ratio of 10 to 10% by weight, preferably 0.1 to 3% by weight.
【0041】更にこの(A)層構成材料中には必要に応
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えるこ
とができる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよびポリマ
ー等が用いられる。さらに、膜強度向上のため、長鎖脂
肪酸エステル、長鎖脂肪酸アミド等を添加してもよい。Further, a plasticizer can be added to the material constituting the layer (A), if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid Oligomers and polymers are used. Further, a long-chain fatty acid ester, a long-chain fatty acid amide, or the like may be added to improve the film strength.
【0042】本発明における層構成材料中には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950
号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添
加することができる。好ましい添加量は、全層構成材料
の0.01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜0.
5重量%である。In the layer constituting material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-170950
A fluorine-based surfactant such as that described in JP-A No. 2-2,086 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight of the total material constituting the layer, more preferably 0.05 to 0.
5% by weight.
【0043】本発明の画像形成材料をネガ型として用い
る場合、アルカリ不溶性膜(画像部)を形成するため
に、酸により架橋する物質を添加することが必要であ
る。本発明の感光層において好適に用いられる酸により
架橋する物質としては、(a)分子内に2個以上のヒド
ロキシメチル基、アルコキシメチル基、エポキシ基また
はビニルエーテル基を有し、これらの基がベンゼン環に
結合している化合物、(b)N−ヒドロキシメチル基、
N−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチ
ル基を有する化合物、(c)エポキシ系化合物等が挙げ
られる。 (a)分子内に2個以上のヒドロキシメチル基、アルコ
キシメチル基、エポキシ基またはビニルエーテル基を有
し、これらの基がベンゼン環に結合している化合物とし
ては具体的には、メチロールメラミン、レゾール樹脂、
エポキシ化されたノボラック樹脂、尿素樹脂等が挙げら
れる。さらに、「架橋剤ハンドブック」(山下晋三、金
子東助著、大成社(株))に記載されている化合物も好
ましい。特に、分子内に2個以上のヒドロキシメチル基
またはアルコキシメチル基を有するフェノール誘導体
は、画像形成した際の画像部の強度が良好であり好まし
い。具体的には、レゾール樹脂を挙げることができる。When the image forming material of the present invention is used as a negative type, it is necessary to add a substance which is crosslinked by an acid in order to form an alkali-insoluble film (image area). Examples of the substance which is preferably used in the photosensitive layer of the present invention and which is crosslinked by an acid include (a) a compound having two or more hydroxymethyl groups, alkoxymethyl groups, epoxy groups or vinyl ether groups in the molecule, and these groups are benzene. A compound bonded to a ring, (b) an N-hydroxymethyl group,
Compounds having an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, (c) epoxy compounds and the like can be mentioned. (A) Compounds having two or more hydroxymethyl groups, alkoxymethyl groups, epoxy groups or vinyl ether groups in the molecule, and these groups are bonded to a benzene ring, specifically include methylolmelamine and resole resin,
Epoxidized novolak resins, urea resins, and the like are included. Further, compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" (written by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, Taiseisha Co., Ltd.) are also preferable. In particular, a phenol derivative having two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups in the molecule is preferable because the strength of an image portion when an image is formed is good. Specifically, a resole resin can be used.
【0044】しかしながら、これらの酸により架橋する
架橋剤は熱に対して不安定であり、画像記録材料を作成
したあとの保存時の安定性があまり良くない。これに対
し、分子内にベンゼン環に連結する2個以上のヒドロキ
シメチル基またはアルコキシメチル基を有し、かつ置換
基を有していてもよいベンゼン環を3〜5個含み、さら
に分子量が1,200以下であるフェノール誘導体は、保
存時の安定性も良好であり、本発明において最も好適に
用いられる。このフェノール誘導体が有するアルコキシ
メチル基としては、炭素数6個以下のものが好ましい。
具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、n−
プロポキシメチル基、i−プロポキシメチル基、n−ブ
トキシメチル基、i−ブトキシメチル基、sec−ブト
キシメチル基、t−ブトキシメチル基が好ましい。さら
に、2−メトキシエトキシ基及び、2−メトキシ−1−
プロピル基の様に、アルコキシ置換されたアルコキシ基
も好ましい。However, the cross-linking agents which are cross-linked by these acids are unstable to heat, and the storage stability after the preparation of the image recording material is not so good. On the other hand, the molecule has 3 to 5 benzene rings which have two or more hydroxymethyl groups or alkoxymethyl groups linked to the benzene ring in the molecule and may have a substituent, and further have a molecular weight of 1 to 5. The phenol derivative having a molecular weight of 200 or less has good stability during storage and is most preferably used in the present invention. The alkoxymethyl group of the phenol derivative is preferably one having 6 or less carbon atoms.
Specifically, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, n-
Preferred are a propoxymethyl group, an i-propoxymethyl group, an n-butoxymethyl group, an i-butoxymethyl group, a sec-butoxymethyl group, and a t-butoxymethyl group. Further, a 2-methoxyethoxy group and 2-methoxy-1-
Like propyl groups, alkoxy-substituted alkoxy groups are also preferred.
【0045】ヒドロキシメチル基を有するフェノール誘
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有さないフェノ
ール化合物とホルムアルデヒドを塩基触媒下で反応させ
ることによって得ることができる。この際、樹脂化やゲ
ル化を防ぐために、反応温度を60℃以下で行うことが
好ましい。具体的には、特開平6−282067号、特
開平7−64285号等に記載されている方法にて合成
することができる。A phenol derivative having a hydroxymethyl group can be obtained by reacting a corresponding phenol compound having no hydroxymethyl group with formaldehyde in the presence of a base catalyst. At this time, the reaction is preferably performed at a reaction temperature of 60 ° C. or lower in order to prevent resinification and gelation. Specifically, it can be synthesized by a method described in JP-A-6-28067, JP-A-7-64285, or the like.
【0046】アルコキシメチル基を有するフェノール誘
導体は、対応するヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル誘導体とアルコールを酸触媒下で反応させることによ
って得ることができる。この際、樹脂化やゲル化を防ぐ
ために、反応温度を100℃以下で行うことが好まし
い。具体的には、欧州特許EP632003A1号等に
記載されている方法にて合成することができる。The phenol derivative having an alkoxymethyl group can be obtained by reacting the corresponding phenol derivative having a hydroxymethyl group with an alcohol in the presence of an acid catalyst. At this time, the reaction is preferably performed at a reaction temperature of 100 ° C. or less in order to prevent resinification and gelation. Specifically, it can be synthesized by a method described in European Patent EP632003A1 or the like.
【0047】(b)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、EP−Aと
記載する)第0,133,216号、西独特許第3,6
34,671号、同第3,711,264号に開示され
た単量体及びオリゴマー、メラミン−ホルムアルデヒド
縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合物、EP−A
第0,212,482号に開示されたアルコキシ置換化
合物等が挙げられる。さらに好ましい例としては、例え
ば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、N
−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が挙げら
れ、中でもN−アルコキシメチル誘導体が特に好まし
い。(B) Compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group include those disclosed in European Patent Publication No. 0,133,216 (hereinafter referred to as EP-A). West German Patent No. 3,6
Nos. 34,671 and 3,711,264, monomers and oligomers, melamine-formaldehyde condensates and urea-formaldehyde condensates, EP-A
And the alkoxy-substituted compounds disclosed in No. 0,212,482. More preferred examples include, for example, at least two free N-hydroxymethyl groups, N
Melamine-formaldehyde derivatives having an -alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group are exemplified, and among them, an N-alkoxymethyl derivative is particularly preferred.
【0048】(c)エポキシ系化合物としては、一つ以
上のエポキシ基を含む、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物を挙げることができ
る。例えば、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンと
の反応生成物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド
樹脂とエピクロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられ
る。その他、米国特許第4,026,705号公報、英
国特許第1,539,192号公報に記載され、使用さ
れているエポキシ樹脂を挙げることができる。As the epoxy compound (c), there can be mentioned a monomer, dimer, oligomer or polymer epoxy compound containing one or more epoxy groups. For example, a reaction product of bisphenol A with epichlorohydrin, a reaction product of a low molecular weight phenol-formaldehyde resin with epichlorohydrin and the like can be mentioned. Other examples include epoxy resins described and used in U.S. Pat. No. 4,026,705 and British Patent 1,539,192.
【0049】本発明において、酸により架橋する架橋剤
を用いる場合の添加量は、(A)層固形分中、5〜70
重量%、好ましくは10〜65重量%の添加量で用いら
れる。酸により架橋する架橋剤の添加量が5重量%未満
であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、ま
た、70重量%を越えると保存時の安定性の点で好まし
くない。これらの酸により架橋する架橋剤は単独で使用
しても良く、また2種類以上を組み合わせて使用しても
良い。In the present invention, when a crosslinking agent capable of crosslinking by an acid is used, the amount added is preferably 5 to 70% in the solid content of the layer (A).
% By weight, preferably 10 to 65% by weight. If the amount of the crosslinking agent that is crosslinked by the acid is less than 5% by weight, the film strength of the image portion when the image is recorded is deteriorated, and if it exceeds 70% by weight, the stability during storage is not preferable. The crosslinking agents that are crosslinked by these acids may be used alone or in combination of two or more.
【0050】この画像形成材料の支持体上に塗布される
(A)層を構成する全材料の塗布量は、0.5〜4.0
g/m2 の範囲にあることが好ましく、0.5g/m2
未満であると耐刷性の向上効果が不十分となり、4.0
g/m2 を超えるととなり、いずれも好ましくない。The coating amount of all the materials constituting the layer (A) applied on the support of this image forming material is 0.5 to 4.0.
g / m 2 , preferably 0.5 g / m 2
If it is less than 4.0, the effect of improving the printing durability will be insufficient, and it will be 4.0.
g / m 2 , which is not preferable.
【0051】本発明の画像形成材料においては、支持体
上に前記特定の共重合体により形成された(A)層の上
に、さらに(B)フェノール性水酸基を有するアルカリ
水溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有する層を形成す
る。In the image-forming material of the present invention, (B) an alkali aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group of 50 wt. % Is formed.
【0052】(B)層を構成する主要成分であるフェノ
ール性水酸基を有する樹脂としては、例えばフェノール
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−/
p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール
/クレゾール(m−,p−,またはm−/p−混合のい
ずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂などのノボラ
ック樹脂を挙げることができる。The resin having a phenolic hydroxyl group, which is a main component constituting the layer (B), includes, for example, phenol formaldehyde resin, m-cresol formaldehyde resin, p-cresol formaldehyde resin, m- /
Novolak resins such as p-mixed cresol-formaldehyde resin and phenol / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed) mixed formaldehyde resin can be mentioned.
【0053】これらのフェノール性水酸基を有する樹脂
は、重量平均分子量が500〜20000で数平均分子
量が200〜10000のものが好ましい。更に、米国
特許第4123279号明細書に記載されているよう
に、t−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。かかる
フェノール性水酸基を有する樹脂は、1種類あるいは2
種類以上を組み合わせて使用してもよい。The resin having a phenolic hydroxyl group preferably has a weight average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, a condensate of phenol having a C3-8 alkyl group as a substituent and formaldehyde, such as t-butylphenol formaldehyde resin and octylphenol formaldehyde resin. May be used in combination. The resin having such a phenolic hydroxyl group may be one type or two types.
A combination of more than two types may be used.
【0054】また、この(B)層には、フェノール性水
酸基を有する樹脂とともに、光を吸収して発熱する化合
物が含まれる。この光を吸収して発熱する化合物とは、
700以上、好ましくは750〜1200nmの赤外域
に光吸収域があり、この波長の範囲の光において、光/
熱変換能を発現するものを指し、具体的には、この波長
域の光を吸収し熱を発生する種々の顔料もしくは染料を
用いる事ができる。顔料としては、市販の顔料およびカ
ラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」
(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応
用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ
技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔
料が利用できる。The layer (B) contains, together with the resin having a phenolic hydroxyl group, a compound that absorbs light and generates heat. The compound that absorbs this light and generates heat is
There is a light absorption region in the infrared region of 700 or more, preferably 750 to 1200 nm.
It refers to a material that exhibits heat conversion ability. Specifically, various pigments or dyes that absorb light in this wavelength range and generate heat can be used. As pigments, commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook”
(Edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), and "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984.
【0055】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。The pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments,
Quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dye lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
【0056】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
"Printing ink technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986)
It is described in.
【0057】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、ディスパーザー、KDミル、
コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニ
ーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferred in terms of stability in a photosensitive layer coating solution, and when it exceeds 10 μm, it is not preferred in terms of uniformity of the photosensitive layer. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, super mills,
Ball mill, impeller, disperser, KD mill,
A colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, a pressure kneader and the like can be mentioned. For details, see “Latest Pigment Application Technology”
(CMC Publishing, 1986).
【0058】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, and cyanine dyes. In the present invention, among these pigments or dyes, those that absorb infrared light or near-infrared light are particularly preferable because they are suitable for use in lasers that emit infrared light or near-infrared light.
【0059】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、特開昭58−112792号等に記載されている
スクワリリウム色素、英国特許434,875号記載の
シアニン染料等を挙げることができる。As such a pigment absorbing infrared light or near infrared light, carbon black is preferably used. Dyes that absorb infrared light or near infrared light include, for example, JP-A-58-125246 and JP-A-59-125246.
-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787 and the like.
JP-A-58-173696, JP-A-58-18169
0, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, and JP-A-58-112793.
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744; And the cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.
【0060】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Epolight III−1
78、Epolight III−130、Epoligh
t III−125等は特に好ましく用いられる。As a dye, US Pat. No. 5,156,
No. 938 is also preferably used, and substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 42645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063, and 59-146061 and pyrylium compounds described in JP-A-59-2161.
No. 46, a cyanine dye disclosed in U.S. Pat. No. 4,283,4.
No. 75, pentamethine thiopyrylium salt and the like, and pyrilium compounds disclosed in Japanese Examined Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-19702, Epollight III-1
78, Epollight III-130, Epollight
t III-125 and the like are particularly preferably used.
【0061】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、
(B)層構成材料全固形分に対し0.01〜50重量
%、好ましくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好
ましくは0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましく
は3.1〜10重量%の割合で添加することができる。
顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未満である
と感度が低くなり、また50重量%を越えると感光層の
均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。これらの
染料もしくは顔料は(B)層に添加されるのは必須であ
るが、その他の層、例えば先に説明した(A)層に添加
してもよい。Another particularly preferred example of the dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993. These pigments or dyes are
(B) 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the layer constituting material, particularly preferably 0.5 to 10% by weight for dyes, and particularly preferably 3 to 10% for pigments. 0.1 to 10% by weight.
If the amount of the pigment or dye is less than 0.01% by weight, the sensitivity is lowered. If the amount exceeds 50% by weight, the uniformity of the photosensitive layer is lost and the durability of the recording layer is deteriorated. It is essential that these dyes or pigments are added to the layer (B), but they may be added to other layers, for example, the layer (A) described above.
【0062】本発明においては、(B)層に含まれる光
を吸収して発熱する化合物として、(B)層の構成材料
であるフェノール性水酸基を有する樹脂と相溶すること
により該樹脂のアルカリ水への溶解性を低下させるとと
もに、加熱により該溶解性低下作用が減少する化合物を
添加することもでき、その化合物としては、例えば、下
記一般式(I)で表されるものが挙げられる。In the present invention, as a compound that absorbs light contained in the layer (B) and generates heat by absorbing light, the compound is compatible with a resin having a phenolic hydroxyl group, which is a constituent material of the layer (B), to thereby form an alkali of the resin. A compound that reduces the solubility in water and reduces the solubility-lowering effect by heating can also be added, and examples of the compound include those represented by the following general formula (I).
【0063】[0063]
【化5】 Embedded image
【0064】前記化合物は、光を吸収して熱を発生する
性質を有し、しかも700nm〜1200nmの赤外域
に吸収域をもち、さらにアルカリ水溶液可溶性樹脂との
相溶性も良好であり、塩基性染料であり、分子内にアン
モニウム基、イミニウム基等のアルカリ水可溶性樹脂と
相互作用する基を有するために該樹脂と相互作用して、
そのアルカリ水可溶性を制御することができ、本発明に
好適に用いることができる。The compound has the property of absorbing light to generate heat, has an absorption range in the infrared region of 700 nm to 1200 nm, has good compatibility with the resin soluble in an aqueous alkali solution, and has a basic property. It is a dye, interacts with the resin to have a group that interacts with an alkaline water-soluble resin such as an ammonium group and an iminium group in the molecule,
Its alkali water solubility can be controlled and can be suitably used in the present invention.
【0065】前記一般式(I)中、R1 〜R4 は、それ
ぞれ独立に水素原子、置換基を有しても良い炭素数1〜
12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、シク
ロアルキル基、アリール基を表し、R1 とR2 、R3 と
R4 はそれぞれ結合して環構造を形成していてもよい。
ここで、R1 〜R4 としては、具体的には、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られる。また、これらの基が置換基を有する場合、その
置換基としては、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ
基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、カル
ボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられる。
R5 〜R10は、それぞれ独立に置換基を有しても良い炭
素数1〜12のアルキル基を表し、ここで、R5 〜R10
としては、具体的には、メチル基、エチル基、フェニル
基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シ
クロヘキシル基等が挙げられる。また、これらの基が置
換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステル等が挙げられる。In the general formula (I), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a carbon atom which may have a substituent.
12 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R 1 and R 2 , and R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring structure.
Here, as R 1 to R 4 , specifically, a hydrogen atom,
Examples include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.
R 5 to R 10 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 5 to R 10
Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.
【0066】R11〜R13は、それぞれ独立に水素原子、
ハロゲン原子、置換基を有しても良い炭素数1〜8のア
ルキル基を表し、ここで、R12は、R11又はR13と結合
して環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複
数のR12同士が結合して環構造を形成していてもよい。
R11〜R13としては、具体的には、塩素原子、シクロヘ
キシル基、R12同士が結合してなるシクロペンチル環、
シクロヘキシル環等が挙げられる。また、これらの基が
置換基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原
子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル
基、カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸
エステル等が挙げられる。また、mは1〜8の整数を表
し、好ましくは1〜3である。R14〜R15は、それぞれ
独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良い
炭素数1〜8のアルキル基を表し、R14はR15と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR14同士が結合して環構造を形成していてもよい。R
14〜R15しては、具体的には、塩素原子、シクロヘキシ
ル基、R14同士が結合してなるシクロペンチル環、シク
ロヘキシル環等が挙げられる。また、これらの基が置換
基を有する場合、その置換基としては、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。また、mは1〜8の整数を表し、
好ましくは1〜3である。R 11 to R 13 each independently represent a hydrogen atom,
Represents a halogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, wherein R 12 may be bonded to R 11 or R 13 to form a ring structure, and m> In the case of 2, a plurality of R 12 may be bonded to each other to form a ring structure.
As R 11 to R 13 , specifically, a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring in which R 12 is bonded to each other,
And a cyclohexyl ring. When these groups have a substituent, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. M represents an integer of 1 to 8, and preferably 1 to 3. R 14 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and R 14 is bonded to R 15 to form a ring structure. When m> 2, a plurality of R 14 may be bonded to each other to form a ring structure. R
Specific examples of 14 to R 15 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring formed by bonding R 14 to each other. When these groups have a substituent, the substituent may be a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. M represents an integer of 1 to 8,
Preferably it is 1-3.
【0067】前記一般式(I)において、X- で示され
るアニオンの具体例としては、過塩素酸、四フッ化ホウ
酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスル
ホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5−ス
ルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン
酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2−
ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホ
ン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロカ
プリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ
−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン
酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができ
る。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適で
ある。[0067] In the general formula (I), X - Specific examples of the anion is represented by, perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropyl naphthalenesulfonic acid, 5-nitro -o -Toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-
Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl -Benzenesulfonic acid and paratoluenesulfonic acid. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are particularly preferable.
【0068】前記一般式(I)で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明は
この具体例に制限されるものではない。The compound represented by the general formula (I) is a compound generally called a cyanine dye. Specifically, the following compounds are suitably used, but the present invention is not limited to these specific examples. Not something.
【0069】[0069]
【化6】 Embedded image
【0070】本発明において、(B)層に前記のシアニ
ン染料の如き化合物を用いる場合、この化合物の添加量
は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に対して、99/1〜7
0/30の範囲が感度の観点から好ましく、99/1〜
75/25の範囲がより好ましい。In the present invention, when a compound such as the above-mentioned cyanine dye is used in the layer (B), the amount of the compound added is 99/1 to 7 with respect to the alkali aqueous solution-soluble resin.
The range of 0/30 is preferable from the viewpoint of sensitivity, and 99/1 to 99/1.
A range of 75/25 is more preferred.
【0071】この(B)層を構成する組成物には、更に
必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。
(B)層に用いうる添加剤としては、前記(A)層を構
成する組成物に添加しうるものとして、説明した各種添
加剤を同様に挙げることができる。また、本発明をネガ
型画像形成材料として用いるときには、この(B)層に
も(A)層と同様に架橋剤を添加することが好ましい。Various additives can be further added to the composition constituting the layer (B), if necessary.
As the additives that can be used in the layer (B), the various additives described above can be similarly mentioned as those that can be added to the composition constituting the layer (A). When the present invention is used as a negative-type image forming material, it is preferable to add a crosslinking agent to the layer (B) in the same manner as the layer (A).
【0072】通常、これらの感光層は上記各成分を溶媒
に溶かして、支持体上に塗布することにより製造するこ
とができるが、二層を通常の方法で順次、塗布して形成
すると、二層の界面において溶剤等の影響による相溶が
おこり、(A)層と(B)層とが明確に分離されない事
態が生じ、本発明の効果を減じる虞がある。従って、本
発明の画像形成材料を製造するに当たっては、2つの層
を分離して形成する必要がある。Usually, these photosensitive layers can be produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and applying the solution on a support. At the interface between the layers, compatibility occurs due to the influence of a solvent or the like, and a situation where the (A) layer and the (B) layer are not clearly separated may occur, and the effect of the present invention may be reduced. Therefore, in producing the image forming material of the present invention, it is necessary to form the two layers separately.
【0073】この方法としては、例えば、(A)層に含
まれる共重合体と、(B)層に含まれるアルカリ可溶性
樹脂との溶剤溶解性の差を利用する方法、二層目を塗布
した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げら
れる。以下、これらの方法について詳述するが、二層を
分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではな
い。As this method, for example, a method utilizing the difference in solvent solubility between the copolymer contained in the layer (A) and the alkali-soluble resin contained in the layer (B), and the second layer was applied. Thereafter, a method of rapidly drying and removing the solvent may be used. Hereinafter, these methods will be described in detail, but the method of applying the two layers separately is not limited thereto.
【0074】(A)層に含まれる共重合体と(B)層に
含まれるアルカリ水溶液可溶性樹脂との溶剤溶解性の差
を利用する方法は、アルカリ水溶液可溶性樹脂を塗布す
る際に、(A)層に含まれる特定共重合体及びこれと併
用される共重合体のいずれもが不溶な溶媒系を用いるも
のである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明
確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、メ
チルエチルケトンや1−メトキシ−2−プロパノ−ル等
のアルカリ水溶液可溶性樹脂を溶解する溶剤に不溶な
(A)層成分を構成する特定モノマーを共重合成分とし
て含む共重合体を選択し、該(A)層成分を構成する共
重合体を溶解する溶剤系を用いて該共重合体主体とする
(A)層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ水溶液可溶
性樹脂を主体とする(B)層をメチルエチルケトンや1
−メトキシ−2−プロパノ−ル等(A)層成分を溶解し
ない溶剤を用いて塗布することにより二層化が可能にな
る。The method of utilizing the difference in solvent solubility between the copolymer contained in the layer (A) and the resin soluble in an aqueous alkali solution contained in the layer (B) can be obtained by applying (A) ) A solvent system in which both the specific copolymer contained in the layer and the copolymer used in combination with the specific copolymer are insoluble. Thereby, even if the two-layer coating is performed, each layer can be clearly separated into a coating film. For example, a copolymer containing, as a copolymerization component, a specific monomer constituting the component (A) insoluble in a solvent that dissolves an aqueous alkali-soluble resin such as methyl ethyl ketone or 1-methoxy-2-propanol is selected. (A) The layer (A) mainly composed of the copolymer is coated and dried using a solvent system that dissolves the copolymer constituting the layer component, and then the layer (B) mainly composed of an alkali aqueous solution-soluble resin. To methyl ethyl ketone or 1
By applying using a solvent that does not dissolve the component (A) such as -methoxy-2-propanol, it is possible to form two layers.
【0075】一方、二層目を塗布後に極めて速く溶剤を
乾燥させる方法は、ウェブの走行方向に対してほぼ直角
に設置したスリットノズルより高圧エア−を吹きつける
ことや、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロ−ル
(加熱ロ−ル)よりウェブの下面から伝導熱として熱エ
ネルギ−を与えること、あるいはそれらを組み合わせる
ことにより達成できる。第一層(A)塗布乾燥して層形
成した後、第二層(B)を形成する際に用いられる連続
塗布乾燥を実施する装置の一構成例を図1に示す。図1
の装置は、例えば支持体として粗面化されたアルミニウ
ムウェブを用い、この支持体上に予め第一層を塗設した
第一層塗設物に対し、第二層設層するものである。On the other hand, the method for drying the solvent very quickly after the application of the second layer is to blow high-pressure air from a slit nozzle installed substantially at right angles to the running direction of the web, or to apply a heating medium such as steam. This can be achieved by applying heat energy as conduction heat from the lower surface of the web from the roll (heating roll) supplied inside, or by combining them. FIG. 1 shows a configuration example of an apparatus for performing continuous coating and drying used when forming a second layer (B) after forming a layer by coating and drying the first layer (A). FIG.
This apparatus uses, for example, a roughened aluminum web as a support, and forms a second layer on a first-layer coated product in which a first layer is previously coated on the support.
【0076】図1の装置は、第一層塗設物1に対し、第
二層用塗布液を塗布する塗布ヘッド2と、熱風による乾
燥および高圧エア−を吹き付け高速乾燥を行う第一乾燥
ゾ−ン3と、熱風による乾燥を行う第2乾燥ゾ−ン4が
備えられ、第一乾燥ゾ−ン3には、熱風を送るための給
気口5と高速乾燥を行うための高圧風発生装置9、熱交
換器10、圧力計11、高圧風吹しノズル12および風
量調節ダンバ−18、19と、熱風を系外に排出するた
めの排気口6とが設置されている。また第2乾燥ゾ−ン
4には熱風を送るための給気口7と熱風系外に排出する
ための排気口8とが設置されている。さらにこの装置の
適宣の位置にはアルミニウムウェブ1を搬送するための
ガイドロ−ル13〜17が設置されている。The apparatus shown in FIG. 1 comprises a coating head 2 for applying a coating solution for a second layer to a coating material 1 for a first layer, and a first drying zone for performing drying by hot air and high-pressure drying by blowing high-pressure air. And a second drying zone 4 for drying with hot air. The first drying zone 3 has an air supply port 5 for sending hot air and a high-pressure air for high-speed drying. A device 9, a heat exchanger 10, a pressure gauge 11, a high-pressure air blowing nozzle 12, air volume adjusting dampers 18 and 19, and an exhaust port 6 for discharging hot air out of the system are provided. The second drying zone 4 is provided with an air supply port 7 for sending hot air and an exhaust port 8 for discharging the hot air out of the hot air system. Further, guide rolls 13 to 17 for conveying the aluminum web 1 are provided at appropriate positions of the apparatus.
【0077】このような装置では、5〜150m/min で
連続走行する第一層((A)層)塗設物1は塗布ヘッド
2により第二層((B)層)用塗布液が5〜40ml/m2
の割合で塗布され、その後第1乾燥ゾ−ン3へ案内さ
れ、通常温度50〜150℃の第一層塗布物1に対して
乾燥が進行する。蒸発した溶剤ガスは熱風に同伴し排気
口6より系外にだされる。この第1乾燥ゾ−ン3内入口
付近で熱風による乾燥を受けた段階では、通常、第二層
塗膜は未乾燥状態である。In such an apparatus, the coating material 1 for the first layer ((A) layer) continuously running at 5 to 150 m / min is applied with the coating liquid for the second layer ((B) layer) by the coating head 2. ~40ml / m 2
, And then guided to the first drying zone 3, where drying proceeds with respect to the first layer coating 1 at a temperature of usually 50 to 150 ° C. The evaporated solvent gas accompanies the hot air and is discharged out of the system through the exhaust port 6. At the stage where drying by hot air is performed near the entrance in the first drying zone 3, the second layer coating film is usually in an undried state.
【0078】この未乾燥状態の第二層塗膜は、その搬送
位置に第一層塗設物1の進行方向とほぼ直角に設置され
た高速吹き出しノズル12から吹き出した高速風により
極めて急速に乾燥される。The undried second-layer coating film is dried very quickly by the high-speed air blown from the high-speed blowing nozzle 12 installed at the transport position thereof at a substantially right angle to the traveling direction of the first-layer coating product 1. Is done.
【0079】高速吹き出しノズル12へはコンプレッサ
−あるいは高圧ブロア−からなる高圧風発生装置9によ
り生成した高圧エア−を熱交換器10により50℃〜2
0℃に加熱し風量調節ダンパ−18、19により所望の
風量に調節した後、供給する。これにより所望の温度お
よび風速のスリット状の高圧エア−を未乾燥状態の第二
層塗膜に激しく衝突させることにより極めて短時間に急
速に溶剤を蒸発させ第二層を形成させることができる。
通常高圧風のノズル12内圧力は300mmAq(H 2 O)
〜3kg/cm2であり、好ましくは1000mmAq〜1kg/cm2
である。高速風吹き出しノズル12の吹き出し風の風速
は20m/s 〜300 m/s 程度である。また高速吹き出しノ
ズル12のスリット間幅は0.1mm〜5mm程度である
が、0.3mm〜1mmの範囲が望ましい。さらに高圧風の
第一層塗設物1への吹き付け角度は0 o 〜90o まであ
るが、10o 〜60o が好適である。まお、ノズルの本
数は図表示では2本としているが、乾燥負荷に応じ1〜
8本程度とすることができる。The high-speed blowing nozzle 12 has a compressor
Or a high-pressure air generator 9 comprising a high-pressure blower.
The generated high-pressure air is heated at 50 ° C. to 2
Heat to 0 ° C and adjust to the desired value with air volume control dampers 18 and 19.
After adjusting to the air volume, supply. This allows the desired temperature and
The high pressure air in the form of a slit with a wind speed and
Striking in a very short time
The second layer can be formed by quickly evaporating the solvent.
Normally, the pressure inside the nozzle 12 of the high pressure wind is 300 mmAq (H TwoO)
~ 3kg / cmTwoAnd preferably 1000 mmAq to 1 kg / cmTwo
It is. Wind speed of the blowing wind from the high-speed blowing nozzle 12
Is about 20 m / s to 300 m / s. In addition, high-speed balloon
The width between slits of the chisel 12 is about 0.1 mm to 5 mm.
However, a range of 0.3 mm to 1 mm is desirable. More high pressure wind
The spray angle on the first layer coating 1 is 0 o~ 90oWell
But 10o~ 60oIs preferred. Mao, book of nozzles
The number is two in the figure display, but 1 to
It can be about eight.
【0080】このようにして第1乾燥ゾ−ン3で高速乾
燥され、第二層用の塗膜が形成される。その後、第二層
が形成された第一層塗布物は第2乾燥ゾ−ンに案内さ
れ、給気口7からの100℃〜150℃の熱風により加
熱される。これにより、膜内に微量に残留する残留溶剤
量が30〜200mg/m2 の範囲に制御される。また、溶
た、溶剤ガスは熱風とともに排気口8から系外に排出さ
れる。そして、これらの乾燥操作により所望の二層化塗
布を達成することができる。Thus, high-speed drying is performed in the first drying zone 3 to form a coating film for the second layer. Thereafter, the first layer coated material on which the second layer is formed is guided to the second drying zone, and is heated by hot air at 100 ° C. to 150 ° C. from the air supply port 7. Thereby, the amount of the residual solvent remaining in the film in a trace amount is controlled in the range of 30 to 200 mg / m 2 . The dissolved solvent gas is exhausted from the exhaust port 8 to the outside of the system together with the hot air. Then, a desired two-layer coating can be achieved by these drying operations.
【0081】また、本発明の画像形成材料の感光層形成
にあたっては、後者の方法を実施するものとして、上記
のような高速風による乾燥を行うかわりに加熱ロ−ルに
よる乾燥を行ってもよく、この場合の装置としては、例
えば図1において高圧風発生装置9、熱交換器10、圧
力計11、高圧風吹き出しノズル12および風量調節ダ
ンパ−18、19を設置しないものとし、ガイドロ−ル
14を加熱ロ−ルとした構成のものなどが挙げられる。
このような場合は、蒸気等の加熱媒体をロ−ル内部に供
給することによりロ−ルの表面温度を80℃〜200℃
に加熱することができる。このような加熱ロ−ル表面と
第一層塗布物1のアルミニウムウェブとで熱エネルギ−
を与えることができ、乾燥が可能になる。In the formation of the photosensitive layer of the image forming material of the present invention, the latter method may be carried out by drying with a heating roll instead of drying with high-speed air as described above. As an apparatus in this case, for example, the high-pressure air generator 9, heat exchanger 10, pressure gauge 11, high-pressure air blowing nozzle 12, and air volume adjusting dampers 18 and 19 in FIG. Is a heating roll.
In such a case, by supplying a heating medium such as steam to the inside of the roll, the surface temperature of the roll is raised to 80 ° C to 200 ° C.
Can be heated. Heat energy is generated between the surface of the heating roll and the aluminum web of the first layer coating material 1.
And drying becomes possible.
【0082】さらには、高速風による乾燥と加熱ロ−ル
による乾燥とを併用することでもこの急速溶媒除去の方
法を実施することができる。この場合の装置としては、
例えば図1においてガイドロ−ル14を上記と同じ加熱
ロ−ルとした構成のものを用いればよく、より急激に溶
剤を蒸発させることができる。Furthermore, the method of removing the rapid solvent can be carried out by using both drying by high-speed air and drying by heating roll. In this case, the device
For example, in FIG. 1, a guide roller 14 having the same heating roll as described above may be used, and the solvent can be more rapidly evaporated.
【0083】なお、図1などのような上記例では、第1
乾燥ゾ−ン3で熱風乾燥を行ってから熱風乾燥と高圧風
による乾燥や加熱ロ−ルによる乾燥とを併せて行うよう
にしているが、最初の熱風乾燥を省き、塗布後直ちに高
圧風による乾燥を行うものとしてもかまわない。In the above example as shown in FIG.
After drying with hot air in the drying zone 3, drying with hot air and drying with high-pressure air or drying with a heating roll are performed simultaneously. However, the first hot-air drying is omitted, and immediately after coating, high-pressure air is used. Drying may be performed.
【0084】本発明の画像形成材料の製造では、図1の
ような塗布乾燥装置を用い、連続的に塗布乾燥すること
が効率的で、且つ、配合の自由度を広げうる観点から好
ましい。また、第一層の塗布・乾燥も第二層用と同様の
装置を第二層の塗布・乾燥用の装置の上流に設けて行
い、さらに、支持体の粗面化も第一層の塗布・乾燥用の
装置の塗布ヘッドの上流に粗面化手段を設けるなどして
行い、支持体を連続走向させて連続的に行うことが生産
性を向上させる上で好ましい。In the production of the image forming material of the present invention, it is preferable to continuously apply and dry using a coating and drying apparatus as shown in FIG. The first layer is also coated and dried by installing the same device as that for the second layer upstream of the second layer coating and drying device. It is preferable to provide a roughening means upstream of the coating head of the drying apparatus and to perform the continuous operation by continuously running the support in order to improve productivity.
【0085】本発明の感光性画像形成材料における
(A)(a−1)〜(a−3)のうち少なくとも一つを
共重合成分として10モル%以上含む共重合体を50重
量%以上含有する層と、(B)アルカリ水溶液可溶性ノ
ボラック樹脂を50重量%以上含有する層との比率は、
任意であるが、重量比10:90〜95:5の範囲、特
に20:80〜90:10の範囲が好ましい。The photosensitive image-forming material of the present invention contains at least 50% by weight of a copolymer containing at least one of (A) (a-1) to (a-3) as a copolymer component in an amount of 10 mol% or more. The ratio of the layer to be formed and the layer containing (B) the alkaline aqueous solution-soluble novolak resin in an amount of 50% by weight or more is as follows:
Although optional, the weight ratio is preferably in the range of 10:90 to 95: 5, particularly preferably in the range of 20:80 to 90:10.
【0086】支持体に塗布する感光液は、これらの成分
を好適な溶媒に溶解して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。塗布する方法としては、種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は低下する。The photosensitive solution to be coated on the support is used by dissolving these components in a suitable solvent. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 5
0% by weight. As a method of applying, various methods can be used. For example, bar coater application, spin coating, spray application, curtain application, dip application,
Examples include air knife application, blade application, roll application, and the like. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the photosensitive film deteriorate.
【0087】本発明に使用される支持体としては、寸度
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、
ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミ
ニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量
の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミ
ネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々10重量%以下である。本発明において特
に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアル
ミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜
0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4m
m、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material such as paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate ( For example, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate,
Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic film on which a metal is laminated or vapor-deposited as described above. As the support of the present invention,
Polyester film or aluminum plate is preferred,
Among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. Suitable aluminum plates are a pure aluminum plate and an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of a different element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon,
Examples include iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is at most 10% by weight or less. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum. However, completely pure aluminum is difficult to produce due to refining technology, and therefore may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and an aluminum plate of a conventionally known and used material can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate used in the present invention is about 0.1 mm ~
About 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4 m
m, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm.
【0088】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution for removing the rolling oil on the surface is performed. The surface roughening treatment of the surface of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically dissolving the surface, and a method of selectively dissolving the surface chemically. It is performed by the method of causing. As a mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing an alternating or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can be used. The aluminum plate thus roughened is subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if necessary, and then subjected to an anodic oxidation treatment, if desired, in order to increase the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, various electrolytes for forming a porous oxide film can be used, and generally, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte.
【0089】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、画像形成材料の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、ア
ルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,71
4,066 号、同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第
3,902,734 号に開示されているようなアルカリ金属シリ
ケート(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。こ
の方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で
浸漬処理されるかまたは電解処理される。他に特公昭36
−22063 号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリ
ウムおよび米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461
号、同第4,689,272 号に開示されているようなポリビニ
ルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A. / Dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are appropriate. If the amount of the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the image forming material is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. So-called "scratch dirt" tends to occur. After the anodizing treatment, the aluminum surface is subjected to a hydrophilic treatment as necessary. U.S. Pat.
Nos. 4,066, 3,181,461, 3,280,734 and
There is an alkali metal silicate (for example, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in US Pat. No. 3,902,734. In this method, the support is immersed in an aqueous solution of sodium silicate or electrolytically treated. In addition, Tokiko Sho 36
Potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat.No. 2,220,63 and U.S. Pat.
No. 4,689,272, and a method of treating with polyvinyl phosphonic acid.
【0090】本発明の画像形成材料は、支持体上に感光
層として、(A)層と(B)層を設けたものであるが、
必要に応じて(A)層と支持体の間に下塗層を設けるこ
とができる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用
いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキス
トリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸な
どのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有しても
よいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキ
ルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホ
ン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機
リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、
ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグ
リセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン
やβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノー
ルアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの
塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いてもよ
い。The image-forming material of the present invention comprises a support having thereon a layer (A) and a layer (B) as a photosensitive layer.
If necessary, an undercoat layer can be provided between the layer (A) and the support. As the undercoat layer component, various organic compounds are used, for example, carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid optionally having a substituent Organic phosphonic acids such as naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Organic phosphoric acid, phenylphosphinic acid optionally having a substituent,
Naphthylphosphinic acid, organic phosphinic acids such as alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydrochlorides of amines having a hydroxy group such as hydrochloride of triethanolamine, and the like, You may mix and use 2 or more types.
【0091】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重
量%であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25
〜50℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましく
は2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12
の範囲に調整することもできる。また、画像形成材料の
調子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2 である。上
記の被覆量が2mg/m2 よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2 より大きくて
も同様である。本発明の画像形成材料には、必要に応じ
て感光層の上に保護層を設けてもよい。保護層成分とし
ては、ポリビニルアルコールや通常の感光性画像形成材
料に用いられるマット材料等が挙げられる。This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, or methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is coated on an aluminum plate and dried, and a method in which water or methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like is used. A method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the above compound by immersing the aluminum plate, and then washed and dried with water or the like to provide an organic undercoat layer. . In the former method, a solution of the above organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by weight can be applied by various methods. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, and the immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25%.
To 50 ° C., and the immersion time is 0.1 seconds to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute. The pH of the solution used for this is adjusted to pH 1 to 12 by a basic substance such as ammonia, triethylamine, potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be adjusted to the range. Further, a yellow dye may be added for improving the tone reproducibility of the image forming material. The coating amount of the organic undercoat layer is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same is true even if it is larger than 200 mg / m 2 . In the image forming material of the present invention, a protective layer may be provided on the photosensitive layer if necessary. Examples of the protective layer component include polyvinyl alcohol and a mat material used for a general photosensitive image forming material.
【0092】上記のようにして作成された画像形成材料
は、通常、像露光、現像処理を施される。本発明におい
ては、像露光に用いられる活性光線の光源としては、近
赤外から赤外領域において、700nm以上の発光波長
を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レーザが特
に好ましい。The image forming material prepared as described above is usually subjected to image exposure and development processing. In the present invention, a light source having an emission wavelength of 700 nm or more in a near-infrared to infrared region is preferable as a light source of an active light beam used for image exposure, and a solid-state laser and a semiconductor laser are particularly preferable.
【0093】本発明の画像形成材料の現像液および補充
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もし
くは2種以上を組み合わせて用いられる。これらのアル
カリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理
由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金
属酸化物 M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能
となるためであり、例えば、特開昭54−62004 号公報、
特公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。As a developing solution and a replenishing solution for the image forming material of the present invention, conventionally known alkaline aqueous solutions can be used. For example, sodium silicate, potassium silicate, tertiary
Sodium phosphate, same potassium, same ammonium, second
Sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium And the like. Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine,
Organic alkaline agents such as diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more. Among these alkali agents, particularly preferred developers are aqueous silicate solutions such as sodium silicate and potassium silicate. The reason is that the developability can be adjusted by the ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 and alkali metal oxide M 2 O, which are silicate components.
An alkali metal silicate described in JP-B-57-7427 is effectively used.
【0094】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には現像性の促
進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性
剤があげられる。更に現像液および補充液には必要に応
じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水
素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の画像形成材料を印刷版として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。In the case of developing using an automatic developing machine, an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenisher)
It has been known that a large amount of PS plates can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time by adding to the developing solution. This replenishment system is also preferably applied in the present invention. Various surfactants and organic solvents can be added to the developing solution and the replenishing solution as required for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, a reducing agent such as a sodium salt or a potassium salt of an inorganic acid such as hydroquinone, resorcinol, sulfurous acid, and bisulfite, and an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener. Can be added. The printing plate developed using the above developer and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. As the post-processing when the image forming material of the present invention is used as a printing plate, these processings can be used in various combinations.
【0095】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plates have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally comprises a developing section and a post-processing section, and comprises a device for transporting a printing plate, each processing solution tank and a spray device, and while pumping the exposed printing plate horizontally, each pumped by a pump. The developing process is performed by spraying a processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method has been known in which a printing plate is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.
【0096】本発明の画像形成材料を感光性平版印刷版
として使用する場合について説明する。画像露光し、現
像し、水洗及び/又はリンス及び/又はガム引きして得
られた平版印刷版に不必要な画像部(例えば原画フィル
ムのフィルムエッジ跡など)がある場合には、その不必
要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例
えば特公平 2−13293 号公報に記載されているような消
去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置
したのちに水洗することにより行なう方法が好ましい
が、特開平59−174842号公報に記載されているようなオ
プティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像
部に照射したのち現像する方法も利用できる。The case where the image forming material of the present invention is used as a photosensitive lithographic printing plate will be described. If the lithographic printing plate obtained by image exposure, development, washing and / or rinsing and / or gumming has an unnecessary image portion (for example, a film edge mark of the original film), it is unnecessary. Erasing of the image portion is performed. Such erasing is preferably carried out by applying an erasing liquid as described in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293, to an unnecessary image portion, leaving it for a predetermined time, and then rinsing with water. A method described in JP-A-59-174842, in which active light guided by an optical fiber is applied to an unnecessary image portion and then developed, can also be used.
【0097】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−
2518号、同55−28062 号、特開昭62−31859 号、同61−
159655号の各公報に記載されているような整面液で処理
することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸
み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布
するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して
塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用さ
れる。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキー
ジローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好
ましい結果を与える。The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum as required, but when the lithographic printing plate is desired to have a higher printing durability, Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before burning,
No. 2518, No. 55-28062, JP-A No. 62-31859, No. 61-
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each publication of 159655. As a method, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied on a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed in a vat filled with the surface conditioning solution and applied, Application by an automatic coater or the like is applied. Further, it is more preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application.
【0098】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m 2 (dry weight) is appropriate. The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried if necessary, and then burned (for example, a burning processor sold by Fuji Photo Film Co., Ltd .: "BP-130").
0 "). The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image,
The temperature is preferably in the range of 180 to 300 ° C. for 1 to 20 minutes.
【0099】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted. The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
【0100】[0100]
【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples.
The scope of the present invention is not limited to these examples.
【0101】〔(A)成分共重合体の合成〕合成例1(共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三ツ
口フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モ
ル)、クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及
びアセトニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しな
がら混合物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン
36.4g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロー
トにより滴下した。滴下終了後、氷水浴をとり去り、室
温下で30分間混合物を攪拌した。Synthesis of Component (A) Copolymer Synthesis Example 1 (Copolymer 1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid, chloroform 39.1 g (0.36 mol) of ethyl acid and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice water bath. To this mixture, 36.4 g (0.36 mol) of triethylamine was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After the addition, the ice-water bath was removed, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes.
【0102】この反応混合物に、p−アミノベンゼンス
ルホンアミド51.7g(0.30モル)を加え、油浴
にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水1リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、30分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水500m
lでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりN−(p−アミノスルホニ
ルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られた
(収量46.9g)。To this reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove the precipitate, which was then washed with 500 m of water.
Then, the slurry was filtered and the obtained solid was dried to obtain a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide (yield 46.9 g).
【0103】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た100ml三ツ口フラスコに、N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.0
210モル)、メタクリル酸エチル2.05g(0.0
180モル)、アクリロニトリル1.11g(0.02
1モル)及びN,N−ジメチルアセトアミド20gを入
れ、湯水浴により65℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「V−65」(和光純薬(株)製)
0.15gを加え65℃に保ちながら窒素気流下2時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにN−(p−
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド5.04
g、メタクリル酸エチル2.05g、アクリロニトリル
1.11g、N,N−ジメチルアセトアミド20g及び
「V−65」0.15gの混合物を2時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに65℃で2時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール40
gを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水2リッ
トルにこの水を攪拌しながら投入し、30分混合物を攪
拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥すること
により15gの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体1の重量平均分
子量(ポリスチレン標準)を測定したところ53,00
0であった。Next, 5.04 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was placed in a 100 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
210 mol), and 2.05 g (0.05 g) of ethyl methacrylate.
180 mol), acrylonitrile 1.11 g (0.02
1 mol) and 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. This mixture was mixed with “V-65” (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
0.15 g was added, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining at 65 ° C. N- (p-
Aminosulfonylphenyl) methacrylamide 5.04
g, 2.05 g of ethyl methacrylate, 1.11 g of acrylonitrile, 20 g of N, N-dimethylacetamide, and 0.15 g of "V-65" were dropped by a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol 40
g was added to the mixture, the mixture was cooled, and the obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. After stirring the mixture for 30 minutes, the precipitate was taken out by filtration and dried to obtain 15 g of a white solid. I got The weight average molecular weight of this copolymer 1 (polystyrene standard) was measured by gel permeation chromatography and found to be 53,000.
It was 0.
【0104】合成例2(共重合体2) 合成例1の重合反応において、N−(p−アミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド5.04g(0.02
10モル)をN−(p−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド3.72g(0.0210モル)に変えた以外
は、合成例1と同様に重合反応を行い、重量平均分子量
(ポリスチレン標準)47,000の共重合体2を得
た。 Synthesis Example 2 (Copolymer 2) In the polymerization reaction of Synthesis Example 1, 5.04 g (0.02 g) of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was used.
Polymerization reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that N- (p-hydroxyphenyl) methacrylamide was changed to 3.72 g (0.0210 mol), and the weight average molecular weight (polystyrene standard) was 47,000. Was obtained.
【0105】〔基板の作製〕厚み0.3mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄し
て脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミ
ス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗
浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶
液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに
20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m 2 であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2 で3g/m2 の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗
し、乾燥し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を9
0℃で1分乾燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は10mg
/m2 であった。[Preparation of Substrate] Aluminum having a thickness of 0.3 mm
Plate (material 1050) is washed with trichlorethylene
Degreased, nylon brush and 400 mesh pumice
Use a water suspension to grain this surface and wash well with water.
Was cleaned. Put this plate in 25% sodium hydroxide aqueous solution at 45 ° C.
Immerse in the solution for 9 seconds to perform etching, and after washing with water,
It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. Grain at this time
The amount of etching on the standing surface is about 3 g / m TwoMet. next
This plate was subjected to a current density of 15 A / dm using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
Two3g / mTwoAfter the DC anodic oxide coating of
And dried, and then the following undercoating liquid was applied,
Dry at 0 ° C. for 1 minute. The amount of coating after drying is 10mg
/ MTwoMet.
【0106】下塗り液 β−アラニン 0.5g メタノール 95g 水 5g Undercoat liquid β-alanine 0.5 g Methanol 95 g Water 5 g
【0107】実施例1 得られた基板に以下の感光液A1を塗布し、100℃で
2分間乾燥して、(A)層を形成した。乾燥後の塗布量
は1.4g/m2 であった。その後、以下の感光液B1
を塗布し、100℃で2分間乾燥して、(B)層を形成
し、平版印刷版を得た。乾燥後の感光液の合計塗布量は
2.0g/m2であった。Example 1 The following photosensitive solution A1 was applied to the obtained substrate and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (A). The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 . Then, the following photosensitive solution B1
And dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a layer (B), thereby obtaining a lithographic printing plate. The total coating amount of the photosensitive solution after drying was 2.0 g / m 2 .
【0108】感光液A1 共重合体1 0.75g シアニン染料A 0.04g p−トルエンスルホン酸 0.002g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料) 0.015 g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g γ−ブチルラクトン 8g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g 感光液B1 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 重量平均分子量4000) 0.25g シアニン染料A 0.05g ステアリン酸n−ドデシル 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g Photosensitive solution A1 copolymer 1 0.75 g Cyanine dye A 0.04 g p-toluenesulfonic acid 0.002 g Tetrahydrophthalic anhydride 0.05 g Victoria Pure Blue (BOH counter anion is converted to 1-naphthalene sulfonic acid anion Dye) 0.015 g Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.02 g γ-butyl lactone 8 g Methyl ethyl ketone 7 g 1-methoxy-2-propanol 7 g Photosensitive solution B1 m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000) 0.25 g cyanine dye A 0.05 g n-dodecyl stearate 0.02 g fluorinated surfactant (MegaFac F-177, (Manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g methyl ethyl keto 7g 1-Methoxy-2-propanol 7g
【0109】実施例2 得られた基板に以下の感光液A2を塗布を塗布し、10
0℃で2分間乾燥して、(A)層を形成した。乾燥後の
塗布量は1.5g/m2 であった。その後、以下の感光
液B2を塗布し、以下の方法で乾燥した。即ち、前記図
1に示した乾燥ゾ−ンを用い、塗布後直ちにスリットノ
ズル12より3000mmAqの高圧エア−の吹き付けと、
ガイドロ−ル14を加熱ロ−ルに変更して130℃の加
熱を併せて行って、(B)層を形成し、平版印刷版を得
た。乾燥後の感光液の合計塗布量は2.0g/m2であっ
た。感光液A2 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 重量平均分子量4000) 0.75g 共重合体2 0.10g シアニン染料B 0.3g 2,6−ビスヒドロキシメチル−p−クレゾール 0.02g p−トルエンスルホン酸 0.005g テトラヒドロ無水フタル酸 0.01g ビクトリアピュアブルー(BOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料) 0.015 g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g メチルエチルケトン 12g 1−メトキシ−2−プロパノール 10g感光液B2 m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 重量平均分子量4000) 0.25g シアニン染料B 0.07g ステアリン酸n−ドデシル 0.02g フッ素系界面活性剤(メガファックF−177、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.05g メチルエチルケトン 7g 1−メトキシ−2−プロパノール 7g Example 2 The following photosensitive solution A2 was applied to the obtained substrate by coating.
After drying at 0 ° C. for 2 minutes, a layer (A) was formed. The coating amount after drying was 1.5 g / m 2 . Thereafter, the following photosensitive solution B2 was applied and dried by the following method. That is, using the drying zone shown in FIG. 1 and spraying high pressure air of 3000 mmAq from the slit nozzle 12 immediately after application,
The guide roll 14 was changed to a heating roll and heating at 130 ° C. was also performed to form the layer (B), thereby obtaining a lithographic printing plate. The total coating amount of the photosensitive solution after drying was 2.0 g / m 2 . Photosensitive solution A2 m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000) 0.75 g copolymer 2 0.10 g cyanine dye B 0.3 g 2,6-bishydroxymethyl-p- Cresol 0.02 g p-toluenesulfonic acid 0.005 g tetrahydrophthalic anhydride 0.01 g Victoria Pure Blue (a dye in which the counter anion of BOH is converted to 1-naphthalenesulfonic acid anion) 0.015 g fluorinated surfactant (Megafax F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.02 g Methyl ethyl ketone 12 g 1-methoxy-2-propanol 10 g Photosensitive solution B2 m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4000) ) 0.25 g cyanine dye B 0.07 g n-dodecyl stearate 0.0 2 g Fluorosurfactant (Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 0.05 g Methyl ethyl ketone 7 g 1-methoxy-2-propanol 7 g
【0110】比較例1 得られた基板に、実施例1において用いた感光液A1の
みを塗布し、100℃で2分間乾燥して、感光層を形成
して、平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は1.4g/
m2 であった。Comparative Example 1 Only the photosensitive solution A1 used in Example 1 was applied to the obtained substrate, and dried at 100 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer to obtain a lithographic printing plate. The coating amount after drying is 1.4 g /
m 2 .
【0111】比較例2 得られた基板に、実施例1で用いた感光液A1のうち、
共重合体1をm,p−クレゾールノボラック(m/p比
=6/4、重量平均分子量4000)に代えたほかは全
く同様のものを塗布し、100℃で2分間乾燥して、感
光層を形成して、平版印刷版を得た。乾燥後の塗布量は
1.4g/m2 であった。Comparative Example 2 Of the photosensitive solution A1 used in Example 1,
Except that copolymer 1 was replaced by m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight: 4000), the same coating was applied and dried at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a photosensitive layer. Was formed to obtain a lithographic printing plate. The coating amount after drying was 1.4 g / m 2 .
【0112】〔平版印刷版の性能評価〕前記のようにし
て作成した実施例1、2、比較例1、2の平版印刷版に
ついて、下記の基準により性能評価を行った。評価結果
を表1に示す。[Performance evaluation of lithographic printing plates] The lithographic printing plates of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 prepared as described above were evaluated for performance according to the following criteria. Table 1 shows the evaluation results.
【0113】(感度及び現像ラチチュード)得られた平
版印刷版を、出力500mW,波長830nm、ビーム
径17μm(1/e2 )の半導体レーザを用いて主走査
速度5m/秒にて露光した後、富士写真フイルム(株)
製現像液、DP−4、リンス液FR−3(1:7)を仕
込んだ自動現像機(富士写真フイルム(株)製:「PS
プロセッサー900VR」)を用いて現像した。その
際、DP−4は1:8で希釈したもの及び1:6で希釈
したものの二水準を使用し、それぞれの現像液にて得ら
れた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当するレー
ザーの照射エネルギーを求めて、これを感度とした。そ
して、標準である1:8で希釈したものと、1:6で希
釈したものとの差を記録した。その差が小さいほど現像
ラチチュードが良好であり、20mJ/cm2 以下であ
れば、実用可能なレベルである。 (耐刷性)DP−4(1:8)を用いて現像した平版印
刷版を用いて、ハイデルベルク社製のハイデルKOR−
D機で上質紙に印刷した。5000枚印刷毎にクリーナ
ー液(富士写真フイルム(株)製:「プレートクリーナ
ーCL2」)で版面を拭きながら印刷した。それぞれの
最終印刷枚数を表1に示す。ここで、最終印刷枚数と
は、平版印刷版の感光層が膜減りを起こし部分的にイン
キがつかなくなる、いわゆる版飛びを起こすまでの枚数
である。(Sensitivity and Development Latitude) The obtained lithographic printing plate was exposed at a main scanning speed of 5 m / sec using a semiconductor laser having an output of 500 mW, a wavelength of 830 nm, and a beam diameter of 17 μm (1 / e 2 ). Fuji Photo Film Co., Ltd.
Automatic developing machine (Fuji Photo Film Co., Ltd .: “PS”) charged with a developer, DP-4 and a rinse liquid FR-3 (1: 7).
Processor 900VR "). At this time, DP-4 was used in two levels, one diluted 1: 8 and one diluted 1: 6, and the line width of the non-image portion obtained with each developer was measured. The irradiation energy of the laser corresponding to was determined, and this was defined as the sensitivity. The difference between the standard 1: 8 dilution and 1: 6 dilution was recorded. The smaller the difference is, the better the development latitude is, and if it is 20 mJ / cm 2 or less, it is at a practical level. (Printing durability) Using a lithographic printing plate developed with DP-4 (1: 8), a Heidel KOR-
Printing was performed on high-quality paper using a D machine. Printing was performed while wiping the plate surface with a cleaner solution (Fuji Photo Film Co., Ltd .: “Plate Cleaner CL2”) every 5000 prints. Table 1 shows the final number of printed sheets. Here, the final number of printed sheets is the number of sheets until the photosensitive layer of the lithographic printing plate causes a film reduction and ink is not partially applied, that is, a so-called plate jump.
【0114】[0114]
【表1】 [Table 1]
【0115】表1から、本発明に掛かる平版印刷版は、
(A)層と、(B)層という二層構造の感光層を有して
おり、比較例1、2との対比において、現像ラチチュー
ド及び耐刷性に優れており、感度も良好であることがわ
かる。一方、(A)層のみを感光層とした比較例は現像
ラチチュードに劣り、特に本発明の特有のモノマーを有
する共重合体を用いなかった比較例2は、耐刷性が極め
て低いことがわかる。From Table 1, the planographic printing plates according to the present invention are:
It has a photosensitive layer having a two-layer structure of the layer (A) and the layer (B), and has excellent development latitude and printing durability, and good sensitivity as compared with Comparative Examples 1 and 2. I understand. On the other hand, the comparative example in which only the layer (A) was the photosensitive layer was inferior in the development latitude, and the comparative example 2 in which the copolymer having the specific monomer of the present invention was not used had extremely low printing durability. .
【0116】[0116]
【発明の効果】本発明の赤外線レーザ用感光性画像形成
材料によれば、アルカリ水溶液可溶性高分子化合物を用
いた記録層の画像形成性の低さが改善され、取扱い場所
に制限がなく、かつ現像液の濃度に対する感度の安定
性、即ち現像ラチチュードが良好で、耐刷性に優れたダ
イレクト製版用画像形成材料に感度よく、好適に使用し
得るという効果を奏する。According to the photosensitive image forming material for an infrared laser of the present invention, the low image forming property of the recording layer using a polymer compound soluble in an aqueous alkali solution is improved, and there is no restriction on the handling place. The effect is that the sensitivity to the concentration of the developing solution, that is, the developing latitude is good, and that it can be suitably used with good sensitivity for an image forming material for direct plate making having excellent printing durability.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】 本発明の画像形成材料の製造に用いる連続塗
布乾燥装置の一態様を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing one embodiment of a continuous coating and drying apparatus used for manufacturing an image forming material of the present invention.
1 第一層塗布物 2 塗布ヘッド 3 第1乾燥ゾーン 4 第2乾燥ゾーン 5 吸気口(第1乾燥ゾーン) 6 排気口(第1乾燥ゾーン) 7 吸気口(第2乾燥ゾーン) 8 排気口(第2乾燥ゾーン) 9 高圧風発生装置 10 熱交換器 11 圧力計 12 高圧風吹き出しノズル 13、14、15、16、17 ガイドロール 18、19 風量調節ダンパー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 First layer coating material 2 Coating head 3 1st drying zone 4 2nd drying zone 5 Inlet (1st drying zone) 6 Exhaust port (1st drying zone) 7 Inlet (2nd drying zone) 8 Exhaust port ( (2nd drying zone) 9 high-pressure air generator 10 heat exchanger 11 pressure gauge 12 high-pressure air blowing nozzle 13, 14, 15, 16, 17 guide roll 18, 19 air volume adjustment damper
Claims (1)
−1)〜(a−3)のうち少なくとも1つを共重合成分
として10モル%以上含む共重合体を50重量%以上含
有する層と、 (a−1)1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの
水素原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマ
ー、 (a−2)1分子中に、下記式で表される活性イミノ基
を有するモノマー、 【0001】 【化1】 【0002】(a−3)フェノール性水酸基を有するア
クリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル、及びヒドロキシスチレンか
ら選択されるモノマー、(B)フェノール性水酸基を有
するアルカリ水溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有す
る層と、 が順次積層され、 且つ、少なくとも該(B)フェノール性水酸基を有する
アルカリ水溶液可溶性樹脂を50重量%以上含有する層
に、光を吸収して発熱する化合物を含有する、ことを特
徴とする赤外線レーザ用感光性画像形成材料。1. A method comprising the steps of: (A) forming a monomer (a)
(A-1) a layer containing 50% by weight or more of a copolymer containing 10% by mole or more of at least one of (a-3) as a copolymer component; (A-2) a monomer having an active imino group represented by the following formula in one molecule; and (a-2) a monomer having a sulfonamide group having at least one hydrogen atom bonded thereto. (A-3) A monomer selected from acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate and hydroxystyrene having a phenolic hydroxyl group, and (B) a resin soluble in an aqueous alkali solution having a phenolic hydroxyl group in an amount of 50 wt. And a layer containing at least 50% by weight or more of the (B) alkali aqueous solution-soluble resin having a phenolic hydroxyl group, and a compound that absorbs light and generates heat. A photosensitive image-forming material for an infrared laser, comprising:
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